DE1926232C3

DE1926232C3 - Process for developing photographic recording material

Info

Publication number: DE1926232C3
Application number: DE1926232A
Authority: DE
Inventors: Daniel Joseph Wappingers Falls N.Y. Lasky (V.St.A.)
Original assignee: International Business Machines Corp
Current assignee: International Business Machines Corp
Priority date: 1968-07-12
Filing date: 1969-05-22
Publication date: 1976-01-02
Also published as: NL168961B; GB1235405A; FR2012810A1; NL168961C; DE1926232A1; JPS4912425B1; US3615515A; NL6910106A; DE1926232B2

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entwicklung von Photographischem Aufzeichnungsmaterial, bei welchem durch die Behandlung mit einer Entwicklungslösung negativ geladene Abfallprodukte entstehen und bei dem eine Gleichspannung an zwei in die Entwicklungslösung eintauchende Elektroden angelegt wird.The invention relates to a method for developing photographic recording material which negatively charged waste products arise through treatment with a developing solution and in which a DC voltage is applied to two electrodes immersed in the developing solution.

Die Photographic spielt in der Mikroelektronik, insbesondere bei der Herstellung gedruckter Schaltkreise, eine wichtige Rolle. So werden bei der Herstellung gedruckter Schaltkreise in immer stärkerem Maße für Ätzoperationen photographische Masken mit Toleranzen in den Linienbreiten benutzt, die vorher als unerreichbar galten. Das Einhalten dieser Toleranzen ist sehr wichtig, da Ungenauigkeiten der photographischen Masken zu größeren Ungenauigkeiten in den mit diesen Masken hergestellten Schaltungen führen. Um diese Toleranzen einzuhalten, wurden daher die früher manuell durchgeführten photographischen Verfahren durch automatische Verfahren ersetzt. Diese automatischen Verfahren sind jedoch nicht ausreichend für das Einhalten sehr enger Toleranzen, beispielsweise für das Einhalten von Linienbreiten auf einem Filmstreifen oder einer photographischen Platte mit einer Genauigkeit von 0,025 mm.Photographic plays an important role in microelectronics, especially in the manufacture of printed circuits. In the manufacture of printed circuit boards, for example, photographic masks with tolerances in line widths that were previously considered unattainable are increasingly used for etching operations. Maintaining these tolerances is very important because inaccuracies in the photographic masks lead to greater inaccuracies in the circuits made with these masks. In order to maintain these tolerances, the photographic processes previously carried out manually have therefore been replaced by automatic processes. However, these automatic methods are not sufficient for maintaining very tight tolerances, for example for maintaining line widths on a film strip or a photographic plate with an accuracy of 0.025 mm.

Bei den üblichen photographischen Entwicklungsverfahren wird zunächst das belichtete photographische Material, dessen lichtempfindliche Schicht beispielsweise aus Silberhalogenid-Körnern besteht, entwickelt und anschließend fixiert und gewaschen. Der bei der Entwicklung ablaufende chemische Prozeß besteht in einer Reduktion der Silberionen zu metallischem Silber durch ein geeignetes, in der Entwicklungsflüssigkeit enthaltenes Reduktionsmittel.In conventional photographic development processes, first the exposed photographic Material, its photosensitive layer, for example consists of silver halide grains, developed, and then fixed and washed. The one in development The chemical process taking place consists in a reduction of the silver ions to metallic silver by a suitable reducing agent contained in the developing liquid.

Es sind mehrere Entwicklungsverfahren bekannt, bei denen das latente Silberhalogenid-Bild in einem elektrolytischen Entwicklungsprozeß entwickelt wird. So ist in der USA.-Patentschrift 32 20 836 ein Verfahren zur Beschleunigung der Entwicklung photographischer Materialien beschrieben, bei dem eine elektrisch leitende Entwicklungsflüssigkeit in einer dünnen Schicht zwischen einem lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterial, das bildmäßig belichtet wurde und einem ein Silber ausfällendes Mittel enthaltendes Bildempfangsmaterial verteilt wird; eine Spannung an zwei Elektroden, die mit der Entwicklungsflüssigkeit in elektrischem Kontakt stehen, angelegt wird und das Bild unter dem Einfluß des elektrischen Stromes entwickelt und auf das Bildempfangsmaterial übertragen wird. Ohne Anlegen einer Spannung findet die Bildübertragung mit den in der USA.-Patentschrift beschriebenen Materialien innerhalb von 40 bis 120 Sekunden statt, wohingegen eine Spannung von 50 bis 600 Volt, angelegt an Elektroden, die sich in einem Abstand von etwa 10 cm voneinander befinden, die Dauer für die Entwicklung und Übertragung des Bildes auf das Bildempfangsmaterial auf etwa 10 Sekunden herabsetzt.Several development processes are known in which the silver halide latent image is converted into an electrolytic Development process is developed. So is in the USA. Patent 32 20 836 a method for Acceleration of the development of photographic materials described in which an electrically conductive Developing liquid in a thin layer between a silver halide light-sensitive material, which has been exposed imagewise and an image receiving material containing a silver precipitating agent is distributed; a voltage across two electrodes that are in electrical contact with the developing liquid stand, is applied and the image is developed under the influence of the electric current and on the Image receiving material is transferred. Without applying a voltage, the image transfer takes place with the in of the U.S. patent takes place within 40 to 120 seconds, whereas a voltage of 50 to 600 volts, applied to electrodes that are about 10 cm apart the time it takes for the image to develop and transfer to the image receiving material reduced to about 10 seconds.

In der USA.-Patentschrift 31 13 910 ist ein Verfahren zur Entwicklung einer belichteten, entwickler- und/oder elektrolythaltigen Silberhalogenidemulsions-In U.S. Patent 31 13 910 there is one method for developing an exposed, developer- and / or electrolyte-containing silver halide emulsion

schicht beschrieben, bei dem eine Entwicklung des SiI-berhalogenidbildes erst dann stattfindet, wenn der pH-Wert der Entwicklungs- und Elektrolytlösung durch Hydroxylionen angehoben wird, die bei Stromdurchgang zwischen der Kathode, die als Rolle ausgebildet ist und mit der befeuchteten Oberfläche der Emulsionsschicht in Kontakt gebracht wird md der Anode, die durch die Unterlage der Emulsionsschicht gebildet wird, entstehen. Die Entwicklung des Bildes wird dadurch unterbrochen, daß die Stromrichtung umgekehrt wird, so daß jetzt Wasserstoffionen, welche das Entwicklungsland desaktivieren, an der Oberfläche der Emulsionsschicht gebildet werden. Die Entwicklung findet nur in den belichteten Bereichen statt, die nicht belichteten Bereiche dunkeln mit der Zeit bei Belichtung nach durch photolytisch gebildetes Silber.layer described, in which a development of the SiI-überhalogenidbildes only takes place when the pH of the developing and electrolyte solution is through Hydroxyl ions are raised when current passes between the cathode, which is formed as a role and is brought into contact with the moistened surface of the emulsion layer md the anode, the is formed by the base of the emulsion layer. The development of the image is thereby interrupted, that the direction of the current is reversed, so that now hydrogen ions, which the developing country deactivate, are formed on the surface of the emulsion layer. The development takes place only held in the exposed areas; the unexposed areas darken over time when exposed after by photolytically formed silver.

In der französischen Patentschrift 12 65 682 ist ein Entwicklungsverfahren beschrieben, das dem in der USA.-Patentschrift 31 13 910 beschriebenen Verfahren entspricht.In French patent specification 12 65 682 is a Development process described, the process described in US Pat. No. 3,113,910 is equivalent to.

In keiner der drei genannten Patentschriften ist jedoch ein Entwicklungsverfahren beschrieben, bei dem die bei der Entwicklung von photographischem Material entstandenen negativ geladenen Abfallprodukte, beispielsweise Chloride, Bromide oder Jodide, die sich an den belichteten Flächen der Emulsionsschicht ansammeln und die weitere Entwicklung hemmen oder unterdrücken, durch Elektrolyse und/oder Elektrophorese von den belichteten Flächen der Emulsionsschicht entfernt werden und somit die Zufuhr frischer Entwicklungsflüssigkeit zu diesen gestatten.However, in none of the three named patents is a developing process is described in which the processing of photographic material resulting negatively charged waste products, for example chlorides, bromides or iodides, which accumulate on the exposed areas of the emulsion layer and inhibit further development or suppress, by electrolysis and / or electrophoresis of the exposed areas of the emulsion layer are removed and thus the supply of fresh developing liquid to allow this.

Mit den bisher bekannten Entwicklungsverfahren kommt es zu einer ungleichmäßigen Entwicklung und damit auch zu ungleichmäßigen Linienbreiten in den entwickelten photographischen Masken. Es ist bekannt, daß eine Bewegung der Entwicklungsflüssigkeit während der Entwicklung erforderlich ist, um eine gleichmäßigere Entwicklung zu erhalten. Bisher wurden zu diesem Zwecke konventionelle, mechanische Ruhranordnungen benutzt, die die gesamte Flüssigkeit im Entwicklungsbad bewegten. Auch sind Entwicklungsvorrichtungen bekannt, bei denen eine lokalisierte Bewegung der Entwickiungsflüssigkeit an den belichteten Flächen der Emulsionsschicht durch Stickstoffblasen erreicht wird. Jedoch auch in den besten der bisher bekannten Anordnungen wird nicht unterschieden zwischen den Flächen der lichtempfindlichen Schicht, denen weitere frische Entwicklungsflüssigkeit zugeführt werden soll, und den Flächen, die nur noch wenig oder keine weitere Entwicklungsflüssigkeit mehr benötigen. Dieser Umstand führt, wie bereits erwähnt, zu einer ungleichmäßigen Entwicklung und damit auch zu ungleichmäßigen Linienbreiten in den entwickeilen Masken. Häufig zirkulieren auch die bei der Entwicklung entstandenen Abfalipartikel mit der Entwicklungsflüssigkeit, so daß es schließlich zu einer Erschöpfung derselben kommt. Nachteilig ist weiterhin, daß Abfallpartikel auf den Boden des Entwicklungstankes fallen können und dort die Rührvorrichtung behindern.With the development methods known up to now, there is an uneven development and This also leads to uneven line widths in the developed photographic masks. It is known, that movement of the developing liquid during development is necessary to achieve a more uniform one Development. So far, conventional, mechanical Ruhr arrangements have been used for this purpose used, which moved all the liquid in the development bath. Also are development devices known in which a localized movement of the developing liquid to the exposed Areas of the emulsion layer is achieved by blowing nitrogen. But also in the best of those known so far No distinction is made between the areas of the photosensitive layer, which further fresh developing liquid is to be supplied, and the areas that are only a little or no longer need any further developing liquid. As already mentioned, this fact leads to one uneven development and thus uneven line widths in the developing masks. The waste particles produced during development often also circulate with the development liquid, so that it finally comes to exhaustion. Another disadvantage is that waste particles can fall to the bottom of the developing tank and obstruct the stirring device there.

Aufgabe der Erfindung ist daher, ein Entwicklungsverfahren und eine Entwicklungsvorrichtung anzugeben, die die oben angegebenen Nachteile nicht aufweisen und eine gleichmäßige Entwicklung belichteter Flächen der photographischen Schicht und damit ein entsprechend hohes Auflösungsvermögen für in der Mikroelektronik benötigte Masken gestatten.The object of the invention is therefore to provide a development method and a development device, which do not have the disadvantages indicated above and a uniform development of exposed areas the photographic layer and thus a correspondingly high resolution for in microelectronics Allow required masks.

Die Aufgabe der Erfindung wird gelöst durch ein Verfahren zur Entwicklung von photographischem Aufzeichnungsmaterial, bei welchem durch die Behandlung mit einer Entwicklungslosung negativ geladene Abfallprodukte entstehen und bei dem eine Gleichspannung an zwei in die Entwicklungslösung eintauchende Elektroden angelegt wird, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die negativ geladenen Abfallprodukte an der ersten, in der Entwicklungsvorrichtung gegenüber der Emulsionsschicht angeordneten, mit dem positiven Pol der Gleichstromquelle verbundenen Elektrode gesammelt werden.The object of the invention is achieved by a method for developing photographic Recording material in which negatively charged as a result of the treatment with a developing solution Waste products are created and in which a direct voltage is applied to two immersed in the developing solution Electrodes is applied, which is characterized in that the negatively charged waste products at the first, opposite in the developing device the emulsion layer arranged electrode connected to the positive pole of the direct current source to be collected.

In einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung werden die negativ geladenen Abfallprodukte durch Wasserstoffbläschen, die von der zweiten in der Entwicklungsvorrichtung unterhalb der lichtempfindlichen Schicht angeordneten, mit dem negativen Pol der Gleichstromquelle verbundenen Elektrode erzeugt v.-erden, von der lichtempfindlichen Schicht entfernt und an der ersten gegenüber der lichtempfindlichen Schicht angeordneten, mit dem positiven Pol der Gleichstromquelle verbundenen Elektrode gesammelt.In an advantageous embodiment of the invention, the negatively charged waste products are through Hydrogen bubbles generated by the second in the developing device below the photosensitive Layer arranged, connected to the negative pole of the direct current source electrode generated v.-earth, removed from the photosensitive layer and arranged on the first opposite to the photosensitive layer, with the positive pole of the DC power source connected electrode collected.

Gegenstand der Erfindung ist auch eine Vorrichtung zur Durchführung des Entwicklungsverfahrens.The invention also relates to an apparatus for carrying out the development process.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist eine besonders gleichmäßige Entwicklung der photographischen Schichten möglich. Als Folge davon wird eine besonders hohe Auflösung bei den mit dem erfindungsgemäßen Verfahren entwickelten Masken zur Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise erhalten. Vorteilhaft ist weiterhin, daß die Entwicklung der photographischen Aufzeichnungsmaterialien mit allen erforderlichen Verfahrensschritten in nur einem Entwicklungstank in relativ einfacher und billiger Weise und ohne Gefahr für das Bedienungspersonal durchgeführt werden kann und die Entwicklungsvorrichtung sowohl für Schwarzweiß- als auch für die Farbentwicklung geeignet ist.With the method according to the invention, a particularly uniform development of the photographic Layers possible. As a result, a particularly high resolution is achieved with the inventive Process developed masks for the production of microelectronic circuits obtained. Advantageous is further that the development of photographic recording materials with all necessary Process steps in only one developing tank in a relatively simple and inexpensive manner and can be carried out without danger to the operator and both the developing device is suitable for black and white as well as color development.

Die Erfindung wird an Hand der Beschreibung und der Figuren, die nachfolgend erklärt werden, näher erläutert. Die Figuren zeigenThe invention is explained in more detail with reference to the description and the figures, which are explained below. The figures show

F i g. 1 die Gesamtansicht einer Entwicklungsvorrichtung, die in dem Verfahren gemäß der Erfindung verwendet wird,F i g. Fig. 1 is an overall view of a developing device used in the method according to the invention is used,

F i g. 2 eine vergrößerte Schnittansicht entlang der Linie 2-2 der F i g. 1,F i g. 2 is an enlarged sectional view taken along line 2-2 of FIG. 1,

F i g. 3 eine weiter vergrößerte Schnittansicht eines Teils der F i g. 2,F i g. 3 is a further enlarged sectional view of part of FIG. 2,

Fig. 4 die Frontansicht eines nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Musters,Fig. 4 is a front view of one according to the invention Process of produced sample,

F i g. 5 einen vergrößerten Teil der Fig. 4 zur Illustration der mit dem erfindungsgemäßen Verfahren erhaltenen Gleichmäßigkeit der Linienbreite,F i g. 5 shows an enlarged part of FIG. 4 for illustration the evenness of the line width obtained with the method according to the invention,

F i g. 6 in einer ähnlichen Ansicht wie in F i g. 5 die die mit den bisherigen Entwicklungsniethoden erhaltenen Linien mit Abweichungen in der Linienbreite,F i g. 6 in a view similar to that in FIG. 5 those obtained with the previous developmental rivet testicles Lines with deviations in line width,

F i g. 7 ein Diagramm, das in Verbindung mit F i g. 1 die bei der Schwarzweiß-Entwicklung ablaufenden einzelnen Verfahrensschritte einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung zeigt,F i g. 7 is a diagram which, in connection with FIG. 1 the individual running during the black and white development Shows method steps of a preferred embodiment of the invention,

F i g. 8 ein Diagramm, das in Verbindung mit F i g. 7 die einzelnen Verfahrensschritte einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung bei der Schwarzweiß-Entwicklung näher erklärt,F i g. 8 is a diagram which, in connection with FIG. 7 the individual process steps of a preferred Embodiment of the invention in the black and white development explained in more detail,

F i g. 9 ein weiteres Blockdiagramm mit mehreren Verfahrcnsschriitcn zur näheren Erläuterung der Erfindung bei der Farbentwicklung,F i g. 9 shows a further block diagram with several process steps for a more detailed explanation of the invention in color development,

Fig. 10, 11, 12 und 13 in teilweise perspektivischer und Schnittansicht eine zweite bevorzugte Ausführungsform einer Entwicklungsvorrichtung, die in demFig. 10, 11, 12 and 13 in partially perspective and a sectional view of a second preferred embodiment of a developing device included in the

Verfahren gemäß der Erfindung verwendbar ist.Method according to the invention is useful.

Die in F i g. 1 dargestellte Entwicklungsvorrichtung enthält einen isolierten echteckigen Entwicklungstank 10. In dem Tank 10 ist eine Haltevorrichtung 12 für die ?.u entwickelnden Platten angeordnet. Die Haltevorrichtung 12 enthält einen Rahmen 14 mit einem oben angebrachten Handgriff 16. Innerhalb der Haltevorrichtung 12 ist eine photographische Platte 18 angeordnet, wie in F i g. 2 gezeigt ist. In der vorliegenden Ausführungsform besteht die Platte aus einem Glas, das üblicherweise zur Herstellung von Masken für die Fabrikation gedruckter Schaltungen benützt wird. Die Platte 18 trägt auf einer Seite die übliche lichtempfindliche Schicht 20, die vergrößert in F i g. 3 gezeigt ist. Die lichtempfindliche Schicht, die normalerweise SiI-berhalogenid-Körner enthält, wird entweder manuell oder automatisch, beispielsweise mit einer numerisch kontrollierten Belichtungsvorrichtung, beuchtet. Die Fig. 4 zeigt eine Platte mit 8 Bereichen, die jeweils entsprechende Muster enthalten. So sind im Bereich 22 beispielsweise horizontale Linien und im Bereich 24 vertikale Linien dargestellt. Normalerweise enthält das Muster eine Vielzahl paralleler Linien 26 mit einer Breite von 0,05 mm und einem Abstand von ebenfalls 0,05 mm und eine oder mehrere 3,3 mm breite Linien 28. Zur Führung des Rahmens 14 sind innerhalb des Tankes 10 zwei Führungsschienen 46 und 48 (F i g. 1) vorgesehen.The in F i g. The developing device shown in FIG. 1 includes an insulated rectangular developing tank 10. In the tank 10 , a holding device 12 for the plates to be developed is arranged. The holding device 12 includes a frame 14 with a handle 16 attached at the top. A photographic plate 18 is arranged within the holding device 12, as shown in FIG. 2 is shown. In the present embodiment, the plate consists of a glass which is usually used for the production of masks for the production of printed circuits. The plate 18 carries the usual photosensitive layer 20 on one side, which is enlarged in FIG. 3 is shown. The photosensitive layer, which normally contains silicon superhalide grains, is wetted either manually or automatically, for example with a numerically controlled exposure device. Fig. 4 shows a plate with 8 areas, each containing corresponding patterns. For example, horizontal lines are shown in area 22 and vertical lines in area 24. Normally, the pattern contains a plurality of parallel lines 26 with a width of 0.05 mm and a distance of 0.05 mm also and one or more 3.3 mm wide lines 28. Two guide rails are inside the tank 10 for guiding the frame 14 46 and 48 (Fig. 1) are provided.

Die Linien 26 und 28 müssen über die gesamte Länge in ihrer Breite und in ihrem Abstand voneinander ex-'.rern gleichmäßig sein. d. h. mit einer Toleranz des Li-.'iienabstandes von 0,025 mm. Geringe Abweichungen in der Linienbreite der Masken führen bei deren Anwendung zur Herstellung gedruckter Schaltungen zu größeren Abweichungen der Linienbreite bei den damit hergestellten fertigen Schaltungen, was unerwünscht ist, weil Abweichungen der Linienbreite zu Änderungen der elektrischen Parameter führen. Abweichungen in der Linicnbrcile können nur durch eine gleichmäßige Entwicklung der photographischen Muster vermieden werden.The lines 26 and 28 must extend across the entire length in their width and in their distance from one another be even. d. H. with a tolerance of the line spacing of 0.025 mm. Slight deviations in the line width of the masks lead to their use for the production of printed circuits to larger deviations in the line width in the with it manufactured finished circuits, which is undesirable because deviations in the line width too Lead to changes in electrical parameters. Deviations in the Linicnbrcile can only be caused by a uniform development of the photographic pattern can be avoided.

Um diese gleichmäßige Entwicklung zu erhalten, ist in dem Tank 10 eine erste Elektrode 30 mittels Schrauben 32 befestigt. Die Elektrode in der vorliegenden Erfindung ist eine platinierte Titangitterelektrode mit geringer Maschenweile. Diese Elektrode ist sehr widerstandsfähig gegen saure und basische Lösungen, die während der Entwicklung benutzt werden. Es können jedoch auch andere Elektroden verwendet werden. Wie aus den F i g. 1 bis 3 ersichtlich ist. ist die Elektrode 30 parallel zu den Hauptwänden 34 und 36 des Tankes 10 und dicht benachbart zu der Wand 36 angeordnet. Die Elektrode 30 ist auch parallel zu der Platte 18 (F i g. 3) angeordnet. In der Ausführungsform gemäß der Erfindung wurde als günstiger Abstand zwischen der Platte 18 und der Elektrode 30 ein Abstand von ungefähr 25 mm gefunden. Der Abstand kann auch, je nach dem benützten Material, zwischen 1.6 und 38 mm variieren. Die Abmessungen des Entwicklungstankes betragen: Breite 150 mm. Tiefe 68 mm und Höhe 620 mm. Mit einem Tank dieser Abmessungen können photographische Platten mit einer Größe bis zu 405 x 510 mm entwickelt werden. Der Tank muß aus isolierendem Material hergestellt werden. In der Ausführungsform gemäß der Erfindung wurde ein Kunststoff aus Polymeihacrylsäureestern benutzt. In dem Tank 10 ist unterhalb der Piaitc 18 (F i g. 3) eine zweite Elektrode 40 angeordnet. Diese Elektrode 40 befindet sich direkt über der unteren Wand 42 des Tanks 10 und reicht bis hinter das Ende der lichtempfindlichen Schicht 20 der Platte 18. Die Elektrode 40 ist an der Haupiwand 34 befestigt und besitzt, wie aus den F i g. 2 und 3 ersichtlich ist. eine nach oben zeigende Kante 44, die in einer Ebene mit der Emulsionsschicht 20 und dicht unterhalb derselben angeordnet ist. In der Ausführungsform gemäß der Erfindung besteht die Elektrode 40 aus rostfreiem Stahl mit den Abmessungen:In order to obtain this uniform development, a first electrode 30 is fastened in the tank 10 by means of screws 32. The electrode in the present invention is a platinum-plated titanium grid electrode of small mesh. This electrode is very resistant to acidic and basic solutions that are used during development. However, other electrodes can also be used. As shown in FIGS. 1 to 3 can be seen. the electrode 30 is arranged parallel to the main walls 34 and 36 of the tank 10 and closely adjacent to the wall 36. The electrode 30 is also arranged parallel to the plate 18 (Fig. 3). In the embodiment according to the invention, a distance of approximately 25 mm has been found to be a favorable distance between the plate 18 and the electrode 30. The distance can also vary between 1.6 and 38 mm, depending on the material used. The dimensions of the development tank are: width 150 mm. Depth 68 mm and height 620 mm. With a tank of these dimensions, photographic plates with a size of up to 405 x 510 mm can be developed. The tank must be made of insulating material. In the embodiment according to the invention, a plastic made from polyacrylic acid esters was used. In the tank 10 , a second electrode 40 is arranged below the plate 18 (FIG. 3). This electrode 40 is located directly above the lower wall 42 of the tank 10 and extends beyond the end of the photosensitive layer 20 of the plate 18. The electrode 40 is attached to the main wall 34 and, as shown in FIGS. 2 and 3 can be seen. an upwardly facing edge 44 which is in a plane with the emulsion layer 20 and closely below it. In the embodiment according to the invention, the electrode 40 is made of stainless steel with the dimensions:

ίο 38 χ 520 χ 3,2 mm.ίο 38 χ 520 χ 3.2 mm.

Mit der in F i g. I gezeigten Entwicklungsvorrichtung können photographische Schwarzweiß-Platten entwikkelt werden. Dazu wird in die Entwicklungsvorrichtung eine Entwicklungsflüssigkeit 50 (Fig. 1) in einen Vorratsbehälter 52 und eine rixicrflüssigkeit 54 in einen anderen Vorratsbehälter 56 eingefüllt. Ein Schlauch oder eine Röhre 58 verbindet den Tank 52 mit einer Pumpe 60, und ein weiterer Schlauch oder eine Röhre 62 verbindet den Tank 56 mit einer anderer. Pumpe 64.With the in F i g. I can develop black and white photographic plates will. For this purpose, a developing liquid 50 (FIG. 1) is placed in a storage container in the developing device 52 and a rixicr liquid 54 into one another reservoir 56 is filled. A hose or tube 58 connects the tank 52 to a Pump 60, and another hose or tube 62 connects tank 56 to another. Pump 64.

Die Pumpen 60 und 64 sind durch die Röhren 66 und 68 mit einem Vertcilerkopf 70 verbunden, der in das Innere des Entwicklungslankes 10 führt. Mit dem Verteilerkopf 70 ist auch eine Röhre 72 verbunden, die zu einem Wasserzuführungsventil 74 führt, das über die Röhre 76 mit einem nicht gezeigten Wasservorratsbehälter verbunden ist.The pumps 60 and 64 are connected by tubes 66 and 68 to a distributor head 70 which leads into the interior of the development channel 10 . Also connected to the distributor head 70 is a pipe 72 which leads to a water supply valve 74 which is connected via the pipe 76 to a water storage tank (not shown).

Um eine genaue und automatische Kontrolle des Entwicklungsvorgangs zu gewährleisten, ist eine Regelanordnung 78 vorgesehen. Die Regelanordnung 78 ist über elektrische Leitungen 80, 82, 83 und 84 mit der Gleichspannungsversorgung 86, der Pumpe 60, dem Wasserzuführungsventil 74 und der Pumpe 64 verbunden. In der in F i g. 1 gezeigten Vorrichtung besteht die Regelanordnung 78 aus einer als Programmtrommel bekannten, mit konstanter Geschwindigkeit rotierenden zylindrischen Trommel, die Mikroschalter betätigt. Zur Betätigung der Pumpen 60 und 64 sowie des Wasserzuführungsveniils 74 kann jedoch auch jede beliebige Regelanordnung benützt werden. Mittels der Pumpen 60 und 64 und des Wasserzuführungsvcntils 74 werden in den entsprechenden Zeitintervallen die F.ntwicklungsflüssigkeit 50, die Fixierflüssigkeit 54 und das Wasser aus den dafür vorgesehenen Vorratsbehäitern in den Tank 10 geführt. Zur Entleerung des Tankes 10 sind drei Ausgangsröhren oder Schläuche 88, 90 und 92 vorgesehen, die zu einem Verteilerkopf 94 führen. Der Verteilerkopf 94 ist über eine Röhre % mit einer geeigneten Absaugpumpe 98 verbunden, die über eine Leitung 100 durch die Regelanordnung 78 betätigt wird.In order to ensure precise and automatic control of the development process, a control arrangement 78 is provided. The control arrangement 78 is connected to the DC voltage supply 86, the pump 60, the water supply valve 74 and the pump 64 via electrical lines 80, 82, 83 and 84. In the in F i g. 1, the control arrangement 78 consists of a cylindrical drum known as a program drum, rotating at constant speed and actuating microswitches. However, any desired control arrangement can also be used to actuate the pumps 60 and 64 and the water supply valve 74. By means of the pumps 60 and 64 and the water supply valve 74, the development liquid 50, the fixing liquid 54 and the water are fed into the tank 10 from the storage containers provided for this purpose. For emptying the tank 10 , three outlet tubes or hoses 88, 90 and 92 are provided, which lead to a distributor head 94. The distributor head 94 is connected via a pipe to a suitable suction pump 98 which is actuated via a line 100 by the control arrangement 78.

Nachdem bisher an Hand der Fig. 1, 2 und 3 dis Entwicklungsvorrichtung beschrieben wurde, soller jetzt die bei der Entwicklung ablaufenden einzelner Verfahrensschritte näher erläutert werden. Wenn di< lichtempfindliche Schicht eine Silberhalogenid-Emu!After the developing device has been described with reference to FIGS. 1, 2 and 3, Soller the individual process steps involved in development will now be explained in more detail. If di < photosensitive layer a silver halide emu!

sionsschicht ist, entsteht bei der Entwicklung in den be lichteten Bereichen der Emulsion in einem Redox-Ver fahren aus Silberhalogenid-Körnem metallisches SiI ber. Der Entwickler wird oxidiert, und es kommt ζ einer Ansammlung von Salzen in der Entwicklungslc sung. In dem vorliegenden Verfahren wird ein Hydrc chinoncntwickler benützt, und das bei der Entwicklun frei werdende Salz ist Chinonsulfonat. Das Salz Hegt i der Entwicklungslösung in Form kleiner, negativ gel; dener Partikel vor, die in F i g. 3 unter 104 angedeuti sind. Die Partikel 104 sammeln sich vor den belichtete Bereichen 106 und 108 der Emulsionsschicht 20 im Ve haltnis zu der Größe der belichteten Flächen an ur behindern dort die weitere Entwicklunc l!m eilsion layer, metallic SiI is formed from silver halide grains during development in the exposed areas of the emulsion in a redox process. The developer is oxidized and salts accumulate in the developing solution. A hydraulic quinone developer is used in the present process and the salt released in the development is quinone sulfonate. The salt in the developing solution is in the form of a small, negative gel; those particles that are shown in FIG. 3 under 104 are indicated. The particles 104 collect in front of the exposed areas 106 and 108 of the emulsion layer 20 in proportion to the size of the exposed areas and impede further development there

gleichmäßige Entwicklung der belichteten Flächen 106 und 108 zu gewährleisten, sind die Elektroden 30 und 40 vorgesehen. Die Elektrode 30 ist über die Leitung 110 mit dem positiven Pol einer Gleichstromquelle 86 verbunden, während die Elektrode 40 über die Leitung 112 mit dem negativen Pol der Gleichstromquelle 86 verbunden ist. Bei Anlegen einer negativen Spannung an die Elektroden 40 wird die Entwicklungsflüssigkeit durch Elektrolyse unter Entwicklung von Wasserstoffbläschen 120 zersetzt. Die längs der Elektrode 40 entwickelten Wassersioffbläschen strömen über die Spitze 44 direkt an der Oberfläche der Emulsionsschicht 20 vorbei nach oben. Die gasförmigen Wasserstoffbläschen sind sehr fein, gleichmäßig und nahe beieinander. Ihre Größe beträgt etwa V25 der Größe von Stickstoffblasen, die aus einer Stickstoffflasche zugeführt werden, so daß sie nicht deren Nachteile, d. h. sehr große Blasen mit großem Abstand, besitzen. Die Spannungen werden an die Elektroden 30 und 40 unmittelbar nach Beginn der Entwicklung angelegt. Die Blasen 120 strömen dann an der Emulsionsoberfläche vorbei und lösen die Partikel 104 von der Emulsionsoberfläche ab. Gleichzeitig werden die Partikel 104 von der mit dem positiven Pol der Gleichstromquelle verbundenen Elektrode 30 angezogen und von ihrem ursprünglichen Ort entfernt. Dadurch gelangt neue Entwicklungsflüssigkeit an die ursprünglich durch die Partikel 104 besetzten Flächen, so daß die Entwicklung weiter fortschreiten kann. Die Bewegung der Entwicklungsflüssigkeit, die aus der Kombination der an der Elektrode 40 stattfindenden Elektrolyse und der durch die Elektrode 30 bewirkten Elektrophorese resultiert, wird durch die Zahl der entwickelten Partikel 104 bestimmt und kann daher als bildkontrollierte Bewegung bezeichnet werden. Die Menge der zu den belichteten Flächen zugeführten Entwicklungsflüssigkeit hängt also von der Anzahl der entwickelten Partikel 104, die von ihrem ursprünglichen Platz entfernt werden, ab.To ensure uniform development of the exposed areas 106 and 108 , the electrodes 30 and 40 are provided. The electrode 30 is connected via the line 110 to the positive pole of a direct current source 86, while the electrode 40 is connected via the line 112 to the negative pole of the direct current source 86. When a negative voltage is applied to the electrodes 40, the developing liquid is decomposed by electrolysis with the development of hydrogen bubbles 120. The hydrogen bubbles developed along the electrode 40 flow over the tip 44 directly past the surface of the emulsion layer 20 upwards. The gaseous hydrogen bubbles are very fine, uniform and close together. Their size is approximately V25 the size of nitrogen bubbles which are supplied from a nitrogen bottle, so that they do not have their disadvantages, ie very large bubbles with a large spacing. The voltages are applied to the electrodes 30 and 40 immediately after the development is started. The bubbles 120 then flow past the emulsion surface and detach the particles 104 from the emulsion surface. At the same time, the particles 104 are attracted to the electrode 30 connected to the positive pole of the direct current source and removed from their original location. As a result, new developing liquid reaches the areas originally occupied by the particles 104 , so that the development can proceed further. The movement of the developing liquid resulting from the combination of the electrolysis taking place at electrode 40 and the electrophoresis effected by electrode 30 is determined by the number of particles 104 developed and can therefore be referred to as image-controlled movement. The amount of developing liquid supplied to the exposed areas therefore depends on the number of developed particles 104 that are removed from their original place.

Um die Vorteile des erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahrens zu zeigen, wurde eine photographische Piatte mit einem Muster entsprechend F i g. 4 entwikkelt. Die F i g. 5 zeigt in Vergrößerung das Bild einer Linie mit einer Breite von 0,05 mm aus diesem Muster, während in F i g. 6 das Bild einer vergleichbaren Linie gezeigt ist, das mit den bisher bekannten Entwicklungsverfahren erhalten wird. Wie bereits vorher erwähnt wurde, besteht das vorliegende Muster aus einer Vielzahl von 0,05 mm breiten horizontalen und vertikalen Linien und aus einer oder mehreren 3,3 mm breiten Linien. Die Mehrzahl der mit den bisherigen Entwicklungsverfahren erhaltenen 0,05 mm breiten Linien zeigt eine Form, wie in F i g. 6 dargestellt ist, d. h., die Linien und die Abstände zwischen den Linien sind ungenau und ungleichmäßig. Der Grund für die Ungenauigkeiten ist, daß es mit den bisherigen Verfahren nicht möglieh war, zwischen Bildflächen zu unterscheiden, die viel Entwicklungsflüssigkeit oder wenig bzw. gar keine Entwicklungsflüssigkeit benötigten. Es ist offensichtlich, daß mehr Entwicklungsflüssigkeit in der Umgebung der 33 mm breiten Linien als in der Umgebung der fto 0,05 mm breiten Linien erforderlich ist, was bei den bisherigen Entwicklungsverfahren nicht berücksichtigt werden konnte. Mit den üblichen Rührvorrichtungen werden zwar größere Bildflächen 10(5 (F i g. 3) mit einer ausreichenden Menge an Entwicklungsflüssigkeit versorgt, die kleineren Bildflächen 108 erhalten jedoch dieselbe Menge an Entwicklungsflüssigkeit und werden daher überentwickelt. In anderen, mit Stickstoffblasen arbeitenden Entwicklungsvorrichtungen bewirken die großen und weit voneinander entfernten Stickstoffblasen eine unregelmäßige Entfernung der Abfallpartikel von den Bildflächen, und sie führen daher ebenfalls zu einer ungleichmäßigen Entwicklung. Dies führt zu den entwickelten Linien, die in F i g. 6 gezeigt sind, bei denen diejenigen Teile 107 der Linie, die zwischen den Blasen liegen, unterentwickelt und daher zu schmal sind, während andere Teile überentwickelt und entsprechend zu breit sind.In order to demonstrate the advantages of the developing method of the present invention, a photographic plate having a pattern as shown in FIG. 4 developed. The F i g. FIG. 5 shows an enlarged image of a line 0.05 mm wide from this pattern, while FIG. Figure 6 shows the image of a comparable line obtained with the previously known development methods. As previously mentioned, the present pattern consists of a plurality of 0.05 mm wide horizontal and vertical lines and one or more 3.3 mm wide lines. The majority of the 0.05 mm wide lines obtained by the previous developing methods show a shape as shown in FIG. 6, that is, the lines and the spaces between the lines are imprecise and uneven. The reason for the inaccuracies is that it was not possible with the previous methods to distinguish between image areas which required a lot of developing liquid or little or no developing liquid. It is obvious that more developing liquid is required in the vicinity of the 33 mm wide lines than in the vicinity of the fto 0.05 mm wide lines, which could not be taken into account in the previous development processes. With conventional stirring devices, although larger image areas 10 ( FIG. 5) are supplied with a sufficient amount of developing liquid, the smaller image areas 108 receive the same amount of developing liquid and are therefore overdeveloped large and far apart nitrogen blowing an irregular removal of waste particles from the image areas and, therefore, they also result in an uneven development. This leads to the developed lines g in F i. are shown 6 in which those parts 107 of the line, those between the bubbles are underdeveloped and therefore too narrow, while other parts are overdeveloped and accordingly too wide.

Demgegenüber werden mit der Entwicklungsvorrichtung gemäß der Erfindung gleichmäßige Linien, die in F i g. 5 gezeigt sind, erhalten. Dies gilt nicht nur für die Linienbreite, sondern auch für die Entfernung zwischen zwei Linien, und zwar sowohl für sehr breite (3,3 mm) als auch für schmale (0,05 mm) Linien. So ist es mit dem vorliegenden Entwicklungsverfahren möglich, die an Masken gestellten Toleranzanforderungen zu übertreffen und Masken zu erhalten, die untereinander sehr gleichmäßig sind. Die F i g. 7 und 8 zeigen in einem Diagramm und in einem Zeitdiagramm die einzelnen Schritte eines mit der Entwicklungsvorrichtung der F i g. 1 durchgeführten Entwicklungsverfahrens. Über die Regelanordnung 78 wird eine Entwicklungsflüssigkeit mit Hilfe einer Pumpe 60 zunächst in den Entwicklungstank 10 eingefüllt. Anschließend wird die Haltevorrichtung 12 mit den belichteten Platten über die Führungsschienen 46 und 48 in den Tank 10 eingeführt. Die sich während der bei der Entwicklung ablaufenden Redox-Reaktionen sofort bildenden negativ geladenen Abfallpartikei 104 sammeln sich in unmittelbarer Umgebung der belichteten Flächen der Emulsionsschicht an. Ohne Bewegung der Entwicklungsflüssigkeit verbleiben die Partikel 104 zunächst an den belichteten Flächen der Emulsionsschicht, bis sie schließlich langsam auf den Boden des Tankes 10 absinken. Während der Entwicklung wird an die Elektroden 30 und 40 eine Gleichspannung von ungefähr 6 Volt in Form von Impulsen mit einer Dauer von 15 Sekunden und einem Impulsintervall von 30 Sekunden angelegt. Die Entwicklungszeit ist von dem verwendeten Entwickler abhängig und beträgt beispielsweise für einen Hydrochinon-Entwickler 3 Minuten. Es wird so eine gleichmäßige Entwicklung erhalten. Nach dreiminütiger Entwicklung bei gleichzeitiger Bewegung der Entwicklungsflüssigkeit wird über die Regelanordnung 78 die Absaugpumpe 98 etwa 15 Sekunden lang zur Entfernung der Entwicklungsflüssigkeit aus dem Tank 10 betätigt. Naciidem der Tank 10 geleert ist, wird über die Regelanordnung 78 die Absaugpumpe 98 abgestellt und die Pumpe 64 zur Einführung der Fixierflüssigkeit 54 in den Tank 10 betätigt. Die Fixierflüssigkeit 54 verbleibt etwa 3 Minuten lang in dem Tank. Anschließend wird über die Regelanordnung 78 wiederum die Absaugpumpe 98 zui Entfernung der Fixierflüssigkeit 54 aus dem Tank K betätigt. Zur anschließenden kontinuierlichen Spülunj der Platten wird über die Regelanordnung 78 das Was serzuführungsventil 74 7 Minuten lang geöffnet. Nacl dieser Zeit wird, wiederum über die Regelanordnuni 78, das Wasserzuführungsventil 74 geschlossen und di Absaugpumpe 98 zur Entfernung des Wassers aus der Tank betätigt. Damit ist das Entwicklungsverfahren de Platte 18 beendet, und die Haltevorrichtung 12 wird m der entwickelten Platte 18 aus dem Tank 10 herausge nommen und die Platte anschließend in üblicher Weis getrocknet.On the other hand, with the developing device according to the invention, smooth lines shown in FIG. 5 are obtained. This applies not only to the line width, but also to the distance between two lines, for both very wide (3.3 mm) and narrow (0.05 mm) lines. With the present development process, it is possible to exceed the tolerance requirements placed on masks and to obtain masks that are very uniform with one another. The F i g. 7 and 8 show, in a diagram and in a time diagram, the individual steps of one with the developing device of FIG. 1 carried out development process. A developing liquid is first filled into the developing tank 10 via the control arrangement 78 with the aid of a pump 60. The holding device 12 with the exposed plates is then introduced into the tank 10 via the guide rails 46 and 48. The negatively charged waste particles 104 which form immediately during the redox reactions taking place during development collect in the immediate vicinity of the exposed areas of the emulsion layer. Without movement of the developing liquid, the particles 104 initially remain on the exposed areas of the emulsion layer until they finally sink slowly to the bottom of the tank 10. During development, a DC voltage of approximately 6 volts is applied to electrodes 30 and 40 in the form of pulses having a duration of 15 seconds and a pulse interval of 30 seconds. The development time depends on the developer used and is, for example, 3 minutes for a hydroquinone developer. Uniform development is thus obtained. After three minutes of development with simultaneous movement of the developing liquid, the suction pump 98 is actuated via the control arrangement 78 for about 15 seconds to remove the developing liquid from the tank 10. After the tank 10 has been emptied, the suction pump 98 is switched off via the control arrangement 78 and the pump 64 is actuated to introduce the fixing liquid 54 into the tank 10. The fixing liquid 54 remains in the tank for about 3 minutes. Subsequently, the suction pump 98 is again actuated to remove the fixing liquid 54 from the tank K via the control arrangement 78. For the subsequent continuous flushing of the plates, the water supply valve 74 is opened for 7 minutes via the control arrangement 78. After this time, the water supply valve 74 is closed, again via the control arrangement 78, and the suction pump 98 is actuated to remove the water from the tank. This completes the development process de plate 18 , and the holding device 12 is taken out of the tank 10 m of the developed plate 18 and the plate is then dried in the usual way.

Wie aus der vorhergehenden Beschreibung hervo: geht, erfolgen die Entwicklung, das Fixieren und diAs can be seen from the preceding description, the development, the fixing and di

509 681 /1 2<509 681/1 2 <

Λ QStt Λ QStt

Waschen nacheinander in demselben Tank 10. Daher ist es nicht erforderlich, die zu entwickelnden Platten während des Verfahrens zu transportieren, und es werden dadurch mögliche Verfahrensfehler verringert und die Betriebssicherheit erhöht. Da nur ein Tank erforderlich ist, wird in der Dunkelkammer Platz gespart, und da nur eine Regelanordnung 78 verwendet wird, werden die für die einzelnen Verfahrensschritte erforderlichen Zeitintervalle genau eingehalten.Wash successively in the same tank 10. Therefore, it is not necessary to process the plates to be developed to be transported during the procedure, and this reduces possible procedural errors and the operational safety increases. Since only one tank is required, space is saved in the darkroom, and since only one control arrangement 78 is used, those required for the individual process steps are required Time intervals strictly adhered to.

In einer zweiten Ausführungsform gemäß der Erfindung wird die Fortbewegung der Abfallpartikel 104 von den belichteten Flächen der Emulsionsschicht 20 nur durch die elektrophoretische Wirkung der Elektrode 30, an die jetzt ein Potential von +26 Volt angelegt ist, erreicht. Innerhalb des Tankes ist in diesem Fall eine Leitung zu einem ähnlichen Rahmen wie Rahmen 14 in F i g. 1 vorgesehen. Der Rahmen ist jetzt leitend und dient als zweite Elektrode. Die Gleichmäßigkeit der Entwicklung ist ähnlich gut wie in der vorher beschriebenen Ausführungsform. Die restlichen Verfahrensschritte bleiben dieselben, so daß der einzige Unterschied in der zweiten Ausführungsform in der Abwesenheit einer besonders ausgebildeten Elektrode 40 und in dem Anlegen einer höheren Spannung an die Elektrode 30 liegt. Die höhere Spannung ist notwendig, um die Schwerkraft der Abfallpartikel 104 zu überwinden und diese zu der Elektrode 30 hinüberzuziehen.In a second embodiment according to the invention becomes the movement of the waste particles 104 from the exposed areas of the emulsion layer 20 only by the electrophoretic effect of the electrode 30, to which a potential of +26 volts is now applied is reached. Inside the tank in this case there is a line to a frame similar to that of the frame 14 in FIG. 1 provided. The frame is now conductive and serves as a second electrode. The evenness the development is as good as in the previously described embodiment. The remaining procedural steps remain the same, so the only difference in the second embodiment in the absence a specially designed electrode 40 and in the application of a higher voltage to the Electrode 30 is located. The higher voltage is necessary to overcome the gravity of the debris 104 and pull it over to electrode 30.

Die vorliegende Entwicklungsvorrichtung kann natürlich nicht nur zur Entwicklung von Schwarzweiß-Filmen, sondern auch für die Färb- und Umkehrentwicklung benützt werden. In F i g. 9 sind die verschiedenen Verfahrensschritte angegeben, die ebenfalls in demselben Tank 10 mit den Elektroden 30 und 40 durchgeführt werden. Es ist jedoch notwendig, weitere Vorratsbehälter für das Unterbrechungsbad, ein Härtungsmittel und ein Bleichmittel, sowie die entsprechenden Pumpen vorzusehen. Das Programm in der Regelanordnung 78 muß dann ebenfalls geändert werden, um die zusätzlichen Pumpen zu kontrollieren und sie für die Färb- und Umkehrentwicklung in den entsprechenden Zeitintervallen zu betätigen.The present developing device can of course not only be used for developing black and white films, but can also be used for color and reversal development. In Fig. 9 are the different Method steps indicated, which are also carried out in the same tank 10 with electrodes 30 and 40 will. However, it is necessary to have additional reservoirs for the interruption bath, a hardening agent and to provide a bleach and the appropriate pumps. The program in the rule arrangement 78 must then also be changed to control the additional pumps and use them for to operate the color and reversal development in the appropriate time intervals.

F i g. 9 zeigt die bei der Entwicklung eines Farbfilms ablaufenden Verfahrensschritte, wobei als Entwickler und die für Farbfilme bekannten Unterbrecherbäder, Härtungsmittel, Bleich- und Fixiermittel benutzt werden. Zunächst wird eine photographische Platte in den Tank 10 eingeführt und mit Wasser gewaschen. Das Wasser wird anschließend aus dem Tank 10 entfernt, und die Entwicklungsflüssigkeit wird dann in den Tank 10 eingeführt. Wie bereits erwähnt, sammeln sich bei der Entwicklung die negativ geladenen Abfallpartikel an den belichteten Bildflächen an, und es werden daher während der Entwicklung an beiden Elektroden in Intervallen von jeweils 30 Sekunden Spannungsimpulse von 15 Sekunden Dauer angelegt. Die Entwicklungsflüssigkeit wird dann aus dem Tank entfernt und die Unterbrecherflüssigkeit, gesteuert über die Regelanordnung, dem Tank zugeführt. Nach einer bestimmten Zeit wird das Unterbrecherbad aus dem Tank entfernt, das Härtungsmittel in den Tank eingeführt und anschließend wiederum aus dem Tank entfernt und Wasser in den Tank 10 eingeführt. Nach der Entfernung des Wassers wird ein Fixiermittel in den Tank eingeführt, das Fixiermittel aus dem Tank entfernt und die Platte kontinuierlich mit Wasser, das über dieselbe fließt, gespült. Dieses Entwicklungsverfahren für Farbfilme besitzt alle bereits vorher für die Entwicklung von Schwarzweiß-FÜ-,επ geschilderten Vorteile, und die zusätzlich erforderlichen Verfahrensschritte können ebenfalls in einem einzigen Tank durchgeführt werden.F i g. 9 shows the process steps which take place in the development of a color film, with as developer and the break baths, hardeners, bleaches and fixers known for color films can be used. First, a photographic plate is inserted into the tank 10 and washed with water. That Water is then removed from tank 10 and the developing liquid is then added to the tank 10 introduced. As already mentioned, the negatively charged waste particles collect during development on the exposed image areas, and therefore During development, voltage pulses were applied to both electrodes at 30-second intervals of 15 seconds duration. The developing liquid is then removed from the tank and the Interrupting liquid, controlled by the control arrangement, fed to the tank. After a certain Time the interrupt bath is removed from the tank, the hardener introduced into the tank and then again removed from the tank and water introduced into the tank 10. After removing the Water, a fixative is introduced into the tank, the fixative is removed from the tank and the plate rinsed continuously with water flowing over the same. This color film developing method possesses all of the advantages previously described for the development of black and white FÜ, επ, and the additionally required process steps can also be carried out in a single tank.

Die bisher geschilderten EntwicklungsvorrichtungenThe development devices described so far

hatten einen rechteckigen Entwicklungstank, der insbesondere für die Entwicklung der photographischen Platten geeignet war. Es können jedoch auch mit dem Verfahren gemäß der Erfindung unter Ausnutzung der durch die beiden Elektroden hervorgerufenen eleklrolytischen und elektrophoretischen Wirkung Filmstreifen in einem automatischen Verfahren entwickelt werden. had a rectangular processing tank, which was particularly suitable for processing photographic Plates was suitable. However, it can also with the method according to the invention utilizing the Electrolytic and electrophoretic effect caused by the two electrodes Film strips can be developed in an automatic process.

Die Fig. 10 bis 13 zeigen eine andere Vorrichtung, mit der nach dem Verfahren gemäß der Erfindung Filmstreifen entwickelt werden können. Die Entwicklungsvorrichtung 150 enthält einen Entwicklungstank 152 von zylindrischer Form (Fig. 11). Der Entwicklungstank 152 besitzt in seinem Zentrum eine Achse 154, auf die der Spulenkern 156 einer Filmspule 158 (F i g. 10) gesteckt wird. Der Entwicklungstank 152 und sein größerer Hohlboden 160 bestehen wie der Entwicklungstank 10 aus einem elektrisch isolierenden Material, beispielsweise aus Polymethacrylsäureester-Kunststoff. Mit dem Boden 160 und seinem Innern sind vier Schläuche oder Röhren 162, 164, 166 und 168 verbunden. Sie spielen eine ähnliche Rolle wie die Röhren 66, 68, 72 und 96 in F i g. 1. Beispielsweise ist die Röhre 162 mit einem Entwicklungstank, die Röhre 164 mit einem Tixieriank, die Röhre 166 mit einem Wassertank und die Röhre 168 zur Entleerung des Entwicklungstankes 152 mit einer Absaugpumpe verbunden. Auf dem Boden 160 ist um die Achse 154 eine leitende ringförmige Platte 170 angeordnet, die in der beschriebenen Vorrichtung aus rostfreiem Stahl besteht und über die Leitung 172 mit dem negativen Pol einer nicht ge-FIGS. 10 to 13 show another device, with which film strips can be developed according to the method according to the invention. The developing device 150 contains a developing tank 152 of cylindrical shape (Fig. 11). The development tank 152 has an axis 154 in its center, on which the spool core 156 of a film spool 158 rests (Fig. 10) is inserted. The developing tank 152 and its larger hollow bottom 160 exist like the developing tank 10 made of an electrically insulating material, for example made of polymethacrylic acid ester plastic. Four hoses or tubes 162, 164, 166 and 168 are connected to the floor 160 and its interior. They play a role similar to that of tubes 66, 68, 72 and 96 in FIG. 1. For example is the tube 162 with a developing tank, the tube 164 with a Tixieriank, the tube 166 with a water tank and the tube 168 for emptying the developing tank 152 connected to a suction pump. on a conductive annular plate 170, which is described in FIG The device is made of stainless steel and is connected via the line 172 to the negative pole of a

zeigten Gleichstromquelle verbunden ist.showed DC power source is connected.

Die Filmspule 158 besitzt an ihren Enden zwei Scheiben 174 und 176, die durch den eine Aussparung 157 aufweisenden Spulenkern 156 miteinander verbunden sind. Die Scheibe 174 und der Spulenkern 156 bestehenThe film spool 158 has two disks 174 and 176 at its ends, which through the one recess 157 having coil core 156 are connected to one another. The disc 174 and the spool core 156 are made

aus einem geeigneten isolierenden Material, beispielsweise aus Polymethacrylsäureester-Kunststoff. Die Scheibe 174 ist zur besseren Handhabung der Filmspule 158 mit einem Handgriff 180 versehen. Die in den Fig. 10 und 12 genauer gezeigte Scheibe 176, die ausmade of a suitable insulating material, for example made of polymethacrylic acid ester plastic. the Disk 174 is provided with a handle 180 for better handling of the film spool 158. The ones in the 10 and 12, the washer 176 shown in greater detail, consisting of

einem elektrisch leitenden Material, beispielsweise aus rostfreiem Stahl, besteht, hat auf ihrer Innenfläche 186 zu dem Spulenkern 156 als Spiralen verlaufende Einkerbungen 182 und 184. In der Einkerbung 184 ist als Elektrode 188 ein platiniertes Titangitter angeordnetan electrically conductive material such as stainless steel has 186 on its inner surface Notches 182 and 184 which run as spirals to the coil core 156. In the notch 184 is as Electrode 188 arranged a platinum-plated titanium grid

das eine ähnliche Bedeutung wie die Elektrode 30 in F i g. 1 besitzt. Die Oberfläche der Einkerbung 184 isl mit einer Isolation 187 (Fig. 13) bedeckt, so daß die Elektrode 188 von der leitenden Scheibe 176 elektrisch isoliert ist. Die Elektrode 188 hat eine gewundenewhich has a similar meaning to electrode 30 in FIG. 1 owns. The surface of the notch 184 isl covered with an insulation 187 (Fig. 13), so that the electrode 188 from the conductive disk 176 electrically is isolated. The electrode 188 has a sinuous one

Form, die den in F i g. 12 gezeigten spiralförmigen Ein kerbungen 184 entspricht. Sie ist durch nicht gezeigte Leitungen mit dem positiven Pol einer Gleichstrom quelle verbunden. Der belichtete Film wird in die spiralförmige Einkerbung 182 eingeschoben, bis er das ar dem Spulenkern 156 liegende Ende der Einkerbung erreicht. Zur Erleichterung der Filmeinführung kann aul der Scheibe 174 ebenfalls eine Eingriffskerbe vorgesehen sein. Wenn der als 159 in Fig. 10 angedeutete Filmstreifen in die Filmspule 158 eingeführt ist, befindeShape that corresponds to the one shown in FIG. 12 shown spiral a notches 184 corresponds. It is a direct current through lines not shown with the positive pole source connected. The exposed film is inserted into the spiral notch 182 until it reaches the ar the coil core 156 lying end of the notch reached. To facilitate the introduction of the film, aul the disk 174 may also be provided with an engaging notch. When the indicated as 159 in FIG Filmstrip is inserted into the film spool 158 is located

sich der Filmstreifen mit der lichtempfindlichen Schich über seine gesamte Länge in unmittelbarer Nachbar schaft zu dem Elektrodengitter 188. Die Filmspule 151 wird dann über die Achse 154 in den Entwicklungstanlthe film strip with the photosensitive layer Over its entire length in the immediate vicinity of the electrode grid 188. The film reel 151 is then via the axis 154 in the development plant

Λ QSt? Λ QSt?

152 eingeführt. Die jetzt auf der leitenden Platte 170, die mit dem negativen Pol einer Gleichstromquelle verbunden ist, aufliegende, ebenfalls leitende Scheibe 176 wirkt jetzt als zweite Elektrode. Die Entwicklungsflüssigkeit wird über die Röhre 162 unter Benutzung einer entsprechenden Regelanordnung in den Entwicklungstank 152 eingeführt. Mit Beginn der Entwicklung werden eine positive Spannung an die Elektroden 188 und eine negative Spannung an die ringförmige Platte 170 und damit an die Scheibe 176 angelegt, um die Enlwicklungsflüssigkeit zu bewegen. Durch die an den negativen Pol der Gleichstromquelle angeschlossene Scheibe 176 wird die Entwicklungsflüssigkeit durch Elektrolyse zersetzt, so daß feine gasförmige Wasserstoffblasen an 152 introduced. The also conductive disk 176 now resting on the conductive plate 170, which is connected to the negative pole of a direct current source, now acts as a second electrode. The developing liquid is introduced into the developing tank 152 via the tube 162 using an appropriate control arrangement. As development begins, a positive voltage is applied to electrodes 188 and a negative voltage to annular plate 170, and thus disc 176 , to move the developing liquid. Through the disk 176 connected to the negative pole of the direct current source, the developing liquid is decomposed by electrolysis, so that fine gaseous hydrogen bubbles are formed

der Oberfläche der Emulsionsschicht des Filmstreifen 159 entlang mach oben strömen und dabei die Abfall partikel von ihrem Entstehungsort in den belichtetei Bereichen der lichtempfindlichen Schicht ablösen. Di Partikel werden dann von der an den positiven Pol de Gleichstromquelle angeschlossenen Elektrode 188 an gezogen, und es kann neue Entwicklungsflüssigkeit ζ den entsprechenden Bereichen des Films strömen. Di weiteren Verifahrensschritte entsprechen den in de F i g. 7 und 8 gezeigten einzelnen Schritten. In demse ben Entwicklungstank 152 können auch Farbfilme eni sprechend den in Fig.9 angegebenen einzelnen Vei fahrensschritten entwickelt werden.the surface of the emulsion layer of the filmstrip 159 flowing along the top and thereby detaching the waste particles from their place of origin in the exposed areas of the photosensitive layer. The particles are then attracted by the electrode 188 connected to the positive pole of the direct current source, and new developing liquid can flow to the corresponding areas of the film. The further procedural steps correspond to those in the figure. 7 and 8. In the same developing tank 152 , color films can also be developed in accordance with the individual process steps indicated in FIG.

Hierzu 2 Blatt ZeichnungenFor this purpose 2 sheets of drawings

19831983

Claims

Patent claims:

1. Process for developing photographic recording material, in which by the treatment with a developing solution produces negatively charged waste products and the a DC voltage is applied to two electrodes immersed in the developing solution, by characterized in that the negatively charged waste products at the first in the developing device arranged opposite the emulsion layer, connected to the positive pole of the direct current source electrode collected will.

2. The method according to claim 1, characterized in that the negatively charged waste products by hydrogen bubbles generated by the second in the developing device below the photosensitive Layer arranged, connected to the negative pole of the direct current source electrode are generated, removed from the photosensitive layer and from the first opposite the photosensitive layer arranged, connected to the positive pole of the direct current source Electrode can be collected.

3. The method according to claim 2, characterized in that during development to both Electrodes DC voltage pulses of 6 volts with a pulse duration of 15 seconds and a pulse interval of 30 seconds.

4. The method according to claim 1, characterized in that that during development to the opposite of the emulsion layer arranged with A potential of + 26 V is applied to the electrode connected to the positive pole of the direct current source will.

5. The method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the photographic Recording material is fixed in the developing device subsequent to the development and is watered.

6. Device for performing the method according to one or more of claims 1 to 5, characterized in that in the developing device opposite to the photosensitive Layer of the recording material to be developed a first, with the positive pole of the direct current source connected electrode and that below the photosensitive layer a second, with the negative pole of the DC power source connected electrode is provided or that the frame of the photographic plate holder is the second electrode.

7. Apparatus according to claim 6, characterized in that the first electrode as a wire grid is formed, which is at a distance of 1.6 to 38 mm from the photosensitive layer of the to developing photographic material.

8. Apparatus according to claim 6, characterized in that the second below the photosensitive Layer arranged electrode has an upwardly pointing edge.

9. Device according to claims 6 and 7, characterized in that the first electrode in one that runs in a spiral shape in the lower disk of a film spool and is provided with an insulation Guide is arranged, between which a spiral guide is provided for the film and that the second electrode of the lower, made of a conductive material consists of the disc Film spool is formed.