DE1810809B2

DE1810809B2 - 12/27/67 Japan 215-68 Use of a thin, multi-layered metal foil as an electron beam permeable window for cathode ray tubes

Info

Publication number: DE1810809B2
Application number: DE1810809A
Authority: DE
Inventors: Hidehiko Kawasaki Kawakami; Yoshihiro Machida Uno
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1967-11-27
Filing date: 1968-11-25
Publication date: 1975-09-11
Also published as: FR1593405A; US3607676A; DE1810809A1; NL137558B; GB1195756A; NL6816866A

Description

Die Erfindung bezieht sich auf die Verwendung einer dünnen mehrschichtigen Metallfolie als elektronenstrahlendurchlässiges Fenster für Kathodenstrahlröhren. The invention relates to the use of a thin, multilayer metal foil as an electron beam permeable one Windows for cathode ray tubes.

In der OE-PS 1 30 790 ist ein Verfahren zur Herste!· king von Fenstern für Kathodenstrahlröhren beschrieben. Die nach diesem Verfahren hergestellten Fenster bestehen aus übereinander erzeugten Niederschlagen verschiedener Metalle und sind verhältnismäßig dick.In the OE-PS 1 30 790 there is a process for the manufacture! · king of windows for cathode ray tubes. The windows made by this process consist of superimposed deposits of different metals and are relatively thick.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein elektronenstrahldurchlässiges Fenster für Kathodenstrahlröhren zu schaffen, das besonders dünn ist.The invention is based on the object of a To create windows for cathode ray tubes that is particularly thin.

Die Lösung dieser Aufgabe ist im Patentanspruch angegeben.The solution to this problem is given in the claim.

Das erfindungsgemäße Fenster zeichnet sich sowohl durch eine besonders gleichmäßige als auch geringe Schichtstärke aus, die weniger als 0.03 mm betragen kann.The window according to the invention is distinguished by both a particularly uniform and a small one Layer thickness, which can be less than 0.03 mm.

Aus der GB-PS 10 53 304 ist bereits pin Verfahren zur Herstellung einer dünnen mehrschichtigen Metallfolie bekannt, bei dem eine erste dünne Schicht aus Silber auf einen Träger aus Glas niedergeschlagen wird, auf welche sodann eine zweite Schicht aus Kupfer niedergeschlagen wird, woraufhin die mehrschichtige Folie von dem Träger abgeschält wird. Die Dicke der nach diesen bekannten Verfahren hergestellten mehrschichtigen Metallfolie muß aber einerseits mindestens 0,1 mm betragen, weit die Silberschicht an dem Glasträger relativ fest haftet, so daß das Abschälen gewisse Schwierigkeiten bereitet, und andererseits dient diese mehrschichtige Metallfolie auch nicht als elektronenstrahlendurchlässiges Fenster für Kathodenstrahlröhren, sondern als magnetisierbar Element in einer elektronischen Datenverarbeitungsanlage.From GB-PS 10 53 304 pin is already a method for producing a thin multilayer metal foil known, in which a first thin layer of silver is deposited on a support made of glass, on which a second layer of copper is then deposited, whereupon the multilayer Foil is peeled from the carrier. The thickness of the multilayer manufactured by these known methods On the one hand, however, metal foil must be at least 0.1 mm, as far as the silver layer on the glass substrate adheres relatively firmly, so that peeling presents certain difficulties, and on the other hand, this serves multilayer metal foil not even as electron beam permeable Window for cathode ray tubes, rather than a magnetizable element in one electronic data processing system.

Aus der GB-PS 2 75 221 ist auch bereits ein Verfahren zur Herstellung dünner Nickelfolien bekannt, bei dem au: elektrolytischem Wege mehrere übereinanderliegende Schichten erzeugt werden, die sodann voneinander getrennt werden. Um das Abschälen der einzelnen Schichten voneinander zu erleichtern, ist dabei vorgesehen, daß auf der Oberfläche einer jeden Schicht vor dem Aufbringen der nächsten Schicht ein dünner Oxidfilm erzeugt wird. Die nach diesem bekannten Verfahren hergestellten einschichtigen Metallfolien sind aber nicht zur Verwendung als elektronenstrahlendurchlässige Fenster für Kathodenstrahlröhren vorgesehen. From GB-PS 2 75 221 there is already a method known for the production of thin nickel foils, in which several superimposed electrolytic means Layers are generated, which are then separated from one another. To the peeling off of each To facilitate layers from one another, it is provided that on the surface of each layer a thin oxide film is produced before the next layer is applied. The known after this Process-produced single-layer metal foils are not for use as electron radiation-permeable Windows provided for cathode ray tubes.

Die Erfindung wird im folgenden an Hand der Zeichnung näher erläutert, die einen stark vergrößerten Schnitt durch die als etektronenstrahlendurchlässiges Fenster für Kathodenstrahlröhren dienende mehrschichtige Metallfolie zeigtThe invention is described below with reference to the drawing explained in more detail, which shows a greatly enlarged section through the electron beam transparent Shows multilayer metal foil serving windows for cathode ray tubes

Zunächst wird eine erste dünne Schicht 2 aus Metall auf einer ausreichend gereinigten, glatten Oberfläche eines Glasträgers 1 niedergeschlagen, beispielsweise durch Vakuumverdampfung oder Zerstäubung. Während die Vakuumverdampfung eine ausreichende Haftung zwischen der Metallschicht 2 und dem Glasträger 1 ergibt, kann eine noch festere Haftung erzielt werden, wenn man eine Zerstäubung anwendet. Das die Schicht 2 bildende Metall kann beispielsweise Nikkei sein, wenn die zuletzt aufzubringende Schicht aus Nickel besteht Nachdem die dünne Schicht 2 auf dem Glasträger I niedergeschlagen worden ist. wird das Vakuum aufgehoben, und die dünne Schicht 2 wird der Umgebungsluft für einen bestimmten Zeitraum ausgesetzt, der mehrere Minuten dauern kann. Dann wird das Muster wieder in die Verdampfungsvorrichtung eingesetzt, und eine zweite dünne Schicht 3 aus Metall wird auf der ersten dünnen Schicht 2 durch Vakuumverdampfung niedergeschlagen. Das Metall der zweiten Schicht 3 ist vorzugsweise ein chemisch inaktives Metali, wie z. B. Gold. Silber oder Platin. Dann wird eine NickeipSattierung durchgeführt, wobei die zweite Schicht 3 als Elektrode verwendet wird, um dadurch eine dritte Schicht 4 aus Nickel von vorbestimmter Dikke auf der zweiten Schicht 3 aufzubringen. Nach Beendigung des Plattierungsvorgangs erfolgt ein Reinigungs- und Trocknungsvorgang und sodann wird die als elektronenstrahlendurchlässiges Fenster für Kathodenstrahlröhren dienende mehrschichtige Metallfolie von dem Glasträger 1 abgeschält. Das Abschälen erfolgt an der Grenzfläche zwischen der ersten und der zweiten Schicht, d. h. zwischen der der Luft ausgesetzten Oberfläche der Schicht 2 aus Nickel und der Oberfläche der Schicht 3 aus Gold oder einem ähnlichen chemisch inaktiven Metall. Die Haftkraft zwischen den Schichten 2 und 3 ist derart, daß sie die Herstellung extrem dünner mehrschichtiger Metallfolien ermöglicht. Die Haftkraft zwischen diesen beiden Schichten ist nämlich einerseits ausreichend stark, um der Abschälneigung während des Plattierungsvorgangs Widerstand zu leisten, und sie ist andererseits so gering, daß die zweite Schicht 3 während des Abschälvorgangs weder beschädigt noch die dritte Schicht 4 von der zweiten Schicht 3 abgeschält wird.First, a first thin layer 2 of metal is applied to a sufficiently cleaned, smooth surface a glass carrier 1 is deposited, for example by vacuum evaporation or atomization. While vacuum evaporation ensures sufficient adhesion between the metal layer 2 and the glass substrate 1 results, even tighter adhesion can be achieved by using atomization. That the metal forming layer 2 can be, for example, Nikkei if the layer to be applied last is made of Nickel exists after the thin layer 2 has been deposited on the glass substrate I. becomes the vacuum canceled, and the thin layer 2 becomes the Exposed to ambient air for a period of time that can last several minutes. Then it will be the pattern is inserted back into the evaporation device, and a second thin layer 3 of metal is deposited on the first thin layer 2 by vacuum evaporation. The metal of the second Layer 3 is preferably a chemically inactive metal, such as. B. Gold. Silver or platinum. Then it will be performed one nickeip, with the second Layer 3 is used as an electrode, thereby forming a third layer 4 of nickel of predetermined thickness to apply on the second layer 3. After the plating process has been completed, a cleaning and drying process and then it is used as an electron-ray permeable window for cathode ray tubes Serving multilayer metal foil peeled off from the glass substrate 1. The peeling takes place at the interface between the first and second layers, d. H. between those exposed to air Surface of the layer 2 made of nickel and the surface of the layer 3 made of gold or the like chemically inactive metal. The adhesive force between layers 2 and 3 is such that it makes manufacture extreme allows thin multilayer metal foils. The adhesive force between these two layers is namely, on the one hand, sufficiently strong to withstand the tendency to peel off during the plating process to make, and it is on the other hand so small that the second layer 3 during the peeling process neither damaged nor the third layer 4 is peeled off from the second layer 3.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims

Claim:

Use of a thin multilayer metal foil, which is made by depositing a first thin layer of metal on top of a flat support, the surface of which is then exposed to the air, and on which then a second layer of a chemically inactive metal is deposited, whereupon a third Layer of metal is applied, and then the multilayer film from the carrier is peeled off at the interface between the first and the second layer, as electron Radiolucent window for cathode ray tubes.