DE1798025C - Instrument for determining the position of a point in relation to a reference plane - Google Patents

Instrument for determining the position of a point in relation to a reference plane

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DE1798025C
DE1798025C DE19681798025 DE1798025A DE1798025C DE 1798025 C DE1798025 C DE 1798025C DE 19681798025 DE19681798025 DE 19681798025 DE 1798025 A DE1798025 A DE 1798025A DE 1798025 C DE1798025 C DE 1798025C
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3 43 4

-:v,d. Dies kann.unter Umständen nicht immer ein- eines dünnen sireitcnfMmii-.cn Materials gezeig! sind.-: v, d. Under certain circumstances, this cannot always be shown in a thin, transparent material! are.

:.ich sein, wenn man parallele Sehrmgitier \crwen- ist eine solche Aiisiührungsfor" jedoch inch: not: .being me, if one interprets parallel views, such a guiding principle is, however, inch: not

del. da in diesen Fällen die Moire-Zonen in jeder wvndiü.del. since in these cases the moiré zones in each wvndiü.

M^terhalfle etwa gleich aussehen und daher nicht Der hintere Schirm 3 weist cbenf.ilN ciiMiilici-M ^ terhalfle look about the same and therefore not The rear screen 3 has cbenf.ilN ciiMiilici-

'"eiclu identifiziert werden können. 5 muster aiii. wt-Lh.es dem von den Streuen 4 geb>.!-'"eiclu can be identified. 5 patterns aiii. wt-Lh.es that of the litters 4 geb>.! -

Gcmäß eii'cr vorzugsweiscn Austührun^tor m tie-. deteu Muster entspricht, iedocli mü dem I nier-In accordance with a preferred embodiment. deteu pattern corresponds, iedocli must be the international

G-e:äis liegen daher die GiUerschirme in Fhencn. schied, daß die dunkle:; Snvilcn ft der linken ILiIiIeTherefore the umbrella umbrellas are in the wings. parted that the dark :; Snvilcn ft the left ILiIiIe

■.: e sich längs einer Geraden schneiden, die außei halb die aufrecht verlaufende Mittellinie Λ/-Λ/ des riicl·.-■ .: e intersect along a straight line, outside the upright center line Λ / -Λ / of the riicl · .-

nrauehbaren Gilterebene lieu,t. Ais FuIa- hie:- wüninen Sch.irms unter einem kleinen W:nkei .-nrauehbaren filter level lieu, t. Ais FuIahie: - a small umbrella under a little W: nkei .-

■-. hängt die Breite und die Anzahl der in jeder in schneiden, während die Streiten ft' der rechten Hall:.■ -. depends on the width and number of cut in each in, while arguing ft 'the right reverb :.

i.iitre ties Gittermusters vorliegenden Moire-Zonen des Schirms die genannte Linie M-M unter deini.iitre the lattice pattern present moiré zones of the screen, the line MM mentioned below your

.-:: der Richtung ab. in der sich der Beobachter au-, deichen Winkel ^. iedoch mit umgekehrtem \ or-.- :: the direction. in which the observer is au-, dike angle ^. but with the reverse \ or-

Bezugsebene heraushevvegl. und von dem Aus- zeicher., schneiden. Die Streifen ft und ft kour.ciiReference plane outhevvegl. and from the separator., cut. The stripes ft and ft kour.cii

;.:!■> if'eser Bewegung. Demzufolge liefert jedei Un- durch ähnliche imdurchsichtii'.e Streuen wie d;e des;.:! ■> if'eser movement. Accordingly, every un- through yields similar imransparent scattering as d; e des

r-chieti der Zahl und Breite der Zonen, tier von 15 void cn Giiterschirms geb:' ! <ein und lUi.c;·.r-chieti of the number and width of the zones, tier of 15 void cn canopies geb : ' ! <a and lUi.c; ·.

» -υ! Beobachter in l-euieii Giilermusteni festgestellt Sch..t/e7 und 7' licircniu sein, deren ürene mu \(ev»-Υ! Observers in l-euieii Giilermusteni found Sch..t / e7 and 7 'licircniu, whose ürene mu \ (ev

ν eideii kann, eine Anzeige dafür, auf welcher Seite tier Si-eifen übereinstimmt. e kömien anei auch.ν eideii can, an indication of which side tier Si-eifen agrees. e kömien anei too.

- ■: Bez.iis;sebL.-ne er sich befindet und sou.·:" .imiä- durch dunkel nefärbic Zonen gebildet sein. et:, au! ... r:d. v.ic weit er sich bewegen muß. um die Bezugs- eine loste l.nterlavie aufgebracht sind und /o.u'u 7 U>.ne zu erreichen Dieser Flickt wird noch dadurch 20 und 7' einer kontrastierenden Faihe zwischen mcI; ι :-.iersiüizt. daß die Moire-Zonen tspiseh gekrümmte aufweisen.- ■: Bez.iis; sebL.-ne he is located and sou. ·: ".Imiä- be formed by dark nefarbic zones. Et :, au! ... r: dvic far he must move. Around the reference - a loose interlavia are applied and / o.u'u 7 U> .ne to achieve this patch becomes 20 and 7 'of a contrasting faihe between mcI; ι: - .iersiüizt. that the moiré zones tspiseh curved exhibit.

Lernen annehmen, the die Suche nach dem svm- Um den Koni rast des sit h ergebenden Moire-Learning to assume the search for the svm- To the Koni rast of the sit h resulting moire-

i '.n-ehen Musler, welches die Hezugsebeiv anzeigt. Musters zu verstärken, ist es wünscliensweri. tiaßi '.n-ehen Musler, which indicates the Hezügeebeiv. It is wünscliensweri to reinforce the pattern. tiaß

<-.:rk erleichtern. Kt einmal dieses Muster gefunden, die Breiten tier Linien und ihre Abstände in den bei-<- .: facilitate rk. Kt once found this pattern, the widths of tier lines and their spacing in the two-

«..:!!i! kann der Beobachter zur letzten Fmstcl!un>.z 25 den Gitterschirmeii etwa einander gleich sind. Ge-«..: !! i! the observer can be roughly equal to each other at the last Fmstcl! and> .z 25. Ge

1 '..·Ί oben genannten Versuch durchführen, bei dem rinne- Abweichungen von dieser Bedingung können1 '.. · Ί carry out the above-mentioned experiment in which rinne deviations from this condition can occur

1 '.sprechende Moire-Zonen längs der Schnittlinie jedoch zugelassen werden.1 '. Corresponding moiré zones along the cutting line, however, are permitted.

, s;immenfaller. Ιχ-r vordere und tier hintere Schirm sind so anLine schnelle und genaue Ablesung des Insiru- geordnet, daß sie unter einem Winkel zuemandei, s; immenfaller. Ιχ-the front and rear screen are so anLine quick and accurate reading of the insuru arranged so that they are at an angle to each other

- leuis insbesondere bei größeren Fntfernungen wird 30 verlaufen und sich längs der Geraden S schneiden, dadurch erleichtert, daß man die ,Anzahl der Moire- die außerhalb der brauchbaren Schirmtläche liegt. Zonen innerhalb der Giiterlla'che· klein macht. Dies Die sen,- -echte Fbene durch den Mittelpunkt von S wird dadurch erreicht, daß man einen kleinen Wert ist die Bezugsehene Ii. die von dem Instrument fest ihr den Winkel wählt, um den die GiuermuMer des «cleat wird. In jedem Gitterschirm sind die ant ge emen Gi".erschirms relativ zu denjeniüen des :mh!o- ;!?, ücnüber !lebenden Seiten der Bezugsebene liegentten 1 en Giiterschirms gedreht werden. Gemäß einer vor- Gitter muster svmnieiriseh zu dei Geraden, in tier the zugsweisen Ausbildung entspricht dieser Winkel Fbene /\ den Gitterschirm schneidet.- leuis, especially at greater distances, will run and intersect along the straight line S , made easier by the fact that the number of moirées lies outside the usable screen surface. Zones within the Giiterlla'che · makes small. This sen, - -real plane through the center of S is achieved by having a small value for the reference plane Ii. which of the instrument firmly you choose the angle at which the GiuermuMer of the «cleat will be. In each lattice screen, the antge emen gi ". Screens are rotated relative to the ones of the: mh! O-;!?, Over! The living sides of the reference plane 1 en gate screen. According to a previous grid pattern svmnieiriseh to the straight lines in tier the train-wise training corresponds to this angle plane / \ intersects the lattice screen.

höchstens drei Linienperiodeii der L.miengilter, die Bei dom dargestellten Ausführungsbeispiel tief-at most three line periods of L.miengilter, the embodiment shown in the deep

über tue gesamte Abmessung tier Schirme in Richtung fen die dunklen Linien 6, 6' des hinteren Gitlcr-over the entire dimension of the screens in the direction of the dark lines 6, 6 'of the rear gitlcr-

der Linien gesehen sind. 40 schirms tue Zwischenraumes zwischen den Streifenof the lines are seen. 40 screens do space between the strips

Lin*· besonders einfache Konstruktion des Insiru- ties vorderen Giiterschirms längs der Schnittlinie S. Lin * · particularly simple construction of the institute's front canopy along the section line p.

mciiis r.ann dann erreicht werden, wenn die Linien- Oiler, in anderen Worten, es liegt eine Phasenver-mciiis r. can then be reached when the line oilers, in other words, there is a phase difference

gitlcrmuster mit Hilfe von untlurchsiclitiaen Drähten Schiebung von einer halben Periode zwischen U^n gitlcrmuster with the help of unlurchsiclitiaen wires shifting half a period between U ^ n

gebildet werden, die zwischen Trägern ausgespannt Gittermustern längs der Schnittlinie vor. In diesemare formed, the lattice patterns stretched out between beams along the cutting line in front. In this

sinti. welche mil in gleichen Abständen voneinander 15 Fall wird ein entfernter Beobachter, dessen Augensinti. which mil equidistant from each other 15 case becomes a distant observer whose eyes

befindlichen Zähnen versehen sind, während eine in der Bezuusehene Ii hegen und auf den vorderenlocated teeth are provided, while one in the Bezuehene Ii cherish and on the front

Mehrzahl von Drähten an den Stellen weggelassen Schirm schauen, ein symmetrisches Moire-MusterPlurality of wires in the places omitted screen look, a symmetrical moiré pattern

ist. wo tue Bezugsebene die Gitterschirnic schneide!. sehen, wie es zum Beispiel in F i g. 2 dargestellt ist.is. where do the reference plane intersect the Gitterschirnic !. see, for example, in Fig. 2 is shown.

um eine sichtbare Anzeige der Bezugsebene in dem Hierbei finden sich eine gleiche Anzahl horizontaleraround a visible display of the reference plane in the Here there are an equal number of horizontal ones

beobachteten Muster zu schalten. 50 dunkler Z tv en 8. 9, 10 bzw. 8'. 9', 10' u der linkento switch observed pattern. 50 darker Z tv en 8. 9, 10 or 8 '. 9 ', 10' u the left

In der nachstehenden Beschreibung einer Aus- bzw. in tier rechten Hälfte des vorderen Schirms.In the following description of an off or in tier right half of the front screen.

führungsform ist die Erfindung an Hand der Zeich- Fntspreclv.'iide Zonen gleicher Breite befinden siehThe invention is based on the drawing. Fntspreclv.'iide zones of the same width are located

nung erläutert. genau h tier Mitte des Schirms. Bewegt sich derexplained. exactly at the center of the screen. Does the

F i g. I zeigt eine schematische perspektivische Beobachter aus tier Bezugsebene Ii nach links, dannF i g. I shows a schematic perspective observer from the reference plane Ii to the left, then

Darstellung eines erfindiingsgemüMeii Instruments mil 53 verändert sich das Muster, wie in Fig. 3 gezeigt ist.Representation of an inventive instrument with 53, the pattern changes, as shown in FIG. 3.

einer vertikalen Bezugsebene; Selbst eine geringe Vorlagerung des Beobachters be-a vertical reference plane; Even a slight forward positioning of the observer

F i g. 2 zeigt das Moire-Muster, wie es von einer wirkt vertikale Verschiebungen der Moire-MusterF i g. 2 shows the moiré pattern as it acts from a vertical displacements of the moiré pattern

Stelle der Bezugsebene aus gesehen wird; tier entsprechenden Schirmhälften in einander er.tge-Location of the reference plane is seen from; corresponding halves of the screen into each other.

F i g. 3 zeigt das Moire-Muster, wie es von einem gengesetzten Richtungen. So hat sich die Zone 9 derF i g. 3 shows the moiré pattern as seen from opposite directions. Zone 9 of the

links von der Bezugsebene gelegenen Punkt aus ge- 60 F i g. 3 nach unten bewogt, während die Zonen 9'point to the left of the reference plane. 3 moved down while zones 9 '

sehen wird. und 10' nach oben gewandert sind. In F i g. 3 istwill see. and 10 'hiked up. In Fig. 3 is

Das Instrument 1 weist einen vorderen Schirm 2 sogar die Zone 10 vollständig aus der linken Sehirm-The instrument 1 has a front screen 2 even the zone 10 completely from the left screen

auf tier Seite des Beobachters und einen hinteren hälfte verschwunden. Demzufolge findet sich an deron the animal side of the observer and a rear half disappeared. As a result, the

Schirm 3 auf. Der vordere Schirm enthält ein Linien- Mittellinie M-M keine Übereinstimmung entspre-Screen 3 on. The front screen contains a line center line MM no correspondence

gitlermuster, welches aus einer Anzahl imdurchsich- 65 eilender Moire-Zonen beispielsweise von 9 und 9'Gitler pattern, which consists of a number of transparent moiré zones, for example 9 and 9 '

tiger paralleler Streifen 4 gleicher Breite gebildet ist, mehr.tiger parallel strip 4 is formed of the same width, more.

die durch 'Vhlitze 5 der gleichen Breite voneinander F.s ist einleuchtend, daß die Phasenverschiebungthat by 'Vhlitze 5 of the same width from each other F.s it is evident that the phase shift

i>rtrennt Obwohl die Streifen 4 hier in Form einer halben Periode an der Schnittlinie S nicht durchAlthough the strips 4 do not cut through here in the form of half a period at the cutting line S.

798 025798 025

cine Verlagerung des Beobachters bcciiillul.U werden kann; demzufolge Meinen die /.onen K und 8', wenngleich ihre Hreile sieh verändert, immer ;in der gleichen Stelle. Hie sieh an die Schnittlinie anschließenden Abschnitte der Gitterschirme können daher auch weggelassen werden, um die Abmessungen des Instruments zu verkleinern.cine shift of the observer will be bcciiillul.U can; consequently mean the /.ones K and 8 ', albeit their ears look changed, always; in the same Job. Here you see following the cutting line Sections of the lattice screens can therefore also be omitted in order to reduce the dimensions of the instrument to zoom out.

Aus einem Vergleich der F i g. 1 und 2 kann man bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel entnehmen, daß der Drehwinkel so gewählt wurde, um zu erreichen, daß die sich ergebende Phasenverschiebung zwischen dem vorderen und dem hinteren Gitter zwei ganze Linienperioden längs der gesamten Schirmhöhe beträgt. Dies bedeutet, daß, im Fall die Betrachtung aus einer Entfernung erfolgt, die sehr groß ist, verglichen mit dem mittleren Abstand zwischen den Schirmen, nur eine Zone, z. B. 9, 9', vollständig in dem symmetrischen Moire-Muster der F i g. 2 enthalten sein kann. Allgemein gesagt, wird die Ablesung des Geräts um so genauer sein, je weniger Moire-Zonen vorliegen und desto größer diese Zonen sind.From a comparison of FIGS. 1 and 2 can be seen in the illustrated embodiment, that the angle of rotation was chosen to achieve that the resulting phase shift between the front and back grids, two whole line periods along the whole Screen height is. This means that in the case of viewing from a distance that is very great large compared to the mean distance between the screens, only one zone, e.g. B. 9, 9 ', complete in the symmetrical moiré pattern of FIG. 2 can be included. Generally speaking, will the reading of the device will be more accurate, the fewer moiré zones are present and the larger these zones are.

Obwohl dies nicht ohne weiteres in einer Zeichnung darzustellen ist, soll darauf hingewiesen werden, daß die Moire-Zonen, die von einer praktisch vcrwendeten dachförmigen Konstruktion, wie sie in F i g. 1 dargestellt ist, erzeugt werden, im allgemeinen eine typische gekrümmte Form aufweisen, die ebenfalls von der Betrachtungsrichtung stark abhängt. Wie oben bereits festgestellt wurde, wird hierdurch dem Beobachter eine weitere wertvolle Hilfe gegeben, wenn er die Bezugsebene sucht. Natürlich können die Gitterschirme 2. 3 in einem Gehäuse untergebracht sein (nicht dargestellt), welches zum Schutz und zur Unterstützung dient. Das Gehäuse kann mit den üblichen Bctrachtungs- und Nivelliervorrichtung^ versehen sein, um die genaue Einstellung des Geräts zu ermöglichen. Weiße Flächen oder geeignete ebene künstliche Lichtquellen können hinter dem rückwärtigen Schirm vorgesehen sein, um den Konirast und die Sichtbarkeit lies Moire-Musters zu verbessern und um zu ermöglichen, daß das Gerät auch bei Nacht verwendbar ist. Ist der hinlere Schirm aus einer starren Tafel gebildet, auf tier Linien in kontrastierenden Farben angi.oidnel sind, so können die Lichtquellen in dem Gehäuse untergebracht sein, um den rückwärtigen Schirm ausreichend zu beleuchten. Although this cannot simply be shown in a drawing, it should be pointed out that that the moiré zones, which are of a practically used roof-shaped construction, as shown in F i g. 1, generally have a typical curved shape, also strongly depends on the viewing direction. As stated above, this will gave the observer another valuable aid when he is looking for the reference plane. Of course you can the lattice screens 2. 3 be housed in a housing (not shown), which is used for protection and serves as a support. The housing can with the usual observation and leveling device ^ be provided to enable the precise setting of the device. White areas or suitable planar artificial light sources can be provided behind the rear screen around the Konirast and the visibility allowed Moire pattern improve and to enable the device to be used at night. Is the back screen formed from a rigid board, on tier lines in contrasting colors are angi.oidnel, so can the light sources must be accommodated in the housing in order to sufficiently illuminate the rear screen.

Bei einer praktischen Ausführungsform könnenIn a practical embodiment can

ίο die Schirme etwa 30 χ 30 cm groß sein und die Gittermuster Streifen einer Breite von 3 mm aufweisen, deren Abstände voneinander ebenfalls 3 mm be-• tragen. Der Winkel zwischen den Schirmen kann 35° betragen und die Phasenverschiebung zwischen den vorderen und den hinteren Gittern längs der gesamten Höhe des Schirms kann eine ganze Periode betragen. Man kann zeigen, daß ein solches Gerät die Feststellung der Bezugsebene mit einer Genauigkeit ermöglicht, die größer ist als 1 cm bei einer Entfernung von 60 m. Verwendet man jedoch feinere Gittermustcr, dann können noch höhere Genauigkeiten erreicht werden. Dies kann auf verschiedene Weise err nglicht werden, beispielsweise indem man Linien in Glasplatten ätzt oder indem man fotografischeίο the umbrellas are about 30 χ 30 cm tall and the Grid pattern have strips of a width of 3 mm, the distances from each other also being 3 mm. carry. The angle between the screens can be 35 ° and the phase shift between the The front and rear grids along the entire height of the screen can be a full period. It can be shown that such a device can determine the reference plane with an accuracy which is greater than 1 cm at a distance of 60 m. However, if finer grid patterns are used, then even higher accuracies can be achieved. This can be done in a number of ways can be achieved, for example, by etching lines in glass plates or by making photographic ones

as Reproduktionsverfahren verwendet.he reproduction process is used.

Viele Vorteile erhält man auch, wenn man die Gittermuster aus undurchsichtigen Drähten bildet, die zwischen 'Trägern autgespannt sind, weiche in einem Abstand voneinander vorliegen und in geeigneten Abständen mit Zähnen versehen sind, die beispielsweise durch eine mit einem Gewinde versehene Schraube geschaffen sind. Auf beiden Seiten der Schnittlinie mit der Bezugsebene, wo die beiden Gittermuster jedes Gitterschirms einander treffen.Many advantages are also obtained by forming the grid pattern from opaque wires, which are stretched between 'beams, soft in are at a distance from each other and are provided with teeth at suitable intervals, the are created for example by a screw provided with a thread. On both sides the line of intersection with the reference plane where the two grid patterns of each grid screen meet.

können einige Drähte ausgelassen sein. Die schmale freie Zone, die man auf diese Weise erhält, ist in dem Moire-Muster als helle Zone sichtbar, die die beider Hälften voneinander trennt und die Bezugsebene darstellt, was für den Beobachter zur Orientierunf eine Verbesserung liefert.some wires may be left out. The narrow free zone obtained in this way is in that Moiré pattern visible as a light zone that separates the two halves and the reference plane represents what provides an improvement for the observer for orientation.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims (5)

Phänomen, welches naflisichontl als »MOIRH- Phenomenon, which naflisichontl as »MOIRH- Paicnia'ispruchc: LlTekt bezeichnet wird. Dieser Moirc-HITekt kannPaicnia'israchtc: LlTekt is designated. This Moirc-HITekt can dadur.li erreicht u erden, daß man zwei einanderdadur.li achieves u ground that one two each other : iii-.;riimciU /a: I bei nuti'iing einer -ichiha- ähnliche 1 inieniiiuer in einer Hnil'emuiis· \oneinan-: iii - .; riimciU / a: I when nuti'iing a -ichiha- like 1 inieniiiuer in a Hnil'emuiis · \ oneinan- 1-Ί Anzeige ν.τι der [ aue eines Pvmk'.cs in he/.i;g 5 der hintereinander anordnet, so daß da-, hintere1-Ί display ν.τι the [aue of a Pvmk'.cs in he / .i; g 5 which arranges one behind the other so that there-, rear .hü . :;^ \i<;i den: IiT-ifunjiH lcstgelegtc B ./ig1·. Gi'ier durch das \ ordere Cutter ei '"»tickt werden kann..hü. :; ^ \ i <; i den: IiT-ifunjiH lcstlegerc B ./ig 1 ·. Gi'ier can be ticked by the \ ordere cutter ei '"» . ~bi:\vj an einen eiiMcniici. Beobachter mit /v ■'; Die Giuer erzeugen dann im allgemeinen durch üher- ~ bi: \ vj to an eiiMcniici. Observer with / v ■ '; The Giuer then generally produce ( hue'-sc'··,: ;;,cü. v!:e i;i Abs;.;:;d. π voneinander ιιλ !!gelling Muster v-.m sich abwechselnden, dunklen(hue'-sc '·· ,: ;;, cü. v!: ei; i Abs ;. ; :; d. π from each other ιιλ !! gelling pattern v-.m alternating, dark senkrecht .'lh' Ik-Z1IiJN-JiVTiC \er!auiciido;i Ηχίκ:. und hellen Zonen mit einen1, gröberen Aufbau alsperpendicular .'lh 'Ik-Z 1 IiJN-JiVTiC \ er! auiciido; i Ηχίκ :. and light zones with a 1 , coarser structure than ι ■ -^ uit- ί ι und je /v. ei Cjiuernui'ier au-- Ct1A1: :iar:il!e- ;o dein, den die Gitter selbst aufweisen, so daß dieseι ■ - ^ uit- ί ι and je / v. ei Cjiuernui'ier au-- Ct 1 A 1: iar: il e o yours, to have the grid itself, so that this ien 1 mien aiilv.-.'i-en. .vohci <\,;U ;-.-ii' je.I.τ Seile /mich ;uch -ius großen F.ntfcrnungen klar vonein-ien 1 mien aiilv .-. 'i-en. .vohci <\ ,; U ; -.- ii 'je.I.τ ropes / me; uch -ius large distances clearly from one- 1A-JT Be/'.i'.-Ne'r-ene jeweils ein (\<:\jvi\\\<-'jr be- ander umerschicuen werden können. Im allgemeinen 1 A-JT Be / '. I' .- Ne'r-ene each one (\ <: \ jvi \\\ <- 'jr can be relocated to each other. In general ;i:;det UiH' die ividen GiueimiisUr jede- Guter- verändert sich das FrscheiiHingsbild dieser Moire; i:; det UiH 'die ividen GiueimiisUr each-Guter- changes the image of this moiré ■-. IuI1I- -;, nnie:r;->ch in bezug Ji: I die Bezugs- Muster, wenn man lien Beobachtuntisoi, ändert.■ -. IuI 1 I- - ;, nnie: r; -> ch in relation to Ji: I the reference pattern if one changes all observation functions. i-'ene > er!a<i:cr.. dadurch μ e k c η μ / .. ι c h - 15 Beispielsweise nimmt die Anzahl der in den Gitterni-'ene> e r ! a <i: cr .. thereby μ ekc η μ / .. ι c h - 15 For example, the number of in the grids increases 1 - ' . da!' 1, <"ij!;,TiiHisier (6, 7. 6'. 7') ..'in.cs sich'hare;i Moire-Zone:! normalerweise ab. wenn 1 - '. there!' 1, <"ij!;, TiiHisier (6, 7. 6 '. 7') .. 'in.cs sich'hare; i Moire zone :! normally off. If t liüe: ^h:rm· -13) um einen kleinen Winke! (.,-) siv.h der Fieoba-.'hler \nn i.lcii Gitiern entfernt. Fst liüe: ^ h: rm · -13) for a little wink! (., -) siv.h the Fieoba -. 'hler \ nn i.lcii Gitiern removed. Fs iü der i.'bene des GiitervJiimis (3) relati-. /u den wurde bereits \ oi-jeschlat.1 'n. diese let/tüenannte Lir-iü the i.'bene des GiitervJiimis (3) relati-. / u den has already been \ oi-jeschlat. 1 'n. this let / tüen called Lir- iT-tsp.-eciien-.ieii Gitter mustern (Λ,5) des anderen s<;heinung /ur iiesiimiiiun» von lintferniinuen an/u-iT-tsp.-eciien-.ieii grid pattern ( Λ , 5) of the other s <; heinung / ur iiesiimiiiun »from lintferniinuen to / u- Gitte'scl'.irms (2) gedreht vciaulen. 20 wemlen. Das Moire-NhiMer kann auch von der Rich-Gitte'scl'.irms (2) rotated vciaulen. 20 wemlen. The Moire-NhiMer can also be used by the 2. Insiniment iU'eh Atv-, rncli 1. (iadurch ge- tuny, aus der der Beobachter die Gitter betrachtet. 2. Insiniment iU'eh Atv-, rncli 1. (thereby ge tuny, from which the observer looks at the grids. ke:;;!/.-iehiiet. daß ,tue f:iiii.."linien i4. 5) des abhängig sein Insbesondere ist es von Bewegungenke: ;; ! /.-iehiiet. that, do f: iiii .. "lines i4. 5) of being dependent in particular on movements i'ü'i-ii Gitter-Ji'-Tiis. (2) parallel zur He/ugsebesie des Beobachters uuer zu den Gitterlinien abhängig.i'ü'i-ii Lattice Ji'-Tiis. (2) parallel to the observer's height, depending on the grid lines. \e;-la-!i'eii. w.ihrend d:e Gitlerlinien (6. 7. 7'. 6') Die Aufgabe eier in Anspruch 1 angegebenen tir-\ e; -la-! i'eii. w.ihrend d: e Gitlerlinien (6. 7. 7 '. 6') The task of a tir- iler (iiite.-miister des aiuleren Gittcrschirnis (3) as ilndung ist liari·: /1: sehen, ein relativ einfaches, jeiler ( iiite.-miister of the outer grating (3) as the ending is liari ·: / 1: see, a relatively simple one, ever gleiche, jedoch entgegengesetzte Winkel!/) in doch genaues !iisiiument zu schatfcn. mit dessen! to iisiiument schatfcn equal but opposite angles /) in yet accurate!. With which bv/ug aiii' die hc/ugseheiic [Ii) aufweisen. Kille die ! agc eines Punktes relativ zu einer Be/.ugs-bv / ug aiii 'which have hc / ugseheiic [Ii) . Kill them! agc of a point relative to a Be / .ugs- v instrument nach .Anspruch 1 ode: 2. da- cbcae .· i ' estimmen ist Linier Anwendunu der oben-v instrument according to claim 1 or: 2. da- cbcae. liurcli gekenn/eichnel. iiul3 die Gitlerschii nie (2 L.en.t:in;en Lrscheiiuing. Insbesondere ist ein /ielliurcli gekenn / eichnel. iiul3 die Gitlerschii never (2 L.en.t: in; en Lrscheiiuing. In particular, a / iel 3) in ibeneii liege:!, die sich LriLis cinn Gera- 3° dor kriindung, ein Gerät zu schatten, dessen Moire3) Liege in ibeneii:!, The LriLis cinn Gera- 3 ° dor kriinden, a device to shadow its moire ilen (.S) schneiden, die außer!.all" '.!er nut/bar· ■;. V r.ur einen leicht durchzuführenden Versuch er-cut ilen (.S) that except! .all "'.! er nut / bar · ■ ;. V r.for an easy-to-perform experiment Giueicbcnc ',eiiätii';. niög.licht. um genau feststellen zu können, ob einGiueicbcnc ', eiiätii' ;. not light. to be able to determine exactly whether a 4 Ir.slriimcn' naih -\nspi ■-.;■. ii !. ' '..!;:■ " di Punk; in der Bezugsebene lieut.4 Ir.slriimcn 'naih - \ nspi ■ - .; ■. ii!. ''..!;: ■ "di punk; in the reference plane lieut. tkiich g-.-ke:',nzeic!iiie;. daß -.kr WinkJ i.>) \w.\ (iemäß einer vorz.im.sweisen Ά ."iterbiUiung dertkiich g -.- ke: ', nzeic! iiie ; . that -.kr WinkJ i.>) \ w. \ (in accordance with a previously given Ά. "iteration of the tie:: die (iitie; niuMer (6. 7. 6'. 7't ι! einen Git- :i.-. l.rlindung können alle Gitterlinien eines Schirmstie :: die (iitie; niuMer (6. 7. 6 '. 7't ι! a Git-: i.-. l lei-ciiirms ίΛ) g--.geiii.ibei-den cn:-t>reci!C!uieii Gii- parallel zur Be/ugsebcne \er],uil'en, während ilielei-ciiirms ίΛ) g -. geiii.ibei-den cn: -t> reci! C! uieii Gii- parallel to Be / ugsebcne \ er], uil'en, while ilie Terniiistern ■:4. 5) ό-- s a:uli.ren <.'i'terschirms (2) I inien der beiden Gitternuister des anderen Gitter-Terniiistern ■: 4. 5) ό-- sa: uli.ren <. 'I'terschirms (2) I inien the two grid nodes of the other grid jiedrrht sind. hi'»clisi.:ns drei l'eiiocii'n der i inien- schirms i,i entgegengesetzt gleichen Winkeln zur Be-are currently. hi '»clisi .: ns three l'eiiocii'n the i inien- screen i, i opposite equal angles to the fjiüei umfaßt, üb·."- die gesamte Abmessung dei zugsebene '.erlaufen. Bei einem derart konstruiertenfjiüei includes, over ·. "- the entire dimension of the train plane ' iiüi-isciurü'i·..· (2. .') in Uiclüiing der Gitterlinien 40 Instrument sieht ein Beobachter, dessen Augen sich'iiüi-isciurü'i · .. · (2..') in Uiclüiing of the grid lines 40 Instrument sees an observer, whose eyes each other gc-elic1: in der Bezugsebene belinden, ein Moire-Muster, »vel-gc-elic 1 : belinden in the reference plane, a moiré pattern, »vel- 5. !iisirunieni mil1 Anspruch 2, dadurch »e- ches sxmmetriscli in bezim auf die Referen/ebene5.! Iisirunieni mil 1 claim 2, characterized in that »e- ches sxmmetriscli in relation to the reference / level kennzeichnet, d,:!.'. die Gitternnister durch im- \ erläuft und das besondere Merkmal aufweist, daßindicates, d,:!. '. the lattice nest runs through im- \ and has the special feature that liurcl'.sicfiiige L)ial;te gebildet sind, die /wischen einander entsprechende Zonen in beiden Musterhiilf-liurcl'.sicfiiige L) ial; te are formed, the / between corresponding zones in both pattern auxiliary Tiägcrn iiiii in gleichen Abständen voneinander 45 ten auf gegenüberliegenden Seiten der SchnittlinieTiägcrn iiiii equidistant from one another on opposite sides of the cutting line voigcsehciiei! Zähnen ausgespannt sind und eine mit der Bezugsebene sieh genau an drr .Schnittebenevoigcsehciiei! Teeth are unclamped and one with the reference plane look exactly at the three cutting plane \ iel/ahl \on Driih'en an den Stellen ausgelassen irelTen. Dieses Ziisammenfallen ·. ntsprechender\ iel / ahl \ on driih'en at the places omitted. This coincidence ·. more appropriate ist. -.»... die Bezugsebeue die Gitterschirme schnei- Zonen gibt dem Beobachter die Möglichkeit, leichtis. -. »... the reference bunk, the lattice screens, gives the observer the opportunity to easily «.let. um die Bezui/vhcnc in dem beobaJüeten und mit großer Genauigkeit festzustellen, ob er sich«.Let. in order to observe the relationship and with great accuracy whether or not he is Mu.ier sichtbar zu machen. 50 tatsächlich in der Bezugsebene befindet. Bewegt erTo make Mu.ier visible. 50 is actually in the reference plane. He moves sich etwas aus der Ebene heraus, dann bewegen sich die Zonen auf jeder Seite der Bezugschein.· in entgegengesetzten Richtungen, d. h. verläuft die Bez.ugs-If something is out of the plane, then the zones on each side of the reference note move in opposite directions Directions, d. H. runs the reference ebene vertikal, dann bewegen sich die Zonen inplane vertical, then the zones move in 55 der linken Hälfte des Moire-Musters nach oben und in der rechten Hälfte nach »inten, so daß die Übereinstimmung entsprechender Zonen verlorengeht.55 of the left half of the moiré pattern upwards and in the right half to the bottom, so that the correspondence corresponding zones is lost. Apparate entsprechend der Bezeichnung finden Sind die beiden Gitterschirme mit den Gitterauf verschiedenen /Xrbeitsuehieten eine nützliche V'er- mustern parallel zueinander angeordnet, dann verwendung, beispielsweise beim Nivellieren von Ge- 60 laufen die Moire-Zonen etwa gerade, und der Winkel, landen, bei der Installierung von Rohrleitungen oder unter dem sie die Bezugsebene trefTen. hängt natür-Kabein, bei der Markierung von Fahrrinnen für lieh von der Winkellage der Gitterlinien ab. Ver-ScIi iff e. bei iL-; l.i richtung von Mauern etc.. ullge- hülfen die Gitterlinien parallel zur Bez.ugsebene, mein in allen den Fällen, in denen die Lage von Ge- dann beträgt der erwähnte Winkel 1X)". Um eine uenständen relativ zu horizontalen, vertikalen oder 65 Mehrdeutigkeit bei der Bestimmung der Bezugsi'i'iieigten Hbenen auf einfache, doch genaue .Art ebene zu vermeiden, ist es notwendig, sicherzusteliil··.:.-wacht werden soll. Ien. daß die in Übereinstimmung gebrachten Moirenie 1 ründung benutzt ein bekanntes optisches Zonen tatsächlich einander entsprechende ZonenFind apparatus according to the designation If the two lattice screens with the lattice on different work surfaces are arranged parallel to one another, then use, for example when leveling walks, the moiré zones are roughly straight and the angle, land, when installing pipelines or under which they meet the reference plane. Natur-Kabein depends on the angular position of the grid lines when marking fairways for borrowed. Ver-ScIi iff e. at iL-; li direction of walls etc .. the grid lines parallel to the plane of reference, mean in all cases in which the position of the mentioned angle is 1 X) " 65 To avoid ambiguity in the determination of the reference levels on a simple but precise level, it is necessary to ensure that the moirenia that have been brought into agreement are used known optical zones actually correspond to zones
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