DE1642200U - PHOTOCELL WITH A LIGHT TRANSLUCENT PROTECTIVE COVER WITH GREAT RESISTANCE. - Google Patents

PHOTOCELL WITH A LIGHT TRANSLUCENT PROTECTIVE COVER WITH GREAT RESISTANCE.

Info

Publication number
DE1642200U
DE1642200U DE19491642200 DE1642200U DE1642200U DE 1642200 U DE1642200 U DE 1642200U DE 19491642200 DE19491642200 DE 19491642200 DE 1642200 U DE1642200 U DE 1642200U DE 1642200 U DE1642200 U DE 1642200U
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
photocell
protective cover
great resistance
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19491642200
Other languages
German (de)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeiss Ikon AG
Original Assignee
Zeiss Ikon AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zeiss Ikon AG filed Critical Zeiss Ikon AG
Priority to DE19491642200 priority Critical patent/DE1642200U/en
Publication of DE1642200U publication Critical patent/DE1642200U/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)

Description

"Photozelle mit einer lichtdurchlässigen Schutzabdeckung grosser Widerstandsfähigkeit" Zum Schutz gegen störende Einflüsse von aussen besitzt die, lichtempfindliche Schicht von Photozellen in der Regel einen Lacküberzug. Jedoch ist eine solche Lackschicht mitunter nicht korrosionsbeständig genug und unzureichend gegen mechanische Beanspruchungen. Auch beeinträchtigen die gebrücuhlichen Lackschichten den Lichteinfall im Ultrastrahlenbereich. Deshalb ist für Photozellen der Schichtenbauart schon vor-. geschlagen worden, die Photoschicht durch eine ultraviolettdurchlässige dünne Platte z. B. aus Quarz abzudecken, die durch Umklammerungen oder aufgespritzte Randabdichtungen befestigt wird. Diese Anordnungen vergrössern aber in unerwünschter Weise die Abmessungen der Zelle. Sie belassen zudem unter der bloss aufgelegten Scheibe einen wenn auch kleinen Luftraum, der die zuverlässige und gleichmässige Wirkung der Photoschicht beeinträchtigen kann."Photo cell with a transparent protective cover of great resistance" To protect against external disturbances, the light-sensitive layer of photo cells usually has a lacquer coating. However, such a lacquer layer is sometimes not sufficiently corrosion-resistant and inadequate against mechanical stresses. Also affect the common ones Lacquer layers reduce the incidence of light in the ultra-ray range. This is why the layer design is already available for photocells. been beaten, the photo layer through an ultraviolet-permeable thin plate z. B. to cover made of quartz, which is attached by clasps or sprayed edge seals. However, these arrangements increase the dimensions of the cell in an undesirable manner. They also leave an air space, albeit a small one, under the exposed pane, which can impair the reliable and uniform effect of the photo layer.

Günstiger sowohl im Aufbau wie auch in der Haltbarkeit und Dauerhaftigkeit der Photozellen gestalten sich die Verhältnisse durch Anwendung der Neuerung. Nach ihr hat die lichtempfindliche Schicht eine lichtdurchlässige Deckschutzschicht aus Stoffen grosser Härte, die im Vakuum aufgedampft ist. Dadurch kommt die Schutzschicht in innige Berührung und feste Haftung mit dem lichtempfindlichen Stoff. Schädliche Lufteinschlüsse sind ebenso vermieden wie ohne zusätzliche Ber. esti- gungs"-und Haltemittel ein gasdichter AbschluSs gegen die.,.. j Aussenatmosphäre hergestellt ist* Ausserdem vermag sich, die Widerstandsfähigkeit der auch aus- reichend korroaionsbeständigen Schutzschicht gegen such sehe Beanspruchungen voll auszuwirken Schäden und Zerett ' ? rungen wie sie bei dem nicht unmöglichen Eindrücken einer nur aufgelegtendSnnen Schutzplattevorkommenkönnen,sind -. ' -. " Die gemäss der Ieuernng beschaffeneSchutzschichteignet aich f8r alle Photozellen sowohl der Widers tanda-wie der Schieb-* . tenbauart. Sie kam1 auch f'fir E1nkristallzellen von Bedeutung/ sein. Als Aufdampfatoffe kommen im wesentlichen anorganische Substanzen grosser Härte, z. B. Quarz oder Magnesiumfluorid in Betrachte Vorzugsweise werden Substanzen benutzt, welche im spektralen Arbeitsbereich der Photozelle eine minimale Absorption aufweisen. Für ultrarotempfindliche Zellen empfiehlt sich danach eine Auf dampf schiebt aus z. B. Glimmer. Das Aufdampfen, das sich unschwer im Hochvakuum durchführen lässt, wird nach Beendigung eines etwa erforderlichen Aktivierungsprozesses der Photoschicht vorgenommen.The conditions are more favorable in terms of structure as well as durability and durability of the photocells by applying the innovation. According to it, the light-sensitive layer has a transparent protective protective layer made of materials of great hardness, which is vapor-deposited in a vacuum. As a result, the protective layer comes into intimate contact with and firmly adheres to the light-sensitive material. Harmful air inclusions are avoided as well as without additional Ber. esti- supply "and holding means a gas-tight seal against the., .. j Outside atmosphere is established * In addition, the resistance of the Sufficient corrosion-resistant protective layer against such see stresses fully affecting damage and tears '? struggles like you with the not impossible impressions of one The protective plate can only be placed on top -. ' -. " The protective layer created in accordance with the renewal is appropriate for all photocells both the resistance and the sliding * . design. It was also of importance for single-crystal cells / be. Essentially inorganic substances are used as vapor deposition substances Substances of great hardness, e.g. B. quartz or magnesium fluoride in consideration Substances are preferably used which have minimal absorption in the spectral working range of the photocell. For ultra-red sensitive cells, it is then recommended to use a steam slide from z. B. Mica. The vapor deposition, which can easily be carried out in a high vacuum, is carried out after the completion of any activation process of the photo layer that may be required.

In zweckmäßiger Ausgestaltung der Erfindung kann noch die Lichtausbeute und somit die Zellenleistung dadurch erhöht werden, dass die Deckschutzschicht durch geeignete Bemessung ihrer Dicke als reflexionsvermindernde Schicht, sog. t -Schicht aufgebracht ist (A== Lichtwellenlänge). Unter Berückaichtigung des Brechungsindex der Schutzschicht ergibt sich so für eine Photozelle mit einem im wesentlichen im sichtbaren Licht ge- legenden----fur eine Cadmiimsulfidreile bei Farbtonspur, eine,. Schichtdicke von etwa 0, 1µ, um eine optimale Reflexionsverminderung zu erzielen. Für Bleisulfidzellen z. B., die ein Empfindlichkeitsmaximum bei Infrarotlicht haben und die auf die normale Silbertonspur ansprechen sollen, empfiehlt sich eine Schichtdicke von etwa 0, 5jeu.In an expedient embodiment of the invention, the light yield and thus the cell output can also be increased as a result that the protective layer by appropriate sizing its thickness as a reflection-reducing layer, the so-called t-layer is applied (A == light wavelength). Taking into account the refractive index of the protective layer results for a Photocell with an essentially visible light legends ---- for a cadmium sulfide rope at hue trace, one ,. Layer thickness of about 0.1µ to achieve an optimal reduction in reflection. For lead sulfide cells e.g. B., which have a maximum sensitivity to infrared light and which should respond to the normal silver tone, a layer thickness of about 0.5jeu is recommended.

Die Zeichnung stellt schematisch ein Ausführungsbeispiel dar. Auf der metallischen Grundplatte 1 liegt die lichtempfindliche Schicht 2, die von der aufgedampften Schutzschicht 3 abgedeckt ist.The drawing shows schematically an embodiment the metal base plate 1 is the photosensitive layer 2, which is from the vapor-deposited protective layer 3 is covered.

In der Praxis erkennbar sind solche reflexionsmindernden Schichten an ihrer Blaufärbung. Zwar sind sie in der gleichen Art als Oberflächenschichten auf optischen Gläsern schon bekannt, dienen aber dort lediglich zur Änderung des Reflexionsvermögens, während sie im Rahmen der Neuerung bei Photozellen in erster Linie einen widerstandsfähigen Korrosionsschutz bilden*Such reflection-reducing layers can be seen in practice by their blue color. True, they are in the same way as surface layers Already known on optical glasses, but only serve to change the Reflectivity, while under the innovation of photocells in the first place Line form a resistant corrosion protection *

Claims (1)

Ü ehe p r r - « P a-n-g-p-rüche
1. Photozelle mit einer lichtdurchlässigen Schutzabdeckung "" grosser Widerstandsfähigkeit, gekennzeichnet durch eine Schutzschicht an sich bekannter Art aus Stoffen grosser Härte wie Quarz, Magnesiumfluorid u. dergl.,dienach" einer etwa erforderlichen Aktivierung der lichtempfind- lichen Schicht auf diese im Vakuum aufgedampft ist. 2. Photozelle nach Anspruch 1t dadurch gekennzeichnet, dass die Schutzschicht durch geeignete Bemessung ihrer Dicke als reflexionsmindernde Schicht (t -Schicht) aufgebracht ist.
U before pr r - «P angp-rüche
1. Photocell with a transparent protective cover "" great resistance, characterized by a Protective layer of a known type made of larger materials Hardness such as quartz, magnesium fluoride and the like, according to " any necessary activation of the light-sensitive union layer is evaporated on this in a vacuum. 2. Photocell according to claim 1t, characterized in that the protective layer by appropriately dimensioning its thickness applied as a reflection-reducing layer (t-layer) is.
DE19491642200 1949-07-12 1949-07-12 PHOTOCELL WITH A LIGHT TRANSLUCENT PROTECTIVE COVER WITH GREAT RESISTANCE. Expired DE1642200U (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19491642200 DE1642200U (en) 1949-07-12 1949-07-12 PHOTOCELL WITH A LIGHT TRANSLUCENT PROTECTIVE COVER WITH GREAT RESISTANCE.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19491642200 DE1642200U (en) 1949-07-12 1949-07-12 PHOTOCELL WITH A LIGHT TRANSLUCENT PROTECTIVE COVER WITH GREAT RESISTANCE.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1642200U true DE1642200U (en) 1952-08-07

Family

ID=30453829

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19491642200 Expired DE1642200U (en) 1949-07-12 1949-07-12 PHOTOCELL WITH A LIGHT TRANSLUCENT PROTECTIVE COVER WITH GREAT RESISTANCE.

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1642200U (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DD143330A5 (en) PHOTOGRAPHIC METHOD FOR RECORDING AN IMAGE STRUCTURE OF A CATHODE RAY TUBE
DE1642200U (en) PHOTOCELL WITH A LIGHT TRANSLUCENT PROTECTIVE COVER WITH GREAT RESISTANCE.
DE2407363A1 (en) SEMI-REFLECTIVE GLAZING AND METHOD OF MANUFACTURING IT
DE2613398A1 (en) METHOD OF MANUFACTURING A HEAT REFLECTIVE GLASS PLATE
DE7637681U1 (en) TRANSPARENT GLASS PANEL WITH HALF-REFLECTIVE SURFACE
DE725922C (en) Preservation of photosensitive luminophores containing zinc sulfide
DE2050652C3 (en) Optical filter for lenses to obtain diffraction images in optical images
DE1509697B1 (en) Multi-pane glass
DE2813928A1 (en) DISPLAY EQUIPMENT FOR AN ELECTRONIC DISPLAY
AT225286B (en) Process for applying light-diffusing coatings to quartz
DE2616171C2 (en) Three-layer anti-reflective coating for optical glass
DE4213493C2 (en) Indicator for the detection of UV-B radiation
DE461858C (en) Device for preventing the reflection of bright objects through built-in transparent glass panes, e.g. Store window
DE690929C (en) Device for making fluoroscopic and reflective copies
DE669176C (en) Illumination of a room with windows, imperceptible from the outside
DE694018C (en) Process for the production of monochrome tinted picture areas, in particular picture films
AT235962B (en) Light filter
DE371376C (en) Microscope condenser for light and dark field
DE763761C (en) Process for increasing the light transmission of optical parts
DE390505C (en) Method for soldering crampon pins into artificial teeth
DE1596879C3 (en) Translucent object coated with a transparent gold-iron alloy, especially made of glass, and its use
DE454102C (en) Ionization chamber working under increased gas pressure
DE821681C (en) Cathode for dusting selenium barrier photocells
DE616285C (en) Mercury vapor lamp fitted with a reflector to generate white light
DE1259118B (en) Optical window with high light transmission for containers, pressure vessels and simulation chambers