DE1640928B2 - COPPER-LAMINATED BASE MATERIAL FOR PRINTED CIRCUITS AND PROCESS FOR ITS MANUFACTURING - Google Patents

COPPER-LAMINATED BASE MATERIAL FOR PRINTED CIRCUITS AND PROCESS FOR ITS MANUFACTURING

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DE1640928B2
DE1640928B2 DE19671640928 DE1640928A DE1640928B2 DE 1640928 B2 DE1640928 B2 DE 1640928B2 DE 19671640928 DE19671640928 DE 19671640928 DE 1640928 A DE1640928 A DE 1640928A DE 1640928 B2 DE1640928 B2 DE 1640928B2
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Licentia Patent Verwaltungs GmbH, 6000 Frankfurt
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Description

Epoxydharz imprägniertem Glasseidengewebe unter Druck und Hitze zwischen Preßplatten hergestellter Schichtpreßstoff wurde auf einer handelsüblichen Poliermaschine unter Einsatz einer Schleifpaste mit einer oben beschriebenen Polierbürste mit einer Geschwindigkeit von etwa 500 m pro Minute unter mehrmaligem Qssillieren bearbeitet, wobei die Temperatur der Kupferfolie zwischen 50 und 80° C gehalten wurde. Die Oberflächenrauhigkeit eines solchen Materials lag nach der Bearbeitung bei 1,0 bis 1,3 μχη.
In der Zeichnung sind Diagramme dargestellt worden, welche die Oberflächenrauhigkeit eines erfindungsgemäß hergestellten kupferkaschierten Basismaterials wiedergeben.
Epoxy resin-impregnated fiberglass fabric under pressure and heat between press plates was processed on a commercially available polishing machine using a grinding paste with a polishing brush described above at a speed of about 500 m per minute with repeated Qssillieren, the temperature of the copper foil between 50 and 80 ° C was held. The surface roughness of such a material was 1.0 to 1.3 μm after processing.
The drawing shows diagrams which show the surface roughness of a copper-clad base material produced according to the invention.

Fig. 5 gibt eine schematische Darstellung der Bestimmung des Rauhtlefenproffls wieder;5 gives a schematic representation of the determination of the Rauhtlefenproffls again;

F1 g. 1 zeigt dasRauhtiefenprofll eines im Beispiel ι beschriebenen kupferkaschierten BatotorlwjiF1 g. 1 shows the roughness profile of one in the example ι described copper-clad Batotorlwji

Fig. 2 zeigt ein Profil, das rechtwinklig zur Aufzeichnungsrichtung nach Fig. 1 am gleichen Probe-Fig. 2 shows a profile that is perpendicular to the recording direction according to Fig. 1 on the same sample

XÄHÄXÄHÄ

von Probekörpern aufgenommen worden sind, wie siehave been taken up by test specimens like them

Form einer Platte. Dk Kupferfolie 2 ist in an sich bekannter Weise auf «in Basismaterial 1 aus Hartgewebe aufkaschiert. Die Oberflächenrauhjgkeit der Kupferfolie übersteigt nicht 1,5 μνα. Shape of a plate. The copper foil 2 is laminated in a manner known per se onto the base material 1 made of hard tissue. The surface roughness of the copper foil does not exceed 1.5 μνα.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims (2)

nach de Vries dadurch bestimmt, daß man das Rau- Patentansprüche· ' higkeitsprofil mittels einer Saphirnadel aus der Bahn der Berllhrungsstellen eines Abtastkreises mit gegebe-according to de Vries in that the roughness profile is determined by means of a sapphire needle from the path of the contact points of a scanning circle with given 1. Kupferkaschiertes Basismaterial für ge· nem Tastradius der Nadel (10 μτη) von einem Oberdruckte Schaltungen, dadurch gekenn- 5 flöchenproßl aufnimmt. Der Abstand zwischen der zeichnet, daß die Oberflachenrauhigkeit oberen und unteren Begrenzungslinie, welche das (maximale Rauhtiefe der Cu-Oberfläche) 1,5 ^m entstandene Rauhigkeitsprofil umschreiben, wird als nicht übersteigt. maximale Rauhtiefe angesehen.1. Copper-clad base material for a narrow probe radius of the needle (10 μm) from an overprinted circuit, which receives marked 5 flöchenproßl. The distance between the shows that the surface roughness of the upper and lower boundary lines, which describe the (maximum roughness depth of the Cu surface) 1.5 ^ m resulting roughness profile, is considered not to exceed. maximum surface roughness viewed. 2. Verfahren zur Herstellung eines kupfer- Die Nadelbewegungen werden in einem elektrokaschierten Basismaterial für gedruckte Schal- io mechanischen Wandlersystem in elektrische Spantungen mit einer Oberflächenrauhigkeit nicht über nungen umgewandelt, die der Tastnadelbewegung 1,5 ^m nach Anspruch 1 durch Polieren mittels proportional sind. Geräte zur Bestimmung der Obereiner mit Polierpasten versehenen Bürste auf flächenrauhigkeit sind bekannt.
Poliermaschinen, dadurch gekennzeichnet, daß Die Herstellung des erflndungsgemäßen kupferdie Kupferoberfläche mit einer mit langfasrigen 15 kaschierten Basismaterials kann in weiterer Ausbil-Naturfasern, insbesondere über 50 mm Länge, dung der Erfindung vorteilhaft dadurch erfolgen, daß versehenen Polierbürste bei Temperaturen zwir unter Auwendung von mit Polierpasten versehenen sehen 50 bis 80° C poliert wird. Polierbürsten auf an sich bekannten Poliermaschinen
2. A method for producing a copper- The needle movements are converted in an electro-laminated base material for printed circuit io mechanical transducer system into electrical frames with a surface roughness not via voltages that are proportional to the wand movement 1.5 ^ m according to claim 1 by means of polishing. Devices for determining the surface roughness of a brush provided with polishing pastes are known.
Polishing machines, characterized in that the production of the copper surface according to the invention with a base material clad with long-fiber 15 can advantageously take place in further training natural fibers, in particular over 50 mm in length, by using the polishing brush provided at temperatures with polishing pastes provided see 50 to 80 ° C is polished. Polishing brushes on known polishing machines
die Kupferoberfläche mit einer mit langfasrigen »0 Naturfasern, insbesondere über 50 mm Länge, ver-the copper surface is coated with long-fiber »0 natural fibers, especially over 50 mm in length. sehenen Polierbürste bei einer Temperatur zwischenseen polishing brush at a temperature between 50 bis 80° C poliert wird.
Es hat sich herausgestellt, daß durch die Anwen-
50 to 80 ° C is polished.
It has been found that the application
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein dung von Polierbürsten, die aus langfasrigen Naturkupferkaschiertes Basismaterial für gedruckte Schal- as fasern aufgebaut sind, in Kombination mit an sich betungen und ein Verfahren zu seiner Herstellung. kannten Schleifpasten bei höherer Temperatur eine be-The present invention relates to a manure of polishing brushes made of long-fiber natural copper clad Base material for printed scarf fibers are constructed, in combination with prayers in themselves and a method for its production. known grinding pastes at higher temperatures a well-known Kupferkaschiertes Basismaterial wird bekanntlich sondereOberflächengüteerzeugtwerdsnkann.Alslangseit längerer Zeit für die Herstellung von Radio- und fasrige Naturfasern haben sich insbesondere Pflanzen-Fernsehempfängern eingesetzt sowie für elektronische fasern subtropischer und tropischer Agavenarten beGeräte. In diesem Einsatzgebiet spielt neben dem 30 währt. Derartige Pflanzenfasern sind z.B. als Mexikostofflichen Aufbau des Basismaterials die Kupferfolie fiber bekannt. Ein wesentlicher Effekt für dieHersteleine ausschlaggebende Rolle. Die Güte der Kupfer- lung der vergüteten Oberfläche wird dadurch erzielt, deckschicht ist unter anderem von ihrer Reinheit, daß mit Polierbürsten in einem Temperaturintervall Dicke und Elastizität abhängig. Ferner wird gefor- zwischen 50 bis 80° C poliert wird. Polieren bei Raumdert, daß sie frei von Poren und Einschlüssen von 35 temperatur führt zu einem zu starken Abrieb. Bei Fremdpartikeln, z. B. Staub- und Harzeinschlüssen, Anwendung von Temperaturen bei etwa 25 bis 50° C sein soll. Des weiteren dürfen auf der Oberfläche des wird eine verhältnismäßig große Oberflächenrauhig-Kupfers keine Substanzen sein, die aus dem Herstel- keit erhalten und ein geringer Poliereffekt erzielt, lungsverfahren des kupferkaschierten Basismaterials Demgegenüber wird überraschenderweise ein guter oder dem Herstellungsverfahren der Kupferfolie 40 Poliereffekt und die gewünschte O<*rflächenrauhigstammen und welche die Bedruckbarkeit, Ätzbarkeit keit dadurch erzielt, daß in einer peraturinter-It is well known that copper-clad base material can be produced with a special surface quality Plant television receivers in particular have taken longer to produce radio and fibrous natural fibers used as well as devices for electronic fibers of subtropical and tropical agave species. In this application area, plays next to the 30 lasts. Such plant fibers are known, for example, as the Mexican structure of the base material, the copper foil fiber. An essential effect for the herringbone crucial role. The quality of the copper treatment of the tempered surface is achieved by top layer is among other things of its purity that with polishing brushes in a temperature range Dependent on thickness and elasticity. Polishing between 50 and 80 ° C is also required. Polishing at Raumdert, that it is free of pores and inclusions at a temperature of 35 leads to excessive abrasion. at Foreign particles, e.g. B. Dust and resin inclusions, application of temperatures around 25 to 50 ° C should be. Furthermore, a relatively large surface roughened copper is allowed on the surface of the not be any substances that are obtained from the manufacturing process and have a low polishing effect, Treatment process of the copper-clad base material, on the other hand, surprisingly becomes a good one or the manufacturing process of the copper foil 40 polishing effect and the desired surface roughness and which achieves the printability, etchability by the fact that in a peraturinter- und Lötbarkeit des Kupfers beeinträchtigen. Die Er- vall zwischen 50 bis 8O0C auf ^h bekannten füllung dieser Forderungen setzt eine Oberflächen- Poliermaschinen poliert wird. Temperaturen über behandlung des kupferkaschierten Basismaterials vor 80° C haben sich als nachteilig erwiesen, da hier unter seinem Einsatz zur Herstellung einer gedruckten 45 Umständen eine Beeinflussung des Basismaterials erSchaltung voraus. folgen kann und mit einem Schmiereffekt auf derand affect the solderability of the copper. The range between 50 to 8O 0 C on ^ h known filling of these demands presupposes a surface polishing machine is polished. Temperatures over treatment of the copper-clad base material before 80 ° C have proven to be disadvantageous, since here an influence on the base material is preceded by its use for the production of a printed 45. can follow and with a smear effect on the Verfahren zur Bearbeitung der Kupferoberfläche Oberfläche gerechnet werden muß. Die Anwendung sind unter anderem chemische Verfahren, z. B. An- von Polierbürsten mit Kunststoff-Fasern hat sich als ätzen der Oberfläche, ferner mechanische Ober- nachteilig erwiesen; Polierbürsten mit kurzen Borsten flächenbehandlungen mittels Bürsten und Suspensio- 50 sind ebenfalls unvorteilhaft,
nen von Schleifmitteln in Wasser oder ähnlichen
Systemen sowie verschiedene Schmirgel- und Poliertechniken. Alle diese Nachbearbeitungsverfahren, Ausführungsbeispiele:
gleich welcher Natur, bedingen eine Aufrauhung der
Process for processing the copper surface surface must be expected. The applications include chemical processes, e.g. B. The use of polishing brushes with synthetic fibers has proven to be an etching of the surface, as well as being a mechanical disadvantage; Polishing brushes with short bristles Surface treatments using brushes and suspensions are also disadvantageous,
abrasives in water or the like
Systems as well as various emery and polishing techniques. All these post-processing methods, exemplary embodiments:
regardless of nature, require a roughening of the
Oberfläche des kupferkaschierten Basismaterials, die 55 1. Ein in bekannter Weise aus einer Kupferfolie im allgemeinen von der ursprünglichen Oberflächen- und mit Epoxydharz imprägniertem Papier unterSurface of the copper-clad base material, the 55 1. A in a known manner made of a copper foil generally from the original surface and epoxy-impregnated paper underneath struktur der Kupferoberfläche abweicht. Druck und Hitze zwischen Preßplatten herge-structure of the copper surface deviates. Pressure and heat produced between press plates Aufgabe der Erfindung ist es, eine wesentliche Ver- stellter Schichtpreßstoff wird auf einer handels-The object of the invention is to provide a substantial displaced laminate is on a commercial besserung eines kupferkaschierten Basismaterials hin- üblichen Poliermaschine unter Einsatz einerimprovement of a copper-clad base material using a conventional polishing machine sichtlich der Bedruckbarkeit, Ätzbarkeit und Lötbar- 60 Schleifpaste und mittels einer oben beschriebekeit sowie bestimmter elektrischer Eigenschaften für nen Polierbürste mit einer Geschwindigkeit vonvisibly of the printability, etchability and solderable grinding paste and by means of a description above as well as certain electrical properties for a polishing brush with a speed of die Herstellung von gedruckten Schaltungen zu er- etwa. 500 m pro Minute unter mehrmaligemthe manufacture of printed circuit boards, for example. 500 m per minute under repeated reichen. Sie wird gelöst, wenn erfindungsgemäß ein Oszillieren bei einer Oberflächentemperatur derare sufficient. It is solved when, according to the invention, an oscillation at a surface temperature of the kupferkaschiertes Basismaterial verwendet wird, wel- Kupferoberfläche von etwa 70° C bearbeitet. Diecopper-clad base material is used, wel- copper surface processed by about 70 ° C. the ches dadurch gekennzeichnet ist, daß es eine Ober- 65 Bestimmung der Oberflächenrauhigkeit eines flächenrauhigkeit (max. Rauhtiefe) aufweist, die solchen Materials nach der Bearbeitung ergabches is characterized in that it is a top- 65 determination of the surface roughness of a surface roughness (max. surface roughness) that resulted from such material after processing 1,5 μτα. nicht übersteigt. 0,8 bis 1,5 μια. 1.5 µτα. does not exceed. 0.8 to 1.5 μια. Die Oberflächenrauhigkeit wird in bekannter Weise 2. Ein in bekannter Weise aus Kupferfolie und mitThe surface roughness is in a known manner 2. A in a known manner made of copper foil and with
DE19671640928 1967-04-26 1967-04-26 COPPER-LAMINATED BASE MATERIAL FOR PRINTED CIRCUITS AND PROCESS FOR ITS MANUFACTURING Granted DE1640928B2 (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2834906A1 (en) * 1978-08-09 1980-02-14 Siemens Ag ELECTRIC FILM CIRCUIT AND METHOD FOR THEIR PRODUCTION

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE2834906A1 (en) * 1978-08-09 1980-02-14 Siemens Ag ELECTRIC FILM CIRCUIT AND METHOD FOR THEIR PRODUCTION

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DE1640928A1 (en) 1971-01-21

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