DE1622117A1 - Device for increasing the intensity of an optically generated image - Google Patents
Device for increasing the intensity of an optically generated imageInfo
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B23/00—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices
- G02B23/12—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices with means for image conversion or intensification
Description
PATENTANWÄLTE Άμ§ούΰί'&^^&&1η£βη3 den 2. 2. T968 DR. ING. E. L I E.BAU. .PATENTANWÄLTE Άμ§ούΰί '& ^^ && 1η £ βη 3 the 2. 2. T968 DR. ING. E. LI E..BAU. .
DIPL. ING. G. L ! E B A U 0r. Lb/p Az G 6992 1 R 7 J Λ 1 7DIPL. ING. G. L! EBAU 0r. Lb / p Az G 6992 1 R 7 J Λ 1 7
AUGSSURG-GÖGGINGEN tyai4/ AUGSSURG-GÖGGINGEN tyai4 /
Gesellschaft zur Förderung der Forschung _ '-.'. Society for the Promotion of Research _ '-.'.
an der Eldg." Techn. Hochschule) Zürich (Schweiz) at the Eldg. "Techn. University ) Zurich (Switzerland)
Einrichtung zur Verstärkung der Intensität eines optischDevice for amplifying the intensity of an optical
erzeugten Bildesgenerated image
Gegenstand VOrliegender Erfindung ist eine Einrichtung zur "Verstärkung der Intensität eines optisch erzeugten.Bildes.The present invention relates to a device to "amplify the intensity of an optically generated image.
Dem gleichen Zweck dienende Einriehtungen sind bereits bekannt und beispielsweise in den deutschen Patentschriften · Nr, 934.313; 1.020.129 und 1.114.043 beschrieben. Eine weitere Einrichtung dieser Gattung'ist auch in der deutschen Patentanmeldung G 44.070 vorgeschlagen worden.There are already devices that serve the same purpose known and for example in the German patents No. 934,313; 1,020,129 and 1,114,043. One further establishment of this genus' is also in the German Patent application G 44.070 has been proposed.
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BADORlGiNAtBADORlGiNAt
■ ■ - . 16 22TI7■ ■ -. 16 22TI7
Wie die erwähnten früheren Einrichtungen v/eist auch die
Einrichtung gemäss der vorliegenden Erfindung mindestens eine von einer Lichtquelle beleuchtete Zone auf, ,die auf einem
zugeordneten Blendenstreifen durch Reflexion an einer spiegelnden
Fläche optisch abgebildet wird, welche an einer deformierbaren
Schicht vorhanden und zusammen mit dieser durch elektrostatische
Peldkräfte deformierbar ist. Das zu verstärkende
k Bild wird in gerasterter Form auf einer lichtelektrisch7leitenden
Schicht abgebildet, welche ein die Deformation der spiegelnden
Fläche hervorrufendes elektrostatisches Feld beein-
- flusst. Ferner ist ein optisches System vorhanden zur Beobac.h-.
tung der spiegelnden Fläche an den Kanten des Blendenstreifens vorbei bzw. zwischen den: Blendenstreifen hindurch, falls
deren mehrere vorhanden sind. Zweckmässig wird die spiegelnde
Fläche auf einem.Projektionsschirm abgebildet, auf welchem
dann ein dem zu verstärkenden Bild entsprechendes Bild grösserer Helligkeit wahrnehmbar ist.
" Durch die deutsche Patentschrift Nr, 1,114-043 istLike the earlier devices mentioned, the device according to the present invention also has at least one zone illuminated by a light source, which is optically imaged on an associated diaphragm strip by reflection on a reflective surface which is present on and together with a deformable layer is deformable by electrostatic field forces. The k image to be amplified is imaged in rasterized form on a light electrically conductive layer 7 which most evocative of electrostatic field affect a deformation of the reflecting surface - enced. There is also an optical system for observing. direction of the reflective surface past the edges of the aperture strip or between the: aperture strips, if there are several. The reflective surface is expediently displayed on a projection screen, on which an image of greater brightness corresponding to the image to be intensified can then be perceived.
"By German Patent No. 1,114-043 is
es bei einer Einrichtung der genannten Art bekannt geworden, der lichtelektrisch leitenden Schicht einen Elektrodenraster beizuordnen,· der eine Schar von in Abständen nebeneinander verlaufenden, elektrisch leitenden Streifen aufweist, deren. Längskanten Orthogonal zu den Längskanten des Blendenstreifens verlaufen, und die in wechselnder Folge an den einen und denit became known to an institution of the type mentioned, the photoelectrically conductive layer has an electrode grid to be assigned, · which has a group of spaced apart, electrically conductive strips, whose. Longitudinal edges orthogonal to the longitudinal edges of the diaphragm strip run, and in alternating order to one and the other
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BAD QReiNAl009843 / 1S4S
BATHROOM QReiNAl
andern Pol einer elektrischen Spannungsquelle angeschlossen sind. Ferner ist "bei dieser bekannten Ausbildung der lichtelektrisch leitenden Schicht ein zusätzlicher Raster vorgesetzt, der zumindest für bestimmte Lichtfrequenzen undurchlässige Partien aufweist, deren geometrische Konfiguration und Anordnung von derjenigen der Streifen des Elektrodenrasters verschieden sind-connected to the other pole of an electrical voltage source are. Furthermore, "in this known design is photoelectric An additional grid is placed in front of the conductive layer, which is impermeable to at least certain light frequencies Has parts whose geometric configuration and arrangement of that of the strips of the electrode grid are different-
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Weiterbildung der zuletzt genannten Einrichtung und hat zum Ziel, g die Anforderungen zu mildern, die an ein optisches Abbildungsorgan als eines der Mittel zur Beobachtung der spiegelnden Fläche gestellt werden müssen. 'The present invention relates to a further development of the last-mentioned means and aims to alleviate the requirements g, which must be provided to an optical imaging element as one of the means of observation of the reflecting surface. '
Zum besseren Verständnis der Bedeutung der vorliegenden •Erfindung wird zunächst eine bekannte Ausführung unter Bezugnahme auf die Fig. 1 bis4 der hier beigefügten Zeichnungen beschrieben* - 'To better understand the meaning of the present • Invention is first referred to a known embodiment to Figures 1 through 4 of the accompanying drawings described * - '
Fig. 1 zeigt schematisch in perspektivischer Darstellung die Gesamtanordnung einer bekannten Einrichtung zur ■Verstärkung eines optisch erzeugten Bildes; "Fig. 1 shows schematically in a perspective view the overall arrangement of a known device for ■ reinforcement an optically generated image; "
Fig. 2 veranschaulicht ein Lichtsteuerorgan der Einrichtung nach Fig.. 1 in grö'sserem Masstab und der Deutlichkeit wegen in teilweise voneinander getrennter Anordnung seiner Bestandteile;Fig. 2 illustrates a light control member of the device according to Fig. 1 on a larger scale and for clarity because of its partially separated arrangement Components;
Fig. 3 stellt einen Barren der zweiten Schlierenblende und die im Betrieb der Einrichtung auftretenden Beugungsbilder einer Oeffnung der ersten Schlierenblende dar; Fig. 3 shows an ingot of the second Schlieren diaphragm and represent the diffraction patterns of an opening of the first Schlieren diaphragm occurring during operation of the device;
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ORIGINAL BATHROOM *
Pig. .4 ist eine zu Pig. 3 analoge Darstellung, welche den Nachteil der bekannten Einrichtung veranschaulicht, der durch die Erfindung behoben werden soll.Pig. .4 is one to Pig. 3 analog representation, which illustrates the disadvantage of the known device which is intended to be remedied by the invention.
Gemäss Pig. 1 wird das von einer Lichtquelle" 1 ausgehende intensive Licht durch einen Kondensor 2 gebündelt und auf eine erste Schlierenblende 3 gerichtet. Zur Vereinfachung der nachfolgenden Diskussion ist sie als einfache Lochblende mit einer kreisförmigen Oeffnung /3 von beispielsweise ca.. 1 nun Durchmesser gedacht. Eine Linse 4 erzeugt im Unendlichen ein Bild der beleuchteten Oeffnung fl der Blende 3. Nach einer Spiegelung in einem Lichtsteuerorgan 5, das weiter unten mit Bezugnahme auf Fig. 2 erläutert wird, durchlaufen die Lichtstrahlen eine Linse 6, die zusammen mit der Linse 4 ein Bild /3 % der Oeffnung β in der Ebene einer zweiten Schlierenblende 7 erzeugt. Letztere weist einen lichtundurchlässigen Barren V auf, welcher derart angeordnet ist, dass das kreisscheibenförmige Bild β · der Blendenöffnung /3 genau auf ihn zu liegen kommt. Ein Objektiv 8 bildet eine im Lichtateuerorgan 5 enthaltene, unten-näher beschriebene, totalreflektierende Ebene ABCD (Fig. 2) auf einem in Richtung des Pfeiles P liegenden, nicht gezeichneten Projektionsschirm ab.According to Pig. 1, the intense light emanating from a light source "1" is bundled by a condenser 2 and directed onto a first Schlieren diaphragm 3. To simplify the following discussion, it is intended as a simple perforated diaphragm with a circular opening / 3 of, for example, approx. 1 diameter. a lens 4 produces at infinity an image of the illuminated opening fl of the bezel 3. After a reflection in a light control member 5, which is further explained below with reference to FIG. 2, the light beams pass through a lens 6, a combination with the lens 4 Image / 3 % of the opening β is generated in the plane of a second Schlieren diaphragm 7. The latter has an opaque bar V , which is arranged in such a way that the circular disk-shaped image β · of the diaphragm opening / 3 comes to lie precisely on it a totally reflecting plane ABCD (Fig. 2) contained in the light controller 5, described in more detail below, on a plane in the direction of the arrow iles P lying, not shown projection screen.
Ein Umlenkspiegel 9 und ein Objektiv 10 leiten ein von einem nicht gezeichneten Objekt in Richtung des Pfeiles 0 einfallendes Lichtbündel auf eine Schicht mit lichtelektrischer Leitfähigkeit. Letztere ist ebenfalls Beetandteil deeA deflecting mirror 9 and an objective 10 lead one of an object not drawn in the direction of arrow 0 incident light beam on a layer with photoelectric Conductivity. The latter is also a component part
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Licbtsteuerorgaiis 5. Das Objektiv 10 ist so angeordnet, dass auf der genannten Schicht ein scharfes Bild des erwähnten: Objektes erzeugt» das ein Diapositiv, ein PiIm, ein beleuchteter Gegenstand usw. sein kann. · . ■; Licbtsteuerorgaiis 5. The lens 10 is arranged so that on the layer mentioned a sharp image of the mentioned: Object creates »which can be a slide, a PiIm, an illuminated object, etc. ·. ■;
Das Lichtsteuerorgan 5 weist ein gleichschenkliges Glas- '* prisma 11 mit einem Kantenwinkel von 90° auf. Das von der . : Linse 4 herkommende Licht fällt auf die eine - in Fig. 2 vordere - Kätbetenflache senkrecht auf und durchsetzt das Prisma 11 sowie, eine Glasplatte 12. Letztere ist auf die Basisfläche des Prismas 11 reflexionsfrei aufgekittet» Auf -V-die Glasplatte 12 ist eine elektrisch leitende, lichtdurchlässige Schicht 13 (z.B. aus Zinndioxyd) aufgetragen. Auf dieser als Elektrode dienenden Schicht 13 ruht eine Schicht 14 · eines weichen Mediums (z.B. Silikongummi). Unter Belassung eines Luftspaltes 15 von z.B. 50/U Breite ist "gegenüber der Schicht 14 ein Element 16 angeordnet, das weiter unten anhand von Fig. 2 beschrieben wird. Das von der Linse 4 herkommende Lichtbündel durchläuft nach der Glasplatte 12 auchdie Schien- ■ ■ g ten 13 und 14» wonach es an der durch die Buchstaben A B CD bezeichneten, optisch ebenen, freien OberflächederSchieht 14 zufolge des Einfallswinkels von 45°'total reflektiert wird. Nach erneutem Durchtritt durch die Schichten 14 und 13, die Glasplatte 12 und das Prisma 11 läuft das Lichtbündel zur Linse 6 weiter. "-.-.." VThe light control element 5 has an isosceles glass prism 11 with an edge angle of 90 °. That of the. : The light coming from the lens 4 falls on the one - in FIG electrically conductive, translucent layer 13 (for example made of tin dioxide) is applied. A layer 14 of a soft medium (for example silicone rubber) rests on this layer 13, which serves as an electrode. Leaving an air gap 15 of, for example, 50 / U width, an element 16 is arranged opposite the layer 14, which element is described further below with reference to FIG g th 13 and 14 "after which it is totally reflected on the optically flat, free surface of the slice 14 designated by the letters AB CD due to the angle of incidence of 45 °. After passing through the layers 14 and 13 again, the glass plate 12 and the prism 11 the light beam continues to lens 6. "-.- .." V
In Pig. 2 ist das Element 16 in seinen Einzelheiten ersichtlich«, lie verschiedenen Bestandteile 17 bis 21 sind der Deutlichkeit halber teilweise in getrennter Anordnung gezeichnet, obwohl sie in Wirklichkeit fest miteinander verbunden sind. Das Element 16 weist eine Schicht 17 von ca. 1/u Dicke auf, die aus einer lichtelektrisch leitenden Substanz besteht, wie z.B. Antimonsulfid. Ein Elektrodehraster, der aus zwei ,in wechselnder Folge ineinandergreifenden, kammartigen Gittern 18a und 18b besteht, ist auf einem plattenförmigen Träger 19In Pig. 2 the element 16 can be seen in its details «, The various components 17 to 21 are partially drawn in a separate arrangement for the sake of clarity, although in reality they are firmly bound together. The element 16 has a layer 17 approximately 1 / u thick composed of a photo-conductive substance such as antimony sulfide. An electrical grid consisting of two , in alternating sequence interlocking, comb-like grids 18a and 18b is on a plate-shaped carrier 19
L·, ■"■■■-" L ·, ■ "■■■ -"
W angeordnet, der au3 isolierendem und durchsichtigem Material W arranged, the au3 insulating and transparent material
(Glas, Quarz) gefertigt ist und eine Dicke von 100 bis 200/u hat. Die Gitter 18a und 18b weisen eine Schar parallel verlaufender^ elektrisch leitender Streifen auf und sind beispielsweise aus Aluminium durch Vakuumverdampfung hergestellt. Die Gitter 18a und 18b sind in leitendem Kontakt mit der lichtelektrisch leitenden Schicht 17. Schliesslich folgt ein optisch wirksamer Linienraster 20, der aus einer Reihe aquidistanter* lichtundurchlässiger und dünner Metallstreifen zusammengesetzt fc und auf einer durchsichtigen Trägerplatte 21 angebracht ist. Wichtig ist, dass die Längsrichtung der Streifen der Gitter 18a und 18b senkrecht zur Längsachse des Barrens 7V steht. Die Längsrichtung der Streifen des Linienrasters 20 schliesslich ist gegen diejenige der Streifen der Gitter 18a und 18b um 45° gedreht. Die beiden Gitter 18a und 18b sowie der Raster 20 sind stark vergröbert gezeichnet und haben in Wirklichkeit eine Periode von z.B.(Glass, quartz) and a thickness of 100 to 200 / u Has. The grids 18a and 18b have a family of parallel ^ electrically conductive strips on and are for example made of aluminum by vacuum evaporation. The grids 18a and 18b are in conductive contact with the photoelectric conductive layer 17. Finally, there follows an optically effective line grid 20, which consists of a series of equidistant * opaque and thin metal strip composed fc and attached to a transparent support plate 21 is. It is important that the longitudinal direction of the strips of the Grids 18a and 18b perpendicular to the longitudinal axis of the bar 7V stands. Finally, the longitudinal direction of the strips of the grid of lines 20 is opposite to that of the strips of FIG Grids 18a and 18b rotated 45 °. The two grids 18a and 18b and the grid 20 are greatly coarsened and in reality have a period of e.g.
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200 /U. Die Gitter 18a und 18b werden an die beiden Pole einer elektrischen Spannungsquelle TI™, etwa eine Batterie, angeschlossen. Eine zweite Spannun'gs quelle Uj ist zwischen der elektrisch leitenden Schicht 13 und dem eirjen Elektrodengitter 18b eingeschaltet* Die Spannungen der Quellen U^ und U^ mögen200 / rev. The grids 18a and 18b are attached to the two poles one electrical voltage source TI ™, such as a battery, connected. A second voltage source Uj is between the electrical conductive layer 13 and the eirjen electrode grid 18b switched on * The voltages of the sources U ^ and U ^ like
z.B. 100 Volt betragen. - . .e.g. 100 volts. -. .
Wie nun in der deutsehen Patentschrift 1.114.043 geschildert wurde , erzeugt die Spannungsquelle U^ im Spalt 15 ein elektrisches PeId, dessen Stärke in Richtung parallel zur Flä- λ ehe ABCD und senkrecht zur Längsrichtung der Streifen der Gitter 18a und 18b periodisch variiert, was durch elektrostatische" Kraftwirkung eine wellenförmige Deformation, im folgenden Vordeformation genannt, der Oberfläche A B C D hervorruft. Die Wellenkämme dieser Vordeformation liegen parallel zur Längsrichtung der Streifen der Gitter I8a und 18b. Die zusätzliche Verwendung der Spannungsquelle U-r verstärkt die Vordeformation, ohne aber ihre Periodizität und Orientierung zu beeinflussen. As has now been described in the German patent specification 1.114.043, the voltage source U ^ in the gap 15 generates an electrical PeId, the strength of which varies periodically in the direction parallel to the surface λ before ABCD and perpendicular to the longitudinal direction of the strips of the grids 18a and 18b, which Electrostatic force effects a wave-shaped deformation, called pre-deformation in the following, of the surface ABCD. The wave crests of this pre-deformation lie parallel to the longitudinal direction of the strips of the grids 18a and 18b. The additional use of the voltage source Ur increases the pre-deformation, but without its periodicity and orientation to influence.
Die derart deformierte FlächeA BC D stellt ein wegen " der erwähnten Totalreflexion spiegelndes Beugungsgitter dar., Somit erscheinen in der Ebene der Schlierenblende 7 ausser dem bei ebener Fläche A B" C D allein vorhandenen Kreisgcheiben-BildThe surface A BC D deformed in this way represents a due to " the above-mentioned total reflection is a specular diffraction grating. Thus appear in the plane of the Schlieren diaphragm 7 besides the with a flat surface A B "C D there is only a circular disk image
ßf noch deren weitere Bilder ß" von gleicher Grosse, aber verschiedener Helligkeit. Ihre Zentren liegen alle auf einer Geraden, die senkrecht zur Längsrichtung der Streifen der Gitter 18a und 18b orientiert ist und mit der Längsachse des Barrens 7"ß f their other images ß "of the same size, but different brightness. Their centers all lie on a straight line which is oriented perpendicular to the longitudinal direction of the strips of the grids 18a and 18b and with the longitudinal axis of the bar 7"
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BAD Q09843 / VS4S
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zusammenfällt (vergl. Pig. 1). Da der Barren 7' somit nicht nur das ursprüngliche Bild ßV, sondern auch alle neu dazugekommenen Beugungsbilder ß" auffängt, gelangt kein Licht durch · das Objektiv 8 und gemäss dem Pfeil P zum Projektionsschirm. '.Die vordeformierte Fläche ABCD bleibt also auf dem Projektionsschirm unsichtbar.coincides (see Pig. 1). Since the bar 7 'is not only the original picture ßV, but also all the new ones Picks up diffraction images ß ″, no light passes through the objective 8 and according to the arrow P to the projection screen. The pre-deformed surface ABCD thus remains on the projection screen invisible.
Anders liegen die Verhältnisse, wenn ein Licbtbündel in Richtung des Pfeiles 0 einfällt. Wie in der deutschen Patentschrift Nr. 1.114.043 geschildert wurde, tritt dann zusätzlich £iu der soeben beschriebenen Vordeformation der Fläche A BCD eine weitere Deformation hinzu, deren Wellenkämme nicht mit der Längsrichtung der Streifen der Gitter 18a und 18b zusammenfallen. Die Ueberlagerung beider Deformationen ergibt ein schiefwinkliges, gewebeartiges Muster. Sie zeigt sich in denjenigen Teilgebieten der Fläche AB C D, die belichteten Teilgebieten der lichtelektrisch leitenden Schicht 1? gegenüberliegen. Hingegen weisen solche Partien der Fläche ABC D, die unbelichteten Partien der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 zugeordnet sind, nach wie vor nur die Vordeformation auf.The situation is different if a bundle of light strikes in the direction of arrow 0. As in the German patent specification No. 1.114.043, the just described pre-deformation of the surface A BCD then also occurs Another deformation is added, the crests of which do not match the The longitudinal direction of the strips of the grids 18a and 18b coincide. The superposition of both deformations results in an oblique, fabric-like pattern. It shows up in those sub-areas of the area AB C D, the exposed sub-areas of the photoelectrically conductive layer 1? opposite. On the other hand show such parts of the area ABC D, the unexposed Parts of the photoelectrically conductive layer 17 are assigned, as before, only the pre-deformation.
Die derart zweifach deformierte Oberfläche AB CD, die einem schiefwinkligen, reflektierenden Kreuzgitter gleicht, ändert nun die Verteilung der Beugungsbilder in der Ebene der Schlierenblende 7 in zweierlei' Hinsicht: Einerseits treten neue Beugungsbilder β f '· beidseitig des Barrens 7' auf (vergl. Fig. 3, welche die Verhältnisse in der Ebene der Schlierenblende 7 dar-The surface AB CD, which is deformed twice in this way and resembles an oblique, reflective cross grating, now changes the distribution of the diffraction images in the plane of the Schlieren diaphragm 7 in two ways: On the one hand, new diffraction images β f 'appear on both sides of the bar 7' (cf. Fig. 3, which shows the relationships in the plane of the Schlieren diaphragm 7
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stellt), andererseits wird die Helligkeit der schon bei der Vordeformation vorhandenen Bilder β' und β" reduziert, da sich das Licht z.T. auf die neu hinzugekommenen Beugungsbilder ßlfI verlagert. Da das Licht der beidseitig des -Barrens 7r erschei- ., wenden Beugungsbilder β''f nun ohne durch den Barren gehindert 2ü werden, zum Objektiv 8 laufen kann, werden diejenigen Teile der Oberfläche ABCD, die. das/Kreuzgittermuster zeigen, d.h. belichteten Teilen der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 gegenüberliegen, auf dem Projektionsschirm ebenfalls als helle " ä Flächen erscheinen.on the other hand, the brightness of the images β 'and β "already present during the pre-deformation is reduced, since the light is partly shifted to the newly added diffraction images ß lfI. Since the light appears on both sides of the bar 7 r , turn Diffraction images β ″ f can now run to the objective 8 without being hindered by the bar, those parts of the surface ABCD which show the cross-grating pattern, ie opposite exposed parts of the photoelectrically conductive layer 17, are also shown as bright on the projection screen " ä surfaces appear.
Der Anstoss zu der vorliegenden Erfindung liegt nun. in folgender Schwierigkeit:The impetus for the present invention is now. in following difficulty:
Hat das gemäss dem Pfeil 0 einfallende Lichtsignal relativ geringe Intensität, so wird man dennoch ein helles Bild auf dem Projektionsschirm zu erhalten suchen; das gelingt, falls die Spannungen IL, und U^ genügend gross gemach't werden. Dabei ergibt sich aber nach Rechnung und Experiment eine derart starke Vordeformation der Schicht 14* dass gerade die licht-r stärksten Beugungsbilder β'· und ß;111 einen erheblichen Abstand (z.B. 5 cm) vom ungebeugten Blendenbild ß1 aufweisen. Das veranschaulicht Fig. 4, in welcher im Vergleich zu Fig. 5 die Zone grosser Helligkeit in die weiter vom 2Sentralen Bild ß' abliegenden Beugungsbilder f11, ß1 · ' verlagert ist. Einige der Beugungsbilder ßM, ß1'1 liegen bereits ausserhalb der Oeffnung des ObjektivesIf the light signal incident according to arrow 0 has a relatively low intensity, one will nevertheless try to obtain a bright image on the projection screen; this succeeds if the voltages IL and U ^ are made sufficiently large. According to calculations and experiments, however, the result is such a strong pre-deformation of the layer 14 * that precisely the light-r strongest diffraction images β '· and β; 111 have a considerable distance (for example 5 cm) from the undiffracted diaphragm image ß 1 . This is illustrated in FIG. 4, in which, in comparison to FIG. 5, the zone of high brightness is shifted into the diffraction images f 11 , β 1 · 'which are further away from the central image β'. Some of the diffraction patterns ß M, ß 1 '1 are already outside the opening of the objective
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Wenn dieses Licht für das Bild auf dein Projektionsschirm ebenfalls ausgenützt werden soll, muss also das Objektiv 8~ einen erheblich grösseren Durchmesser haben, wodurch der optische Aufwand sehr kostspielig werden kann. Die vorliegende Erfindung erlaubt nun, das .Auseinanderstreben der lichtstarken Beugungsbilder durch alleinige Reduktion der Vordeformation zu vermindern und ein Objektiv 8 kleinerer Oeffnung zu verwenden, ohne dabei die Helligkeit des Bildes auf dem Projektions-P schirm wesentlich herabzusetzen.If this light for the picture on your projection screen as well is to be used, so the lens must be 8 ~ have a significantly larger diameter, which can make the optical effort very expensive. The present invention now allows the striving apart of the powerful Diffraction patterns by only reducing the pre-deformation to reduce and to use a lens 8 smaller aperture without reducing the brightness of the image on the projection P screen to reduce significantly.
Die Einrichtung geraäss der Erfindung weist die eingangs erwähnten konstruktiven Merkmale der bekannten Einrichtungen zur Verstärkung der Intensität eines optisch erzeugten Bildes ebenfalls auf. In bekannter VTeise ist der lichtelektrisch leitenden Schicht ein Elektrodenraster beigeordnet, der eine Schar von in Abständen nebeneinander verlaufenden, elektrisch leitenden Streifen aufweist, deren Längskanten orthogonal zu den Längskanten des Blendenstreifens verlaufen und die in wechselnder fe Folge an den einen und den andern Pol einer elektrischen Spannungsquelle angeschlossen sind. Der lichtelektrisch leitenden Schicht ist ferner ein zusätzlicher Raster vorgesetzt, welcher zumindest für bestimmte Lichtfrequenzen undurchlässige Partien aufweist, deren geometrische Konfiguration und Anordnung von derjenigen der Streifen des Elektrodenrasters verschieden ist.The device geraäss the invention has the initially mentioned structural features of the known devices to increase the intensity of an optically generated image as well. In a well-known way, it is photoelectrically conductive Layer an electrode grid assigned to which a group of spaced apart, electrically conductive Has strips, the longitudinal edges of which are orthogonal to the longitudinal edges of the aperture strip and which in alternating fe Follow to one and the other pole of an electrical voltage source are connected. The photoelectrically conductive layer is also provided with an additional grid, which has at least for certain light frequencies impermeable parts, the geometric configuration and arrangement of that of the strips of the electrode grid is different.
Das Neue gemäss der Erfindung besteht im wesentlichen darin, dass ein zweiter Elektrodenraster mit einer Schar vonThe novelty according to the invention consists essentially in that a second electrode grid with a bevy of
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in Abständen nebeneinander angeordneten, elektrisch leitenden Streifen vorhanden ist, deren Anzahl, Länge, Orientierung und gegenseitigen Abstände ihrer Irängsmittellinien gleich wie beim erstgenannten Elektrodenraster sind und die ebenfalls in wechselnder Folge an den einen und den andern Pol einer zweiten Spannungsquelle angeschlossen slnds und dass der zweite Elektrodenraster in einem Abstand von der spiegelnden Fläche derart angeordnet ist, dass er durch die Wirkung elektrostatischer Feldkräfte die vom ersten Elektrodenraster hervorgerufene Vordeformation der spiegelnden Fläche zumindest annähernd kompensiert.arranged at intervals next to one another, the electrically conductive strip is provided, the number, length, orientation and mutual distances of their Irängsmittellinien like are the same in the first mentioned electrode grid and also connected in alternating sequence in the one and the other pole of a second voltage source slnd s and that the second electrode grid is arranged at a distance from the reflective surface in such a way that it at least approximately compensates for the pre-deformation of the reflective surface caused by the first electrode grid through the effect of electrostatic field forces.
Weitere Merkmale und Einzelheiten von Äusführungsformen der Erfindung ergeben sich aus den irnteransprüchen, aus der nun folgenden Beschreibung und aus den zugehörigen Zeichnungen, welche in den Pig. 5 bis 7 rein beispielsweise und schematisch zwei verschiedene Ausführungsformen des Erfindungsgegenstandes veranschaulichen.Further features and details of embodiments of the invention emerge from the subclaims from which now the following description and from the accompanying drawings, which in the Pig. 5 to 7 purely by way of example and schematically illustrate two different embodiments of the subject invention.
Fig. 5 zeigt perspektivisch und der Deutlichkeit wegen z.T. auseinändergezogen die Bestandteile eines Lichtsteuer- d organs, welches das in Fig* 2 gezeigte bekannte Mchtsteuerorgan der Einrichtunggemäss Fig. 1 ersetzen soll;Fig. 5 shows in perspective and for the sake of clarity partly pulled apart the components of a light control organs which the known power control organ shown in FIG to replace the device according to Fig. 1;
Fig. 6 stellt schematisch die Gesamtanordnung eines zweiten Ausführungsbeispieles der Einrichtung zur Verstärkung der Intensität eines optisch erzeugten Bildes ,dar;Fig. 6 schematically shows the overall arrangement of a second embodiment of the device for amplifying the Intensity of an optically generated image;
Fig. 7 veranschaulicht in grössereta Masstäb das Lichtsteuerorgan der Einrichtung nach Fig. 6.Fig. 7 illustrates the light control member on a larger scale the device according to FIG. 6.
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Das in Pig. 5 dargestellte Lichtsteuerorgan 5aist hinsichtlich der Teile 11, 12, 14 und I7 bis 21, sowie des Spal-That in Pig. 5 illustrated light control member 5a is with respect to of parts 11, 12, 14 and I7 to 21, as well as the column
tes 15 genau,gleich ausgebildet wie die oben beschriebene bekannte ,Ausführung gemass Fig. 1 und 2. Es sind jedoch die folgenden Unterschiede wesentlich: Anstelle der elektrisch leitenden Elektrodenschicht 13 der bekannten Ausführung ist ein zweiter Elektrodenraster vorhanden, der aus zwei kainmförmigen,_ Ineinandergreifenden Elektrodengittern 13a und 13b be-" steht, die auf der durchsichtigen, elektrisch isolierenden Platte 12 angeordnet sind. Der Elektrodenraster 13a, 13b. weist eine Schar von in Abständen nebeneinander angeordneten, elektrisch leitenden Streifen auf, die abwechslungsweise dem einen und dein andern karamförmigen Gitter 13a bzw. 13b angehören. Die Orientierung, d.h. die Längsrichtung der Streifen des Elektrodenrasters l3a, 13b ist gleich wie beim Elektrodenräster 18a, 18b. Ferner stimmen die Anzahl und die Länge der Streifen, wie auch die gegenseitigen Abstände der Längsmittellinien der Streife fen beider Elektrodenraster 13a,13b und 18a, 18b genau überein. Die zwei Gitter 13a- und 13b sind beispielsweise durch Vakuumverdampfung von Aluminium erzeugt und an den einen und den andern Pol einer elektrischen Potentialquelle U"K, z.B. einer Batterie, angeschlossen. Eines der Gitter 13a und 13b steht auch mit dem einen Pol der Potentialquelle U^ in Verbindung, deren anderer Pol an eines der Gitter 18a und 18b angeschlossen ist.tes 15 exactly, the same design as the above-described known, embodiment according to Fig. 1 and 2. However, the following differences are essential: Instead of the electrically conductive electrode layer 13 of the known embodiment, a second electrode grid is present, which consists of two cainm-shaped, _ interlocking There are electrode grids 13a and 13b which are arranged on the transparent, electrically insulating plate 12. The electrode grid 13a, 13b has a group of electrically conductive strips arranged at intervals next to one another, which alternate one and the other caramel-shaped grid The orientation, ie the longitudinal direction of the strips of the electrode grid 13a, 13b is the same as that of the electrode grid 18a, 18b. Furthermore, the number and length of the strips, as well as the mutual spacing of the longitudinal center lines of the strip windows of both electrode grids, are correct 13a, 13b and 18a, 18b exactly match. The two Git ter 13a and 13b are produced, for example, by vacuum evaporation of aluminum and connected to one and the other pole of an electrical potential source U "K , for example a battery. One of the grids 13a and 13b is also connected to one pole of the potential source U ^, the other pole of which is connected to one of the grids 18a and 18b.
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Obwohl in Fig. 5 der Deutlichkeit wegen die weiche, deformierbare Schicht 14 in einigem Abstand von der Platte 12 und dem Elektrodenraster 13a» 13b dargestellt ist, befindet sie sich in Wirklichkeit in unmittelbarer Berührung mit dem Elektrodenraster 13a, 13b. !Desgleichen ist,die den Linien~ raster 20 tragende Platte 21 in Wirklichkeit unmittelbar mit der den Elektrodenraster 18a, 18b tragendenPlatte 19 yer- | bunden. Einzig zwischender deformierbareri Schicht 14 und der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 ist ein Spalt 15 vorhanden, wie bei der bekannten Ausführung des Lichtsteuerorgans. Zwischen den beiden Elektrodenrastern 13a,13b und 18a, 18b befinden sich also die deformierbare Schient 14, der Spalt 15 und d±e lichtelektrisch leitende Schicht 17, Während der Elektrodenraster 18a» 18b in direktem Eontakt mit der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 angeordnet ist und in dieser ein elektrisches Feldaufrecht erhält> ist der zweite Elektrodenraster 13af 13b auf der von der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 abgewandten Seite der spiegelnden Fläche A B CD angeordnet·Although FIG. 5 shows, for the sake of clarity, the soft, deformable layer 14 at some distance from the plate 12 and the electrode grid 13a, 13b, in reality it is in direct contact with the electrode grid 13a, 13b. Likewise, the plate 21 carrying the line grid 20 is actually directly connected to the plate 19 carrying the electrode grid 18a, 18b bound. Only between the deformable layer 14 and the photoelectrically conductive layer 17 is a gap 15, as in the known embodiment of the light control element. Between the two electrode grids 13a, 13b and 18a, 18b are so deformable splints 14, the gap 15 d ± e light electrically conductive layer 17, while the electrode grid 18a '18b is arranged in direct Eontakt with the light-electrically conductive layer 17 and in this maintains an electrical field> the second electrode grid 13a f 13b is arranged on the side of the reflective surface AB CD facing away from the photoelectrically conductive layer 17
Die Wirkungsweise des beschriebenen Lichtsteuerorgans, das in der Einrichtung gemass Fig. 1 anstelle des bekannten Organs 5 verwendet wird, let wie folgtiThe mode of operation of the light control device described, that in the device according to FIG. 1 instead of the known Organ 5 is used, let as follows i
Solange die Spannungsquellen U^,, tl.^ und ÜK abgeschaltet Bind, 1st die freie, an den Spalt 15 angrenzende OberflacheAs long as the voltage sources U ^ ,, tl. ^ And Ü K are switched off , the free surface adjacent to the gap 15 is
ABCD der deforraierbaren Schicht 14 eben. Wenn nur die beiden Spannungsquellen TJ- und Uj eingeschaltet sind, wird die Fläche AB 0 D wellenartig" deformiert, wie das bei der Vordeformation in dem bekannten Licbtsteuerorgan der Fall ist und mit Bezug auf die Fig. 1 und 2 beschrieben wurde. Falls nur die Spannungsquelle U^- eingeschaltet ist, herrschtABCD of the deformable layer 14 even. If only the both voltage sources TJ- and Uj are switched on the surface AB 0 D is deformed like a wave, as in the Preformation is the case in the known Licbtsteuerorgan and has been described with reference to FIGS. If only the voltage source U ^ - is switched on, there is
™ im Innern der Schicht 14 eine von dem Elektrodenraster 13a, 13b bestimmte elektrische Feldverteilung, die durch elektrostatische Feldkräftewirkung ebenfalls zu einer wellenartigen Deformation der vorher ebenen Fläche ABCD der Schicht 14 führt. Im allgemeinen ist diese Deformation von der oben erwähnten Vordeformation verschieden, was ihre Amplitude be-2 trifft. Dagegen ist der Abstand zweier benachbarter Wellenberge, d.h. die Periode der Deformation, gleich wie bei der Vordeformation, was eine Folge der Uebereinstimmung der™ in the interior of the layer 14 an electrical field distribution determined by the electrode grid 13a, 13b, which also leads to a wave-like deformation of the previously flat surface ABCD of the layer 14 due to the effect of electrostatic field forces. In general, this deformation is different from the aforementioned pre-deformation, what their amplitude sawn 2 encounters. On the other hand, the distance between two neighboring wave crests, ie the period of the deformation, is the same as in the case of the pre-deformation, which is a consequence of the correspondence of the
fc gegenseitigen Abstände der Längsmittellinien der Elektrodenstreifen beider Raster 13a, 13b und 18a, 18b ist*fc mutual spacing of the longitudinal center lines of the electrode strips both grids 13a, 13b and 18a, 18b is *
Wenn alle drei Spannungsquellen Um, Uj- und Uj, eingeschaltet sind, resultiert eine Ueberlagerung der beiden beschriebenen Deformationen der Fläche ABC D. Die resultierende Gesamt·^ deformation ist im allgemeinen wieder wellenartig, wobei ihre Amplitude grosser oder kleiner als die Amplitude jeder der Teildeformationen sein kann. Verschiebt man z.B. die PlatteWhen all three voltage sources Um, Uj- and Uj, are switched on are, the result is a superposition of the two described deformations of the area ABC D. The resulting total · ^ deformation is generally again wave-like, with your Amplitude can be larger or smaller than the amplitude of each of the partial deformations. If you move the plate, for example
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mit dem darauf angeordneten Elektrodenraster 13a, 13b in der Ebene der Platte 12 und in einer Richtung senkrecht zur Längsrichtung der Streifen des Rasters 13a, 13b, so wird die resultierende Gesamtdeformation der Pläche A B C D abvrecbslungsweise minimal und maximal, Rechnung und«Experiment zeigen, . dass eine Verschiebung um eine halbe Periode nötig ist, um von einer maximalen zu einer minimalen Gesamtdeformation zu gelangen oder umgekehrt. Dielage der Platte 12 wird nun so gewählt, dass die Gesamtdeformation der Fläche A BC H minimal - ä wird, nachher lässt sich durch geeignete Wahl des Verhältnisses der elektrischen Spannungen- der zwei Spaunungsquellen Un, und U^ die Grosse der Gesamtdeformation noch "weiter reduzieren. Die verbleibende Restdeformation besteht aus schwachen wellenartigen Verbiegungen derFläche A B CD, die eine a · .-■-■- .- "".-"■■. - '...."--■ ' ■.. -with the electrode grid 13a, 13b arranged thereon in the plane of the plate 12 and in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the strips of the grid 13a, 13b, the resulting overall deformation of the surface ABCD is reduced to a minimum and maximum, calculation and experiment show. that a shift by half a period is necessary to get from a maximum to a minimum total deformation or vice versa. The position of the plate 12 is now chosen so that the total deformation of the area A BC H is minimal - afterwards, by suitable choice of the ratio of the electrical voltages of the two voltage sources U n , and U ^ the size of the total deformation can be "further" The remaining deformation consists of weak wave-like bending of the surface AB CD, which has a · .- ■ - ■ - .- "" .- "■■. - '.... "- ■' ■ .. -
halb so grosse Periode wie die Teildeformationen zeigen und, was das Entscheidende ist, nur geringe Amplitude besitzen.half as large a period as the partial deformations show and, what is decisive, only have a low amplitude.
Somit lässt sich die vom Elektrodenraster 18a» 18b hervorgerufene Vordefarmation der Fläche A BC D durch die Wirkung der elektrostatischen Feldkräfte des zweiten,Elektrodenrasters ™ 13a, 13b zumindest annähernd kompensieren. . "Thus, the one produced by the electrode grid 18a »18b Predefarmation of area A BC D by the action the electrostatic field forces of the second, electrode grid ™ 13a, 13b at least approximately compensate. . "
Durch die oben beschriebene, weitgebende Kompensation.der Vordeformation der spiegelnden Fläche A B C D wird erreicht, dass die in den Fig. 3 und 4 mit β ·,' bezeichneten Beugungs-By the above-described far-imparting Kompensation.der predeformation of the reflecting surface ABCD is achieved that the diffraction designated β · 'in Figs. 3 and 4
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bilder,, die bei imbelichteter Schicht 17 entstehen, in der Nähe der Abbildung ß1 der Blendenöffnung β bleiben. Beim Einfallen von Licht durch das Objektiv 10 auf die lichtelektrisch leitende Schicht 1.7 ergibt sich im Spalt 15 eine neue elektrische -Feldverteilung, die sich über die beiden Felder superponiert, welche mittels der Elektrodenraster 18a, ISb und 13a, 13b undimages ,, which arise with im-exposed layer 17, remain in the vicinity of the image ß 1 of the aperture β. When light falls through the lens 10 onto the photoelectrically conductive layer 1.7, a new electrical field distribution results in the gap 15, which is superimposed over the two fields which are generated by means of the electrode grids 18a, ISb and 13a, 13b and
k der' zugeordneten Spannungsquellen IL1 und tLr hervorgerufen werden. Der wellenartigen Restdeformation der Fläche ABCD wird dann an jenen Stellen, welche belichteten Partien der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 entsprechen, eine weitere Defor-„ mation.roit Wellen geraäss dem Linienraster 20 überlagert. Dabei entstehen neben den Barren 7* fallende Beugungsbilder β' " , welche eine Beleuchtung des Projektionsschirmes verursachen. Diese für die Bilderzeugung auf dem Projektionsschirm massgebenden Beugungsbilder ß'11 bleiben, anders als in den Fig. 3 und 4, in der Nähe der Abbildung ,ß' , weil di'e Vordeformation derk of the 'associated voltage sources IL 1 and tLr are caused. The wave-like residual deformation of the surface ABCD is then superimposed on the line grid 20 by a further deformation. In this way, diffraction images β '"falling next to the bars 7 * arise, which cause an illumination of the projection screen. These diffraction images β' 11 , which are decisive for the image generation on the projection screen, remain, unlike in FIGS. 3 and 4, in the vicinity of the figure. ß 'because the pre-formation of the
* Fläche ABC D weitgehend kompensiert ist.: Somit braucht das" Objektiv 8 (Fig. 1, ^3 und 4) keine grosse Oeffnung mehr zu haben, um die zuletzt genannten Beugungsbilder β''V erfassen zu können. Man kann daher auf ein kostspieliges Objektiv mit grossem Durchmesser verzichten,, ohne dass dadurch die Helligkeit des Bildes auf dem Projektionsschirm beeinträchtigt wird. Die* Area ABC D is largely compensated: So the " Objective 8 (Fig. 1, ^ 3 and 4) no longer have a large opening in order to capture the last-mentioned diffraction images β ″ V can. You can therefore use an expensive lens with a large Foregoing diameter, without affecting the brightness the image on the screen is affected. the
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Steuerung der Bildhelligkeit entsprechend der Örtlichen Lichtverteilung und Intensität des auf die Schicht 17 geworfenen, zu verstärkenden Bildes wird durch die beschriebene Kompensation der Vordeformation der spiegelnden Fläche A BC H nicht beeinträchtigt. .Control of the image brightness according to the local light distribution and the intensity of the image to be intensified which is thrown on the layer 17 is determined by the compensation described the pre-deformation of the reflecting surface A BC H does not impaired. .
Die vorstehende Beschreibung der Wirkungsweise des mit dem zweiten Elektrodenraster 13a, 13b versehenen Lichtsteuerorgaiis bedarf noch einer Ergänzung. Wenn das Licht der Lichtquelle nacheinander die Teile 2, 3, 4 und 12 der Einrichtung gemäss Pig. 1 und 5 durchsetzt hat, trifft es auf den Elektrodenraster 13a, 13b bevor es die deformierbare Schicht 14 durchläuft und an deren Fläche ABCD reflektiert, wird. Nach der Reflexion durchsetzt das Licht nochmals die Schicht 14 und den Elektrodenraster; 13a,. 13b. Der zweimalige Durchgang des Lichtes durch den Easter, 13a,. 13b ist mit einem zusätzlichen Beugungseffekt verbunden, der das Funktionieren des Lichtsteuerorgans gegebenfalls stören kann. Um diese Störung möglichst gering zu halten, ist e;s,„zweckraässig, die Breite der einzelnen Streifen des Elektrodenrasters 13a, 13b klein zu bemessen, damit die optische Transparenz dieses Rasters möglichst hoch ist. Zum gleichen Zweck ist es von Vorteil, den Raster 13a, 13b aus einem Material mit ähnlichen optischen Eigenschaften, wie die -Platte 12 sie besitzt, herzustellen. So eignet sich z*B. Zinnoxyd besser als ein Metall*The above description of the mode of operation of the light control element provided with the second electrode grid 13a, 13b still needs to be supplemented. If the light of the light source successively the parts 2, 3, 4 and 12 of the device according to Pig. 1 and 5, it hits the electrode grid 13a, 13b before it passes through the deformable layer 14 and is reflected on its surface ABCD. After the reflection, the light again passes through the layer 14 and the electrode grid; 13a ,. 13b. The double passage of light through Easter, 13a ,. 13b is associated with an additional diffraction effect, which may interfere with the functioning of the light control element. To keep this disruption as low as possible, e ; It is advisable to make the width of the individual strips of the electrode grid 13a, 13b small so that the optical transparency of this grid is as high as possible. For the same purpose, it is advantageous to produce the grid 13a, 13b from a material with similar optical properties as the plate 12 has. So is suitable, for example. Tin oxide better than a metal *
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Schliesslicb ist zu untersuchen, ob der zweite Elektrodenraster 13a, 15b nicht etwa durch Beugungseffekte zu einer Aufhellung des Projektionsschirmes Anlass gibt. Dies ist nicht , der Pail, weil die Streifen der beiden Elektrodenraster 13a, 13b und 18a, 18b parallel zueinander und orthogonal zu den Kanten des Barrens 7* der zweiten Schlierenblende 7 verlaufen, so dass die durch den zweiten· Elektrodenraster 13a, 13b hervorgerufenen Beugungsbilder der Blendenöffnung /3 ebenso auf den Barren 71 fallen wie die durch die Vordeformation infolge des Elektrodenrasters 18äf 18b verursachten Beugungsbilder /3 fr. Somit ruft der zweite Elektrodenraster 13a, 13b keine seitlich des Barrens 7' liegende Beugungsbilder der Blendenöffnung :/3hervor. Somit erscheint auch bei vorhandenem Elektrodenraster 13a, 13b auf dem Projektionsschirm nur dann Licht, wenn die lichtelektrisch leitende Schicht 17 durch in Richtung des Pfeiles 0 einfallendes Signallicht belichtet wird, wobei die Helligkeitsverteilung auf dem Projektionsschirm mit jener auf der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 übereinstimmt. - . 'Finally, it must be examined whether the second electrode grid 13a, 15b does not give rise to a brightening of the projection screen due to diffraction effects. This is not the pail, because the strips of the two electrode grids 13a, 13b and 18a, 18b run parallel to one another and orthogonally to the edges of the bar 7 * of the second Schlieren diaphragm 7, so that the diffraction images produced by the second electrode grid 13a, 13b of the aperture / 3 also fall on the bar 7 1 , as do the diffraction images / 3 fr caused by the pre-deformation as a result of the electrode grid 18ä f 18b. Thus, the second electrode grid 13a, 13b does not produce any diffraction images of the aperture : / 3 lying to the side of the bar 7 '. Thus, even if the electrode grid 13a, 13b is present, light only appears on the projection screen when the photoelectrically conductive layer 17 is exposed by signal light incident in the direction of arrow 0, the brightness distribution on the projection screen corresponding to that on the photoelectrically conductive layer 17. -. '
Das nun-zur Erläuterung gelangende zweite Ausfübrungsbeispiel der erfindungsgemässen Einrichtung hat den in Fig. 6 gezeigten an sich bekannten Gesamtaufbau: Einer starken Lichtquelle 1, z.B. einem elektrischen Lichtbogen, ist ein Kondensor 2 zugeordnet, welcher das Licht bündelt und über einenUmlenkspiegel 22 auf eine Schlierenblende 23 wirft. Letztere besteht aus mehreren zueinander parallelen, lichtundurchläsaigen The second exemplary embodiment, which will now be explained The device according to the invention has the overall structure known per se shown in Fig. 6: A strong light source 1, for example an electric arc, is a condenser 2, which bundles the light and throws it onto a Schlieren diaphragm 23 via a deflecting mirror 22. The latter consists of several parallel, opaque ones
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Barren-23Γ in der Form von Streifen, die in Abständen, nebeneinander angeordnet sind und zwei Aufgaben zu erfüllen haben. Die erste Aufgabe' der Barren 23'■ liegt darin, streifenf Örmige Zonen zu bilden, die durch das von der Lichtquelle 1 ausgebende Lieht hell beleuchtet werden und funktionsmässig der Blendenöffnung fl der Schlierenblende 3 (Fig. l) des. oben beschriebenen ersten Ausführungsbeispieles entsprechen. Zu diesem . Zweck ist die in Fig. 6 nach, oben gekehrte Seite der Barren 23' reflektierend ausgebildet. Die zweite Aufgabe der Barren 23' ist die Bildung von Blendenstreifen, die fünktionsmässig dem Barren 71 der Schliereriblende 7 (Fig. 1) des zuerst erläuterten Beispieles entsprechen. ;. Ingots-23 Γ in the form of strips that are spaced apart, next to each other and have two functions. The first object 'of the bars 23' ■ is to form strip Örmige zones that are illuminated brightly by the issuing of the light source 1 Lieht and functionally the aperture fl of the Schlieren aperture 3 (Fig. L) of the. Corresponding to the above-described first embodiment . To this. Purpose is that in Fig. 6 facing, upward side of the bars 23 'reflective. The second task of the bars 23 'is the formation of diaphragm strips which functionally correspond to the bar 7 1 of the streak diaphragm 7 (FIG. 1) of the example explained first. ;.
Auf der beleuchteten Seite der Barren 23' befinden sich ein Objektiv 4 und ein Licbtsteuerorgan 5b, dessen Ausbildung weiter unten an Hand von Pig- 7 erläutert wird. Das Lichtsteuerorgan 5b enthält eine spiegelnde Fläche, welche das vom Objektiv 4 kommende Licht in das genannte Objektiv zurückwirft Mittels des vom Licht zweimal durchlaufenen Objektives 4 und f der erwähnten spiegelnden Fläche des Lichtsteuerorgans 5b werden die beleuchteten Barren 23* wieder auf die -nun als; Blendenstreifen wirkenden Barren 23' abgebildet. Ein Projektionsobjektiv 8 und ein Umlenkspiegel 24 sind auf der unbeleuchteten Seite der Barren 23' derart angeordnet, dass sie; diirch die Spalte zwischen den Barren 23' hindurch die spiegelnde Fläche des Lichtsteuerorgans 5b in .Richtung, des Pfeiles P auf einen nichtOn the illuminated side of the bars 23 'are located a lens 4 and a Licbtsteuerorgan 5b, its training is explained below with reference to Pig-7. The light control organ 5b contains a reflective surface, which the from Lens 4 reflecting light coming into said lens means of the objective 4 and f through which the light passes twice the mentioned reflective surface of the light control member 5b are the illuminated bars 23 * back on the -now as; Aperture strips acting ingot 23 'shown. A projection lens 8 and a deflecting mirror 24 are on the unilluminated Side of the bars 23 'arranged so that they; diirch the column between the bars 23 'through the reflective surface of the Light control element 5b in the direction of the arrow P on a not
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dargestellten Projektionssehirin abbilden. Die. Barren 23V wirken bei dieser Abbildung lediglich als Blendenstreifen, die auf dem Projektionsschirm nicht abgebildet werden.shown projection screen. The. 23V bars work in this figure only as aperture strips that are not shown on the projection screen.
Ein anderer Umlenkspiegel 9 und ein Objektiv 10 dienen, dazu, durch Lichtstrahlen gemäss dem Pfeil 0 auf einer licht- · elektrisch leitenden Schicht des Lichtsteuerorgans 5b optisch ein Bild su erzeugen, das mit der beschriebenen-Einrichtung verstärkt v/erden soll und beispielsweise von einem Diapositiv, einem Mim oder einem wirklichen Gegenstand herstammen kann.Another deflection mirror 9 and a lens 10 are used, in addition, by light rays according to the arrow 0 on a light · electrically conductive layer of the light control member 5b optically generate an image su that with the described device should be reinforced and can come from a slide, a mim or a real object, for example.
Das Licht steuerorgan 5b hat den in Flg. 7 gezeigten Aufrbäu,-welcher von bekannten Ausführungen teilweise abweicht, nebe^reitistimmung-mit dem LiehtsteueTOrgan »geinäss Fig. 5 besteht hinsichtlich der Trägerplatte 12, des,Elektrodenrasters ,15a, 13V1- der-lichtelektrisch 'leitenden Schicht.17 , des Elektrodenrästers 18a, 18b, der Trägerplatte 19V des Linienrasters 20 und der Trägerplatte 21. -Auch die.Anordnung der genannten Teile in; .bezug aufeinander 1st gleich wiebeitn Lieh tat euer organ nach ^ Fig. ..5. -Im Gegensatz zu jenem fehlt jedoch-beim. Licbtsteuer- , organrgemäss Figi-7 -das Prisma 11 und -sind zwischen-dem Elektr.odengltter 13a, 13b»und der lichtelektrisch^leitenden Schicht '.. 17 awei elektrisch- isolierende , elastisch def ormierbare ..Sc.hichten .24: und 25 sowie eine, zwischen-denselben -angeordnete S,pi,e^ ^elschleht; 26 vorhanden.-. Die·, Stärke,, jeder, defo,nj^ierbaren,..... / · SQbiicht« 24, bzw, ^5i;beträgt .etwa .10O1 Mioron, utid ,die. Schicht _. selbst kann zweckraäasig aus einem Silikon-Polymerisat mit _. .,.The light control member 5b has the in Flg. Aufrbäu shown 7, -welcher of known designs partially deviates Nebe ^ reitistimmung-with geinäss the LiehtsteueTOrgan "Figure 5 is with respect to the carrier plate 12 of the, electrode grid, 15a, 13V. 1 - the light-electrically 'conductive Schicht.17, the Elektrodenrästers 18a, 18b, the carrier plate 19V of the line grid 20 and the carrier plate 21. -Auch die.Anordnung the parts mentioned in; .relation to one another is the same. Lieh did your organ according to Fig. ..5. - In contrast to that one, however, - the one is missing. Licbtsteuer-, organrgemäss Figi-7 -the prism 11 and -are between-the Elektr.odengltter 13a, 13b "and the light-conducting layer electrically ^ '.. 17 Awei electrical-insulating, elastically def ormierbare ..Sc.hichten .24: and 25 as well as a S, pi, e ^ ^ elschleht; 26 present. The ·, strength, of each, defo, nj ^ able, ..... / · SQbiicht «24, or ^ 5 i; is .about .10O 1 Mioron, utid, the. Layer _. even can be made of a silicone polymer with _. .,.
aiii':·· -"■■„■'■■'j f"aiii ': ·· - "■■" ■' ■■ 'j f "
" „Si·*/ j : .-.Vi ---!ι -^ -■■* ="" Si * / j: .-. Vi ---! Ι - ^ - ■■ * =
8 4 3/ΛΛ4Λ ,.8 4 3 / ΛΛ4Λ,.
BAD Ört * fe BAD Ort * fe
Weichmacher, z.B. Silikon-Kautschuk mit Weichmacher, bestehen und soll einen Elastizitätsmodul zwischen 10 und 10 dyn/cm aufweisen. Die Spiegelschicht 26 hat eine Dicke van 10 lais 60 Micron und besteht aus einer im Betriebszustand der Einrichtung flüssigen Substanz, z.B. einem Metall oder einerMetall- -legierung. Wenn die Einrichtung bei üblicher Raumtemperatur arbeiten soll, kann die Spiegelschicht 26 zweckmässig aus Quecksilber oder einem Amalgam mit einer geringen Menge, etwa 1 Gew.-$ Indium bestehen. Alle die genannten Platten und Schich- " ten des Lichtsteuerorgans sind ohne Zwischenr'äunie übereinander angeordnet, obwohl in Fig. 7 einige der Teile der Deutlichkeit wegen in voneinander getrennter Anordnung dargestellt sind*.Plasticizers, e.g. silicone rubber with plasticizers, exist and should have a modulus of elasticity between 10 and 10 dynes / cm. The mirror layer 26 has a thickness of 10% 60 Micron and consists of an in-service condition of the facility liquid substance, e.g. a metal or a metal -alloy. If the facility is at normal room temperature is to work, the mirror layer 26 can expediently from Mercury or an amalgam with a small amount, say 1% by weight of indium. All of the plates and layers mentioned The lights of the light control element are on top of each other without any space between them although in Fig. 7 some of the parts are shown separated from one another for the sake of clarity *.
Die beideti Gitter 18a und 18b des Elektrodenrasters 18a, 18b sind an den einen und den andern Pol einer Gleichspannungsquelle Um angeschlossen. In analoger Weise sind die zwei Gitter 15a und 13b des zweiten Elektrodenrasters 13a, 13b mit einer GIejchspannungsquelle UV verbunden. Eine Wechselspannungsquelle UT ist mit ihrem einen Pol an die elektrisch leitende Spiegel- J schicht 26 und mit ihrem andern Pol an das eine Elektrodengitter 18a oder 18b angeschlossen. Eine zweite Wechselspannungsquelle ÜV V steht einerseits mit der Spiegelschicht 26 und andererseits mit dem Elektrodenraster 13a oder 13b in Verbindung. Die Wechselspannungen der Quellen U^ und Fr' haben gleiche Frequenz und Phasenlage, während Ihre Amplituden verschieden sein kennen. ."■-.-.The two grids 18a and 18b of the electrode grid 18a, 18b are connected to one and the other pole of a DC voltage source Um. In an analogous manner, the two grids 15a and 13b of the second electrode grid 13a, 13b are connected to a DC voltage source UV. One pole of an alternating voltage source U T is connected to the electrically conductive mirror layer 26 and its other pole to one of the electrode grids 18a or 18b. A second AC voltage source ÜV V is connected on the one hand to the mirror layer 26 and on the other hand to the electrode grid 13a or 13b. The alternating voltages of the sources U ^ and Fr 'have the same frequency and phase position, while their amplitudes know to be different. . "■ -.-.
00 984371S4900 984371S49
Die Wirkungsweise der Einrichtung gemäs,s den I1Ig. 6 und 7 ist im wesentlichen wie folgt:The mode of operation of the device according to the I 1 Ig. 6 and 7 is essentially as follows:
- Zum leichteren Verständnis wird zunächst angenommen, dass die Spannungsquellen U^- und Uj * nicht angeschlossen seien und die Spannung der Quelle U^ null sei. Wenn kein Licht entsprechend dem Pfeil 0 auf die lichtelektrisch leitende Schicht 17 fällt,, ist das elektrostatische Feld zwischen dem .Elektrodenraster 18a, 18b und der ebenfalls als Elektrode dienenden κ "" Spiegelschicht 26 im wesentlichen homogen, wenn man von.den Bandeffekten und der Streifenforta des Rasters 18a, 18b absieht. Die auf die Grenzfläche I zwischen der Spiegelschicht 26 und der deformierbaren Schicht 25 wirkenden elektrostatischen Kräfte sind somit an allen Stellen der Fläche I gleich gross, weshalb letztere keine Deformation erfahrt und eben bleibt. Daran ändert auch die Tatsach.e nichts, dass die Spannungsquelle U1-eine Wechselspannung abgibt- Biese hat lediglich eine seitliche, nicht eine örtliche'Variation der elektrostatischen Kräfte auf die Grenzfläche I zur Folge. Wenn die Gleichspannung- To make it easier to understand, it is initially assumed that the voltage sources U ^ - and Uj * are not connected and the voltage of the source U ^ is zero. If no light falls on the photoelectrically conductive layer 17 according to the arrow 0, the electrostatic field between the .Elektrodenraster 18a, 18b and the κ "" mirror layer 26, which also serves as an electrode, is essentially homogeneous, if one of the band effects and the Stripe forta of the grid 18a, 18b disregards. The electrostatic forces acting on the interface I between the mirror layer 26 and the deformable layer 25 are thus the same at all points on the surface I, which is why the latter does not experience any deformation and remains flat. The fact that the voltage source U 1 emits an alternating voltage does not change anything in this respect, either. When the DC voltage
w der Spannungsquelle Um nicht null ist, überlagert sich zum beschriebenen zeitlich variierenden elektrischen Feld ein örtlich variierendes j mit dem Ergebnis, dass die Verteilung der an der Grenzfläche I angreifenden Feldkräfte inhomogen wird und die Grenzfläche I der Spiegelschicht 26 eine wellenförmige Vordeformation bekommt, wobei die Wellenkämme und Wellentäler parallel zu den Streifen des Elektrodenrasters 18a, 18b und orthogonal zu den Barren 23* der Schlierenblende 23 verlaufen. w of the voltage source Um is not zero, a locally varying j is superimposed on the described time-varying electric field, with the result that the distribution of the field forces acting on the interface I becomes inhomogeneous and the interface I of the mirror layer 26 receives a wave-shaped pre-deformation, with the Wave crests and wave troughs run parallel to the strips of the electrode grid 18a, 18b and orthogonally to the bars 23 * of the Schlieren diaphragm 23.
009843/1549009843/1549
BAD ORIGINALBATH ORIGINAL
Während der für das Aufbauen der erwähn'ten. Yordeformatipn benötigten Zeitdauer., d.h. bevor die auf di.e ,Fläche X einwirkenden Feldkräfte durch die elastischen Reaktionskräfte, der · Schiebt 25 im Gleichgewicht gebalten werden, pflanzen sich Druckwellen und Verschiebungswellen von der Fläche I-querDuring the building of the mentioned. Yordeformatipn required period of time, i.e. before the acting on the surface X Field forces due to the elastic reaction forces, the Shifts 25 to be kept in equilibrium, plant yourself Pressure waves and displacement waves from the surface I-transverse
■ fort durch die flüssige Spiegelschicbt Z£/. Bei. der Ankunft dieser Druck-.und Verschiebungswellen rufen diese an der- gegenüberliegenden Grenzfläche II eine Druckverteilung hervor>; .die Punkt,, j für Punkt der elektrostatiseben Feldkräfteverteilung .an der - . Fläche I analog ist. Folglich wird die Grenzfläche .11 in gleicher Weise wellenförmig deformiert wie die. Grenzfläche^ I, .Die . . verhältnismässig grosse innere Reibung der defprjnierharen Schichten 2-4 ^urid ?5 gewährleistet eine au,sreicbende:.Dämpfung von gegebeneEifalls auftretenden mechanischen Resonanzen, der genannten Schichten und der fliissigen Spiegelschicht-Sß, Die. in-. : der beschriebenen Weise ;dBformierte:Grenzflä,che1.II d^r Spier· ge !schicht- 2,6 wirkt .als Beugungsgitter für die „von. der; iicbtquelle 1 herkomnienden und ajn .der_Fläche.II-reflektierten Licht-, strahlen^ Dies .:en,t,st,e.henden,Beugungsbilder der M.euchtr&ten Bar-,. ren .2,3 * sind in der Läng^richtrung der Barren verschoben.und bewirken deninach; ke.ine. Jlufbellung ,des Pro jektionsschirnjes,..■ away through the liquid mirror layer Z £ /. At. the arrival of these pressure waves and displacement waves, they cause a pressure distribution at the opposite interface II ; .the point ,, j for the point of the electrostatic field force distribution .at the -. Area I is analogous. As a result, the interface .11 is deformed in a wave shape in the same way as the. Interface ^ I, .the. . relatively large internal friction of defprjnierharen layers 2-4 ^ 5 Urid ensures au, sreicbende: .Dämpfung of gegebeneEifalls occurring mechanical resonances of said layers and the mirror layer fliissigen-SSS, The. in-. : as described ; dBformed: boundary surface 1 .II of the Spier · ge! layer- 2,6 acts. as a diffraction grating for the “von. the; iicbtquelle 1 originating and ajn .der_Fläche.II -reflected light, rays ^ this. : en, t, st, e.henden, diffraction patterns of M.euchtr & ten bar- ,. Ren .2,3 * are shifted in the longitudinal direction of the bars. no. Jlufbellen, the projection screen, ..
Wenn durch ,Lichtstra;hlen geinäss dem..-Pileil. D auf% der lichtelektrisch leitenden Schicht, .l;7,_.ein zu verstärkendes'-./Bild erzeugt wird,, bewirken die belichteten .Partien djer Schicht 17, eine örtliche Aenderunjg der elektrostatischen FeldverteiluneIf through, light ray ; You will love the ..- Pileil. D to % of the photoelectrically conductive layer, .l ; 7, _. An image to be intensified is generated, the exposed parts of the layer 17 cause a local change in the electrostatic field distribution
-.24-.24
zwischen dem Elektrodenraster 18a, 18b und der Spiegelschicbt 26, so dass der erwähnten Vordeformation der beiden Grenzflächen der Spiegelscb^cht noch eine andere Deformation überlagert wird. Letztere hat Beugungsbilder der beleuchteten Barren 23f zur Folge, die seitlich neben die Barren fallen und eine Beleuchtung des Projektionsschirmes an jenen Stellen verursachen, die den belichteten Partien der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 entsprechen. Wegen der oben beschriebenen Vordeformation der Spiegelschicht 26 haben die Zentren der nutzbringenden Beugungsbilder einen verbältnismässig grossen Abstand von den Zentren der Barren 23', weshalb das Objektiv 8 einen grossen Durchmesser aufweisen müsste, um das Licht dieser Beugungsbilder voll erfassen-und dem Projektionsschirm übermitteln zu können. Dieser=Kachteil lässt sich durch den zweiten Elektrodenraster"15a,: 13b- mit Hilfe der Spannungsquellen U^ und U-r* vermeiden. ■between the electrode grid 18a, 18b and the mirror layer 26, so that another deformation is superimposed on the aforementioned pre-deformation of the two boundary surfaces of the mirror layer. The latter results in diffraction images of the illuminated bars 23 f , which fall laterally next to the bars and cause the projection screen to be illuminated at those points which correspond to the exposed parts of the photoelectrically conductive layer 17. Because of the pre-deformation of the mirror layer 26 described above, the centers of the useful diffraction images have a relatively large distance from the centers of the bars 23 ', which is why the objective 8 would have to have a large diameter in order to be able to fully capture the light of these diffraction images and transmit it to the projection screen . This = Kachteil can be through the second electrode grid "15a: 13b- avoid using the voltage sources U ^ and Ur * ■.
Die Wirkung des Elektrodenrasters 13a, 13b und der Spannungsquellen Bß- uffd Ilr ' auf die Spiegelschicht 26 stimmt mit der oben beschriebenen Wirkung des Elektrodenrasters 18a., 18b und der Spannungsquellen Um' und Uj- bei unbeliebtster lichtelektrisch leitender Schicht 1? grundsätzlich überein. Die Lage des zweiten Elektrodenrasters 13a, 13b wird derart gewählt und das Verhältnis der-Amplituden der ;Weehseispannungen der Quellen IL- und U,- ' derart eingestellt,- dasS"-du#e1ii--dl;e';ie?iiektrostatasche Feldkräfte— wirkung ■dasi.Elfekt'Töden-Fasiiers- 13a;' :]t31d=· die vom andern Eljektrodenr-The effect of the electrode grid 13a, 13b and the voltage sources Bß- uffd Ilr 'on the mirror layer 26 agrees with the above-described effect of the electrode grid 18a., 18b and the voltage sources Um' and Uj- in the case of the most unpopular photoelectrically conductive layer 1? basically agree. The position of the second electrode grid 13a, 13b is selected in such a way and the ratio of the amplitudes of the ; Weehseisspannungen the sources IL- and U, - 'set such, - dasS "-du # e 1 ii - dl; e'; i e ? Iiektrostatasche field forces - effect ■ dasi.Elfekt'Töden-Fasiiers- 13a; ' : ] t31d = · the from the other Eljektrodenr-
0 09843/15^-0 09843/15 ^ -
BAD ORIGINALBATH ORIGINAL
raster 18a, 18b hervorgerufene Vordeformation der Spiegel- schicht 26 möglichst gut kompensiert vird. Abgesehen von der verbleibenden Restdeformation, die sich nicht kompensieren lässt, wird dann die Spiegelschicht 26 im wesentlichen nur noch durch die Feldänderungen deformiert, welche durch die; Belichtung der lichtelektrisch leitenden Schiebt.-17 hervorgerufen werden. Die Zentren der dabei entstehenden, neben die Barren 23' fallenden Beugungsbilder der beleuchteten Flächen (| der Barren liegen dann in geringerer Entfernung von den Zentren der Barren als im Falle des Vorhandenseins einer Vordeformation der Spiegelscbicht 26. Die peffnung des Objektives 8 braucht dann nicht mehr so gross zu sein, um das Licht der lichtstarken Beugungsbilder erfassen und auf den Projektionsschirm werfen zu können, weshalb ein preisgünstigeres Objektiv ausreicht. ' , ■ raster 18a, 18b caused pre-deformation of the mirror layer 26 is compensated as well as possible. Apart from the remaining deformation that does not compensate for each other leaves, then the mirror layer 26 is essentially only still deformed by the field changes caused by the; Exposure of the photoelectrically conductive Schiebt.-17 are caused. The centers of the resulting, next to the Bars 23 'falling diffraction patterns of the illuminated surfaces (| the bars are then at a shorter distance from the centers the ingot than in the case of the presence of a pre-deformation the mirror layer 26. The opening of the lens 8 doesn’t need to be so big to get the light of the capture high-intensity diffraction images and display them on the projection screen to be able to throw, which is why a cheaper lens is sufficient. ', ■
Es ist vielleicht, nützlich zu erwähnen, dass die beiden Spannungsquellen IL- und Uj.1 deshalb Wechselspannungsquellen | sind, weil die Spiegelschicht 26 durch eine Flüssigkeit gebildet ist, die nur zeitlich veränderliche Deformationen der Grenzfläche I in Steuerabhängigkeit von der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 auch an der gegenüberliegenden Grenzflache II Punkt für Punkt reproduziert. Die Spiegelschicht muss also dauernd in pulsierender Bewegung gehalten werden. Die Helligkeiteintensität der beleuchteten Stellen auf dem Projektions-8chirm ändert eich periodisch zwischen null und einem Höchst- It is perhaps useful to mention that the two voltage sources IL- and Uj. 1 therefore AC voltage sources | because the mirror layer 26 is formed by a liquid which reproduces only time-variable deformations of the interface I in a control- dependent manner from the photoelectrically conductive layer 17 also at the opposite interface II point by point. The mirror layer must therefore be kept in pulsing motion all the time. The brightness intensity of the illuminated areas on the projection screen changes periodically between zero and a maximum
BAD ORIQfWL
009943/TiW BAD ORIQfWL
009943 / TiW
wert im Rhythmus der Bewegung der Fläche II. Wenn dieser Rhythmus schnell genug ist· und z.B. 20 Wechsel in der Sekunde übersteigt, kann das menschliche Auge wegen der Trägheit der Netzhaut keine Schwankungen der Intensität des verstärkten Bildes auf dem Projektionsschirm wahrnehmen. Weitere Einzelheiten eines ähnlichen Lichtsteuerorgans mit einer flüssigen Splegelschicht können der eingangs erwähnten deutschen Patentanmeldung G 44.070 entnommen werden.worth in the rhythm of the movement of the surface II. If this The rhythm is fast enough and e.g. 20 changes per second exceeds the human eye because of the inertia of the Retina no fluctuations in the intensity of the amplified Perceive the image on the screen. More details of a similar light control organ with a liquid one Leveling layer can be found in the German patent application mentioned at the beginning G 44.070 can be taken.
BAt> ORIGINAL
009843/1549BAt> ORIGINAL
009843/1549
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BAD ÖäfGfNAL
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116095281A (en) * | 2021-11-08 | 2023-05-09 | 中强光电股份有限公司 | Projection device and projection method thereof |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3704936A (en) * | 1970-03-09 | 1972-12-05 | Rca Corp | Achromatic depth-of-field correction for off-axis optical system |
DE3062778D1 (en) * | 1979-11-08 | 1983-05-19 | Gretag Ag | Optical image intensifier |
US4396246A (en) * | 1980-10-02 | 1983-08-02 | Xerox Corporation | Integrated electro-optic wave guide modulator |
US4779963A (en) * | 1986-05-30 | 1988-10-25 | Gretag Aktiengesellschaft | Optical image amplifier apparatus |
JPH02301716A (en) * | 1989-05-16 | 1990-12-13 | Victor Co Of Japan Ltd | Light/light converting method and its display device |
US7042610B1 (en) * | 2003-02-20 | 2006-05-09 | Lightmaster Systems, Inc. | Method and apparatus for improved waveplates and suppression of stray light in LCoS kernel applications |
JP2005525604A (en) * | 2002-09-06 | 2005-08-25 | フォトニックス アーエス | Method and device for variable optical attenuator |
NO20033940D0 (en) * | 2003-09-05 | 2003-09-05 | Photonyx As | Method and apparatus for reducing polarization dependent effects in a controllable optical component |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3137762A (en) * | 1960-06-30 | 1964-06-16 | Foerderung Forschung Gmbh | Arrangement for amplifying the brightness of an optically formed image |
-
1967
- 1967-03-17 CH CH406867A patent/CH454296A/en unknown
- 1967-04-12 AT AT344967A patent/AT266936B/en active
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- 1968-03-12 FR FR1562316D patent/FR1562316A/fr not_active Expired
- 1968-03-15 BE BE712262D patent/BE712262A/xx unknown
- 1968-03-15 SE SE03416/68A patent/SE327214B/xx unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116095281A (en) * | 2021-11-08 | 2023-05-09 | 中强光电股份有限公司 | Projection device and projection method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1622117B2 (en) | 1971-05-27 |
CH454296A (en) | 1968-04-15 |
NL6801737A (en) | 1968-09-18 |
FR1562316A (en) | 1969-04-04 |
GB1173122A (en) | 1969-12-03 |
AT266936B (en) | 1968-12-10 |
SE327214B (en) | 1970-08-17 |
NL138909B (en) | 1973-05-15 |
US3527522A (en) | 1970-09-08 |
BE712262A (en) | 1968-07-15 |
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