DE1622117C

DE1622117C - Device for amplifying the intensity of an optically generated image

Info

Publication number: DE1622117C
Authority: DE
Inventors: Willy Dr. Zürich Baumgartner (Schweiz)
Original assignee: Gesellschaft zur Förderung de Forschung an der Eidgenössischen Technischen Hochschule, Zürich (Schweiz)
Publication date: 1971-12-30

Description

Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Verstärkung der Intensität eines optisch erzeugten Bildes, bei welcher mindestens eine von einer Lichtquelle beleuchtete Zone auf einem zugeordneten Blendenstreifen durch Reflexion an einer spiegelnden Fläche optisch abgebildet wird, welche an einer deformierbaren Schicht vorhanden und zusammen mit dieser durch elektrostatische Feldkräfte deformierbar ist, mit einer lichtelektrisch leitenden Schicht, auf welche das zu verstärkende Bild in gerasteter Form abgebildet wird und die ein die Deformation der spiegelnden Fläche hervorrufendes elektrostatisches Feld beeinllußt, mit einem optischen System zur Beobachtung der spiegelnden Fläche an den Kanten des Blendenstreifens vorbei, mit einem der lichtelektrisch leitenden Schicht beigeordneten Elektrodenraster, der eine Schar von in Abständen nebeneinander verlaufenden, elektrisch leitenden Streifen aufweist, deren Längskanten orthogonal zu den Längskanten des Blendenstreifens verlaufen und die in wechselnder Folge an den einen und den anderen Pol einer elektrischen Spannungsquelte angeschlossen sind, und mit einem zusätzlichen Raster, welcher der lichtelektrisch leitenden Schicht vorgesetzt ist und zumindest für bestimmte Lichtfrequenzen undurchlässige Partien aufweist, deren geometrische Konfiguration und Anordnung von derjenigen der Streifen des Elektrodenrasters verschieden sind.The invention relates to a device for amplifying the intensity of an optically generated image, in which at least one zone illuminated by a light source on an associated diaphragm strip is optically imaged by reflection on a reflective surface, which on a deformable Layer is present and can be deformed together with it by electrostatic field forces, with a photoelectrically conductive layer on which the image to be intensified is imaged in a rasterized form and which influences an electrostatic field causing the deformation of the reflecting surface, with an optical system for observing the reflective surface at the edges of the Aperture strip over, with an electrode grid associated with the photoelectrically conductive layer, the has a group of spaced apart, electrically conductive strips, the longitudinal edges of which run orthogonally to the longitudinal edges of the diaphragm strip and which alternate Sequence are connected to one and the other pole of an electrical voltage source, and with an additional grid which is placed in front of the photoelectrically conductive layer and at least for certain light frequencies has impermeable parts, the geometric configuration of which and arrangement are different from that of the strips of the electrode grid.

Dem gleichen Zweck dienende Einrichtungen sind bereits bekannt und beispielsweise in den deutschen Patentschriften 934 313, 1020 129 und 1114 043 beschrieben. Eine weitere Einrichtung dieser Gattung ist auch in der deutschen Patentanmeldung P 14 89 926.4 vorgeschlagen worden.Facilities serving the same purpose are already known and, for example, in the German ones Patents 934 313, 1020 129 and 1114 043 described. Another facility of this type is also in the German patent application P 14 89 926.4 has been proposed.

Wie die erwähnten früheren Einrichtungen weist auch die Einrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung mindestens eine von einer Lichtquelle beleuchtete Zone auf, die auf einem zugeordneten .Blendenstreifen durch Reflexion an einer spiegelnden Fläche optisch abgebildet wird, welche an einer deformierbaren Schicht vorhanden und zusammen mit dieser durch elektrostatische Feldkräfte deformierbar ist. Das zu verstärkende Bild wird in gerasterter Form auf einer lichtelektrisch leitenden Schicht abgebildet, welche ein die Deformation der spiegelnden Fläche hervorrufendes elektrostatisches Feld beeinflußt. Ferner ist ein optisches System vorhanden zur Beobachtung der spiegelnden Fläche an den Kanten des Blendenstreifens vorbei bzw. zwischen den Blendenstreifen hindurch, falls deren mehrere vorhanden sind. Zweckmäßig wird die spiegelnde Fläche auf einem Projektionsschirm abgebildet, auf welchem dann ein dem zu verstärkenden Bild entsprechendes Bild größerer Helligkeit wahrnehmbar ist. Like the earlier devices mentioned, the device according to the present invention at least one area illuminated by a light source, which is on an associated . Aperture strip is optically imaged by reflection on a reflective surface, which on a Deformable layer present and together with this deformable by electrostatic field forces is. The image to be intensified is rasterized on a photoelectrically conductive Layer shown, which is the deformation of the reflecting surface causing electrostatic Field affected. There is also an optical system for observing the reflective surface past the edges of the visor strip or between the visor strips, if there are several available. The reflective surface is expediently imaged on a projection screen which then an image of greater brightness corresponding to the image to be intensified can be perceived.

Durch die deutsche Patentschrift 1114 043 ist es bei einer Einrichtung der genannten Art bekanntgeworden, der lichtelektrisch leitenden Schicht einen Elektrodcnraster beizuordnen, der eine Schar von in Abständen nebeneinander verlaufenden, elektrisch leitenden Streifen aufweist, deren Längskanteu orthogonal zu den Längskanten des Blendenstreifens verlaufen, und die in wechselnder Folge an den einen und den anderen l'ol einer elektrischen Spannungsquelle angeschlossen sind. Ferner ist bei dieser bekannten Ausbildung der lichtelektrisch leitenden Schicht ein zusätzlicher Raster vorgesetzt, der zumindest für bestimmte Lichtfrequcnzun undurchlässige Partien aufweist, deren geometrische Konfiguration und Anordnung von derjenigen der Streifen des Elektrodenrasters verschieden sind.By the German patent specification 1114 043 is it has become known in a device of the type mentioned, the photoelectrically conductive layer To be assigned to the electrical grid, which is a group of spaced apart, electrically having conductive strips, the longitudinal edge of which is orthogonal run to the longitudinal edges of the diaphragm strip, and in alternating order to the one and the other l'ol of an electrical voltage source are connected. Furthermore, in this known design, the photoelectrically conductive Layer an additional grid is placed in front of it, which is impermeable to at least certain light frequencies Has parts whose geometrical configuration and arrangement differ from that of the strips of the electrode grid are different.

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Weiterbildung der zuletzt genannten Einrichtung. Es liegt dabei die Aufgabe zugrunde, die Anforderungen zu mildern, die an ein optisches Abbildungsorgan als eines der Mittel zur Beobachtung der spiegelnden Fläche gestellt werden müssen.The present invention relates to a further development of the device mentioned last. It is based on the task of mitigating the requirements placed on an optical imaging member as one of the means of observing the reflective surface must be provided.

Zum besseren Verständnis der Bedeutung der vorliegenden Erfindung wird zunächst eine bekannte Ausführung unter Bezugnahme auf die Fig. I bis 4 der Zeichnungen beschrieben.For a better understanding of the meaning of the present invention, a known one will first be mentioned Implementation with reference to FIGS of the drawings.

Fig. 1 zeigt schematisch in perspektivischer Darstellung die Gesamtanordnung einer bekannten Einrichtung zur Verstärkung eines optisch erzeugten Bildes;Fig. 1 shows schematically in a perspective view the overall arrangement of a known device for amplifying an optically generated Image;

F i g. 2 veranschaulicht ein Lichtsteuerorgan der Einrichtung nach Fig. 1 in größerem Maßstab und der Deutlichkeit wegen in teilweise voneinander getrennter Anordnung seiner Bestandteile;F i g. Fig. 2 illustrates a light control member of the device of Fig. 1 on a larger scale and for the sake of clarity in partially separated arrangement of its components;

Fig. 3 stellt einen Barren der zweiten Schlierenblende und die im Betrieb der Einrichtung auftretenden Beugungsbilder einer Öffnung der ersten Schlierenblende dar;Fig. 3 shows an ingot of the second Schlieren diaphragm and those occurring during operation of the device Represents diffraction images of an opening of the first Schlieren diaphragm;

Fig. 4 ist eine zu Fig. 3 analoge Darstellung, welche den Nachteil der bekannten Einrichtung veranschaulicht, der durch die Erfindung behoben werden soll.FIG. 4 is a representation analogous to FIG. 3, which illustrates the disadvantage of the known device, which is to be remedied by the invention.

Gemäß F i g. 1 wird das von einer Lichtquelle 1 ausgehende intensive· Licht durch einen Kondensor 2 gebündelt und auf eine erste Schlierenblende 3 gerichtet. Zur Vereinfachung der nachfolgenden Diskussion ist sie als einfache Lochblende mit einer kreisförmigen Öffnung β von beispielsweise etwa I mm Durchmesser gedacht. Eine Linse 4 erzeugt im Unendlichen ein Bild der beleuchteten Öffnung β der Blende 3. Nach einer Spiegelung in einem Lichtsteuerorgan 5, das weiter unten mit Bezugnahme auf F i g. 2 erläutert wird, durchlaufen die Lichtstrahlen eine Linse 6, die zusammen mit der Linse 4 ein Bild β' der Öffnung β in der Ebene einer zweiten Schlierenblende 7 erzeugt. . Letztere weist einen lichtundurchlässigen Barren T auf, welcher derart angeordnet ist, daß das kreisscheibenförmige Bild β' der Blendenöffnung β genau auf ihn zu liegen kommt. Ein Objektiv 8 bildet eine im Lichtsteuerorgan 5 enthaltene, unten näher beschriebene, totalreflektierende Ebene ABCD (Fig. 2) auf einem in Richtung des Pfeiles P liegenden, nicht gezeichneten Projektionsschirm ab.According to FIG. 1, the intense light emanating from a light source 1 is bundled by a condenser 2 and directed onto a first Schlieren diaphragm 3. To simplify the following discussion, it is intended as a simple pinhole diaphragm with a circular opening β of, for example, about 1 mm in diameter. A lens 4 creates an image of the illuminated opening β of the diaphragm 3 at infinity. After a reflection in a light control element 5, which is described below with reference to FIG. 2, the light rays pass through a lens 6 which, together with the lens 4, generates an image β ′ of the opening β in the plane of a second Schlieren diaphragm 7. . The latter has an opaque bar T which is arranged in such a way that the circular disk-shaped image β 'of the diaphragm opening β comes to lie precisely on it. An objective 8 images a totally reflecting plane ABCD (FIG. 2) contained in the light control element 5 and described in more detail below on a projection screen (not shown) lying in the direction of the arrow P.

Ein Umlenkspiegel 9 und ein Objektiv 10 leiten ein von einem nicht gezeichneten Objekt in Richtung des Pfeiles O einfallendes Lichtbündel auf eine Schicht mit lichtelektrischer Leitfähigkeit. Letztere ist ebenfalls Bestandteil des Lichtsteuerorgans 5. Das Objektiv 10 ist so angeordnet, daß auf der genannten Schicht ein scharfes Bild des erwähnten Objektes erzeugt, das ein Diapositiv, ein Film, ein beleuchteter Gegenstand usw. sein kann. A deflection mirror 9 and an objective 10 guide a light beam incident from an object (not shown) in the direction of the arrow O onto a layer with photoelectric conductivity. The latter is also part of the light control element 5. The objective 10 is arranged in such a way that a sharp image of the object mentioned, which can be a slide, a film, an illuminated object, etc., is produced on the layer mentioned.

Das Lichtsteuerorgan 5 weist ein gleichschenkliges Glasprisma 11 mit einem Kantenwinkel von 90° auf. Das von der Linse 4 herkommende Licht fällt auf eine — in Fig. 2 vordere — Kathetenfläche senkrecht auf und durchsetzt das Prisma 11 sowie eine Glasplatte 12. Letztere ist auf die Basislläche des Prisma Il rellexionsfrei aufgekittet. Auf die Glasplatte 12 ist eine elektrisch leitende, lichtdurchlässigeThe light control element 5 has an isosceles glass prism 11 with an edge angle of 90 °. The light coming from the lens 4 falls perpendicularly onto a cathetus surface - the front in FIG. 2 on and penetrates the prism 11 and a glass plate 12. The latter is on the base surface of the Prism is cemented on without any reflection. On the glass plate 12 is an electrically conductive, translucent

Schicht 13 (ζ. B. aus Zinndioxyd) aufgetragen. Auf dieser als Elektrode dienenden Schicht 13 ruht eine Schicht 14 eines weichen Mediums (z. B. Silikongummi). Unter Belastung eines Luftspaltes 15 von z. B. 50 μ Breite ist gegenüber der Schicht 14 ein Element 16 angeordnet, das weiter unten an Hand von F i g. 2 beschrieben wird. Das von der Linse 4 herkommende Lichtbündel durchläuft nach der Glasplatte 12 auch die Schichten 13 und 14, wonach es an der durch die Buchstaben A B C D bezeichneten, optisch ebenen, freien Oberfläche der Schicht .14 zufolge des Einfallwinkels von 45° total reflektiert wird. Nach erneutem Durchtritt durch die Schichten 14 und 13, die Glasplatte 12 und das Prisma 11 läuft das Lichtbündel zur Linse 6 weiter.Layer 13 (ζ. B. made of tin dioxide) applied. A layer 14 of a soft medium (e.g. silicone rubber) rests on this layer 13, which serves as an electrode. Under load of an air gap 15 of z. B. 50 μ width, an element 16 is arranged opposite the layer 14, which is shown below with reference to FIG. 2 will be described. The light beam coming from the lens 4 also passes through the layers 13 and 14 after the glass plate 12, after which it is totally reflected on the optically flat, free surface of the layer 14 indicated by the letters ABCD due to the angle of incidence of 45 °. After passing through the layers 14 and 13, the glass plate 12 and the prism 11 again, the light beam continues to the lens 6.

In F i g. 2 ist das Element 16 in seinen Einzelheiten ersichtlich. Die verschiedenen Bestandteile 17 bis 21 sind der Deutlichkeit halber teilweise in getrennter Anordnung gezeichnet, obwohl sie in Wirklichkeit fest miteinander verbunden sind. Das Element 16 weist eine Schicht 17 von etwa 1 μ Dicke auf, die aus einer lichtelektrisch leitenden Substanz besteht, wie z. B. Antimonsulfid. Ein Elektrodenraster, der aus zwei in wechselnder Folge ineinandergreifenden, kammartigen Gittern 18 α und 18 b besteht, ist auf einem plattenförmigen Träger 19 angeordnet, der aus isolierendem und durchsichtigem Material (Glas, Quarz) gefertigt ist und eine Dicke von 100 bis 200 μ hat. Die Gitter 18 a und 186 weisen eine Schar parallel verlaufender, elektrisch leitender Streifen auf und sind beispielsweise aus Aluminium durch Vakuumverdampfung hergestellt. Die Gitter 18 a und 18 b sind in leitendem Kontakt mit der lichtelektrisch leitenden Schicht 17. Schließlich folgt ein optisch wirksamer Linienraster 20, der aus einer Reihe äquidistanter, lichtundurchlässiger und dünner Metallstreifen zusammengesetzt und auf einer durchsichtigen Trägerplatte 21 angebracht ist. Wichtig ist, daß die Längsrichtung der Streifen der Gitter 18 a und 18 b senkrecht zur Längsachse des Barrens T steht. Die Längsrichtung der Streifen des Linienrasters 20 schließlich ist gegen diejenige der Streifen der Gitter 18 α und 18 b um 45° gedreht. Die beiden Gitter 18 α und 18 b sowie der Raster 20 sind stark vergröbert gezeichnet und haben in Wirklichkeit eine Periode von z. B. 200 μ. Die Gitter 18 a und 18 b werden an die beiden Pole einer elektrischen Spannungsquelle U_T, etwa eine Batterie, angeschlossen. Eine zweite Spannungsquelle U_L ist zwischen der elektrisch leitenden Schicht 13 und dem einen Elektrodengitter 18 b eingeschaltet. Die Spannungen der Quelle U_T und U_L mögen z. B. 100 Volt betragen. In Fig. 2 shows the element 16 in its details. For the sake of clarity, the various components 17 to 21 are partially drawn in a separate arrangement, although in reality they are firmly connected to one another. The element 16 has a layer 17 of about 1 μ thickness, which consists of a photoelectrically conductive substance, such as. B. Antimony sulfide. An electrode grid, which consists of two comb-like grids 18 α and 18 b interlocking in alternating order, is arranged on a plate-shaped carrier 19 made of insulating and transparent material (glass, quartz) and has a thickness of 100 to 200 μ . The grids 18 a and 186 have a group of parallel, electrically conductive strips and are made, for example, of aluminum by vacuum evaporation. The grids 18 a and 18 b are in conductive contact with the photoelectrically conductive layer 17. Finally, there follows an optically effective line grid 20, which is composed of a series of equidistant, opaque and thin metal strips and is attached to a transparent carrier plate 21. It is important that the longitudinal direction of the strips of the grids 18 a and 18 b is perpendicular to the longitudinal axis of the bar T. Finally, the longitudinal direction of the strips of the line grid 20 is rotated by 45 ° with respect to that of the strips of the grids 18 α and 18 b. The two grids 18 α and 18 b and the grid 20 are drawn greatly coarsened and in reality have a period of z. B. 200 µ. The grids 18 a and 18 b are connected to the two poles of an electrical voltage source U _T , such as a battery. A second voltage source U _L is connected between the electrically conductive layer 13 and the one electrode grid 18b. The voltages of the source U _T and U _L like z. B. 100 volts.

Wie nun in der deutschen Patentschrift 1114 043 geschildert wurde, erzeugt die Spannungsquelle U_T im Spalt 15 ein elektrisches Feld, dessen Stärke in Richtung parallel zur Fläche ABCD und senkrecht zur Längsrichtung der Streifen der Gitter 18 a und 18 b periodisch variiert, was durch elektrostatische Kraftwirkung eine wellenförmige Deformation, im folgenden Vordeformation genannt, der Oberfläche ABCD hervorruft. Die Wellenkämme dieser Vordeformation liegen parallel zur Längsrichtung der Streifen der Gitter 18 a und 18 b. Die zusätzliche Verwendung der Spannungsquelle U₁ verstärkt die Vordeformation, ohne aber ihre Periodizität und Orientierung zu beeinflussen.As has now been described in German patent specification 1114 043, the voltage source U _T generates an electric field in the gap 15, the strength of which varies periodically in the direction parallel to the surface ABCD and perpendicular to the longitudinal direction of the strips of the grids 18 a and 18 b , which is caused by electrostatic The effect of force is a wave-like deformation, referred to below as pre-deformation, of the surface ABCD . The wave crests of this pre-deformation are parallel to the longitudinal direction of the strips of the grids 18 a and 18 b. The additional use of the voltage source U ₁ increases the pre-deformation, but without influencing its periodicity and orientation.

Die derart deformierte Fläche ABCD stellt ein wegen der erwähnten Totalreflexion spiegelndes Beugungsgitter dar. Somit erscheinen in der Ebene der Schlierenblende 7 außerdem bei ebener Fläche ABCD allein vorhandenen Kreisscheiben-Bild ß' noch deren weitere Bilder ß" von gleicher Größe, aber verschiedener Helligkeit. Ihre Zentren liegen alle auf einer Geraden, die senkrecht zur Längsrichtung der Streifen der Gitter 18 α und 18 & orientiert ist und mit der Längsachse des Barrens T zusammenfällt (vgl. Fig. 1). Da der Barren 7' somit nicht nur das ursprüngliche Bild ß', sondern auch alle neu dazugekommenen Beugungsbilder ß" auffängt, gelangt kein Licht durch das Objektiv 8 und gemäß dem Pfeil P zum Projektionsschirm. Die vordeformierte Fläche A B CD bleibt also auf dem Projektionsschirm unsichtbar.The thus deformed surface ABCD is a glossy, owing to such total reflection diffraction grating. Thus, also appear in the plane of the Schlieren stop 7 at a level surface ABCD alone existing circular disk image ß 'nor its more pictures ß "of the same size, but of different brightness. Your centers all lie on a straight line α perpendicular to the longitudinal direction of the strips of the grating 18 and is oriented 18 & and with the longitudinal axis of the billet T coincides (see. Fig. 1). Since the bars 7 'thus not only ß the original image ', but also all newly added diffraction images ß " picks up, no light passes through the objective 8 and according to the arrow P to the projection screen. The pre-deformed surface AB CD thus remains invisible on the projection screen.

Anders liegen die Verhältnisse, wenn ein Lichtbündel in Richtung des Pfeiles O einfällt. Wie in der deutschen Patentschrift 1114 043 geschildert wurde, tritt dann zusätzlich zu der soeben beschriebenen Vordeformation der FlächetSCD eine weitere Deformation hinzu, deren Wellenkämme nicht mit der Längsrichtung der Streifen der Gitter 18 a und 186 zusammenfallen. Die Überlagerung beider Deformationen ergibt ein schiefwinkliges, gewebeartiges Muster. Sie zeigt sich in denjenigen Teilgebieten der Fläche ABCD, die belichteten Teilgebieten der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 gegenüberliegen. Hingegen weisen solche Partien der Fläche ABCD, die unbelichteten Partien der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 zugeordnet sind, nach wie vor nur die Vordeformation auf.The situation is different if a light beam is incident in the direction of arrow O. As described in German Patent 1114 043, in addition to the just described pre-deformation of the surface SCD, a further deformation occurs, the crests of which do not coincide with the longitudinal direction of the strips of the grids 18 a and 186. The superposition of both deformations results in an oblique, fabric-like pattern. It is shown in those sub-areas of the area ABCD which are opposite the exposed sub-areas of the photoelectrically conductive layer 17. In contrast, those parts of the area ABCD which are assigned to unexposed parts of the photoelectrically conductive layer 17 still only have the pre-deformation.

Die derart zweifach deformierte Oberfläche ABCD die einem schiefwinkligen, reflektierenden Kreuzgitter gleicht, ändert nun die Verteilung der Beugungsbilder in der Ebene der Schlierenblende 7 in zweierlei Hinsicht: Einerseits treten neue Beugungsbilder ß"' beidseitig des Barrens 7' auf (vgl. F i g. 3, welche die Verhältnisse in der Ebene der Schlierenblende 7 darstellt), andererseits wird die Helligkeit der schon bei der Vordeformation vorhandenen Bilder ß' und ß" reduziert, da sich das Licht, z. B. auf die neu hinzugekommenen Beugungsbilder ß'" verlagert. Da das Licht der beidseitig des Barrens T erscheinenden Beugungsbilder ß'" nun ohne durch den Barren gehindert zu werden, zum Objektiv 8 laufen kann, werden diejenigen Teile der Oberfläche ABCD, die das Kreuzgittermuster zeigen, d. h. belichteten Teilen der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 gegenüberliegen, auf dem Projektionsschirm ebenfalls als helle Flächen erscheinen.The surface ABCD, which has been deformed twice in this way and resembles an oblique, reflective cross grating, now changes the distribution of the diffraction images in the plane of the Schlieren diaphragm 7 in two respects: On the one hand, new diffraction images occur on both sides of the bar 7 '(cf.F i g. 3, which shows the relationships in the plane of the Schlieren diaphragm 7), on the other hand, the brightness of the images ß ' and ß " already present in the pre-deformation is reduced because the light, e.g. B. shifted to the newly added diffraction images ß '" . Since the light of the diffraction images ß'" appearing on both sides of the bar T can now travel to the objective 8 without being hindered by the bar, those parts of the surface ABCD that have the cross grating pattern show, ie opposite exposed parts of the photoelectrically conductive layer 17, also appear as bright areas on the projection screen.

Der Anstoß zu der vorliegenden Erfindung liegt nun in folgender Schwierigkeit:The impetus for the present invention lies in the following difficulty:

Hat das gemäß dem Pfeil O einfallende Lichtsignal relativ geringe Intensität, so wird man dennoch ein helles Bild auf dem Projektionsschirm zu erhalten suchen; das gelingt, falls die Spannungen U_T und U_L genügend groß gemacht werden. Dabei ergibt sich aber nach Rechnung und Experiment eine derart starke Vordeformation der Schicht 14, daß gerade die lichtstärksten Beugungsbilder ß" und ß'" einen erheblichen Abstand (z. B. 5 cm) vom ungebeugten Blendenbild ß' aufweisen. Das veranschaulicht Fig. 4, in welcher im Vergleich zu Fig. 3 die ZoneIf the light signal incident according to the arrow O has a relatively low intensity, one will nevertheless try to obtain a bright image on the projection screen; this succeeds if the voltages U _T and U _{L are made} sufficiently large. However, according to calculations and experiments, the result is such a strong pre-deformation of the layer 14 that the very brightest diffraction images β " and β '" are at a considerable distance (e.g. 5 cm) from the undiffracted diaphragm image β' . This is illustrated in FIG. 4, in which, compared to FIG. 3, the zone

6s großer Helligkeit in die weiter vom zentralen Bild ß' abliegenden Beugungsbilder ß", ß'" verlagert ist. Einige der Beugungsbilder ß", ß'" liegen bereits außerhalb der Öffnung des Objektives 8. Wenn die-6s of high brightness into the diffraction images ß ", ß '" which are further away from the central image ß' . Some of the diffraction patterns ß ", ß '" are already outside the opening of the objective 8. If the-

ses Licht für das Bild auf dem Projektionsschirm ebenfalls ausgenutzt werden soll, muß also das Objektiv 8 einen erheblich größeren Durchmesser haben, wodurch der optische Aufwand sehr kostspielig werden kann. Die vorliegende Erfindimg erlaubt nun, das Auseinanderstreben der lichtstarken Beugungsbilder durch alleinige Reduktion der Vordeformation zu vermindern und ein Objektiv 8 kleinerer Öffnung zu verwenden, ohne dabei die Helligkeit des Bildes auf dem Projektionsschirm wesentlich herabzusetzen.This light should also be used for the image on the projection screen, so the lens must 8 have a considerably larger diameter, which makes the optical complexity very expensive can be. The present invention allows Well, the divergence of the bright diffraction images through the sole reduction of the pre-deformation to reduce and to use a lens 8 smaller aperture without reducing the brightness of the image on the projection screen.

Die Einrichtung gemäß der Erfindung weist die eingangs erwähnten konstruktiven Merkmale der bekannten Einrichtungen zur Verstärkung der Intensität eines optisch erzeugten Bildes ebenfalls auf. In bekannter Weise ist der lichtelektrisch leitenden Schicht ein Elektrodenraster beigeordnet, der eine Schar von in Abständen nebeneinander verlaufenden, elektrisch leitenden Streifen aufweist, deren Längskanten orthogonal zu den Längskanten des Blenden-Streifens verlaufen und die in wechselnder Folge an den einen und den anderen Pol einer elektrischen Spannungsgquelle angeschlossen sind. Der lichtelektrisch leitenden Schicht ist ferner ein zusätzlicher Raster vorgesetzt, welcher zumindest für bestimmte Lichtfrequenzen undurchlässige Partien aufweist, deren geometrische Konfiguration und Anordnung von derjenigen der Streifen des Elektrodenrasters verschieden ist. .The device according to the invention has the aforementioned structural features of the known Means for amplifying the intensity of an optically generated image also on. In As is known, the photoelectrically conductive layer is associated with an electrode grid that has a Has array of spaced apart, electrically conductive strips, the longitudinal edges of which run orthogonally to the longitudinal edges of the diaphragm strip and in alternating sequence one and the other pole of an electrical voltage source are connected. The photoelectric conductive layer, an additional grid is provided, which at least for certain Has light frequencies impermeable parts, their geometric configuration and arrangement is different from that of the strips of the electrode grid. .

Das Neue gemäß der Erfindung besteht im wesentlichen darin, daß ein zweiter Elektrodenraster mit einer Schar von in Abständen nebeneinander angeordneten, elektrisch leitenden Streifen vorhanden ist, deren Anzahl, Länge, Orientierung und gegenseitigen Abstände ihrer Längsmittellinien gleich wie beim erstgenannten Elektrodenraster sind und die ebenfalls in wechselnder Folge an den einen und den anderen Pol einer zweiten Spannungsquelle angeschlossen sind, und daß der zweite Elektrodenraster in einem Abstand von der spiegelnden Fläche derart angeordnet ist, daß er durch die Wirkung elektrostatischer Feldkräfte die vom ersten Elektrodenrastet hervorgerufene Vordeformation der spiegelnden Fläche zumindest annähernd kompensiert.The novelty according to the invention consists essentially in the fact that a second electrode grid with a group of spaced apart electrically conductive strips is present, whose number, length, orientation and mutual spacing of their longitudinal center lines are the same as are in the first-mentioned electrode grid and are also in alternating order at one and the other other pole of a second voltage source are connected, and that the second electrode grid is arranged at a distance from the reflecting surface in such a way that it becomes more electrostatic by the action Field forces the pre-deformation of the reflective one caused by the first electrode latching Area at least approximately compensated.

Weitere zweckmäßige Ausführungsformen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen, aus der nun folgenden Beschreibung und aus den zügehörigen Zeichnungen, welche in den F i g. 5 bis 7 rein beispielsweise und schematisch zwei verschiedene Ausführungsformen des Erfindungsgegenstandes veranschaulichen.Further useful embodiments of the invention emerge from the subclaims the following description and from the accompanying drawings which are shown in FIGS. 5 to 7 purely by way of example and schematically two different embodiments of the subject matter of the invention illustrate.

F i g. 5 zeigt perspektivisch und der Deutlichkeit wegen zum Teil auseinandergezogen die Bestandteile eines Lichtsteuerorgans, welches das in F i g. 2 gezeigte Lichtsteuerorgan der Einrichtung gemäß Fig. 1 ersetzen soll;F i g. 5 shows the components in perspective and partially exploded for the sake of clarity of a light control element, which the in F i g. 2 shown light control member of the device according to Fig. 1 is intended to replace;

F i g. 6 stellt schematisch die Gesamtanordnung eines zweiten Ausführungsbeispieles der Einrichtung zur Verstärkung der Intensität eines optisch erzeugten Bildes dar;F i g. Fig. 6 schematically shows the overall arrangement of a second embodiment of the device for enhancing the intensity of an optically generated image;

F i g. 7 veranschaulicht in größerem Maßstab das Lichtsteuerorgan der Einrichtung nach F i g. 6.F i g. 7 illustrates, on a larger scale, the light control element of the device according to FIG. 6th

Das in F i g. 5 dargestellte Lichtsteuerorgan 5 α ist hinsichtlich der Teile 11, 12, 14 und 17 bis 21 sowie des Spaltes 15 genau gleich ausgebildet wie die oben beschriebene bekannte Ausführung gemäß F i g. 1 und 2. Es sind jedoch die folgenden Unterschiede wesentlich: An Stelle der elektrisch leitenden Elektrodenschicht 13 der bekannten Ausführung ist ein zweiter Elektrodenraster vorhanden, der aus zwei kammförmigen, ineinandergreifenden Elektrodengittern 13 α und 13 b besteht, die auf der durchsichtigen, elektrisch isolierenden Platte 12 angeordnet sind. Der Elektrodenraster 13 a, 13 b weist eine Schar von in Abständen nebeneinander angeordneten, elektrisch leitenden Streifen auf, die abwechslungsweise dem einen und dem anderen kammförmigen Gitter 13 α und 13 b angehören. Die Orientierung, d. h. die Längsrichtung der Streifen des Elektrodenrasters 13 ä, 13 b ist gleich wie beim Elektrodenraster 18 a, 18 b. Ferner stimmen die Anzahl und die Länge der Streifen, wie auch die gegenseitigen Abstände der Längsmittellinien der Streifen beider Elektrodenraster 13 a, 13 b und 18 a, 18 b genau überein. Die zwei Gitter 13 α und 13 b sind beispiels- , weise durch Vakuumverdampfung von Aluminium ι erzeugt und an den einen und den andern Pol einer |The in Fig. 5 shown light control member 5 α is formed exactly the same with regard to the parts 11, 12, 14 and 17 to 21 as well as the gap 15 as the above-described known embodiment according to FIG. 1 and 2. However, the following differences are essential: Instead of the electrically conductive electrode layer 13 of the known design, there is a second electrode grid, which consists of two comb-shaped, interlocking electrode grids 13 α and 13 b , which are on the transparent, electrically insulating plate 12 are arranged. The electrode grid 13 a, 13 b has a bevy of spaced apart electrically conductive strips which alternately belong to the one and the other comb-shaped grid 13 α and 13 b. The orientation, ie the longitudinal direction of the strips of the electrode grid 13 a, 13 b is the same as that of the electrode grid 18 a, 18 b. Furthermore, the number and length of the strips, as well as the mutual distances between the longitudinal center lines of the strips of the two electrode grids 13 a, 13 b and 18 a, 18 b exactly match. The two grids 13 α and 13 b are, for example, produced by vacuum evaporation of aluminum and one |

elektrischen Potentialquelle U_K, z. B. einer Batterie, i angeschlossen. Eines der Gitter 13 α und 13 b steht ■ auch mit dem einen Pol der Potentialquelle U₁ in Verbindung, deren anderer Pol an eines der Gitter % 18 a und 18 b angeschlossen ist.electrical potential source U _K , z. B. a battery, i connected. One of the grating is 13 α b and 13 ■ is also connected to the one pole of the source of potential U ₁ in conjunction, the other pole of one of the gratings 18% a and b connected 18th

Obwohl in F i g. 5 der Deutlichkeit wegen die weiche, deformierbare Schicht 14 in einigem Abstand von der Platte 12 und dem Elektrodenraster 13 a, Although in FIG. 5 for the sake of clarity, the soft, deformable layer 14 at some distance from the plate 12 and the electrode grid 13 a,

13 b dargestellt ist, befindet sie sich in Wirklichkeit in unmittelbarer Berührung mit dem Elektrodenraster 13 a, 13 b. Desgleichen ist die den Linienraster 20 tragende Platte 21 in Wirklichkeit unmittelbar mit der den Elektrodenraster 18 α, 18 b tragenden Platte 19 verbunden. Einzig zwischen der deformierbaren Schicht 14 und der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 ist ein Spalt 15 vorhanden, wie bei der bekannten Ausführung des Lichtsteuerorgans. Zwischen den beiden Elektrodenrastern 13 a, 13 b und 18 α, 18 b befinden sich also die deformierbare Schicht 14, der Spalt 15 und die lichtelektrisch leitende Schicht 17. Während der Elektrodenraster 18 a, 18Z) in direktem Kontakt mit der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 angeordnet ist und in dieser ein elektrisches Feld aufrecht erhält, ist der zweite Elektrodenraster 13 α, 13 b auf der von der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 abgewandten Seite der spiegelnden Fläche A B C D angeordnet. 13 b is shown, it is in reality in direct contact with the electrode grid 13 a, 13 b. Likewise, the plate 21 carrying the line grid 20 is in reality directly connected to the plate 19 carrying the electrode grid 18 α, 18 b. Only between the deformable layer 14 and the photoelectrically conductive layer 17 is there a gap 15, as in the known embodiment of the light control element. Α between the two electrode grids 13 a, 13 b and 18, 18 b are, therefore, the deformable layer 14, the gap 15 and the light-electrically conductive layer 17. While the electrode grid 18 a, 18Z) is in direct contact with the light electrically conductive layer 17 is arranged and maintains an electric field in this, the second electrode grid 13 α, 13 b is arranged on the side of the reflective surface ABCD facing away from the photoelectrically conductive layer 17.

Die Wirkungsweise des beschriebenen Lichtsteuerorgans, das in der Einrichtung gemäß F i g. 1 an Stelle des bekannten Organs 5 verwendet wird, ist wie folgt:The mode of operation of the light control element described, which is used in the device according to FIG. 1 at Place of the known organ 5 is used as follows:

Solange die Spannungsquellen U₇, U_L und U_K abgeschaltet sind, ist die freie, an den Spalt 15 angrenzende Oberfläche AB CD der deformierbaren SchichtAs long as the voltage sources U ₇ , U _L and U _{K are} switched off, the free surface AB CD adjoining the gap 15 is the deformable layer

14 eben. Wenn nur die beiden Spannungsquellen U₇ und Uι eingeschaltet sind, wird die Fläche ABCD wellenartig deformiert, wie das bei der Vordeformation in dem bekannten Lichtsteuerorgan der Fall ist und mit Bezug auf die F i g. 1 und 2 beschrieben wurde. Falls nur die Spannungsquelle U_K eingeschaltet ist, herrscht im Innern der Schicht 14 eine von dem Elektrodenraster 13 α, 13 b bestimmte elektrische Feldverteilung, die durch elektrostatische Feldkräftewirkung ebenfalls zu einer wellenartigen Deformation der vorher ebenen Fläche AB CD der Schicht 14 führt. Im allgemeinen ist diese Deformation von der obenerwähnten Vordeformation verschieden, was ihre Amplitude betrifft. Dagegen ist der Abstand zweier benachbarter Wellenberge, d. h. die Periode14 just. If only the two voltage sources U ₇ and Uι are switched on, the surface ABCD is deformed in a wave-like manner, as is the case with the pre-deformation in the known light control element and with reference to FIG. 1 and 2 has been described. If only the voltage source U _{K is} switched on, an electrical field distribution determined by the electrode grid 13 α, 13 b prevails in the interior of the layer 14, which also leads to a wave-like deformation of the previously flat surface AB CD of the layer 14 due to the effect of electrostatic field forces. In general, this deformation is different from the above-mentioned pre-deformation as regards its amplitude. In contrast, the distance between two neighboring wave crests, ie the period

der Deformation, gleich wie bei der Vordeformation, teilung und Intensität des auf die Schicht 17 gewas eine Folge der Übereinstimmung der gegenseiti- worfenen, zu verstärkenden Bildes wird durch die gen Abstände der Längsmittellinien der Elektroden- beschriebene Kompensation der Vordeformation der streifen beider Raster 13 a, 13 b und 18 a, 18 b ist. spiegelnden Fläche A B C D nicht beeinträchtigt.the deformation, the same as with the pre-deformation, division and intensity of what is on the layer 17 a consequence of the correspondence of the mutually thrown, image to be intensified is compensated for the pre-deformation of the stripes of both grids 13 a described by the distances between the longitudinal center lines of the electrodes , 13 b and 18 a, 18 b is. reflective surface ABCD not affected.

Wenn alle drei Spannungsquellen U_T, U_L und U_K 5 Die vorstehende Beschreibung der Wirkungsweise eingeschaltet sind, resultiert eine Überlagerung der des mit dem zweiten Elektrodenraster 13 a, 13 b verbeiden beschriebenen Deformationen der Fläche . sehenen Lichtsteuerorgans bedarf noch einer Ergän- ABCD. Die resultierende Gesamtdeformation ist zung. Wenn das Licht der Lichtquelle 1 nacheinanim allgemeinen wieder wellenartig, wobei ihre Ampli- der die Teile 2, 3, 4 und 12 der Einrichtung gemäß tude größer oder kleiner als die Amplitude jeder der io F i g. 1 und 5 durchsetzt hat, trifft es auf den Elek-Teüdeformationen sein kann. Verschiebt man z.B. trodenracter 13a, 13b bevor es die deformierbare die Platte 12 mit dem darauf angeordneten Eiektro- Schicht 14 durchläuft und an deren Fläche ABCD denraster 13 α, 13 b in der Ebene der Platte 12 und reflektiert wird. Nach der Reflexion durchsetzt das in einer Richtung senkrecht zur Längsrichtung der Licht nochmals die Schicht 14 und den Elektroden-Streifen des Rasters 13 α, 13 b, so wird die resul- 15 raster 13 a, 13 b. Der zweimalige Durchgang des tierende Gesamtdeformation der Fläche ABCD ab- Lichtes durch den Raster 13α, 13b ist mit einem zuwechslungsweise minimal und maximal. Rechnung sätzlichen Beugungseffekt verbunden, der das Funk- und Experiment zeigen, daß eine Verschiebung um tionieren des Lichtsteuerorgans gegebenenfalls stören eine halbe Periode nötig ist, um von einer maxi- kann. Um diese Störung möglichst gering zu halten, malen zu einer minimalen Gesamtdeformation zu ge- 20 ist es zweckmäßig, die Breite der einzelnen Streifen langen oder umgekehrt. Die Lage der Platte 12 wird des Elektrodenrasters 13 α, 136 klein zu bemessen, nun so gewählt, daß die Gesamtdeformation der damit die optische Transparenz dieses Rasters mög-Fläche ABCD minimal wird. Nachher läßt sich liehst hoch ist. Zum gleichen Zweck ist es von Vordurch geeignete Wahl des Verhältnisses der elek- teil, den Raster 13 α, 13 b aus einem Material mit irischen Spannungen der zwei Spannungsquellen U_T 25 ähnlichen optischen Eigenschaften, wie die Platte 12 und U_K die Größe der Gesamtdeformation noch sie besitzt, herzustellen. So eignet sich z. B. Zinnoxyd weiter reduzieren. Die verbleibende Restdeformation besser als ein Metall.If all three voltage sources U _T , U _L and U _K 5 The above description of the mode of operation are switched on, the result is an overlay of the deformations of the surface described with the second electrode grid 13 a, 13 b. The light control organ still needs a supplement ABCD. The resulting overall deformation is tongue. If the light from the light source 1 is generally again in a wave-like manner, the amplitudes of the parts 2, 3, 4 and 12 of the device according to the invention being greater or smaller than the amplitude of each of the io F i g. 1 and 5, it hits the Elek-Teüdeformationen can be. If you move, for example, trodenracter 13 a, 13 b before it passes through the deformable plate 12 with the electro-layer 14 arranged on it and the surface ABCD denraster 13 α, 13 b in the plane of the plate 12 and is reflected. After the reflection, the light again passes through the layer 14 and the electrode strips of the raster 13 α, 13 b in a direction perpendicular to the longitudinal direction, so that the result is 15 raster 13 a, 13 b. The double passage of the animal total deformation of the area ABCD from light through the grid 13 α, 13 b is alternately minimal and maximal. Calculation additional diffraction effect connected, which the radio and experiment show that a shift to ionize the light control organ possibly disrupt half a period is necessary to get from a maxi. In order to keep this disruption as small as possible, it is advisable to paint to a minimal overall deformation to make the width of the individual strips longer, or vice versa. The position of the plate 12 of the electrode grid 13 α, 136 is to be dimensioned small, now selected so that the overall deformation of the surface ABCD, which is thus possible for the optical transparency of this grid, is minimal. Afterwards it can be lent is high. For the same purpose, by suitable choice of the ratio of the elek- part, the grid 13 α, 13 b made of a material with Irish voltages of the two voltage sources U _T 25 has similar optical properties, such as the plate 12 and U _K the size of the total deformation nor she owns to make. So is z. B. further reduce tin oxide. The remaining residual deformation better than a metal.

besteht aus schwachen wellenartigen Verbiegungen Schließlich ist zu untersuchen, ob der zweite Elek-consists of weak wave-like bends Finally, it must be examined whether the second elec-

der Fläche/4 BCD, die eine halb so große Periode trodenraster 13α, 13δ nicht etwa durch Beugungswie die Teildeformationen zeigen und, was das Ent- 30 effekte zu einer Aufhellung des Projektionsschirmes scheidende ist, nur geringe Amplitude besitzen. Anlaß gibt. Dies ist nicht der Fall, weil die Streifenof the area / 4 BCD, which have half as large a period trodenraster 13α, 13δ not through diffraction as the partial deformations and, which is the decisive factor for a brightening of the projection screen, only have a small amplitude. Cause. This is not the case because of the stripes

Somit läßt sich die vom Elektrodenrasier 18 α, 18 b der beiden Elektrodenraster 13 α, 13 b und 18 α, 18 b hervorgerufene Vordeformation der Fläche ABCD parallel zueinander und orthogonal zu den Kanten durch die Wirkung der elektrostatischen Feldkräfte des Barrens 7' der zweiten Schlierenblende 7 verlaudes zweiten Elektrodenrasters 13 α, 13 b zumindest 35 fen, so daß die durch den zweiten Elektrodenraster annähernd kompensieren. 13 α, 13 b hervorgerufenen Beugungsbilder der Blen-Thus, the pre-deformation of the surface ABCD caused by the electrode razor 18 α, 18 b of the two electrode grids 13 α, 13 b and 18 α, 18 b can be parallel to one another and orthogonal to the edges through the effect of the electrostatic field forces of the bar 7 'of the second Schlieren diaphragm 7 verlaudes second electrode grid 13 α, 13 b fen at least 35, so that they approximately compensate by the second electrode grid. 13 α, 13 b caused diffraction patterns of the diaphragm

Durch die oben beschriebene, weitgehende Korn- denöffnung β ebenso auf den Barren T fallen wie die pensation der Vordeformation der spiegelnden Flä- durch die Vordeformation infolge des Elektroden- che ABCD v/'ud erreicht, daß die in den Fig. 3 rasters 18α, 18b verursachten Beugungsbilder ß". Sound 4 mit ß" bezeichneten Beugungsbilder, die bei 40 mit ruft der zweite Elektrodenraster 13 α, 13 b keine unbelichteter Schicht 17 entstehen, in der Nähe der seitlich des Barrens 7' liegende Beugungsbilder der Abbildung ß' der Blendenöffnung β bleiben. Beim der Blendenöffnung β hervor. Somit erscheint auch Einfallen von Licht durch das Objektiv 10 auf die bei vorhandenem Elektrodenraster 13 α, 13 b auf dem lichtelektrisch leitende Schich 17 ergibt sich im Spalt Projektionsschirm nur dann Licht, wenn die licht-15 eine neue elektrische Feldverteilung, die sich über 45 elektrisch leitende Schicht 17 durch in Richtung des die beiden Felder superponiert, welche mittels der Pfeiles O einfallendes Signallicht belichtet wird, wo-Elektrodenraster 18 α, 18 b und 13 α, 13 b und der zu- bei die Helligkeitsverteilung auf dem Projektionsgeordneten Spannungsquellen U_T und U_K hervorgeru- schirm mit jener auf der lichtelektrisch leitenden fen werden. Der wellenartigen Restdeformation der Schicht 17 übereinstimmt.As a result of the extensive grain opening β described above, falling onto the ingot T , as is the compensation of the pre-deformation of the reflective surfaces due to the pre-deformation due to the electrode surface ABCD v / 'ud achieves that the raster 18α, 18 b caused diffraction images ß ". Sound 4 with ß" denoted diffraction images, which at 40 with the second electrode grid 13 α, 13 b no unexposed layer 17 arise, in the vicinity of the diffraction images of the image ß 'lying to the side of the bar 7' Aperture opening β remain. When the aperture β emerges. Thus, incidence of light through the lens 10 appears on the electrode grid 13 α, 13 b on the photoelectrically conductive layer 17 only when the light 15 has a new electrical field distribution that extends over 45 electrically conductive layer 17 superimposed by in the direction of the two fields, which is exposed by means of the arrow O incident signal light, where-electrode grid 18 α, 18 b and 13 α, 13 b and the brightness distribution on the projection-ordered voltage sources U _T and U _K screen out with the one on the photoelectrically conductive window. The wave-like residual deformation of the layer 17 coincides.

Fläche A BCD wird dann an jenen Stellen, welche 5° Das nun zur Erläuterung gelangende zweite Ausbelichteten Partien der lichtelektrisch leitenden führungsbeispiel der erfindungsgemäßen Einrichtung Schicht 17 entsprechen, eine weitere Deformation hat den in F i g. 6 gezeigten an sich bekannten Gemit Wellen gemäß dem Linienraster 20 überlagert. samtaufbau: Einer starken Lichtquelle 1, z. B. einem Dabei entstehen neben den Barren 7' fallende Beu- elektrischen Lichtbogen, ist ein Kondensor 2 zugegungsbilder ß'", welche eine Beleuchtung des Pro- 55 ordnet, welcher das Licht bündelt und über einen jektionsschirmes verursachen. Diese für die Bild- Umlenkspiegel 22 auf eine Schlierenblende 23 wirft, erzeugung auf dem Projektionsschirm maßgebenden Letztere besteht aus mehreren zueinander par-Beugungsbilder ß'" bleiben, anders als in den F i g. 3 allelen, lichtundurchlässigen Barren 23' in der Form und 4, in der Nähe der Abbildung ß', weil die Vor- von Streifen, die in Abständen nebeneinander angedeformation der Fläche ABCD weitgehend kompen- 60 ordnet sind und zwei Aufgaben zu erfüllen haben, siert ist. Somit braucht das Objektiv 8 (F i g. 1, 3 Die erste Aufgabe der Barren 23' liegt darin, streifen- und 4) keine große Öffnung mehr zu haben, um die förmige Zonen zu bilden, die durch das von der zuletzt genannten Beugungsbilder ß'" erfassen zu Lichtquelle 1 ausgehende Licht hell beleuchtet werkönnen. Man kann daher auf ein kostspieliges Ob- den und funktionsmäßig der Blendenöffnung β der jektiv mit großem Durchmesser verzichten, ohne daß 65 Schlierenblende 3 (Fig. 1) des oben beschriebenen dadurch die Helligkeit des Bildes auf dem Projek- ersten Ausführungsbeispieles entsprechen. Zu diesem tionsschirm beeinträchtigt wird. Die Steuerung der Zweck ist die in F i g. 6 nach oben gekehrte Seite der Bildhelligkeit entsprechend der örtlichen Lichtver- Barren 23' reflektierend ausgebildet. Die zweite Auf- Area A BCD is then at those points which correspond to the second exposed areas of the photoelectrically conductive exemplary embodiment of the device according to the invention, layer 17, which will now be explained; a further deformation has that in FIG. 6 shown per se known Gemit waves according to the line grid 20 superimposed. velvet structure: a strong light source 1, e.g. B. A Beu electric arc falling next to the bars 7 'is generated by a condenser 2 supply images β'", which illuminates the project, which bundles the light and causes it via a projection screen. This for the image deflecting mirror 22 raises a Schlieren aperture 23, generation on the projection screen relevant latter consists of a plurality of mutually remain par diffraction patterns ß '', unlike in F i g. 3 allelic, opaque bars 23 'in the form and 4, in the vicinity of the image ß', because the front of stripes, which are spaced apart from one another and largely compensated for deformation of the surface ABCD , and have two tasks to fulfill is. Thus, the objective 8 (Fig. 1, 3 The first task of the bars 23 'is to have stripes and 4) no longer have a large opening in order to form the shaped zones through the diffraction patterns mentioned last ß '″ capture light emitted to light source 1 brightly illuminated. One can therefore dispense with an expensive ob- and functionally the diaphragm opening β of the lens with a large diameter without reducing the brightness The control of the purpose is designed to be reflective on the side of the image brightness facing upwards in FIG. 6 in accordance with the local light barriers 23 '.

gäbe der Barren 23' ist die Bildung von Blendenstreifen, die funktionsmäßig dem Barren 7' der Schlierenblende 7 (Fig. 1) des zuerst erläuterten Beispieles entsprechen.if the bar 23 'there is the formation of aperture strips, the functionally the bar 7 'of the Schlieren diaphragm 7 (Fig. 1) of the example explained first correspond.

Auf der beleuchteten Seite der Barren 23' befinden sich ein Objektiv 4 und ein Lichtsteuerorgan 5 b, dessen Ausbildung weiter unten an Hand von F i g. 7 erläutert wird. Das Lichtsteuerorgan 5 b enthält eine spiegelnde Fläche, welche das vom Objektiv 4 kommende Licht in das genannte Objektiv zurückwirft. Mittels des vom Licht zweimal durchlaufenen Objektivs 4 und der erwähnten spiegelnden Fläche des Lichtsteuerorgans 5 b werden die beleuchteten Barren 23' wieder auf die nun als Blendenstreifen wirkenden Barren 23' abgebildet. Ein Projektionsobjektiv 8 und ein Umlenkspiegel 24 sind auf der unbeleuchteten Seite der Barren 23' derart angeordnet, daß sie durch die Spalte zwischen den Barren 23' hindurch die spiegelnde Fläche des Lichtsteuerorgans 5 b in Richtung des Pfeiles P auf einen nicht dargestellten Projektionsschirm abbilden. Die Barren 23' wirken bei dieser Abbildung lediglich als Blendenstreifen, die auf dem Projektionsschirm nicht abgebildet werden.On the illuminated side of the bars 23 'there is an objective 4 and a light control element 5b, the design of which is shown below with reference to FIG. 7 will be explained. The light control element 5 b contains a reflective surface which reflects the light coming from the lens 4 into the said lens. By means of the lens 4 through which the light passes twice and the above-mentioned reflective surface of the light control element 5b , the illuminated bars 23 'are again imaged onto the bars 23', which now act as diaphragm strips. A projection lens 8 and a deflecting mirror 24 are arranged on the unlit side of the bars 23 'in such a way that they image the reflective surface of the light control member 5b in the direction of the arrow P on a projection screen, not shown, through the gaps between the bars 23'. In this illustration, the bars 23 'only act as diaphragm strips, which are not shown on the projection screen.

Ein anderer Umlenkspiegel 9 und ein Objektiv 10 dienen dazu, durch Lichtstrahlen gemäß dem Pfeil O auf einer lichtelektrisch leitenden Schicht des Lichtsteuerorgans 5 b optisch ein Bild zu erzeugen, das mit der beschriebenen Einrichtung verstärkt werden soll und beispielsweise von einem Diapositiv, einem Film oder einem wirklichen Gegenstand herstammen kann.Another deflecting mirror 9 and an objective 10 are used to optically generate an image by means of light rays according to the arrow O on a photoelectrically conductive layer of the light control element 5b , which image is to be amplified with the described device and, for example, of a slide, a film or a real object.

Das Lichtsteuerorgan 5 b hat den in F i g. 7 gezeigten Aufbau, welcher von bekannten Ausführungen teilweise abweicht. Übereinstimmung mit dem Lichtsteuerorgan gemäß F i g. 5 besteht hinsichtlich der Trägerplatte 12, des Elektrodenrasters 13 a, 13£>, der lichtelektrisch leitenden Schicht 17, des Elektrodenrasters 18 a, 18 b, der Trägerplatte 19, des Linienrasters 20 und der Trägerplatte 21. Auch die Anordnung der genannten Teile in Bezug aufeinander ist gleich wie beim Lichtsteuerorgan nach Fig. 5. Im Gegensatz zu jenem fehlt jedoch beim Lichtsteuerorgan gemäß F i g. 7 das Prisma 11 und sind zwischen dem Elektrodengitter 13 α, 13 b und der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 zwei elektrisch isolierende, elastisch deformierbare Schichten 24 und 25 sowie eine zwischen denselben angeordnete Spiegelschicht 26 vorhanden. Die Stärke jeder deformierbaren Schicht 24 bzw. 25 beträgt etwa 100 Mikron, und die Schicht selbst kann zweckmäßig aus einem Silikon-Polymerisat mit Weichmacher, z. B. Silikon-Kautschuk mit Weichmacher, bestehen und soll einen Elastizitätsmodul zwischen 10³ und 10⁶ dyn/cm² aufweisen. Die Spiegelschicht 26 hat eine Dicke von 10 bis 60 Mikron und besteht aus einer im Betriebszustand der Einrichtung flüssigen Substanz, z. B. einem Metall oder einer Metallegierung. Wenn die Einrichtung bei üblicher Raumtemperatur arbeiten soll, kann die Spiegelschicht 26 zweckmäßig aus Quecksilber oder einem Amalgam mit einer geringen Menge, etwa 1 Gewichtsprozent, Indium bestehen. Alle die genannten Platten und Schichten des Lichtsteuerorgans sind ohne Zwischenräume übereinander angeordnet, obwohl in F i g. 7 einige der Teile der Deutlichkeit wegen in voneinander getrennter Anordnung dargestellt sind.The light control member 5 b has the in F i g. 7, which differs in part from known designs. Agreement with the light control element according to FIG. 5 consists of the carrier plate 12, the electrode grid 13 a, 13 £>, the photoelectrically conductive layer 17, the electrode grid 18 a, 18 b, the carrier plate 19, the line grid 20 and the carrier plate 21. Also the arrangement of the parts mentioned in relation is the same as with the light control element according to FIG. 5. In contrast to that, however, the light control element according to FIG. 7 the prism 11 and between the electrode grid 13 α, 13 b and the photoelectrically conductive layer 17 two electrically insulating, elastically deformable layers 24 and 25 and a mirror layer 26 arranged between them are present. The thickness of each deformable layer 24 or 25 is about 100 microns, and the layer itself can expediently consist of a silicone polymer with plasticizer, e.g. B. silicone rubber with plasticizer exist and should have a modulus of elasticity between 10 ³ and 10 ⁶ dynes / cm ² . The mirror layer 26 has a thickness of 10 to 60 microns and consists of a substance which is liquid when the device is in operation, e.g. B. a metal or a metal alloy. If the device is to operate at normal room temperature, the mirror layer 26 can expediently consist of mercury or an amalgam with a small amount, about 1 percent by weight, of indium. All of the above-mentioned plates and layers of the light control element are arranged one above the other without any gaps, although in FIG. 7 some of the parts are shown separated from one another for the sake of clarity.

Die beiden Gitter 18 a und 18 b des Elektrodenrasters 18 a, 18 b sind an den einen und den anderen Pol einer Gleichspannungquelle U_T angeschlossen. In analoger Weise sind die zwei Gitter 13 α und 13 b des zweiten Elektrodenrasters 13 a, 13 b mit einer Gleichspannungsquelle U_K verbunden. Eine Wechsel-Spannungsquelle XJ _L ist mit ihrem einen Pol an die elektrisch leitende Spiegelschicht 26 und mit ihrem anderen Pol an das eine Elektrodengitter 18 a oder 18 b angeschlossen. Eine zweite Wechselspannungsquelle Vι steht einerseits mit der Spiegelschicht 26The two grids 18 a and 18 b of the electrode grid 18 a, 18 b are connected to one and the other pole of a DC voltage source U _T. In an analogous manner, the two grids 13 α and 13 b of the second electrode grid 13 a, 13 b are connected to a DC voltage source U _K. One pole of an alternating voltage source XJ _L is connected to the electrically conductive mirror layer 26 and its other pole to one of the electrode grids 18 a or 18 b . A second AC voltage source V 1 is connected to the mirror layer 26 on the one hand

ίο und andererseits mit dem Elktrodenrastr 13 a oder 13 b in Verbindung. Die Wechselspannungen der Quellen U_L und U_L' haben gleiche Frequenz und Phasenlage, während ihre Amplituden verschieden sein können.ίο and on the other hand with the Elktrodenrastr 13 a or 13 b in connection. The alternating voltages of the sources U _L and U _L ' have the same frequency and phase position, while their amplitudes can be different.

Die Wirkungsweise der Einrichtung gemäß den F i g. 6 und 7 ist im wesentlichen wie folgt:The mode of operation of the device according to FIGS. 6 and 7 is essentially as follows:

Zum leichteren Verständnis wird zunächst angenommen, daß die Spannungsquellen U_K und U_L' nicht angeschlossen seien und die Spannung der Quelle U_T Null sei. Wenn kein Licht entsprechend dem Pfeil O auf die lichtelektrisch leitende Schicht 17 fällt, ist das elektrostatische Feld zwischen dem Elektrodenraster 18 a, 186 und der ebenfalls als Elektrode dienenden Spiegelschicht 26 im wesentliehen homogen, wenn man von den Randeffekten und der Streifenform des Rasters 18 a, 18 b absieht. Die auf die Grenzfläche I zwischen der Spiegelschicht 26 und der deformierbaren Schicht 25 wirkenden elektrostatischen Kräfte sind somit an allen Stellen der Fläche I gleich groß, weshalb letztere keine Deformation erfährt und eben bleibt. Daran ändert auch die Tatsache nichts, daß die Spannungsquelle U_L eine Wechselspannung abgibt. Diese hat lediglich eine zeitliche, nicht eine örtliche Variation der elektrostatischen Kräfte auf die Grenzfläche I zur Folge. Wenn die Gleichspannung der Spannungsquelle U_T nicht Null ist, überlagert sich zum beschriebenen zeitlich variierenden elektrischen Feld ein örtlich variierendes, mit dem Ergebnis, daß die Verteilung der an der Grenzfläche I angreifenden Feldkräfte inhomogen wird und die Grenzfläche I der Spiegelschicht 26 eine wellenförmige Vordeformation bekommt, wobei die Wellenkämme und Wellentäler parallel zu den Streifen des Elektrodenrasters 18 a, 18 b und orthogonal zu den Barren 23' der Schlierenblende 23 verlaufen.To make it easier to understand, it is initially assumed that the voltage sources U _K and U _L 'are not connected and the voltage of the source U _{T is} zero. If no light is indicated by the arrow O on the light conductive layer falls 17, the electrostatic field between the electrode grid 18 a, 186 and serving also as an electrode mirror layer 26 homogeneously wesentliehen when one of the edge effects and the strip shape of the grid 18 a , 18 b refrains. The electrostatic forces acting on the interface I between the mirror layer 26 and the deformable layer 25 are thus the same at all points on the surface I, which is why the latter does not experience any deformation and remains flat. The fact that the voltage source U _L emits an alternating voltage does not change anything. This only results in a temporal, not a local, variation of the electrostatic forces on the interface I. If the direct voltage of the voltage source U _{T is} not zero, a locally varying electric field is superimposed on the described time-varying electric field, with the result that the distribution of the field forces acting on the interface I becomes inhomogeneous and the interface I of the mirror layer 26 has a wavy preformation , the wave crests and troughs running parallel to the strips of the electrode grid 18 a, 18 b and orthogonal to the bars 23 ′ of the Schlieren diaphragm 23.

Während der für das Aufbauen der erwähnten Vordeformation benötigten Zeitdauer, d. h., bevor die auf die Fläche I einwirkenden Feldkräfte durch die elastischen Reaktionskräfte der Schicht 25 im Gleichgewicht gehalten werden, pflanzen sich Druckwellen und Verschiebungswellen von der Fläche I quer durch die flüssige Spiegelschicht 26 fort. Bei der Ankunft dieser Druck- und Verschiebungswellen rufen diese an der gegenüberliegenden Grenzfläche II eine Druckverteilung hervor, die Punkt für Punkt der elektrostatischen Feldkräfteverteilung an der Fläche I analog ist. Folglich wird die Grenzfläche II in gleicher Weise wellenförmig deformiert wie die Grenzfläche I. Die verhältnismäßig große innere Reibung der deformierbaren Schichten 24 und 25 gewährleistet eine ausreichende Dämpfung von gegebenenfalls auftretenden mechanischen Resonanzen der genannten Schichten und der flüssigen Spiegelschicht 26. Die in der beschriebenen Weise deformierte Grenzfläche II der Spiegelschicht 26 wirkt als Beugungsgitter für die von der Lichtquelle 1 herkommenden und an der Fläche II reflektierten Lichtstrahlen. Die entstehen-During the period of time required for building up the aforementioned pre-deformation, i. h., before the field forces acting on the surface I due to the elastic reaction forces of the layer 25 im Are kept in equilibrium, pressure waves and displacement waves are planted from surface I. across the liquid mirror layer 26. With the arrival of these waves of pressure and displacement these cause a pressure distribution at the opposite interface II, the point by point of the electrostatic field force distribution on the surface I is analogous. Consequently, the interface II becomes the same Waves deformed like the interface I. The relatively large internal friction of the deformable layers 24 and 25 ensures adequate damping of any eventuality occurring mechanical resonances of the layers mentioned and the liquid mirror layer 26. The in the manner deformed interface II of the mirror layer 26 acts as a diffraction grating for the light rays coming from the light source 1 and reflected on the surface II. The arise-

den Beugungsbilder der beleuchteten Barren 23' sind in der Längsrichtung der Barren verschoben und bewirken demnach keine Aufhellung des Projektionsschirmes. the diffraction patterns of the illuminated bars 23 'are shifted in the longitudinal direction of the bars and cause them therefore no brightening of the projection screen.

Wenn durch Lichtstrahlen gemäß dem Pfeil O auf der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 ein zu verstärkendes Bild erzeugt wird, bewirken die belichteten Partien der Schicht 17 eine örtliche Änderung der elektrostatischen Feldverteilung zwischen dem Elektrodenraster 18 α, 18 b und der Spiegelschicht 26, so daß der erwähnten Vordeformation der beiden Grenzflächen der Spiegelschicht noch eine andere Deformation überlagert wird. Letztere hat Beugungsbilder der beleuchteten Barren 23' zur Folge, die seitlich neben die Barren fallen und eine Beleuchtung des Projektionsschirmes an jenen Stellen verursachen, die den belichteten Partien der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 entsprechen. Wegen der oben beschriebenen Vordeformation der Spiegelschicht 26 haben die Zentren der nutzbringenden Beugungsbilder einen verhältnismäßig großen Abstand von den Zentren der Barren 23', weshalb das Objektiv 8 einen großen Durchmesser aufweisen müßte, um das Licht dieser Beugungsbilder voll erfassen und dem Projektionsschirm übermitteln zu können. Dieser Nachteil läßt sich durch den zweiten Elektrodenraster 13 a, 13 b mit Hilfe der Spannungsquellen TJ_K und U_L' vermeiden. If an image to be intensified is generated by light rays according to the arrow O on the photoelectrically conductive layer 17, the exposed parts of the layer 17 cause a local change in the electrostatic field distribution between the electrode grid 18 α, 18 b and the mirror layer 26, so that the mentioned Another deformation is superimposed on the pre-deformation of the two interfaces of the mirror layer. The latter results in diffraction images of the illuminated bars 23 ′, which fall laterally next to the bars and cause the projection screen to be illuminated at those points which correspond to the exposed parts of the photoelectrically conductive layer 17. Because of the pre-deformation of the mirror layer 26 described above, the centers of the useful diffraction images are at a relatively large distance from the centers of the bars 23 ', which is why the objective 8 would have to have a large diameter in order to be able to fully capture the light of these diffraction images and transmit it to the projection screen. This disadvantage can be avoided by the second electrode grid 13 a, 13 b with the aid of the voltage sources TJ _K and U _L '.

Die Wirkung des Elektrodenrasters 13 a, 13 b und der Spannungsquellen TJ_K und TJ _L' auf die Spiegelschicht 26 stimmt mit der oben beschriebenen Wirkung des Elektrodenrasters 18 a, 18 b und der Spannungsquellen U_T und U_L bei unbelichteter lichtelektrisch leitender Schicht 17 grundsätzlich überein. Die Lage des zweiten Elektrodenrasters 13 α, 13 b wird derart gewählt und das Verhältnis der Amplituden der Wechselspannungen der Quellen U_L und U_L' derart eingestellt, daß durch die elektrostatische Feldkräftewirkung des Elektrodenrasters 13 a, 13 b die vom anderen Elektrodenraster 18 α, 18 b hervorgerufene Vordeformation der Spiegelschicht 26 möglichst gut kompensiert wird. Abgesehen von der verbleibenden Restdeformation, die sich nicht kompensieren läßt, wird dann die Spiegelschicht 26 im wesentlichen nur noch durch die Feldänderungen deformiert, welche durch die Belichtung der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 hervorgerufen werden. Die Zentren der dabei entstehenden, neben die Barren 23' fallenden Beugungsbilder der beleuchteten Flächen der Barren liegen dann in geringerer Entfernung von den Zentren der Barren als im Falle des Vorhandenseins einer Vordeformation der Spiegelschicht 26. Die Öffnung des Objektivs 8 braucht dann nicht mehr so groß zu sein, um das Licht der lichtstarken Beugungsbilder erfassen und auf den Projektionsschirm werfen zu können, weshalb ein preisgünstigeres Objektiv ausreicht.The effect of the electrode grid 13 a, 13 b and the voltage sources TJ _K and TJ _L ' on the mirror layer 26 basically agrees with the above-described effect of the electrode grid 18 a, 18 b and the voltage sources U _T and U _L with an unexposed photoelectrically conductive layer 17 match. The position of the second electrode grid 13 α, 13 b is chosen in such a way and the ratio of the amplitudes of the alternating voltages of the sources U _L and U _L 'is set in such a way that the electrostatic field forces of the electrode grid 13 a, 13 b cause the other electrode grid 18 α, 18 b caused pre-deformation of the mirror layer 26 is compensated as well as possible. Apart from the remaining residual deformation, which cannot be compensated, the mirror layer 26 is then essentially only deformed by the field changes which are caused by the exposure of the photoelectrically conductive layer 17. The centers of the resulting diffraction images of the illuminated surfaces of the bars, which fall next to the bars 23 ', are then at a smaller distance from the centers of the bars than in the case of the presence of a pre-deformation of the mirror layer 26. The opening of the objective 8 then no longer needs to be so large to be able to capture the light of the bright diffraction images and throw it onto the projection screen, which is why a cheaper lens is sufficient.

Es ist vielleicht nützlich zu erwähnen, daß die beiden Spannungsquellen TJ _L und U_L' deshalb Wechselspannungsquellen sind, weil die Spiegelschicht 26 durch eine Flüssigkeit gebildet ist, die nur zeitlich veränderliche Deformationen der Grenzfläche I in Steuerabhängigkeit von der lichtelektrisch leitenden Schicht 17 auch an der gegenüberliegenden Grenzfläche II Punkt für Punkt reproduziert. Die Spiegelschicht muß also dauernd in pulsierender Bewegung gehalten werden. Die Helligkeitsintensität der beleuchteten Stellen auf dem Projektionsschirm ändert sich periodisch zwischen Null und einem Höchstwert im Rhythmus der Bewegung der Fläche II. Wenn dieser Rhythmus schnell genug ist und z. B. 20 Wechsel in der Sekunde übersteigt, kann das menschliche Auge wegen der Trägheit der Netzhaut keine Schwankungen der Intensität des verstärkten Bildes auf dem Projektionsschirm wahrnehmen. Weitere Einzelheiten eines ähnlichen Lichtsteuerorgans mit einer flüssigen Spiegelschicht können der eingangs erwähnten deutsehen Patentanmeldung G 44070 entnommen werden.It is perhaps useful to mention that the two voltage sources TJ _L and U _L ' are AC voltage sources because the mirror layer 26 is formed by a liquid that only changes deformations of the interface I over time as a function of the photoconductive layer 17, also at the opposite interface II reproduced point by point. The mirror layer must therefore be kept continuously in pulsating motion. The brightness intensity of the illuminated areas on the projection screen changes periodically between zero and a maximum value in the rhythm of the movement of the surface II. If this rhythm is fast enough and z. B. exceeds 20 changes per second, the human eye cannot perceive any fluctuations in the intensity of the enhanced image on the projection screen because of the inertia of the retina. Further details of a similar light control element with a liquid mirror layer can be found in the German patent application G 44070 mentioned at the beginning.

Claims

Patent claims:

1. Device for amplifying the intensity of an optically generated image, in which at least one zone illuminated by a light source (1) is optically imaged on an associated aperture strip (7 'or 23') by reflection on a reflective surface (ABCD or II) is, which is present on a deformable layer (14 or 26) and is deformable together with this by electrostatic field forces, with a photoelectrically conductive layer (17) on which the image to be reinforced is mapped in rasterized form and which is the deformation of the reflecting surface (ABCD or II) causing electrostatic field, with an optical system (8) for observing the reflecting surface (ABCD or II) past the edges of the diaphragm strip (7 'or 23'), with one of the photoelectrically Conductive layer (17) associated electrode grid (18 a, 18 b), which has a bevy of spaced apart, electrically conductive strips , the longitudinal edges of which run orthogonally to the longitudinal edges of the diaphragm strip and which are connected in alternating sequence to one and the other pole of an electrical voltage source (TJ _T ) , and with an additional grid (20) which is placed in front of the photoelectrically conductive layer (17) is and has at least for certain light frequencies impermeable parts, the geometric configuration and arrangement of which are different from that of the strips of the electrode grid (18 a, 18 b) , characterized in that a second electrode grid (13 α, 13 b) with a family of in There are electrically conductive strips arranged next to one another whose number, length, orientation and mutual spacing of their longitudinal center lines are the same as in the first-mentioned electrode grid (18 a, 18 b) and which are also connected in alternating sequence to one and the other pole of a second voltage source (U _K ) are connected, and that the second electrode nraster at a distance from the reflecting surface (ABCD or II) is arranged (13 b 13 a,) that it by the action of electrostatic field forces from said first electrode grid (18 a, 18 b) caused predeformation of the reflecting surface (ABCD or II) at least approximately compensated.

2. Device according to claim 1, characterized in that the second electrode grid (13 a, 13 b) is arranged on the side of the reflective surface (AB CD or II) facing away from the first electrode grid (18 a, 18ö).

3. Device according to claims 1 and 2, characterized in that between the first and the second electrode grid (18 a, 18 b and 13 a, 13 b) the photoelectrically conductive layer (17), the deformable layer (14) with the reflective surface (ABCD) and an intermediate space (15) present between the photoelectrically conductive layer and the reflective surface.

4. Device according to claims 1 to 3, characterized in that the first electrode grid (18a, 18b) and the photoelectrically conductive layer (17) are arranged in conductive contact with one another on a first transparent plate (19) made of electrically insulating material, while the second electrode grid (13 α, 13 b) and the deformable layer (14) are attached to a second translucent plate (12) made of electrically insulating material, the two electrode grids (18 a, 18 & and 13 a, 13 b) are located directly on the facing sides of the two plates (19 and 12), which are arranged at a distance from one another.

5. Device according to claims 1 to 4, characterized in that a third electrical voltage source (U ₁ ) is connected on the one hand to one pole of the first-mentioned voltage source (EZ ₇ -) and on the other hand to a pole of the second voltage source (U _K ) .

6. Device according to claims 1 to 5, characterized in that the reflective surface (II) is formed in a manner known per se on a layer (26) made of electrically conductive material, which together with the deformable layer (24 or 25 ) is deformable, and that a third electrical voltage source (U _L ) is connected on the one hand to one pole of the first-mentioned voltage source (U _T ) and on the other hand to the mirror layer (26), while a fourth electrical voltage source (U _L ') on the one hand to a pole the second voltage source (U _K ) and on the other hand with the mirror layer (26) is in connection (FIG. 7).

7. Device according to claims 1 to 6, characterized in that the mirror layer (26) is formed by a substance which is liquid in the operating state of the device and is located between two electrically insulating, elastically deformable layers (24 and 25), and that the third and fourth voltage sources (U _L and Ui) are alternating voltage sources whose alternating voltages have the same frequency and phase position.

8. Device according to claims 1 to 7, characterized in that the first electrode grid (18 a, 18 b) and the photoelectrically conductive layer (17) are arranged in conductive contact with one another on a first transparent plate (19) made of electrically insulating material , while the second electrode grid (13 a, 13 b) is attached to a second translucent plate (12) made of electrically insulating material, the two electrode grid (18 a, 18 b and 13 a, 13 b) directly facing each other Sides of the two plates (19 and 12) are arranged at a distance from each other, and that the mirror layer (26) and the two deformable layers (24 and 25) between the photoelectrically conductive layer (17) and the second electrode grid (13 a , 13 6).

9. Device according to claims 1 to 8, characterized in that the second electrode grid (13 α, 13 b) is at least partially transparent.

For this purpose 2 sheets of drawings