Claims (2)
1 2 Pat ntansoriiche- geordnet werden, so daß eine optimale Rasterwieder- ' gäbe auf der Bildfläche möglich ist. Die bisher mög-1 2 Pat ntansoriiche- are ordered so that an optimal raster reproduction is possible on the image surface. The previously possible
1. Elektrophotographisches Aufzeichnungsma- liehen Streuungserscheinungen bei der Rasterbelichterial
zur Erzeugung von Halbtonbildern mit tung werden dadurch völlig vermieden. Zur Ausnuteinem
transparenten Schichtträger und einer pho- 5 zung der Rasterwirkung wird das Aufzeichnungsmatoleitfähigen
Schicht, dadurch gekenn- terial durch den durchsichtigen Schichtträger hinzeichnet,
daß es zwischen Schichtträger (11) durch belichtet.1. Electrophotographic recording ma- len scatter phenomena in the raster exposure
for generating halftone images with device are thereby completely avoided. To take advantage of
transparent substrate and a pho- 5 zation of the grid effect, the recording material is conductive
Layer, characterized by the transparent layer support,
that it is exposed through between the support (11).
und photoleitfähiger Schicht (13) ein Raster (14, Vorzugsweise wird das Raster durch ein elektrischand photoconductive layer (13) a grid (14, the grid is preferably by an electrical
15,16) enthält. leitendes Gitter gebildet.15.16). conductive grid formed.
2. Elektrophotographisches Aufzeichnungsma- io Auf diese Weise kann das Raster gleichzeitig als
terial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, eine die photoleitfähige Schicht beeinflussende Elekdaß
das Raster (14, 15, 16) aus einem elektrisch trode verwandt werden.2. Electrophotographic recording ma- io In this way, the grid can be used simultaneously as
Material according to Claim 1, characterized in that it has an electrode influencing the photoconductive layer
the grid (14, 15, 16) can be used from an electrical trode.
leitenden Gitter besteht. Die Figur zeigt ein gemäß der Erfindung ausgebil-conductive grid. The figure shows a trained according to the invention
detes Aufzeichnungsmaterial im Schnitt. Dieses be-detes recording material in section. This is
15 steht im wesentlichen aus einem durchsichtigen15 essentially consists of a transparent one
Die Erfindung betrifft ein elektrophotographisches Schichtträger 11, einer photoleitfähigen Schicht 13The invention relates to an electrophotographic layer support 11, a photoconductive layer 13
Aufzeichnungsmaterial zur Erzeugung von Halbton- und dem zwischen diesen beiden Elementen angeord-Recording material for the generation of halftone and that arranged between these two elements
bildern mit einem transparenten Schichtträger und neten Raster 14, 15, 16. Ferner sind an den Schicht-images with a transparent layer support and neten grids 14, 15, 16. Furthermore, on the layer
einer photoleitfähigen Schicht. träger 11, der im dargestellten Falle aus NESA-Glasa photoconductive layer. carrier 11, which in the illustrated case is made of NESA glass
Es ist bekannt, daß durch die Belichtungsrasterung 20 mit leitfähigem Zinnoxidüberzug besteht, und an das
einer photoleitfähigen Schicht eine Entwicklung gro- Raster 14, 15, 16 anschaltbare Spannungsquellen soßer,
durchgehend getönter Bildflächen möglich ist, so wie eine dielektrische Schicht 12 zwischen der photodaß
der bekannte Randeffekt elektrophotographi- leitfähigen Schicht und dem Schichtträger vorgesescher
Bilder dadurch vermieden werden kann. Ein hen. Diese Elemente sind jedoch für die Erfindung
bekanntes Verfahren zur Belichtungsrasterung be- 25 nicht von funktioneller Bedeutung. Ihre Funktion
steht darin, vor oder nach oder gleichzeitig mit der wird daher nicht weiter erläutert. Mit der Lichtquelle
Bildbelichtung eine Rasterbelichtung vorzunehmen. 39 erfolgt eine Bildbelichtung des erfindungsgemä-Ein
derartiges Verfahren ist beispielsweise in der ßen Aufzeichnungsmaterials durch den Schichtträger
USA.-Patentschrift 2 598 732 beschrieben und läßt 11 hindurch,
sich auf verschiedene Arten verwirklichen. 30 Die Herstellung des erfindungsgemäßen Aufzeich-It is known that there is a conductive tin oxide coating through the exposure grid 20, and to which a photoconductive layer a development of large grid 14, 15, 16 connectable voltage sources soßer, continuously tinted image areas is possible, as well as a dielectric layer 12 between the photodass The known edge effect of the electrophotographic conductive layer and the support of pre-cut images can thereby be avoided. A hen. However, these elements are not of functional importance for the method for exposure rasterization known to the invention. Their function is in it, before or after or at the same time as it is therefore not explained further. To make a raster exposure with the light source image exposure. 39, an image exposure is carried out using the method according to the invention.
to be realized in different ways. 30 The production of the record according to the invention
Diesen verschiedenen Verfahrensarten haftet je- nungsmaterials und insbesondere des Rasters kann inThese different types of process are adhered to, and in particular the grid can be used in
doch der gemeinsame Nachteil an, daß zu der zusatz- verschiedenen Formen und auf verschiedene WeiseYet the common disadvantage is that to the additional- different forms and in different ways
liehen Rasterbelichtung immer eine besondere Raster- erfolgen. Beispielsweise ist es durch die USA.-Pa-lent raster exposure always take place a special raster. For example, it is through the USA.
vorrichtung erforderlich ist, die der Bildplatte vor- tentschrift 2 917 385 bekannt, ein rasterartig verteilgeordnet
und gegebenenfalls mit einer zusätzlichen 35 tes Muster einer photoleitfähigen Schicht auf einemA device is required which is known from the image plate prescript. 2 917 385, a grid-like distribution arrangement
and optionally with an additional 35 th pattern of a photoconductive layer on one
Lichtquelle mit zugehöriger Optik durchleuchtet Schichtträger mit einer Maske, durch Sprühen, durchLight source with associated optics illuminates the substrate with a mask by spraying
wird. Neben dem hohen Aufwand an Zusatzgeräten Aufdampfen oder durch Ätzen bzw. Gravur einerwill. In addition to the high cost of additional equipment, vapor deposition or by etching or engraving a
treten bei derartigen Vorrichtungen immer Schwie- Schicht zu erzeugen. Ein Aufzeichnungsmaterial deralways occur with such devices to produce a black layer. A recording material of the
rigkeiten bei der genauen Ausrichtung des vorgeord- in der Figur dargestellten Art kann derart hergestellt
neten Rasters und seiner scharfen Wiedergabe auf 40 werden, daß auf den leitfähigen und durchsichtigenSkills in the precise alignment of the type shown in the figure can be produced in this way
neten grid and its sharp reproduction on 40 will be that on the conductive and transparent
der Bildplatte auf. Ferner sind die Rasterplatten je Zinnoxidüberzug einer NESA-Glasplatte eine durch-the optical disk on. Furthermore, the grid plates for each tin oxide coating of a NESA glass plate are a
nach Feinheitsgrad der Rasterung sehr empfindlich sichtige Epoxyharzlösung aufgegossen und ausgehär-Depending on the degree of fineness of the grid, a very sensitive epoxy resin solution is poured on and hardened
gegenüber Beschädigungen und müssen deshalb be- tet wird. Die so entstandene Harzschicht wird mitagainst damage and must therefore be prayed for. The resulting resin layer is with
sonders sorgfältig behandelt werden. Kupfer und mit einer Ätzschutzschicht überzogen,be handled with special care. Copper and coated with an anti-etching layer,
Aufgabe der Erfindung ist es, die vorstehend auf- 45 auf die ein Raster in Form eines Strichmusters ko-The object of the invention is to coordinate the above 45 on the a grid in the form of a line pattern.
gezeigten Nachteile bekannter Anordnungen zur Be- piert wird, das eine Flächendeckung von z. B. 50 %shown disadvantages of known arrangements for Be piert that an area coverage of z. B. 50%
lichtungsrasterung zu vermeiden. erzeugt. Die Ätzschutzschicht wird dann entwickelt,to avoid clearing grid. generated. The anti-etch layer is then developed
Der Gegenstand der Erfindung geht von einem wobei ihr belichteter Teil gehärtet wird. Der unbe-The subject matter of the invention proceeds from an exposed part being cured. The unconcerned
elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterial zur lichtete Teil wird abgewaschen und das dadurch frei-Erzeugung
von Halbtonbildern mit einem transpa- 50 gelegte Kupfer durch Ätzen entfernt, wodurch einElectrophotographic recording material to the exposed part is washed off and this is free-generation
of halftone images with a transpa- 50 laid copper removed by etching, creating a
renten Schichtträger und einer photoleitfähigen leitendes Strichmuster auf der Harzschicht entstan-retentive substrate and a photoconductive conductive line pattern was formed on the resin layer.
Schicht aus und ist dadurch gekennzeichnet, daß es den ist. Der Vorteil der Leitfähigkeit dieses Strich-Layer off and is characterized in that it is the. The advantage of the conductivity of this line
zwischen Schichtträger und photoleitfähiger Schicht musters ist an anderer Stelle beschrieben (deutschebetween the substrate and the photoconductive layer pattern is described elsewhere (German
ein Raster enthält. Auslegeschrift 1 237 902). Auf das Strichmuster wirdcontains a grid. Interpretation document 1 237 902). On the line pattern will
Durch die Erfindung wird erreicht, daß das Raster 55 als Photoleiter eine etwa 0,005 mm starke amorphe
unmittelbar dem jeweiligen Aufzeichnungsmaterial Selenschicht aufgedampft, womit das erfindungsgezugeordnet
ist und daß jegliche mechanische sowie mäße Aufzeichnungsmaterial fertiggestellt ist.
optische Zusatzeinrichtungen überflüssig sind. Durch Das Raster kann auch als Gitter-, Punkt- oder Spidie
Anordnung des Rasters zwischen zwei Schichten ralmuster ausgeführt sein. Hinsichtlich der Art seiner
ist die Gefahr eventueller Beschädigungen durch un- 60 Erzeugung sind, wie bereits erwähnt, außer der vorsachgemäße
Handhabung nicht gegeben, und auch stehend beschriebenen auch andere Möglichkeiten
sonstige Beeinträchtigungen wie z. B. der Einfluß von gegeben. Auch der Aufbau des Aufzeichnungsmate-Feuchtigkeit
oder chemischen Stoffen können leicht rials kann vom beschriebenen Ausführungsbeispiel
ferngehalten werden. Ferner kann das Raster unmit- abweichen. So kann beispielsweise die dielektrische
telbar an der photoleitfähigen Schicht anliegend an- 65 Schicht 12 gegebenenfalls entfallen.The invention achieves that the grid 55 as a photoconductor has an approximately 0.005 mm thick amorphous selenium layer vapor deposited directly onto the respective recording material, which means that this is assigned to the invention and that any mechanical and normal recording material is completed.
additional optical devices are superfluous. The grid can also be designed as a grid, point or spidie arrangement of the grid between two layers of ralmuster. With regard to the nature of it, there is a risk of possible damage through unproduction, as already mentioned, except for proper handling, and also other possibilities, as described above, other impairments such as e.g. B. the influence of given. The build-up of the recording material, moisture or chemical substances can easily be kept away from the exemplary embodiment described. Furthermore, the grid can vary. For example, the dielectric layer 12 adjacent to the photoconductive layer can optionally be omitted.