DE1539106C - Bildspeicherröhre - Google Patents
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- 238000003860 storage Methods 0.000 title claims description 67
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims description 7
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L MgCl2 Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N al2o3 Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 3
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 230000000051 modifying Effects 0.000 claims 1
- 230000036633 rest Effects 0.000 claims 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2S,3R,4S,5R,6R)-2-[(2R,3R,4S,5R,6S)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2R,3R,4S,5R,6S)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- 230000002441 reversible Effects 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002772 conduction electron Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001808 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- -1 iron-cobalt Chemical compound 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating Effects 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000003334 potential Effects 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000011232 storage material Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- FHGTUGKSLIJMAV-UHFFFAOYSA-N tricesium;antimony Chemical compound [Sb].[Cs+].[Cs+].[Cs+] FHGTUGKSLIJMAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
Description
1 2
Die Erfindung betrifft eine Bildspeicherröhre mit Grenze für die Aufladung der Isolierschichtoberfläche
einem zwischen einer Schreibstrahl- und einer Lese- und damit für die an der Isolierschicht abfallende
strahlquelle angeordneten Speicherschirm, bestehend Spannung gegeben ist.
aus einer elektrisch leitenden, der Schreibstrahlquelle Zwar verhindert die Anbringung des Hilfsgitters
zugewandten Elektrode und einer auf der der Lese- 5 eine Zerstörung der Isolierschicht, aber sie bringt
strahlquelle zugewandten Seite dieser Elektrode an- zwei neue Schwierigkeiten mit sich. Zunächst muß
gebrachten Speicherschicht, die beim Auftreffen eines die elektrostatische Feldstärke an der Schirmober-Elektronenstrahls
zu einer Sekundäremission angeregt fläche ausreichen, um einen senkrechten Einfall der
werden kann, sowie mit einer in geringem Abstand Elektronen zu garantieren, damit eine ausreichende
von der der Lesestrahlquelle zugewandten Seite der io Auflösung erreicht wird. Die Spannung am Hilfs-Speicherschicht
angebrachten Hilfselektrode zur Ver- gitter muß aber unterhalb des ersten Kreuzungsmeidung
eines elektrischen Durchschlags innerhalb punktes der Sekundäremissionskurve, d. h. unterhalb
der Speicherschicht. des Potentialwertes für den Sekundäremissionsfaktor
Es ist eine Bildspeicherröhre vorgeschlagen wor- Eins, bleiben. Es bleibt nichts übrig, als das Hilfs-
den, bei der ein Bild durch energische Elektronen, 15 gitter so nahe wie möglich (in der Größenordnung
dem sogenannten Schreibstrahl auf einem Speicher- von Vio mm) an der Isolierschicht anzuordnen. Das
schirm aufgezeichnet wird. Der Speicherschirm besitzt führt zu schwierigen Herstellungsproblemen, denn
eine leitende Elektrode, auf der sich eine Schicht aus der Abstand muß genau eingehalten werden, und das
Isoliermaterial befindet, die Elektronenladunge^ Gitter muß elektrisch von der Isolierschicht isoliert
speichern kann. Die auftreffenden energiereichen 20 sein. Ein zweiter Nachteil des an eine positive
Elektronen bewirken, daß einzelne Teile der Isolier- Spannung angeschlossenen Hilfsgitters liegt in der da-
schicht leitend werden, wodurch sich ein Ladungs- durch hervorgerufenen Kapazität (etwa 30 Picofarad)
bild auf der Oberfläche der Isolierschicht ergibt, das zwischen der leitenden Unterlage des Speicherschirms
dem von den energiereichen Elektronen gelieferten und Erde. Diese Kapazität muß in dem an den
Informationsbild entspricht. Zur Ablesung der ge- 25 Speicherschirm angeschlossenen Verstärker kompen-
speicherten Information wird ein langsamer Elek- siert werden, um den erforderlichen Frequenzgang
tronenstrahl, der sogenannte Lesestrahl auf den einhalten zu können. Die Kompensationsschaltung
Speicherschirm gerichtet. Da diese Elektronen von erhöht aber wiederum den Rauschpegel der ganzen
den positiven Stellen des Speicherschirms angezogen Abbildungsvorrichtung.
werden, kann ein Signal von der leitenden Unterlage 3° Läßt man zur Umgehung dieser Schwierigkeiten
abgeleitet werden, weil zwischen diesen positiven das Hilfsgitter ganz weg, so muß der Betrieb des
Stellen und der leitenden Elektrode eine kapazitive Speicherschirms ständig überwacht werden, und der
Kopplung über die Isolierschicht gebildet wird. Dieser Betrieb muß sofort unterbrochen werden, wenn eine
Ablesevorgang entspricht demjenigen bei der be- unzulässig hohe Spannung erreicht ist. Trotzdem ist
kannten Vidicon-Röhre. 35'kein absolut zuverlässiger Schutz des Speicherschirms
Es muß Vorsorge dafür getroffen werden, daß die gewährleistet. Aufgabe der Erfindung ist es demiangsamen
Elektronen des Lesestrahls senkrecht auf gemäß, eine verbesserte Bildspeicherröhre der bedem
Speicherschirm auftreffen. Hierzu befindet sich schriebenen Art zu schaffen, bei welcher der Speicherein
Gitter aus einem dünnen Drahtnetz zwischen der schirm mit allen Signalpegeln gefahrlos betrieben
Quelle der langsamen Elektronen und dem Speicher- 40 werden kann.
schirm. An dem Gitter liegt eine Spannung von der Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die HilfsGrößenordnung
200 bis 450 V. Während des Betriebs elektrode galvanisch mit der elektrisch leitenden
dieser Anordnung kann es vorkommen, daß die der Elektrode verbunden ist.
Lesestrahlquelle zugewandte Oberfläche der Isolier- Die vorzugsweise als Gitter ausgebildete Hilfs-
schicht des Speicherschirms ein Potential annimmt, 45 elektrode erzeugt wegen der unmittelbaren Verbin-
bei dem der Sekundäremissionsfaktor des Isolier- dung mit der Signalelektrode des Speicherschirms
materials den Wert Eins überschreitet. Die emittierten keine Parallelkapazität und kann keine Mikrophonäe
Sekundärelektronen werden durch das auf hohem hervorrufen, weil zufällige Berührungen mit der
Potential liegende Gitter angezogen, wodurch die der Isolierschicht bedeutungslos sind.
Lesestrahlquelle zugewandte Oberfläche der Isolier- 50 Die Erfindung wird nachstehend an Hand der
schicht noch stärker positiv wird, weil sie einen Zeichnung erläutert. Hierin ist
Elektronenverlust erleidet. Dieser Vorgang setzt sich Fig. 1 ein schematisches Schnittbild einer Bildfort,
bis die Oberfläche der Isolierschicht das Potential speicherröhre,
des Gitters annimmt. Dieses Potential liegt aber in Fig. 2 ein Schnitt durch den Speicherschirm gemäß
der Größenordnung von 200 bis 450 V. Wenn eine 55 einem Ausführungsbeispiel,
solche Spannung an der sehr dünnen Isolierschicht Fig. 3 ein Schnitt durch den Speicherschirm bei
abfallen würde, so ergäbe sich ein Durchschlag, und einem anderen Ausführungsbeispiel und
die Isolierschicht würde an dieser Stelle zerstört. Fig. 4 eine graphische Darstellung zur Erläute-
Um dies zu vermeiden, ist bei der bereits vorge- rung der Erfindung.
schlagenen Bildspeicherröhre ein Hilfsgitter zwischen 60 Fig. 1 zeigt eine Bildspeicherröhre, beispielsweise
dem zur Ausrichtung der langsamen Leseelektronen eine Fernsehkameraröhre 10. Die Röhre IG besitzt
dienenden Gitter und dem Speicherschirm angeord- einen Kolben 12 aus Isoliermaterial mit einer durch-
net. An diesem Hilfsgitter liegt ein positives Potential, sichtigen Stirnplatte 14. Auf der Innenseite der Stirn-
das kleiner als das Potential ist, bei welchem der platte 14 befindet sich eine Photokathode 15, die für
Sekundäremissionsfaktor der Isolierschicht gleich 65 sichtbares Licht beispielsweise aus Caesiumantimonid
Eins wird. Infolgedessen kann das Potential der besteht. Am anderen Ende des Kolbens 12 befindet
Oberfläche der Isolierschicht dieses Potential des sich ein Elektronenstrahlerzeuger 16 zur Bildung eines
Hilfsgitters nicht übersteigen, so daß eine obere Elektronenstrahls, der auf einen Speicherschirm 26
3 4
gerichtet werden kann. Der Elektronenstrahlerzeuger einer Durchlässigkeit von etwa 50°/o, beispielsweise
enthält beispielsweise eine Kathode 18, ein Steuer- aus Kupfer. Das Hilfsgitter 36 ist mittels einer Ver-
gitter 20 und ein Beschleunigungsgitter 22 und erzeugt bindung 37 von verschwindender Impedanz mit der
einen Elektronenstrahl geringer Geschwindigkeit, den Unterlage 30 des Speicherschirms 26 verbunden, so
sogenannten Lesestrahl. Ferner gehört hierzu eine 5 daß die Unterlagselektrode 30 und das Gitter 36 stets
Feldelektrode 24, die als Überzug auf der Innenseite die gleichen Wechsel- und Gleichspannungen auf-
des Kolbens 12 ausgebildet ist. Zur Ablenkung des weisen. Der Abstand des Gitters 36 von der Ober-..
langsamen Elektronenstrahls zwecks Abtastung der fläche der Schicht 32 beträgt etwa 0,12 mm, wodurch
Oberfläche des Speicherschirms 26 dient eine Ablenk- sich eine Feldstärke von etwa 120 V/mm ausbildet,
spule 42. Schließlich ist eine Fokussierungsspule 44 io welche den senkrechten Einfall der langsamen Lese-
zur Fokussierung der langsamen Elektronen und der elektronen gewährleistet und trotzdem einen Durch-
von der Photokathode 15 emittierten Elektronen auf schlag der Isolierschicht 32 verhindert,
den Speicherschirm 26 vorhanden. Fig. 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel der Anbrin-
Zwischen dem Speicherschirm 26 und der Photo- gung des Hilfsgitters 36 hinsichtlich des Speicherkathode
15 befinden sich Beschleunigungselektroden 15 schirms 26. Das Gitter 36 ist beispielsweise durch
38 und 40, die an passenden Spannungen liegen. Punktschweißen an einem Tragring 37a aus einem
Zwischen Speicherschirm 26 und Elektronenstrahl- elektrisch leitenden Material, 2. B. einer Nickelerzeuger
16 ist ein Gitter 34 angeordnet, das parallel Eisen-Kobalt-Legierung befestigt. Der Tragring dient
zum Speicherschirm 26 verläuft. Das Gitter 34 besteht nicht nur zur Anbringung des Gitters 36 parallel zur
aus einem dünnen Drahtnetz, beispielsweise aus 20 isolierschicht 32 und in geringem Abstand von der-Nickeldraht.
Bei einer Ausführung hat das Gitter 34 selben, sondern besorgt auch die elektrische Vereinen
Abstand von etwa 1,2 mm von der Oberfläche bindung des Gitters 36 mit der Elektrode 30. Hierzu
des Speicherschirms. Es dient dazu, den senkrechten ist der Tragring37a durch Punktschweißen mit dem
Einfall der vom Elektronenstrahlerzeuger 16 aus- Tragring 28 verbunden.
gehenden Elektronen auf die Oberfläche des Speicher- 25 Fig. 3 zeigt eine andere Ausführungsform des
schirms zu gewährleisten. Speicherschirms. Hier besitzt der Speicherschirm 26«
Bei einer Ausführung ist der Speicherschirm 26.auf eine tragende Schicht 31 η aus einem Isoliermaterial
einem Tragring 28 aus einer Nickel-Eisen-Kobalt-Le- wie Aluminiumoxyd. Eine elektrisch leitende Untergierung
angeordnet und besteht aus einer leitenden lagsplatte 30a, beispielsweise aus Aluminium, ist auf
Unterlage 30 aus Aluminium sowie einer isolierenden 30 der tragenden Schicht 31« niedergeschlagen und trägt
oder halbleitenden Schicht 32, die beim Auftreffen ihrerseits eine isolierschicht 32 α. Die tragende Schicht
von Elektronen-, Licht- oder Röntgenstrahlen od. dgl. 31 α kann dadurch hergestellt sein, daß zunächst eine
Elektronen abgibt, wodurch ein Ladungsbild auf der Aluminiumplatte oxydiert und dann das Aluminium
freien, dem Elektronenstrahlerzeuger 16 zugekehrten weggeätzt wird, so daß die Schicht 31« aus 1000 A
Oberfläche der Schicht 32 entsteht. Die Schicht 32 35 dickem Aluminiumoxyd stehenbleibt. Dann wird eine
besteht z. B. aus einer Alkali- oder Erdalkaliverbin- etwa 1000 A dicke Aluminiumschicht auf die Tragdung
wie Kaliumchlorid, Magnesiumchlorid oder schicht 31 α aufgedampft. Schließlich kann die Tsolier-Magnesiumoxyd.
,schicht 32a durch Aufdampfen eines porösen Films
Die Aluminiumunterlage 30 wird beispielsweise von Kaliumchlorid in der oben beschriebenen Weise
durch Vakuumaufdampfen von Aluminium auf ein 40 gebildet werden.
Häutchen aus thermisch zerstörbarem organischem Die Arbeitsweise der Erfindung wird nachstehend
Material wie Zellulosenitrat gebildet. Die Stärke der an Hand der F i g. 1 erläutert, worin geeignete
Aluminiumelektrode soll für einen Elektrodendurch- Betriebsspannungen angegeben sind. Anfangs wird
messer von etwa 25 mm ungefähr 1000 Ä betragen. ein Potential von etwa 15 V in bezug auf die Kathode
Das Zellulosenitrat wird ausgeheizt und hinterläßt 45 18 an die Elektrode 30 des Speicherschirms 26 angedie
Aluminiumunterlage 30 auf dem Tragring 28. legt. Die von dem Elektrodenstrahlerzeuger 16 aus-Dann
wird der Tragring mit der Unterlage 30 in einen gehenden Elektronen werden durch die Feldelektrode
Rezipienten eingebracht, in welchem Argon oder ein 24 und die Konzentrationsspule 44 auf die Oberfläche
anderes inertes Gas unter einem Druck von etwa der Isolierschicht 32 konzentriert. Nach Abtastung
1 Torr ist. Ein Schiffchen, beispielsweise aus Tantal, 5° der Schirmoberfläche durch den Elektronenstrahl ist
das mit einem Heizwiderstand versehen ist, befindet die Oberfläche auf einem Gleichgewichtspotential
sich in dem Rezipienten. Eine bestimmte Menge stabilisiert, das im wesentlichen mit dem Erdpotential
(z. B. 16 mg) eines Isoliermaterials, wie Kalium- übereinstimmt, wenn wie in F i g. 1 die Kathode 18
chlorid, wird in das Schiffchen eingebracht. Das geerdet ist. Das Gitter 34 liegt etwa auf +450 V
Schiffchen wird dann in einem Abstand von etwa 55 gegen Erde und sichert so den senkrechten Einfall
75 mm unterhalb der Aluminiumelektrode 30 ange- der langsamen Elektronen auf den Speicherschirm 26.
ordnet und bis zum Schmelzen des Isoliermaterials Ein Bild des Objektes 46 wird auf die Photoerhitzt. Es hat sich gezeigt, daß der Dampfdruck des kathode 15 entworfen und ruft eine entsprechende
Materials beim Schmelzpunkt ausreicht, um die Ver- Elektronenemission, den Schreibstrahl, hervor. Die
dampfung mit genügender Schnelligkeit zu erzielen. 6o Photokathode 15 liegt auf einer Spannung von etwa
Das Material wird vollständig verdampft, und man —8000 V gegen die Elektrode 30, so daß die emitstellt
fest, daß die Dichte des auf die Aluminium- tierten Elektronen stark beschleunigt werden. Sie
schicht locker aufgedampften Speichermaterials etwa werden mittels der Konzentrationsspule 44 auf den
1 bis'5°/o der Dichte im kompakten Zustand ist. Die Speicherschirm 26 fokussiert und von den Beschleu-Schicht
32 hat eine Stärke von etwa 20 Mikron. 65 nigungselektroden 38 und 40, die auf 3500 V und
Zwischen dem Gitter 34 und dem Speicherschirm 7000 V liegen, kräftig beschleunigt. Am Ende beträgt
26 befindet sich ein Hilfsgitter 36. Es besteht bei der ihre Energie etwa 8000 Elektronenvolt, so daß sie die
ausgeführten Form aus einem dünnen Drahtnetz mit leitende Unterlage 30 durchdringen und in die Isolier-
schicht 32 eindringen können. Die Beschleunigungsspannung
soll so eingestellt sein, daß nahezu alle Primärelektrönen, die von der Photokathode 15 ausgehen,
den ganzen Speicherschirm 26 fast vollständig
gleichen, weil an der Schicht 32 ein elektrisches Feld liegt. Die Elektronenleitung in der Schicht 32 verschwindet,
wenn die Potentiale Vs und VT übereinstimmen.
Die Sekundäremission bleibt aber bestehen
wiegt. Falls das Hilfsgitter nicht vorhanden ist, kann das Potential der der Lesestrahlquelle 16 zugekehrten
Oberfläche der Schicht 32 so stark positiv gegen die
32, die mittels bekannter Mittel ausgewertet werden kann. In Fig. 1 ist z.B. eine typische Vidicon-Ablesevorrichtung
dargestellt.
durchdringen, aber nicht auf der anderen Seite wieder 5 und erhöht das Potential Vs über das Elektrodenaustreten.
Die Beschleunigungsspannung von etwa potential F7-, wodurch das elektrische Feld in der
8000 V ist z. B. richtig für einen Speicherschirm 26, Schicht 32 eine Polaritätsumkehr erfährt. Die fortdessen
leitende Elektrode 30 aus Aluminium besteht gesetzte Aufladung der der Lesestrahlquelle 16 zuge-
und etwa 1000 A stark ist und dessen poröse Isolier- wandten Oberfläche der Schicht 32 kommt davon
schicht 32 etwa 20 Mikron stark ist. Die von der io her, daß die Oberflächensekundäremission den Lei-Photokathode
15 ausgehenden Primärelektronen tungsstrom freier Elektronen in der Schicht 32 übererzeugen
beim Durchdringen der Isolierschicht 32
eine gewisse Anzahl langsamer Elektronen in der
Schicht 32, die mehrere Größenordnungen höher als
die Anzahl der einfallenden Primärelektronen ist. Es 15 Kathode 18 werden, daß die von der Kathode 18 können bis zu etwa 200 Sekundärelektronen für jedes ausgehenden langsamen Leseelektronen über die Primärelektron entstehen. Da die der Elektronen- Energie des ersten Kreuzungspunktes der Sekundärquelle 16 zugewandte Oberfläche der Isolierschicht emissionskurve des Materials der Schicht 32 hinaus 32 etwa auf Erdpotential stabilisiert wurde, hat sich beschleunigt werden. In diesem Falle tritt nicht nur ein elektrisches Feld zwischen dieser Oberfläche und 20 eine positive Aufladung der der Quelle 16 zugeder auf +15 V gegen Erde liegenden leitenden Unter- wandten Oberfläche der Schicht 32 durch von den lage 30 ausgebildet. Die innerhalb der Isolierschicht Schreibstrahlelektronen verursachte Sekundäremission 32~erzeugten langsamen Sekundärelektronen bewirken auf, sondern auch eine Aufladung durch reflektierende örtliche Potentialänderungen an der der Quelle 16 Sekundäremission infolge der von der Kathode 18 zugekehrten Oberfläche, weil teilweise die Elektronen 25 stammenden langsamen Leseelektronen. Infolgequer durch die Schicht 32 zur positiven Elektrode 30 dessen kann die Spannung Vs bis über die Durchwandern und teilweise Sekundärelektronen von der bruchspannung der Schicht 32 ansteigen, so daß erwähnten Oberfläche der Schicht 32 emittiert werden wegen der hohen Feldstärke zwischen der der Quelle und dann von den Elektroden 36 und 44 aufge- 16 zugewandten Oberfläche der Schicht 32 und der nommen .werden. So ergibt sich eine geänderte 30 Elektrode 30 ein Durchschlag stattfindet, -der die Potentialverteilung an dieser Oberfläche der Schicht Isolierschicht 32 an dieser Stelle zerstört.
eine gewisse Anzahl langsamer Elektronen in der
Schicht 32, die mehrere Größenordnungen höher als
die Anzahl der einfallenden Primärelektronen ist. Es 15 Kathode 18 werden, daß die von der Kathode 18 können bis zu etwa 200 Sekundärelektronen für jedes ausgehenden langsamen Leseelektronen über die Primärelektron entstehen. Da die der Elektronen- Energie des ersten Kreuzungspunktes der Sekundärquelle 16 zugewandte Oberfläche der Isolierschicht emissionskurve des Materials der Schicht 32 hinaus 32 etwa auf Erdpotential stabilisiert wurde, hat sich beschleunigt werden. In diesem Falle tritt nicht nur ein elektrisches Feld zwischen dieser Oberfläche und 20 eine positive Aufladung der der Quelle 16 zugeder auf +15 V gegen Erde liegenden leitenden Unter- wandten Oberfläche der Schicht 32 durch von den lage 30 ausgebildet. Die innerhalb der Isolierschicht Schreibstrahlelektronen verursachte Sekundäremission 32~erzeugten langsamen Sekundärelektronen bewirken auf, sondern auch eine Aufladung durch reflektierende örtliche Potentialänderungen an der der Quelle 16 Sekundäremission infolge der von der Kathode 18 zugekehrten Oberfläche, weil teilweise die Elektronen 25 stammenden langsamen Leseelektronen. Infolgequer durch die Schicht 32 zur positiven Elektrode 30 dessen kann die Spannung Vs bis über die Durchwandern und teilweise Sekundärelektronen von der bruchspannung der Schicht 32 ansteigen, so daß erwähnten Oberfläche der Schicht 32 emittiert werden wegen der hohen Feldstärke zwischen der der Quelle und dann von den Elektroden 36 und 44 aufge- 16 zugewandten Oberfläche der Schicht 32 und der nommen .werden. So ergibt sich eine geänderte 30 Elektrode 30 ein Durchschlag stattfindet, -der die Potentialverteilung an dieser Oberfläche der Schicht Isolierschicht 32 an dieser Stelle zerstört.
Durch das Hilfsgitter 36 kann diese Aufladung verhindert werden, wenn das Hilfsgitter auf einem
positiven Potential unterhalb des ersten Kreuzungs-
Fig. 4 zeigt den Verlauf des Sekundäremissionsr 35 punktes bzw. der Durchbruchspannung gehalten wird.
.Verhältnisses als Funktion der Energie der auftref- Die Spannung des Hilfsgitters ist erfindungsgemäß
fenden Primärelektronen. Die Primärenergie ist in gleich der Spannung der Unterlagselektrode 30, da
Elektronenvolt ausgedrückt. Wie man sieht, wird das beide zugleich an eine Spannungsquelle 39 ange-Sekundäremissionsverhältnis
an zwei Stellen gleich schlossen sind. Infolgedessen ist auch das Potential
Eins. Diese Stellen werden als erster und zweiter 40 der der Quelle 16 zugewandten Oberfläche der Schicht
Kreuzungspunkt bezeichnet. Unterhalb des ersten 32 auf das Potential F7- der Unterlagsplatte 30 be-Kreuzungspunktes
ist die Anzahl der von der Ober- schränkt. Das Oberflächenpotential Vs kann höchstens
fläche eines Materials ausgehenden Sekundär- auf den Wert F7- ansteigen, so daß an diesen Stellen
elektronen kleiner als die Anzahl der Primär- die Schicht 32 feldfrei ist. Die zum Durchbruch
elektronen, weshalb die Oberfläche sich negativ auf- 45 führende Feldumkehr kann nicht stattfinden. ■Vorauszuladen
sucht. Zwischen dem ersten und dem zweiten Setzung ist nur, daß die Klemmenspannung der
Kreuzungspunkt werden mehr Sekundärelektronen Spannungsquelle 39 nicht höher als dasjenige
erzeugt als Primärelektronen einfallen. Infolgedessen Potential ist, das bei Aufladung der der Quelle 16
sucht sich die Oberfläche positiv aufzuladen. Ober- zugekehrten Oberfläche der Schicht 32 auf das
halb des zweiten Kreuzungspunktes sinkt die Anzahl 50 Potential der Kathode 18 eine zum Durchbruch der
der Sekundäremissionen wieder unter diejenige der Schicht 32 führende Feldstärke erzeugen würde.
Primärelektronen ab, so daß abermals eine negative Durch die direkte Verbindung des Hilfsgitters 36
Aufladung eintritt. Im Normalbetrieb der erfindungs- mit der Unterlagselektrode 30 wird eine Spannungsgemäßen
Bildspeicherröhre 10 werden die vom quelle eingespart. Eine besondere Isolation zwischen
Elektronenstrahlerzeuger 16 emittierten Elektronen 55 dem Hilfsgitter und der Isolierschicht ist nicht erfornur
so stark beschleunigt, daß ihre Energie unterhalb derlich, weil Berührungen zwischen dem Hilfsgitter
des ersten Kreuzungspunktes des Materials der und der Schicht bedeutungslos sind. Aus dem gleichen
Schicht 32 bleibt. Grunde sind Mikrophonieeffekte im Ausgangssignal
Zu Betriebsbeginn wird also dafür gesorgt, daß ausgeschlossen. Das Hilfsgitter kann ganz nah an die
das Oberflächenpotential F6- der Isolierschicht 32 den 60 Isolierschicht herangerückt werden, wodurch die Aufgleichen Wert wie das Kathodenpotential annimmt. lösung des Lesestrahls verbessert wird. Eine zusätz-Infolge
des Beschüsses durch die von der Photokathode 15 emittierten Elektronen tritt Sekundäremission
an der der Lesestrählquelle 16 zugewandten
Oberfläche der Schicht 32 auf, und die Schicht 32 65
wird von Leitungselektronen durchquert. Infolgedessen sucht sich das Oberflächenpotential Vs der
Schicht 32 dem Potential F7- der Elektrode 30 anzu-
Oberfläche der Schicht 32 auf, und die Schicht 32 65
wird von Leitungselektronen durchquert. Infolgedessen sucht sich das Oberflächenpotential Vs der
Schicht 32 dem Potential F7- der Elektrode 30 anzu-
liche Kapazität zwischen Speicherschirm und Erde wird hierdurch nicht eingeführt.
Claims (12)
1. Bildspeicherröhre mit einem zwischen einer Schreibstrahl- und einer Lesestrahlquelle angeordneten
Speicherschirm, bestehend aus einei
i 539
elektrisch leitenden, der Schreibstrahlquelle zugewandten Elektrode und einer auf der der Lesestrahlquelle
zugewandten Seite dieser Elektrode angebrachten Speicherschicht, die beim Auftreffen
eines Elektronenstrahls zu einer Sekundäremission angeregt werden kann, sowie mit einer in geringem
Abstand von der der Lesestrahlquelle zugewandten Seite der Speicherschicht angebrachten
Hilfselektrode zur Vermeidung eines elektrischen Durchschlags innerhalb der Speicherschicht, d a durch
gekennzeichnet, daß die Hilfselektrode (36) galvanisch mit der elektrisch leitenden
Elektrode (30) verbunden ist.
2. Bildspeicherröhre nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hilfselektrode als Gitter
ausgebildet ist.
3. Bildspeicherröhre nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Speicherschicht
(32) als Isolierschicht ausgebildet ist.
4. Bildspeicherröhre nach Anspruch 2 "oder 3, gekennzeichnet durch einen Träger (37a) zur
Halterung und zum elektrischen Anschluß der Hilfselektrode (36) an die elektrisch leitende
Elektrode (30).
5. Bildspeicherröhre nach einem der Anspriiche 1 bis 4, gekennzeichnet durch eine Lesestrahlquelle
(16) zur Abtastung der der Lesestrahlquelle zugewandten Oberfläche der Speicherschicht
(32) mit dem Lesestrahl.
6. Bildspeicherröhre nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß zur Lieferung der Bildinformation
an den Speicherschirm ein modulierter Schreibstrahl dient und daß der Lesestrahl
die der Lesestrahlquelle zugewandte Oberfläche der Speicherschicht zwecks Ablesung der gespeicherten
Information auf ein Gleichgewichtspotential zurückführt.
7. Bildspeicherröhre nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die
Speicherschicht (32) eine poröse Schicht ist, deren Dichte 1 bis 5°/o der Dichte des betreffenden
Materials im kompakten Zustand beträgt.
8. Bildspeicherröhre nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Speicherschicht aus einer
auf der elektrisch leitenden Elektrode (30) abgelagerten Alkali- oder Erdalkaliverbindung besteht.
9. Bildspeicherröhre nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Speicherschicht aus
Kaliumchlorid, Magnesiumchlorid oder Magnesiumoxyd besteht.
10. Bildspeicherröhre nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die
elektrisch leitende Elektrode aus Aluminium besteht.
11. Bildspeicherröhre nach Anspruch 10, gekennzeichnet durch einen leitenden Tragring (28)
für den Speicherschirm (26).
12. Bildspeicherröhre nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrisch leitende
Elektrode (30 a) auf der der Speicherschicht abgewandten Seite sich auf einer Tragschicht (31a)
aus Aluminiumoxyd befindet.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen COPY
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