DE1522867C

DE1522867C - Development chamber for photosensitive layers

Info

Publication number: DE1522867C
Authority: DE
Inventors: Cameron Henry Apalachin; Plante Camille Arthur Johnson City; N.Y. Hafer (V.StA.). B30b 9-20
Original assignee: International Business Machines Corp
Current assignee: International Business Machines Corp
Publication date: 1971-10-21

Description

Die Erfindung betrifft eine Entwicklungskammer für lichtempfindliche Schichten, bei welcher der lichtempfindlichen Schicht das Entwicklungsmedium, insbesondere Ammoniak, unter einem Druck zugeführt •wird, der größer als 1 kp/cm² ist.The invention relates to a development chamber for light-sensitive layers, in which the light-sensitive layer is supplied with the development medium, in particular ammonia, under a pressure which is greater than 1 kgf / cm ² .

Gegenstand des älteren deutschen Patentes 1 266 641 der Amr.ekterin ist ein Verfahren zur Entwicklung von lichtempfindlichen Diazoverbindungen. Dieses Verfahren ermöglicht die Entwicklung von ammoniakempfindlichen Filmen, wie z. B. Diazofilmen, in einem Bruchteil einer Sekunda. Dieses Verfahren besteht kurz gesagt darin, daß das zur Entwicklung dienende Ammoniak der zu entwickelnden Fläche mit einem relativ hohen Druck, beispielsweise 6 kp/cm², zugeführt wird. Es versteht sich von selbst, daß für dieses Verfahren die Entwicklungskammer sehr gut abgedichtet sein muß.The subject of the earlier German patent 1 266 641 of Amr.ekterin is a process for developing light-sensitive diazo compounds. This process enables the development of ammonia sensitive films such as B. diazo films, in a fraction of a second. In short, this method consists in supplying the ammonia to be developed to the area to be developed at a relatively high pressure, for example 6 kg / cm ² . It goes without saying that the development chamber must be very well sealed for this process.

Die Hochdruckammoniakentwicklung erfordert eine gut abgedichtete Entwicklungskammer. Andererseits ist es schwierig, mit solchen Entwicklungskammern eine gleichmäßige Entwicklung zu erzeugen. Bei nicht gleichmäßiger Entwicklung enthält ein. Film Flächen, die auch dem bloßen Auge völlig unentwickelt erscheinen, während anschließende Flächen des Filmes voll entwickelt erscheinen. Diese nicht gleichmäßige Entwicklung hat ihre Ursache darin, daß an der Filmoberfläche noch Luft enthalten ist.High pressure ammonia development requires a well sealed development chamber. on the other hand it is difficult to produce a uniform development with such development chambers. When not uniform development contains a. Film surfaces that appear completely undeveloped to the naked eye, while subsequent areas of the film appear fully developed. This not even Development is caused by the fact that the film surface still contains air.

Es sind mehrere Lösungen möglich, um dieses Problem der eingefangenen Luft zu beseitigen. Eine davon ist, Luft und Ammoniak zu mischen. Es ist jedoch schwierig, eine einheitliche Mischung in einer Kammer von geringer Höhe in kurzer Zeit zu erreichen.Several solutions are possible to overcome this trapped air problem. One of those is to mix air and ammonia. However, it is difficult to get a uniform mixture in a chamber can be reached from a low altitude in a short time.

Die Entwicklungszeit kann vergrößert werden, um sicherzugehen, daß alle Filmflächen entwickelt werden. Hierzu ist jedoch eine wesentliche Verlängerung der Entwicklungszeit (um das Zweifache oder mehr) erforderlich, um auch nur eine begrenzte Verbesserung zu erzielen. Die Erhöhung der Entwicklungszeit vermindert nicht nur den großen Vorteil der kurzen Entwicklungszeit, sondern hat auch noch den Nachteil, daß viele Flächen des Filmbildes überentwickelt werden. Überentwicklung braucht die photometrischen Eigenschaften eines entwickelten Bildes nicht zu verändern, aber dadurch, daß die Gesamtmenge des durch den Film absorbierten Ammoniaks sich erhöht, steigt der Ammoniakverbrauch und die Menge des Ammoniaks, die nachher vom Film abgegeben ^wird. Diese übermäßige Absorption von Ammoniak infolge von Überentwicklung kann insbesondere bei Filmen auf Azetatbasis schädliche mechanische Wirkungen, wie z. B. das Einrollen des Filmes, zur Folge haben.The development time can be increased to ensure that all areas of the film are developed. However, this requires a significant extension of the development time (by twice or more), to get even a limited improvement. The increase in development time diminishes not only the great advantage of the short development time, but also has the disadvantage that many areas of the film image are overdeveloped. Overdevelopment needs the photometric one Properties of a developed image cannot be changed, but by the fact that the total amount of the through the film of absorbed ammonia increases, the ammonia consumption increases and the amount of ammonia increases, which is later given away by the film. This excessive absorption of ammonia as a result of Overdevelopment can have deleterious mechanical effects, particularly with acetate-based films z. B. the curling of the film result.

Eine andere Lösung des Problems besteht darin, die eingefangene Luft auszupumpen. Wenn die Entwicklungskammer nach dem Verschließen und vor der Zuführung von Ammoniak durch besondere Röhren und eine Vakuumquelle evakuiert wird, kann die ungleichmäßige Entwicklung infolge von in der Kammer enthaltener Luft vermieden werden. Die Evakuierung hat aber den Nachteil, daß der Aufwand stark erhöht wird. 'Another solution to the problem is to pump out the trapped air. When the development chamber after the closure and before the supply of ammonia is evacuated through special tubes and a vacuum source, the uneven Development due to air contained in the chamber can be avoided. The evacuation but has the disadvantage that the effort is greatly increased. '

Die einheitliche Entwicklung kann auch dadurch erzielt werden, daß man die Abdichtung etwas verschlechtert, so daß die eingefangene Luft aus der Entwicklungskammer ausgetrieben wird, wena Ammoniak zugeführt wird. Es wurden Entwicklungskammern gebaut, die diese kontrollierte Undichtigkeit aufweisen. Eine gleichmäßige Entwicklung wurde mit Metall-Film-Abdichtungen und Elastomer-Film-Dichtungen erzielt, wobei die Dichtung entlang ihrer gesamten Länge eine gewisse Undichtigkeit aufwies. Diese Lösung weist den Nachteil auf, daß mit der Luft auch Ammoniakgas entströmt, das nicht nur sehr stark korrosionsverursachend wirkt, sondern auch schon in relativ kleinen Konzentrationen giftig ist.The uniform development can also be achieved by slightly worsening the seal, so that the trapped air is expelled from the developing chamber when ammonia is supplied will. Development chambers have been built that have this controlled leakage. A uniform development was made with metal film seals and elastomer film seals achieved with the seal exhibiting some leakage along its entire length. This solution has the disadvantage that ammonia gas escapes with the air, which is not only very strong causes corrosion, but is also poisonous in relatively small concentrations.

Zweck der Erfindung ist es, eine Entwicklungskammer für Hochdruckentwicklung, insbesondere mit Ammoniak, zu schaffen, bei welcher wenig von demThe purpose of the invention is to provide a development chamber for high pressure development, in particular with Ammonia, to create with what little of that

ίο Entwicklermedium verlorengeht, die in der Entwicklungskammer enthaltene Luft oder ein anderes Medium aber so vom Film entfernt wird, daß eine gleichmäßige Entwicklung möglich ist.
Die Erfindung betrifft eine Entwicklungskammer für lichtempfindliche Schichten, bei welcher der lichtempfindlichen Schicht das Entwicklungsmedium, insbesondere Ammoniak, unter einem Druck zugeführt wird, der größer als 1 kp/cm² ist. Gekennzeichnet ist die Erfindung dadurch, daß die Entwicklungskammerίο developer medium is lost, but the air or another medium contained in the development chamber is removed from the film in such a way that uniform development is possible.
The invention relates to a developing chamber for photosensitive layers, in which the developing medium, in particular ammonia, is fed to the photosensitive layer under a pressure which is greater than 1 kgf / cm ² . The invention is characterized in that the development chamber

ao druckdicht ist und daß mit dem Entwicklungsraum eine Kammer (Luftkammer) verbunden ist, in die das in der geschlossenen Entwicklungskammer befindliche Medium, normalerweise Luft, beim Zuführen des Entwicklungsmediums entweichen kann..ao is pressure-tight and that a chamber (air chamber) is connected to the development space, into which the medium in the closed development chamber, normally air, when the development medium is fed can escape ..

Nachfolgend soll die Erfindung an Hand von in den ZeichnungendargestelltenÄüsführungsbeispielen näher · erläutert werden. Es zeigtIn the following, the invention is to be described in more detail on the basis of the examples shown in the drawings. explained. It shows

F i g. 1 eine perspektivische Ansicht eines Ausführungsbeispieles einer Entwicklungskammer gemäß der Erfindung, in welcher eine Luftkammer um den Umfang der Entwicklungskammer herum angeordnet ist, F i g. 2 eine Querschnittsdarstellung der Anordnung gemäß F i g. 1,F i g. 1 is a perspective view of an embodiment a development chamber according to the invention in which an air chamber around the periphery around the development chamber, FIG. 2 shows a cross-sectional representation of the arrangement according to FIG. 1,

F i g. 3 in perspektivischer Darstellung ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Entwicklungskammer,F i g. 3 shows a preferred exemplary embodiment of an inventive embodiment in a perspective view Development chamber,

F i g. 4 eine Querschnittsdarstellung der Anordnung gemäß der F i g. 3,
Fig. 5 eine weitere Ausführungsform einer Entwicklungskammer gemäß der Erfindung, bei welcher das Ammoniakgas nach der Entwicklung des Filmes in einer eigenen Kammer aufgefangen wird, ;F i g. 4 shows a cross-sectional representation of the arrangement according to FIG. 3,
5 shows a further embodiment of a development chamber according to the invention, in which the ammonia gas is collected in a separate chamber after the development of the film;

F i g. 6 einen Teil der Anordnung gemäß F i g. 5, nämlich die Entwicklungskammer, undF i g. 6 shows part of the arrangement according to FIG. 5, namely the development chamber, and

F i g. 7 eine Seitenansicht der F i g. 6.F i g. 7 is a side view of FIG. 6th

Erfindungsgemäß ist in der Entwicklungskammer an einer Stelle, die von der Zuführungsöffnung für das Entwicklermedium entfernt liegt, eine Luftkammer vorgesehen. Dadurch wird erreicht, daß das einströmende Entwicklermedium die dünne Schicht der eingefangenen Luft vor sich her in die Luftkammer schiebt, so daß der Filmoberfläche eine hohe Konzentration des 1 Entwicklermediums zugeführt wird. Es empfiehlt sich, die Entwicklungskammer möglichst dünn auszubilden, so daß möglichst wenig Vermischung zwischen dem eintretenden Entwicklermedium und der eingefangenen Luft stattfindet, so daß die Luft wirksam entfernt wird. Die Eintrittsöffnungen für das Entwicklermedium und die Austrittsöffnungen für die eingefangene Luft sollten geometrisch so angeordnet sein, daß die Luft von der gesamten Filmoberfläche entfernt wird.According to the invention is in the development chamber at a point from the feed opening for the Developer medium is removed, an air chamber is provided. This ensures that the inflowing Developer medium pushes the thin layer of trapped air into the air chamber in front of it, so that a high concentration of the developing medium is applied to the film surface. It is advisable, to make the development chamber as thin as possible, so that as little mixing as possible between the entering developing medium and the trapped air takes place so that the air is effectively removed. The inlet openings for the developer medium and the outlet openings for the trapped air should be geometrically arranged so that the air is removed from the entire film surface.

In den F i g. 1 und 2 ist eine Entwicklungskammer 1 dargestellt, die an der dem Film zugewandten Seite eine aus vier metallischen Stegen bestehende Abdichtung 2 und ein äußere, aus Elastomer bestehende Abdichtung3 aufweist. In einer realisierten erfindungsgemäßen Anordnung erheben sich die Oberflächen 4 der Abdichtung um etwa 0,2 mm über die Oberfläche der Grund-In the F i g. 1 and 2, a developing chamber 1 is shown, which on the side facing the film is a A seal 2 consisting of four metallic webs and an outer seal made of elastomer 3 having. In a realized arrangement according to the invention, the surfaces 4 of the seal rise by about 0.2 mm above the surface of the base

fläche 5, wodurch sich ein Hohlraum von 0,2 mm Höhe ergibt. Wie die F i g. 2 zeigt, wird ein Diazofilmß in einer Filmfensterkarte 7 mittels einer flachen Abschlußplatte 8 festgehalten, so daß die die Emulsion tragende Oberfläche 9 zur Entwicklungskammer 1 zeigt. Die Emulsion wird gegen die Metallabdichtung 2 und die Elastomerabdichtung 3 durch die flache Abschlußplatte 8 gedrückt. Die Ecken der Metallabdichtung 2 sind weggeschnitten, wie z. B. an der Stelle 10, damit die in der Entwicklungskammer enthaltene Luft in die Luftkammer 11 zwischen der Metalldichtung 2 und der Elastomerdichtung 3 entweichen kann. Nach Einführen des Filmes 6 in die Entwicklungskammer wird Ammoniak durch Öffnen des Ventils 12 eingeführt. Das Ammoniak wird in die Entwicklungskammer durch den konischen Verteiler 13 eingesprüht. surface 5, resulting in a cavity 0.2 mm in height. As the F i g. 2 shows a diazo meter is made held in a film window card 7 by means of a flat end plate 8, so that the emulsion bearing surface 9 to development chamber 1 shows. The emulsion is against the metal seal 2 and the elastomer seal 3 pressed through the flat end plate 8. The corners of the metal seal 2 are cut away, such as B. at the point 10, so that contained in the development chamber Air can escape into the air chamber 11 between the metal seal 2 and the elastomer seal 3. After the film 6 has been introduced into the developing chamber, ammonia is released by opening the valve 12 introduced. The ammonia is sprayed into the developing chamber through the conical manifold 13.

Bei Zuführung von Ammoniak unter hohem Druck im Bereich zwischen 3,5 bis 8 kp/cm² in die Entwicklungskammer wird die eingefangene Luft über die Öffnungen 10 in der Metallabdichtung 2 in die Luftkammer 11 gepreßt. Die Elastomerdichtung 3 bewirkt, daß •~) die Platte 1 und der Film 6 gasdicht aneinander anschließen, so daß keine Luft oder kein Gas nach außen dringen können. Mit dieser Entwicklungskammer ist also eine gleichmäßige Entwicklung der Filmfläche zwischen der metallischen Abdichtung 2 möglich, ohne daß Mittel zur Evakuierung notwendig sind.When ammonia is fed into the developing chamber under high pressure in the range between 3.5 to 8 kgf / cm ² , the trapped air is pressed into the air chamber 11 through the openings 10 in the metal seal 2. The elastomer seal 3 has the effect that the plate 1 and the film 6 adjoin one another in a gas-tight manner, so that no air or no gas can penetrate to the outside. With this development chamber, a uniform development of the film surface between the metallic seal 2 is possible without the need for evacuation means.

Die Entwicklungskammer der F i g. 1 hat den Nachteil, daß, obwohl die in Frage kommende Filmfläche gleichmäßig entwickelt wird, eine gewisse Entwicklung auch entlang der Filmflächen erfolgen kann, die den Abschluß der Luftkammer bilden. Bei bestimmten Arten der Filmfensterkarten ist dies kein Problem, da die Luftkammern unter solchen Flächen des Films gebildet werden können, die unter dem Fensterrand der Karte liegen. Bei Filmfensterkarten, bei welchen der Film so in die Karte eingesetzt wird, daß er nur einen relativ schmalen Rand des Fensters überdeckt, ergibt sich ein Verlust an Bildfläche. Die Anordnung gemäß den F i g. 1 und 2 erfordert, daß die Filmfläche so groß ist, daß sie beide Abdichtungen überdeckt. Wo die entwickelte Bildfläche möglichst nahe an den Rand •f der Filmkante heranreichen soll oder wo es erwünscht J ist, mehrere zu verschiedenen Zeiten zu entwickelnde ' Bilder dicht nebeneinander auf eine einzige Filmfläche zu bringen, hat die Anordnung gemäß F i g. 1 ihre Grenzen.The development chamber of FIG. 1 has the disadvantage that, although the film surface in question is developed uniformly, some development can also take place along the film surfaces which form the end of the air chamber. With certain types of film window cards this is not a problem, since the air chambers can be formed under those areas of the film which are below the window edge of the card. In the case of film window cards, in which the film is inserted into the card in such a way that it covers only a relatively narrow edge of the window, there is a loss of image area. The arrangement according to FIGS. 1 and 2 require that the film area be large enough to cover both seals. Where the developed image area f as close to the edge • of the film edge to come close or where it is desired J is more at different times to be developed 'images side by side to make a single film surface, has the arrangement according to F i g. 1 their limits.

Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung ist dieAccording to a development of the invention is the

Abdichtfläche gegenüber der Kante der Bildfläche sehr schmal, und die Luftkammer ist so angeordnet, daß sie nicht an die Filmoberfläche anschließt. Eine solche Ausbildung der Entwicklungskammer ermöglicht eine gleichmäßige Entwicklung der Bildflächen, wobei dieThe sealing surface is very narrow from the edge of the picture surface, and the air chamber is arranged so that it does not connect to the film surface. Such a design of the development chamber enables one uniform development of the image areas, whereby the

: Bildkanten bis dicht an den Rand des Filmes reichen ; können oder eine dichte Anordnung mehrerer Bilder ; auf der Filmoberfläche, wobei die einzelnen Bilder zu verschiedenen Zeiten entwickelt werden können.: Image edges extend right up to the edge of the film; can or a dense arrangement of several images ; on the film surface, whereby the individual images can be developed at different times.

Die F i g. 3 und 4 zeigen eine Entwicklungskam- : mer, bei welcher die Luftkammer 15 hinter einer Umlenkplatte 16 angeordnet ist, welche den Entwicklungs- ', raum auf der dem Film 17 abgewandten Seite begrenzt. Die Entwicklungskammer 18 besteht aus einer Grundplatte 19 mit einer kreisförmigen Abdichtung 30 und einer Umlenkplatte 16. Die Umlenkplatte 16 ist in die Grundplatte 19 eingesetzt, so daß sich ein Hohlraum sehr kleinen Volumens von etwa 0,6 mm Höhe zwischen der Oberkante 20 der Umlenkplatte 16 und der Oberfläche 17 der Filmemulsion bildet, wenn der Film durch die flache Abdeckplatte 22 gegen die Oberfläche 21 der Grundplatte gedrückt wird. Die Umlenkplatte 16 fügt sich dicht an die Seiten 23 und 24 der Grundplatte 19 an, und an den Stellen 25 und 26 befindet sich je ein Durchlaß. Die Umlenkplatte 16 weist auf ihrer Rückseite eine 0,05 bis 0,1 mm hohe Vertiefung 27 auf, so daß von dem Ammoniak-Zuführungsventil über die Eintrittsöffnung 28 Ammoniak zum ersten Durchlaß 25The F i g. 3 and 4 show a Entwicklungskam-: mer, wherein the air chamber 15 is located behind a deflector plate 16, which the developing 'space, delimited on the side facing away from the film 17. The development chamber 18 consists of a base plate 19 with a circular seal 30 and a baffle 16 and the surface 17 of the film emulsion forms when the film is pressed by the flat cover plate 22 against the surface 21 of the base plate. The baffle plate 16 fits tightly to the sides 23 and 24 of the base plate 19, and there is a passage at each of the locations 25 and 26. The baffle plate 16 has a 0.05 to 0.1 mm high recess 27 on its rear side, so that ammonia can flow from the ammonia supply valve via the inlet opening 28 to the first passage 25

ίο strömen kann. In entsprechender Weise hat die Umlenkplatte 16 an dem entgegengesetzten Ende ihrer Rückseite eine 0,1 bis 0,15 mm hohe Vertiefung 29, so daß eine Verbindung zwischen dem Durchlaß 26 und dem Hohlraum 15 gebildet wird. Im dargestellten Ausführungsbeispiel ist die Umlenkplatte 16 mit der Grundplatte 19 über Schrauben 31 verbunden.ίο can flow. The baffle has a corresponding manner 16 a 0.1 to 0.15 mm high recess 29 at the opposite end of its rear side, see above that a connection between the passage 26 and the cavity 15 is formed. In the illustrated In the exemplary embodiment, the deflection plate 16 is connected to the base plate 19 via screws 31.

Von dem Ventil 32 austretendes Ammoniak tritt über den ersten Durchlaß 25 auf voller Breite in das Bildfeld ein und erzeugt einen gleichmäßigen Fluß von Ammoniak über die Breite der Bildfläche, so daß die eingefangene Luft über den zweiten Durchlaß 26 am entgegengesetzten Ende des Bildfeldes entweicht. Der Hohlraum 15, der auch den zweiten Durchlaß 26 ent- " hält, und der Durchlaß auf der Rückseite der Umlenkplatte 16 ist ungefähr gleich dem Volumen des Entwicklungsraumes, welcher durch die Oberfläche 20 der Umlenkplatte 16, die Elastomerabdichtung 30, die Filmoberfläche 17 und die Vertiefung 27 "bis zum Ammoniakeinlaßventil 32 gebildet wird. Diese Entwicklungskammer wurde erfolgreich mit Filmfensterkarten geprüft. Bei dieser Ausführungsform betrug der Abstand zwischen der Oberfläche 20, der Umlenkplatte 16 und der Oberfläche der Filmemulsion 17 0,05 bis 0,1 mm.Ammonia exiting valve 32 enters the full width through first passage 25 Image field and creates an even flow of ammonia across the width of the image area, so that the trapped air escapes through the second passage 26 at the opposite end of the field of view. the Cavity 15, which also contains the second passage 26, and the passage on the rear side of the baffle 16 is approximately equal to the volume of the development space which is defined by the surface 20 of the The baffle 16, the elastomer seal 30, the film surface 17 and the recess 27 ″ up to Ammonia inlet valve 32 is formed. This development chamber has been successful with film window cards checked. In this embodiment, the distance between surface 20 was the baffle 16 and the surface of the film emulsion 17 0.05 to 0.1 mm.

Es sind auch Entwicklungskammern möglich, bei denen die Luftkammer an der Rückseite der Grundplatte angeordnet ist, wobei die Luftkammer über Löcher, die einen Durchmesser von 0,8 mm aufweisen, mit dem eigentlichen Entwicklungsraum verbunden ist.Development chambers are also possible in which the air chamber is on the back of the base plate is arranged, the air chamber via holes that have a diameter of 0.8 mm, is connected to the actual development space.

Während das Ammoniak über Zuführungsöffnungen entlang der einen Kante des Bildfeldes zugeführt wird, können Verbindungslöcher an der entgegengesetzten Kante oder, wenn in der Mitte eine einzige Zuführungsöffnung vorgesehen ist, um den Umfang des Bildfeldes zur Luftkammer hin angeordnet sein. Ein gleichförmiger Fluß und infolgedessen eine bessere Beseitigung der Luftreste kann erzielt werden, wenn man schmale Schlitze, wie in der Anordnung gemäß den F i g. 3 und 4, benutzt.While the ammonia is fed in via feed openings along one edge of the image field, For example, there may be connecting holes on the opposite edge or, if a single feed opening is provided in the center, around the perimeter of the image field be arranged towards the air chamber. A uniform one Flow and, as a result, better removal of air debris can be achieved by narrowing Slots, as in the arrangement according to FIGS. 3 and 4 are used.

Wesentlich ist, daß sich ein Flußpfad von der Ammoniakzuführung über die gesamte Bildfläche zu den Austrittsöffnungen ausbildet, so daß das Ammoniak die Luft in die Austrittsöffnungen preßt. Da das zusammengepreßte Volumen des Entwicklungsraumes vom Zuführungsventil zur Luftkammer am Ende jedes Entwicklungszyklus entfernt werden muß, empfiehlt es sich, das Volumen des Entwicklungsraumes möglichst klein zu halten. Die Anordnung gemäß den F i g. 3 und 4 hat sich als besonders vorteilhaft für Filmf ensterkarten erwiesen, bei denen die einzige Entwicklungskammer durch die etwa 0,075 mm dicke Abstufung in der Filmfensterkarte gebildet wird, wobei das eingepreßte Gas den Film gegen die Abschlußplatte drückt und dabei den Entwicklungsraum bildet. Offensichtlieh ist ein kleiner Entwicklungsraum erwünscht, da hierbei ein Minimum von Ammoniak erforderlich ist. Darüber hinaus ermöglicht ein Entwicklungsraum geringer Höhe eine wirksamere Beseitigung der Luftreste,It is essential that there is a flow path from the ammonia supply over the entire image area to the Forms outlet openings so that the ammonia presses the air into the outlet openings. Since that compressed Volume of the development space from the supply valve to the air chamber at the end of each Development cycle must be removed, it is advisable to use the volume of the development space as possible to keep it small. The arrangement according to FIGS. 3 and 4 has proven to be particularly beneficial for film window cards in which the only development chamber due to the approximately 0.075 mm thick gradation in the film gate card is formed with the injected gas pushing the film against the end plate and thereby forms the development space. Obviously, a small development space is desirable because this requires a minimum of ammonia. In addition, a development space allows less Height a more effective removal of air residues,

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und die Gefahr der Vermischung von Ammoniak und Um den Entwicklungsraum 114 herum ist ein Luft wird vermindert. Gummidichtungsring 120 gelegt, der aus der Ober-. Die Größe der Luftkammer sollte abhängig von dem fläche etwa 0,5 mm herausragt. Wenn die Abdeckzusammengedriickten Volumen der Entwicklungs- platte 113 den Film gegen den Abdichtring 120 preßt kammer sein, so daß bei jedem gegebenen Druck etwas 5 und das Ammoniak unter hohem Druck in den EntAmmoniak auch über die Einlaßöffnung der Luft- wicklungsraum eingegeben wird, ist der Entwicklungskammer fließt, um sicher zu sein, daß die ganze einge- raum 114 absolut dicht, so daß das Ammoniakgas nicht fangene Luft aus dem Entwicklungsraum beseitigt austreten kann, wodurch der unangenehme Geruch wird, ehe der Druck in der Luftkammer gleich dem in vermieden wird und eine hohe Konzentration von ' der Entwicklungskammer ist. io Ammoniak in dem Entwicklungsraum 114 und damitand the risk of ammonia and air being mixed around the developing space 114 is reduced. Rubber sealing ring 120 placed from the upper. The size of the air chamber should protrude about 0.5 mm depending on the area. When the cover compressed volume of the developing plate 113 presses the film against the sealing ring 120 so that at any given pressure some 5 and the ammonia under high pressure is also introduced into the de-ammonia via the inlet opening of the air-winding space, the developing chamber is flows in order to be sure that the whole of the chamber 114 is absolutely tight, so that the ammonia gas can escape from the developing chamber not trapped air, whereby the unpleasant smell becomes, before the pressure in the air chamber equal to that in is avoided and a high concentration of 'the developing chamber is. io ammonia in the development space 114 and therewith

Etwas eingefangene Luft wird sich natürlich auch in auch eine gleichmäßige Entwicklung des Filmes ge-A little trapped air will of course also result in an even development of the film.

der Luftkammsr befinden, ehe das Gas unter Druck währleistet ist.the air chamber before the gas is under pressure.

zugeführt wird. Die Luftkammer wird am Ende des Auf der Rückseite des Entwicklungsraumes ist eineis fed. The air chamber is at the end of the. At the back of the development space is one

Entwicklungsvorganges etwas eingeströmtes Ammo- Luftkammerl21 vorgesehen, in welche die im Ent-Ammo air chamber (21) which has flowed into the development process and into which the

niakgas wie auch Luft enthalten. Die Größe der Luft- 15 wicklungsraum 114 enthaltene Luft gedrückt wird. Sehrcontain niakgas as well as air. The size of the air 15 winding space 114 contained air is pressed. very

kammer und die in der Luftkammer enthaltene Gas- gute Ergebnisse hat man mit einer Luftkammer 121 er-chamber and the gas contained in the air chamber - good results have been achieved with an air chamber 121

menge am Ende eines Entwicklungsvorganges kann zielt, die die gleiche Gestalt und die gleiche Lage hatquantity at the end of a development process can target that has the same shape and the same position

etwas verkleinert werden, wenn man eine Luftkammer wie der Entwicklungsraum 114. Bei einer Ausf ührungs-something be reduced when an air chamber as the developing room 114. ührungs- In an exemplary

verwendet, die sich ausdehnen kann. form der Erfindung hat die Luftkammer 121 eine Höheused that can expand. According to the invention, the air chamber 121 has a height

Eine ausdehnbare Luftkammer kann man dadurch 20 von ungefähr 0,4 mm. Das sich dabei ergebende VoIu-An expandable air chamber can thereby be made of approximately 0.4 mm. The resulting volume

erhalten, daß man in die Luftkammer eine Membrane menverhältnis von 2 zu 3 zwischen dem Entwicklungs-get that in the air chamber a membrane volume ratio of 2 to 3 between the development

einsetzt, die sich deformiert, wenn der Druck in der raum 114 und der Luftkammer 121 hat sich als sehrUses that is deformed when the pressure in the space 114 and the air chamber 121 has been very

Entwicklungskammer ansteigt, oder dadurch, daß man günstig erwiesen.Development chamber increases, or by being proven favorable.

in die Luftkammer ein schwammartiges Material, z. B. Eine in der Mitte liegende Eintrittsöffnung 122 dientin the air chamber a sponge-like material, e.g. B. A central inlet opening 122 is used

aus Urethan, einsetzt, das sich zusammenpreßt, wenn 25 zur Zuführung des Ammoniaks unter hohem Druck inmade of urethane, which compresses when 25 to feed the ammonia under high pressure in

der Druck ansteigt, so daß das Volumen der Luft- den Entwicklungsraum 114. Entlang der Kante desthe pressure increases, so that the volume of air- the development space 114. Along the edge of the

kammer abnimmt. Hohlraumes sind in gleichmäßigen Abständen zehnchamber decreases. Are ten evenly spaced

Die Anordnung gemäß F i g. 5 enthält ein solenoid- Auslässe 123 vorgesehen, durch welche. die einge? gesteuertes Dreiweg-Ventil 110, ein Gehäuse 111, einen fangene Luft in die Luftkammer 121 ausströmen kann. Entwicklungsraum 114 und eine Grundplatte 112. Das 30 Die Öffnungen 122 und 123 haben einen Durchmesser Ventil 110 dient dazu, die Einführung von Ammoniak von ungefähr 0,8 mm. Das aus dir ia der Mitte liegenin dsn Entwicklungsraum 114 und damit an den zu den öffnung 122 einströmende Ammoniak verteilt sich entwickelnden Film zu steuern, und es hat außerdem die gteichmäßig in alle Richtungen, um den Entwicklungs-Aufgabe, die Abführung das Ammoniaks aus dem raum zu füllen und mit allen Teilen des Filmes etwa Entwicklungsraum 114 in einen Absorber 115 am Ende 35 zur gleichen Zeit in Berührung zu kommen, so daß eine eines jeden Entwicklungsvorgangss zu steuern. gleichmäßige Entwicklung stattfindet. Die Austritts-The arrangement according to FIG. 5 includes a solenoid outlets 123 provided through which. which turned? Controlled three-way valve 110, a housing 111, a trapped air into the air chamber 121 can flow out. Development space 114 and a base plate 112. The 30 The openings 122 and 123 have a diameter valve 110 is used to the introduction of ammonia of about 0.8 mm. The developing film is to be controlled from the middle in the developing space 114 and thus distributed to the ammonia flowing in to the opening 122 , and it also has the same development in all directions to carry out the development task, the removal of the ammonia from the space and to come into contact with all parts of the film approximately developing space 114 in an absorber 115 at the end 35 at the same time, so that one of each developing process can be controlled. uniform development takes place. The exit

Das verwendete Ammoniak kann einen Druck im öffnungen 123 ermöglichen es, daß die eingefangeneThe ammonia used can create a pressure in the openings 123 to enable the trapped

Bereich von 3,5 bis 8 kp/cm² aufweisen. Besonders Luft im Entwicklungsraum sofort und gleichmäßig ausRange from 3.5 to 8 kgf / cm ² . Especially air in the development room immediately and evenly

empfehlenswert ist es, das für Kühlzwecke verwendete allen Teilen der Entwicklungskammer beseitigt wird,it is recommended that all parts of the development chamber used for cooling purposes are disposed of,

wasserfreie Ammoniak bei einem Druck von 40 was auch zur gleichmäßigen Entwicklung des Filmesanhydrous ammonia at a pressure of 40 which also helps to develop the film evenly

5,5 ± 0,35 kp/cm² zu verwenden. Beim Ausf ührungs- beiträgt.5.5 ± 0.35 kp / cm ² to be used. When it comes to implementation.

beispiel gemäß den F i g. 5 bis 7 enthält der Ammoniak- Um die Luftkammer 121 herum ist ein Gummiab-•Vorratsbehälter 116 etwa 1,5 kg Ammoniak. Das Drei- dichtring 124 gelegt, der entsprechend dem Abdichtwegeventil 110 ist mit dem Gehäuse 111 verbunden, und ring 120 ausgebildet ist. Schraubenlöcher 125 sind vorder Ammoniakbehälter 116 ist über ein ein- und aus- 45 gesehen, um die Grundplatte 112 dicht mit dem Geschaltbares Ventil 118 und einen Druckregler 118 a häuse 111 zu verbinden, so daß die Luftkammer 121 mit einer Verbindungsleitung 117 verbunden. Wie in dicht ist (F i g. 5). Die Grundplatte 112 ist so ange-F i g. 5 dargestellt, ist der Druck des Ammoniaks im ordnet, daß sich die in der Mitte befindliche Eintritts-Vorratsbehälter 116 bei einer Raumtemperatur von öffnung 122 in Verlängerung der Zuführungsleitung 126 20⁰C etwa 8,7 kp/cm². Mit abnehmender Temperatur 50 von dem Dreiweg-Ventil 110 befindet. Eine Abdichnimmt der Druck ab, und mit zunehmender Temperatur tung 127, die aus einem Gummiring mit kreisförmigem nimmt der Druck zu. Der Druckregler 118 a dient dazu, Querschnitt besteht, dichtet die Verbindung zwischem den Druck des Ammoniaks so zu regeln, daß er etwa dem Ventil 110 und der Eintrittsöffnung 122 ab, um zu 5,5 kp/cm² beträgt, wenn das Ammoniak in das Ven- verhindern, daß das zugeführte Ammoniak in die Lufttil 110 eintritt. Wenn gerade nichts entwickelt wird, 55 kammer 121 entweichen kann.:
befindet sich der Schieber 119 im Dreiwegeventil in Im Betrieb wird eine belichtete Filmfensterkarte 128 seiner unteren Stellung, wie in F i g. 5 dargestellt, so so eingeführt, daß sie sich zwischen der Abdeckplatte daß der Durchgang 117 gesperrt ist und das Ammoniak 113 und dem Entwicklungsraum 114 befindet. Ein nicht in den Entwicklungsraum 114 eintreten kann. Kartenanschlag kann verwendet werden, damit dieexample according to FIGS. 5 to 7 the ammonia contains around the air chamber 121 a rubber reservoir • 116 about 1.5 kg of ammonia. The three sealing ring 124 is placed, which is connected to the housing 111 corresponding to the sealing way valve 110 , and ring 120 is formed. Screw holes 125 are in front of the ammonia container 116 is seen in and out to connect the base plate 112 tightly to the switchable valve 118 and a pressure regulator 118 a housing 111 so that the air chamber 121 is connected to a connecting line 117 . As in is dense (Fig. 5). The base plate 112 is thus shown. 5, the pressure of the ammonia in the ranks that the inlet located in the center reservoir 116 at a room temperature of opening 122 in extension of the supply conduit 126 20 ⁰ C for about 8.7 kgf / cm ^2. With decreasing temperature 50 of the three-way valve 110 is located. The pressure decreases, and with increasing temperature device 127, which consists of a rubber ring with a circular shape, the pressure increases. The pressure regulator 118 a is used, there is a cross-section, seals the connection between the pressure of the ammonia to regulate so that it is about the valve 110 and the inlet opening 122 to 5.5 kp / cm ² when the ammonia in the Prevent the supplied ammonia from entering the air valve 110. If nothing is being developed, 55 chamber 121 can escape .:
If the slide 119 in the three-way valve is in operation, an exposed film window card 128 is in its lower position, as in FIG. 5, so inserted that it is between the cover plate that the passage 117 is blocked and the ammonia 113 and the developing space 114 is located. One cannot enter the development space 114 . Card stop can be used to keep the

Die Grundplatte 112, die in den F i g. 6 und 7 groß 60 Karten immer in die richtige Lage für die Entwicklung dargestellt ist, besteht aus einem kreisförmigen metal- gelangen. Natürlich befindet sich die Seite des Filmes, lischen Block, aus dem aus der einen Seite ein recht- .die die Emulsion trägt, auf der Seite des Entwicklungseckiger Hohlraum ausgefräst ist, der den relativ dünnen raumes. Die Karte ist so angeordnet, daß die Bild-Entwicklungsraum 114 bildet. Die Form des Hohl- .fläche des Filmes sich innerhalb des Abdichtringes 120 raumes entspricht der Form der Bildfläche, wie sie bei 65 befindet, wenn die Karte gegen den Entwicklungsraum Filmfensterkarten üblich ist. Der Entwicklungsraum gedrückt wird.The base plate 112 shown in FIGS. 6 and 7 large 60 cards are always shown in the correct position for development, consists of a circular metal- get. Of course, there is the side of the film, like a block, from which a right-hand side that carries the emulsion is milled out on the side of the development-angular cavity, which forms the relatively thin space. The card is arranged so that it forms the image developing space 114 . The shape of the hollow. Area of the film is within the sealing ring 120 space corresponds to the shape of the image area, as it is located at 65 when the card against the development space film window cards is common. The development space is depressed.

114 befindet sich auf der Seite des Filmes, die die Emul- Nachdem die Karte in die richtige Lage gebracht 114 is on the side of the film that the emul- After the card is placed in the correct position

sion trägt, seine Tiefe beträgt vorzugsweise 0,25 mm. .wurde, wird durch einen Mechanismus die Abdeckplat-sion carries, its depth is preferably 0.25 mm. .has been made, the cover plate is

Claims

te 113 moved towards the development room. During the development process, the image area of the film forms the end of the development space 114, with the annular seal 120 sealing off the development space that is formed in the process. Next, the slide 119 is moved upwards so that the outlet pipe 131, which is connected to an absorber 115, is closed, and at the same time the connection between the lines 117 and 126 is opened. The ammonia under high pressure from the container 116 can now pass through the lines 117 and 126 into the inlet opening 122 in order to fill the development space 114. The air trapped in the developing space 114 during the closing of the developing space and the inflowing ammonia gas are distributed in all directions from the inlet port 122. All air contained in the developing space 114 is pushed to the edge of the developing space 114 and escapes through the ten exhaust ports 123 into the air chamber 121. Thus, the trapped air which would interfere with the development is immediately removed from the emulsion surface of the film, so that a very rapid and even development takes place. The length of the development process depends on the type of diazo film to be developed. Development times of 0.8 and 0.25 seconds were measured for two common types of commercially available diazo films and an ammonia pressure of 5.5 kp / cm2. At the end of the development process, the three-way valve 110 is switched off so that the slide 119 is in the position shown in FIG. The situation shown in 5 falls back. The entry path 117 is thus closed and the exit path 131 is opened. The ammonia gas now flows back from the cavities, via the opening 122 in the middle, the lines 126 and 131 into the absorber 115, which contains an absorbent material 132, e.g. B. citric acid contains. After the ammonia gas has been expelled, the cover plate 113 is removed again from the cavity and the card is issued. It is advisable to expel the gas and bring the cavities back to atmospheric pressure before removing the cover plate. Otherwise, if the pull-off mechanism for the cover plate 113 were switched off, the cover plate could be thrown back again by the resulting vacuum, whereby the seal and the sliding mechanism for the cover plate 113 would be damaged and ammonia gas could also escape. A particular advantage in the high pressure ammonia development of film window cards is that the card parts surrounding the film do not have to be inserted into the developing chamber. This prevents the cards from getting wet or changing their color. In the illustrated embodiment of FIG. 5 to 7, the arrangement and the area of the chambers 114 and 121 are the same and correspond to the size of the film area to be developed. Thus, the material outside the part of the film to be developed is not affected. The developing chamber according to the invention can also be used if a different developer is used instead of the ammonia and if the medium to be developed is a different photosensitive material, for example a diazo-treated paper. ίο patent claims:

1. Development chamber for light-sensitive layers, in which the light-sensitive layer is supplied with the development medium, in particular ammonia, under a pressure which is greater than 1 kp / cm ² , characterized in that the development chamber (1, 18) is pressure-tight and that with a chamber (air chamber 11, 15) is connected to the development space, into which the medium, normally air, located in the closed development chamber (1, 18) can escape when the development medium is supplied.

2. Development chamber according to claim 1, characterized in that the air chamber (11) is arranged around the circumference of the development space and that it has interrupted webs (2) is separate from this. -

3. Development chamber according to claim 1, characterized in that the air chamber (15) is arranged behind a plate (16), which the development space on the film (17) facing away Side limited.

4. Development chamber according to claim 3, characterized in that in the bottom of a cavity a baffle plate (16) with passage slots (25, 26) is inserted at two opposite ends, that the air chamber (15) and an inlet opening (28) for the development medium be formed by milling on the side of the baffle plate (16) facing the bottom of the cavity, that the developing medium is admitted through the inlet opening (28) in the bottom of the cavity and that the part of the cavity facing away from the bottom of the cavity forms the development space that passes through the photosensitive surface to be developed (17) and a cover plate (22) are closed.

5. Development chamber according to one of the claims 1 to 4, characterized in that the The height of the development space is very small compared to the dimensions of the image area, in particular on the order of 0.5 to 1 mm.

6. Development chamber according to one of claims 1 to 5, characterized in that the air chamber is expandable.

7. Development chamber according to one of claims 1 to 6, characterized in that an absorber (115) is connected via a valve (110) which sucks off the developing medium after development.

1 sheet of drawings

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