DE1522542A1 - Process for the optical sensitization of inorganic photoconductors - Google Patents
Process for the optical sensitization of inorganic photoconductorsInfo
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Description
Verfahren zur optischen Sensibilisierung anorganischerProcess for the optical sensitization of inorganic
PhotoleiterPhotoconductor
Die Erfindung betrifft ein Aufzeichnungs- und Reproduktionsmaterial, das eine spektral sensibilisierte anorganische Photoleitersubstanz enthält, sowie ein Verfahren zur Sensibilisierung dieser Substanz.The invention relates to a recording and reproducing material containing a spectrally sensitized inorganic Contains photoconductor substance, and a method for sensitizing this substance.
Als anorganische Photoleitersubstanzen sind beispielsweise die Oxide, Sulfide und Selenide von Zink, Cadmium, Quecksilber, Antimon, Wismuth.und Blei bekannt.Inorganic photoconductor substances are, for example, the oxides, sulfides and selenides of zinc, cadmium, mercury, Known as antimony, bismuth, and lead.
Als Sensibilisatoren für anorganische Photoleitersubstanzen eignen sich sowohl anorganische als auch organische Verbindungen. So sind z.B. für die Sensibilisierung von photoleitfähigem Zinkoxid, Quecksilfrersulfid, Bleioxid und Bleijodid oder organische Farbstoffe, wie Triphenylmethanderivate, SuIfonphthaleine und Cyaninfarbstoffe verschiedener Struktur vorgeschlagen worden.Both inorganic and organic compounds are suitable as sensitizers for inorganic photoconductor substances. For example, for the sensitization of photoconductive zinc oxide, mercury sulfide, lead oxide and lead iodide or organic dyes such as triphenylmethane derivatives, sulfonphthalein and cyanine dyes of various structures has been proposed.
909837/12 01 A-G 118 909837/12 01 AG 118
It wurde nun gefunden, daß organische Verbindungen, die mit dem Metallion eines anorganischen Photoleiters einen gefärb ten Chelatkomplex bilden können, den anorganischen Photolei ter optisoh sensibilieieren.It has now been found that organic compounds which can form a colored chelate complex with the metal ion of an inorganic photoconductor, optisoh sensitize the inorganic photoconductor.
Insbesondre wurde gefunden, daß bestimmte Klassen von ohelatbildenden Verbindungen photoleitfähiges Zinkoxid im Absorptionsbereich des gebildeten Chelates optisch sensibilisieren. line trat· Htsao eelcher Verbindungen wird duroh dl· allf«n»iae form·! (I) besehriebent In particular, it has been found that certain classes of ohelate-forming compounds optically sensitize photoconductive zinc oxide in the absorption region of the chelate formed. line entered · Htsao eelcher connections is duroh dl · allf «n» iae form ·! (I) described t
* C-* C-
£ -NH-H-C-£ -NH-H-C-
In dieser formel stehtThis formula says
£ für ein Wasserstoffatom und einen Alkylreat, z.B. einen Alkylrest mit 1 bis 5 C-Atomen»£ for a hydrogen atom and an alkyl atom, e.g. one Alkyl radical with 1 to 5 carbon atoms »
2 bzw. 2· bedeuten die fehlenden Glieder, die zur Bildung eines 5- oder 6-glledrigen stickstoffhaltigen Ring·· notwandifsind. Dieser 5- oder 6-fiing kann zusätzlich zum Stickstoffatom ein oder mehrere Heteroatome, beispielsweise Sauerstoff, Stickstoff, Selen oder Schwefel enthalten und so einen hetero cyclischen Ring bilden, beispielsweise aus der Ihiazolreihe (z.B. Thiazol, 4-Methylthiazol, 4-Methyl-5-carbäthpxythiazol, 4-Phenylthiazol, 5-Methylthiazol, 5-Phenylthiazol, 4-(p-Tolyl)-thiaz<bl, 4-(p-Bromphenyl)thiazol, 4,5-Dimethylthiazol, 4,5-Diphenylthiazol, 4-(2-Ihienylthiazol, 4-(m-Hitrophenyl)-thiazol) oder aus der Benzthiazolreihe (z.B. Benzthiazol, 4-Chlorbenzthiazol, 5-Chlorbenzthiazol, 6-Chlorbenzthiazol, 7-Chlorbenzthiazol, 4-Methylbenzthiazol, 5-Methylbenzthiazol, 6-Methylbenz- 2 or 2 · the missing links, necessary to form a 5- or 6-glledrigen nitrogen-containing ring ·· notwan dif are mean. This 5- or 6-ring can contain one or more heteroatoms in addition to the nitrogen atom, for example oxygen, nitrogen, selenium or sulfur and thus form a heterocyclic ring, for example from the ihiazole series (e.g. thiazole, 4-methylthiazole, 4-methyl-5 -carbethpxythiazole, 4-phenylthiazole, 5-methylthiazole, 5-phenylthiazole, 4- (p-tolyl) -thiaz <bl, 4- (p-bromophenyl) thiazole, 4,5-dimethylthiazole, 4,5-diphenylthiazole, 4- (2-Ihienylthiazole, 4- (m-nitrophenyl) -thiazole) or from the benzothiazole series (e.g. benzthiazole, 4-chlorobenzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, 7-chlorobenzthiazole, 4-methylbenzthiazole, 5-methylbenzthiazole, 6-methylbenzthiazole -
thiaeol, 5-Brombenzthiazoi, 6-Brombenzthiazol, Benzthia- A fl 1ia 909837/1201 9 thiaeol, 5-bromobenzthiazoi, 6-bromobenzothiazole, benzthia- A fl 1ia 909837/1201 9
A I I - 2 - BAD AII - 2 - BATH
«ol-6-8ulfoneäure, 4-Phenylbenzthiazol, 5-Phenylbenz- thiazol, 4-Methoxybenzthiazol, 5-Methoxybenzthiazol, 6-Methoxybenzthiazol, 5-Jodbenzthiazol, 6-Jodbenzthia- zol, 4-i.thoxybenztniazol, 5-Athoxybenzthiazol, 4,5,6,7- ffttrahydrobenzthiazol, 5,6-Dimethpxybenzthiazol, 5,6-Dioxyaethylenbenzthiazol, 5-Hydroxybenzthiazol, 6-Hydro- xybenzthiazol, 5,6-Dimethylbenzthiazol) oder aus der laphthothiazolreihe (z.B. Haphtho[^,1-d] thiazol, Naphtho [Γ,2-3] thiazol, 5-Methoxynaphtho pt2-d]thiazol, 5-Xthoxy- naphtho [j , 2-d] thiazol, Θ-Μβ thoxy naphtho \2,1 -cQ thiazol, 7-MethoxynaphthoQ,1-d]thiazole au« der Thionaphtheno U,6-d| thiazolreihe (z.B. 7-Methoxythionaphtheno[7,6-d] thiazol), aus der Thiadiazolreihe (z.B. 4-Phenylthiaiia- sol), Mt der Oxazolrtih· (i.B. 4-lUthyloxaiol, 5-Mtthyloxa-■ol, 4-Ph»nyloxaeol, 4,5-Diph*nyloxazol, 4-ithyloxaeol, 4,5- DlJithtyloxaeol, 5-Ph«nyloxa«ol), aua dtr Benzoxazol™ihe (z.B. Benzoxazol, 5-Chlorbenzoxazol, 5-Methylbenzoxazol, 5- fhenylbenzoxazol, 6-Methylbenzoxazol, 5,6-Dimethylbenz- oxazol, 4,6-Dimethylbenzoxazol, 5-1^e thoxy benzoxazol, 6-Methoxybenzoxazol, 5-Hydroxybenzoxazol, 6-Hydroxybenz- oxazol), aue der Naphthoxazolreihe (z.B. Naphtho[?,1-d] oxazol, Haphtho Q,2-d}oxazol), aue der 8elenazolreihe (z.B. 4-Methylselenazol, 4-Phenylaelenazol), aus der Benzaelenasolreihe (z.B. Benzaelenazol, 5-Chlorbenzeele- nazol, 5-Hethoxybenz8elenazol, 5-Hydroxybenzselenazol, 4,5,6,7-Tetrahydrobenzeelenazol), aus der Naphthosele- nazolreihe (z.B. Naphtho [5,1-dj selenazol, Naphtho Q ,2- «Ol-6-8ulfonic acid, 4-phenylbenzthiazole, 5-phenylbenzothiazole, 4-methoxybenzthiazole, 5-methoxybenzthiazole, 6-methoxybenzthiazole, 5-iodobenzothiazole, 6-iodobenzothiazole , 4-i.thoxybenzotniazole, 5-ethoxybenz , 5,6,7- ffttrahydrobenzthiazole, 5,6-dimethpxybenzthiazole, 5,6-dioxyaethylenebenzthiazole, 5-hydroxybenzthiazole , 6- hydroxybenzthiazole, 5,6-dimethylbenzthiazole) or from the laphthothiazole series (e.g. haphtho [^ , 1 - d] thiazole, naphtho [Γ, 2-3] thiazole, 5 -Me thoxynaphtho pt 2-d] thiazole, 5- Xthoxynaphtho [j, 2-d] thiazole, Θ-Μβ thoxy naphtho \ 2 , 1 -cQ thiazole, 7-methoxynaphtheno [7,6-d] thiazole from the thionaphtheno U, 6-d | thiazole series (e.g. 7-methoxy thionaphtheno [7,6 -d] thiazole), from the thiadiazole series (e.g. 4-phenylthiaiia-sol), Mt der Oxazolrtih · (iB 4-lUthyloxaiol, 5-Mtthyloxa- nol , 4-Ph "nyloxaeol, 4,5-Diph * nyloxazole, 4-Ithyloxaeol, 4,5-DlJithtyloxaeol, 5-Ph" nyloxa "ol), also the benzoxazole (eg benzoxazole, 5-chlorobenzoxazole, 5-methylbenzoxazole, 5- phenylbenzoxazole, 6-methylbenzoxazole zol, 5,6-dimethylbenzoxazol , 4,6-dimethylbenzoxazol, 5- 1 ^ e thoxybenzoxazol, 6-methoxybenzoxazol, 5-hydroxybenzoxazol, 6-hydroxybenzoxazol ), except for the naphthoxazol series (e.g. naphtho [?, 1- d] oxazole, Haphtho Q, 2-d} oxazole), the 8elenazolreihe (eg aue 4-methylselenazole, 4-Phenylaelenazol) from which Benzaelenasolreihe (eg Benzaelenazol, 5-Chlorbenzeele- Nazole, 5-Hethoxybenz8elenazol, 5-Hydroxybenzselenazol, 4 , 5,6,7-tetrahydrobenzeelenazole) , from the naphthosele- nazole series (e.g. naphtho [5,1 -dj selenazole, naphtho Q, 2-
A-Q 118 - 3 - AQ 118 - 3 -
909837/1201909837/1201
eefenazol), aus der 2-Chinolinreihe (z.B. Chinolin, 3-Methylchinolin, 5-Methylchinolin, 7-Methylchinolin, 8-Methylchinolin, 6-Chlorchinolin, 8-Chlorchinolin, 6-Methoxychinolin, 6-lthoxychinolin, 6-Hydroxychinolin, 8-Hydroxychinolin usw.), aus der Pyridinreihe oder aus der Chinoxalineine, aus der Chinazolinreihe oder aus der 1-Phthalazinreihe, aus der 2-Pyridinreihe (z.B. Pyridin, 5-Methylpyridin, 3-Nitropyridin), aus der Benziaidazolreihe (z.B. 1-Äthylbenzimidazol, 1-Phenylbenzimidazol, 1-Xthyl-5,6-Dichlorbenzimidazol, 1-Hydroxyäthyl-5,6-dichlorbenzimidazol, 1-Äthyl-5-chlorbenzimidasol, i-Ithyl-^iö-dibrombenzimidazol, 1-Äthyl-5-dhlor-6-aminobenzimidazol, 1-Äthyl-5-Chlor-6-brombenzimidazol, 1-üthyl-5-phenylbenzimidazol, 1-Äthyl-5-fluorbenzimidazol, 1-Ithyl-5,6-difluorbenzimidazol, 1-Äthyl-5-cyanbenzimidazol, 1-(^-acetoxyäthyl)-5-cyanbenzimidazol, 1-Äthyl-5-chlor-6-cyanb8nzimidazol, 1-Äthyl-5-fluor-6-cyanbenzimidazol, 1 -Ji.thyl-5-eBetylbenzimidazol, 1 -Äthyl-S-chlor-e-f luorbenzimidacol, i-Äthyl-5-carboxybenzimidazol, 1-ithyl-7-oarboxybenzimidazol, 1-ithyl-5-carbäthoxybenzimidazol, i-ithyl-7-carbäthoxybenzimidazol, 1-Äthyl-5-eulphamylbenzimidazol oder 1-Äthyl-5-N-äthyleu]pkanylbenzimidazol.eefenazole), from the 2-quinoline series (e.g. quinoline, 3-methylquinoline, 5-methylquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, 6-chloroquinoline, 8-chloroquinoline, 6-methoxyquinoline, 6-lthoxyquinoline, 6-hydroxyquinoline, 8-hydroxyquinoline etc.), from the pyridine series or from the quinoxalineine, from the quinazoline series or from the 1-phthalazine series, from the 2-pyridine series (e.g. Pyridine, 5-methylpyridine, 3-nitropyridine), from the benziaidazole series (e.g. 1-ethylbenzimidazole, 1-phenylbenzimidazole, 1-ethyl-5,6-dichlorobenzimidazole, 1-hydroxyethyl-5,6-dichlorobenzimidazole, 1-ethyl-5- chlorobenzimidazole, i-ethyl- ^ iö-dibromobenzimidazole, 1-ethyl-5-dhlor-6-aminobenzimidazole, 1-ethyl-5-chloro-6-bromobenzimidazole, 1-ethyl-5-phenylbenzimidazole, 1-ethyl-5-fluorobenzimidazole, 1-ethyl-5,6-difluorobenzimidazole, 1-ethyl-5-cyano-benzimidazole, 1 - (^ - acetoxyethyl) -5-cyano-benzimidazole, 1-ethyl-5-chloro-6-cyano-azimidazole, 1-ethyl-5-fluoro 6-cyanobenzimidazole, 1-ethyl-5-ebetylbenzimidazole, 1-ethyl-S-chloro-e-f luorbenzimidacol, i-ethyl-5-carboxybenzimidazole, 1-ithyl-7-oarboxybenzimidazole, 1-ithyl-5-carbethoxybenzimidazole, i-Ithyl-7-carbethoxybenzimidazole, 1-ethyl-5-eulphamylbenzimidazole or 1-ethyl-5-N-ethyleu] pkanylbenzimidazole.
Die folgende Liete enthält eine Zueammeneteilung von Hydraeonverbindungen, auf die in den Aueführungebeiepielen Bezug genommen wird.The following list contains a division of Hydraeon compounds referred to in the examples.
A-O 118 - 4 - BAD C AO 118 - 4 - BATH C
909837/1201909837/1201
.-1^1-NH-N.- 1 ^ 1 -NH-N
NH-N=HC-NH-N = HC-
C „C "
-CH=N-NH--CH = N-NH-
0"""TI*0 "" "TI *
4 ' 2 4 ' 2
. ZnSO. ZnSO
HC' xC-NH-N=CH- ^S-C NHC ' x C-NH-N = CH- ^ SC N
C-NH-N=CH-C-NH-N = CH-
-NH-N=CH--NH-N = CH-
NH-N=CH-NH-N = CH-
si ti—Si — On— si ti — Si — On—
A-OA-O 909837/1201 - 5 -909837/1201 - 5 -
12.12th
13.13th
H.H.
15.15th 16.16.
17.17th
18.18th
19.19th
20.20th
C-NH-N=CH-C-NH-N = CH-
HC-C NHC-C N
-NH-N=CH--NH-N = CH-
H3C- C__ NH 3 C- C__ N
L_NL_N -NH-N=CH--NH-N = CH-
HO3S-HO 3 S- -C-NH-N=CH- ^N>-C-NH-N = CH- ^ N >
SS.
0-CH=N-NH-C I O -CH = N-NH-CI
NH-N=CH-NH-N = CH-
NH-N=CH-NH-N = CH-
-NH-N=CH--NH-N = CH-
NO,NO,
A-GA-G 909837/1201 - 6 -909837/1201 - 6 -
21.21st
Ν0Λ Ν0 Λ -NH-N=CH- f*N -ι-CH-NH-N = CH- f * N -ι-CH
LiLi
LiLi
22.22nd
NO,NO,
23.23 CHCH
24.24. ' J N' Y N
0-NH1-N=C-j^" >|0-NH 1 -N = Cj ^ "> |
-NH-N=CH--NH-N = CH-
H,C-H, C-
26.26th 27.27 26.26th 29.29 30.30th
O-O-
^i.^ i.
.-NH-N=CH-.-NH-N = CH-
^S>-NH-N=CH- f^N>-^ S > -NH-N = CH- f ^ N > -
0-NH-N=CH-^X0-NH-N = CH- ^ X
909837/1201 7 -909837/1201 7 -
31.31.
32.32. 33.33. 3434
35.35. 36.36. 37.37.
NH-N=CH-NH-N = CH-
Ö-CHoN 7Ö-CHoN 7
Br-Br-
Vm.i V mi COCO
Vj-NH-N=CH-^ >-C -N [^J Vj-NH-N = CH- ^> -C -N [^ J
-N=CH- <N^,-N = CH- < N ^,
NH-N=CH-f*N-^-CHNH-N = CH-f * N - ^ - CH
Ü"Ü "
▲-a ns▲ -a ns
909837/1201 - 8 -909837/1201 - 8 -
•ν• ν
In 3.1. Geldard, F. Lions,/J.Am. Chem. Soc. 84, 2262-3(1962)In 3.1. Geldard, F. Lions, / J.Am. Chem. Soc. 84, 2262-3 (1962)
beschrieben. rs* Die Herstellung des Hydrazone 23 wird beschrieben vondescribed. rs * The manufacture of the Hydrazone 23 is described by »■Λ ϊ. Linons, K.V. Martin in J. Am. Chem. Soc. 80, 3858-65 (1958).»■ Λ ϊ. Linons, K.V. Martin in J. Am. Chem. Soc. 80: 3858-65 (1958).
10 Das Hydrazon 4 kann wie folgt hergestellt werdeni 10 The hydrazone 4 can be prepared as follows werdeni
0,145 Mol des Hydrazone 1 werden in 350 ecm siedenden Acetone aufgelöst. Zu der erhaltenen Lösung werden 0,15 Mol Zinksulfat-i-Wasser gelöst und in 100 ecm fässer unter Ruhren hinzugefügt.0.145 moles of Hydrazone 1 are boiled in 350 ecm acetone dissolved. 0.15 mol of zinc sulfate-i-water are dissolved in the resulting solution and poured into 100 ecm barrels with stirring added.
Die Lösung wird gekühlt. Der gebildete Hiederschlag wird abgenutsoht, einmal mit kaltem lasser und zweimal mit Äthanol gewasohen und anschließend bei 10O0C getrocknet. Analyse ιThe solution is cooled. The Hiederschlag formed is abgenutsoht, once with cold Lasser and twice gewasohen with ethanol and then dried at 10O 0 C. Analysis ι
berechnet ι C 34,2 gefunden! C 33,92calculated ι C 34.2 found! C 33.92
H 3,37 H 3,70H 3.37 H 3.70
N 14,52 N 14,11N 14.52 N 14.11
S 8,31 S 8,87S 8.31 S 8.87
Die Hydrazonverbindung 5 entsteht beim Erhitzen der Verbindung in einem ölbad auf 2200C für 3 Stunden.The hydrazone compound 5 is formed by heating the compound in an oil bath at 220 0 C for 3 hours.
Die übrigen Hydrazone lassen sich nach folgender gemeinsamer Vorschrift herstellen!The other hydrazones can be produced according to the following common procedure!
Man löst oder dispergiert 0,025 lol der entsprechenden Hydrazinderivate in Äthanol und vermischt diese Lösung mit einer Lösung von 0,025 Mol der entsprechenden Aldehydderivate in 25 qcm Äthanol. Das Reaktionsgemisch wird nun A-G 118 - 9 -One dissolves or disperses 0.025 lol of the corresponding hydrazine derivatives in ethanol and mixes this solution with a solution of 0.025 mol of the corresponding aldehyde derivatives in 25 qcm of ethanol. The reaction mixture is now AG 118 - 9 -
BAD 0RK5INALBATHROOM 0RK5INAL
909837/1201909837/1201
CMCM
LO (N (N UOLO (N (N UO
Ir.Ir.
30 Minuten lang auf dem Wasserbade im Rückfluß erhitit. lach dem Abkühlen saugt man den entstandenen Niederschlag ab, wäscht ihn mit Äthanol und trocknet. In den meisten fällen ist das erhalten« Produkt so rein, daß eine weitere Reinigung überflüssig ist. Lediglich die Verbindungen 20 und 22 werden au« Ithylenglycolmonomethyläther umkristallisiert. Dl« folgende Tabelle enthält die Ausgangsprodukte, die Schmelzpunkte und die Analysenresultate der nach der vorstehenden Torschrift hergestellten Hydrazone.Refluxed on the water bath for 30 minutes. After cooling, the precipitate formed is filtered off with suction, washed with ethanol and dried. In most cases it is the product is so pure that further purification is superfluous. Only connections 20 and 22 become recrystallized from ethylene glycol monomethyl ether. The following table contains the starting products that Melting points and the analytical results of the hydrazones prepared according to the above Torschrift.
Aldehyd !Schmelz- Aldehyde ! Melting
|p unkt| point
UeaenteUeaente
bereotw gefun-reotw found
netnet
denthe
1010
NHRH,NHRH,
H9N-NH-C-^NH 9 N-NH-C- ^ N
« UM" AROUND
οο
H0N-NH-C^CH 2 h tiH 0 N-NH-C 1 -C H 2 h ti
N C-CgHN C-CgH
NH J-NHNH,NH J-NHNH,
γΎίγΎί
L· JL -J-NHNHL · JL -J-NHNH
NHNH,NHNH,
t J-CHO N t J-CHO N
195195
IL J-CHO N IL J-CHO N
I^ J-CHO NI ^ J-CHO N
Q-CHOQ-CHO
266266
210210
260260
t J-t J-
>26O> 26O
CHOCHO
CH.-CH.-
220220
CQ-CQ-
244244
-q-q
909837/1201909837/1201
- 10 -- 10 -
H
3H
3
C
H
3C.
H
3
C
HC.
H
C
HC.
H
C HC. H
67.53 4.4567.53 4.45
59.80 3.9259.80 3.92
11.4611.46
.25.25
4.28 11.424.28 11.42
65.80 4.6465.80 4.64
67.50 4.4267.50 4.42
68.50 4.9468.50 4.94
72.30 4.3572.30 4.35
67.49 4.2567.49 4.25
60.0260.02
4.164.16
11.1111.11
64.1864.18
4.444.44
11.1311.13
65.56 4.8265.56 4.82
67.66 4.6067.66 4.60
68.25 4.8968.25 4.89
72.07 4.6472.07 4.64
1212th
1313th
1414th
1515th
H9N-NH- w^S>H 9 N-NH- w ^ S >
°6H5° 6 H 5
H2N-NH- j<3 ^- COOC2H5 H 2 N-NH- j < 3 ^ - COOC 2 H 5
N .-CK,N.-CK,
HgN-NH-HgN-NH-
-OH-OH
rf1-18-Γ γrf 1 - 18 -Γ γ
N i-N i-
1717th
1919th
2020th
ί Nί N
H2N-NH- ^ -NH 2 N -NH- ^ -N
ϊϊ Ϊ-SCH „-<*->>ϊϊ Ϊ-SCH "- <* - >>
coco
NHNHjNHNHj
NH-NH,NH-NH,
H2N-H 2 N-
NH-NH-
NO, CHONO, CHO
CHOCHO
COCO
C-C-
CH,-Ϊ J-CHO J N CH, -Ϊ J-CHO J N
CO-OHO CO- OHO
ClCl
-CHO-CHO
-CHG-CHG
F J-CHOF J-CHO
69.46 4.2769.46 4.27
10.0910.09
53.96 5.0853.96 5.08
10.6310.63
55*71 5.45 10.6155 * 71 5.45 10.61
59.63 4.66 9.1959.63 4.66 9.19
46.5646.56
3.25 19.383.25 19.38
54.92 4.01 19.2854.92 4.01 19.28
67.69 4.3667.69 4.36
72.15 4.4872.15 4.48
A-GA-G - 11 -- 11 -
909837/1201909837/1201
2121
Ui-Ui-
UO,UO,
r*J2 r * J 2
ΠΛΠΛ
25 ,- .r25, - .r
ο 5ο 5
2727
H1-H 1 -
ET TTTT ^-*"ET TTTT ^ - * "
AsAs
i-<*2i - <* 2
Π 230Π 230
-CHC-CHC
260260
210210
,J-CHO, J-CHO
233233
ITIT
CK,-IL -i-CHOCK, -IL -i-CHO
• i• i
H
3H
3
C
H
3C.
H
3
C
H
SC.
H
S.
ί3'ί 3 '
fie :, fie:
53.9353.93
3.863.86
T-TT-T
i C !74.00i C! 74.00
H
3H
3
236236
H
SH
S.
U _ _,U _ _,
j ϊ ΐ !j ϊ ΐ!
;{ s ij; {s ij
!205! 205
4.434.43
7-87-8
65.3065.30
4.764.76
10.8910.89
G (66.20G (66.20
5.20
1C.405.20
1C.40
59.63 3.51 8.8559.63 3.51 8.85
67.82 5.62 8.4667.82 5.62 8.46
71.09 4.51 9.2571.09 4.51 9.25
71 .62 8.32"71 .62 8.32 "
74 .07 4.51 8.0074.07.451 8.00
65.60.65.60.
4.584.58
10.8810.88
66.2466.24
5.205.20
10.3710.37
JJ
909837/1201 BAD909837/1201 BAD
HHHH.HHHH.
MB- f MB- f
/J. 33 iH F m ^S / J. 33 i HF m ^ S
Γ 2 "l "3 Γ 2 " l " 3
3737
hi jhi j
TTTT
ν»ν »
O-O-
260260
.J-GKO.J-GKO
>26O> 26O
CH,- i!CH, - i!
230230
250250
iH i H
54.37 54.4054.37 54.40
3.733.73
13.1713.17
65.80
4.0665.80
4.06
j C 55.70j C 55.70
50.10
3.06
8.9250.10
3.06
8.92
51.50
3-49
8.5851.50
3-49
8.58
3.35 13.253.35 13.25
65.72 4.3965.72 4.39
208208
-CHOi-CHOi
IT 174IT 174
-CHOi-CHOi
H
SH
S.
C
H
SC.
H
S.
3.18
7.823.18
7.82
65.3065.30
4.764.76
10.9010.90
6464
5.345.34
50.32 3.15 9.1650.32 3.15 9.16
51 ^], 3.67 8.6051 ^], 3.67 8.60
55.90 3.40 7.6855.90 3.40 7.68
65.5665.56
5.06.5.06.
11.3211.32
63.$-6 5.39 $ 63 - 6 5.39
A-G- 118A-G- 118
- 13 -- 13 -
SO 983 7/ 1 20SO 983 7/1 20
ί ί,ί ί,
uiTxo zweite Gruppe dar eriindun^agemäßon Verbindungen Tvird durch folgende allgemeine Porael (II) uiTxo second group constituted by the following general Porael (II)
beschriebenίdescribedί
Ό - NH - N =CHΌ - NH - N = CH
rii02r ii0 2
Z' hat in diesar formel die ^laiche Sodautunß- wie in iPormsl (Γ)Z 'has in this formula the ^ spawning soda as in iPormsl (Γ)
3u der allsomainöß Jormol (II) oaion folgondo Bsijpiai 3orianrit *3u the allsomainöß Jormol (II) oaion Followondo Bsijpiai 3orianrit *
Yerbindun^ 3Qi Yerbindun ^ 3Qi
ndur^ 39 3ndur ^ 39 3
-ITO,-ITO,
i i:i i:
Schinelapunlc-t 225 CSchinelapunlc-t 225 C
lcc 254lcc 254
Verbindung 40sConnection 40s
Yerbindu:i3 41 3Yerbindu: i3 41 3
\-^-'^-HH-IT=C H-\ - ^ - '^ - HH-IT = C H-
.D.D
UlWj,UlWj,
, -CII^-S- ^1X -2IH=Ii-GH- .-/^ -30 - ', -CII ^ -S- ^ 1 X -2IH = Ii-GH- .- / ^ -30 - '
3cxus8lzpunkt 239°C3cxus8lzpunkt 239 ° C
j.i-j.i-
2220G222 0 G
.Tür dl3 rijdracono nach dar all^saolnen Morsel (XI).Door dl3 rijdracono to dar all ^ saolnen Morsel (XI)
•u .ij.Acr .!,oaunj von 0,1 LIoI ΰίηοα• u .ij.Acr.!, Oaunj of 0.1 LIoI ΰίηοα
- W C3 0 O / / ί Γ. Ü i- W C3 0 O / / ί Γ. Ü i
der allrjoaoinonthe allrjoaoinon
BAD OR]-GIMAL'BAD OR] -GIMAL '
1 ■ is- 1 ■ is-
u- G - 3H - HHo u - G - 3H - HHo
in üor 3* dio glaiclio Bedeutung τ»1β obon beochriobon hat, in 50 qQzi abaol^riasa Alkohol ^?ird sine Lösung von Of1 Molin üor 3 * dio glaiclio meaning τ »1β obon beochriobon, in 50 qQzi abaol ^ riasa alcohol ^ ird its solution of O f 1 mol
in -50 q.c.m aooolutom Äthanolin -50 q.c.m aooolutom ethanol
rsciilas· 2ao Rcaktionageni30;i Tiird Ώ-αη 15 liinuton lang aa ^aaaerbade Im RUckfluQ oriii't.r; ?λζιΙ aaaCiilio.'Sojid goliüiilt. 2cr arhal^ano Hiedarochlagrsciilas · 2ao Rcaktionageni30; i Tiird Ώ-αη 15 liinuton long aa ^ aaaerbade Im RUckfluQ oriii't.r; ? λζιΙ aaaCiilio.'Sojid goliüiilt. 2cr arhal ^ ano Hiedarochlag
siiQl.^-'ibil.Io^.urr Verbindungen wird durch ίίηα 2οκ:βΙ (III)siiQl. ^ - 'ibil.Io ^ .urr connections is through ίίηα 2οκ: βΙ (III)
— -J- -J
- /S-UQ0 - / S-UQ 0
SJ: i. ;-5 1:3. üIdijOZ ΓαΙΙο dia ~Iciche Sedeutung «la in darSJ : i. ; - 5 1: 3. üIdijOZ ΓαΙΙο dia ~ Iciche meaning «la in dar
Λ1.Ί D3ir;pialQ für aio allgasoiiie Pormsl (III) aoion folgendeΛ1.Ί D3ir; pialQ for aio allgasoiiie Pormsl (III) aoion following
! .; Schmelzpunkt >260°C! .; Melting point> 260 ° C
~Q~ Q
:~" 2 Schmalspualri; >260°G: ~ "2 narrow spur; > 260 ° G
3 0 3 3 3 7/1201 lad orksimal3 0 3 3 3 7/1201 lad orksimal
für die der allgemeinen formel (III) entsprechenden Verbindungen gilt folgendes Herstellungverfahrenι The following production process applies to the compounds corresponding to the general formula (III)
Zu 0,1 Mol S-Hitrothiophen^-carboxyaldehyd (Dokl. Akad. lauk. SSSR 83 (1952) 85-8) gelöst in 160 qcm Äthanol wird o,1 Mol eines Hydrazins der allgemeinen Formel 0.1 mol of a hydrazine of the general formula is added to 0.1 mol of S-nitrothiophene ^ -carboxyaldehyde (Dokl. Akad. Lauk. SSSR 83 (1952) 85-8) dissolved in 160 qcm of ethanol
- NH - NH2 - NH - NH 2
zugefügt.added.
In dieser formel hat Z1 die weiter oben beschriebene Bedeutung. Das Hydrazin wird in 100 qcm Äthanol gelöst eingesetzt. Hachdem man das Reaktionsgemisch 1 Stunde lang auf dem Wasserbad e im Rückfluß erhitzt hat, wird abgekühlt, der entstandene fiederschlag abgenutscht und hintereinander mit Äthanol und Ät.htr gewaschen.In this formula, Z 1 has the meaning described above. The hydrazine is used dissolved in 100 qcm ethanol. Hachdem the reaction mixture was heated for 1 hour on a water bath e at reflux, is cooled, the resulting fiederschlag filtered with suction and washed successively with ethanol and Ät.htr.
für eine vierte Gruppe gilt die allgemeine Formel (IV)tthe general formula (IV) t applies to a fourth group
JHn-CJH n -C
f JT-NH-CrS· CH0-CH' ^ ^ f JT-NH-CrS • CH 0 -CH ' ^ ^
l2 l 2
Z1 hat hier die gleiche Bedeutung wie in der allgemeinen formel (I).Z 1 has the same meaning here as in the general formula (I).
Hn typische· Beispiel für die allgemeine Formel (IV) ist
folgende Verbindung!
Verbindung 44tA typical example of the general formula (IV) is the following compound!
Connection 44t
-NH-N-CH-CH2-B-Ch2-CH2-S-CH2-CH-N-NH--NH-N-CH-CH 2 -B-Ch 2 -CH 2 -S-CH 2 -CH-N-NH-
Eine Herstellungsvorschrift für diese Verbindung gibtA manufacturing specification for this connection gives
i4Q 909837/1201 i4Q 909837/1201
118 - 16 - 118 - 16 -
θΑϋ OnKi■;·θΑϋ OnKi ■; ·
F. Lions, K.V. Martin in J. Am. Chem. Soc. 80 (1958) 3860.F. Lions, K.V. Martin in J. Am. Chem. Soc. 80 (1958) 3860.
Eine fünfte Klasse geeigneter Verbindungen hat die allgemeine Formel (V)tA fifth class of suitable compounds has the general formula (V) t
Die Verbindungen 4-5» 46 und 47 f in denen R^ Wasserstoff, Methoxy und Methylthio sein kann, werden nach der von F.A. Snavely, W.S. Trahanovsky und F.H. Suydam, Inorg. Chem 3 (1964) 123 beschriebenen Vorschriften hergestellt.The compounds 4-5 »46 and 47 f in which R ^ can be hydrogen, methoxy and methylthio, are according to that of FA Snavely, WS Trahanovsky and FH Suydam, Inorg. Chem 3 (1964) 123 described procedures.
Eine sechste Klasse geeigneter Verbindungen wird durch die allgemeine Formel (VI) beschrieben!A sixth class of suitable compounds is described by the general formula (VI)!
R0 M - N - / V R 0 M - N - / V
R^Ni -N-.3 HR ^ Ni -N-. 3 H.
Hierin bedeutenMean therein
R2 und R, Wasserstoff oder Alkyl, beispielsweise Methyl oder sie stehen gemeinsam für ein Atomydas notwendig ist einen homocyclischen Ring zu schließen, beispielsweise eine (GHp), Gruppe;R 2 and R, is hydrogen or alkyl, for example methyl or they are required together for a Atomydas is to close a homocyclic ring, for example a (GHP) group;
Z1 hat die gleiche Bedeutung wie in der allgemeinen Formel (I)IZ 1 has the same meaning as in general formula (I) I.
Beispiele für Verbindungen nach der allgemeinen Formel (VI) sindl 909837/1201Examples of compounds according to the general formula (VI) are 909837/1201
A-S 118 -17- AS 118 -17-
Verbindung 481Compound 481
Schmelzpunkt 2160CMelting point 216 ° C
hergestellt nach F. Lions, K.V. Martin, J.· Am.Ohem.Soc, 80 (1958) 3858.manufactured according to F. Lions, K.V. Martin, J. Am.Ohem.Soc, 80 (1958) 3858.
Verbindung 49 *Connection 49 *
H.H.
,CrNi-NH-, CrNi-NH-
Schmelzpunkt >260°CMelting point> 260 ° C
hergestellt nach B. Chiswell, F. Lions, Inorg. Chem. 3 (1964) 490.manufactured according to B. Chiswell, F. Lions, Inorg. Chem. 3 (1964) 490.
Eine siebente Gruppe beschreibt die allgemeine Formel (VII) ιA seventh group describes the general formula (VII) ι
^C=N-NH-^ C = N-NH-
C=O
R5
in der R- und R^ für Alkyl, beispielsweise Methyl, Aryl,C = O
R 5
in which R- and R ^ for alkyl, for example methyl, aryl,
beispielsweise Phenyl steht und Z' die gleiche Bedeutung wie in der allgemeinen Formel (I) hat.for example phenyl and Z 'has the same meaning as in general Formula (I) has.
A-G 118A-G 118
- 18 -- 18 -
bad c~yy:.-i:\\. bad c ~ yy: .- i : \\.
909837/1201909837/1201
.-C=N-NH-.-C = N-NH-
»V“V
C=N - HH-C = N - HH-
CeO H7O- CeO H 7 O-
Verbindung link 5555 11
C=Ji-NH-C = Ji-NH-
<Τ~*>-O=Jf-NH-<Τ ~ *> - O = Jf-NH-
A-G 118A-G 118
Schmelzpunkt HO CMelting point HO C
Schmelzpunkt 178 CMelting point 178 ° C
Schmelzpunkt 166 CMelting point 166 ° C
Schmelzpunkt 169 CMelting point 169 ° C
Schmelzpunkt 182 CMelting point 182 ° C
Schmelzpunkt 190 CMelting point 190 ° C
Schmelzpunkt 222 CMelting point 222 ° C
- 19 -- 19 -
909837/1201909837/1201
Die Verbindungen 50-55 werden nach der von B. Ohiswell, F. Lions, M.I. Tomlinson gegebenen Vorschrift hergestellt. Die Verbindung 56 läßt sich analog den Verbindungen 50-55 herstellen. Compounds 50-55 are prepared according to the given example of Ohiswell, F. Lions, MI Tomlinson provision. The connection 56 can be established analogously to the connections 50-55 .
Eine achte Gruppe hat die allgemeine Formel (VIII)t An eighth group has the general formula (VIII) t
Die Yerbindunger 57, 58, 59 und 60, in denen Rg für Wasserstoff, Methyl, Carbäthoxy und Benzoyl steht, werden nach B. Eistert, H. Selzer, Ohem Ber. 96 (1963) 3U-319 hergestellt.The compounds 57, 58, 59 and 60, in which Rg stands for hydrogen, methyl, carbethoxy and benzoyl, are based on B. Eistert, H. Selzer, Ohem Ber. 96 (1963) 3U-319.
Außerdem seien in diesem Zusammenhang mit Zinkionen Chelate bildende Verbindungen genannt, die einen aromatischen Kern enthalten, der in o-Stellung zu einer Hydroxylgruppe eine -CB>N~Gruppierurg, eine -CO-NH-NsCH-Gruppierung, eine -N=N-arylgruppe oder ein -CH=N-N=CH-arylgruppe tragen, sowie ( chtlatbildende Verbindungen, die in o-Stellung zu einer Carboxylgruppe tine Azogruppe tragen.In addition, compounds which form chelates with zinc ions and contain an aromatic nucleus which, in the o-position to a hydroxyl group, contain a -CB> N ~ grouping, a -CO-NH-NsCH grouping, an -N = N- Carry aryl group or a -CH = NN = CH-aryl group, as well as ( chtlat-forming compounds which carry tine azo group in the o-position to a carboxyl group.
Beispiele für solche Azoverbindungen finden sich in der deutschen Patentanmeldung mit dem Titel "Verfahren zur Entwicklung elektrostatischer Bilder", die gleichzeitig mit der vorliegenden Anmeldung eingereicht wurde.Examples of such azo compounds can be found in the German patent application entitled "Process for Electrostatic Image Development ", filed concurrently with the present application.
A-G 118 - 20 - AG 118 - 20 -
909837/1201909837/1201
Verbindung 61 ι Connection 61 ι
Schmelzpunkt >260°GMelting point> 260 ° G
wird wie folgt hergestellt!is made as follows!
Zu 0,1 Mol 2(o-Aminophenyl)benzimidazol (Ber. 32,1465) gelöst in 10 ecm Äthanol fügt man 0,1 Mol Salicylaidehyd zu. Das Reaktionsgemisch wird 2 Stunden lang auf dem Wasserbade am Rückfluß erhitzt. Der dabei entstandene Niederschlag wird abgenutscht und mit Äther gewaschen. Schmelzpunkt τ 26O0G, 0.1 mol of salicylaidazole is added to 0.1 mol of 2 (o-aminophenyl) benzimidazole (Ber. 32,1465) dissolved in 10 ecm of ethanol. The reaction mixture is refluxed on the water bath for 2 hours. The resulting precipitate is filtered off with suction and washed with ether. Melting point τ 26O 0 G,
Verbindung 62«Connection 62 «
3-GH0-CO-NH-N=CH-3-GH 0 -CO-NH-N = CH-
2|2 |
^H Schmelzpunkt 213°0^ H melting point 213 ° 0
HG ά XS-CH2 HG ά X S-CH 2
-GO-NH-N=GH- AA-GO-NH-N = GH-AA
Die sensibilisierenden Verbindungen werden vorzugsweise in gelöster Form für die Sensibilisierung des anorganischen Photoleiters eingesetzt, wobei der Photoleiter im Normalfalle in Form einer Lösung oder einer Dispersion in einem Bindemittel verwendet wird. Die sensibilisierenden Verbindungen können vor der Verarbeitung, beispielsweise gelöst in Dimethylformamid, mit dem Photoleiter, z.B. Zinkoxid vermischt werden. Die Verbindung wird dann auf dem Photoleiterkorn absorbiert und kann mit den vom Photoleiter angebotenen Metallionen einen Komplex bilden. Der so behandelte Photoleiter wird anschließend mit einem geeigneten BindemittelThe sensitizing compounds are preferably used in dissolved form used for the sensitization of the inorganic photoconductor, the photoconductor in the normal case is used in the form of a solution or a dispersion in a binder. The sensitizing compounds can be mixed with the photoconductor, e.g. zinc oxide, before processing, for example dissolved in dimethylformamide will. The compound is then absorbed on the photoconductor grain and can be used with those offered by the photoconductor Metal ions form a complex. The photoconductor treated in this way is then coated with a suitable binder
vermischt, wonach die so hergestellt Mischung auf einen A-G 118 21 -mixed, after which the mixture produced in this way is transferred to an AG 1 18 21 -
909837*71201909837 * 71201
geeigneten Schichtträger aufgebracht werden kann.suitable support can be applied.
Die sensibilisierende Verbindung kann auch wie in Beiapiel 2 beschrieben in komplexer Form benutzt werden. Die Behandlung der photoleitfähigen Substanz mit der sensibilisierenden Verbindung in der nicht komplexen Form stellt zwar keine Bedingung dar, soll aber als bevorzugte Ausführungsform gdten.The sensitizing compound can also be used as in Beiapiel 2 described in a complex form. The treatment of the photoconductive substance with the sensitizing Connection in the non-complex form is not a condition, but should be considered a preferred embodiment.
Die sensilisiereriden Verbindungen gemäß der vorliegenden Erfindung werden vorzugsweise in Verbindung mit einer Säure angewandt, um das Vorhandensein von Metallionen zu gewährleisten. Nach einer bevorzugten Ausfiihrungsform werden die in der belgischen Patentschrift 612 102 beschriebenen sauren Verbindungen benutzt, die den Dunkelwiderstand des photoleitfähigen Zinkoxids erhöhen. Im übrigen kann die spektraleThe sensitizing compounds according to the present invention are preferably used in conjunction with an acid applied to ensure the presence of metal ions. According to a preferred embodiment, the acidic ones described in Belgian patent 612,102 Compounds used that increase the dark resistance of the photoconductive zinc oxide. Otherwise the spectral
Seneibilisierung der photoleitfähigen Schichten gemäß der vorliegenden Erfindung auch durch andere als die hier beschriebenen sensibilisierenden Verbindungen verändert werden.Sensitization of the photoconductive layers according to of the present invention is also modified by sensitizing compounds other than those described herein will.
Solche Kombinationen mit anderen optisch sensibiliaieranden Verbindungen werden dann von Interesse sein, wenn die Photoleiterschicht für den gesamten Bereich des sichtbaren Spektrum empfindlich sein soll, also beispielsweise im Falle einer Photoleiterschicht, die für die Herstellung von Mehrfarbenprodukten bestimmt ist.Such combinations with other optical sensitizers Connections will be of interest if the photoconductor layer covers the entire area of the visible Spectrum should be sensitive, for example in the case of a photoconductor layer that is used for the production of multicolor products is determined.
Das Mengenverhältnis von Photoleiter und eensibilisierender Verbindung kann innerhalb weiter Grenzen variieren und ist von dem angestrebten Effekt.abhängig. Die sensibilisierendenThe ratio of the photoconductor and the sensitizing agent Compound can vary within wide limits and is dependent on the desired effect. The sensitizing ones
A-G 118 - 22 - AG 118 - 22 -
909837/1201909837/1201
Yerbin-Yerbin
dungen können beispielsweise in einem Bereich von 0,001 bis 0,5 Gewichts-^,bezogen auf den Photoleiter, eingesetzt Herden. Für dae hier beschriebene Verfahren besonders geeignete eeneibilisierende Verbindungen sind in der in Beispiel 3 gegebenen Tabelle 2 verzeichnet. Die Mehrzahl dieser Verbindungen wirkt im Bereich von 440 - 5T5 mn senaibiliaierend. Applications can, for example, in a range from 0.001 to 0.5 wt .- ^, based on the photoconductor, used herds. Particularly suitable for described herein dae method eeneibilisierende compounds are listed in the Example 3 given in Table 2 below. The majority of these compounds have a sensitizing effect in the range of 440-5-5 mn.
In einer bekannten Anwendungsform der Xerographie werden Photoleiterbindemittelkombinationen benutzt, die einen spezifischen elektrischen Widerstand von wenigstens 10 0hm.cm zeigen. In a known application of xerography, photoconductor binder combinations are used which exhibit a specific electrical resistance of at least 10 ohm.cm.
Sas Mengenverhältnis τοη Photoleitersubstanz und Bindemittel kann innerhalb weiter Grenzen variieren. Ein ftewichtsverhltltni· τοη Bindemittel und Photoleiter von 111 bis 110 wird hierbei bevorzugt. Sie Sicke der Photoleiterschicht kann innerhalb weiter Grenzen auf den vorgesehenen Verwendungs zweck des Aufzeichnungsmaterial abgestimmt werden. Gute Ergebnisse erhält man Bit Photoleiterschichtei deren Sicke 1 - 20^und vorzugsweise 3 - 10/*beträgt. Zu dünne Schiohten haben ungenügende Isolierungeeigenschaften, während zu dicke •ohlchten verlängerte Belichtungszeiten erfordern. The quantitative ratio of photoconductor substance and binder can vary within wide limits. A weight ratio of binder and photoconductor of 111 to 110 is preferred here. The bead of the photoconductor layer can be matched within wide limits to the intended use of the recording material. Bit photoconductor layers with a bead of 1 - 20 ^ and preferably 3 - 10 / * are obtained. Too thin layers have inadequate insulation properties, while layers that are too thick require longer exposure times.
Geeignete Bindemittel für anorganische Photoleiter werden beispielsweise in der belgischen Patentschrift 612 102 and
in der britischen Patentschrift 964 885 beschrieben. Sie
Fotoleitfähig· Schicht, die Photoleiter enthält, die sich der vorliegenden Erfindung
A-Q 118 - 23 - Suitable binders for inorganic photoconductors are described, for example, in Belgian patent 612 102 and British patent 964 885. You photoconductive layer that contains photoconductors, embodying the present invention
AQ 118 - 23 -
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entsprechend seneibilisieren lassen, kann zusätzlich photoleitfähige Substanzen enthalten, die mit den erfindungegemäflen Verbindungen nicht sensibilisiert werden können. Es eind dies z.B. monomere organische Photoleiter, wie sie in den belgischen Patentschriften 585 507, 585 555, 587 301, 585 450, 587 794, 589 239, 594 794, 595 696, 597 616 und 625 683 beschrieben sind. Hierzu gehören auch die in der belgischen Patentschrift 599 627 und in den britischen Patentschriften 964 871, 964 877 und 964 875 beschriebenen organnischen polymeren Photoleiter. Darüber hinaus kann dt· Photoleiterechicht auch Zusätze enthalten, die sich für bestimmte Beschichtungstechniken bewährt haben. So z.B. Pigmente (vergl. dazu die belgische Patentanmeldung 609 056) oder auch Verbindungen, die den Glanz und/oder die Viskosität beeinflussen, Verbindungen, die das Altern und/ oder die Oxidation der Schicht verhindern oder Verbindungen, die ihre thermische Stabilität verbessern. Bei der Auswahl werden die Verbindungen bevorzugt, die den Dunkelwiderstand der Photoleiterschicht am wenigsten herabsetzen.can be suitably sensitized, photoconductive Contain substances with the erfindungegemäflen Compounds cannot be sensitized. These include, for example, monomeric organic photoconductors, as described in Belgian patents 585 507, 585 555, 587 301, 585 450, 587 794, 589 239, 594 794, 595 696, 597 616 and 625 683 are described. This also includes those in the Belgian patent 599 627 and in British patents 964 871, 964 877 and 964 875 organic polymeric photoconductors described. In addition, dt Photoconductor layer also contain additives that are suitable for certain coating techniques have proven effective. E.g. pigments (see Belgian patent application 609 056) or also compounds that affect gloss and / or viscosity, compounds that affect aging and / or the Prevent oxidation of the layer or compounds that improve its thermal stability. When choosing, the Preferred compounds which reduce the dark resistance of the photoconductor layer the least.
Das erfindungsgemäß-.sensibiliaferte Photoleitermaterial kann nach einem der bekannten Verfahren hergestellt werden. So läßt sich die Photoleitermischung mit einem geeigneten LöBungs- oder Dispersionsmittel für den Binder nach einer der bekannten Techniken auf eine Unterlage auftragen. Der Auftrag kann beispielsweise durch Aufsprühen, durch Anschleudern, im Tauchverfahren oder auch mit Hilfe eines Rakels erfolgen. Der Schichtträger wird im Hinblick auf die Technik der Belichtung,der Aufzeichnung, der Entwicklung und/oderThe sensitized photoconductor material according to the invention can be produced by one of the known processes. So can the photoconductor mixture with a suitable Apply solvent or dispersant for the binder to a base using one of the known techniques. Of the It can be applied, for example, by spraying on, by spinning, in the immersion process or with the aid of a doctor blade take place. The support is in view of the technology of exposure, recording, development and / or
A-G 118 909837/Jfcpl AG 118 909837 / Jfcpl
des Umdruckes ausgewählt, nach der das Aufzeichnungsmaterial verarbeitet werden soll.of the transfer printing selected, after which the recording material should be processed.
für den xerographischen Uinsatz wird eine Unterlage bevorzugt, die einen elektrischen Volumenwiderstand besitzt, der kleiner als der des Schichtmaterials ist. Geeignete Schichtträger beschreiben beispielsweise die belgischen Patent schriften 602 794, 612 102 und 610 060 und das U.S. Patentschrift 3 008 825. for xerographic use, a support is preferred which has an electrical volume resistance which is lower than that of the layer material. For example, the Belgian patent documents 602 794, 612 102 and 610 060 and US Pat. No. 3,008,825 describe suitable substrates.
Pur die Aufladung des elektrophotographischen Materials, gemäß der Erfindung, tonnen die üblichen Methoden verwandt werden. Das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmaterial eignet sich darüberhinaus auch für Methoden, nach denen die Belichtung vor der Aufladung erfolgt. Eine derartige Arbeitsweise wird beispielsweise in der belgischen Patentschrift 625 335 beschrieben.Purely the charging of the electrophotographic material, according to the invention, the usual methods can be used. The recording material according to the invention is suitable in addition, methods according to which the exposure takes place before charging. Such a way of working is described in Belgian patent 625,335, for example.
120 g eines Mischpolymeren von Vinylacetat und Vinyllaurat120 g of a copolymer of vinyl acetate and vinyl laurate
(80/20) wtrden in »■(80/20) would appear in »■
500 ©cm Toluol gelöst. Zu dieser Lösung fügt man500 cm toluene dissolved. To this solution one adds
20 ecm einer !Obigen äthanolischen Lösung von Üono-Jktyl-20 ecm of the above ethanolic solution of Üono-Jktyl-
phosphat undphosphate and
300 g photoleitfähiges Zinkoxid, das 30 Minuten bei 12O0C getrocknet worden ist, zu.300 g of photoconductive zinc oxide, which has been dried for 30 minutes at 12O 0 C, to.
Nachdem man die Mischung 15 Stunden in einer Kugelmühle gemahlen hat, versetzt man sie mitAfter the mixture has been ground in a ball mill for 15 hours, it is mixed with it
A-G 118 - 25 - AG 118 - 25 -
909837/1201909837/1201
20 qcm einer 53*igen äthanolischen Lösung von Bernsteinsäure 20 qcm of a 53% ethanolic solution of succinic acid
und mit
6 qcm einer 1Obigen lösung eines der in der nachfolgendenand with
6 qcm of a 1 above solution of one of the following
Tabelle verzeichneten Hydrazone in Dimethylformamid. Die so erhaltene Dispersion wird dann auf ein toluoldichtee Pergaminpapier aufgetragen.'Die getrocknete Schicht hat ein Gewicht von 25 g/m2.Table listed hydrazones in dimethylformamide. The dispersion obtained in this way is then applied to a toluene-tight glassine paper. The dried layer has a weight of 25 g / m 2 .
lach diesem Verfahren wird eine Reihe von AufzeiohnungsaaterItalien hergestellt. Eines dieser Materialien enthält kein· sensibilisierende Verbindung, während in die übrigen Materialien je eine der in der nachfolgenden Tabelle aufgezeichneten Verbindungen eingearbeitet ist.According to this process, a number of listing countries are produced. One of these materials does not contain a sensitizing compound, while the remaining materials one of the compounds listed in the table below is incorporated.
Si· so hergestellten Aufzeichnungematerialien werden unter gleichen Bedingungen mit einem Corotron aufgeladen, das zwischen Ird· und Sprühdrtlhten eine Potentialdifferenz voa 6000 V hat. Sie Sprühdrähte des Corotrone sind hierbei an den negative- fol einer gleichstromquelle angeschlossen. Sie aufgeladenen Materialien werden anschließend durch ein Graufilter mit dem faktor 0,1 mit einer Glühlampe belichtet Recording materials produced in this way are charged under the same conditions with a corotron which has a potential difference of 6000 V between the earth and the sprayed wires. The spray wires of the Corotrone are connected to the negative fol of a direct current source. The charged materials are then exposed to an incandescent lamp through a gray filter with a factor of 0.1
tenentwiekler, der aus einem harzhaltigen Toner und Eisenfeile besteht. Das Tonerbild wird durch Erhitzen fixiert.ten developer consisting of a resinous toner and Consists of an iron file. The toner image is fixed by heating.
Die in der hier folgenden Tabelle 1 zusammengestellten sensitometrischen Meßwerte stellen Relativwerte dar. Das nicht sensibilisierte Material hat hier den Wert 1.The sensitometric values compiled in Table 1 below Measured values represent relative values. The non-sensitized material has the value 1 here.
BADBATH
909837/1201
A-G 118 - 26 -909837/1201
AG 118 - 26 -
Bentibilisierende Verbindungen nach fabeilt Seite 5Desensitizing compounds according to color page 5
Gesamtempfind-Overall sensation
liohkeitliohigkeit
maximumAwareness
maximum
55
2 3 4 5 62 3 4 5 6
250 qca einer 20£lgen Löeung von Silikonharz in Toluol 750 qoB Toluol 20 qoa einer 1Obigen äthanolischen Lösung von Monobotyl-250 qca of a 20 pound solution of silicone resin in toluene 750 qoB toluene 20 qoa of a 1 above ethanolic solution of monobotyl
phoaphat 500 g photoleitfähigea Zinkoxid undphoaphat 500 g photoconductivea zinc oxide and
6g der eenaibilieierenden Verbindung Nr. 4 werden6g of equalizing compound no. 4
16 Stunden lang in einer Kugelmühle diapergiert. Dft» Material wird nach der in Beispiel 1 gegebenen Vorschrift weiter verarbeitet. Dta so hergestellte Material zeigt eine vieraal höhere Empfindlichkeit als das entsprechende nicht ■tnaibiliaierte Material.Diapered in a ball mill for 16 hours. Dft »material is made according to the instructions given in Example 1 further processed. The material produced in this way does not show a sensitivity four times higher than the corresponding one ■ qualified material.
Beiepitl 3Beiepitl 3
640 g «In·· Miachoopolymeren von Vinylacetat und Yinyllaurat640 g «In ·· Miachoopolymers of vinyl acetate and yinyl laurate
(80/20) werden in(80/20) are in
8 1 Toluol gelöst. Dieser Lösung werden dann 64 ecm einer 1Obigen äthanolischen Lösung von Monotrldecyl-8 1 toluene dissolved. This solution is then 64 ecm of a 1Obigen ethanolic solution of Monotrldecyl-
A-G 118A-G 118
phoaphat undphoaphat and
909837/1201909837/1201
- 27 -- 27 -
BAD Cf^.tfAL.BAD Cf ^ .tfAL.
2,4 leg photoleitfähiges Zinkoxid zugesetzt, worauf man die Mischung in einer Kugelmühle dispergiert.2.4 leg photoconductive zinc oxide added, whereupon the Mixture dispersed in a ball mill.
Zu der so erhaltenden Dispersion gibt man nun 320 qcm einer 5?Gigen äthanolischen Lösung von Bernsteinsäure, sowie eine der sensibilisierenden Verbindungen aus der folgenden Tabelle in der dort angegebenen Menge. Man erhält auf diese Weise tin· Serie von eeneibilieierten Materialien und ein unseneibilisiertee Material, das nach dem in Beispiel 1 beschrie benen Verfahren weiter verarbeitet wird.To the dispersion obtained in this way, 320 qcm of a 5% ethanolic solution of succinic acid and one of the sensitizing compounds from the table below are added in the amount specified there. In this way, a series of sensitized materials and an unsensitized material which is further processed according to the method described in Example 1 are obtained .
Die Ergebnisse der sensitometrischen Messungen sind in der folgenden Tabelle 2 enthalten. Die angegebenen Zahlen sind relative Werte mit dem Wert 1 für das nicht sensibilisierte Material.The results of the sensitometric measurements are in Table 2 below. The numbers given are relative values with the value 1 for the non-sensitized Material.
Nr. der Gewichtsprozent Relative Sensibilisensibilisierenden sens. Verbindung Gesamtempfind- sierungs-Verbindung bezogen auf ZnO lichkeit maximumNo. of percent by weight Relative sensitizers sens. Connection Total sensation connection related to maximum sensitivity
A-G 118 - 29 - AG 118 - 29 -
909837/1201909837/1201
Die folgende Tabelle enthält die Zuaammenaetzung vtrachiedener Photoleiterachichten und deren aenaitometriac:he Daten. Der Schichtträger iat in allen Fällen ein Pergaminpapier. Die relative Empfindlichkeit wurde nach einem Vergleich der aenaibiliaierten Schichten mit der nicht aenaibiliaierten Schicht beziffert, wobei die nicht aenaibiliaierte Schicht den Wert 1 hat. Beachichtung und Verarbeitung des Materiala erfolgten nach der in Beiapiel 1 gegebenen Voraehrift.The following table contains the composition of different types Photoconductor reports and their aenaitometriac: he data. In all cases, the support is made of glassine paper. The relative sensitivity was determined after comparing the The sensitized layers are numbered with the non-sensitized layer, the non-sensitized layer has the value 1. Observation and processing of the material a were carried out in accordance with the precautionary measure given in Example 1.
A-G 118 ' - 3C ■- AG 118 '- 3C ■ -
909837/1201909837/1201
ÄD ö^2ÄD ö ^ 2
lionobutylphosphat bezogen auf ZnOlionobutyl phosphate based on ZnO
Verhältnis Lösucga-Bindemittel/ mittel ZnORatio of solvent-binding agent / medium ZnO
Hr. der 3e*,-)i sens. Relative Seneisens. Ver- Verbindungen Empfind- bilisiebindung bezogen auf lichkeit rungeMr. the 3e *, -) i sens. Relative sea iron. Connections Sensitivity binding related to flexibility
Zno max·Zno max
Polyvinylbutyral Polyvinyl butyral
0,6 0,6 0,60.6 0.6 0.6
Mischpolyester von 2,2-(4,4•-Dihydroxy diphenyl)-propan, Isophthalaäure und Terephthalaäure (75/25) Mixed polyester of 2,2- (4,4 • -dihydroxy diphenyl) -propane, isophthalic acid and terephthalic acid (75/25)
coco
O
COO
CO
°°
CO °°
CO
Mischpolymeres ron C,6 (Methylmetfaacrylat u. n-butylmethacrylat)Mixed polymer ron C, 6 (Methyl methacrylate and n-butyl methacrylate)
(60/40)(60/40)
Polycarbonat von 0,6 2,2-(4,4'-dihydro- 0,6 xydiphenyl)-propan 0,6Polycarbonate of 0.6 2.2- (4.4'-dihydro-0.6 xydiphenyl) propane 0.6
roro
Aliphatisches
KetonharzAliphatic
Ketone resin
0,6 0,6 0,60.6 0.6 0.6
Mischpolymeres von (Vinylchlorid,Vinylacetat und Vinylalkohol) (91/3/6)Mixed polymer of (vinyl chloride, vinyl acetate and vinyl alcohol) (91/3/6)
Mischpolymeres von (n-Butyleethmcrylat und Ieobutylmethacrylat(40/60) Mixed polymer of (n-butyl methacrylate and ieobutyl methacrylate (40/60 )
Mischpolymeres το»ίί(η<* q c Yinylmcetat und Vinyl ο.6 ■tearat (85/15) 0t6 Mixed polymer το »ίί (η <* qc Yinylmcetat und Vinyl ο.6 ■ tearat (85/15) 0 t 6
HTschpolymeres von (n- o,6 Butylaethacrylat und υ,6 IeobutylmethacrylatHTsch polymer of (n- o, 6 Butyl ethacrylate and υ, 6 Leobutyl methacrylate
2 t 202 t 20
^tnanol^ tnanol
6 7 86th 7th 8th
0,20.2
0,2 0,20.2 0.2
4 ι 154 ι 15
10 ί 3010 ί 30
Acetonacetone
1010
0,10.1
4 ι 15 Methylen- 8 4 ι 15 methylene 8
chlorid 9chloride 9
1111
0,2 0,2 0,20.2 0.2 0.2
6 ι 15 6 ι 15
ÄthanolEthanol
9
4
39
4th
3
.0,2 2
2.0.2 2
2
4 t 154 t 15
Acetonacetone
1111
0,20.2
4 t 154 t 15
Toluoltoluene
1010
1111
0,2 0,2 0,20.2 0.2 0.2
4 t 22,54 t 22.5
Ätnylenglykoliiono Etnylene Glycoliono
10
1110
11
0,2 0,2 0.20.2 0.2 0.2
4 : 154:15
Toluoltoluene
2
32
3
0,50.5
3 8 43 8 4
12 3 '312 3 '3
16 1616 16
2,5 102.5 10
20 32 1620 32 16
1616
445 505 475445 505 475
475475
505 475 505505 475 505
5P5 555 5055P5 555 505
474474
475 505 505-515475 505 505-515
475 ^ 505 cn 505 N)475 ^ 505 cn 505 N)
Zu 1 Liter einer Bjtigen toluolieohen Lösung β ine β Mischpolymeren von Tinylacetat und Vinyllaurat (80/20) werden unter Rühren zugefügt ι 8 com einer 10bigen äthanolischen Lösung von Monobutyl-To 1 liter of a toluene-free solution of β ine β copolymers of vinyl acetate and vinyl laurate (80/20) are added Stirring added ι 8 com of a 10% ethanolic solution of monobutyl
phosphat undphosphate and
300 g photoleitfähiges Zinkoxid.300 g of photoconductive zinc oxide.
Die Mischung wird anschließend 16 Stunden lang in einer Kugelmühle dispergiert und dann mit einer 5#igen äthanolischen Lösung von Bernsteinsäure versetzt. Bas ganze wird weitere 4 Stunden lang gerührt und schließlich mit einer Löeung optisch sensibilisierender Verbindungen der folgenden Zusammensetzung vermischt.The mixture is then dispersed in a ball mill for 16 hours and then with a 5 # ethanol Solution of succinic acid added. The whole is stirred for another 4 hours and finally with a solution optically sensitizing compounds of the following composition mixed.
15 ecm einer 10bigen Lösung des Hydrazons Nr. 9 in Dimethylformamid und15 ecm of a 10bigen solution of hydrazone no. 9 in dimethylformamide and
3,3 ocm einer 1#igen Lösung von Eriocyanin A (CI. 42,561) in Dimethylformamid.3.3 ocm of a 1 # solution of Eriocyanin A (CI. 42,561) in dimethylformamide.
Mit dieser Mischung beschichtet man ein Pergaminpapier. Der Auftrag beträgt 30 g Festkörper/m2.A glassine paper is coated with this mixture. The application is 30 g solids / m 2 .
Das so hergestellte Aufzeichnungsmaterial wird in einem Mehretufenprozeß jeweils negativ aufgeladen und durch ein farbdiapositiv unter Verwendung der entsprechenden larbauszugsfilter blau, grün und rot belichtet. Die in den einzelnen Stufen des Prozesses hergestellten Ladungsbilder werden mit Dispersionsentwicklern sichtbar gemacht. Die Entwicklerflüssigkeiten enthalten dispergiert in einer isolierenden Flüssigkeit (Hexan), ein Entwieklerpigment, dessen farbeThe recording material produced in this way is in one Multi-stage process each negatively charged and through one Color slide exposed using the appropriate blue, green and red large extractable filters. The charge images produced in the individual stages of the process become made visible with dispersion developers. The developer liquids contained dispersed in an insulating Liquid (hexane), a developer pigment, whose color
A-S 118 - 32 - AS 118 - 32 -
909837/1201909837/1201
BAD ORIGINALBATH ORIGINAL
komplementär zu der für die Belichtung benutzten Filterfarbe ist. Man erhält auf diese Weise eine Positivkopie der 1arbvorlage.is complementary to the filter color used for exposure. In this way, a positive copy of the 1 color template.
In der in Beispiel 2 gegebenen Vorschrift wird die Verbindung 4 durch die Verbindung 44 in gleicher Konzentration ersetzt.In the procedure given in Example 2, compound 4 is replaced by compound 44 in the same concentration replaced.
Di· »tpfindlichktit des danach hergestellten Materials ist The sensitivity of the material produced according to this is
Mal höher als die des nicht sensibilisierten Vergleichste rials.Times higher than that of the non-sensitized reference sterile.
Der für Beispiel 3 verwendete Sensibilisator wird durch die in der folgenden Tabelle aufgezeichneten und charakterisierten Verbindungen ersetzt. The sensitizer used for example 3 is replaced by the compounds recorded and characterized in the table below .
Nr. der Gew.-^ Relative Sensibilisens. Verbindung sens. Verbindung Geaamtempfind- sierung- No. of Wt. - ^ Relative Sensibilisens. Connection sens. Connection overall sensation-
bezogen auf ZnO lichkeit maximumbased on ZnO likelihood maximum
- 1- 1
44 0,2 8 60544 0.2 8 605
57 0,2 25 60557 0.2 25 605
6262
A-G 118 - 33 - AG 118 - 33 -
909837/1201 ^AD oa.G;NAL909837/1201 ^ AD oa.G; NAL
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1965
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1966
- 1966-04-14 DE DE19661522542 patent/DE1522542A1/en active Pending
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BE679558A (en) | 1966-10-17 |
US3600165A (en) | 1971-08-17 |
GB1114301A (en) | 1968-05-22 |
NL6605083A (en) | 1966-09-26 |
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