DE1490329A1 - Electrical resistance - Google Patents
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Description
Dipl.-Ing. Egon Prinz München-Pätfing, den 27. August 19b2 Dr. Gertrud HauserDipl.-Ing. Egon Prince Munich-Pätfing, August 27, 19b2 Dr. Gertrud Hauser
Münciion-Pasing
BodenssestraQe 3 a
Telefon «0227Münciion-Pasing
BodenssestraQe 3 a
Telephone «0227
S. E. A* - Socilte d*Eleotronique et d'Automatism·, 138, Boulerard de Verdun, Courberoie/ Sein·S. E. A * - Socilte d * Eleotronique et d'Automatism ·, 138, Boulerard de Verdun, Courberoie / Sein
Die Erfindung betrifft elektrische Widerstände, bestehend au« auf dielektrische Träger niedergeschlagenen leitenden Schichten, welche an den Trägern fest hafte«.The invention relates to electrical resistors, consisting also conductive layers deposited on dielectric carriers which adhere firmly to the carriers.
Dereeit kernt «an drei Haupt typen solcher elektrischer Widerständeι solohe mit öraphitschichten, sole*· »It dünn·» »der hautfOmigen Metall- oder MetalllegiertaBgs-•ohioli-leA «nd solche nit hauchdünnen Schichten au« teyi· keaplexen, insbesondere auf der itesi« τοη ttaaMsyi« Bi* araphiteohichten haben ein·» Uaaptnaehteil, indes ntt»- lioh ihr Wideretaad etark im Abnlngigkeit τβη derOn the other hand, there are three main types of such electrical resistances alone with oraphite layers, sole * "It thin""the skin-shaped metal or metal alloy sheet - ohioli-leA" and such with wafer-thin layers au "teyi · keaplexen, especially on the itesi «Τοη ttaaMsyi« Bi * araphiteohichten have a · »Uaaptnaehteil, however ntt» - lioh their Wideretaad etark in the dependence τβη the
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peratur schwankt» wae sie für «ahlreiche Verwendungeawecke ungeeignet macht. Die dünnen Oxyd 8 chi cdi ten auf der Basis Ton Zinnoxyd beaitsen noch einen Temperatur-temperature fluctuates "wae it for" a variety of uses makes unsuitable. The thin Oxyd 8 chi cdi th on the base clay tin oxide have a temperature
—4 —4-4-4
koefflzienten «wischen etwa 10 und 5 ζ 10 f was eie ebenfalls für bestimmte Zwecke unerwünscht macht. Die dünnen metalliechen Schichten hingegen beeitaen einem «ufriedenetellenden Teisperaturlcseffisienten in ämr GrBeeenordnung von. T0"^· Sie beaitsen Jedoch swei andere Bauptnach teile s BtmwT frlfrmon ei· nur dttrch Vakuuaaufdampfimg erhalten werden» wae eie aehr teuer ■aohtt und zum andern iet die Verhaftung der Schicht ■it des Träger nur schlecht» Ib Gegeeuats dass beeitseB Al· dUnaen Schichtee a«T detr Baeie vor ZtmuajA ein« eehr gut· Verhaftiuie »it ikren dielektrieettea Trägern und konsett heute aueh auf ▼earitältTit—ieeig billige Keiee «duaten weardea.coefficients «between about 10 and 5 ζ 10 f, which also makes them undesirable for certain purposes. The thin metallic layers, on the other hand, provide a satisfactory low temperature efficiency of the order of magnitude. T0 "^ · You have, however, two other structural disadvantages s BtmwT frlfrmon a · only dttrch vacuum evaporation is a very expensive ■ aoht t and on the other hand, the adhesion of the layer ■ with the carrier is only bad. Thin layers a «T detr Baeie in front of ZtmuajA a« very good · arrest »it ikren dielektrieettea carriers and consett today also on ▼ earitältTit - ie also cheap Keiee« duaten weardea.
Die Erfindung betrifft die SahmTftag eine· eehea Wideretamda Bit »iner auf eise« dieXeMrieeke« r Wfindliosen Wid«retaBde«ehiefe«p di· Wl Wl-The invention relates to the SahmTftag a · eehea Wideretamda Bit »iner auf eise« dieXeMrieeke «r Wfindliosen Wid« retaBde «ehiefe« p di · Wl Wl-
ligur Heretellung eine att*g*seioiUfc»te VerhaTtaag Aar Schicht ait «ure· Tracer gewttferleietet «ad eiaen TeaferaturkeefflafteBteei swtaebam T0~" «et IOligur Manufacture an att * g * seoiUfc »te VerhaTtaag Aar Layer ait «ure · Tracer gives off a teaferaturkeefflafteBteei swtaebam T0 ~ "« et IO
Gemäße einem Merkmal der Erfindung besitst ein solcher Widerstand einen dielektrischen Träger, eine hauchdünne Schicht mit hohem Widerstand mindestens eines innig an dem Material des Träger haftenden Oxyds und auf dieser Oxydechicht eine weitere Schicht, deren Dicke von untergeordneter Bedeutung ist, aus einer Metalllegierung mit der kryatallographlschen Struktur der darunter befindlichen Hauchdünnen Oxydschicht ähnlicher Struktur.According to a feature of the invention, there is one Resistance a dielectric support, a wafer-thin layer with high resistance at least an oxide closely adhering to the material of the carrier and on this oxide layer a further layer, whose thickness is of minor importance, made of a metal alloy with the cryatallographic structure the underlying thin oxide layer of similar structure.
üemäsB einem anderen Merkmal der Erfindung enthält diese Metalllegierung mindestens einen Stoff, der in die auf dem Träger aufgebrachte Oxydschicht eintritt.This includes another feature of the invention Metal alloy at least one substance that enters the oxide layer applied to the carrier.
GemäsB einem anderen erfindungsgemässen Merkmal kann die hauchdünne Oxydschicht auf den dielektrischen Träger auf pyrolytische« Wege aufgebracht werden rad dl· Legierung wird dann auf die Oxydschicht elektrolyt!seh aufgebracht«According to another feature of the invention can the wafer-thin oxide layer is applied to the dielectric carrier in pyrolytic ways rad dl · The alloy then becomes electrolyte on the oxide layer upset «
GemäSB einem weiteren, bevorzugten Merkmal der Erfindung besteht die hauchdünne Schicht überwiegend au* Zinnoxyd und die Legierung ist eine Zink-Nickellegierung. According to a further, preferred feature of the invention the wafer-thin layer consists mainly of tin oxide and the alloy is a zinc-nickel alloy.
BAD ORIGINAL 80 98 1 1/0 8,0,6 ..BATH ORIGINAL 80 98 1 1/0 8,0,6 ..
Der Wideretandewert ergibt eich hauptsächlich aus den Eigenschaften der metallischen Legierungsechlcht und bei der Niederschlagung dieser Legierung kann man die Bedingungen eo regeln, insbesondere durch Einstellung der Dicke der Legierungssehieht bei ihrer Aufbringung, dass der endgültige Widerstand so rarilert wird, dass der Widerstand der Schicht sogar einen anderen Wert aufweist als die Legierung als solche·The resistance value results mainly from the properties of the metallic alloy can not affect the precipitation of this alloy regulate the conditions eo, in particular by adjusting the thickness of the alloy their application that the final resistance is so rarilert that the resistance of the layer even has a different value than the alloy as such
Die genaue Einstellung des Wertes jedes so erhaltenen Wideretandes kann natürlich ansohliessend duroh Ritsen mit einem Diamant oder durch Abheben Ton Teilen der Legierungeschicht auf für Schichtwiderstände allgemein bekannte Weise erfolgen. The exact setting of the value of each resistance thus obtained can of course then follow duroh Ritsen with a diamond or by lifting off the alloy layer on for dividing Sheet resistors are made in a generally known manner.
Aufgrund der Tatsache, dass die dünne Oxidschicht im wesentlichen als Substrat dient, wird der Tempera tür koef fielen t duroh die metallische Legierungssehloht gegeben und kann daher leicht einen Wert Ton 1O-5 bis 10 erreichen, was ein üblicher Bereich für die Temperaturkoefflslenten dünner talliseher Schichten let. Sin solcher Koefflslent wird leicht mittels einer auf der dünnen Zinnexydeehloht niedergeschlagenen Xinn-Nictellegierung erreicht. BADORlGiNAL Due to the fact that the thin oxide layer essentially serves as a substrate, the temperature coefficient is given to the metallic alloy surface and can therefore easily reach a value of 10 -5 to 10, which is a common range for the temperature coefficient of thin metallic layers let. Such a coefficient is easily achieved by means of a Xinn-Nictel alloy deposited on the thin Zinnexydeehloht. BADORLGiNAL
Dadurch.Through this.
809811/0806 S£S&* 809811/0806 S £ S & *
Dadurch, daea Ban eine Metalllegierung mit de» gleichen Typ der kristallographischen Struktur wie das Oxyd nimmt, 2.B. eine Zinn-Nickellegierung mit der gleichen tetraedrisohen Struktur wie das Zinnoxyd, bildet eich während der elektrolyt!sehen Medersohlaßung der Leglerungsschioht auf der hauchdünnen Oxydschicht eine dünne Übergangsschicht aus, die aus einem Oxjjfaetallkomplex besteht, der einmal ein· GIeichriohterwirkung rerhlndert (das Oxyd ist ein Halbleiter) und sum anderen eine innige Verhaftung der Legierungsschicht auf der hauchdünnen Oxydechioht gewährleistet. Da diese letztere ausgezeichnet an dem dielektrischen Träger haftet, z.B. an einem bei der PyrolyBetemperaturbeständigen Glas, ist die mechanische Homogenität deifertigen Widerstandes ausgeseiohnet· Because Ban is a metal alloy with the same Type of crystallographic structure as the oxide takes, 2.B. a tin-nickel alloy with the The same tetrahedral structure as tin oxide, is formed during the electrolyte dissolution the bonding layer on the wafer-thin oxide layer a thin transition layer consisting of a Oxjjfaetallkomplex exists, which once a · counteracting effect rerhlndert (the oxide is a semiconductor) and summed up others an intimate attachment of the Alloy layer on the wafer-thin Oxydechioht guaranteed. Since the latter adheres excellently to the dielectric substrate, e.g. PyrolyTemperature resistant glass, is the most mechanical Homogeneity of ready resistance
Bei der Herstellung der Widerstände kommen ewei aufeinanderfolgende Yerfahrenssohritte sur Durchführung, die beide bekannt sind und daher im einseinen nioht beschrieben su worden brauchenχ sunäehst erfolgt z.B. eine pyrolytisehe Umwandlung eines Halogenide oder einer Halogenidmisohung in saurer Lösung, wobei dies· Lösung auf den heissen Träger geeprüht wird) dann wird eine Legierung auf elektrolytischem Weg· auf der in der ersten Terfahrensstufe gebildeten hauchdünnen Schicht ni·-Been in the manufacture of the resistors ewei successive Yerfahrenssohritte sur implementation come, both of which are known and therefore in one of a nioht described below need χ sunäehst effected, for example a pyrolytisehe conversion of halides or Halogenidmisohung in acid solution, and this geeprüht · solution on the hot carrier then an alloy is electrolytically deposited on the wafer-thin layer formed in the first stage of the process.
30981 1/080630981 1/0806
dergesohlagen. Jede dieser Verfahrensstufen iet dem Fachmann bekannt und zur Herstellung der erfindungsgemässen Wideretande sind keinerlei teure oder seltene Stoffe erforderlich. Ib Falle einer ZInn-Nickellegierung vermeidet man Infolge der Hochwertigkelt dieser Legierung auch noch eine etwaige Nachbehandlung zum Schutz gegen Korrosion. Ausβerdem können auf einer Zlnn-lfickelleglerungsschicht unmittelbar Anschlüsse angebracht werden, wobei jedes übliche Schwelββverfahren anwendbar ist. Die Herstellung der erfindungsgemässen Widerstände ist daher auch äueseret wirtschaftlich.the soles. Each of these procedural steps is the same Known to those skilled in the art and for the production of the inventive No expensive or rare substances are required. Ib case of a tin-nickel alloy one avoids due to the high quality this alloy is also subject to any post-treatment to protect it against corrosion. Besides can be applied directly to a tin adhesive layer Any standard welding method can be used. the Production of the resistors according to the invention is therefore also extremely economical.
Die Widerstände können als Festwiderstände oder als verstellbare Widerstände oder auch als Widerstandsbahnen von Potentiometern mit geringem Widerstand oder auch als leitende Oberflächen, zur Verwendung als Leiternetze für den Betrieb photoleitender und/oder elektrolumineszlerender Platten dienen oder noch weitere dem Fachmann naheliegende Verwendungen erfahren.The resistors can be fixed resistors or adjustable resistors or resistance tracks of potentiometers with low resistance or also as conductive surfaces, for use serve as conductor networks for the operation of photoconductive and / or electroluminescent plates or even more find out uses obvious to the person skilled in the art.
Die Zeichnung zeigt einen Schnitt durch den erfindungsgemässen Widerstand* Dabei ist 1 der Träger, 2 die hauchdünne Oxydsohicht und 3 die darauf niedergeschlagene MetalSeglerungssohicht.The drawing shows a section through the resistor according to the invention * where 1 is the carrier, 2 the wafer-thin Oxydsohicht and 3 the deposited on it Metal sailing sheath.
BAD ORIGINAL 809811/0806BATH ORIGINAL 809811/0806
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Also Published As
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