DE1276977B - Method and device for vapor deposition of thin, even layers - Google Patents
Method and device for vapor deposition of thin, even layersInfo
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- DE1276977B DE1276977B DE1965N0026428 DEN0026428A DE1276977B DE 1276977 B DE1276977 B DE 1276977B DE 1965N0026428 DE1965N0026428 DE 1965N0026428 DE N0026428 A DEN0026428 A DE N0026428A DE 1276977 B DE1276977 B DE 1276977B
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C23C14/24—Vacuum evaporation
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND DEUTSCHES fflTWGS» PATENTAMT Int. CL: FEDERAL REPUBLIC OF GERMANY GERMAN fflTWGS » PATENTAMT Int. CL:
C23cC23c
AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL
Deutsche Kl.: 48 b-13/00 German class: 48 b -13/00
Nummer: 1276 977Number: 1276 977
Aktenzeichen: P 12 76 977.6-45 (N 26428)File number: P 12 76 977.6-45 (N 26428)
Anmeldetag: 22. März 1965 Filing date: March 22, 1965
Auslegetag: 5. September 1968Open date: September 5, 1968
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufdampfen dünner gleichmäßiger Schichten aus einer sich in einem Tiegel befindenden Schmelze, deren Oberfläche teilweise von Schlacken freigehalten wird, sowie Vorrichtungen zum Durchführen dieses Verfahrens. The invention relates to a method for vapor deposition of thin, uniform layers from a melt in a crucible, the surface of which is partially kept free of slag, as well as devices for performing this method.
Wenn dünne Schichten aufgedampft werden müssen, ist es im allgemeinen erforderlich, daß dafür gesorgt wird, daß die Eigenschaften der Schicht über die ganze Oberfläche, auf die Material aufgedampft wird, gleichmäßig sind. Ein Beispiel eines Falles, in dem es erforderlich ist, eine gleichmäßige Schicht aufzubringen, ist die Herstellung eines Speichers für eine elektronische Rechenmaschine, wobei eine geordnete Menge von Elementen, die aus kleinen Flächen einer dünnen Nickel-Eisen-Schicht bestehen, mit Hilfe einer Maske auf eine Unterlage aufgedampft wird.If thin layers are to be vapor deposited, it is generally necessary to take care of that that the properties of the layer are deposited over the entire surface onto which the material is deposited will, are even. An example of a case where it is necessary to apply a uniform layer, is the manufacture of a memory for an electronic calculating machine, being an ordered one Amount of elements, which consist of small areas of a thin nickel-iron layer, using a mask is vapor-deposited onto a base.
Die Dicke, die Zusammensetzung und die physikalischen Eigenschaften der Schichten hängen von radialen Schwankungen des auffallenden Bündels und vom Winkel, unter dem das Material auf die Unterlage gelangt, ab.The thickness, composition and physical properties of the layers depend on radial Variations in the incident bundle and from the angle at which the material touches the surface got off.
Bei einer geeigneten Aufdampfvorrichtung müssen die radialen Schwankungen des Dampfstromes und die Schwankungen der Zusammensetzung gering sein, während die Menge an verdampftem Material groß sein muß, so daß die Vorrichtung in größerer Entfernung von der Unterlage verwendet werden kann, wodurch Schwankungen infolge von Änderungen des Einfallswinkels auf ein Mindestmaß beschränkt werden.With a suitable vapor deposition device, the radial fluctuations in the vapor flow and the fluctuations in the composition will be small, while the amount of evaporated material will be large must be so that the device can be used at a greater distance from the surface, thereby minimizing fluctuations due to changes in the angle of incidence will.
Bei bekannten Aufdampfvorrichtungen, bei denen das aufzudampfende Material in einem Tiegel geschmolzen wird, bildet sich auf der Oberfläche des geschmolzenen Metalls Schlacke, d. h. ein Schaum, der aus Oxyden oder anderen bei der angewandten Temperatur nichtschmelzbaren Verbindungen besteht, die im zu verdampfenden Material vorhanden sind oder während des Schmelzvorganges gebildet werden. Diese Schlacke kann Schwankungen der Oberflächentemperatur herbeiführen und deckt die wirksame Verdampfungsoberfläche teilweise ab, wodurch radiale Änderungen im Dampfstrom herbeigeführt werden. Schwankungen der Oberflächentemperatur des aufzudampfenden Materials haben, wenn es sich um eine Legierung handelt, überdies Unterschiede in der Zusammensetzung des verdampften Materials zur Folge.In known vapor deposition devices in which the material to be vapor deposited is melted in a crucible slag forms on the surface of the molten metal; H. a foam, which consists of oxides or other compounds that cannot be melted at the temperature used, which are present in the material to be evaporated or formed during the melting process will. This slag can cause fluctuations in the surface temperature and covers the effective evaporation surface partially, causing radial changes in the steam flow will. Fluctuations in the surface temperature of the material to be vapor deposited, if It is an alloy, moreover, differences in the composition of the vaporized Material result.
Es sind auch bereits Aufdampfverfahren bekannt, bei denen die störende, auf der Badoberfläche des
schmelzflüssigen Aufdampfmaterials schwimmende Schlacke oder Oxydschicht entfernt wird (deutsche
Verfahren und Vorrichtung zum
Aufdampfen dünner gleichmäßiger SchichtenEvaporation methods are also already known in which the disruptive slag or oxide layer floating on the bath surface of the molten vapor deposition material is removed (German method and device for
Vapor deposition of thin, even layers
Anmelder:Applicant:
N. V. Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven (Niederlande)N. V. Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven (Netherlands)
Vertreter:Representative:
Dipl.-Ing. H. Auer, Patentanwalt,Dipl.-Ing. H. Auer, patent attorney,
2000 Hamburg 1, Mönckebergstr. 72000 Hamburg 1, Mönckebergstr. 7th
Als Erfinder benannt:Named as inventor:
Ulrich Pick, Thornbon Heath, Surrey;Ulrich Pick, Thornbon Heath, Surrey;
John Chadwick Brice, Reigate, SurreyJohn Chadwick Brice, Reigate, Surrey
(Großbritannien)(Great Britain)
Beanspruchte Priorität:
Großbritannien vom 24. März 1964,Claimed priority:
Great Britain from March 24, 1964,
vom 1. Dezember 1964 (12 371)dated December 1, 1964 (12 371)
Auslegeschrift 1043 010, deutsche Patentschriften 812 025, 816 933, USA.-Patentschrift 3 016 873). Hierzu sind allerdings zusätzliche Maßnahmen und Vorrichtungsteile, wie Absetzbehälter und Abziehvorrichtungen, erforderlich.Auslegeschrift 1043 010, German patents 812 025, 816 933, USA patent specification 3,016,873). For this purpose, however, additional measures and device parts, such as settling containers and pulling devices, necessary.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Auf dampf verfahren sowie Vorrichtungen zum Durchführen dieses Verfahrens zu schaffen, bei denen die nachteilige Einwirkung der während des Schmelzvorganges gebildeten Schlacken herabgesetzt wird, ohne daß hierzu zusätzliche Behälter und Abziehvorrichtungen benötigt werden, und bei denen eine nahezu gleiche Temperatur über die ganze Verdampfungsoberfläche auftritt.The invention is based on the object of a method on vapor and devices for performing to create this process in which the adverse effect of the during the melting process The slag formed is reduced without the need for additional containers and extractors are required, and at which an almost identical temperature over the entire evaporation surface occurs.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren gelöst, das dadurch gekennzeichnet ist, daß der Tiegel so hoch mit aufzudampfendem Material gefüllt wird, daß sich die Krümmung der Schmelzoberfläche während des Aufdampfens immer oberhalb einer bestimmten kritischen Krümmung befindet, so daß sich die Schlacke an der Randzone der Schmelzoberfläche sammelt und die Mittelzone frei läßt.This object is achieved according to the invention by a method which is characterized in that the crucible is filled so high with material to be evaporated that the curvature of the surface of the melt is removed is always above a certain critical curvature during vapor deposition, so that the slag collects at the edge zone of the melt surface and free the middle zone leaves.
Eine Vorrichtung zum Durchführen des Verfahrens nach der Erfindung ist gekennzeichnet durch einen Tiegel aus einem gut wärmeleitenden Material, der von einem Mantel umgeben wird, von dem einAn apparatus for performing the method according to the invention is characterized by a crucible made of a material with good thermal conductivity, which is surrounded by a jacket, of which one
809 599/449809 599/449
Claims (1)
Materials 6 behält noch eine die kritische Krümmung Patentansprüche·
gerade übersteigende Krümmung bei, wenn 20 %> derWith the above dimensions, the crucible must have good thermal conductivity, and it has been found that the convex surface requires an initial amount of 2.5 g of a 50:50 nickel crucible 4 for vaporizing tin and the jacket 3 made of molybdenum-iron alloy exceeded. The surface of the can stand.
Materials 6 still retains the critical curvature claims
curvature exceeding straight if 20%> der
erhitzt, um etwaiges eingeschlossenes Gas auszutrei- 65· 2. Vorrichtung zum Durchführen des Verfah-is placed in the crucible. The crucible is slowly collected on the surface and the central zone is left free,
heated in order to expel any trapped gas.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB1237164A GB1094561A (en) | 1964-03-24 | 1964-03-24 | Improvements in and relating to vapour deposition and evaporation sources |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1276977B true DE1276977B (en) | 1968-09-05 |
Family
ID=10003316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE1965N0026428 Pending DE1276977B (en) | 1964-03-24 | 1965-03-22 | Method and device for vapor deposition of thin, even layers |
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---|---|
CH (1) | CH467343A (en) |
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NL (1) | NL6503474A (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE812625C (en) * | 1949-09-30 | 1951-09-03 | Heinrich Pallarz | Opening device on preserving jars |
DE816933C (en) * | 1948-10-02 | 1951-10-15 | Siemens & Halske A G | Process for tinning objects by evaporation in a vacuum |
DE1043010B (en) * | 1956-03-12 | 1958-11-06 | Licentia Gmbh | Device for vaporizing liquid substances, in particular for vaporizing selenium for the production of dry rectifiers |
US3016873A (en) * | 1959-01-26 | 1962-01-16 | Nat Res Corp | Coating |
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1964
- 1964-03-24 GB GB1237164A patent/GB1094561A/en not_active Expired
-
1965
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- 1965-03-22 CH CH390965A patent/CH467343A/en unknown
- 1965-03-22 DE DE1965N0026428 patent/DE1276977B/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE816933C (en) * | 1948-10-02 | 1951-10-15 | Siemens & Halske A G | Process for tinning objects by evaporation in a vacuum |
DE812625C (en) * | 1949-09-30 | 1951-09-03 | Heinrich Pallarz | Opening device on preserving jars |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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GB1094561A (en) | 1967-12-13 |
CH467343A (en) | 1969-01-15 |
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