DE1253369B - Anordnung zur Behandlung der Oberflaeche eines Koerpers mit Ionen - Google Patents
Anordnung zur Behandlung der Oberflaeche eines Koerpers mit IonenInfo
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Description
DEUTSCHES WJ9Gs& PATENTAMT DeutscheKl.: 21g-21/01
AUSLEGESCHRIFT
Nummer: 1 253 369
Aktenzeichen: B 88643 VIII c/21 g
1253369 Anmeldetag: 26. August 1966
Auslegetag: 2. November 1967
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung zur Behandlung der Oberfläche eines Körpers mit
Ionen. Wie bekannt, kann eine solche Behandlung verschiedenen technischen Zwecken dienen. Bei der
Aufdampfung dünner Schichten im Hochvakuum müssen z. B. die Unterlagen vor der Bedampfung
sorgfältig gereinigt werden. Es ist üblich, sie nach einer chemischen Vorreinigung einer elektrischen
Entladung, das bedeutet einer Behandlung mit Ionen, auszusetzen, um die letzten festhaftenden Spuren von
Verunreinigungen von der Oberfläche abzutragen. Eine Behandlung einer Oberfläche mit Ionen findet
auch bei der bekannten Technik der Kathodenzerstäubung statt, wobei das von der Kathodenoberfläche
durch die auftreffenden Ionen abgetragene Material von einer gegenüberliegenden Glasplatte
aufgefangen und dort zum Aufbau einer Schicht verwendet werden kann. Ionenbehandlung kann ferner
dazu dienen, dicke Schichten durch Materialabtragung in genau kontrollierbarer Weise in erwünschtem
Maße dünner zu machen. Bei der sogenannten Ionenätzung, einer neuen Technik zur Vorbereitung metallischer
Proben vor der Betrachtung im Mikroskop, wird eine polierte Metalloberfläche durch Beschuß
mit Ionen an ihren verschiedenen Teilen verschieden stark angegriffen, so daß ein Relief erzeugt wird und
die verschiedenen kristallographischen Bereiche sichtbar werden. In den meisten Fällen ist die Wirkung
der Ionenbehandlung anscheinend mit einer Materialabtragung verknüpft; darüber hinaus müssen
aber auch rein thermische oder chemische Wirkungen der auf die zu behandelnde Oberfläche auftreffenden
Ionen in Betracht gezogen werden. Als Mittel zur Behandlung einer Oberfläche mit Ionen dient im einfachsten
Fall, wie bekannt, eine elektrische Gasentladung, bei der die zu behandelnde Fläche als
Kathode geschaltet wird. Näheres hierüber findet man z. B. in dem Buch: Manfred K am in sky:
Atomic and ionic impact phenomena on metal surfaces, Springer-Verlag, Berlin — Heidelberg — New
York, 1965.
In neuerer Zeit ist man dazu übergegangen, an Stelle von elektrischen Gasentladungen im Bereich
der mit Ionen zu behandelnden Oberfläche auch sogenannte Ionenkanonen zu verwenden, d. h. Vorrichtungen,
die einen gerichteten Ionenstrahl liefern. Durch eine öffnung in der Wand eines Gasentladungsraumes
treten die Ionen in die Behandlungskammer ein und treffen dort auf die durch Ionenbeschuß
zu behandelnden Flächen, die in den Weg des Strahles gestellt sind. Reine Ionenstrahlen haben
den Vorteil, daß sie zur Erhöhung ihrer Energie Anordnung zur Behandlung der Oberfläche eines
Körpers mit Ionen
Anmelder:
Balzers Vakuum G. m. b. H.,
Frankfurt/M. 70, Seehofstr. 11
Frankfurt/M. 70, Seehofstr. 11
Als Erfinder benannt:
Rudolf Jenne, Triesenberg (Liechtenstein)
Beanspruchte Priorität:
Schweiz vom 22. September 1965 (13 124)
elektrisch nachbeschleunigt werden können. Die Wirkung der Raumladung macht es jedoch schwierig,
eine genügende Ionenstromstärke zu erhalten, um damit nützliche Experimente durchführen zu können.
Erst recht nicht eignen sich diese geringen Strahlintensitäten für Produktionszwecke.
Um für die fabrikationsmäßige Herstellung dünner Schichten nützliche Zerstäubungsraten zu erzielen, ist
bereits vorgeschlagen worden, elektrisch quasineutrales Plasma — als solches bezeichnet man das
Gemisch von Elektronen und Ionen—zu verwenden. Die Verwendung eines Plasmas bietet den Vorteil,
daß dieses, auch wenn dessen Ionen nur geringe Energie besitzen, leicht bis dicht an die zu behandelnde
Oberfläche herangeführt werden kann, wobei die Ionen erst unmittelbar an der vor der zu behandelnden
Fläche liegenden Plasmagrenze beginnend auf kurzer Strecke in der Größenordnung von
einigen Zehntelmillimetern beschleunigt werden können. Es genügen einige hundert Volt Ziehspannung
an der zu behandelnden Oberfläche, um Ionenstromstärken von einigen hundert Milliampere zu erzielen.
Es bildet sich vor der genannten Fläche eine elektrische Doppelschicht mit sehr hoher Feldstärke aus,
die trotz niedriger Beschleunigungsspannung ausreicht, die Ionen und Elektronen des quasineutralen
Plasmastrahls zu separieren. Das Plasma wird hierbei in einer vom Zerstäubungsraum abgetrennten Kammer
durch eine elektrische Gasentladung erzeugt und tritt durch eine Öffnung in die Behandlungskammer
ein.
Die Erfindung betrifft nun eine neue Anordnung zur Behandlung der Oberfläche eines Körpers mit
Ionen, die aus einem elektrisch quasineutralen Plasma
709 680/3Z4
Claims (4)
1. Anordnung zur Behandlung der Oberfläche eines Körpers mit Ionen, die aus einem elektrisch
quasineutralen Plasma entnommen werden, welches mit Hilfe eines magnetischen Führungsfeldes im Raum vor der zu behandelnden Oberfläche
verdichtet wird, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich zu dem das magnetische Führungsfeld erzeugenden Magneten auf
der dem Plasma abgewandten Seite der zu behandelnden Oberfläche ein Hilfskörper aus ferromagnetischem
Material vorgesehen ist.
2. Anordnung nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Hilfskörper aus ferromagnetischem
Material als Träger für den zu behandelnden Körper ausgebildet ist.
3. Anordnung nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der zu behandelnde Körper
in Form einer dünnen Scheibe oder eines Belages mit einer Unterlagsscheibe aus ferromagnetischem
Material verbunden ist.
4. Anordnung nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Hilfskörper als Pol eines
zusätzlichen Hilfsmagneten ausgebildet ist.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
709 680/324 10. 67 © Bundesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CH1312465A CH425015A (de) | 1965-09-22 | 1965-09-22 | Anordnung zur Behandlung der Oberfläche eines Körpers mit Ionen |
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ID=4389543
Family Applications (1)
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4734621A (en) * | 1985-12-27 | 1988-03-29 | Atelier d'Electro Themie et de Constructions | Device for producing a sliding or traveling magnetic field, in particular for ionic processing under magnetic field |
DE19705884A1 (de) * | 1997-02-15 | 1998-08-20 | Leybold Ag | Plasma-Zündvorrichtung |
Families Citing this family (3)
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GB1585460A (en) * | 1976-11-23 | 1981-03-04 | Lucas Industries Ltd | Method of manufacturing a lamp |
CH633729A5 (en) * | 1978-01-04 | 1982-12-31 | Georgy Alexandrovich Kovalsky | Device for coating products |
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1965
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- 1966-09-06 FR FR1561068D patent/FR1561068A/fr not_active Expired
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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CH425015A (de) | 1966-11-30 |
NL6514086A (de) | 1967-03-23 |
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