DE1216081B - Sieve plate with the walls of the sieve openings raised over the work surface and a process for the production of such a sieve plate - Google Patents
Sieve plate with the walls of the sieve openings raised over the work surface and a process for the production of such a sieve plateInfo
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Description
Siebblech mit über die, Arbeitsfläche, hochgezogenen Wandungen der Sieböffnungen und Verfahren zur Herstellung eines solchen Siebbleches Die Erfindung betrifft ein Siebblech mit über die Arbeitsfläche hochgezogenen Wandungen der Sieböffnungen.Sieve plate with raised walls of the work surface Screen openings and method of making such a screen plate The invention relates to a sieve plate with the walls of the sieve openings raised above the work surface.
Bei bekannten Siebblechen dieser Art ist die Wandung der Sieböffnungen einseitig in Form von Halbnocken über die Arbeitsfläche hochge-drückt, so daß die Ränder der Sieböffnungen in zueinander parallelen, jedoch gegenüber der Arbeitsfläche schräggestellten Ebenen liegen. Die Feinkomanteüe des Siebgutes werden durch diese hochgezogenen Wandung,en in die Sieböffnungen geleitet, wodurch die mengenmäßige Siebleistung erhöht wird. Jedoch ist dieser Effekt von der Richtung abhängig, mit der das Siebgut über die Arbeitsfläche des Siebbleches geschleudert wird.In known sieve plates of this type, the wall of the sieve openings pushed up on one side in the form of half-cams over the work surface so that the Edges of the sieve openings parallel to one another, but opposite the work surface inclined planes. The Feinkomanteüe of the material to be sieved are through this raised wall, en passed into the sieve openings, whereby the quantitative Sieve performance is increased. However, this effect is dependent on the direction with which is thrown over the work surface of the sieve plate.
Bei Sieb- und Seihaufgaben ist es häufig wünschenswert, das über die Arbeitsfläche hinweggeschleuderte Siebgut zu bremsen, um so die Bewegung des Sieb- oder Seihgutes auf der Arbeitsfläche zugunsten des Siebdurchsatzes zu verlangsamen. Dies gilt vor allem dann, wenn der Sieb- oder Seihprozeß in kontinuierlichenZentrifugen,beispielsweise Zuckerzentrifugen, durchgeführt wird, wo eine lang7-samere Bewegung des Schleudergutes über das Siebblech des Schleuderkorbes bei gleicher Drehzahl des Schleuderkorbes eine höhere Abschleuderung zur Folge hätte. Durch die bekannten Siebbleche läßt sich eine solche Breinsung in nur ungenügender Weise erreichen.For sieving and straining tasks, it is often desirable to have the To slow down the screenings thrown away from the work surface in order to prevent the movement of the screen or to slow down the strained material on the work surface in favor of the sieve throughput. This is especially true when the sieving or straining process is carried out in continuous centrifuges, for example Sugar centrifuges, where a slower movement of the centrifuged material is carried out over the sieve plate of the spin basket at the same speed of the spin basket a higher throwing off would result. Can through the well-known sieve plates such a breakdown can only be achieved insufficiently.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Siebblech der eingangs benannten Art so auszubilden, daß eine wirksame Abbremsung des über die Arbeitsfläche bewegten Siebgutes und ein hoher Siebdurchsatz erreicht werden, und zwar unabhängig von der Bewegungsrichtung des Siebgutes auf der Arbeitsfläche.The invention is based on the object of a screen plate of the initially named type in such a way that an effective braking of the over the work surface moving material to be screened and a high screening throughput can be achieved independently the direction of movement of the material to be sieved on the work surface.
Diese Aufgabe löst die Erfindung dadurch, daß die Wandungen die Sieböffnungen in gleicher Höhe kragenförmig, umgeben und die Stirnflächen der Wandungen zur Sieböffnung, oder zur Aibeitsfläche# hin abfallen.The invention solves this problem in that the walls form the sieve openings collar-shaped at the same height, surround and the end faces of the walls to the sieve opening, or sloping down towards the surface #.
Bei dem erfindungsgemäßen Siebblech bewirken die allseits über die Arbeitsfläche hochgezogenen Sieböffnungswandungen eine ständige Umlenkung und damit Abbremsung des über die Arbeitsfläche beweg gten Siebgutes. Dabei klettert das Siebgut gleichsam an der Außenseite der Sieböffnungswandungen empor tund gelangt von dort in die Sieböffnungen. Durch entsprechende Gestaltung der dabei vom Siebgut zu überwindenden Stirnflächen der Sieböffnungswandungen lassen sich die siebtechnisehen Eigenschaften des erfindungsgemäßen Siebbleches in weitem Bereich den jeweiligen- Erfordernissen anpassen. So wird der Aufnahinequerschnitt der Sieböffnungen und damit der Siebdurchsatz vergrößert, wenn die Stirnflächen der Wandungen zu den Sieböffnungen hin abfallen,während die Bremswirkung auf das Siebgut: bei unveränderter Gesamthöhe der Wandung durch mehr oder weniger starken Abfall ihrer Stirnfläche zur Arbeitsflächehm' beeinflußt werden kann.In the sieve plate according to the invention, the effect on all sides Work surface raised sieve opening walls a constant deflection and thus Braking of the material to be screened moving across the work surface. The material to be screened climbs as it were on the outside of the sieve opening walls and reaches from there into the sieve openings. By appropriately designing the areas to be overcome by the material to be screened The sieve-technical properties can be shown at the end faces of the sieve opening walls of the screen plate according to the invention in a wide range of the respective requirements adjust. This is how the receiving cross-section of the sieve openings and thus the sieve throughput enlarged when the end faces of the walls drop towards the sieve openings while the braking effect on the material to be screened: with unchanged total wall height more or less pronounced drop in their frontal area to the work surface can be.
Die Erfindung betrifft weiter ein Verfahren zur Herstellung von Siebblechen der beschriebenen Art, wobei eine elektrisch leitende Matrize, die an der Oberfläche entsprechend demPerforationsmuster des herzustellenden Siebbleches Vertiefungen mit einer deren Böden bedeckenden elektrisch isolierenden Schicht aufweist, einer galvanoplastischen Behandlung unterzogen wird, durch die eine an der Oberfläche der Matrize sowie an den Flanken der Vertiefungen sich niederschlagenden Metallschicht gebildet wird- Erfindungsgemäß wird der Boden der Vertiefungen mit einer weiten> die Form der Stimflächen der Öffnungswanduno">en bestimmenden, elektrisch isolierenden Schicht angefüllt und anschließend in einer zweiten galvanoplastischen Behandlung die das Siebblech bildende Metallschicht auf die Matrize aufgebracht. Im einzelnen läßt sich das erfindunasgemäße. Verfahren auf verschiedene Weise verwirklichen, sollen die Stirnflächen zur Sieböffnung hin abfallen, so empfiehlt die Erfindung, daß Dieb zweite elektrisch isolierende Schicht in die Vertiefungen in Form eines flüssigen aushärtbaren Kunststoffes eingebracht wird,' der eine hohe Oberflächenspannung aufweist und/oder der sich beim Aushärten dehnt, wodurch eine nach außen gewölbte Oberfläche der elektrisch isolierenden Schicht gebildet wird. Bei zur Arbeitsfläche hin abfallenden Stirnflächen ist dagegen ein Kunststoff vorteilhaft, der eine geringe Oberflächenspannung aufweist und/ oder beim Aushärten schrumpft, wodurch eine nach innen gewölbte Oberfläche der elektrisch isolierenden Schicht gebildet wird.The invention further relates to a method for producing sieve plates of the type described, wherein an electrically conductive die, which has depressions on the surface corresponding to the perforation pattern of the sieve plate to be produced with an electrically insulating layer covering their bases, is subjected to a galvanoplastic treatment According to the invention, the bottom of the wells is filled with a wide, electrically insulating layer that determines the shape of the end faces of the opening walls and then, in a second galvanoplastic treatment, the The method according to the invention can be implemented in various ways electrically insulating layer is introduced into the recesses in the form of a liquid curable plastic, 'which has a high surface tension and / or which expands during curing, whereby an outwardly curved surface of the electrically insulating layer is formed. In the case of end faces sloping towards the work surface, on the other hand, a plastic is advantageous which has a low surface tension and / or shrinks when it hardens, thereby forming an inwardly curved surface of the electrically insulating layer.
Im übrigen ist es zweckmäßig, vor dem Aufbringen der das Siebblech bildenden Metallschicht die bei der ersten galvanoplastischen Behandlung aufgebrachte galvanische Schicht mit einer Trennschicht zu überziehen, so daß das Siebblech nach Fertigstellung leicht von der Matrize abgezogen werden kann. Hierfür eignen sich bekanntlich z.B. Natriumsulfidlösung, verdünnte Chromsäure oder Trennschichten auf Eiweißbasis. Die zunächst aufgebrachte galvanische Schicht dient im einzelnen zur Abrundung und Formgebung der Vertiefungsränder in der Oberfläche der Matrize, die bei der üblichen Herstellungsweise der Matrize durch Ansätzen häu-fig sehr scharfkantig entstehen. Weisen dagegen die Vertiefungen bereits abgerundete oder geeignet geformte Ränder auf, so kann diese galvanische Schicht entfallen. Im Rahmen der Erfmdung wird in diesem Fall die die Stimfläche der Sieböffnungsränder formende Isolierstoffschicht direkt in die Vertiefungen der Matrize eingebracht, und zwar unmittelbar auf den Boden der Vertiefungen.In addition, before applying the metal layer forming the screen plate, it is advisable to coat the galvanic layer applied during the first electroplating treatment with a separating layer so that the screen plate can easily be pulled off the die after completion. Sodium sulfide solution, dilute chromic acid or separating layers based on protein are known to be suitable for this purpose. The initially applied electroplated layer serves specifically for rounding and molding edges of the recess in the surface of the die which, in the conventional manufacturing method of the die by approaches frequently fig sharp edges are formed greatly. If, on the other hand, the depressions already have rounded or suitably shaped edges, this galvanic layer can be omitted. In this case, within the scope of the invention, the insulating material layer forming the end face of the screen opening edges is introduced directly into the depressions of the die, specifically directly onto the bottom of the depressions.
Die durch die Erfindung erreichten Vorteile sind im wesentlichen dar-in zu sehen, daß die erfindungsgemäßen Siebbleche- ihrer siebtechnischen Eigenschaften sehr vielseitig verwendet und unschwer den unterschiedlichen Sieb- und Seihaufgaben optimal angepaßt werden können. So können z. B. die erfindungsgemäßen Siebbleche vorteilhaft in kontinuierlich arbeitenden Zentrifugen eingesetzt werden, wo es wünschenswert ist, die Weiterbewegung des Schleudergutes längs der Siebblechoberfläche zugunsten der Abschleuderung zu verlangsamen, wobei trotz der Umlenkung -des Siebgutes an den Wandungen der Sieböffnungen ein hoher Siebdurchsatz bei entsprechender Formgebung der Stirnflächen der Wandungen gewährleistet ist. Darüber hinaus können die erfindungsgemäßen Randformen der Sieböffnungen ähnlich einer Kapsel zugunsten einer weiteren Zerkleinerung des Schleuder- oder Siebgutes wirken. Im übrigen hat sich gezeigt, daß ein erfindungsgemäßes Siebblech mit zur Arbeitsfläche hin abfallenden Stirnflächen der Sieböffnungswandungen vorteilhaft als Scherblattfolien für elektrische Rasierapparate verwendet werden können, wobei dann die Arbeitsfläche des Siebbleches dem Schermesser zugekehrt ist.The advantages achieved by the invention are essentially therein to see that the screen plates according to the invention - their screening properties Very versatile and easy to handle the various sieving and straining tasks can be optimally adapted. So z. B. the sieve plates according to the invention be used advantageously in continuous centrifuges where it is desirable is, the further movement of the centrifuged material along the screen plate surface in favor to slow down the centrifuging, whereby despite the deflection of the material to be sieved the walls of the sieve openings a high sieve throughput with an appropriate shape the end faces of the walls is guaranteed. In addition, the invention Edge shapes of the sieve openings similar to a capsule for the benefit of further comminution of the centrifuged or sieved material are effective. In addition, it has been shown that an inventive Sieve plate with end faces of the sieve opening walls sloping towards the work surface can be used advantageously as foil sheets for electric razors can, in which case the working surface of the screen plate is facing the shear blade.
Irn folgenden sei die Erfindung an Hand einer lediglich Ausführungsbeispiele darstellenden Zeichnung näher erläutert. Es zeigt F i g. 1 einen Querschnitt durch eine Matrize in verschiedenen Herstellungsstadien, wobei der Einfachheit halber jeweils nur eine Vertiefung dargestellt ist, F i g. 2 einen Querschnitt durch eine erfindungsgemäß behandelte und mit einer das Siebblech bildenden Metallschicht belegten Matrize, wobei die Stirnfläche der Sieböffnungswandungen zur Sieböffnung hin abfällt, entsprechend wie in F i g. 1 dargestellt an nur einer Sieböffnung, F i g. 3 den Gegenstand nach F i g. 2 in Abänderung für ein Siebblech mit zur Arbeitsfläche hin abfallender Stirnfläche der Sieböffnungswandung, F i g. 4 eine perspektivische Ansicht eines erfindungsgemäßen Siebbleches im Äusschnitt mit zur Demonstration dargestellten unterschiedlichen Stimflächen der Sieböffnungswandungen.In the following, the invention will be explained in more detail with reference to a drawing showing only exemplary embodiments. It shows F i g. 1 shows a cross section through a die in various stages of manufacture, only one recess being shown for the sake of simplicity, FIG . 2 shows a cross section through a die treated according to the invention and covered with a metal layer forming the sieve plate, the end face of the sieve opening walls sloping down towards the sieve opening, corresponding to FIG . 1 shown at only one sieve opening, FIG . 3 the subject of FIG. 2 as a modification for a sieve plate with the end face of the sieve opening wall sloping towards the work surface, FIG . 4 shows a perspective view of a screen plate according to the invention in a cutout with different end faces of the screen opening walls shown for demonstration purposes.
Im einzelnen zeigt die F i g. 1 eine als Matrize verwendete Metallplatte, die entsprechend dem Siebmuster des herzustellenden Siebbleches 2 vor dem Ätzprozeß mit einer Kopierschicht 3 belegt wird und nach erfolgtem Ätzvorgang an den unbelichteten Stellen der Kopiersühicht 3 eingeätzte Vertiefungen 4 zur späteren Bildung der Sieböffnungen 5 aufweist. Dabei ist aus der Figur erkennbar, wie die Ausätzung in ihrer Wirkung trotz eines gezielten Flankenschutzes seitlich unter die schützende Kopierschicht 3 greift. Der Ätzvorgang wirkt dabei in jedem Falle aufrauhend auf die zugängliche Oberfläche der Matrize 1. Nach beendetem Ätzvorgang werden die entstandenen Vertiefungen 4 mit isolierendem Füllstoff 6 flach ausgefüllt. Gleichzeitig wird die aufgebrachte Kopierschicht 3 entfernt. Damit ist der Ausgangszustand der Matrize 1 zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellt. Die Matrize wird nun mit einer galvanischen Schicht 7 -überzogen. Diese hat einerseits die Aufgabe, die teilweise rauhe Oberfläche der Matrize 1 einzuebnen, andererseits rundet sie die scharfen Kanten der eingeätzten Vertiefungen ab. Dadurch wird nicht nur das spätere Abheben des fertigen Siebes erleichtert, sondern gleichzeitig erreicht, daß dessen Oberfläche entsprechend glatt ausgebildet ist. Weitere gezielte, nach Wunsch einstellbare Wirkungen des Verfahrensabschnittes liegen in der genauen Bestimmung der Lochweite für das gewünschte Siebblech. Ein für das erfindungsgemäße Verfahren charakteristisches Merkmal liegt darüber hinaus in der Festlegung der Höhe der Sieböffnungswandungen 9 durch die Wahl der Dicke der zunächst aufgebrachten galvanischen Schicht 7. Diese ragt in die Vertiefungen 4 der Matrize 1 hinein und hält damit die zunächst eingebettete Isolierschicht 6 in den Vertiefungen 4 fest. Sodann wird der Boden der Vertiefungen 4 mit einer zweiten, die Form der Stirnfläche 5a der Wandungen 9 bestimmenden elektrisch isolierenden Schicht 8 angefüllt. Da sich diese elektrisch isolierende Füllschicht 8 mit der zuerst eingebrachten Füllschicht 6 innig verbindet, erhält sie einerseits von dort her einen guten Halt andererseits deckt sie nach den Seiten hin die galvanische Schicht 7 einwandfrei ab und ermöglicht somit die präzise Ausbildung der Stirnfläche 5a der späteren Sieböffnungswandungen 9. In detail, FIG. 1, a metal plate used as a template, which is assigned in accordance with the screen pattern of the product to the screen plate 2 prior to the etching process with a copying layer 3 and having after completion of etching of the unexposed areas of the Kopiersühicht 3 etched recesses 4 for later formation of the screen openings. 5 It can be seen from the figure, as the Ausätzung engages its effect in spite of a targeted flank protection laterally under the protective copying layer. 3 The etching process in each case has a roughening effect on the accessible surface of the die 1. After the etching process has ended, the depressions 4 formed are filled flat with insulating filler 6. At the same time the applied copy layer 3 is removed. The initial state of the die 1 for carrying out the method according to the invention is thus established. The die is now coated with a galvanic layer 7. On the one hand, this has the task of leveling the partially rough surface of the die 1 , on the other hand, it rounds off the sharp edges of the etched depressions. This not only facilitates the later lifting of the finished screen, but at the same time ensures that its surface is correspondingly smooth. Further targeted effects of the process section that can be adjusted as required are the precise determination of the hole width for the desired screen plate. A characteristic feature of the method according to the invention lies in the definition of the height of the sieve opening walls 9 through the choice of the thickness of the initially applied galvanic layer 7. This protrudes into the depressions 4 of the die 1 and thus holds the insulating layer 6 that was initially embedded in the Wells 4 fixed. The bottom of the depressions 4 is then filled with a second electrically insulating layer 8 which determines the shape of the end face 5a of the walls 9. Since this electrically insulating filler layer 8 is intimately connected to the filler layer 6 introduced first, on the one hand it receives a good hold from there on the other hand it covers the galvanic layer 7 perfectly on the sides and thus enables the precise formation of the end face 5a of the later sieve opening walls 9.
. F i g. 2 zeigt die zweite elektrisch isolierende Füllschicht 8 mit einer sich nach außen wölbenden Oberfläche. Das anschließend galvanoplastisch aufgebrachte Siebblech 2 zeigt dann eine zur Sieböffnung 5 hin abfallende Stirnfläche 5a der Sieböffnungswandung 9 mit scharfen Außenkanten. Besitzt insbesondere die Sieböffnung 5 kreisförmigen Querschnitt, so entsteht eine trichterartig vertiefte Stirnfläche. Im einzelnen kann die dargestellte nach außen gewölbte Oberflächenform der zweiten elektrisch isolierten Füllschicht 8 auf einfache Weise dadurch erreicht werden, daß in die Vertiefung ein flüssiger aushärtbarer Kunststoff eingebracht wird, der eine hohe Oberffächenbespannung aufweist und/oder beim Aushärten sich, dehnt. Wird dagegen diese Füllschicht 8 entsprechend F i g. 3 mit Kunststoffen erzeugt, die eine nur geringe Oberflächenspannung aufweisen und/oder während des Aushärtens schrumpfen, so entsteht eine nach innen gewölbte Oberfläche der Füllschicht 8. Für die Sieböffnungswandungen 9 hat dies eine zur Arbeitsfläche 10 bin abfallende Stirnfläche 5 a, ebenfalls mit scharfer Kante, zur Folge. Diese Ausbildung ist insbesondere auch für Scherblattfolien von elektrischen Rasierapparaten von Vorteil. . F i g. 2 shows the second electrically insulating filling layer 8 with an outwardly bulging surface. The sieve plate 2 subsequently applied by electroplating then shows an end face 5a of the sieve opening wall 9 sloping towards the sieve opening 5 with sharp outer edges. If, in particular, the sieve opening 5 has a circular cross-section, a funnel-like, recessed end face is created. In detail, the outwardly curved surface shape of the second electrically insulated filling layer 8 shown can be achieved in a simple manner that a liquid curable plastic is introduced into the recess, which has a high surface covering and / or expands when it hardens. If, on the other hand, this filling layer 8 according to FIG. Produced with plastics 3, which have only a low surface tension and / or shrink during curing, the result is a 8 inwardly curved surface of the filling layer for the Sieböffnungswandungen 9 this has to work surface 10 have sloping end face 5 a, also with sharp edge , result. This training is particularly advantageous for shaving foils of electric razors.
F i g. 4 zeigt in perspektivischer Darstellung einen vergrößerten Ausschnitt erfindungsgemäßer Siebbleche 2. Die Sieböffnungen 5 besitzen über die Arbeitsfläche 10 hochgezogehe Wandungen 9, welche die Sieböffnungen in gleicher Höhe kragenförmig umgeben. Bei den im Vordergrund dargestellten beiden Sieböffnungen fallen die Stirnflächen Sa der Wandungen 9 zur Arbeitsfläche bei den im Hintergrund dargestellten beiden öffnungen dagegen zu diesen Öffnungen hin ab.F i g. 4 shows a perspective illustration of an enlarged section of sieve plates 2 according to the invention. The sieve openings 5 have walls 9 raised over the work surface 10 , which surround the sieve openings at the same height in a collar-like manner. In the case of the two sieve openings shown in the foreground, the end faces Sa of the walls 9 slope towards the working surface in the case of the two openings shown in the background, on the other hand, towards these openings.
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