DE112021007307T5 - Component push-up device and component assembly device - Google Patents

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Abstract

Eine Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung drückt ein Die von unterhalb eines an einer Wafer-Platte haftenden Wafer nach oben, um das Die von der Wafer-Platte zu trennen. Die Bauteilhochdrückvorrichtung enthält ein Hochdrückwerkzeug mit einer Saugfläche bzw. -oberfläche, die eine untere Fläche bzw. Oberfläche bzw. Unterseite der Wafer-Platte durch Unterdruck ansaugt, und einem Hochdrückstift, der so bereitgestellt ist, dass er von der Saugfläche zu der Wafer-Platte hin vorsteht und sich in dieser zurückzieht, wobei der Hochdrückstift von der Saugfläche vorsteht, um das Die nach oben zu drücken; und ein Stütz- bzw. Trägerglied, das relativ zu dem und entlang des Wafers beweglich ist und das Hochdrückwerkzeug abnehmbar stützt bzw. trägt. Ein Magnet ist in einem des Hochdrückwerkzeugs und des Trägerglieds enthalten und zumindest eine dem Magneten gegenüberliegende bzw. entgegengesetzte Fläche bzw. Oberfläche eines anderen des Hochdrückwerkzeugs und des Trägerglieds besteht aus einem magnetischen Material.A component push-up device pushes a die upward from beneath a wafer adhered to a wafer plate to separate the die from the wafer plate. The component push-up device includes a push-up tool having a suction surface that sucks a lower surface of the wafer plate by negative pressure, and a push-up pin provided to be directed from the suction surface to the wafer plate protrudes and retracts therein, with the push-up pin protruding from the suction surface to push the die upward; and a support member movable relative to and along the wafer and removably supporting the push-up tool. A magnet is included in one of the push-up tool and the support member, and at least one surface of another of the push-up tool and the support member opposite the magnet is made of a magnetic material.

Description

Technisches GebietTechnical area

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung, die ein Die (Nacktchip) von unterhalb einer Wafer-Platte bzw. Wafer-Folie nach oben drückt, um das Die zu trennen, wenn das Die von einem an der Wafer-Platte haftenden Wafer aufgenommen wird, und eine Komponenten- bzw. Bauteilmontagevorrichtung, die die Bauteilhochdrückvorrichtung enthält.The present invention relates to a component pushing-up device that pushes a die (bare chip) upwards from underneath a wafer plate or wafer foil in order to separate the die when the die is detached from a wafer adhering to the wafer plate is recorded, and a component or component assembly device that contains the component push-up device.

Stand der TechnikState of the art

Es ist eine Komponenten- bzw. Bauteilmontagevorrichtung bekannt, die ein Die (Nacktchip) von einem vereinzelten Wafer aufnimmt und das Die auf einem Substrat montiert. Bei dieser Bauteilmontagevorrichtung wird ein solcher Vorgang wiederholt, bei dem eine Wafer-Kamera ein Bild eines Wafers aufnimmt, der von einer Wafer-Zuführeinrichtung in eine vorbestimmte Position (Komponenten- bzw. Bauteilplatzierungsbereich) in der Vorrichtung befördert wird, um den Wafer zu erkennen, und dann ein Kopf mit einer Funktion des Haltens eines Die einen Die aufnimmt.A component mounting device is known which picks up a die (bare chip) from a singulated wafer and mounts the die on a substrate. In this component mounting apparatus, such a process is repeated in which a wafer camera captures an image of a wafer being conveyed by a wafer feeder to a predetermined position (component placement area) in the apparatus to detect the wafer, and then a head with a function of holding a die and receiving a die.

Die Bauteilmontagevorrichtung enthält eine Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung, die, bevor das Die aufgenommen wird, ein Die von unterhalb des an einer Wafer-Platte haftenden Wafers nach oben drückt, um das Die von der Wafer-Platte zu trennen. Die Bauteilhochdrückvorrichtung enthält ein zylindrisches Sauggehäuse und einen Hochdrückstift, der so an einem zentralen Abschnitt des Sauggehäuses bereitgestellt ist, dass er sich herausschiebt und zurückzieht. Während das Sauggehäuse die Wafer-Platte von seiner unteren Fläche bzw. Unterseite ansaugt, drückt der Hochdrückstift das Die von unten herauf.The component mounter includes a component push-up device that, before the die is picked up, pushes a die upward from beneath the wafer adhered to a wafer plate to separate the die from the wafer plate. The component push-up device includes a cylindrical suction housing and a push-up pin provided at a central portion of the suction housing to extend and retract. While the suction housing sucks the wafer plate from its lower surface or underside, the push-up pin pushes the die up from below.

Da die Dies unterschiedlich groß sind, muss die Bauteilhochdrückvorrichtung mit einem Sauggehäuse und einem Hochdrückstift verwendet werden, die für die Größe eines Die geeignet sind. Beispielsweise offenbart die Patentliteratur 1 eine Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung, die eine als Saugtopf bezeichnete Einheit mit einem Sauggehäuse und einem Hochdrückstift enthält, wobei der Saugtopf auswechselbar ist. In dem Saugtopf ist ein Klemmmechanismus montiert, und der Saugtopf kann durch Betätigen eines Hebels an einem vorbestimmten Anbringungsteil angebracht und von diesem abgenommen werden.Because the dies vary in size, the component push-up device must be used with a suction housing and push-up pin appropriate for the size of a die. For example, Patent Literature 1 discloses a component push-up device that includes a unit called a suction cup with a suction housing and a push-up pin, the suction cup being replaceable. A clamping mechanism is mounted in the suction cup, and the suction cup can be attached to and detached from a predetermined attachment part by operating a lever.

Bei der Bauteilhochdrückvorrichtung der Patentliteratur 1 macht die Montage des Klemmmechanismus jedoch die peripheren Strukturen des Sauggehäuses und des Hochdrückstifts kompliziert. Bei einer Bauteilhochdrückvorrichtung, die einen beweglichen Kopf mit einem Sauggehäuse und einen Hochdrückstift enthält und bei der der Kopf einen Die nach oben drückt, während er sich in Bezug auf einen Wafer bewegt, kann eine Gewichtszunahme des Kopfs aufgrund der Montage des Klemmmechanismus zu Taktzeitverlusten führen.However, in the component push-up device of Patent Literature 1, the assembly of the clamping mechanism complicates the peripheral structures of the suction housing and the push-up pin. In a component push-up device that includes a movable head with a suction housing and a push-up pin, and in which the head pushes up a die while moving with respect to a wafer, an increase in weight of the head due to assembly of the clamping mechanism can result in cycle time losses.

Entgegenhaltungslistecitation list

PatentliteraturPatent literature

Patentliteratur 1: JP 2012-169321 A Patent literature 1: JP 2012-169321 A

Zusammenfassung der ErfindungSummary of the invention

Die vorliegende Erfindung wurde im Hinblick auf das oben beschriebene Problem geschaffen. Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Wechseln eines Hochdrückwerkzeugs wie eines Sauggehäuses und eines Hochdrückstifts mit einer einfacheren Konfiguration in einer Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung zu ermöglichen.The present invention was created in view of the problem described above. It is an object of the present invention to enable changing of a push-up tool such as a suction housing and a push-up pin with a simpler configuration in a component push-up device.

Eine Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung ist eine Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung, die ein Die von unterhalb eines an einer Wafer-Platte bzw. Wafer-Folie haftenden Wafer nach oben drückt, um das Die von der Wafer-Platte zu trennen, wobei die Bauteilhochdrückvorrichtung ein Hochdrückwerkzeug mit einer Saugfläche bzw. -oberfläche, die eine untere Fläche bzw. Oberfläche bzw. Unterseite der Wafer-Platte durch Unterdruck ansaugt, und einem Hochdrückstift, der so bereitgestellt ist, dass er von der Saugfläche zu der Wafer-Platte hin vorsteht und sich in dieser zurückzieht, wobei der Hochdrückstift von der Saugfläche vorsteht, um das Die nach oben zu drücken, und ein Stütz- bzw. Trägerglied enthält, das so bereitgestellt ist, dass es relativ zu dem und entlang des Wafers beweglich ist und das Hochdrückwerkzeug abnehmbar stützt bzw. trägt, wobei ein Magnet an einem des Hochdrückwerkzeugs und des Trägerglieds bereitgestellt ist und zumindest eine dem Magneten gegenüberliegende bzw. entgegengesetzte Fläche bzw. Oberfläche eines anderen des Hochdrückwerkzeugs und des Trägerglieds aus einem magnetischen Material besteht.A component pushing-up device according to one aspect of the present invention is a component pushing-up device that pushes up a die from underneath a wafer adhered to a wafer plate to remove the die from the wafer plate to separate, wherein the component push-up device is a push-up tool with a suction surface that sucks a lower surface or bottom of the wafer plate by negative pressure, and a push-up pin provided so that it is from the suction surface to the protruding and retracting into the wafer plate, the push-up pin protruding from the suction surface to push the die upward, and including a support member provided to be relative to and along the wafer is movable and removably supports or carries the push-up tool, wherein a magnet is provided on one of the push-up tool and the support member and at least one surface of another of the push-up tool and the support member opposite the magnet consists of a magnetic material.

Eine Komponenten bzw. Bauteilmontagevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung enthält eine Komponenten- bzw. Bauteilzuführung, bei der ein Wafer, der vereinzelt wurde und an einer Wafer-Platte haftet, angeordnet wird, einen Komponentenüberführungskopf, der ein Die von einem in der Bauteilzuführung angeordneten Wafer aufnimmt und das Die an ein Substrat überführt, und die oben genannte Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung, die ein Die von unterhalb der Wafer-Platte nach oben drückt, wenn der Komponentenüberführungskopf das Die aufnimmt.A component mounting apparatus according to one aspect of the present invention includes a component feeder in which a wafer that has been singulated and adhered to a wafer plate is placed, a component transfer head that has a die disposed in the component feeder Picks up the wafer and transfers the die to a substrate, and the above-mentioned component or component push-up device, which transfers a die from below half of the wafer plate pushes up when the component transfer head picks up the die.

Kurze Beschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings

  • 1 ist eine Draufsicht von oben, die eine Gesamtkonfiguration einer Komponenten- bzw. Bauteilmontagevorrichtung (eine Komponenten- bzw. Bauteilmontagevorrichtung mit einer Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung der vorliegenden Erfindung) gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. 1 Fig. 10 is a top plan view showing an overall configuration of a component mounter (a component mounter with a component push-up device of the present invention) according to an embodiment of the present invention.
  • 2 ist eine schematische perspektivische Ansicht, die eine Kopfeinheit und eine Hochdrückeinheit zeigt. 2 is a schematic perspective view showing a head unit and a push-up unit.
  • 3 ist eine perspektivische Ansicht der Hochdrückeinheit. 3 is a perspective view of the high-pressure unit.
  • 4 ist eine vergrößerte perspektivische Ansicht eines Hauptteils der Hochdrückeinheit. 4 is an enlarged perspective view of a main part of the push-up unit.
  • 5 ist eine perspektivische Ansicht eines Hochdrückkopfes. 5 is a perspective view of a push-up head.
  • 6 ist eine Querschnittsansicht des Hochdrückopfes. 6 is a cross-sectional view of the high pressure head.
  • 7(A) bis 7(C) sind erläuternde Ansichten eines Vorgangs des Hochdrückens eines Die durch den Hochdrückkopf. 7(A) until 7(C) are explanatory views of a process of pushing up a die by the pushing up head.
  • 8 ist eine Tabelle, die eine Beziehung zwischen Magnetpolen eines festen Magneten bzw. Fixiermagneten eines Sauggehäuses und eines festen Magneten bzw. Fixiermagneten eines Sauggehäuses zeigt. 8th is a table showing a relationship between magnetic poles of a fixed magnet of a suction case and a fixed magnet of a suction case.

Beschreibung der AusführungsformenDescription of the embodiments

Bevorzugte Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden detailliert mit Bezug auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben.Preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

[Beschreibung der Komponenten- bzw. Bauteilmontagevorrichtung][Description of the component assembly device]

1 ist eine Draufsicht von oben, die eine Gesamtkonfiguration einer Komponenten- bzw. Bauteilmontagevorrichtung 1 gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Die Bauteilmontagevorrichtung 1 ist eine Vorrichtung, die auf einem Substrat P ein Die 7a (Komponente bzw. Bauteil) aus einem vereinzelten Wafer 7 montiert. Die Bauteilmontagevorrichtung 1 enthält eine Basis 2, einen Förderer 3, eine Kopfeinheit 4, eine Komponenten- bzw. Bauteilzuführung 5 (Komponenten- bzw. Bauteilplatzierungsbereich), eine Wafer-Zuführeinrichtung 6, eine Kameraeinheit 32U und eine Hochdrückeinheit 40. 2 ist eine schematische perspektivische Ansicht, die die Kopfeinheit 4 und eine Hochdrückeinheit 40 zeigt, die nicht in 1 erscheint. 1 Fig. 10 is a top plan view showing an overall configuration of a component mounter 1 according to an embodiment of the present invention. The component mounting device 1 is a device that mounts a die 7a (component or component) from a separated wafer 7 on a substrate P. The component mounting device 1 includes a base 2, a conveyor 3, a head unit 4, a component feeder 5 (component placement area), a wafer feeder 6, a camera unit 32U and a push-up unit 40. 2 is a schematic perspective view showing the head unit 4 and a push-up unit 40 not shown in FIG 1 appears.

Die Basis 2 ist eine Basis, auf der verschiedene Einrichtungen bzw. Mittel montiert werden, die in der Komponentenmontagevorrichtung 1 enthalten sind. Der Förderer 3 ist eine Förderstrecke für das Substrat P und ist so auf bzw. an der Basis 2 installiert, dass er sich in X-Richtung erstreckt. Der Förderer 3 trägt das Substrat P von außerhalb der Vorrichtung in eine vorbestimmte Montageposition und trägt das Substrat P nach der Montage von der Montageposition zu der Außenseite der Vorrichtung heraus. Die Position, an der das Substrat P in 1 angegeben ist, ist die Montageposition. Der Bauteilzuführung 5 führt eine Mehrzahl von Dies 7a in einer Anordnung des vereinzelten Wafers 7 zu.The base 2 is a base on which various devices included in the component mounting device 1 are mounted. The conveyor 3 is a conveying path for the substrate P and is installed on the base 2 so as to extend in the X direction. The conveyor 3 carries the substrate P from outside the apparatus to a predetermined mounting position, and carries the substrate P out from the mounting position to the outside of the apparatus after mounting. The position where the substrate P in 1 is the mounting position. The component feeder 5 feeds a plurality of dies 7a in an arrangement of the separated wafer 7.

Die Kopfeinheit 4 nimmt das Die 7a von der Bauteilzuführung 5 auf, bewegt das Die 7a in die Montageposition und montiert das Die 7a auf dem Substrat P. Die Kopfeinheit 4 enthält eine Mehrzahl von Köpfen 4H („Komponenten- bzw. Bauteilüberführungsköpfe“ der vorliegenden Erfindung), die das Die 7a ansaugen und halten, wenn das Aufnehmen durchgeführt wird. Der Kopf 4H kann sich in Z-Richtung in Bezug auf die Kopfeinheit 4 herausschieben und zurückziehen (auf- und abbewegen) und kann sich um eine Achse drehen. Die Kopfeinheit 4 ist mit einer Substraterkennungskamera 31 montiert, die das Substrat P abbildet. Eine Referenzmarkierung bzw. Bezugsmarke auf dem Substrat P wird anhand des von der Substraterkennungskamera 31 aufgenommenen Bildes erkannt und eine Positionsabweichung wird korrigiert, wenn eine Komponente bzw. ein Bauteil montiert wird.The head unit 4 picks up the die 7a from the component feeder 5, moves the die 7a to the mounting position, and mounts the die 7a on the substrate P. The head unit 4 includes a plurality of heads 4H (“component transfer heads” of the present invention ), which suck and hold the Die 7a when the picking is performed. The head 4H can extend and retract (move up and down) in the Z direction with respect to the head unit 4 and can rotate about an axis. The head unit 4 is mounted with a substrate recognition camera 31 that images the substrate P. A reference mark on the substrate P is recognized from the image captured by the substrate recognition camera 31, and a positional deviation is corrected when a component is mounted.

Die Bauteilmontagevorrichtung 1 enthält einen Antriebsmechanismus D1, der die Kopfeinheit 4 in einer horizontalen Richtung (X- und Y-Richtung) zwischen der Bauteilzuführung 5 und dem an der Montageposition gehaltenen Substrat P bewegen kann. Der Antriebsmechanismus D1 enthält ein Paar fester Y-Achsen-Schienen 13, ein Paar erster Y-Achsen-Servomotoren 14, ein Paar Kugelgewindetrieb- bzw. -umlaufspindelwellen 15 und einen Stütz- bzw. Trägerrahmen 16, der ein Paar fester Y-Achsen-Schienen 13 überbrückt, wobei sich eine jedes Paars auf der +X-Seite und die andere auf der -X-Seite befindet. Die Kugelumlaufspindelwelle 15 ist in eine an dem Trägerrahmen 16 bereitgestellte Mutter 17 geschraubt. Der Antriebsmechanismus D1 enthält ein Führungsglied (nicht gezeigt), das an dem Trägerrahmen 16 montiert ist, einen ersten X-Achsen-Servomotor 18 und eine Kugelgewindetrieb- bzw. -umlaufspindelwelle 19. Das Führungsglied stützt bzw. trägt die Kopfeinheit 4 so, dass sie in der X-Richtung beweglich ist, und die Kugelumlaufspindelwelle 19 ist in eine Mutter (nicht gezeigt) geschraubt, die an der Kopfeinheit 4 bereitgestellt ist.The component mounting device 1 includes a drive mechanism D1 that can move the head unit 4 in a horizontal direction (X and Y directions) between the component feeder 5 and the substrate P held at the mounting position. The drive mechanism D1 includes a pair of Y-axis fixed rails 13, a pair of Y-axis first servo motors 14, a pair of ball screw shafts 15, and a support frame 16 having a pair of Y-axis fixed Rails 13 are bridged, with one of each pair on the +X side and the other on the -X side. The ball screw shaft 15 is screwed into a nut 17 provided on the support frame 16. The drive mechanism D1 includes a guide member (not shown) mounted on the support frame 16, a first X-axis servo motor 18 and a ball screw shaft 19. The guide member supports the head unit 4 so that it is movable in the X direction, and the ball screw shaft 19 is screwed into a nut (not shown) provided on the head unit 4.

Die Kopfeinheit 4 bewegt sich in einer horizontalen Richtung (X- und Y-Richtung) durch einen Betrieb des oben beschriebenen Antriebsmechanismus D1. Das heißt, die Kopfeinheit 4 bewegt sich integral mit dem Trägerrahmen 16 in Y-Richtung, indem der erste Y-Achsen-Servomotor 14 die Kugelumlaufspindel 15 drehend antreibt. Die Kopfeinheit 4 bewegt sich in Bezug auf den Trägerrahmen 16 in der X-Richtung, indem der erste X-Achsen-Servomotor 18 die Kugelumlaufspindelwelle 19 rotierend antreibt.The head unit 4 moves in a horizontal direction (X and Y directions) by an operation of the drive mechanism D1 described above. That is, the head unit 4 moves integrally with the support frame 16 in the Y direction by rotating the first Y-axis servo motor 14 driving the ball screw 15. The head unit 4 moves in the X direction with respect to the support frame 16 by rotating the first X-axis servo motor 18 driving the ball screw shaft 19.

Die Bauteilzuführen 5 enthält die Wafer-Zuführeinrichtung 6, die eine Mehrzahl von Dies 7a in Form des Wafers 7 zu einer vorbestimmten Komponenten- bzw. Bauteilentnahmeposition (Wafer-Tisch 10) zuführt. Die Wafer-Zuführeinrichtung 6 enthält einen Wafer-Halterahmen 8, der eine Wafer-Platte 8a hält. Eine Gruppe einer Anzahl von Dies 7a, 7a, ..., die durch Vereinzeln des Wafers 7 in ein Gittermuster gebildet werden, haftet an der Wafer-Platte 8a. Die Wafer-Zuführeinrichtung 6 tauscht die Wafer-Halterahmen 8 aus, wodurch das Die 7a zu der Bauteilentnahmeposition geführt wird.The component feeder 5 contains the wafer feeder 6, which feeds a plurality of dies 7a in the form of the wafer 7 to a predetermined component or component removal position (wafer table 10). The wafer feeder 6 includes a wafer holding frame 8 that holds a wafer plate 8a. A group of a number of dies 7a, 7a, ... formed by singulating the wafer 7 into a grid pattern adheres to the wafer plate 8a. The wafer feeder 6 exchanges the wafer holding frames 8, thereby guiding the die 7a to the component removal position.

Die Wafer-Zuführeinrichtung 6 enthält einen Wafer-Lagerlift 9, den Wafer-Tisch 10 und einen Wafer-Förderer 11. Der Wafer-Lagerlift 9 lagert in mehreren vertikalen Tischen die Wafer-Platten 8a, an denen jeweils der Wafer 7 haftet und die jeweils durch den Wafer-Halterahmen 8 gehalten sind. Der Wafer-Tisch 10 ist auf der Basis 2 auf der -Y-Seite des Wafer-Lagerlifts 9 installiert. Der Wafer-Tisch 10 ist angrenzend bzw. benachbart zu der Montageposition, wo das getragene Substrat P stoppt, auf der +Y-Seite angeordnet. Der Wafer-Förderer 11 zieht den Wafer-Halterahmen 8 von dem Wafer-Lagerlift 9 auf den Wafer-Tisch 10.The wafer feeding device 6 contains a wafer storage lift 9, the wafer table 10 and a wafer conveyor 11. The wafer storage lift 9 stores the wafer plates 8a in several vertical tables, to which the wafer 7 adheres and each are held by the wafer holding frame 8. The wafer table 10 is installed on the base 2 on the -Y side of the wafer storage elevator 9. The wafer table 10 is disposed adjacent to the mounting position where the supported substrate P stops on the +Y side. The wafer conveyor 11 pulls the wafer holding frame 8 from the wafer storage lift 9 onto the wafer table 10.

Die Kameraeinheit 32U ist in der X-Richtung und der Y-Richtung beweglich und enthält eine Wafer-Kamera 32. Die Wafer-Kamera 32 bildet einen Teil des Wafers 7 ab, der auf dem Wafer-Tisch 10 positioniert ist, d. h. das Die 7a in einer Kameraansicht. Basierend auf dem aufgenommenen Bild wird die Position des aufzunehmenden Die 7a erkannt. Die Bauteilmontagevorrichtung 1 enthält einen Antriebsmechanismus D2, der die Kameraeinheit 32U dazu bringt, sich in einer horizontalen Richtung (X- und Y-Richtung) zwischen der Bauteilzuführung 5 und einer vorbestimmten Standby-Position zu bewegen.The camera unit 32U is movable in the X direction and the Y direction and includes a wafer camera 32. The wafer camera 32 images a part of the wafer 7 positioned on the wafer table 10, i.e. H. the The 7a in a camera view. Based on the captured image, the position of the 7a to be captured is recognized. The component mounter 1 includes a drive mechanism D2 that causes the camera unit 32U to move in a horizontal direction (X and Y directions) between the component feeder 5 and a predetermined standby position.

Der Antriebsmechanismus D2 enthält ein Paar fester Y-Achsen-Schienen 33, einen zweiten Y-Achsen-Servomotor 34, eine Kugelgewindetrieb- bzw. - umlaufspindelwelle 35 und einen Stütz- bzw. Trägerrahmen 36, der ein Paar fester Y-Achsen-Schienen 33 überbrückt, wobei sich eine der festen Y-Achsen-Schienen 33 auf der +X-Seite und die andere auf der -X-Seite befindet, wobei sich der zweite Y-Achsen-Servomotor 34 und die Kugelumlaufspindelwelle 35 auf der +X-Seite befinden. Die Kugelumlaufspindelwelle 35 ist in eine an dem Trägerrahmen 36 bereitgestellte Mutter 37 geschraubt. Der Antriebsmechanismus D2 enthält ein Führungsglied (nicht gezeigt), das an dem Trägerrahmen 36 montiert ist, einen zweiten X-Achsen-Servomotor 38 und eine Kugelgewindetrieb- bzw. - umlaufspindelwelle 39. Das Führungsglied stützt bzw. trägt die Kameraeinheit 32U so, dass sie in der X-Richtung beweglich ist, und die Kugelumlaufspindelwelle 39 ist in eine Mutter (nicht gezeigt) geschraubt, die an der Kameraeinheit 32U bereitgestellt ist.The drive mechanism D2 includes a pair of Y-axis fixed rails 33, a second Y-axis servo motor 34, a ball screw shaft 35 and a support frame 36 which includes a pair of Y-axis fixed rails 33 bridged, with one of the fixed Y-axis rails 33 on the +X side and the other on the -X side, with the second Y-axis servo motor 34 and the ball screw shaft 35 on the +X side condition. The ball screw shaft 35 is screwed into a nut 37 provided on the support frame 36. The drive mechanism D2 includes a guide member (not shown) mounted on the support frame 36, a second X-axis servo motor 38 and a ball screw shaft 39. The guide member supports the camera unit 32U so that it is movable in the X direction, and the ball screw shaft 39 is screwed into a nut (not shown) provided on the camera unit 32U.

Die Kameraeinheit 32U bewegt sich in einer horizontalen Richtung (X- und Y-Richtung) durch einen Betrieb des oben beschriebenen Antriebsmechanismus D2. Das heißt, die Kameraeinheit 32U bewegt sich integral mit dem Trägerrahmen 36 in der Y-Richtung, indem der zweite Y-Achsen-Servomotor 34 die Kugelumlaufspindel 35 drehend antreibt. Die Kameraeinheit 32U bewegt sich in Bezug auf den Trägerrahmen 36 in der X-Richtung, indem der zweite X-Achsen-Servomotor 38 die Kugelumlaufspindelwelle 39 drehend antreibt.The camera unit 32U moves in a horizontal direction (X and Y directions) by an operation of the drive mechanism D2 described above. That is, the camera unit 32U moves integrally with the support frame 36 in the Y direction by rotating the second Y-axis servo motor 34 driving the ball screw 35. The camera unit 32U moves in the X direction with respect to the support frame 36 by rotating the second X-axis servo motor 38 driving the ball screw shaft 39.

Die Hochdrückeinheit 40 ist unterhalb der Bauteilzuführung 5 angeordnet und drückt das Die 7a, das von dem Kopf 4H anzusaugen ist, von der unteren Flächen- bzw. Oberflächenseite der Wafer-Platte 8a nach oben. Die Hochdrückeinheit 40 ist so auf der Basis 2 angeordnet, dass sie in der X- und Y-Richtung innerhalb eines Bereichs bewegbar ist, der ungefähr dem Wafer-Tisch 10 entspricht. Die Bauteilmontagevorrichtung 1 enthält einen Antriebsmechanismus D3, der die Hochdrückeinheit 40 beweglich macht.The push-up unit 40 is disposed below the component feeder 5 and pushes the die 7a to be sucked by the head 4H upward from the lower surface side of the wafer plate 8a. The push-up unit 40 is arranged on the base 2 so that it is movable in the X and Y directions within a range approximately corresponding to the wafer table 10. The component mounting device 1 includes a drive mechanism D3 that makes the push-up unit 40 movable.

Der Antriebsmechanismus D3 enthält einen Stütz- bzw. Trägerrahmen 42, der entlang eines Paars Führungsschienen 41 beweglich ist, die sich in der Y-Richtung erstrecken, eine Kugelgewindetrieb- bzw. -umlaufspindelwelle 43, die sich in der Y-Richtung erstreckt, und einen dritten Y-Achsen-Servomotor 44. Die Kugelumlaufspindelwelle 43 ist in eine Mutter (nicht gezeigt) geschraubt, die an dem Trägerrahmen 42 bereitgestellt ist. Ein X-Richtungs-Bewegungsmechanismus enthält ein Führungsglied (nicht gezeigt), das an dem Trägerrahmen 42 montiert ist, einen dritten X-Achsen-Servomotor 46 und eine Kugelgewindetrieb- bzw. - umlaufspindelwelle 45. Das Führungsglied stützt bzw. trägt die Hochdrückeinheit 40 so, dass sie in der X-Richtung beweglich ist, und die Kugelumlaufspindelwelle 45 ist in eine Mutter (nicht gezeigt) geschraubt, die an der Hochdrückeinheit 40 bereitgestellt ist.The drive mechanism D3 includes a support frame 42 movable along a pair of guide rails 41 extending in the Y direction, a ball screw shaft 43 extending in the Y direction, and a third Y-axis servo motor 44. The ball screw shaft 43 is screwed into a nut (not shown) provided on the support frame 42. An X-direction moving mechanism includes a guide member (not shown) mounted on the support frame 42, a third X-axis servo motor 46, and a ball screw shaft 45. The guide member thus supports the push-up unit 40 that it is movable in the X direction, and the ball screw shaft 45 is screwed into a nut (not shown) provided on the push-up unit 40.

Die Hochdrückeinheit 40 bewegt sich in einer horizontalen Richtung (X- und Y-Richtung) durch einen Betrieb des oben beschriebenen Antriebsmechanismus D3. Das heißt, die Hochdrückeinheit 40 bewegt sich in der Y-Richtung integral mit dem Trägerrahmen 42, indem der dritte Y-Achsen-Servomotor 44 die Kugelumlaufspindelwelle 43 drehend antreibt. Die Hochdrückeinheit 40 bewegt sich in Bezug auf den Trägerrahmen 42 in der X-Richtung, indem der dritte X-Achsen-Servomotor 46 die Kugelumlaufspindelwelle 45 drehend antreibt.The push-up unit 40 moves in a horizontal direction (X and Y directions). an operation of the drive mechanism D3 described above. That is, the push-up unit 40 moves in the Y direction integrally with the support frame 42 by rotating the third Y-axis servo motor 44 driving the ball screw shaft 43. The push-up unit 40 moves in the X direction with respect to the support frame 42 by rotating the third X-axis servo motor 46 driving the ball screw shaft 45.

Die Hochdrückeinheit 40 enthält zwei Hochdrückköpfe 50A und 50B, die jeweils mit einem Hochdrückstift 71 versehen sind, der das Die 7a nach oben drückt, wie es später im Detail beschrieben wird (nur der Hochdrückstift 71 ist in 2 gezeigt). Die Hochdrückeinheit 40 hebt den Hochdrückstift 71 an, um das Die 7a durch die Wafer-Platte 8a nach oben zu drücken, wenn das Die 7a durch den Kopf 4H angesaugt wird. In diesem Beispiel entsprechen die oben beschriebene Hochdrückeinheit 40 und der Antriebsmechanismus D3 der „Bauteilhochdrückvorrichtung“ der vorliegenden Erfindung.The push-up unit 40 includes two push-up heads 50A and 50B, each provided with a push-up pin 71 that pushes up the die 7a, as will be described in detail later (only the push-up pin 71 is shown in FIG 2 shown). The push-up unit 40 lifts the push-up pin 71 to push the die 7a up through the wafer plate 8a when the die 7a is sucked by the head 4H. In this example, the above-described push-up unit 40 and the drive mechanism D3 correspond to the “component push-up device” of the present invention.

Eine Komponenten- bzw. Bauteilerkennungskamera 30 ist an bzw. auf der Basis 2 montiert. Bevor das Die 7a an bzw. auf dem Substrat P montiert wird, nimmt die Bauteilerkennungskamera 30 Bilder von unterhalb des Die 7a auf, das von dem Kopf 4H der Kopfeinheit 4 angesaugt wird. Basierend auf dem aufgenommenen Bild wird bestimmt, ob der Kopf 4H den Chip 7a abnormal angesaugt hat, ob er das Die 7a nicht angesaugt hat etc.A component or component recognition camera 30 is mounted on the base 2. Before the die 7a is mounted on the substrate P, the component recognition camera 30 takes images from below the die 7a, which is sucked in by the head 4H of the head unit 4. Based on the captured image, it is determined whether the head 4H has abnormally sucked the chip 7a, whether it has not sucked the die 7a, etc.

Ein grundlegender Betrieb der oben beschriebenen Bauteilmontagevorrichtung 1 ist wie folgt. Zuerst zieht der Wafer-Förderer 11 den Wafer-Halterahmen 8 aus dem Wafer-Lagerlift 9 heraus. Dadurch wird die Wafer-Platte 8a, an der eine Gruppe von mehreren Dies 7a, 7a, ... haftet (Wafer 7), zusammen mit dem Wafer-Halterahmen 8 auf dem Wafer-Tisch 10 angeordnet.A basic operation of the component mounting device 1 described above is as follows. First, the wafer conveyor 11 pulls the wafer holding frame 8 out of the wafer storage lift 9. As a result, the wafer plate 8a, to which a group of several dies 7a, 7a, ... adheres (wafer 7), is arranged on the wafer table 10 together with the wafer holding frame 8.

Als nächstes bewegt sich die Kameraeinheit 32U über den Wafer-Tisch 10 und bildet den Wafer 7 ab. Das Abbilden bzw. die Bildaufnahme durch die Kameraeinheit 32U dient der Erkennung einer Gruppe von Dies 7a, die bei der nächsten Aufnahme bzw. Entnahme durch den Kopf 4H anzusaugen sind.Next, the camera unit 32U moves over the wafer table 10 and images the wafer 7. The imaging or image recording by the camera unit 32U serves to recognize a group of dies 7a that are to be sucked in by the head 4H during the next recording or removal.

Wenn die Abbildung der Gruppe von Dies 7a abgeschlossen ist, zieht sich die Kameraeinheit 32U von oberhalb des Wafer-Tisches 10 zurück und die Kopfeinheit 4 wird über dem Wafer-Tisch 10 positioniert, während die Hochdrückeinheit 40 unter dem Wafer 7 positioniert wird. Dann nimmt der Kopf 4H von dem Wafer 7 die Gruppe von Dies 7a auf, die durch die Abbildung durch die Kameraeinheit 32U erkannt wurde. Bei diesem Aufnehmen wird der Hochdrückstift 71 der Hochdrückeinheit 40 angehoben, um das Die 7a durch die Wafer-Platte 8a nach oben zu drücken.When the imaging of the group of dies 7a is completed, the camera unit 32U retracts from above the wafer table 10 and the head unit 4 is positioned above the wafer table 10 while the push-up unit 40 is positioned below the wafer 7. Then, the head 4H picks up from the wafer 7 the group of dies 7a recognized by the imaging by the camera unit 32U. In this pick-up, the push-up pin 71 of the push-up unit 40 is raised to push the die 7a up through the wafer plate 8a.

Nach dem Aufnehmen des Die 7a bewegt sich die Kopfeinheit 4 von oberhalb des Wafer-Tisches 10 über oberhalb der Bauteilerkennungskamera 30 bis oberhalb des Substrats P an der Montageposition. Der von dem Kopf 4H angesaugte Die 7a wird dann auf dem Substrat P montiert.After recording the die 7a, the head unit 4 moves from above the wafer table 10 to above the component recognition camera 30 to above the substrate P at the mounting position. The die 7a sucked by the head 4H is then mounted on the substrate P.

Synchron mit der Bewegung der Kopfeinheit 4 von oberhalb des Wafer-Tisches 10 nach dem Aufnehmen des Die 7a bewegt sich die Kameraeinheit 32U, um in den Raum oberhalb des Wafer-Tisches 10 einzudringen. Danach bewegen sich die Kopfeinheit 4 und die Kameraeinheit 32U, um abwechselnd in den Raum über dem Wafer-Tisch 10 einzutreten und diesen zu verlassen, um die Aufnahme des Die 7a und die Montage des Die 7a auf dem Substrat P zu wiederholen.Synchronously with the movement of the head unit 4 from above the wafer table 10 after taking the picture 7a, the camera unit 32U moves to enter the space above the wafer table 10. Thereafter, the head unit 4 and the camera unit 32U move to alternately enter and exit the space above the wafer table 10 to repeat the recording of the die 7a and the mounting of the die 7a on the substrate P.

[Detaillierte Struktur der Hochdrückeinheit 40][Detailed structure of high-pressure unit 40]

3 ist eine perspektivische Ansicht der Hochdrückeinheit 40 und 4 ist eine vergrößerte perspektivische Ansicht eines Hauptteils der Hochdrückeinheit 40. 5 ist eine perspektivische Ansicht der Hochdrückköpfe 50A und 50B, die an der Hochdrückeinheit 40 bereitgestellt sind, und 6 ist eine Querschnittsansicht des Hochdrückkopfes 50A (50B). 3 is a perspective view of the push-up unit 40 and 4 is an enlarged perspective view of a main part of the push-up unit 40. 5 is a perspective view of the push-up heads 50A and 50B provided on the push-up unit 40, and 6 is a cross-sectional view of the push-up head 50A (50B).

Die Hochdrückeinheit 40 enthält einen Basisrahmen 47, der mit dem Antriebsmechanismus D3 verbunden ist. Der Basisrahmen 47 enthält ein Paar der Hochdrückköpfe 50A und 50B, einen Schaltmechanismus D4, der die Hochdrückköpfe 50A oder 50B umschaltet, einen ersten Hub- bzw. Hebemechanismus D5, der die Hochdrückköpfe 50A und 50B dazu bringt, sich in der Z-Richtung herauszuschieben oder zurückzuziehen (auf und ab zu bewegen), und einen zweiten Hub- bzw. Hebemechanismus D6, der den später beschriebenen Hochdrückstift 71, der an den Hochdrückköpfen 50A und 50B bereitgestellt ist, dazu bringt, sich in der Z-Richtung herauszuschieben oder zurückzuziehen (auf und ab zu bewegen).The push-up unit 40 includes a base frame 47 connected to the drive mechanism D3. The base frame 47 includes a pair of the push-up heads 50A and 50B, a switching mechanism D4 that switches the push-up heads 50A or 50B, a first lifting mechanism D5 that causes the push-up heads 50A and 50B to slide out in the Z direction, or to retract (move up and down), and a second lifting mechanism D6 that causes the later-described push-up pin 71 provided on the push-up heads 50A and 50B to extend or retract (up) in the Z direction and move off).

Die Hochdrückköpfe 50A und 50B drücken das Die 7a durch die Wafer-Platte 8a nach oben, wenn das Die 7a durch den Kopf 4H angesaugt wird. Die Hochdrückköpfe 50A und 50B weisen grundsätzlich die gleiche Struktur auf, mit der Ausnahme, dass die Art des später beschriebenen Hochdrückwerkzeugs 60 unterschiedlich ist.The push-up heads 50A and 50B push the die 7a up through the wafer plate 8a when the die 7a is sucked by the head 4H. The push-up heads 50A and 50B basically have the same structure except that the type of the push-up tool 60 described later is different.

Wie in 5 und 6 gezeigt, enthält der Hochdrückkopf 50A (50B) ein Basisglied 52 und ein Hochdrückwerkzeug 60, das an dem Basisglied 52 montiert ist. Das Hochdrückwerkzeug 60 enthält ein Sauggehäuse 62 zum Ansaugen der Wafer-Platte 8a von unten, und einen Stifthalter 63. Der Stifthalter 63 enthält einen oben geschlossenen zylindrischen Halterkörper 70 und einen Hochdrückstift 71, der an dem oberen Ende des Halterkörpers 70 gehalten ist. Der Hochdrückstift 71 drückt das Die 7a nach oben.As in 5 and 6 As shown, the push-up head 50A (50B) includes a base member 52 and a push-up tool 60 mounted on the base member 52. The high-pressure tool 60 contains a Suction housing 62 for sucking the wafer plate 8a from below, and a pen holder 63. The pen holder 63 includes a top-closed cylindrical holder body 70 and a push-up pin 71 held at the upper end of the holder body 70. The push-up pin 71 pushes the die 7a upwards.

Die optimale Art der Anzahl, Anordnung, Größe (Durchmesser und Länge) und Spitzenform der an dem Stifthalter 63 bereitgestellten Hochdrückstifte 71 unterscheidet sich für unterschiedliche Größen des Die 7a, auf dem Die 7a gebildete Schaltkreise, und dergleichen. Daher wird der Stifthalter 63 einschließlich des am besten geeigneten Hochdrückstifts 71, der dem Die 7a entspricht, aus einer Mehrzahl von Typen von Stifthaltern 63 ausgewählt und in dem Hochdrückkopf 50A (50B) montiert.The optimal type of number, arrangement, size (diameter and length) and tip shape of the push-up pins 71 provided on the pin holder 63 differs for different sizes of the die 7a, circuits formed on the die 7a, and the like. Therefore, the pen holder 63 including the most suitable push-up pin 71 corresponding to the die 7a is selected from a plurality of types of pin holders 63 and mounted in the push-up head 50A (50B).

Der Hochdrückkopf 50A (50B) enthält einen Hochdrückhauptwelle 74, der durch das Basisglied 52 gestützt bzw. getragen ist, um in der Auf-Ab-Richtung beweglich zu sein. Der Stifthalter 63 ist abnehmbar an dem oberen Ende der Hochdrück-Hauptwelle 74 befestigt. Die Hochdrück-Hauptwelle 74 ist eine Keilwelle und ist so gelagert, dass sie in der Auf-Ab-Richtung (in der Z-Richtung beweglich) beweglich ist, und zwar durch ein Keil- bzw. Keilwellenlager 75, das in einem in dem Basisglied 52 ausgebildeten Durchgangsloch 55 befestigt ist. Eine zylindrische Stiftbasis 72 ist in der Nähe des oberen Endes der Hochdrückhauptwelle 74 in einem Zustand befestigt, in dem sie leicht nach oben vorsteht (als vorstehender Abschnitt 74a bezeichnet).The push-up head 50A (50B) includes a push-up main shaft 74 supported by the base member 52 to be movable in the up-down direction. The pin holder 63 is detachably attached to the upper end of the push-up main shaft 74. The push-up main shaft 74 is a splined shaft and is supported to be movable in the up-down direction (movable in the Z direction) by a splined bearing 75 mounted in one in the base member 52 formed through hole 55 is attached. A cylindrical pin base 72 is fixed near the upper end of the push-up main shaft 74 in a state of slightly protruding upward (referred to as a protruding portion 74a).

Die Stiftbasis 72 enthält einen Basiskörper 72a und einen festen Magneten bzw. Fixiermagneten 72b, der auf das obere Ende des Basiskörpers 72a gestapelt ist. Der Fixiermagnet 72b weist eine Ringform auf, die in der Z-Richtung flach ist, und ist auf dem Basiskörper 72a angeordnet, wobei der vorstehende Abschnitt 74a (Hochdrückhauptwelle 74) die Mitte des Fixiermagneten 72b durchdringt. Der Fixiermagnet 72b ist so angeordnet, dass er sich nicht von dem vorstehenden Abschnitt 74a (Hochdrückhauptwelle 74) löst.The pin base 72 includes a base body 72a and a fixed magnet 72b stacked on the upper end of the base body 72a. The fixing magnet 72b has a ring shape that is flat in the Z direction and is disposed on the base body 72a, with the protruding portion 74a (press-up main shaft 74) penetrating the center of the fixing magnet 72b. The fixing magnet 72b is arranged so that it does not come off from the protruding portion 74a (press-up main shaft 74).

Der Stifthalter 63 ist auf der Stiftbasis 72 angeordnet, wobei der vorstehende Abschnitt 74a in den Halterkörper 70 eingesetzt und in Bezug auf den vorstehenden Abschnitt 74a umfangsmäßig positioniert ist. Der gesamte Halterkörper 70 oder zumindest eine der Stiftbasis 72 (Fixiermagnet 72b) zugewandte Fläche bzw. Oberfläche des Halterkörpers 70 besteht aus einem magnetischen Material wie etwa Eisen. Das heißt, der Stifthalter 63 wird durch die Magnetkraft des Fixiermagneten 72b an der Stiftbasis 72 befestigt. Der Stifthalter 63 (Halterkörper 70) und die Stiftbasis 72 weisen ungefähr den gleichen Außendurchmesser auf und sind aneinander befestigt, um integral eine einzelne Säulenform zu bilden.The pen holder 63 is disposed on the pen base 72 with the protruding portion 74a inserted into the holder body 70 and positioned circumferentially with respect to the protruding portion 74a. The entire holder body 70 or at least one surface or surface of the holder body 70 facing the pin base 72 (fixing magnet 72b) consists of a magnetic material such as iron. That is, the pen holder 63 is fixed to the pen base 72 by the magnetic force of the fixing magnet 72b. The pen holder 63 (holder body 70) and the pen base 72 have approximately the same outer diameter and are attached to each other to integrally form a single columnar shape.

Ein unterer Endabschnitt der Hochdrückhauptwelle 74 steht von dem Basisglied 52 nach unten, und an dem unteren Endabschnitt ist ein zylindrisches Mitnehmerglied 76 bereitgestellt. Eine Schraubenfeder 78 ist an der Hochdrückhauptwelle 74 an einer Stelle zwischen dem Mitnehmerglied 76 und der unteren Oberfläche des Basisglieds 52 angebracht. Die Hochdrückhauptwelle 74 ist nach unten (in der -Z-Richtung) durch die elastische Kraft der Schraubenfeder 78 vorgespannt, wodurch die Stiftbasis 72 an dem Keilwellenlager 75 anliegt und in einer vollständig abgesenkten Position (der Position in 6) gehalten wird.A lower end portion of the push-up main shaft 74 projects downward from the base member 52, and a cylindrical driver member 76 is provided at the lower end portion. A coil spring 78 is attached to the push-up main shaft 74 at a location between the driver member 76 and the lower surface of the base member 52. The push-up main shaft 74 is biased downward (in the -Z direction) by the elastic force of the coil spring 78, whereby the pin base 72 abuts against the spline bearing 75 and is in a fully lowered position (the position in 6 ) is held.

Das Sauggehäuse 62 enthält einen oben geschlossenen zylindrischen Abschnitt 65 mit einer Saugfläche bzw. -oberfläche 66 an dem oberen Ende, die die Wafer-Platte 8a ansaugt, und einen Flansch 67, der sich vom unteren Endabschnitt des zylindrischen Abschnitts 65 fortsetzt. Das Sauggehäuse 62 ist über den Flansch 67 an der oberen Fläche bzw. Oberfläche 54 des Basisglieds 52 angebracht. Ein ringförmiger Vorsprungsabschnitt 53 ist vorspringend bereitgestellt, um das Durchgangsloch 55 an der oberen Fläche 54 des Basisglieds 52 zu umgeben, und ein vertiefter Abschnitt 67b in Entsprechung mit dem Vorsprungsabschnitt 53 ist in der unteren Fläche des Flansches 67 ausgebildet. Das Sauggehäuse 62 ist auf der oberen Fläche 54 des Basisglieds 52 angeordnet, wobei der Vorsprungsabschnitt 53 mit dem vertieften Abschnitt 67b in Eingriff ist (in diesen gepasst ist). In einem Rand des Flansches 67 ist ein Ausschnitt 67a ausgebildet, und ein Positionierungsstift 69, der aufrecht an bzw. auf der oberen Fläche 54 bereitgestellt ist, ist in den Ausschnitt 67a eingesetzt. Dadurch ist das Sauggehäuse 62 in der Umfangsrichtung in Bezug auf das Basisglied 52 positioniert.The suction housing 62 includes a top-closed cylindrical portion 65 having a suction surface 66 at the upper end that sucks the wafer plate 8a, and a flange 67 extending from the lower end portion of the cylindrical portion 65. The suction housing 62 is attached to the upper surface 54 of the base member 52 via the flange 67. An annular protruding portion 53 is protrudingly provided to surround the through hole 55 on the upper surface 54 of the base member 52, and a recessed portion 67b corresponding to the protruding portion 53 is formed in the lower surface of the flange 67. The suction housing 62 is disposed on the upper surface 54 of the base member 52, with the protruding portion 53 engaged with (fitting into) the recessed portion 67b. A cutout 67a is formed in an edge of the flange 67, and a positioning pin 69 provided upright on the upper surface 54 is inserted into the cutout 67a. Thereby, the suction housing 62 is positioned in the circumferential direction with respect to the base member 52.

Eine Mehrzahl von festen Magneten bzw. Fixmagneten 68 sind in einem konstanten Abstand in der Umfangsrichtung um den Vorsprungsabschnitt 53 herum auf der oberen Fläche 54 des Basisglieds 52 angeordnet. Diese Fixmagnete 68 sind so in das Basisglied 52 eingebettet, dass die oberen Flächen der Fixmagnete 68 und die obere Fläche 54 des Basisglieds 52 miteinander bündig sind. Indes besteht das gesamte Sauggehäuse 62 oder zumindest eine dem Basisglied 52 zugewandte Fläche bzw. Oberfläche des Sauggehäuses 62 (Fixmagnete 68) aus einem magnetischen Material wie Eisen. Das heißt, das Sauggehäuse 62 ist durch die Magnetkraft der Fixmagnete 68 an dem Basisglied 52 fixiert bzw. befestigt.A plurality of fixed magnets 68 are arranged at a constant interval in the circumferential direction around the projection portion 53 on the upper surface 54 of the base member 52. These fixed magnets 68 are embedded in the base member 52 such that the upper surfaces of the fixed magnets 68 and the upper surface 54 of the base member 52 are flush with one another. Meanwhile, the entire suction housing 62 or at least a surface or surface of the suction housing 62 (fixed magnets 68) facing the base member 52 is made of a magnetic material such as iron. That is, the suction housing 62 is fixed or attached to the base member 52 by the magnetic force of the fixed magnets 68.

Zwischen der inneren Deckenfläche bzw. -oberfläche des zylindrischen Abschnitts 65 des Sauggehäuses 62 und dem Halterkörper 70 des Stifthalters 63 ist ein Spalt gebildet, der erlaubt, dass der Stifthalter 63 angehoben und abgesenkt wird. Wenn die Hochdrückhauptwelle 74 aus der vollständig abgesenkten Position angehoben wird, um den Stifthalter 63 in eine Position, in der der Stifthalter 63 an der Deckenfläche des zylindrischen Abschnitts 65 anliegt, oder in eine Position nahe dieser Position zu heben, steht der Hochdrückstift 71 aus einem Stiftloch 66a hervor, das in der Saugfläche 66 (Deckenfläche) ausgebildet ist. Durch diesen Vorsprung kann der Hochdrückstift 71 das Die 7a nach oben drücken. Wenn der Stifthalter 63 indes zusammen mit der Hochdrückhauptwelle 74 in der vollständig abgesenkten Position positioniert ist, wird der Hochdrückstift 71 in den Stifthalter 63 zurückgezogen. Beispielsweise wird indes wird der Betrag des Vorspringens des Hochdrückstifts 71 von der Saugfläche 66 entsprechend der Art des Die 7a verändert (eingestellt).Between the inner ceiling surface or surface of the cylindrical section 65 of the A gap is formed between the suction housing 62 and the holder body 70 of the pen holder 63, which allows the pen holder 63 to be raised and lowered. When the push-up main shaft 74 is raised from the fully lowered position to raise the pin holder 63 to a position in which the pin holder 63 abuts the top surface of the cylindrical portion 65 or to a position close to this position, the push-up pin 71 stands out Pin hole 66a formed in the suction surface 66 (ceiling surface). Through this projection, the push-up pin 71 can push the die 7a upwards. Meanwhile, when the pin holder 63 is positioned in the fully lowered position together with the push-up main shaft 74, the push-up pin 71 is retracted into the pin holder 63. Meanwhile, for example, the amount of protrusion of the push-up pin 71 from the suction surface 66 is changed (adjusted) according to the type of die 7a.

In diesem Beispiel entsprechen das Basisglied 52 und die Stiftbasis 72 dem „Trägerglied“ der vorliegenden Erfindung. Insbesondere entspricht das Basisglied 52 dem „Basisabschnitt“ und die Stiftbasis 72 entspricht dem „beweglichen Abschnitt“.In this example, the base member 52 and the pin base 72 correspond to the “support member” of the present invention. In particular, the base member 52 corresponds to the “base section” and the pin base 72 corresponds to the “movable section”.

Der Hochdrückkopf 50A (50B) enthält einen Unterdruckversorgungsmechanismus zum Ansaugen der Wafer-Platte 8a. Der Unterdruckversorgungsmechanismus enthält einen Unterdruckanschluss 57, der in einem unteren Abschnitt des Basisglieds 52 bereitgestellt ist, und einen Unterdruckdurchgang 56, der in dem Basisglied 52 ausgebildet ist. Der Unterdruckanschluss 57 ist mit einem Unterdruckgenerator 58 (siehe 3) durch ein Rohr (nicht gezeigt) verbunden. Der Unterdruckdurchgang 56 leitet Unterdruck in das Durchgangsloch 55 ein, der dem Unterdruckanschluss 57 zugeführt wird. Dadurch wird Unterdruck durch das Durchgangsloch 55 an das Innere des Sauggehäuses 62 (zylindrischer Abschnitt 65) geleitet.The push-up head 50A (50B) includes a vacuum supply mechanism for sucking the wafer plate 8a. The vacuum supply mechanism includes a vacuum port 57 provided in a lower portion of the base member 52 and a vacuum passage 56 formed in the base member 52. The vacuum connection 57 is connected to a vacuum generator 58 (see 3 ) connected by a pipe (not shown). The vacuum passage 56 introduces vacuum into the through hole 55, which is supplied to the vacuum port 57. Thereby, negative pressure is supplied to the interior of the suction housing 62 (cylindrical portion 65) through the through hole 55.

Die Saugfläche 66 weist eine Mehrzahl konzentrischer Ringnuten und Öffnungen (nicht gezeigt) auf, durch die die Ringnuten mit dem Inneren des Sauggehäuses 62 kommunizieren. Ein zwischen dem Sauggehäuse 62 und dem Stifthalter 63 bereitgestellter Durchgang für Unterdruck kommuniziert mit jeder Öffnung, und den Ringnuten wird durch die Öffnungen Unterdruck zugeführt (die Wafer-Platte 8a wird über die Ringnuten angesaugt), wodurch die Wafer-Platte 8a durch die Saugfläche 66 angesaugt wird.The suction surface 66 has a plurality of concentric annular grooves and openings (not shown) through which the annular grooves communicate with the interior of the suction housing 62. A negative pressure passage provided between the suction housing 62 and the pin holder 63 communicates with each opening, and negative pressure is supplied to the annular grooves through the openings (the wafer plate 8a is sucked via the annular grooves), thereby causing the wafer plate 8a to pass through the suction surface 66 is sucked in.

Wie in 3 und 4 gezeigt, enthält die Hochdrückeinheit 40 einen beweglichen Rahmen 48, der in der X-Richtung in Bezug auf den Basisrahmen 47 beweglich ist. Die Hochdrückköpfe 50A und 50B sind in der X-Richtung Seite an Seite an dem beweglichen Rahmen 48 montiert. Der bewegliche Rahmen 48 ist mit einer Betätigungswelle 49a eines ersten Luftzylinders 49 verbunden, der an dem Basisrahmen 47 befestigt ist, und der bewegliche Rahmen 48 schiebt sich durch Betätigung des ersten Luftzylinders 49 in der X-Richtung vor und zurück. Wenn sich der bewegliche Rahmen 48 in einer vorgeschobenen Position befindet, befinden sich die Hochdrückköpfe 50A in einer vorbestimmten Arbeitsposition Wp (der in 3 gezeigte Zustand), und wenn sich der bewegliche Rahmen 48 in einer zurückgezogenen Position befindet, ist der Hochdrückkopf 50B an der Arbeitsposition Wp angeordnet. Dadurch wird ein Umschalten zwischen den Hochdrückköpfen 50A und 50B, die zum Hochdrücken des Die 7a verwendet werden, durchgeführt. Der bewegliche Rahmen 48 und der erste Luftzylinder 49 stellen den Schaltmechanismus D4 dar.As in 3 and 4 As shown, the push-up unit 40 includes a movable frame 48 movable in the X direction with respect to the base frame 47. The push-up heads 50A and 50B are mounted side by side on the movable frame 48 in the X direction. The movable frame 48 is connected to an operating shaft 49a of a first air cylinder 49 fixed to the base frame 47, and the movable frame 48 slides back and forth in the X direction by operating the first air cylinder 49. When the movable frame 48 is in an advanced position, the push-up heads 50A are in a predetermined working position Wp (the Fig 3 state shown), and when the movable frame 48 is in a retracted position, the push-up head 50B is disposed at the working position Wp. This performs switching between the push-up heads 50A and 50B used for pushing up the die 7a. The movable frame 48 and the first air cylinder 49 constitute the switching mechanism D4.

Die Hochdrückköpfe 50A und 50B sind durch ein Paar Führungsschienen 51 gestützt bzw. getragen, die an dem beweglichen Rahmen 48 bereitgestellt sind, um sich in der Z-Richtung zu erstrecken, um in der Auf-Ab-Richtung beweglich zu sein. Der erste Hebemechanismus D5 zum Anheben und Absenken der Hochdrückköpfe 50A und 50B enthält ein Paar der Führungsschienen 51, ein erstes Hochdrückglied 81, einen zweiten Luftzylinder 80 und einen Nockenmechanismus (nicht gezeigt). Das erste Hochdrückglied 81 ist unterhalb des Hochdrückkopfs 50A (50B) bereitgestellt, der an der Arbeitsposition Wp positioniert ist, um in der Auf-Ab-Richtung beweglich zu sein. Das erste Hochdrückglied 81 wird durch den zweiten Luftzylinder 80 angehoben und abgesenkt, der den Nockenmechanismus betätigt, um den Hochdrückkopf 50A (50B), der an der Arbeitsposition Wp zwischen der angehobenen Position und der abgesenkten Position positioniert ist, anzuheben und abzusenken. In der angehobenen Position liegt die Saugfläche 66 des Sauggehäuses 62 an der unteren Fläche bzw. Unterseite der Wafer-Platte 8a, die durch den Wafer-Halterahmen 8 gehalten ist, der an bzw. auf dem Wafer-Tisch 10 angeordnet ist, an oder kommt dieser nahe.The push-up heads 50A and 50B are supported by a pair of guide rails 51 provided on the movable frame 48 to extend in the Z direction to be movable in the up-down direction. The first lifting mechanism D5 for raising and lowering the push-up heads 50A and 50B includes a pair of the guide rails 51, a first push-up member 81, a second air cylinder 80, and a cam mechanism (not shown). The first push-up member 81 is provided below the push-up head 50A (50B) positioned at the working position Wp to be movable in the up-down direction. The first push-up member 81 is raised and lowered by the second air cylinder 80, which operates the cam mechanism to raise and lower the push-up head 50A (50B) positioned at the working position Wp between the raised position and the lowered position. In the raised position, the suction surface 66 of the suction housing 62 abuts the lower surface of the wafer plate 8a held by the wafer holding frame 8 disposed on the wafer table 10 this one close.

Der zweite Hebemechanismus D6 zum Anheben und Absenken des Hochdrückstifts 71 enthält ein zweites Hochdrückglied 82, einen Z-Achsen-Servomotor 84 und einen Getriebe- bzw. Übertragungsmechanismus 83. Die Komponenten des zweiten Hebemechanismus D6 sind an einer Halterung (nicht gezeigt) montiert, die an dem ersten Hochdrückglied 81 befestigt ist. Daher wird der zweite Hebemechanismus D6 zusammen mit dem ersten Hochdrückglied 81 angehoben und abgesenkt.The second lifting mechanism D6 for raising and lowering the push-up pin 71 includes a second push-up member 82, a Z-axis servo motor 84 and a transmission mechanism 83. The components of the second lifting mechanism D6 are mounted on a bracket (not shown) which is attached to the first push-up member 81. Therefore, the second lifting mechanism D6 is raised and lowered together with the first push-up member 81.

Das zweite Hochdrückglied 82 ist auf der Y-Seite des ersten Hochdrückglieds 81 und unterhalb des Hochdrückkopfs 50A (50B) in der Arbeitsposition Wp bereitgestellt. Das zweite Hochdrückglied 82 ist ein Blockglied mit einer flachen oberen Fläche bzw. Oberfläche. Das zweite Hochdrückglied 82 ist durch ein Führungsglied (nicht gezeigt) gestützt bzw. getragen, das an der Halterung befestigt ist, um sich in der Auf-Ab-Richtung zu bewegen. Das zweite Hochdrückglied 82 wird durch den Z-Achsen-Servomotor 84 über den Übertragungsmechanismus 83, der einen Vorschubspindelmechanismus oder dergleichen enthält, angetrieben und entlang des Führungsglieds angehoben und abgesenkt.The second push-up member 82 is provided on the Y side of the first push-up member 81 and below the push-up head 50A (50B) in the working position Wp. The second push-up member 82 is a block member with a flat top surface. The second push-up member 82 is supported by a guide member (not shown) attached to the bracket to move in the up-down direction. The second push-up member 82 is driven by the Z-axis servo motor 84 via the transmission mechanism 83 including a feed screw mechanism or the like, and is raised and lowered along the guide member.

Wenn das zweite Hochdrückglied 82 an der vollständig abgesenkten Position positioniert ist, wie in 6 gezeigt, ist die obere Fläche des zweiten Hochdrückglieds 82 über einen kleinen Spalt der unteren Fläche des Mitnehmerglieds 76 der Hochdrückhauptwelle 74 des Hochdrückkopfs 50A (50B) zugewandt, der an der Arbeitsposition Wp positioniert ist. Durch Anheben des zweiten Hochdrückglieds 82 wird die Hochdrückhauptwelle 74 gegen die Vorspannkraft der Schraubenfeder 78 nach oben gedrückt, und der Stifthalter 63 (Hochdrückstift 71) wird zusammen mit dem Anheben der Hochdrückhauptwelle 74 angehoben, wodurch der Hochdrückstift 71 aus dem Stiftloch 66a des Sauggehäuses 62 hervorsteht. Dann wird durch Absenken des zweiten Hochdrückglieds 82 die Hochdrückhauptwelle 74 abgesenkt, während sie die Vorspannkraft der Schraubenfeder 78 aufnimmt, und wird in die vollständig abgesenkte Position zurückgesetzt, in der die Hochdrückhauptwelle 74 zuvor positioniert war. Dadurch zieht sich der Hochdrückstift 71 in das Sauggehäuse 62 zurück.When the second push-up member 82 is positioned at the fully lowered position, as shown in 6 As shown, the upper surface of the second push-up member 82 faces, via a small gap, the lower surface of the driver member 76 of the push-up main shaft 74 of the push-up head 50A (50B), which is positioned at the working position Wp. By lifting the second push-up member 82, the push-up main shaft 74 is pushed up against the biasing force of the coil spring 78, and the pin holder 63 (pull-up pin 71) is raised along with the lifting of the push-up main shaft 74, whereby the push-up pin 71 protrudes from the pin hole 66a of the suction housing 62 . Then, by lowering the second push-up member 82, the push-up main shaft 74 is lowered while receiving the biasing force of the coil spring 78, and is returned to the fully lowered position in which the push-up main shaft 74 was previously positioned. As a result, the push-up pin 71 retracts into the suction housing 62.

Das Bezugszeichen 58 in 3 bezeichnet einen Unterdruckgenerator, der an dem Basisrahmen 47 befestigt ist. Der Unterdruckgenerator 58 ist über ein Rohr (nicht gezeigt) mit dem Unterdruckanschluss 57 der Hochdrückköpfe 50A und 50B verbunden. Der Unterdruckgenerator 58 schaltet zwischen einem Modus zum Zuführen von Unterdruck an die Hochdrückköpfe 50A und 50B zum Ansaugen der Wafer-Platte und einem Modus zum Stoppen der Zufuhr von Unterdruck (Ablassen in die Atmosphäre) um.The reference number 58 in 3 denotes a vacuum generator attached to the base frame 47. The vacuum generator 58 is connected to the vacuum port 57 of the high-pressure heads 50A and 50B via a pipe (not shown). The negative pressure generator 58 switches between a mode of supplying negative pressure to the high-pressure heads 50A and 50B for sucking the wafer plate and a mode of stopping supplying negative pressure (discharging to the atmosphere).

[Betrieb und Wirkung der Hochdrückeinheit 40][Operation and effect of the high-pressure unit 40]

7(A) bis 7(C) sind erläuternde Ansichten eines Vorgangs des Hochdrückens des Die 7a durch die Hochdrückköpfe 50A und 50B. In 7(A) bis 7(C) ist die Darstellung des Die 7a (Wafer 7) weggelassen. Wenn der Kopf 4H, wie oben beschrieben, das Die 7a von dem Wafer 7 aufnimmt, wird die Hochdrückeinheit 40 unter dem Wafer 7 positioniert und drückt das Die 7a durch die Wafer-Platte 8a nach oben. Ein spezifischer Betrieb der Hochdrückeinheit 40 ist wie folgt. 7(A) until 7(C) are explanatory views of a process of pushing up the die Fig. 7a by the pushing up heads 50A and 50B. In 7(A) until 7(C) the representation of die 7a (wafer 7) is omitted. As described above, when the head 4H picks up the die 7a from the wafer 7, the push-up unit 40 is positioned under the wafer 7 and pushes the die 7a up through the wafer plate 8a. A specific operation of the high-pressure unit 40 is as follows.

Zunächst wird von den beiden Hochdrückköpfen 50A und 50B der Hochdrückkopf, der zum Hochdrücken des Die 7a verwendet wird, durch die Betätigung des Schaltmechanismus D4 an der Arbeitsposition Wp positioniert. Die Hochdrückeinheit 40 wird durch die Betätigung des Antriebsmechanismus D3 bewegt, und der an der Arbeitsposition Wp positionierte Hochdrückkopf 50A (50B) wird unter dem Die 7a positioniert, um nach oben gedrückt zu werden (7(A).First, of the two push-up heads 50A and 50B, the push-up head used for pushing up the die 7a is positioned at the working position Wp by the operation of the switching mechanism D4. The push-up unit 40 is moved by the operation of the drive mechanism D3, and the push-up head 50A (50B) positioned at the working position Wp is positioned under the die 7a to be pushed up ( 7(A) .

Als nächstes wird der an der Arbeitsposition Wp positionierte Hochdrückkopf 50A (50B) durch die Betätigung des ersten Hebemechanismus D5 angehoben (7(B)). Durch diesen Vorgang kommt die Saugfläche 66 des Sauggehäuses 62 in Kontakt mit der Unterseite der Wafer-Platte 8a oder kommt dieser nahe, und die Wafer-Platte 8a wird durch Unterdruck durch die Saugfläche 66 angesaugt. Dieses Ansaugen durch Unterdruck wird im Wesentlichen zum gleichen Zeitpunkt durchgeführt wie der Zeitpunkt, zu dem der Hochdrückkopf 50A (50B) die vollständig angehobene Position erreicht (zur gleichen Zeit, zu der die Saugfläche 66 mit der unteren Fläche der Wafer-Platte 8a in Kontakt kommt oder dieser nahe kommt).Next, the push-up head 50A (50B) positioned at the working position Wp is raised by the operation of the first lifting mechanism D5 ( 7(B) ). Through this operation, the suction surface 66 of the suction case 62 comes into contact with or comes close to the bottom of the wafer plate 8a, and the wafer plate 8a is sucked by the suction surface 66 by negative pressure. This negative pressure suction is performed at substantially the same time as the time when the push-up head 50A (50B) reaches the fully raised position (at the same time when the suction surface 66 comes into contact with the lower surface of the wafer plate 8a). or comes close to it).

Nachfolgend wird der Stifthalter 63 zusammen mit der Hochdrückhauptwelle 74 durch die Betätigung des zweiten Hebemechanismus D6 angehoben und abgesenkt. Durch diesen Vorgang steht der Hochdrückstift 71 aus dem Sauggehäuse 62 (Saugfläche 66) hervor und dringt in die Wafer-Platte 8a ein, um das Die 7a nach oben zu drücken (7(C)). Hierbei wird der Hochdrückstift 71 (Stifthalter 63) gleichzeitig oder zu einem etwas späteren Zeitpunkt als das Ansaugen der Wafer-Platte 8a durch das Sauggehäuse 62 angehoben und abgesenkt. Der Hochdrückstift 71 wird auf eine der Arten angehoben und abgesenkt, d.h. entweder kontinuierlich angehoben und abgesenkt oder nach dem Anheben und anschließenden Absenken vorübergehend in der Position gehalten.Subsequently, the pin holder 63 is raised and lowered together with the push-up main shaft 74 by the operation of the second lifting mechanism D6. Through this process, the push-up pin 71 protrudes from the suction housing 62 (suction surface 66) and penetrates the wafer plate 8a to push the die 7a upward ( 7(C) ). Here, the push-up pin 71 (pin holder 63) is raised and lowered at the same time or at a slightly later time than the suction of the wafer plate 8a by the suction housing 62. The push-up pin 71 is raised and lowered in one of the ways, that is, either raised and lowered continuously or temporarily held in position after raising and then lowering.

Wenn das Aufnehmen des Die 7a abgeschlossen ist, wird der Hochdrückstift 71 (Stifthalter 63) in die vollständig abgesenkte Position zurückgesetzt und die Zufuhr von Unterdruck durch den Unterdruckgenerator 58 wird gestoppt. In diesem Zustand wird die Hochdrückeinheit 40 durch die Betätigung des Antriebsmechanismus D3 bewegt und der Hochdrückkopf 50A (50B) wird unter dem Die 7a positioniert, um als nächstes nach oben gedrückt zu werden. Das heißt, die Hochdrückeinheit 40 bewegt sich, während die Saugfläche 66 des Sauggehäuses 62 an bzw. auf der Unterseite der Wafer-Platte 8a gleitet oder in deren Nähe bleibt.When picking up the die 7a is completed, the push-up pin 71 (pin holder 63) is returned to the fully lowered position and the supply of negative pressure by the negative pressure generator 58 is stopped. In this state, the push-up unit 40 is moved by the operation of the drive mechanism D3, and the push-up head 50A (50B) is positioned under the die 7a to be pushed up next. That is, the push-up unit 40 moves while the suction surface 66 of the suction housing 62 slides on or remains near the underside of the wafer plate 8a.

Dann wird die Wafer-Platte 8a durch Unterdruck angesaugt, der Hochdrückstift 71 (Stifthalter 63) wird durch die Betätigung des zweiten Hebemechanismus D6 angehoben und abgesenkt, um das nächste Die 7a nach oben zu drücken (7(C)), und das Ansaugen der Wafer-Platte 8a durch Unterdruck wird gestoppt. Danach wird der Hochdrückvorgang des Die 7a auf ähnliche Weise wiederholt.Then the wafer plate 8a is sucked in by negative pressure, the push-up pin 71 (pin holder 63) is raised and lowered by the operation of the second lifting mechanism D6 to push up the next die 7a ( 7(C) ), and the suction of the wafer plate 8a by negative pressure is stopped. Then the push-up process of the die 7a is repeated in a similar manner.

Bei der Hochdrückeinheit 40 ist das Hochdrückwerkzeug 60, das für das Hochdrücken des Die 7a geeignet ist, zwar in die Hochdrückköpfe 50A und 50B montiert, aber das Austauschen des Hochdrückwerkzeugs 60 jedes Hochdrückkopfs 50A (50B) ist bei Bedarf erforderlich, beispielsweise beim Wechsel des Wafers 7. In diesem Fall muss das Hochdrückwerkzeug 60 einschließlich des Sauggehäuses 62 und des Stifthalters 63 ausgetauscht werden.In the push-up unit 40, although the push-up tool 60 suitable for pushing up the die 7a is mounted in the push-up heads 50A and 50B, replacing the push-up tool 60 of each push-up head 50A (50B) is required when necessary, for example, when changing the wafer 7. In this case, the push-up tool 60 including the suction housing 62 and the pen holder 63 must be replaced.

In der oben beschriebenen Hochdrückeinheit 40 ist das Sauggehäuse 62 durch die Fixmagnete 68 an dem Basisglied 52 fixiert bzw. befestigt. Der Stifthalter 63 ist ebenfalls durch den Fixmagneten 72b an der Stiftbasis 72 fixiert bzw. befestigt. Daher kann eine Bedienperson das Hochdrückwerkzeug 60 leicht austauschen, ohne ein Werkzeug zu verwenden, indem sie einfach das Sauggehäuse 62 und den Stifthalter 63 in dieser Reihenfolge von dem Basisglied 52 oder dergleichen anhebt und entfernt und ein neues Sauggehäuse 62 und einen neuen Stifthalter 63 in umgekehrter Reihenfolge einsetzt, um sie an ihren Platz zu setzen.In the high-pressure unit 40 described above, the suction housing 62 is fixed or attached to the base member 52 by the fixed magnets 68. The pen holder 63 is also fixed or attached to the pen base 72 by the fixed magnet 72b. Therefore, an operator can easily replace the push-up tool 60 without using a tool by simply lifting and removing the suction case 62 and the pen holder 63 in this order from the base member 52 or the like, and a new suction case 62 and a new pen holder 63 in reverse order to put them in their place.

In diesem Fall werden die Anziehungskräfte der Fixmagnete 68 und 72b jeweils innerhalb eines Bereichs von 5 bis 30 N eingestellt. Der Bereich der Anziehungskraft wird experimentell bestimmt, um sowohl die Stabilität der Anziehung des Sauggehäuses 62 als auch des Stifthalters 63 und eine einfache manuelle Anbringung und Abnahme des Sauggehäuses 62 und des Stifthalters 63 durch die Bedienperson zu erreichen. Daher kann die Bedienperson das Sauggehäuse 62 und den Stifthalter 63 mit einer einfachen Handlung austauschen.In this case, the attractive forces of the fixed magnets 68 and 72b are set within a range of 5 to 30 N, respectively. The attraction range is determined experimentally in order to achieve both the stability of attraction of the suction case 62 and the pen holder 63 and easy manual attachment and detachment of the suction case 62 and the pen holder 63 by the operator. Therefore, the operator can replace the suction case 62 and the pen holder 63 with a simple operation.

Gemäß der Konfiguration der Hochdrückeinheit 40 ist das Hochdrückwerkzeug 60 (Sauggehäuse 62 und Stifthalter 63) daher mit einer einfachen Konfiguration im Vergleich zu einer herkömmlichen Struktur (Patentliteratur 1) austauschbar, die einen Klemmmechanismus zum Austauschen eines Hochdrückwerkzeugs enthält. Da außerdem die Fixmagnete 68 und 72b einfach in dem Basisglied 52 montiert sind, erhöht sich das Gewicht des Hochdrückkopfs 50A (50B) grundsätzlich nicht wesentlich. Daher gibt es keine nachteiligen Auswirkungen durch eine Gewichtszunahme des Hochdrückkopfes 50A (50B), die leicht zu einem Zeitverlust beim Bewegen der Hochdrückeinheit 40 führen könnte.Therefore, according to the configuration of the push-up unit 40, the push-up tool 60 (suction housing 62 and pin holder 63) is replaceable with a simple configuration compared to a conventional structure (Patent Literature 1) that includes a clamping mechanism for replacing a push-up tool. In addition, since the fixed magnets 68 and 72b are simply mounted in the base member 52, the weight of the push-up head 50A (50B) basically does not increase significantly. Therefore, there is no adverse effect due to an increase in weight of the push-up head 50A (50B), which could easily lead to loss of time in moving the push-up unit 40.

Darüber hinaus sind die Fixmagnete 68 und 72b zum Fixieren bzw. Befestigen des Hochdrückwerkzeugs 60 (Sauggehäuse 62 und Stifthalter 63) nur an dem Basisglied 52 und der Stiftbasis 72 angeordnet. Daher können die Fixmagnete 68 und 72b üblicherweise bzw. gemeinsam für eine Mehrzahl von Arten von Hochdrückwerkzeugen 60 verwendet werden, was sinnvoll ist.In addition, the fixed magnets 68 and 72b for fixing or fastening the high-pressure tool 60 (suction housing 62 and pin holder 63) are arranged only on the base member 52 and the pin base 72. Therefore, the fixed magnets 68 and 72b can be commonly used for a plurality of types of high-pressure tools 60, which makes sense.

Obwohl in der obigen Beschreibung nicht erwähnt, ist bei der Hochdrückeinheit 40 die Ausrichtung des Magnetpols der Fixmagnete 68, die das Sauggehäuse 62 fixieren bzw. befestigen, und die Ausrichtung des Magnetpols des Fixmagneten 72b, der den Stifthalter 63 fixiert bzw. befestigt, gleich. Das heißt, zwischen den Fixmagneten 68 und dem Fixmagneten 72b wirkt keine Abstoßungskraft. Wie insbesondere in 8 gezeigt, wenn die obere Flächenseite des Fixmagneten 72b (Stifthaltermagnet) der N-Pol ist, wird die obere Flächenseite der Fixmagnete 68 (Sauggehäusemagnete) ebenfalls als N-Pol eingestellt (Kombination 1). Wenn die obere Flächenseite des Fixmagneten 72b ein S-Pol ist, wird die obere Flächenseite der Fixmagnete 68 auch als S-Pol eingestellt (Kombination 2).Although not mentioned in the above description, in the push-up unit 40, the orientation of the magnetic pole of the fixed magnets 68 that fixes the suction housing 62 and the orientation of the magnetic pole of the fixed magnet 72b that fixes the pin holder 63 are the same. This means that no repulsive force acts between the fixed magnet 68 and the fixed magnet 72b. Like in particular 8th shown, when the upper surface side of the fixed magnet 72b (pen holder magnet) is the N pole, the upper surface side of the fixed magnets 68 (suction housing magnets) is also set as the N pole (combination 1). When the upper surface side of the fixed magnet 72b is an S pole, the upper surface side of the fixed magnets 68 is also set as an S pole (combination 2).

Mit dieser Konfiguration wird das folgende nachteilige Ereignis vermieden, das durch eine Abstoßungskraft verursacht wird. Wenn sich die Hochdrückköpfe 50A und 50B wie oben beschrieben in die Position für das nächste Die 7a desselben Wafers 7 bewegen, bewegen sich die Hochdrückköpfe 50A und 50B, während die Saugfläche 66 des Sauggehäuses 62 an bzw. auf der Unterseite der Wafer-Platte 8a gleitet oder in deren Nähe bleibt (7(B)). Wenn während dieser Bewegung eine abstoßende Kraft wirkt, kann das Sauggehäuse 62 gegen die elastische Kraft der Schraubenfeder 78 angehoben werden, da der Fixmagnet 72b (zweiter Magnet), der den Stifthalter 63 fixiert bzw. befestigt, höher liegt als die Fixmagnete 68 (erste Magnete), die das Sauggehäuse 62 in der Hochdrückeinheit 40 fixieren bzw. befestigen. Wenn dies geschieht, kann der Hochdrückstift 71 unbeabsichtigt aus dem Sauggehäuse 62 herausragen und die Wafer-Platte 8a beschädigen. In dieser Hinsicht tritt gemäß der Konfiguration der Hochdrückeinheit 40, bei der die Ausrichtungen der Magnetpole der Fixmagnete 68 und 72b gleich sind, keine Abstoßungskraft auf und das Auftreten eines solchen nachteiligen Ereignisses wird vermieden.This configuration avoids the following adverse event caused by a repulsive force. As described above, when the push-up heads 50A and 50B move to the position for the next die 7a of the same wafer 7, the push-up heads 50A and 50B move while the suction surface 66 of the suction housing 62 slides on the underside of the wafer plate 8a or stays near them ( 7(B) ). If a repulsive force acts during this movement, the suction housing 62 can be raised against the elastic force of the coil spring 78, since the fixed magnet 72b (second magnet), which fixes or fastens the pen holder 63, is higher than the fixed magnets 68 (first magnets ), which fix or fasten the suction housing 62 in the high-pressure unit 40. If this happens, the push-up pin 71 may inadvertently protrude from the suction housing 62 and damage the wafer plate 8a. In this regard, according to the configuration of the push-up unit 40 in which the orientations of the magnetic poles of the fixed magnets 68 and 72b are the same, no repulsive force occurs and the occurrence of such an adverse event is avoided.

Die oben beschriebene Bauteilmontagevorrichtung 1 ist ein Beispiel für eine bevorzugte Ausführungsform einer Bauteilmontagevorrichtung, die die Bauteilhochdrückvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung enthält, und die spezifische Konfiguration der Bauteilmontagevorrichtung 1 und der Bauteilhochdrückvorrichtung kann entsprechend geändert werden, ohne von dem Kern der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Beispielsweise kann eine unten beschriebene Konfiguration verwendet werden.The component mounter 1 described above is an example of a preferred embodiment of a component mounter that includes the component push-up device according to the present invention, and the specific configuration of the component mounter 1 and the component push-up device can be changed accordingly without departing from the essence of the present invention to deviate from the invention. For example, a configuration described below can be used.

In der Ausführungsform sind beispielsweise die Fixmagnete 68 und 72b zum Fixieren bzw. Befestigen des Hochdrückwerkzeugs 60 (Sauggehäuse 62 und Stifthalter 63) an dem Basisglied 52 und an dem Basiskörper 72a angeordnet. Die Fixmagnete 68 und 72b können jedoch an dem Hochdrückwerkzeug 60 (Sauggehäuse 62 und Stifthalter 63) oder an beiden, d.h. an dem Basisglied 52 und an dem Basiskörper 72a, und an dem Hochdrückwerkzeug 60 bereitgestellt sein. In einigen Fällen kann beispielsweise die Anziehungskraft vorzugsweise entsprechend der Größe des Sauggehäuses 62 (Saugfläche 66) geändert werden. In solchen Fällen kann der Fixmagnet 68 an dem Sauggehäuse 62 bereitgestellt sein. Dasselbe gilt für die Beziehung zwischen dem Stifthalter 63 und dem Fixmagnet 72b.In the embodiment, for example, the fixed magnets 68 and 72b for fixing or fastening the high-pressure tool 60 (suction housing 62 and pin holder 63) are arranged on the base member 52 and on the base body 72a. However, the fixed magnets 68 and 72b can be provided on the high-pressure tool 60 (suction housing 62 and pin holder 63) or on both, i.e. on the base member 52 and on the base body 72a, and on the high-pressure tool 60. For example, in some cases, the attractive force may preferably be changed according to the size of the suction housing 62 (suction surface 66). In such cases, the fixed magnet 68 can be provided on the suction housing 62. The same applies to the relationship between the pen holder 63 and the fixed magnet 72b.

In der Ausführungsform sind die Fixmagnete 68 zum Fixieren bzw. Befestigen des Sauggehäuses 62 in einem konstanten Abstand um den Vorsprungsabschnitt 53 herum an bzw. auf der oberen Fläche 54 des Basisglieds 52 bereitgestellt, und der Fixmagnet 72b zum Fixieren des Stifthalters 63 weist eine Ringform auf. Die Fixmagnete 68 und 72b können andere spezifische Formen annehmen, solange das Sauggehäuse 62 und der Stifthalter 63 abnehmbar fixiert bzw. befestigt werden können. Allerdings ist die Konfiguration, bei der der Fixmagnet intermittierend in einem konstanten Abstand oder in einer durchgehenden Ringform um die Hochdrückmitte des Hochdrückwerkzeugs 60 bereitgestellt ist, wie in der Ausführungsform, dahingehend vorteilhaft, dass die Magnetkraft gleichmäßig auf das Hochdrückwerkzeug 60 (Sauggehäuse 62 und Stifthalter 63) wirkt, um das Hochdrückwerkzeug 60 stabil zu fixieren bzw. zu befestigen.In the embodiment, the fixed magnets 68 for fixing the suction housing 62 are provided at a constant distance around the projection portion 53 on the upper surface 54 of the base member 52, and the fixed magnet 72b for fixing the pen holder 63 has a ring shape . The fixed magnets 68 and 72b may take other specific shapes as long as the suction housing 62 and the pen holder 63 can be removably fixed. However, the configuration in which the fixed magnet is intermittently provided at a constant distance or in a continuous ring shape around the push-up center of the push-up tool 60, as in the embodiment, is advantageous in that the magnetic force is uniformly applied to the push-up tool 60 (suction housing 62 and pin holder 63 ) acts to stably fix or fasten the high-pressure tool 60.

Darüber hinaus wurde in der Ausführungsform das Beispiel beschrieben, in dem die Bauteilhochdrückvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung auf die Bauteilmontagevorrichtung angewendet wird. Die Bauteilhochdrückvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung kann jedoch auf verschiedene Vorrichtungen angewendet werden, wie beispielsweise auf eine Bandvorrichtung, die ein Die aufnimmt, das durch Schneiden eines Wafers in ein Band gebildet wird, oder auf eine Bauteilmontagevorrichtung, die das Die auf einem Substrat montiert.Furthermore, in the embodiment, the example in which the component pushing-up device according to the present invention is applied to the component mounting device has been described. However, the component pushing-up device according to the present invention can be applied to various devices such as a tape device that accommodates a die formed by cutting a wafer into a tape or a component mounting device that mounts the die on a substrate.

[In Ausführungsformen enthaltene Erfindung][Invention Included in Embodiments]

Eine Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung ist eine Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung, die ein Die von unterhalb eines an einer Wafer-Platte haftenden Wafer nach oben drückt, um das Die von der Wafer-Platte zu trennen, wobei die Bauteilhochdrückvorrichtung ein Hochdrückwerkzeug mit einer Saugfläche bzw. - oberfläche, die eine untere Fläche bzw. Oberfläche bzw. Unterseite der Wafer-Platte durch Unterdruck ansaugt, und einem Hochdrückstift, der so bereitgestellt ist, dass er von der Saugfläche zu der Wafer-Platte hin vorsteht und sich in dieser zurückzieht, wobei der Hochdrückstift von der Saugfläche vorsteht, um das Die nach oben zu drücken, und ein Stütz- bzw. Trägerglied enthält, das so bereitgestellt ist, dass es relativ zu dem und entlang des Wafers beweglich ist und das Hochdrückwerkzeug abnehmbar stützt bzw. trägt, wobei ein Magnet an einem des Hochdrückwerkzeugs und des Trägerglieds bereitgestellt ist und zumindest eine dem Magneten gegenüberliegende bzw. entgegengesetzte Fläche bzw. Oberfläche eines anderen des Hochdrückwerkzeugs und des Trägerglieds aus einem magnetischen Material besteht.A component push-up device according to one aspect of the present invention is a component push-up device that pushes up a die from underneath a wafer adhered to a wafer plate to separate the die from the wafer plate, wherein the Component push-up device is a push-up tool having a suction surface that sucks a lower surface of the wafer plate by negative pressure, and a push-up pin provided so as to protrude from the suction surface toward the wafer plate and retracts therein, the push-up pin protruding from the suction surface to push the die upward, and including a support member provided to be movable relative to and along the wafer and the push-up tool removably supports or carries, wherein a magnet is provided on one of the push-up tool and the support member and at least one surface or surface of another of the push-up tool and the support member opposite the magnet consists of a magnetic material.

Gemäß der Konfiguration der Bauteilhochdrückvorrichtung kann das Hochdrückwerkzeug mit einer einfachen Konfiguration im Vergleich zu einer herkömmlichen Struktur mit einem speziellen Klemmmechanismus geändert (ersetzt) werden.According to the configuration of the component push-up device, the push-up tool can be changed (replaced) with a simple configuration compared to a conventional structure with a special clamping mechanism.

Genauer gesagt enthält bei der Bauteilhochdrückvorrichtung das Trägerglied einen Basisabschnitt und einen beweglichen Abschnitt, der in Bezug auf den Basisabschnitt angehoben und abgesenkt werden kann, und das Hochdrückwerkzeug enthält ein Sauggehäuse, das hohl ist, die Saugfläche an einem oberen Ende enthält, und durch den Basisabschnitt abnehmbar gestützt bzw. getragen ist, und einen Stifthalter, der den Hochdrückstift hält, im Inneren des Gehäuses angeordnet ist, um durch den beweglichen Abschnitt abnehmbar gestützt bzw. getragen zu sein, und zusammen mit dem beweglichen Abschnitt angehoben und abgesenkt wird, wobei der Magnet an einem des Sauggehäuses und des Basisabschnitts bereitgestellt ist, und zumindest eine dem Magneten zugewandte Fläche bzw. Oberfläche des anderen von Sauggehäuse und Basisabschnitt aus dem magnetischen Material besteht, und der Magnet an einem des Stifthalters und des beweglichen Abschnitts bereitgestellt ist, und zumindest eine dem Magneten gegenüberliegende bzw. entgegengesetzte Fläche bzw. Oberfläche des anderen von Stifthalter und beweglichem Abschnitt aus dem magnetischen Material besteht.More specifically, in the component push-up device, the support member includes a base portion and a movable portion that can be raised and lowered with respect to the base portion, and the push-up tool includes a suction housing that is hollow, includes the suction surface at an upper end, and through the base portion is removably supported, and a pin holder that holds the push-up pin is disposed inside the housing to be removably supported by the movable portion, and is raised and lowered together with the movable portion, wherein the magnet is provided on one of the suction housing and the base portion, and at least one surface of the other of the suction housing and the base portion facing the magnet is made of the magnetic material, and the magnet is provided on one of the pen holder and the movable portion, and at least one of the Magnets opposite or opposite surface or surface of the other of the pen holder and the movable section consists of the magnetic material.

Bei dieser Bauteilhochdrückvorrichtung können eine Mehrzahl von Gliedern, die als Hochdrückwerkzeug bereitgestellt sind, d. h. das Sauggehäuse und der Stifthalter, mit einer einfachen Konfiguration geändert (ersetzt) werden.In this component pushing-up device, a plurality of members which are provided as a pushing-up tool, i.e. H. the suction housing and the pen holder, can be changed (replaced) with a simple configuration.

Bei der oben beschriebenen Bauteilhochdrückvorrichtung ist es wünschenswert, dass der Magnet an dem Trägerglied bereitgestellt ist.In the component pushing-up device described above, it is desirable that the magnet is provided on the support member.

Gemäß dieser Konfiguration wird der Magnet üblicherweise für eine Mehrzahl von Hochdrückwerkzeugen (Sauggehäuse und Stifthalter) verwendet, was sinnvoll ist.According to this configuration, the magnet is commonly used for a plurality of high-pressure tools (suction housing and pin holder), which is reasonable.

Es ist anzumerken, dass wenn das Trägerglied den Basisabschnitt und den beweglichen Abschnitt enthält und das Hochdrückwerkzeug das Sauggehäuse und den Stifthalter enthält, und wenn die Bauteilhochdrückvorrichtung so konfiguriert ist, dass ein zweiter Magnet, der ein Magnet zum Fixieren bzw. Befestigen des Stifthalters an dem beweglichen Abschnitt ist, höher angeordnet ist als ein erster Magnet, der ein Magnet zum Fixieren bzw. Befestigen des Sauggehäuses an dem Basisabschnitt in einem Zustand ist, in dem sich der Stifthalter zusammen mit dem beweglichen Abschnitt an einer abgesenkten Position in Bezug auf das Sauggehäuse befindet, es vorzuziehen ist, dass die Ausrichtungen von Magnetpolen des ersten Magneten und des zweiten Magneten gleich sind.It should be noted that when the support member includes the base portion and the movable portion and the push-up tool includes the suction housing and the pen holder, and when the component push-up device is configured so that a second magnet, which is a magnet for fixing the pen holder to the movable portion is disposed higher than a first magnet, which is a magnet for fixing the suction case to the base portion in a state in which the pen holder is located together with the movable portion at a lowered position with respect to the suction case , it is preferable that the orientations of magnetic poles of the first magnet and the second magnet are the same.

Gemäß dieser Konfiguration kann eine Abstoßungskraft (Repulsionskraft), die zwischen den Magneten wirkt und den Stifthalter daran hindert, ordnungsgemäß zu funktionieren, d. h. bewirkt, dass der Stifthalter ungewollt angehoben wird, damit der Hochdrückstift hervorsteht, vermieden werden.According to this configuration, a repulsion force acting between the magnets and preventing the pen holder from functioning properly, i.e. H. causes the pen holder to be unintentionally raised so that the push-up pin protrudes can be avoided.

Bei der oben beschriebenen Bauteilhochdrückvorrichtung ist der Magnet vorzugsweise in Form von Magneten bereitgestellt, die intermittierend in einem konstanten Abstand oder in einer durchgehenden Ringform um eine Hochdrückmitte des Hochdrückwerkzeugs herum angeordnet sind.In the component push-up device described above, the magnet is preferably provided in the form of magnets which are intermittently arranged at a constant distance or in a continuous ring shape around a push-up center of the push-up tool.

Gemäß dieser Konfiguration wirkt eine magnetische Kraftgleichmäßigkeit auf das Hochdrückwerkzeug, um das Hochdrückwerkzeug stabil zu fixieren bzw. zu befestigen.According to this configuration, a magnetic force uniformity acts on the push-up tool to stably fix the push-up tool.

Darüber hinaus liegt bei der oben beschriebenen Bauteilhochdrückvorrichtung eine Anziehungskraft zum Anziehen des Hochdrückwerkzeugs durch den Magneten vorzugsweise in einem Bereich von 5 bis 30 N.Furthermore, in the component push-up device described above, an attractive force for attracting the push-up tool by the magnet is preferably in a range of 5 to 30 N.

Gemäß dieser Konfiguration können sowohl ein stabiles Ansaugen durch das Hochdrückwerkzeug als auch ein einfaches manuelles Anbringen und Abnehmen des Hochdrückwerkzeugs durch die Bedienperson erreicht werden.According to this configuration, both stable suction by the push-up tool and easy manual attachment and detachment of the push-up tool by the operator can be achieved.

Eine Komponenten bzw. Bauteilmontagevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung enthält eine Komponenten- bzw. Bauteilzuführung, bei der ein Wafer, der vereinzelt wurde und an einer Wafer-Platte haftet, angeordnet wird, einen Komponentenüberführungskopf, der ein Die von einem in der Bauteilzuführung angeordneten Wafer aufnimmt und das Die an ein Substrat überführt, und die oben genannte Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung gemäß einem der oben genannten Aspekte, die ein Die von unterhalb der Wafer-Platte nach oben drückt, wenn der Komponentenüberführungskopf das Die aufnimmt.A component mounting apparatus according to one aspect of the present invention includes a component feeder in which a wafer that has been singulated and adhered to a wafer plate is placed, a component transfer head that has a die disposed in the component feeder picks up a wafer and transfers the die to a substrate, and the above-mentioned component push-up device according to one of the above-mentioned aspects, which pushes up a die from below the wafer plate when the component transfer head picks up the die.

Gemäß der Konfiguration dieser Bauteilmontagevorrichtung einschließlich der oben beschriebenen Bauteilhochdrückvorrichtung kann das Hochdrückwerkzeug mit einer einfachen Konfiguration geändert (ersetzt) werden.According to the configuration of this component mounting device including the component push-up device described above, the push-up tool can be changed (replaced) with a simple configuration.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • JP 2012169321 A [0006]JP 2012169321 A [0006]

Claims (7)

Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung, die ein Die von unterhalb eines an einer Wafer-Platte haftenden Wafer nach oben drückt, um das Die von der Wafer-Platte zu trennen, wobei die Bauteilhochdrückvorrichtung umfasst: ein Hochdrückwerkzeug mit einer Saugfläche bzw. -oberfläche, die eine untere Fläche bzw. Oberfläche bzw. Unterseite der Wafer-Platte durch Unterdruck ansaugt, und einem Hochdrückstift, der so bereitgestellt ist, dass er von der Saugfläche zu der Wafer-Platte hin vorsteht und sich in dieser zurückzieht, wobei der Hochdrückstift von der Saugfläche vorsteht, um das Die nach oben zu drücken; und ein Stütz- bzw. Trägerglied, das so bereitgestellt ist, dass es relativ zu dem und entlang des Wafers beweglich ist und das Hochdrückwerkzeug abnehmbar stützt bzw. trägt, wobei ein Magnet an einem des Hochdrückwerkzeugs und des Trägerglieds bereitgestellt ist und zumindest eine dem Magneten gegenüberliegende bzw. entgegengesetzte Fläche bzw. Oberfläche eines anderen des Hochdrückwerkzeugs und des Trägerglieds aus einem magnetischen Material besteht.Component push-up device that pushes a die upward from underneath a wafer adhered to a wafer plate to separate the die from the wafer plate, the component push-up device comprising: a push-up tool having a suction surface that sucks a lower surface of the wafer plate by negative pressure, and a push-up pin provided to protrude from the suction surface toward the wafer plate, and retracts into this with the push-up pin protruding from the suction surface to push the die upward; and a support member provided to be movable relative to and along the wafer and to removably support the push-up tool, wherein a magnet is provided on one of the push-up tool and the support member, and at least one surface of another of the push-up tool and the support member opposite the magnet is made of a magnetic material. Bauteilhochdrückvorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Trägerglied einen Basisabschnitt und einen beweglichen Abschnitt enthält, der in Bezug auf den Basisabschnitt angehoben und abgesenkt wird, das Hochdrückwerkzeug enthält ein Sauggehäuse, das hohl ist, die Saugfläche an einem oberen Ende enthält, und durch den Basisabschnitt abnehmbar gestützt bzw. getragen ist, und einen Stifthalter, der den Hochdrückstift hält, im Inneren des Gehäuses angeordnet ist, um durch den beweglichen Abschnitt abnehmbar gestützt bzw. getragen zu sein, und zusammen mit dem beweglichen Abschnitt angehoben und abgesenkt wird, der Magnet an einem des Sauggehäuses und des Basisabschnitts bereitgestellt ist, und zumindest eine dem Magneten zugewandte Fläche bzw. Oberfläche des anderen von Sauggehäuse und Basisabschnitt aus dem magnetischen Material besteht, und der Magnet an einem des Stifthalters und des beweglichen Abschnitts bereitgestellt ist, und zumindest eine dem Magneten gegenüberliegende bzw. entgegengesetzte Fläche bzw. Oberfläche des anderen von Stifthalter und beweglichem Abschnitt aus dem magnetischen Material besteht.Component push-up device Claim 1 , wherein the support member includes a base portion and a movable portion that is raised and lowered with respect to the base portion, the push-up tool includes a suction housing that is hollow, includes the suction surface at an upper end, and is removably supported by the base portion and a pin holder that holds the push-up pin is disposed inside the housing to be removably supported by the movable portion, and is raised and lowered together with the movable portion, the magnet on one of the suction housing and the Base section is provided, and at least one surface of the other of the suction housing and the base section facing the magnet is made of the magnetic material, and the magnet is provided on one of the pen holder and the movable section, and at least one surface opposite the magnet or surface of the other of the pen holder and the movable section is made of the magnetic material. Bauteilhochdrückvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei der Magnet in dem Trägerglied enthalten ist.Component push-up device Claim 1 or 2 , wherein the magnet is contained in the carrier member. Bauteilhochdrückvorrichtung nach Anspruch 3, wobei das Trägerglied den Basisabschnitt und den beweglichen Abschnitt enthält und das Hochdrückwerkzeug das Sauggehäuse und den Stifthalter enthält, und die Bauteilhochdrückvorrichtung so konfiguriert ist, dass ein zweiter Magnet, der ein Magnet zum Fixieren bzw. Befestigen des Stifthalters an dem beweglichen Abschnitt ist, höher angeordnet ist als ein erster Magnet, der ein Magnet zum Fixieren bzw. Befestigen des Sauggehäuses an dem Basisabschnitt in einem Zustand ist, in dem sich der Stifthalter zusammen mit dem beweglichen Abschnitt an einer abgesenkten Position in Bezug auf das Sauggehäuse befindet, Ausrichtungen von Magnetpolen des ersten Magneten und des zweiten Magneten gleich sind.Component push-up device Claim 3 , wherein the support member includes the base portion and the movable portion and the push-up tool includes the suction housing and the pen holder, and the component push-up device is configured so that a second magnet, which is a magnet for fixing the pen holder to the movable portion, is higher is arranged as a first magnet, which is a magnet for fixing the suction housing to the base portion in a state in which the pen holder is located together with the movable portion at a lowered position with respect to the suction housing, alignments of magnetic poles of the first magnet and the second magnet are the same. Bauteilhochdrückvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei der Magnet vorzugsweise in Form von Magneten bereitgestellt ist, die intermittierend in einem konstanten Abstand oder in einer durchgehenden Ringform um eine Hochdrückmitte des Hochdrückwerkzeugs herum angeordnet sind.Component push-up device according to one of the Claims 1 until 4 , wherein the magnet is preferably provided in the form of magnets which are intermittently arranged at a constant distance or in a continuous ring shape around a high-pressure center of the high-pressure tool. Bauteilhochdrückvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei eine Anziehungskraft zum Anziehen des Hochdrückwerkzeugs durch den Magneten vorzugsweise in einem Bereich von 5 bis 30 N liegt.Component push-up device according to one of the Claims 1 until 5 , wherein an attractive force for attracting the high-pressure tool by the magnet is preferably in a range of 5 to 30 N. Komponenten bzw. Bauteilmontagevorrichtung, umfassend: eine Komponenten- bzw. Bauteilzuführung, bei der ein Wafer, der vereinzelt wurde und an einer Wafer-Platte haftet, angeordnet wird; einen Komponentenüberführungskopf, der ein Die von einem in der Bauteilzuführung angeordneten Wafer aufnimmt und das Die an ein Substrat überführt; und die Komponenten- bzw. Bauteilhochdrückvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, die ein Die von unterhalb der Wafer-Platte nach oben drückt, wenn der Komponentenüberführungskopf das Die aufnimmt.Component mounting apparatus comprising: a component feeder in which a wafer which has been singulated and adheres to a wafer plate is placed; a component transfer head that picks up a die from a wafer disposed in the component feeder and transfers the die to a substrate; and the component or component push-up device according to one of the Claims 1 until 6 , which pushes a die up from underneath the wafer plate as the component transfer head picks up the die.
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