DE112019007478T5

DE112019007478T5 - SENSOR FOR DETECTING CORROSION, ELECTRICAL DEVICE WITH SENSOR AND METHOD FOR DETECTING CORROSION

Info

Publication number: DE112019007478T5
Application number: DE112019007478.4T
Authority: DE
Inventors: Hisakatsu Kawarai; Raizo Maeda; Tetsuo Tanaka; Osamu Mizuno
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 2019-06-18
Filing date: 2019-08-23
Publication date: 2022-03-24
Also published as: WO2020255427A1; JPWO2020255427A1; CN113966468A; JP7199536B2; CN113966468B; US20220307969A1; US11747264B2

Abstract

Ein Korrosionserkennungssensor (101) detektiert Korrosion an einem Elektrogerät (900), die durch ein korrosives Gas verursacht wird. Der Korrosionserkennungssensor (101) weist Folgendes auf: eine Metall-Dünnschicht (8), die durch das korrosive Gas korrodiert werden soll/kann, ein Widerstandselement (9), das mit der Metall-Dünnschicht (8) in Reihe geschaltet ist; ein Widerstandsmessgerät (20), das einen kombinierten Widerstand der Metall-Dünnschicht (8) und des Widerstandselements (9) misst, und eine Notifikationseinheit (40), die ein Erkennungsergebnis ausgibt, das anzeigt, dass der von der Widerstandsmesseinheit (20) gemessene kombinierte Widerstand größer ist als ein vorgegebener Bezugswiderstand. Der Bezugswiderstand wird entsprechend einer Gefahrenstufe bestimmt, die anzeigt, dass das Elektrogerät (900) durch das korrosive Gas korrosiv geschädigt ist.A corrosion detection sensor (101) detects corrosion on an electronic device (900) caused by a corrosive gas. The corrosion detection sensor (101) comprises: a metal thin film (8) to be/can be corroded by the corrosive gas, a resistance element (9) connected in series with the metal thin film (8); a resistance meter (20) that measures a combined resistance of the metal thin film (8) and the resistance element (9), and a notification unit (40) that outputs a detection result indicating that the combined resistance measured by the resistance measurement unit (20). Resistance is greater than a specified reference resistance. The reference resistance is determined according to a danger level indicating that the electrical equipment (900) is corrosively damaged by the corrosive gas.

Description

TECHNISCHES GEBIETTECHNICAL AREA

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Korrosionserkennungssensor, ein Elektrogerät, das denselben enthält, und ein Korrosionserkennungsverfahren.The present invention relates to a corrosion detection sensor, an electrical device incorporating the same, and a corrosion detection method.

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

Wenn ein Elektrogerät in einer Umgebung installiert ist, die ein korrosives Gas enthält, wird das Elektrogerät im Laufe der Zeit korrodieren, was einen Korrosionsschaden an einer Leiterplatte (z.B. eine korrosive Trennung eines Metalldrahtes) oder dergleichen verursachen kann. Um zu verhindern, dass ein solches Problem auftritt, wurde eine Technik vorgeschlagen, die die Korrosivität einer Umgebung (entsprechend dem Grad des Fortschreitens der Korrosion an dem Elektrogerät), in der das Elektrogerät installiert ist, erkennt.When an electric device is installed in an environment containing a corrosive gas, the electric device will corrode over time, which may cause corrosion damage to a circuit board (e.g., corrosive disconnection of a metal wire) or the like. In order to prevent such a problem from occurring, a technique has been proposed that detects the corrosiveness of an environment (corresponding to the degree of progress of corrosion on the electronic equipment) in which the electronic equipment is installed.

Zum Beispiel beschreibt die Japanische Patentanmeldungs- Offenlegungsschrift JP 2010-38 838 A (Patentdokument 1) ein Verschlechterungsdiagnosesystem, das den zukünftigen Grad der Korrosion an einem leitenden Element genau abschätzt. Das Verschlechterungsdiagnosesystem beinhaltet einen Diagnoseprozessor und eine Umgebungsdatenbank. Der Diagnoseprozessor zeichnet Umgebungsdaten eines Gehäuses, in dem ein Diagnoseziel untergebracht ist (einschließlich der Temperatur und der Luftfeuchtigkeit in dem Gehäuse), und Korrosionsdaten des Diagnoseziels für einen vorbestimmten Zeitraum auf und schätzt auf der Grundlage der aufgezeichneten Daten das künftige Ausmaß der Korrosion an dem Diagnoseziel. Die Umgebungsdatenbank wird mit Umgebungsdaten, einschließlich früherer Temperaturen und Luftfeuchtigkeit außerhalb des Gehäuses, gespeichert.For example, Japanese Patent Application Laid-Open Specification JP 2010-38 838 A (Patent Document 1) disclose a deterioration diagnosis system that accurately estimates the future degree of corrosion on a conductive member. The deterioration diagnostic system includes a diagnostic processor and an environment database. The diagnostic processor records environmental data of a case accommodating a diagnosis target (including the temperature and humidity inside the case) and corrosion data of the diagnosis target for a predetermined period of time and estimates the future extent of corrosion on the diagnosis target based on the recorded data . The environment database is stored with environmental data including past temperatures and humidity levels outside the enclosure.

Patentdokument 1: Japanische Patentanmeldungs-Offenlegungsschrift JP2010-38 838 A Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open JP2010-38 838A

KURZBESCHREIBUNG DER ERFINDUNGBRIEF DESCRIPTION OF THE INVENTION

Mit der Erfindung zu lösende ProblemeProblems to be solved by the invention

Das im Patentdokument 1 beschriebene Verschlechterungsdiagnosesystem erfordert die Installation einer Vorrichtung, die in der Lage ist, festzustellen, ob eine vorbestimmte Zeitspanne (z.B. ein Monat, zwei Monate oder drei Monate) verstrichen ist oder nicht. Ferner muss als Umgebungsdatenbank zum Beispiel eine Datenbank mit Wetterstatistiken erstellt werden (siehe Absatz des Patentdokuments 1). So kann das System aufwendig und komplex werden.The deterioration diagnosis system described in Patent Document 1 requires installation of a device capable of determining whether or not a predetermined period of time (e.g., one month, two months, or three months) has elapsed. Further, as the environment database, for example, a weather statistics database needs to be prepared (see paragraph of patent document 1). This can make the system expensive and complex.

Die vorliegende Erfindung soll die vorgenannten Probleme lösen und ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, eine Technik bereitzustellen, die in der Lage ist, den Grad des Fortschreitens der Korrosion an einem Elektrogerät, verursacht durch ein korrosives Gas, mit einer einfachen Konfiguration zu bestimmen.The present invention intends to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a technique capable of determining the degree of progress of corrosion on an electronic equipment caused by a corrosive gas with a simple configuration.

Mittel zum Lösen der Problememeans of solving the problems

Ein Korrosionserkennungssensor gemäß einem Aspekt der Erfindung detektiert Korrosion an einem Elektrogerät, die durch ein korrosives Gas verursacht wird. Der Korrosionserkennungssensor beinhaltet eine Metall-Dünnschicht, die durch das korrosive Gas korrodiert werden soll/kann, ein Widerstandselement, das mit der Metall-Dünnschicht in Reihe geschaltet ist, eine Widerstandsmesseinheit, die einen kombinierten Widerstand der Metall-Dünnschicht und des Widerstandselements misst, und eine Widerstandsausgabeeinheit, die ein Erkennungsergebnis ausgibt, das anzeigt, dass der von der Widerstandsmesseinheit gemessene kombinierte Widerstand größer als ein vorgegebener Bezugswiderstand ist. Der Bezugswiderstand wird nach einer Gefahrenstufe bestimmt, die anzeigt, dass das Elektrogerät durch das korrosive Gas korrosiv geschädigt ist.A corrosion detection sensor according to an aspect of the invention detects corrosion on an electronic device caused by a corrosive gas. The corrosion detection sensor includes a metal thin film to be/can be corroded by the corrosive gas, a resistance element connected in series with the metal thin film, a resistance measuring unit that measures a combined resistance of the metal thin film and the resistance element, and a resistance output unit that outputs a detection result indicating that the combined resistance measured by the resistance measurement unit is greater than a predetermined reference resistance. The reference resistance is determined according to a hazard level indicating that the electrical equipment has been corrosively damaged by the corrosive gas.

Die Gefahrenstufe ist ein Verhältnis eines tatsächlichen Reduktionsbetrags einer Schichtdicke der Metall-Dünnschicht zu einem maximalen Reduktionsbetrag der Schichtdicke der Metall-Dünnschicht. Der maximale Reduktionsbetrag ist ein Reduktionsbetrag der Schichtdicke der Metall-Dünnschicht, bis das Elektrogerät korrosiv beschädigt ist, wenn das Elektrogerät und die Metall-Dünnschicht einer Umgebung ausgesetzt sind, die das korrosive Gas enthält.The danger level is a ratio of an actual amount of reduction in film thickness of the metal thin film to a maximum amount of reduction in film thickness of the metal thin film. The maximum reduction amount is a reduction amount of the film thickness of the metal thin film until the electronic device is corrosively damaged when the electronic device and the metal thin film are exposed to an environment containing the corrosive gas.

Die Metall-Dünnschicht beinhaltet eine Vielzahl von parallel geschalteten Dünnschichten. Die Materialien der Vielzahl von Dünnschichten sind gleich. Die Schichtdicken der Vielzahl von Dünnschichten sind voneinander verschieden. Jede der Vielzahl von Dünnschichten ist mit einem entsprechenden Bezugswiderstand definiert. Die Widerstandsausgabeeinheit gibt das Detektionsergebnis jedes Mal aus, wenn der von der Widerstandsmesseinheit gemessene kombinierte Widerstand größer als der entsprechende Bezugswiderstand wird.The metal thin film includes a multiplicity of thin films connected in parallel. The materials of the plurality of thin layers are the same. The film thicknesses of the plurality of thin films are different from each other. Each of the plurality of thin layers is defined with a corresponding reference resistance. The resistance output unit outputs the detection result every time the combined resistance measured by the resistance measurement unit becomes larger than the corresponding reference resistance.

Die Metall-Dünnschicht beinhaltet eine Vielzahl von in Reihe geschalteten Dünnschichten. Jede der Vielzahl von Dünnschichten enthält ein Material, das durch die korrosiven Gase korrodiert werden kann, die sich in ihrer Art voneinander unterscheiden.The metal thin film includes a plurality of thin films connected in series. Each of the plurality of thin films contains a material that can be corroded by the corrosive gases different in kind from each other.

Die Metall-Dünnschicht beinhaltet eine erste Dünnschicht, eine zweite Dünnschicht, eine dritte Dünnschicht und eine vierte Dünnschicht. Die erste Dünnschicht und die zweite Dünnschicht sind in Reihe geschaltet. Die dritte Dünnschicht und die vierte Dünnschicht sind in Reihe geschaltet. Die erste Dünnschicht und die zweite Dünnschicht sind parallel zu der dritten Dünnschicht und der vierten Dünnschicht geschaltet. Jede der ersten Dünnschicht und der dritten Dünnschicht enthält ein Material, das durch ein erstes korrosives Gas korrodiert werden kann. Jede der zweiten Dünnschicht und der vierten Dünnschicht enthält ein Material, das durch ein zweites korrosives Gas korrodiert werden kann, das sich von dem ersten korrosiven Gas unterscheidet. Die Schichtdicke der ersten Dünnschicht und die Schichtdicke der dritten Dünnschicht sind voneinander verschieden. Die Schichtdicke der zweiten Dünnschicht und die Schichtdicke der vierten Dünnschicht sind voneinander verschieden. Ein erster Bezugswiderstand ist für die erste Dünnschicht und die zweite Dünnschicht definiert. Ein zweiter Bezugswiderstand wird für die dritte Dünnschicht und die vierte Dünnschicht definiert. Die Widerstandsausgabeeinheit gibt das Erkennungsergebnis jedes Mal aus, wenn der von der Widerstandsmesseinheit gemessene kombinierte Widerstand größer wird als der erste Bezugswiderstand oder der zweite Bezugswiderstand.The metal thin film includes a first thin film, a second thin film, a third thin film, and a fourth thin film. The first thin film and the second thin film are connected in series. The third thin film and the fourth thin film are connected in series. The first thin film and the second thin film are connected in parallel with the third thin film and the fourth thin film. Each of the first thin film and the third thin film contains a material that can be corroded by a first corrosive gas. Each of the second thin film and the fourth thin film contains a material that can be corroded by a second corrosive gas different from the first corrosive gas. The film thickness of the first thin film and the film thickness of the third thin film are different from each other. The film thickness of the second thin film and the film thickness of the fourth thin film are different from each other. A first reference resistance is defined for the first thin film and the second thin film. A second reference resistance is defined for the third thin film and the fourth thin film. The resistance output unit outputs the detection result every time the combined resistance measured by the resistance measurement unit becomes larger than the first reference resistance or the second reference resistance.

Die Metall-Dünnschicht beinhaltet eine Vielzahl von parallel geschalteten Dünnschichten. Die Materialien der Vielzahl von Dünnschichten sind voneinander verschieden. Jede der Vielzahl von Dünnschichten ist mit einem entsprechenden Bezugswiderstand definiert. Die Widerstandsausgabeeinheit gibt das Detektionsergebnis jedes Mal aus, wenn der von der Widerstandsmesseinheit gemessene kombinierte Widerstand größer als der entsprechende Bezugswiderstand wird.The metal thin film includes a multiplicity of thin films connected in parallel. The materials of the plurality of thin layers are different from each other. Each of the plurality of thin layers is defined with a corresponding reference resistance. The resistance output unit outputs the detection result every time the combined resistance measured by the resistance measurement unit becomes larger than the corresponding reference resistance.

Die Metall-Dünnschicht beinhaltet eine erste Dünnschicht, eine zweite Dünnschicht und eine dritte Dünnschicht. Die erste Dünnschicht und die zweite Dünnschicht sind in Reihe geschaltet. Die erste Dünnschicht und die zweite Dünnschicht sind parallel zur dritten Dünnschicht geschaltet. Die erste Dünnschicht und die dritte Dünnschicht enthalten unterschiedliche Materialien, die durch ein erstes korrosives Gas korrodiert werden sollen/können. Die zweite Dünnschicht enthält ein Material, das durch ein zweites korrosives Gas korrodiert werden soll/kann, das sich von dem ersten korrosiven Gas unterscheidet. Ein erster Bezugswiderstand wird für die erste Dünnschicht und die zweite Dünnschicht definiert. Ein zweiter Bezugswiderstand wird für die dritte Dünnschicht definiert. Die Widerstandsausgabeeinheit gibt das Erkennungsergebnis jedes Mal aus, wenn der von der Widerstandsmesseinheit gemessene kombinierte Widerstand größer wird als der erste Bezugswiderstand oder der zweite Bezugswiderstand.The metal thin film includes a first thin film, a second thin film, and a third thin film. The first thin film and the second thin film are connected in series. The first thin film and the second thin film are connected in parallel with the third thin film. The first thin film and the third thin film contain different materials to be/can be corroded by a first corrosive gas. The second thin film contains a material to be/can be corroded by a second corrosive gas different from the first corrosive gas. A first reference resistance is defined for the first thin film and the second thin film. A second reference resistance is defined for the third thin film. The resistance output unit outputs the detection result every time the combined resistance measured by the resistance measurement unit becomes larger than the first reference resistance or the second reference resistance.

Der Korrosionserkennungssensor enthält ferner ein Isoliersubstrat. Die Metall-Dünnschicht und das Widerstandselement sind einstückig auf dem Isoliersubstrat angeordnet.The corrosion detection sensor further includes an insulating substrate. The metal thin film and the resistance element are integrally arranged on the insulating substrate.

Der Korrosionserkennungssensor beinhaltet ferner ein Isoliersubstrat. Die Metall-Dünnschicht ist auf dem Isoliersubstrat angeordnet. Das Widerstandselement ist außerhalb des Isoliersubstrats als diskrete Komponente angeordnet.The corrosion detection sensor further includes an insulating substrate. The metal thin film is arranged on the insulating substrate. The resistance element is arranged outside the insulating substrate as a discrete component.

Ein Elektrogerät nach einem anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung beinhaltet den Korrosionserkennungssensor und einen Elektrogeräte-Hauptkörper.An electronic device according to another aspect of the present invention includes the corrosion detection sensor and an electronic device main body.

In einem Korrosionserkennungsverfahren gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird die durch ein korrosives Gas verursachte Korrosion an einem Elektrogerät durch einen Korrosionserkennungssensor erkannt. Der Korrosionserkennungssensor beinhaltet eine Metall-Dünnschicht, die durch ein korrosives Gas korrodiert werden soll/kann, und ein Widerstandselement, das mit der Metall-Dünnschicht in Reihe geschaltet ist. Das Korrosionserkennungsverfahren beinhaltet: einen Schritt zum Messen eines kombinierten Widerstands der Metall-Dünnschicht und des Widerstandselements; und einen Schritt zum Ausgeben eines Erkennungsergebnisses, das anzeigt, dass der im Messschritt gemessene kombinierte Widerstand größer als ein vorbestimmter Bezugswiderstand ist. Der Bezugswiderstand wird entsprechend einer Gefahrenstufe bestimmt, die anzeigt, dass das Elektrogerät durch das korrosive Gas korrosiv beschädigt ist.In a corrosion detection method according to another aspect of the present invention, corrosion on an electronic equipment caused by a corrosive gas is detected by a corrosion detection sensor. The corrosion detection sensor includes a metal thin film to be/can be corroded by a corrosive gas and a resistance element connected in series with the metal thin film. The corrosion detection method includes: a step of measuring a combined resistance of the metal thin film and the resistance element; and a step of outputting a detection result indicating that the combined resistance measured in the measuring step is greater is greater than a predetermined reference resistance. The reference resistance is determined according to a danger level indicating that the electrical equipment is corrosively damaged by the corrosive gas.

Effekt der Erfindungeffect of the invention

Gemäß der vorliegenden Erfindung ist es möglich, den Grad des Fortschreitens der Korrosion an einem Elektrogerät durch ein korrosives Gas mit einer einfachen Konfiguration zu bestimmen.According to the present invention, it is possible to determine the degree of progress of corrosion of an electronic equipment by a corrosive gas with a simple configuration.

Figurenlistecharacter list

1 12 is a diagram showing an electronic device with a corrosion detection sensor according to a first embodiment;
2 14 is a diagram showing an example configuration of a sensor body according to the first embodiment;
3 Fig. 14 is a perspective view showing an example configuration of a corrosion detection structure;
4 12 is a cross-sectional view of the corrosion detection structure taken along line IV-IV of FIG 3 ;
5 Fig. 14 is a perspective view showing another configuration example of a corrosion detection structure;
6 12 is a cross-sectional view of the corrosion detection structure taken along line VI-VI of FIG 5 ;
7 Fig. 14 is a perspective view showing another configuration example of a corrosion detection structure;
8th 12 is a cross-sectional view of the corrosion detection structure taken along line VIII-VIII of FIG 7 ;
9 Fig. 12 is a flow chart showing a corrosion detection method according to the first embodiment;
10 14 is a diagram showing an example configuration of a sensor body according to a second embodiment;
11 is a flowchart showing a corrosion detection method for detecting corrosion at the in 10 illustrated sensor body shows;
12 12 is a diagram showing another example configuration of a sensor body according to the second embodiment;
13 14 is a diagram showing another example configuration of a sensor body according to the second embodiment;
14 is a flowchart showing a corrosion detection method for detecting corrosion at the in 13 illustrated sensor body shows;
15 14 is a diagram showing another example configuration of a sensor body according to the second embodiment;
16 13 is a diagram showing an example configuration of a sensor body according to a third embodiment;
17 14 is a diagram showing another example configuration of a sensor body according to the third embodiment;
18 14 is a diagram showing another example configuration of a sensor body according to the third embodiment;
19 12 is a view showing an electronic device equipped with a corrosion detection sensor according to a fourth embodiment;
20 14 is a perspective view showing an example configuration of a corrosion detection structure according to a fourth embodiment;
21 12 is a cross-sectional view of the corrosion detection structure taken along line XXI-XXI of FIG 20 ;
22 12 is a diagram showing a configuration of a sensor body according to a second example of the fourth embodiment;
23 12 is a diagram showing a configuration of a sensor body according to a third example of the fourth embodiment;
24 14 is a diagram showing a configuration of a sensor body according to a fourth example of the fourth embodiment;
25 14 is a diagram showing a configuration of a sensor body according to a fifth example of the fourth embodiment;
26 14 is a diagram showing a configuration of a sensor body according to a sixth example of the fourth embodiment;
27 14 is a diagram showing an example configuration of a sensor body according to a fifth embodiment;
28 14 is a diagram showing another example configuration of a sensor body according to the fifth embodiment;
29 14 is a diagram showing another example configuration of a sensor body according to the fifth embodiment;
30 14 is a diagram showing another configuration example of a sensor body according to the fifth embodiment;
31 12 is a diagram showing an example configuration of a sensor body according to a sixth embodiment;
32 14 is a diagram showing another example configuration of a sensor body according to the sixth embodiment;
33 14 is a diagram showing a first example configuration of a sensor body according to a seventh embodiment;
34 14 is a diagram showing a second example configuration of a sensor body according to the seventh embodiment;
35 13 is a diagram showing a third example configuration of a sensor body according to the seventh embodiment, and
36 14 is a diagram showing a fourth example configuration of a sensor body according to the seventh embodiment.

BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSFORMENDESCRIPTION OF THE EMBODIMENTS

Nachfolgend werden die Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen im Einzelnen beschrieben. In den Zeichnungen sind gleiche oder korrespondierende Teile mit den gleichen Bezugszeichen bezeichnet, und ihre Beschreibung wird nicht wiederholt.In the following, the embodiments will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and their description will not be repeated.

Ausführungsform 1Embodiment 1

1 ist ein Bild, das ein Elektrogerät 900 mit einem Korrosionserkennungssensor gemäß einer ersten Ausführungsform zeigt. Wie gezeigt in 1 ist das Elektrogerät 900 beispielsweise ein Stromrichter wie ein Wechselrichter oder ein Konverter, aber das Elektrogerät ist nicht darauf beschränkt. Das Elektrogerät 900 wird z.B. in eine speicherprogrammierbare Steuerung (SPS), einen Aufzug, einen Generator, ein Automobil, eine Eisenbahn oder ähnliches eingebaut. In der Betriebsumgebung verschiedener Anwendungen kann das Elektrogerät 900 (genauer gesagt ein Elektrogeräte-Hauptkörper 90, der später beschrieben wird) durch ein korrosives Gas korrosiv beschädigt werden. 1 12 is a diagram showing an electronic device 900 having a corrosion detection sensor according to a first embodiment. As shown in 1 For example, the electric device 900 is a power converter such as an inverter or a converter, but the electric device is not limited to this. The electrical device 900 is installed, for example, in a programmable logic controller (PLC), an elevator, a generator, an automobile, a railway or the like. In the operating environment of various applications, the electronic device 900 (more specifically, an electronic device main body 90 described later) may be corrosively damaged by a corrosive gas.

Das Elektrogerät 900 beinhaltet einen Korrosionserkennungssensor 101 und einen Elektrogeräte-Hauptkörper 90. Der Korrosionserkennungssensor 101 ist dazu ausgebildet, den Grad des Fortschreitens der Korrosion am Elektrogerätekörper 90 abzuschätzen. Der Korrosionserkennungssensor 101 beinhaltet einen Sensorkörper 11, ein Widerstandsmessgerät 20, eine Steuerungseinheit 30, und eine Notifikationseinheit 40.The electric device 900 includes a corrosion detection sensor 101 and an electric device main body 90. The corrosion detection sensor 101 is configured to estimate the degree of progress of corrosion on the electric device body 90. FIG. The corrosion detection sensor 101 includes a sensor body 11, an ohmmeter 20, a control unit 30, and a notification unit 40.

2 ist ein Bild, das eine Beispielkonfiguration des Sensorkörpers 11 gemäß der ersten Ausführungsform zeigt. Wie gezeigt in 2 beinhaltet der Sensorkörper 11 eine Korrosionserkennungsstruktur 21, eine Leiterplatte 3, einen Draht 4 und ein Lot 5. 2 12 is a diagram showing an example configuration of the sensor body 11 according to the first embodiment. As shown in 2 the sensor body 11 includes a corrosion detection structure 21, a circuit board 3, a wire 4 and a solder 5.

Bei der Leiterplatte 3 handelt es sich beispielsweise um eine gedruckte Leiterplatte, die so konfiguriert ist, dass sie verschiedene Drähte und darauf angebrachte elektronische Komponenten tragen kann.The circuit board 3 is, for example, a printed circuit board configured to carry various wires and electronic components mounted thereon.

Der Draht 4 beinhaltet Drähte 41 und 42. Jeder der Drähte 41 und 42 ist ein leitender Draht, der auf der Leiterplatte 3 angeordnet ist. Der Draht 41 und der Draht 42 sind voneinander beabstandet. Der Draht 41 und der Draht 42 können aus Kupfer (Cu) oder dergleichen bestehen.The wire 4 includes wires 41 and 42. Each of the wires 41 and 42 is a conductive wire arranged on the circuit board 3. As shown in FIG. The wire 41 and the wire 42 are spaced from each other. The wire 41 and the wire 42 may be made of copper (Cu) or the like.

Die Korrosionserkennungsstruktur 21 ist zwischen den Draht 41 und den Draht 42 geschaltet und ist auf den Drähten 41 und 42 mit dem dazwischenliegenden Lot 5 angebracht. Die Korrosionserkennungsstruktur 21 ist so konfiguriert, dass sie den Grad des Fortschreitens der Korrosion an dem Korrosionserkennungssensor 101 erfasst und den Grad des Fortschreitens der Korrosion an dem Elektrogeräte-Hauptkörper 90 auf der Grundlage des Grades des Fortschreitens der Korrosion an dem Korrosionserkennungssensor 101 abschätzt. Der Aufbau der Korrosionserkennungsstruktur 21 wird später beschrieben.The corrosion detection structure 21 is connected between the wire 41 and the wire 42 and is mounted on the wires 41 and 42 with the solder 5 therebetween. The corrosion detection structure 21 is configured to detect the degree of progress of corrosion on the corrosion detection sensor 101 and estimate the degree of progress of corrosion on the electrical equipment main body 90 based on the degree of progress of corrosion on the corrosion detection sensor 101 . The structure of the corrosion detection structure 21 will be described later.

Zurückkommend auf 1 misst das Widerstandsmessgerät 20 einen Widerstand des Sensorkörpers 11 und gibt das Messergebnis an die Steuerungseinheit 30 aus. coming back on 1 the resistance meter 20 measures a resistance of the sensor body 11 and outputs the measurement result to the control unit 30 .

In dem in 1 dargestellten Beispiel legt der Elektrogerätekörper 90 eine vorgegebene Spannung zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 11 (d. h. zwischen dem Draht 41 und dem Draht 42) an. Das Widerstandsmessgerät 20 beinhaltet zum Beispiel ein Voltmeter 201 und ein Amperemeter 202. Das Voltmeter 201 misst eine zwischen beiden Enden des Sensorkörpers 11 angelegte Spannung und gibt das Messergebnis an die Steuerungseinheit 30 aus. Das Amperemeter 202 misst den elektrischen Strom, der durch den Sensorkörper 11 fließt, und gibt das Messergebnis an die Steuerungseinheit 30 aus. Obwohl nicht dargestellt, kann die Spannung zwischen beiden Enden des Sensorkörpers 11 durch eine vom Elektrogerät-Hauptkörper 90 unabhängige Stromquelle (z.B. eine Kompaktbatterie) angelegt werden. Das Widerstandsmessgerät 20 entspricht der „Widerstandsmesseinheit“ nach der vorliegenden Erfindung.in the in 1 In the illustrated example, the electrical equipment body 90 applies a predetermined voltage between both ends of the sensor body 11 (ie, between the wire 41 and the wire 42). The resistance meter 20 includes, for example, a voltmeter 201 and an ammeter 202. The voltmeter 201 measures a voltage applied between both ends of the sensor body 11 and outputs the measurement result to the control unit 30. The ammeter 202 measures the electric current flowing through the sensor body 11 and outputs the measurement result to the control unit 30 . Although not illustrated, the voltage may be applied between both ends of the sensor body 11 by a power source (eg, a compact battery) independent of the electric equipment main body 90 . The resistance meter 20 corresponds to the “resistance measurement unit” of the present invention.

Die Steuerungseinheit 30 beinhaltet beispielsweise einen Mikroprozessor und steuert die Notifikationseinheit 40 basierend auf dem Messergebnis des vom Widerstandsmessgerät 20 gemessenen Widerstands des Sensorkörpers 11. Genauer gesagt, wenn der vom Widerstandsmessgerät 20 gemessene Widerstand größer wird als ein vorbestimmter Bezugswiderstand REF, steuert die Steuerungseinheit 30 die Notifikationseinheit 40, um den Benutzer über das Ergebnis zu informieren. Der Bezugswiderstand REF wird vorab auf der Grundlage der Gefahrenstufe des durch ein korrosives Gas verursachten Korrosionsschadens am Elektrogeräte-Hauptkörper 90 bestimmt. Das Verfahren zum Einstellen des Bezugswiderstandes REF und der Gefahrenstufe wird später im Detail beschrieben.The control unit 30 includes, for example, a microprocessor and controls the notification unit 40 based on the measurement result of the resistance of the sensor body 11 measured by the resistance meter 20. More specifically, when the resistance measured by the resistance meter 20 becomes greater than a predetermined reference resistance REF, the control unit 30 controls the notification unit 40 to inform the user of the result. The reference resistance REF is determined in advance based on the danger level of corrosion damage to the electric equipment main body 90 caused by a corrosive gas. The procedure for setting the reference resistance REF and the danger level will be described later in detail.

Die Steuerungseinheit 30 ist kein wesentlicher Bestandteil des Korrosionserkennungssensors 101. Wenn der Elektrogeräte-Hauptkörper 90 mit einer Steuerungseinheit versehen ist, kann eine Reihe von Schritten (die später im Detail beschrieben werden) von der Steuerungseinheit ausgeführt werden. Anstelle der Steuerungseinheit 30 kann der Korrosionserkennungssensor 101 eine Schaltung (z.B. eine Komparatorschaltung) enthalten, um den vom Widerstandsmessgerät 20 gemessenen Widerstand mit dem Bezugswiderstand REF zu vergleichen.The control unit 30 is not an essential part of the corrosion detection sensor 101. When the electric equipment main body 90 is provided with a control unit, a series of steps (described in detail later) can be performed by the control unit. Instead of the control unit 30, the corrosion detection sensor 101 may include a circuit (e.g., a comparator circuit) for comparing the resistance measured by the ohmmeter 20 with the reference resistance REF.

Die Notifikationseinheit 40 beinhaltet eine Flüssigkristallanzeige, eine LED (Light Emitting Diode)-Anzeige oder dergleichen und meldet dem Benutzer, dass der vom Widerstandsmessgerät 20 gemessene Widerstand größer ist als der Bezugswiderstand REF.The notification unit 40 includes a liquid crystal display, an LED (Light Emitting Diode) display or the like, and notifies the user that the resistance measured by the resistance meter 20 is greater than the reference resistance REF.

Die Notifikationseinheit 40 ist ein Beispiel für die „Widerstandsausgabeeinheit“ gemäß der vorliegenden Erfindung. Die „Widerstandsausgabeeinheit“ gemäß der vorliegenden Erfindung ist nicht darauf beschränkt, ein Messergebnis des vom Widerstandsmessgerät 20 gemessenen Widerstands (oder ein Erkennungsergebnis, das anzeigt, dass der gemessene Widerstand größer als der Bezugswiderstand REF ist) an einen Benutzer auszugeben, und kann so konfiguriert sein, dass sie das Messergebnis an eine elektronische Vorrichtung ausgibt. Wenn es sich bei der Steuerungseinheit 30 beispielsweise um eine Komparatorschaltung oder dergleichen handelt, kann die Widerstandsausgabeeinheit gemäß der vorliegenden Erfindung das Vergleichsergebnis zwischen dem vom Widerstandsmessgerät 20 gemessenen Widerstand und dem Bezugswiderstand REF als Spannungssignalpegel (d.h. als H (High)-Pegel oder als L (Low)-Pegel) ausgeben.The notification unit 40 is an example of the “resistance output unit” according to the present invention. The "resistance output unit" according to the present invention is not limited to outputting a measurement result of the resistance measured by the resistance meter 20 (or a detection result indicating that the measured resistance is greater than the reference resistance REF) to a user, and can be configured to do so that it outputs the measurement result to an electronic device. For example, when the control unit 30 is a comparator circuit or the like, the resistance output unit according to the present invention can output the comparison result between the resistance measured by the resistance meter 20 and output the reference resistor REF as a voltage signal level (ie as an H (high) level or as an L (low) level).

3 ist eine perspektivische Ansicht, die eine Beispielkonfiguration der Korrosionserkennungsstruktur 21 zeigt. 4 ist eine Querschnittsansicht der Korrosionserkennungsstruktur 21 entlang der Linie IV-IV in 3. Wie gezeigt in 3 und 4 beinhaltet die Korrosionserkennungsstruktur 21 ein Isoliersubstrat 6, ein Elektrodenpaar 7, eine Metall-Dünnschicht 8, und einen Widerstand 9. 3 FIG. 14 is a perspective view showing an example configuration of the corrosion detection structure 21. FIG. 4 12 is a cross-sectional view of the corrosion detection structure 21 taken along line IV-IV in FIG 3 . As shown in 3 and 4 the corrosion detection structure 21 includes an insulating substrate 6, a pair of electrodes 7, a metal thin film 8, and a resistor 9.

Das Isoliersubstrat 6 ist beispielsweise ein Isoliersubstrat mit einer quaderförmigen Form. Das Isoliersubstrat 6 kann z.B. aus Aluminiumoxid (Al₂O₃) oder Glas (SiO₂ o.ä.) hergestellt sein.The insulating substrate 6 is, for example, an insulating substrate having a cuboid shape. The insulating substrate 6 can be made of, for example, alumina (Al ₂ O ₃ ) or glass (SiO ₂ or the like).

Das Elektrodenpaar 7 beinhaltet ein Paar Elektroden, nämlich eine erste Elektrode 71 und eine zweite Elektrode 72. Die erste Elektrode 71 und die zweite Elektrode 72 sind auf gegenüberliegenden Seitenflächen des quaderförmigen Körpers des Isoliersubstrats 6 angeordnet. Jede der ersten Elektrode 71 und der zweiten Elektrode 72 ist eine leitende Dünnschicht und kann beispielsweise durch eine Zinn (Sn)-Beschichtung gebildet werden. In dem in den 3 und 4 dargestellten Beispiel ist die erste Elektrode 71 elektrisch mit der Metall-Dünnschicht 8 verbunden, und die zweite Elektrode 72 ist elektrisch mit dem Widerstand 9 verbunden.The pair of electrodes 7 includes a pair of electrodes, namely a first electrode 71 and a second electrode 72. The first electrode 71 and the second electrode 72 are arranged on opposite side surfaces of the parallelepiped-shaped body of the insulating substrate 6. As shown in FIG. Each of the first electrode 71 and the second electrode 72 is a conductive thin film and can be formed by tin (Sn) plating, for example. In the in the 3 and 4 In the example shown, the first electrode 71 is electrically connected to the metal thin film 8 and the second electrode 72 is electrically connected to the resistor 9 .

Die Metall-Dünnschicht 8 ist eine Dünnschicht aus Metall, die auf dem Isoliersubstrat 6 angeordnet ist. Die Breite und die Länge der Metall-Dünnschicht 8 sind deutlich größer als die Dicke (Schichtdicke) der Metall-Dünnschicht 8. Beispielsweise beträgt die Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 3 µm bis 12 µm , die Breite der Metall-Dünnschicht 8 beträgt 0,8 mm und die Länge der Metall-Dünnschicht 8 beträgt 1,6 mm.The metal thin film 8 is a metal thin film disposed on the insulating substrate 6 . The width and the length of the thin metal layer 8 are significantly greater than the thickness (layer thickness) of the thin metal layer 8. For example, the layer thickness of the thin metal layer is 8 3 μm to 12 μm, the width of the thin metal layer 8 is 0, 8 mm and the length of the metal thin film 8 is 1.6 mm.

Die Metall-Dünnschicht 8 wird durch das korrosive Gas korrodiert. Die Metall-Dünnschicht 8 kann aus Silber (Ag) oder Kupfer hergestellt sein. Diese Materialien sind typische Metalle, die in einem Elektrogerät verwendet werden, und sind empfindlich gegenüber den wichtigsten korrosiven Gasen, wodurch sie sich als Materialien zur quantitativen Bewertung der Korrosivität einer Umgebung eignen, in der das Elektrogerät 900 installiert ist.The metal thin film 8 is corroded by the corrosive gas. The metal thin film 8 can be made of silver (Ag) or copper. These materials are typical metals used in an electronic device and are sensitive to the main corrosive gases, making them suitable as materials for quantitatively evaluating the corrosiveness of an environment in which the electronic device 900 is installed.

In der vorliegenden Erfindung ist das korrosive Gas ein Sammelbegriff für schwefelhaltiges Gas, chlorhaltiges Gas und Stickoxid. Das schwefelhaltige Gas beinhaltet Schwefelwasserstoff (H₂S), Schwefeldioxid (SO₂), sublimierten Schwefel (S8) und dergleichen. Das Gas auf Chlorbasis beinhaltet Chlorgas (Cl₂). Das Stickoxid (NO_x) beinhaltet beispielsweise Stickstoffdioxid (NO₂). Wenn das Material der Metall-Dünnschicht 8 Silber ist, ist es empfindlich gegenüber sublimiertem Schwefel und Chlorgas. Kupfer hingegen ist empfindlich gegenüber Schwefelwasserstoff, Schwefeldioxid und Stickstoffdioxid.In the present invention, the corrosive gas is a collective term for sulfur-containing gas, chlorine-containing gas and nitrogen oxide. The sulfur-containing gas includes hydrogen sulfide (H ₂ S), sulfur dioxide (SO ₂ ), sublimated sulfur (S8), and the like. The chlorine-based gas includes chlorine (Cl ₂ ) gas. The nitrogen oxide (NO _x ) includes, for example, nitrogen dioxide (NO ₂ ). When the material of the metal thin film 8 is silver, it is sensitive to sublimated sulfur and chlorine gas. Copper, on the other hand, is sensitive to hydrogen sulfide, sulfur dioxide and nitrogen dioxide.

Der Widerstand 9 ist auf dem Isoliersubstrat 6 angeordnet und mit der Metall-Dünnschicht 8 in Reihe geschaltet. Der Widerstand 9 ist resistent gegen das korrosive Gas. Der Widerstand 9 kann aus einem Halbleiteroxid (z.B. Rutheniumoxid (RuO₂)) hergestellt sein. Alternativ kann der Widerstand 9 auch aus einem bestimmten Metall wie Zinn hergestellt werden. Der Widerstandswert des Widerstands 9 ist vorzugsweise höher eingestellt als der Widerstandswert der Metall-Dünnschicht 8. Der Widerstand 9 entspricht dem „Widerstandselement“ gemäß der vorliegenden Erfindung.The resistor 9 is arranged on the insulating substrate 6 and connected to the metal thin film 8 in series. The resistor 9 is resistant to the corrosive gas. The resistor 9 can be made of a semiconductor oxide (eg, ruthenium oxide (RuO ₂ )). Alternatively, the resistor 9 can also be made from a specific metal such as tin. The resistance value of the resistor 9 is preferably set higher than the resistance value of the metal thin film 8. The resistor 9 corresponds to the “resistance element” according to the present invention.

Obwohl in den 3 und 4 dargestellt ist, dass die Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 gleich der Schichtdicke des Widerstandes 9 ist, handelt es sich lediglich um eine schematische Darstellung und ist keine wesentliche Bedingung. Die in den 3 und 4 dargestellte Konfiguration ist lediglich eine Beispielkonfiguration der Korrosionserkennungsstruktur, und die anderen Konfigurationen, wie die in den 5 bis 8 dargestellten, können verwendet werden.Although in the 3 and 4 It is shown that the layer thickness of the metal thin film 8 is equal to the layer thickness of the resistor 9 is only a schematic representation and is not an essential condition. The in the 3 and 4 The configuration shown is just an example configuration of the corrosion detection structure, and the other configurations like those in FIGS 5 until 8th shown can be used.

5 ist eine perspektivische Ansicht, die eine weitere Beispielkonfiguration einer Korrosionserkennungsstruktur zeigt. 6 ist eine Querschnittsansicht einer Korrosionserkennungsstruktur 22 entlang der Linie VI-VI in 5. Wie gezeigt in 5 und 6 sind in der Korrosionserkennungsstruktur 22 der Widerstand 9, die Metall-Dünnschicht 8 und der Widerstand 9 in dieser Reihenfolge zwischen der ersten Elektrode 71 und der zweiten Elektrode 72 in Reihe geschaltet. 5 14 is a perspective view showing another example configuration of a corrosion detection structure. 6 12 is a cross-sectional view of a corrosion detection structure 22 taken along line VI-VI in FIG 5 . As shown in 5 and 6 For example, in the corrosion detection structure 22, the resistor 9, the metal thin film 8, and the resistor 9 are connected in series between the first electrode 71 and the second electrode 72 in this order.

7 ist eine perspektivische Ansicht, die noch ein weiteres Konfigurationsbeispiel einer Korrosionserkennungsstruktur zeigt. 8 ist eine Querschnittsansicht einer Korrosionserkennungsstruktur 23 entlang der Linie VIII-VIII in 7. Wie gezeigt in 7 und 8 sind in der Korrosionserkennungsstruktur 23 die Metall-Dünnschicht 8, der Widerstand 9 und die Metall-Dünnschicht 8 in dieser Reihenfolge zwischen der ersten Elektrode 71 und der zweiten Elektrode 72 in Reihe geschaltet. 7 14 is a perspective view showing still another configuration example of a corrosion detection structure. 8th 13 is a cross-sectional view of a corrosion detection structure 23 along line VIII-VIII in FIG 7 . As shown in 7 and 8th are in the corrosion detection structure 23 the The metal thin film 8, the resistor 9 and the metal thin film 8 are connected in series between the first electrode 71 and the second electrode 72 in this order.

Wie aus den 3 bis 8 ersichtlich ist, kann die Anzahl der Metall-Dünnschichten 8 und die Anzahl der in der Korrosionserkennungsstruktur vorgesehenen Widerstandselemente 9 eine oder mehrere sein. Ferner ist die Anschlussreihenfolge der Metall-Dünnschicht 8 und des Widerstands 9 nicht besonders begrenzt. Nachfolgend wird die Beschreibung anhand der Korrosionserkennungsstruktur 21 (siehe 3 und 4) als repräsentatives Beispiel durchgeführt, wobei zu beachten ist, dass die Korrosionserkennungsstruktur 21 in geeigneter Weise durch die Korrosionserkennungsstruktur 22 oder die Korrosionserkennungsstruktur 23 ersetzt werden kann.How from the 3 until 8th As can be seen, the number of metal thin films 8 and the number of resistance elements 9 provided in the corrosion detection structure may be one or more. Furthermore, the connection order of the metal thin film 8 and the resistor 9 is not particularly limited. In the following, the description will be given based on the corrosion detection structure 21 (see 3 and 4 ) is performed as a representative example, noting that the corrosion detection structure 21 may be replaced with the corrosion detection structure 22 or the corrosion detection structure 23 as appropriate.

In der vorliegenden Ausführungsform wird die „Gefahrenstufe“ als Parameter zur Einstellung eines Zeitpunkts für die Benachrichtigung des Benutzers verwendet. Ein Verfahren zur Einstellung der Gefahrenstufe wird im Folgenden beschrieben.In the present embodiment, the "danger level" is used as a parameter for setting a timing for notifying the user. A procedure for setting the security level is described below.

Zunächst wird das mit dem Korrosionserkennungssensor 101 ausgestattete Elektrogerät 900 einer Umgebung ausgesetzt, die das korrosive Gas enthält, um im Voraus ein Reduktionsmaß der Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 zu bestimmen, bis der Elektrogeräte-Hauptkörper 90 korrosiv beschädigt ist. Der so ermittelte Reduktionsbetrag wird als „maximaler Reduktionsbetrag“ bezeichnet. Genauer gesagt wird die anfängliche Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 auf einen ausreichend großen Wert (z.B. 20 µm) eingestellt. Dann wird die Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 zu dem Zeitpunkt gemessen, zu dem der Elektrogeräte-Hauptkörper 90 korrosiv beschädigt ist (oder zu einem Zeitpunkt unmittelbar vor dem Zeitpunkt, zu dem der Elektrogeräte-Hauptkörper 90 korrosiv beschädigt ist). Wenn die Schichtdicke 8 µm beträgt, wenn der Elektrogeräte-Hauptkörper 90 korrosiv beschädigt ist, wird der maximale Reduktionsbetrag auf 12 µm (= 20 µm - 8 µm)berechnet. Das Verhältnis zwischen dem durch das korrosive Gas verursachten Verringerungsbetrag der Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 unter den tatsächlichen Betriebsbedingungen und dem maximalen Verringerungsbetrag wird als „Gefahrenstufe“ definiert (siehe den folgenden Ausdruck (1)). $\begin{array}{l} Die Gefahrenstufe = die tats \ddot{a} chliche Reduktionmenge der Schichtdicke der \\ Metall-D \ddot{u} nnschicht 8/die maximale Reduktionmenge \times 100 % \end{array}$

First, the electronic equipment 900 equipped with the corrosion detection sensor 101 is exposed to an environment containing the corrosive gas to determine in advance an amount of reduction in the film thickness of the metal thin film 8 until the electronic equipment main body 90 is corrosively damaged. The reduction amount determined in this way is referred to as the "maximum reduction amount". More specifically, the initial film thickness of the metal thin film 8 is set to a sufficiently large value (eg, 20 µm). Then, the film thickness of the metal thin film 8 is measured at the time when the electric equipment main body 90 is corrosively damaged (or at a time immediately before the time when the electric equipment main body 90 is corrosively damaged). If the film thickness is 8 µm when the electric equipment main body 90 is corrosively damaged, the maximum reduction amount is calculated to be 12 µm (= 20 µm - 8 µm). The ratio between the amount of reduction in the film thickness of the metal thin film 8 caused by the corrosive gas under the actual operating conditions and the maximum amount of reduction is defined as “hazard level” (see the following expression (1)).

\begin{array}{l} The danger level = the deeds \ddot{a} chliche reduction amount of the layer thickness of the \\ Metal D \ddot{and} nnlayer 8/the maximum amount of reduction \times 100 % \end{array}

Angenommen, der maximale Reduktionsbetrag beträgt 12 µm, wenn die Metall-Dünnschicht 8 im Elektrogerät 900 aus Silber besteht. Wenn die Gefahrenstufe auf 25 % eingestellt ist, wird die Metall-Dünnschicht 8 mit einer Schichtdicke von 3 µm (= 12 µm × 25 %) ausgebildet. Wenn also die Metall-Dünnschicht 8 unter den tatsächlichen Betriebsbedingungen des Elektrogeräts 900 um 3 µm korrodiert, werden die erste Elektrode 71 und die zweite Elektrode 72 voneinander getrennt, und daher steigt der vom Widerstandsmessgerät 20 gemessene Widerstand. Durch die Erfassung des Widerstandsanstiegs ist bekannt, dass die Korrosion an der Metall-Dünnschicht 8 um 3 µm fortgeschritten ist.Suppose that the maximum reduction amount is 12 µm when the metal thin film 8 in the electronic device 900 is made of silver. When the danger level is set to 25%, the metal thin film 8 is formed with a film thickness of 3 µm (= 12 µm × 25%). Therefore, when the metal thin film 8 is corroded by 3 µm under the actual operating condition of the electronic device 900, the first electrode 71 and the second electrode 72 are separated from each other, and therefore the resistance measured by the ohmmeter 20 increases. By detecting the increase in resistance, it is known that the corrosion of the metal thin film 8 has progressed by 3 µm.

9 ist ein Flussdiagramm, das ein Korrosionserkennungsverfahren gemäß der ersten Ausführungsform zeigt. Das im Flussdiagramm von 9 und den später zu beschreibenden 11 und 14 dargestellte Verfahren wird von einer Hauptroutine (nicht dargestellt) aufgerufen und von der Steuerungseinheit 30 jedes Mal ausgeführt, wenn eine vorbestimmte Zeitspanne verstrichen ist. Im Allgemeinen wird jeder Schritt (im Folgenden mit „S“ abgekürzt) von der Steuerungseinheit 30 durch Softwareverarbeitung implementiert, und er kann von einer elektronischen Schaltung in der Steuerungseinheit 30 durch Hardwareverarbeitung implementiert werden. 9 14 is a flow chart showing a corrosion detection method according to the first embodiment. The one in the flowchart of 9 and the one to be described later 11 and 14 The method shown is called by a main routine (not shown) and executed by the control unit 30 each time a predetermined period of time has elapsed. In general, each step (hereinafter abbreviated as “S”) is implemented by the control unit 30 through software processing, and can be implemented by an electronic circuit in the control unit 30 through hardware processing.

Wie gezeigt in 9 steuert die Steuerungseinheit 30 in S11 das Widerstandsmessgerät 20, um einen Widerstand zwischen beiden Enden des Sensorkörpers 11 zu messen. Der vom Widerstandsmessgerät 20 gemessene Widerstand ist ein kombinierter Widerstand aus dem Widerstand des Isoliersubstrats 6, dem Widerstand der Metall-Dünnschicht 8, dem Widerstand des Widerstands 9 und dem Widerstand des Elektrodenpaars 7 und wird im Folgenden als „kombinierter Widerstand X“ bezeichnet.As shown in 9 the control unit 30 controls the resistance meter 20 to measure a resistance between both ends of the sensor body 11 in S11. The resistance measured by the ohmmeter 20 is a combined resistance of the resistance of the insulating substrate 6, the resistance of the metal thin film 8, the resistance of the resistor 9, and the resistance of the pair of electrodes 7, and is hereinafter referred to as “combined resistance X”.

In S12 vergleicht die Steuerungseinheit 30 den in S11 gemessenen kombinierten Widerstand X mit dem Bezugswiderstand REF. Der Bezugswiderstand REF kann auf einen Wert eingestellt werden, der geringfügig größer ist als der kombinierte Widerstand X vor der Korrosion durch das korrosive Gas (z.B. um einen Betrag, der einigen Prozent des kombinierten Widerstands X vor der Korrosion entspricht).In S12, the control unit 30 compares the combined resistance X measured in S11 with the reference resistance REF. The reference resistance REF can be set to a value slightly greater than the combined resistance X before corrosion by the corrosive gas (e.g. by an amount equal to a few percent of the combined resistance X before corrosion).

Wenn der kombinierte Widerstand X gleich oder kleiner ist als der Bezugswiderstand REF (NEIN in S12), überspringt die Steuerungseinheit 30 den nachfolgenden Schritt in S13 und kehrt zur Hauptroutine zurück. Anschließend wird nach Ablauf der vorgegebenen Zeitspanne erneut die Reihe der in 9 dargestellten Schritte ausgeführt. Ist dagegen der kombinierte Widerstand X größer als der Bezugswiderstand REF (JA in S12), fährt die Steuerungseinheit 30 mit dem Verfahren in S13 fort.If the combined resistance X is equal to or less than the reference resistance REF (NO in S12), the control unit 30 skips the subsequent step in S13 and returns to the main routine back. After the specified period of time has elapsed, the series of in 9 steps shown. On the other hand, when the combined resistance X is larger than the reference resistance REF (YES in S12), the control unit 30 proceeds to the process in S13.

In S13 steuert die Steuerungseinheit 30 die Notifikationseinheit 40 an, um mitzuteilen, dass die Gefahrenstufe einen vorbestimmten Wert erreicht hat (z.B. 25 % wie oben beschrieben). Wenn es sich bei der Notifikationseinheit 40 um eine LED-Anzeige handelt, arbeitet die Notifikationseinheit 40 erst, wenn die Gefahrenstufe 25 % erreicht, und wenn die Gefahrenstufe 25 % erreicht hat, benachrichtigt die Notifikationseinheit 40 den Benutzer durch Ausstrahlen von rotem Licht, das anzeigt, dass die Gefahrenstufe 25 % erreicht hat.In S13, the control unit 30 controls the notification unit 40 to notify that the danger level has reached a predetermined value (e.g. 25% as described above). If the notification unit 40 is an LED display, the notification unit 40 will not work until the danger level reaches 25%, and when the danger level has reached 25%, the notification unit 40 will notify the user by emitting red light indicating that the danger level has reached 25%.

Die Art der Benachrichtigung des Benutzers über die Gefahrenstufe ist nicht beschränkt. Wenn es sich bei der Notifikationseinheit 40 beispielsweise um eine Flüssigkristallanzeige handelt, kann sie einen numerischen Wert anzeigen, der die Gefahrenstufe angibt (z.B. den numerischen Wert von 25 %). Handelt es sich bei der Notifikationseinheit 40 um einen Summer, einen Lautsprecher oder dergleichen, kann sie alternativ eine Erhöhung der Gefahrenstufe durch einen Ton anzeigen.The way of notifying the user about the danger level is not limited. For example, if the notification unit 40 is a liquid crystal display, it may display a numeric value indicative of the threat level (e.g., the numeric value of 25%). Alternatively, if the notification unit 40 is a buzzer, a loudspeaker or the like, it can indicate an increase in the danger level by means of a sound.

Erstes Beispiel der Ausführungsform 1First example of embodiment 1

Als nächstes wird die Wirksamkeit des Korrosionserkennungssensors gemäß der vorliegenden Erfindung überprüft. In jedem nachfolgend zu beschreibenden Beispiel wird das Elektrogerät 900 (im vorliegenden Beispiel ein Wechselrichter) einer Umgebung ausgesetzt, in der die Korrosion an der Metall-Dünnschicht 8 beschleunigt wird. Genauer gesagt wurde im ersten Beispiel der ersten Ausführungsform ein Expositionstest am Elektrogerät 900 in einer Umgebung durchgeführt, die eine Temperatur von 75°C hat und sublimierten Schwefel enthält. Als Metall-Dünnschicht 8 wurde die oben beschriebene Silber-Dünnschicht mit einer Schichtdicke von 3 µm verwendet. Der Gesamtwiderstand X vor Beginn des Expositionstests (im Folgenden auch als „Anfangs-Gesamtwiderstand X0“ bezeichnet) betrug 1000 kΩ. Somit kann der Bezugswiderstand REF auf 1010 kΩ eingestellt werden, was 1 % größer ist als der anfängliche kombinierte Widerstand X0. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests ist die durch das korrosive Gas verursachte Korrosion der Metall-Dünnschicht 8 fortgeschritten, wodurch der kombinierte Widerstand X größer als 1010 kΩ wird. Bei der Beobachtung des Sensorkörpers 11 zu diesem Zeitpunkt wurde bestätigt, dass die Metall-Dünnschicht 8 (die Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm) korrosiv getrennt war.Next, the effectiveness of the corrosion detection sensor according to the present invention will be checked. In each example to be described below, the electric device 900 (an inverter in the present example) is exposed to an environment where corrosion of the metal thin film 8 is accelerated. More specifically, in the first example of the first embodiment, an exposure test was performed on the electronic device 900 in an environment that has a temperature of 75° C. and contains sublimated sulfur. As the metal thin film 8, the silver thin film described above with a film thickness of 3 μm was used. The total resistance X before the start of the exposure test (hereinafter also referred to as “initial total resistance X0”) was 1000 kΩ. Thus, the reference resistance REF can be set to 1010 kΩ, which is 1% larger than the initial combined resistance X0. 10 days after the start of the exposure test, the corrosion of the metal thin film 8 caused by the corrosive gas has progressed, whereby the combined resistance X becomes larger than 1010 kΩ. Observing the sensor body 11 at this time, it was confirmed that the metal thin film 8 (the silver thin film having a film thickness of 3 µm) was separated corrosively.

Zweites Beispiel für Ausführungsform 1Second example for embodiment 1

Im zweiten Beispiel der ersten Ausführungsform wurde eine Kupfer-Dünnschicht mit einer Schichtdicke von 3 µm als Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 21 verwendet. Die maximale Reduktionsmenge der Kupfer-Dünnschicht betrug 12 µm. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 des Sensorkörpers 11 betrug 1000 kΩ. Das mit dem Korrosionserkennungssensor 101 ausgestattete Elektrogerät 900 wurde einer Umgebung von 40°C/95%RH/(3 ppm H₂S+10 ppm NO₂) ausgesetzt. So wurde der kombinierte Widerstand X nach 1,2 Tagen ab Beginn des Expositionstests größer als 1010 kΩ. Bei der Beobachtung des Sensorkörpers 11 zu diesem Zeitpunkt wurde bestätigt, dass die in der Korrosionserkennungsstruktur 21 vorgesehene Metall-Dünnschicht 8 (die Kupfer-Dünnschicht mit einer Schichtdicke von 3 µm) korrosiv getrennt war.In the second example of the first embodiment, a copper thin film having a film thickness of 3 μm was used as the metal thin film 8 in the corrosion detection structure 21. FIG. The maximum amount of reduction of the copper thin film was 12 µm. The initial combined resistance X0 of the sensor body 11 was 1000 kΩ. The electronic equipment 900 equipped with the corrosion detection sensor 101 was exposed to an environment of 40°C/95%RH/(3ppm H ₂ S+10ppm NO ₂ ). Thus, after 1.2 days from the start of the exposure test, the combined resistance X became greater than 1010 kΩ. Observing the sensor body 11 at this time, it was confirmed that the metal thin film 8 (the copper thin film having a film thickness of 3 μm) provided in the corrosion detection structure 21 was corrosively separated.

Wie oben beschrieben, ist es in der ersten Ausführungsform nicht notwendig, das Messergebnis des kombinierten Widerstands X im Speicher zu speichern, und es ist nicht notwendig, das Messergebnis des kombinierten Widerstands X mit den zuvor in der Datenbank gespeicherten Daten zu vergleichen. Gemäß der ersten Ausführungsform ist es unter Verwendung der Korrosionserkennungsstruktur 21 möglich, den Grad des Fortschreitens der durch das korrosive Gas verursachten Korrosion am Elektrogerät 900 mit einer sehr einfachen Konfiguration zu bestimmen. Durch die Einstellung der Gefahrenstufe auf einen gewünschten Wert von weniger als 100% ist es möglich, den Benutzer über den Grad des Fortschreitens der Korrosion am Elektrogerät 900 zu informieren, bevor der Elektrogeräte-Hauptkörper 90 einen Korrosionsschaden erleidet, was es dem Benutzer ermöglicht, notwendige Gegenmaßnahmen wie Reparatur oder Austausch des Elektrogeräte-Hauptkörpers 90 zu ergreifen.As described above, in the first embodiment, it is not necessary to store the measurement result of the combined resistance X in the memory, and it is not necessary to compare the measurement result of the combined resistance X with the data previously stored in the database. According to the first embodiment, by using the corrosion detection structure 21, it is possible to determine the degree of progress of corrosion on the electronic equipment 900 caused by the corrosive gas with a very simple configuration. By setting the danger level to a desired value less than 100%, it is possible to inform the user of the degree of progression of corrosion on the electrical equipment 900 before the electrical equipment main body 90 suffers corrosion damage, enabling the user to make necessary to take countermeasures such as repairing or replacing the electrical equipment main body 90 .

Ausführungsform 2Embodiment 2

In der zweiten Ausführungsform wird eine Konfiguration beschrieben, die den Benutzer schrittweise über den Grad des Fortschreitens der Korrosion am Elektrogerät 900 informiert. Die Gesamtkonfiguration des Elektrogeräts gemäß der zweiten Ausführungsform ist die gleiche wie die Gesamtkonfiguration des Elektrogeräts 900 (siehe 1) gemäß der ersten Ausführungsform, außer dass der Korrosionserkennungssensor anders ist. Die Konfiguration des Korrosionserkennungssensors gemäß der zweiten Ausführungsform ist die gleiche wie die Konfiguration des Korrosionserkennungssensors 101 (siehe 1) gemäß der ersten Ausführungsform, mit Ausnahme der Konfiguration des Sensorkörpers. Aus Gründen der Übersichtlichkeit der Zeichnungen ist daher nur der Sensorkörper in den Zeichnungen dargestellt.In the second embodiment, a configuration that notifies the user of the progress of corrosion of the electronic device 900 step by step is described. The overall configuration of the electronic device according to the second embodiment is the same as the overall configuration of the electronic device 900 (see 1 ) according to the first embodiment except that the corrosion detection sensor is different. The configuration of the corrosion detection sensor according to the second embodiment is the same as the configuration of the corrosion detection sensor 101 (see FIG 1 ) according to the first embodiment except for the configuration of the sensor body. Therefore, for the sake of clarity of the drawings, only the sensor body is shown in the drawings.

10 ist ein Bild, das eine Beispielkonfiguration eines Sensorkörpers gemäß der zweiten Ausführungsform zeigt. Wie gezeigt in 10 beinhaltet ein Sensorkörper 121 zwei parallel geschaltete Korrosionserkennungsstrukturen 21A und 21B. Die Konfiguration jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 21A und 21B ist die gleiche wie die Konfiguration der in den 3 und 4 dargestellten Korrosionserkennungsstruktur 21. 10 14 is a diagram showing an example configuration of a sensor body according to the second embodiment. As shown in 10 For example, a sensor body 121 includes two corrosion detection structures 21A and 21B connected in parallel. The configuration of each of the corrosion detection structures 21A and 21B is the same as the configuration of those in FIGS 3 and 4 shown corrosion detection structure 21.

Das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 21A vorgesehen ist, ist das gleiche wie das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 21B vorgesehen ist. Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21A vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 unterscheidet sich jedoch von der Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21B vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8. Die in der Korrosionserkennungsstruktur 21A vorgesehene Metall-Dünnschicht 8 ist dünner als die in der Korrosionserkennungsstruktur 21B vorgesehene Metall-Dünnschicht 8. Darüber hinaus ist der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21A größer als der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21B.The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21A is the same as the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21B. However, the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21A is different from the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21B. The metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21A is thinner than the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21B. thin film 8. In addition, the resistance value of the corrosion detection pattern 21A is larger than the resistance value of the corrosion detection pattern 21B.

Im ersten Beispiel der zweiten Ausführungsform waren beispielsweise sowohl das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 21A vorgesehen ist, als auch das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 21B vorgesehen ist, Silber. Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21A vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 3 µm. Nach der Definition der Gefahrenstufe durch den obigen Ausdruck (1) entspricht die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21A vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 einer Gefahrenstufe von 25% (= 3 µm/12 µm). Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21B vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 6 µm. Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21B vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 entspricht einer Gefahrenstufe von 50% (= 6 µm/12 µm). Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21A betrug 1000 kΩ, der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21B betrug 100 kΩ.In the first example of the second embodiment, for example, both the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21A and the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21B were silver. The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21A was 3 µm. According to the definition of the danger level by the above expression (1), the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 21A corresponds to a danger level of 25% (=3 µm/12 µm). The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21B was 6 µm. The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 21B corresponds to a danger level of 50% (=6 μm/12 μm). The resistance value of the corrosion detection pattern 21A was 1000 kΩ, the resistance value of the corrosion detection pattern 21B was 100 kΩ.

In der zweiten Ausführungsform werden zwei Bezugswiderstände für den Vergleich mit dem kombinierten Widerstand X vorgesehen. Ein erster Bezugswiderstand REF1 wird auf der Grundlage des Widerstands (des kombinierten Widerstands X) zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 121 bestimmt, wenn die Korrosionserkennungsstruktur 21A mit einer dünnen Metall-Dünnschicht 8 unter den beiden Korrosionserkennungsstrukturen 21A und 21B korrosiv getrennt wird, während die Korrosionserkennungsstruktur 21B mit einer dicken Metall-Dünnschicht 8 nicht getrennt wird. Ein zweiter Bezugswiderstand REF2 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X der Sensorkörper 121 bestimmt, wenn beide Korrosionserkennungsstrukturen 21A und 21B korrosiv getrennt sind.In the second embodiment, two reference resistances for comparison with the combined resistance X are provided. A first reference resistance REF1 is determined based on the resistance (the combined resistance X) between the two ends of the sensor body 121 when the corrosion detection structure 21A is corrosively separated with a thin metal film 8 under the two corrosion detection structures 21A and 21B while the corrosion detection structure 21B with a thick metal thin film 8 is not separated. A second reference resistance REF2 is determined based on the combined resistance X of the sensor bodies 121 when both corrosion detection structures 21A and 21B are corrosively separated.

Genauer gesagt ist der erste Bezugswiderstand REF1 ein Wert, der durch Multiplikation des kombinierten Widerstands X vor der Korrosion (der anfängliche kombinierte Widerstand X0) mit einem ersten Koeffizienten K1 größer als 1 (REF1 = K1 × X0, K1 > 1) erhalten wird. Der zweite Bezugswiderstand REF2 ist ein Wert, der sich aus der Multiplikation des anfänglichen kombinierten Widerstands X0 mit einem zweiten Koeffizienten K2 größer als 1 ergibt (REF2 = K2 × X0, K2 > 1). Der zweite Koeffizient K2 ist größer als der erste Koeffizient K1 (K2 > K1). Daher ist der zweite Bezugswiderstand REF2 größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (REF2 > REF1).More specifically, the first reference resistance REF1 is a value obtained by multiplying the combined resistance X before corrosion (the initial combined resistance X0) by a first coefficient K1 greater than 1 (REF1=K1×X0, K1>1). The second reference resistance REF2 is a value resulting from multiplying the initial combined resistance X0 by a second coefficient K2 greater than 1 (REF2=K2×X0, K2>1). The second coefficient K2 is larger than the first coefficient K1 (K2>K1). Therefore, the second reference resistance REF2 is larger than the first reference resistance REF1 (REF2 > REF1).

Im ersten Beispiel der zweiten Ausführungsform beträgt der anfängliche kombinierte Widerstand X0: 91 kΩ. Der erste Bezugswiderstand REF1 wird auf 92 kΩ eingestellt, was 1,2 % mehr ist als der anfängliche kombinierte Widerstand X0. Der zweite Bezugswiderstand REF2 wird auf 101 kΩ eingestellt, das sind 11 % mehr als der anfängliche kombinierte Widerstand X0. Wenn in diesem Fall der kombinierte Widerstand X größer wird als der erste Bezugswiderstand REF1, bedeutet dies, dass eine Unterbrechung in der Korrosionserkennungsstruktur 21A aufgetreten ist, d. h. die Metall-Dünnschicht 8 mit einer Schichtdicke von 3 µm wurde korrosiv unterbrochen, was darauf hinweist, dass die Gefahrenstufe 25% erreicht hat. Wenn der kombinierte Widerstand X größer wird als der zweite Bezugswiderstand REF2, bedeutet dies, dass die in der Korrosionserkennungsstruktur 21B vorgesehene Metall-Dünnschicht 8 mit einer Schichtdicke von 6 µm korrosiv getrennt wurde, was anzeigt, dass die Gefahrenstufe 50% erreicht hat.In the first example of the second embodiment, the initial combined resistance is X0: 91 kΩ. The first reference resistance REF1 is set to 92 kΩ, which is 1.2% more than the initial combined resistance X0. The second reference resistance REF2 is set to 101 kΩ, which is 11% more than the initial combined resistance X0. In this case, when the combined resistance X becomes larger than the first reference resistance REF1, it means that a disconnection has occurred in the corrosion detection structure 21A, i. H. the metal thin film 8 with a film thickness of 3 µm was corrosively broken, indicating that the danger level has reached 25%. When the combined resistance X becomes larger than the second reference resistance REF2, it means that the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 21B with a film thickness of 6 µm has been corrosively separated, indicating that the danger level has reached 50%.

11 ist ein Flussdiagramm, das ein Korrosionserkennungsverfahren zum Erkennen von Korrosion an dem in 10 dargestellten Sensorkörper 121 zeigt. Wie gezeigt in 11 steuert die Steuerungseinheit 30 in S21 das Widerstandsmessgerät 20, um den Widerstand (kombinierter Widerstand X) zwischen beiden Enden des Sensorkörpers 121 zu messen. 11 is a flowchart showing a corrosion detection method for detecting corrosion at the in 10 illustrated sensor body 121 shows. As shown in 11 the control unit 30 controls the resistance meter 20 to measure the resistance (combined resistance X) between both ends of the sensor body 121 in S21.

In S22 vergleicht die Steuerungseinheit 30 den kombinierten Widerstand X mit dem ersten Bezugswiderstand REF1 (= 92 kΩ). Ist der kombinierte Widerstand X gleich oder kleiner als der erste Bezugswiderstand REF1 (NO in S22), überspringt die Steuerungseinheit 30 die nachfolgenden Schritte und kehrt zur Hauptroutine zurück. Ist dagegen der kombinierte Widerstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (JA in S22), fährt die Steuerungseinheit 30 mit dem Verfahren in S23 fort.In S22, the control unit 30 compares the combined resistance X with the first reference resistance REF1 (=92 kΩ). If the combined resistance X is equal to or less than the first reference resistance REF1 (NO in S22), the control unit 30 skips the subsequent steps and returns to the main routine. On the other hand, when the combined resistance X is larger than the first reference resistance REF1 (YES in S22), the control unit 30 proceeds to the process in S23.

In S23 vergleicht die Steuerungseinheit 30 den kombinierten Widerstand X mit dem zweiten Bezugswiderstand REF2 (= 101 kΩ). Wenn der kombinierte Widerstand X gleich oder kleiner als der zweite Bezugswiderstand REF2 ist (NEIN in S23), mit anderen Worten, wenn der kombinierte Widerstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1, aber gleich oder kleiner als der zweite Bezugswiderstand REF2 ist, fährt die Steuerungseinheit 30 mit dem Verfahren nach S25 fort. In S25 steuert die Steuerungseinheit 30 die Notifikationseinheit 40 an, um eine Gefahrenstufe D1 (= 25%) anzuzeigen. Wenn der kombinierte Widerstand X größer ist als der zweite Bezugswiderstand REF2 (JA in S23), geht die Steuerungseinheit 30 zu S24 über. In S24 steuert die Steuerungseinheit 30 die Notifikationseinheit 40, um eine Gefahrenstufe D2 anzuzeigen.In S23, the control unit 30 compares the combined resistance X with the second reference resistance REF2 (=101 kΩ). When the combined resistance X is equal to or less than the second reference resistance REF2 (NO in S23), in other words, when the combined resistance X is greater than the first reference resistance REF1 but equal to or less than the second reference resistance REF2, the control unit runs 30 continues with the process after S25. In S25, the control unit 30 controls the notification unit 40 to display a danger level D1 (=25%). When the combined resistance X is greater than the second reference resistance REF2 (YES in S23), the control unit 30 proceeds to S24. In S24, the control unit 30 controls the notification unit 40 to display a danger level D2.

Wenn die Notifikationseinheit 40 beispielsweise eine LED-Anzeige ist, die zwei LEDs beinhaltet, schaltet die Steuerungseinheit 30 beide LEDs aus, wenn die Gefahrenstufe gleich oder kleiner als D1 ist. Wenn die Gefahrenstufe größer als D1, aber gleich oder kleiner als D2 ist, schaltet die Steuerungseinheit 30 eine LED ein (oder blinkt) und schaltet die andere LED (S25) aus. Wenn die Gefahrenstufe größer als D2 ist, schaltet die Steuerungseinheit 30 beide LEDs ein (S24).For example, if the notification unit 40 is an LED display that includes two LEDs, the control unit 30 turns off both LEDs when the danger level is equal to or lower than D1. When the danger level is higher than D1 but equal to or lower than D2, the control unit 30 turns on (or blinks) one LED and turns off the other LED (S25). If the danger level is greater than D2, the control unit 30 turns on both LEDs (S24).

Wenn es sich bei der Notifikationseinheit 40 um einen LED-Indikator handelt, der eine LED enthält, deren Farbe schaltbar ist, kann die Steuerungseinheit 30 die LED so steuern, dass sie Licht in einer Farbe ausstrahlt, die der jeweiligen Gefahrenstufe entspricht. Beispielsweise kann die Steuerungseinheit 30 die LED ausschalten, wenn die Gefahrenstufe D1 oder weniger beträgt, und kann die LED so steuern, dass sie gelbes Licht ausstrahlt, wenn die Gefahrenstufe größer als D1, aber gleich oder kleiner als D2 ist, und rotes Licht ausstrahlt, wenn die Gefahrenstufe größer als D2 ist.If the notification unit 40 is an LED indicator that includes an LED whose color can be switched, the control unit 30 can control the LED so that it emits light in a color that corresponds to the respective danger level. For example, the control unit 30 can turn off the LED when the danger level is D1 or less, and can control the LED to emit yellow light when the danger level is greater than D1 but equal to or less than D2, and emit red light. if the danger level is greater than D2.

Wenn es sich bei der Notifikationseinheit 40 um eine Flüssigkristallanzeige handelt, kann die Steuerungseinheit 30 die Flüssigkristallanzeige außerdem so steuern, dass sie einen numerischen Wert (= 25 %) anzeigt, der D1 darstellt, wenn die Gefahrenstufe D1 erreicht, und einen numerischen Wert (= 50 %) anzeigt, der D2 darstellt, wenn die Gefahrenstufe D2 erreicht.In addition, when the notification unit 40 is a liquid crystal display, the control unit 30 can control the liquid crystal display to display a numeric value (=25%) representing D1 when the danger level reaches D1 and a numeric value (= 50%) representing D2 when the threat level reaches D2.

Erstes Beispiel der Ausführungsform 2First example of embodiment 2

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde ein Expositionstest mit dem Elektrogerät 900 (genauer gesagt, einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor ausgestattet ist, der den in 10 dargestellten Sensorkörper 121 enthält. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 91 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der Gesamtwiderstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 92 kΩ), und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21A (die Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm)verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 101 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21B (die Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 6 µm)verursacht wurde.In an environment with a temperature of 75°C containing sublimated sulfur, an exposure test was carried out on the electrical appliance 900 (more specifically, an inverter) equipped with a corrosion detection sensor that meets the in 10 sensor body 121 shown contains. The initial combined resistance X0 was 91 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the total resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 92 kΩ), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 21A (the silver thin film with a film thickness of 3 µm). became. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 101 kΩ). It was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection pattern 21B (the thin film of silver with a film thickness of 6 µm).

Zweites Beispiel der Ausführungsform 2Second example of embodiment 2

12 ist ein Bild, das eine weitere Beispielkonfiguration eines Sensorkörpers gemäß der zweiten Ausführungsform zeigt. 12 zeigt eine spezifische Konfiguration (das Material und die Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 und den Anfangswiderstand der Korrosionserkennungsstruktur) der Korrosionserkennungsstruktur gemäß einem zweiten Beispiel der zweiten Ausführungsform. Wie gezeigt in 12 ist die Konfiguration des Sensorkörpers 122 im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration des Sensorkörpers 121 (siehe 10). 12 14 is a diagram showing another example configuration of a sensor body according to the second embodiment. 12 12 shows a specific configuration (the material and film thickness of the metal thin film 8 and the initial resistance of the corrosion detection structure) of the corrosion detection structure according to a second example of the second embodiment. As shown in 12 the configuration of the sensor body 122 is substantially the same as the configuration of the sensor body 121 (see FIG 10 ).

Im zweiten Beispiel der zweiten Ausführungsform waren sowohl das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21C vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 als auch das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21D vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 Kupfer. Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21C vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 3 µm. Die Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 21D betrug 6 µm. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21C betrug 1000 kΩ, und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21D betrug 100 kΩ.In the second example of the second embodiment, both the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21C and the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21D were copper. The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21C was 3 µm. The film thickness of the metal thin film 8 in the corrosion detection pattern 21D was 6 µm. The resistance value of the corrosion detection pattern 21C was 1000 kΩ, and the resistance value of the corrosion detection pattern 21D was 100 kΩ.

In einer Umgebung von 40°C/95%RH/(3 ppm H₂S+10 ppm NO₂) wurde ein Expositionstest mit dem Elektrogerät 900 (einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich des Sensorkörpers 122 ausgestattet war. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 91 kΩ. 1,2 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der kombinierte Widerstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 92 kΩ) und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21C (eine Dünnschicht aus Kupfer mit einer Schichtdicke von 3 µm)verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 101 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21D (eine Dünnschicht aus Kupfer mit einer Schichtdicke von 6 µm) verursacht wurde.In an environment of 40°C/95%RH/(3ppm H ₂ S+10ppm NO ₂ ), an exposure test was performed on the electronic device 900 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including the sensor body 122 . The initial combined resistance X0 was 91 kΩ. 1.2 days after the start of the exposure test, the combined resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 92 kΩ), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 21C (a thin film of copper with a film thickness of 3 µm )was caused. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 101 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 21D (a thin film of copper with a film thickness of 6 µm).

Drittes Beispiel der Ausführungsform 2Third example of embodiment 2

13 ist ein Bild, das ein weiteres Konfigurationsbeispiel eines Sensorkörpers gemäß der zweiten Ausführungsform zeigt. 13 zeigt eine spezifische Konfiguration der Korrosionserkennungsstruktur gemäß einem dritten Beispiel der zweiten Ausführungsform. Wie gezeigt in 13 beinhaltet der Sensorkörper 131 drei parallel geschaltete Korrosionserkennungsstrukturen 21E bis 21G. Die Konfiguration jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 21E bis 21G ist im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration der in den 3 und 4 dargestellten Korrosionserkennungsstruktur 21. 13 14 is a diagram showing another configuration example of a sensor body according to the second embodiment. 13 12 shows a specific configuration of the corrosion detection structure according to a third example of the second embodiment. As shown in 13 For example, the sensor body 131 includes three corrosion detection structures 21E to 21G connected in parallel. The configuration of each of the corrosion detection structures 21E to 21G is basically the same as the configuration of those in FIGS 3 and 4 shown corrosion detection structure 21.

Das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21E vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8, das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21F vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 und das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21G vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 sind das gleiche. Dagegen sind die Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 21E, die Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 21F und die Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 21G voneinander verschieden. Die in der Korrosionserkennungsstruktur 21E vorgesehene Metall-Dünnschicht 8 ist die dünnste, die in der Korrosionserkennungsstruktur 21F vorgesehene Metall-Dünnschicht 8 ist die zweitdünnste, und die in der Korrosionserkennungsstruktur 21G vorgesehene Metall-Dünnschicht 8 ist die dickste. Vorzugsweise ist der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21E am größten, der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21F am zweitgrößten und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21G am kleinsten.The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21E, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21F, and the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21G are the same. On the other hand, the film thickness of the metal thin film 8 in the corrosion detection pattern 21E, the film thickness of the metal thin film 8 in the corrosion detection pattern 21F, and the film thickness of the metal thin film 8 in the corrosion detection pattern 21G are different from each other. The metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21E is the thinnest, the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21F is the second thinnest, and the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21G is the thickest. Preferably, the resistance value of the corrosion detection pattern 21E is the largest, the resistance value of the corrosion detection pattern 21F is second largest, and the resistance value of the corrosion detection pattern 21G is the smallest.

Im dritten Beispiel der zweiten Ausführungsform waren das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21E vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8, das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21F vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 und das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21G vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 alle Silber. Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21E vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 3 µm. Diese Schichtdicke entspricht einer Gefahrenstufe von 25% (= 3 µm/ 12 µm). Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21F vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 6 µm. Diese Schichtdicke entspricht einer Gefahrenstufe von 50 % (= 6 µm/12 µm). Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21G vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 9 µm. Diese Schichtdicke entspricht einer Gefahrenstufe von 75 % (= 9 µm/12 µm). Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21E betrug 1000 kΩ, der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21F betrug 100 kΩ, und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21G betrug 10 kΩ.In the third example of the second embodiment, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21E, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21F, and the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21G were all silver. The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21E was 3 µm. This layer thickness corresponds to a danger level of 25% (= 3 µm/ 12 µm). The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21F was 6 µm. This layer thickness corresponds to a danger level of 50% (= 6 µm/12 µm). The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21G was 9 µm. This layer thickness corresponds to a danger level of 75% (= 9 µm/12 µm). The resistance value of the corrosion detection pattern 21E was 1000 kΩ, the resistance value of the corrosion detection pattern 21F was 100 kΩ, and the resistance value of the corrosion detection pattern 21G was 10 kΩ.

In der in 13 dargestellten Konfiguration werden drei Bezugswiderstände (ein erster Bezugswiderstand REF1 bis ein dritter Bezugswiderstand REF3) zum Vergleich mit dem kombinierten Widerstand X vorgesehen. Der erste Bezugswiderstand REF1 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 131 bestimmt, wenn die Korrosionserkennungsstruktur 21E mit der dünnsten Metall-Dünnschicht 8 unter den drei Korrosionserkennungsstrukturen 21E bis 21G korrosiv getrennt wird, während die beiden anderen Korrosionserkennungsstrukturen 21F und 21G nicht getrennt werden. Der zweite Bezugswiderstand REF2 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 131 bestimmt, wenn die Korrosionserkennungsstrukturen 21E und 21F korrosiv getrennt sind, während die Korrosionserkennungsstruktur 21G mit der dicksten Metall-Dünnschicht 8 nicht getrennt ist. Der dritte Bezugswiderstand REF3 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X des Sensorkörpers 131 bestimmt, wenn die drei Korrosionserkennungsstrukturen 21E bis 21G alle korrosiv getrennt sind.in the in 13 In the configuration shown, three reference resistances (a first reference resistance REF1 to a third reference resistance REF3) are provided for comparison with the combined resistance X. The first reference resistance REF1 is determined based on the combined resistance X between the two ends of the sensor body 131 when the corrosion detection structure 21E having the thinnest metal thin film 8 among the three corrosion detection structures 21E to 21G is corrosively separated while the other two corrosion detection structures 21F and 21F 21G cannot be separated. The second reference resistance REF2 is based on the combined resistance X between the both ends of the sensor body 131 when the corrosion detection patterns 21E and 21F are corrosively separated, while the corrosion detection pattern 21G having the thickest metal thin film 8 is not separated. The third reference resistance REF3 is determined based on the combined resistance X of the sensor body 131 when the three corrosion detection structures 21E to 21G are all corrosively separated.

Genauer gesagt ist der erste Bezugswiderstand REF1 ein Wert, der durch Multiplikation des kombinierten Widerstands X vor der Korrosion (der anfängliche kombinierte Widerstand X0) mit einem ersten Koeffizienten K1 größer als 1 (REF1 = K1 × X0, K1 > 1) erhalten wird. Der zweite Bezugswiderstand REF2 ist ein Wert, der sich durch Multiplikation des anfänglichen kombinierten Widerstands X0 mit einem zweiten Koeffizienten K2 größer als 1 ergibt (REF2 = K2 × X0, K2 > 1). Der dritte Bezugswiderstand REF3 ist ein Wert, den man durch Multiplikation des kombinierten Anfangswiderstands X0 mit einem dritten Koeffizienten K3 größer als 1 erhält (REF3 = K3 × X0, K3 > 1). Der dritte Koeffizient K3, der zweite Koeffizient K2 und der erste Koeffizient K1 nehmen in dieser Reihenfolge zu (K3 > K2 > K1). Daher steigen der dritte Bezugswiderstand REF3, der zweite Bezugswiderstand REF2 und der erste Bezugswiderstand REF1 in dieser Reihenfolge an (REF3 > REF2 > REF1).More specifically, the first reference resistance REF1 is a value obtained by multiplying the combined resistance X before corrosion (the initial combined resistance X0) by a first coefficient K1 greater than 1 (REF1=K1×X0, K1>1). The second reference resistance REF2 is a value obtained by multiplying the initial combined resistance X0 by a second coefficient K2 greater than 1 (REF2=K2×X0, K2>1). The third reference resistance REF3 is a value obtained by multiplying the combined initial resistance X0 by a third coefficient K3 greater than 1 (REF3=K3×X0, K3>1). The third coefficient K3, the second coefficient K2, and the first coefficient K1 increase in this order (K3>K2>K1). Therefore, the third reference resistance REF3, the second reference resistance REF2, and the first reference resistance REF1 increase in this order (REF3 > REF2 > REF1).

Im dritten Beispiel der zweiten Ausführungsform beträgt der anfängliche kombinierte Widerstand X0: 9,01 kΩ. Der erste Bezugswiderstand REF1 wurde auf 9,02 kΩ eingestellt, was 0,1 % mehr ist als der anfängliche kombinierte Widerstand X0. Der zweite Bezugswiderstand REF2 wurde auf 9,10 kΩ eingestellt, was 1 % größer ist als der anfängliche kombinierte Widerstand X0. Der dritte Bezugswiderstand REF3 wurde auf 10,1 kΩ eingestellt, das sind 12 % mehr als der anfängliche kombinierte Widerstand X0. Wenn in diesem Fall der kombinierte Widerstand X größer wird als der erste Bezugswiderstand REF1, bedeutet dies, dass die in der Korrosionserkennungsstruktur 21E vorgesehene Metall-Dünnschicht 8 mit einer Schichtdicke von 3 µm korrosiv getrennt wurde, was darauf hinweist, dass die Gefahrenstufe 25 % erreicht hat. Wird der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2, so bedeutet dies, dass die in der Korrosionserkennungsstruktur 21F vorgesehene Metall-Dünnschicht 8 mit einer Schichtdicke von 6 µm weiter korrosiv getrennt wurde, was anzeigt, dass die Gefahrenstufe 50 % erreicht hat. Wenn der kombinierte Widerstand X größer wird als der dritte Bezugswiderstand REF3, bedeutet dies, dass die in der Korrosionserkennungsstruktur 21G vorgesehene Metall-Dünnschicht 8 mit einer Schichtdicke von 9 µm weiter korrosiv getrennt wurde, was anzeigt, dass die Gefahrenstufe 75% erreicht hat.In the third example of the second embodiment, the initial combined resistance is X0: 9.01 kΩ. The first reference resistance REF1 was set to 9.02 kΩ, which is 0.1% more than the initial combined resistance X0. The second reference resistance REF2 was set to 9.10 kΩ, which is 1% larger than the initial combined resistance X0. The third reference resistance REF3 was set to 10.1 kΩ, which is 12% more than the initial combined resistance X0. In this case, if the combined resistance X becomes larger than the first reference resistance REF1, it means that the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 21E with a film thickness of 3 µm has been corrosively separated, indicating that the danger level reaches 25% Has. If the combined resistance X becomes larger than the second reference resistance REF2, it means that the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 21F with a film thickness of 6 µm has been further corrosively separated, indicating that the danger level has reached 50%. When the combined resistance X becomes larger than the third reference resistance REF3, it means that the metal thin film 8 with a film thickness of 9 µm provided in the corrosion detection structure 21G has been further corrosively separated, indicating that the danger level has reached 75%.

14 ist ein Flussdiagramm, das ein Korrosionserkennungsverfahren zum Erkennen von Korrosion an dem in 13 dargestellten Sensorkörper 131 zeigt. Wie gezeigt in 14 steuert die Steuerungseinheit 30 in S31 das Widerstandsmessgerät 20, um den Widerstand (kombinierter Widerstand X) zwischen beiden Enden des Sensorkörpers 131 zu messen. 14 is a flowchart showing a corrosion detection method for detecting corrosion at the in 13 illustrated sensor body 131 shows. As shown in 14 the control unit 30 controls the resistance meter 20 to measure the resistance (combined resistance X) between both ends of the sensor body 131 in S31.

In S32 vergleicht die Steuerungseinheit 30 den kombinierten Widerstand X mit dem ersten Bezugswiderstand REF1 (= 9,02 kΩ). Ist der kombinierte Widerstand X gleich oder kleiner als der erste Bezugswiderstand REF1 (NO in S32), überspringt die Steuerungseinheit 30 die nachfolgenden Schritte und kehrt zur Hauptroutine zurück. Ist dagegen der kombinierte Widerstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (JA in S32), fährt die Steuerungseinheit 30 mit dem Verfahren in S33 fort.In S32, the control unit 30 compares the combined resistance X with the first reference resistance REF1 (=9.02 kΩ). If the combined resistance X is equal to or less than the first reference resistance REF1 (NO in S32), the control unit 30 skips the subsequent steps and returns to the main routine. On the other hand, when the combined resistance X is larger than the first reference resistance REF1 (YES in S32), the control unit 30 proceeds to the process in S33.

In S33 vergleicht die Steuerungseinheit 30 den kombinierten Widerstand X mit dem zweiten Bezugswiderstand REF2 (= 9,10 kΩ). Wenn der kombinierte Widerstand X gleich oder kleiner als der zweite Bezugswiderstand REF2 ist (NEIN in S33), mit anderen Worten, wenn der kombinierte Widerstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1, aber gleich oder kleiner als der zweite Bezugswiderstand REF2 ist, fährt die Steuerungseinheit 30 mit dem Verfahren nach S37 fort. Wenn andererseits der kombinierte Widerstand X größer ist als der zweite Bezugswiderstand REF2 (JA in S33), fährt die Steuerungseinheit 30 mit dem Verfahren nach S34 fort.In S33, the control unit 30 compares the combined resistance X with the second reference resistance REF2 (=9.10 kΩ). When the combined resistance X is equal to or less than the second reference resistance REF2 (NO in S33), in other words, when the combined resistance X is greater than the first reference resistance REF1 but equal to or less than the second reference resistance REF2, the control unit runs 30 proceeds to the process after S37. On the other hand, when the combined resistance X is larger than the second reference resistance REF2 (YES in S33), the control unit 30 proceeds to the process after S34.

In S34 vergleicht die Steuerungseinheit 30 den kombinierten Widerstand X mit dem dritten Bezugswiderstand REF3 (= 10,1 kΩ). Wenn der kombinierte Widerstand X gleich oder kleiner als der dritte Bezugswiderstand REF2 ist (NEIN in S34), mit anderen Worten, wenn der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2, aber gleich oder kleiner als der dritte Bezugswiderstand REF3 ist, fährt die Steuerungseinheit 30 mit dem Verfahren in S36 fort. Wenn andererseits der kombinierte Widerstand X größer ist als der dritte Bezugswiderstand REF3 (JA in S34), fährt die Steuerungseinheit 30 mit dem Verfahren in S35 fort.In S34, the control unit 30 compares the combined resistance X with the third reference resistance REF3 (=10.1 kΩ). When the combined resistance X is equal to or less than the third reference resistance REF2 (NO in S34), in other words, when the combined resistance X is greater than the second reference resistance REF2 but equal to or less than the third reference resistance REF3, the control unit runs 30 proceeds to the process in S36. On the other hand, when the combined resistance X is larger than the third reference resistance REF3 (YES in S34), the control unit 30 proceeds to the process in S35.

In S37 steuert die Steuerungseinheit 30 die Notifikationseinheit 40, um den Benutzer über die Gefahrenstufe D1 (= 25%) zu informieren. In S36 steuert die Steuerungseinheit 30 die Notifikationseinheit 40 an, um den Benutzer über die Gefahrenstufe D2 (= 50%) zu informieren. In S35 steuert die Steuerungseinheit 30 die Notifikationseinheit 40 an, um den Benutzer über die Gefahrenstufe D3 (= 75%) zu informieren.In S37, the control unit 30 controls the notification unit 40 to inform the user of the danger level D1 (=25%). In S36 the control unit 30 controls the notification unit 40 in order to inform the user about the danger level D2 (=50%). In S35 the control unit 30 controls the notification unit 40 in order to inform the user about the danger level D3 (=75%).

Der Benachrichtigungsmodus für jede der Gefahrenstufen D1 bis D3 an den Benutzer ist derselbe wie der in 11 beschriebene Benachrichtigungsmodus. Insbesondere, wenn die Notifikationseinheit 40 eine LED-Anzeige ist, die drei LEDs beinhaltet, schaltet die Steuerungseinheit 30 alle drei LEDs aus, wenn die Gefahrenstufe gleich oder kleiner als D1 ist. Wenn die Gefahrenstufe größer als D1, aber gleich oder kleiner als D2 ist, schaltet die Steuerungseinheit 30 eine LED ein und die beiden anderen LEDs aus. Wenn die Gefahrenstufe größer als D2, aber gleich oder kleiner als D3 ist, schaltet die Steuerungseinheit 30 zwei LEDs ein und eine LED aus. Wenn die Gefahrenstufe größer als D3 ist, schaltet die Steuerungseinheit 30 alle drei LEDs ein.The notification mode for each of the danger levels D1 to D3 to the user is the same as in 11 described notification mode. Specifically, when the notification unit 40 is an LED display including three LEDs, the control unit 30 turns off all three LEDs when the danger level is equal to or lower than D1. If the danger level is greater than D1 but equal to or less than D2, the control unit 30 turns on one LED and turns off the other two LEDs. If the danger level is greater than D2 but equal to or less than D3, the control unit 30 turns two LEDs on and one LED off. If the danger level is greater than D3, the control unit 30 turns on all three LEDs.

Wenn die Notifikationseinheit 40 ein LED-Indikator ist, der eine LED enthält, deren Leuchtfarbe umschaltbar ist, kann die Steuerungseinheit 30 die LED so steuern, dass sie Licht in einer Farbe ausstrahlt, die der j eweiligen Gefahrenstufe entspricht. Beispielsweise kann die Steuerungseinheit 30 die LED ausschalten, wenn die Gefahrenstufe D1 oder weniger beträgt, und kann die LED so steuern, dass sie grünes Licht ausstrahlt, wenn die Gefahrenstufe größer als D1 und D2 oder weniger ist, gelbes Licht ausstrahlt, wenn die Gefahrenstufe größer als D2 und D3 oder weniger ist, und rotes Licht ausstrahlt, wenn die Gefahrenstufe größer als D3 ist.If the notification unit 40 is an LED indicator that includes an LED whose luminous color can be switched, the control unit 30 can control the LED so that it emits light in a color that corresponds to the respective danger level. For example, the controller 30 can turn off the LED when the threat level is D1 or less, and control the LED to emit green light when the threat level is greater than D1 and D2 or less, emit yellow light when the threat level is greater than D2 and D3 or less, and emits red light when the danger level is greater than D3.

Wenn die Notifikationseinheit 40 eine Flüssigkristallanzeige ist, kann die Steuerungseinheit 30 die Flüssigkristallanzeige außerdem so steuern, dass sie einen numerischen Wert (= 25%) anzeigt, der D1 darstellt, wenn die Gefahrenstufe D1 erreicht, einen numerischen Wert (= 50%), der D2 darstellt, wenn die Gefahrenstufe D2 erreicht, und einen numerischen Wert (= 75%), der D3 darstellt, wenn die Gefahrenstufe D3 erreicht.In addition, when the notification unit 40 is a liquid crystal display, the control unit 30 can control the liquid crystal display to display a numerical value (=25%) representing D1 when the danger level reaches D1, a numerical value (=50%) representing D2 represents when the security level reaches D2 and a numerical value (=75%) representing D3 when the security level reaches D3.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde ein Expositionstest mit dem Elektrogerät 900 (einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor ausgestattet ist, der einen in 13 dargestellten Sensorkörper 131 enthält. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 9,01 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der kombinierte Widerstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 9,02 kS2), und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21E verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 9,10 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21F verursacht wurde. Als der Expositionstest weiter fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der dritte Bezugswiderstand REF3 (= 10,1 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg auf die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21G zurückzuführen ist.In an environment with a temperature of 75°C containing sublimated sulfur, an exposure test was carried out with the electrical equipment 900 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor using an in 13 sensor body 131 shown contains. The initial combined resistance X0 was 9.01 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the combined resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (=9.02 kS2), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 21E. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 9.10 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 21F. As the exposure test was further continued, the combined resistance X became larger than the third reference resistance REF3 (= 10.1 kΩ). It was confirmed that the resistance increase is due to the corrosive separation of the corrosion detection structure 21G.

Viertes Beispiel der Ausführungsform 2Fourth example of embodiment 2

15 ist ein Bild, das ein weiteres Konfigurationsbeispiel eines Sensorkörpers gemäß der zweiten Ausführungsform zeigt. 15 zeigt eine spezifische Konfiguration der Korrosionserkennungsstrukturen 21H bis 21J, die in einem Sensorkörper 132 gemäß dem vierten Beispiel der zweiten Ausführungsform vorgesehen sind. Die Konfiguration des Sensorkörpers 132 ist im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration des Sensorkörpers 131 (siehe 13). 15 14 is a diagram showing another configuration example of a sensor body according to the second embodiment. 15 13 shows a specific configuration of the corrosion detection structures 21H to 21J provided in a sensor body 132 according to the fourth example of the second embodiment. The configuration of the sensor body 132 is basically the same as the configuration of the sensor body 131 (see FIG 13 ).

Das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21H vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8, das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 211 vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 und das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21J vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 waren alle Kupfer. Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21H vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 3 µm. Die in der Korrosionserkennungsstruktur 211 vorgesehene Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 betrug 6 µm. Die in der Korrosionserkennungsstruktur 21J vorgesehene Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 betrug 9 µm. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21H betrug 1000 kΩ, der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 211 betrug 100 kΩ, und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21J betrug 10 kΩ.The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21H, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 211, and the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21J were all copper. The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21H was 3 µm. The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 211 was 6 μm. The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 21J was 9 µm. The resistance value of the corrosion detection pattern 21H was 1000 kΩ, the resistance value of the corrosion detection pattern 211 was 100 kΩ, and the resistance value of the corrosion detection pattern 21J was 10 kΩ.

In einer Umgebung von 40°C/95%RH/(3 ppm H₂S+10 ppm NO₂) wurde mit dem Elektrogerät 900 (einem Wechselrichter), das mit einem Korrosionserkennungssensor mit Sensorkörper 132 ausgestattet ist, ein Expositionstest durchgeführt. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 9,01 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der Gesamtwiderstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 9,02 kS2), und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21H (eine Dünnschicht aus Kupfer mit einer Schichtdicke von 3 µm)verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 9,10 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 211 (eine Dünnschicht aus Kupfer mit einer Schichtdicke von 6 µm)verursacht wurde. Daraufhin wurde der Gesamtwiderstand X größer als der dritte Bezugswiderstand REF3 (=10,1 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21J (eine Dünnschicht aus Kupfer mit einer Schichtdicke von 9 µm)verursacht wurde.In an environment of 40°C/95%RH/(3ppm H ₂ S+10ppm NO ₂ ), the electrical equipment 900 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor having a sensor body 132 was subjected to an exposure test. The initial combined resistance X0 was 9.01 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the total resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 9.02 kS2), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 21H (a thin film of copper with a film thickness of 3 µm )was caused. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 9.10 kΩ). It was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 211 (a thin film of copper with a film thickness of 6 µm). As a result, the total resistance X became larger than the third reference resistance REF3 (=10.1 kΩ). It was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 21J (a thin film made of copper with a film thickness of 9 µm).

Wie oben beschrieben, kann gemäß der zweiten Ausführungsform der Grad des Fortschreitens der durch das korrosive Gas verursachten Korrosion an dem Elektrogerät mit einer einfachen Konfiguration wie bei der ersten Ausführungsform bestimmt werden. In der zweiten Ausführungsform werden eine Vielzahl von Korrosionserkennungsstrukturen parallelgeschaltet und eine Vielzahl von Gefahrenstufen festgelegt. So kann dem Benutzer der Grad des Fortschreitens der Korrosion schrittweise näher angezeigt werden.As described above, according to the second embodiment, the degree of progress of the corrosion on the electronic equipment caused by the corrosive gas can be determined with a simple configuration as in the first embodiment. In the second embodiment, a large number of corrosion detection structures are connected in parallel and a large number of danger levels are set. In this way, the degree of corrosion progression can be gradually displayed to the user.

In den 10, 12, 13 und 15 ist beschrieben, dass zwei oder drei Korrosionserkennungsstrukturen parallelgeschaltet sind, wobei es auch möglich ist, vier oder mehr Korrosionserkennungsstrukturen zu verwenden. Wenn eine Anzahl von N (N ist eine ganze Zahl von 2 oder mehr) Korrosionserkennungsstrukturen verwendet wird, werden N Parallelschaltungen gebildet. Mit zunehmender Anzahl von N wird die Konfiguration des Korrosionserkennungssensors komplizierter, was es ermöglicht, dem Benutzer den Grad des Fortschreitens (die Gefahrenstufe) der Korrosion detaillierter mitzuteilen.In the 10 , 12 , 13 and 15 describes that two or three corrosion detection structures are connected in parallel, it is also possible to use four or more corrosion detection structures. When N (N is an integer of 2 or more) number of corrosion detection structures are used, N parallel circuits are formed. As the number of N increases, the configuration of the corrosion detection sensor becomes more complicated, making it possible to tell the user the degree of progress (the danger level) of corrosion in more detail.

Ausführungsform 3Embodiment 3

Das Elektrogerät 900 kann in einer Vielzahl von Umgebungen installiert werden und einer Vielzahl von korrosiven Gasen ausgesetzt sein. In der dritten Ausführungsform wird eine Konfiguration beschrieben, die in der Lage ist, Korrosion zu erkennen, die durch eine Vielzahl von Arten korrosiver Gase verursacht wird.The electrical device 900 may be installed in a variety of environments and may be exposed to a variety of corrosive gases. In the third embodiment, a configuration capable of detecting corrosion caused by a variety of types of corrosive gases will be described.

16 ist ein Bild, das eine Beispielkonfiguration eines Sensorkörpers gemäß der dritten Ausführungsform zeigt. 16 zeigt eine spezifische Konfiguration von Korrosionserkennungsstrukturen 21K, 21L, die in einem Sensorkörper 14 gemäß einem ersten Beispiel der dritten Ausführungsform vorgesehen sind. 16 14 is a diagram showing an example configuration of a sensor body according to the third embodiment. 16 12 shows a specific configuration of corrosion detection structures 21K, 21L provided in a sensor body 14 according to a first example of the third embodiment.

Wie gezeigt in 16 beinhaltet der Sensorkörper 14 zwei Korrosionserkennungsstrukturen 21K und 21L, die in Reihe geschaltet sind, und drei Drähte 41 bis 43. Die Konfiguration jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 21K und 21L ist im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration der Korrosionserkennungsstruktur 21, die in den 3 und 4 dargestellt ist. Der Draht 41 und der Draht 42 sind voneinander beabstandet. Die Korrosionserkennungsstruktur 21K ist zwischen den Draht 41 und den Draht 42 geschaltet und wird auf den Drähten 41 und 42 mit dem dazwischenliegenden Lot angebracht. In gleicher Weise sind der Draht 42 und der Draht 43 voneinander beabstandet. Die Korrosionserkennungsstruktur 21L ist zwischen den Draht 42 und den Draht 43 geschaltet und ist auf den Drähten 42 und 43 mit dem dazwischenliegenden Lot angebracht.As shown in 16 , the sensor body 14 includes two corrosion detection structures 21K and 21L connected in series, and three wires 41 to 43. The configuration of each of the corrosion detection structures 21K and 21L is basically the same as the configuration of the corrosion detection structure 21 shown in FIGS 3 and 4 is shown. The wire 41 and the wire 42 are spaced from each other. The corrosion detection structure 21K is connected between the wire 41 and the wire 42 and is mounted on the wires 41 and 42 with the solder therebetween. Likewise, wire 42 and wire 43 are spaced from each other. The corrosion detection structure 21L is connected between the wire 42 and the wire 43 and is mounted on the wires 42 and 43 with the solder therebetween.

Das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 21K vorgesehen ist, unterscheidet sich von dem Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 21L vorgesehen ist. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist es wesentlich, dass die in Reihe geschalteten Korrosionserkennungsstrukturen 21K und 21L unterschiedliche Materialien aufweisen.The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21K is different from the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21L. In the present embodiment, it is essential that the series-connected corrosion detection structures 21K and 21L have different materials.

Die Empfindlichkeit der Metall-Dünnschicht 8 gegenüber einem korrosiven Gas hängt von ihrem Material ab. Insbesondere ist Silber, wie oben beschrieben, empfindlich gegenüber sublimiertem Schwefel, Chlorgas und dergleichen. Kupfer ist empfindlich gegenüber Schwefelwasserstoff, Schwefeldioxid, Stickstoffdioxid und dergleichen. Wenn sublimierter Schwefel oder ähnliches in einer Umgebung vorhanden ist, in der das Elektrogerät 900 installiert ist, ist die Korrosionsgeschwindigkeit von Silber schneller als die von Kupfer. Daher kann der Grad des Fortschreitens (die Gefahrenstufe) der durch sublimierten Schwefel o.ä. verursachten Korrosion am Elektrogerät 900 mit Hilfe einer Korrosionserkennungsstruktur, die eine Dünnschicht aus Silber enthält, bewertet werden. Andererseits, wenn Schwefelwasserstoff oder ähnliches in einer Umgebung vorhanden ist, in der das Elektrogerät 900 installiert ist, ist die Korrosionsrate von Kupfer schneller als die Korrosionsrate von Silber. Daher kann der Gefährdungsgrad der Korrosion des Elektrogerätes 900, die durch Schwefelwasserstoff oder ähnliches verursacht wird, durch Verwendung einer Korrosionserkennungsstruktur mit einer Dünnschicht aus Kupfer bewertet werden.The sensitivity of the metal thin film 8 to a corrosive gas depends on its material. In particular, as described above, silver is sensitive to sublimated sulfur, chlorine gas and the like. Copper is sensitive to hydrogen sulfide, sulfur dioxide, nitrogen dioxide, and the like. When sublimated sulfur or the like is present in an environment where the electrical equipment 900 is installed, the corrosion speed of silver is faster than that of copper. Therefore, the degree of progression (the level of danger) of the corrosion on the electronic equipment 900 caused by sublimated sulfur or the like can be evaluated using a corrosion detection structure including a silver thin film. On the other hand, when hydrogen sulfide or the like in an environment is present in which the electric appliance 900 is installed, the corrosion rate of copper is faster than the corrosion rate of silver. Therefore, the degree of danger of corrosion of the electronic equipment 900 caused by hydrogen sulfide or the like can be evaluated by using a copper thin film corrosion detection structure.

Im ersten Beispiel der dritten Ausführungsform ist die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21K vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 gleich der Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21L vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8. Diese Schichtdicken können jedoch voneinander verschieden sein. Die Schichtdicke jeder Metall-Dünnschicht 8 kann unter Berücksichtigung der Korrosionsrate jedes Materials, das durch unterschiedliche Arten oder Konzentrationen des korrosiven Gases korrodiert werden soll, der Gefahrenstufe, die dem Benutzer mitgeteilt werden soll, oder ähnlichem, angemessen festgelegt werden.In the first example of the third embodiment, the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21K is equal to the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21L. However, these film thicknesses may be different from each other. The film thickness of each metal thin film 8 can be appropriately determined considering the corrosion rate of each material to be corroded by different types or concentrations of the corrosive gas, the level of danger to be notified to the user, or the like.

Im ersten Beispiel der dritten Ausführungsform ist der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21K gleich dem Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21L. Solange der Korrosionserkennungssensor nach der vorliegenden Erfindung eine durch die korrosive Trennung verursachte Widerstandserhöhung erfassen kann, ist es nicht unbedingt erforderlich, dass die beiden Widerstandswerte gleich groß sind. Indem jedoch die beiden Widerstandswerte einander gleichgemacht werden, ist es möglich, die Spezifikationen (das Material, die Größe und dergleichen) des Widerstandes 9 zu standardisieren, was die Herstellung der Korrosionserkennungsstrukturen 21K und 21L erleichtert.In the first example of the third embodiment, the resistance value of the corrosion detection pattern 21K is equal to the resistance value of the corrosion detection pattern 21L. As long as the corrosion detection sensor of the present invention can detect an increase in resistance caused by the corrosive separation, it is not essential that the two resistance values are equal. However, by making the two resistance values equal to each other, it is possible to standardize the specifications (material, size, and the like) of the resistor 9, facilitating manufacture of the corrosion detection structures 21K and 21L.

Im ersten Beispiel der dritten Ausführungsform war das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21K vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 Silber und das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21L vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 war Kupfer. Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21K vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 3 µm, und die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 21L vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug ebenfalls 3 µm. Für den Fall, dass der maximale Reduktionsbetrag jeder Metall-Dünnschicht 12 µm beträgt, unabhängig davon, ob das Material der Metall-Dünnschicht 8 Silber oder Kupfer ist, entspricht diese Schichtdicke einer Gefährdungsstufe von 25 % (= 3 µm/12 µm). Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21K und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21L betrug 1000 kΩ.In the first example of the third embodiment, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21K was silver, and the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21L was copper. The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21K was 3 µm, and the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21L was also 3 µm. In the event that the maximum reduction amount of each metal thin film is 12 µm, regardless of whether the metal thin film material 8 is silver or copper, this film thickness corresponds to a hazard level of 25% (= 3 µm/12 µm). The resistance value of the corrosion detection pattern 21K and the resistance value of the corrosion detection pattern 21L were 1000 kΩ.

Auch in der vorliegenden Ausführungsform wird ein Bezugswiderstand REF zum Vergleich mit dem kombinierten Widerstand X erstellt. Der Bezugswiderstand REF wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen beiden Enden des Sensorkörpers 14 ermittelt, wenn mindestens eine der beiden Korrosionserkennungsstrukturen 21K und 21L korrosiv getrennt ist. Genauer gesagt ist der Bezugswiderstand REF ein Wert, der sich aus der Multiplikation des anfänglichen kombinierten Widerstands X0 vor der Korrosion mit einem Koeffizienten K größer als 1 ergibt (REF =K × X0, K > 1).Also in the present embodiment, a reference resistance REF for comparison with the combined resistance X is established. The reference resistance REF is determined based on the combined resistance X between both ends of the sensor body 14 when at least one of the two corrosion detection structures 21K and 21L is corrosively separated. More specifically, the reference resistance REF is a value obtained by multiplying the initial combined resistance X0 before corrosion by a coefficient K greater than 1 (REF=K×X0, K>1).

Das Korrosionserkennungsverfahren, das unter Verwendung eines Korrosionserkennungssensors mit dem in 16 dargestellten Sensorkörper 14 durchgeführt wird, ist dasselbe wie das in der ersten Ausführungsform beschriebene Verfahren (siehe das Flussdiagramm in 9), und seine Beschreibung wird nicht wiederholt.The corrosion detection method, which uses a corrosion detection sensor with the in 16 sensor body 14 shown is the same as the method described in the first embodiment (see the flowchart in 9 ), and its description will not be repeated.

Erstes Beispiel der Ausführungsform 3First example of embodiment 3

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde ein Expositionstest mit dem Elektrogerät 900 (einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor ausgestattet ist, der den in 16 dargestellten Sensorkörper 14 enthält. Der kombinierte Ausgangswiderstand X0 betrug 2000 kΩ. Der Bezugswiderstand REF wurde auf 2020 kΩ eingestellt, was 1 % mehr ist als der anfängliche Gesamtwiderstand X0. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der kombinierte Widerstand X größer als der Bezugswiderstand REF, und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21K (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm)verursacht wurde.In an environment with a temperature of 75°C containing sublimated sulfur, an exposure test was carried out using the electrical equipment 900 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor that meets the in 16 sensor body 14 shown contains. The combined output resistance X0 was 2000 kΩ. The reference resistance REF was set to 2020 kΩ, which is 1% more than the initial total resistance X0. 10 days after the start of the exposure test, the combined resistance X became larger than the reference resistance REF, and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 21K (a silver thin film with a film thickness of 3 µm).

Zweites Beispiel der Ausführungsform 3Second example of embodiment 3

17 ist ein Bild, das eine Beispielkonfiguration eines Sensorkörpers gemäß der dritten Ausführungsform zeigt. 17 zeigt eine spezifische Konfiguration von Korrosionserkennungsstrukturen, die in einem Sensorkörper 15 gemäß einem zweiten Beispiel der dritten Ausführungsform vorgesehen sind. 17 14 is a diagram showing an example configuration of a sensor body according to the third embodiment. 17 12 shows a specific configuration of corrosion detection structures provided in a sensor body 15 according to a second example of the third embodiment.

Wie gezeigt in 17 beinhaltet der Sensorkörper 15 vier Korrosionserkennungsstrukturen 21M bis 21P und drei Drähte 41 bis 43. Die Korrosionserkennungsstruktur 21M und die Korrosionserkennungsstruktur 21N sind durch den Draht 42 in Reihe geschaltet. Die Korrosionserkennungsstruktur 210 und die Korrosionserkennungsstruktur 21P sind durch den Draht 42 in Reihe geschaltet. Ferner sind die Korrosionserkennungsstrukturen 21M und 21N parallel zu den Korrosionserkennungsstrukturen 210 und 21P zwischen dem Draht 41 und dem Draht 43 angeschlossen. Der Aufbau jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 21M bis 21P entspricht im Wesentlichen dem Aufbau der in den 3 und 4 dargestellten Korrosionserkennungsstruktur 21.As shown in 17 For example, the sensor body 15 includes four corrosion detection structures 21M to 21P and three wires 41 to 43. The corrosion detection structure 21M and the corrosion detection structure 21N are connected in series by the wire 42. FIG. The corrosion detection structure 210 and the corrosion detection structure 21P are connected in series by the wire 42 . Further, the corrosion detection patterns 21M and 21N are connected in parallel with the corrosion detection patterns 210 and 21P between the wire 41 and the wire 43 . The structure of each of the corrosion detection structures 21M to 21P basically corresponds to the structure in FIGS 3 and 4 shown corrosion detection structure 21.

Das in der Korrosionserkennungsstruktur 21M vorgesehene Material der Metall-Dünnschicht 8 (entsprechend der „ersten Dünnschicht“ gemäß der vorliegenden Erfindung) unterscheidet sich von dem in der Korrosionserkennungsstruktur 21N vorgesehenen Material der Metall-Dünnschicht 8 (entsprechend der „zweiten Dünnschicht“ gemäß der vorliegenden Erfindung). Das Material der Metall-Dünnschicht 8 (entsprechend der „dritten Dünnschicht“ nach der vorliegenden Erfindung), die in der Korrosionserkennungsstruktur 210 vorgesehen ist, unterscheidet sich von dem Material der Metall-Dünnschicht 8 (entsprechend der „vierten Dünnschicht“ nach der vorliegenden Erfindung), die in der Korrosionserkennungsstruktur 21P vorgesehen ist. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21M ist gleich dem Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21N. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 210 ist gleich dem Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21P. Ferner ist der Widerstandswert jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 21M und 21N größer als der Widerstandswert jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 210 und 21P.The material of the metal thin film 8 (corresponding to the "first thin film" according to the present invention) provided in the corrosion detection structure 21M is different from the material of the metal thin film 8 (corresponding to the "second thin film" according to the present invention) provided in the corrosion detection structure 21N ). The material of the metal thin film 8 (corresponding to the “third thin film” in the present invention) provided in the corrosion detection structure 210 is different from the material of the metal thin film 8 (corresponding to the “fourth thin film” in the present invention) , which is provided in the corrosion detection structure 21P. The resistance value of the corrosion detection pattern 21M is equal to the resistance value of the corrosion detection pattern 21N. The resistance value of the corrosion detection pattern 210 is equal to the resistance value of the corrosion detection pattern 21P. Further, the resistance value of each of the corrosion detection patterns 21M and 21N is larger than the resistance value of each of the corrosion detection patterns 210 and 21P.

Im zweiten Beispiel der dritten Ausführungsform war das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in den Korrosionserkennungsstrukturen 21M und 210 vorgesehen ist, Silber, und das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in den Korrosionserkennungsstrukturen 21N und 21P vorgesehen ist, war Kupfer. Die Schichtdicke der in den Korrosionserkennungsstrukturen 21M und 21N vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 3 µm. Diese Schichtdicke entspricht einer Gefahrenstufe von 25% (= 3 µm/12 µm). Die Schichtdicke der in den Korrosionserkennungsstrukturen 210 und 21P vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 6 µm. Diese Schichtdicke entspricht einer Gefahrenstufe von 50 % (= 6 µm/ 12 µm). Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstrukturen 21M und 21N betrug jeweils 1000 kΩ, und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstrukturen 210 und 21P betrug jeweils 100 kΩ.In the second example of the third embodiment, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection patterns 21M and 210 was silver, and the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection patterns 21N and 21P was copper. The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection patterns 21M and 21N was 3 µm. This layer thickness corresponds to a danger level of 25% (= 3 µm/12 µm). The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection patterns 210 and 21P was 6 µm. This layer thickness corresponds to a danger level of 50% (= 6 µm/ 12 µm). The resistance values of the corrosion detection patterns 21M and 21N were each 1000 kΩ, and the resistance values of the corrosion detection patterns 210 and 21P were each 100 kΩ.

Zwei Bezugswiderstände (der erste Bezugswiderstand REF1 und der zweite Bezugswiderstand REF2) werden für den Vergleich mit dem kombinierten Widerstand X vorgesehen. Der erste Bezugswiderstand REF1 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen beiden Enden des Sensorkörpers 15 bestimmt, wenn mindestens eine der in Reihe geschalteten Korrosionserkennungsstrukturen 21M und 21N korrosiv getrennt ist. Der zweite Bezugswiderstand REF2 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 15 bestimmt, wenn mindestens eine der in Reihe geschalteten Korrosionserkennungsstrukturen 210 und 21P korrosiv getrennt ist. Das spezifische Einstellverfahren unter Verwendung eines Koeffizienten ist das gleiche wie das Einstellverfahren im ersten Beispiel (siehe 10) der zweiten Ausführungsform. Das Korrosionserkennungsverfahren, das unter Verwendung eines Korrosionserkennungssensors einschließlich des Sensorkörpers 15 durchgeführt wird, ist dasselbe wie das Verfahren, das durch das in 11 dargestellte Flussdiagramm dargestellt wird, und die Beschreibung davon wird nicht wiederholt.Two reference resistances (the first reference resistance REF1 and the second reference resistance REF2) are provided for comparison with the combined resistance X. The first reference resistance REF1 is determined based on the combined resistance X between both ends of the sensor body 15 when at least one of the series-connected corrosion detection structures 21M and 21N is corrosively disconnected. The second reference resistance REF2 is determined based on the combined resistance X between the two ends of the sensor body 15 when at least one of the series-connected corrosion detection structures 210 and 21P is corrosively disconnected. The specific adjustment method using a coefficient is the same as the adjustment method in the first example (see 10 ) of the second embodiment. The corrosion detection method performed using a corrosion detection sensor including the sensor body 15 is the same as the method described in FIG 11 shown flowchart is shown, and the description thereof will not be repeated.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde ein Expositionstest mit dem Elektrogerät 900 (einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor mit dem Sensorkörper 15 ausgestattet ist. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 182 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der kombinierte Widerstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (=184 kS2), und es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21M (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm)verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (=202 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg auf die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 210 (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 6 µm)zurückzuführen ist.In an environment with a temperature of 75° C. containing sublimated sulfur, an exposure test was performed on the electronic device 900 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor having the sensor body 15 . The initial combined resistance X0 was 182 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the combined resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (=184 kS2), and it was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 21M (a thin film of silver with a layer thickness of 3 µm) was caused. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (=202 kΩ). It was confirmed that the resistance increase is due to the corrosive separation of the corrosion detection structure 210 (a thin film of silver with a film thickness of 6 µm).

Drittes Beispiel der Ausführungsform 3Third example of embodiment 3

18 ist ein Bild, das ein weiteres Konfigurationsbeispiel eines Sensorkörpers gemäß der dritten Ausführungsform zeigt. 18 zeigt eine spezifische Konfiguration von Korrosionserkennungsstrukturen, die in einem Sensorkörper 16 gemäß einem dritten Beispiel der dritten Ausführungsform vorgesehen sind. 18 14 is a diagram showing another configuration example of a sensor body according to the third embodiment. 18 12 shows a specific configuration of corrosion detection structures provided in a sensor body 16 according to a third example of the third embodiment.

Wie gezeigt in 18 beinhaltet der Sensorkörper 16 sechs Korrosionserkennungsstrukturen 21Q bis 21V und drei Drähte 41 bis 43. Die Korrosionserkennungsstruktur 21Q und die Korrosionserkennungsstruktur 21R sind durch den Draht 42 in Reihe geschaltet. Ebenso sind die Korrosionserkennungsstruktur 21S und die Korrosionserkennungsstruktur 21T durch den Draht 42 in Reihe geschaltet, und die Korrosionserkennungsstruktur 21U und die Korrosionserkennungsstruktur 21V sind durch den Draht 42 in Reihe geschaltet. Ferner sind die Korrosionserkennungsstrukturen 21Q und 21R, die Korrosionserkennungsstrukturen 21S und 21T sowie die Korrosionserkennungsstrukturen 21U und 21V zwischen dem Draht 41 und dem Draht 43 parallel geschaltet. Die Konfiguration jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 21Q bis 21V ist im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration der in den 3 und 4 dargestellten Korrosionserkennungsstruktur 21.As shown in 18 For example, the sensor body 16 includes six corrosion detection patterns 21Q to 21V and three wires 41 to 43. The corrosion detection pattern 21Q and the corrosion detection pattern 21R are connected in series by the wire 42. FIG. Also, the corrosion detection pattern 21S and the corrosion detection pattern 21T are connected in series through the wire 42 , and the corrosion detection pattern 21U and the corrosion detection pattern 21V are connected in series through the wire 42 . Further, between the wire 41 and the wire 43, the corrosion detection patterns 21Q and 21R, the corrosion detection patterns 21S and 21T, and the corrosion detection patterns 21U and 21V are connected in parallel. The configuration of each of the corrosion detection structures 21Q to 21V is basically the same as the configuration of those in FIGS 3 and 4 shown corrosion detection structure 21.

Das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 21Q vorgesehen ist, unterscheidet sich von dem Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 21R vorgesehen ist. Das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21S vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 unterscheidet sich von dem Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21T vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8. Der Werkstoff der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 21U unterscheidet sich von dem Werkstoff der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 21V. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21Q ist gleich dem Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21R. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21S ist gleich dem Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21T. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21U ist gleich dem Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 21V. Der Widerstandswert jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 21Q und 21R ist größer als der Widerstandswert jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 21 S und 21T. Ferner ist der Widerstandswert von jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 21S und 21T größer als der Widerstandswert von jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 21U und 21V.The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21Q is different from the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21R. The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 21S differs from the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 21T. The material of the metal thin film 8 in the corrosion detection structure 21U differs from the material of the metal thin film 8 in the corrosion detection structure 21V. The resistance value of the corrosion detection pattern 21Q is equal to the resistance value of the corrosion detection pattern 21R. The resistance value of the corrosion detection pattern 21S is equal to the resistance value of the corrosion detection pattern 21T. The resistance value of the corrosion detection pattern 21U is equal to the resistance value of the corrosion detection pattern 21V. The resistance value of each of the corrosion detection patterns 21Q and 21R is larger than the resistance value of each of the corrosion detection patterns 21S and 21T. Further, the resistance value of each of the corrosion detection patterns 21S and 21T is larger than the resistance value of each of the corrosion detection patterns 21U and 21V.

Im dritten Beispiel der dritten Ausführungsform war das Material der in den Korrosionserkennungsstrukturen 21Q, 21S und 21U vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 Silber und das Material der in den Korrosionserkennungsstrukturen 21R, 21T und 21V vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 war Kupfer. Die Schichtdicke der in den Korrosionserkennungsstrukturen 21Q und 21R vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 3 µm. Diese Schichtdicke entspricht einer Gefahrenstufe von 25% (= 3 µm/12 µm). Die Schichtdicke der in den Korrosionserkennungsstrukturen 21S und 21T vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 6 µm. Diese Schichtdicke entspricht einer Gefahrenstufe von 50 % (= 6 µm/ 12 µm). Die Schichtdicke der in den Korrosionserkennungsstrukturen 21U und 21V vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 9 µm. Diese Schichtdicke entspricht einer Gefahrenstufe von 75 % (= 9 µm/12 µm). Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstrukturen 21Q und 21R betrug jeweils 1000 kΩ, der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstrukturen 21 S und 21T betrug jeweils 100 kΩ, und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstrukturen 21U und 21V betrug jeweils 10 kΩ.In the third example of the third embodiment, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection patterns 21Q, 21S, and 21U was silver, and the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection patterns 21R, 21T, and 21V was copper. The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection patterns 21Q and 21R was 3 µm. This layer thickness corresponds to a danger level of 25% (= 3 µm/12 µm). The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection patterns 21S and 21T was 6 µm. This layer thickness corresponds to a danger level of 50% (= 6 µm/ 12 µm). The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection patterns 21U and 21V was 9 µm. This layer thickness corresponds to a danger level of 75% (= 9 µm/12 µm). The resistance values of the corrosion detection patterns 21Q and 21R were each 1000 kΩ, the resistance values of the corrosion detection patterns 21S and 21T were each 100 kΩ, and the resistance values of the corrosion detection patterns 21U and 21V were each 10 kΩ.

Drei Bezugswiderstände (der erste Bezugswiderstand REF1 bis dritte Bezugswiderstand REF3) werden für den Vergleich mit dem kombinierten Widerstand X vorgesehen. Der erste Bezugswiderstand REF1 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen beiden Enden des Sensorkörpers 16 bestimmt, wenn mindestens eine der in Reihe geschalteten Korrosionserkennungsstrukturen 21Q und 21R korrosiv getrennt ist. Der zweite Bezugswiderstand REF2 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 16 ermittelt, wenn mindestens eine der in Reihe geschalteten Korrosionserkennungsstrukturen 21S und 21T korrosiv getrennt ist. Der dritte Bezugswiderstand REF3 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 16 bestimmt, wenn mindestens eine der in Reihe geschalteten Korrosionserkennungsstrukturen 21U und 21V korrosiv getrennt ist. Das spezifische Einstellverfahren unter Verwendung eines Koeffizienten ist das gleiche wie das Einstellverfahren in der dritten Ausführungsform (siehe 13) der zweiten Ausführungsform. Das Korrosionserkennungsverfahren, das unter Verwendung eines Korrosionserkennungssensors einschließlich des Sensorkörpers 16 durchgeführt wird, ist dasselbe wie das Verfahren, das durch das in 14 dargestellte Flussdiagramm dargestellt wird, und die Beschreibung davon wird nicht wiederholt.Three reference resistances (the first reference resistance REF1 to the third reference resistance REF3) are provided for comparison with the resistance X combined. The first reference resistance REF1 is determined based on the combined resistance X between both ends of the sensor body 16 when at least one of the series-connected corrosion detection structures 21Q and 21R is corrosively disconnected. The second reference resistance REF2 is determined based on the combined resistance X between the two ends of the sensor body 16 when at least one of the series-connected corrosion detection structures 21S and 21T is corrosively disconnected. The third reference resistance REF3 is determined based on the combined resistance X between both ends of the sensor body 16 when at least one of the series-connected corrosion detection structures 21U and 21V is corrosively disconnected. The specific adjustment method using a coefficient is the same as the adjustment method in the third embodiment (see 13 ) of the second embodiment. The corrosion detection method performed using a corrosion detection sensor including the sensor body 16 is the same as the method described in FIG 14 shown flowchart is shown, and the description thereof will not be repeated.

In einer Umgebung von 40°C/95%RH/(3 ppm H₂S+10 ppm NO₂) wurde mit dem Elektrogerät 900 (einem Wechselrichter), das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich des Sensorkörpers 16 ausgestattet ist, ein Expositionstest durchgeführt. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 18 kΩ. 1,2 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der Gesamtwiderstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (=18,1 kS2), und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21R (eine Dünnschicht aus Kupfer mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (=18,3 kS2), und es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21T (eine Dünnschicht aus Kupfer mit einer Schichtdicke von 6 µm) verursacht wurde. Danach wurde der kombinierte Widerstand X größer als der dritte Bezugswiderstand REF3 (= 20,2 kS2), und es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 21V (eine Dünnschicht aus Kupfer mit einer Schichtdicke von 9 µm) verursacht wurde.In an environment of 40°C/95%RH/(3ppm H ₂ S+10ppm NO ₂ ), the electrical equipment 900 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including the sensor body 16 was subjected to an exposure test. The initial combined resistance X0 was 18 kΩ. 1.2 days after the start of the exposure test, the total resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (=18.1 kS2), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 21R (a thin film of copper with a film thickness of 3 µm) was caused. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (=18.3 kS2), and it was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 21T (a thin film of copper with a layer thickness of 6 µm) was caused. Thereafter, the combined resistance X became larger than the third reference resistance REF3 (= 20.2 kS2), and it was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 21V (a thin film of copper with a film thickness of 9 µm). became.

Wie oben beschrieben, kann gemäß der dritten Ausführungsform der Grad des Fortschreitens der durch das korrosive Gas verursachten Korrosion an dem Elektrogerät mit einer einfachen Konfiguration wie in der ersten Ausführungsform und der zweiten Ausführungsform bestimmt werden. Ferner sind in der dritten Ausführungsform eine Vielzahl von im Material der Metall-Dünnschicht 8 voneinander verschiedenen Korrosionserkennungsstrukturen in Reihe geschaltet. Da die Korrosionseigenschaft (Korrosionsrate) je nach Kombination der Art des korrosiven Gases und der Art des Metalls unterschiedlich ist, ist es möglich, die durch eine Vielzahl von Arten von korrosivem Gas verursachte Korrosion am Elektrogerät 900 zu erkennen. Durch die Kombination der Serienschaltung und der Parallelschaltung der Korrosionserkennungsstrukturen ist es ferner möglich, dem Benutzer den Grad des Fortschreitens (die Gefahrenstufe) der Korrosion am Elektrogerät 900 detailliert anzuzeigen.As described above, according to the third embodiment, the degree of progress of corrosion on the electronic equipment caused by the corrosive gas can be determined with a simple configuration as in the first embodiment and the second embodiment. Further, in the third embodiment, a plurality of corrosion detection structures different from each other in material of the metal thin film 8 are connected in series. Since the corrosion property (corrosion rate) differs depending on the combination of the type of corrosive gas and the type of metal, it is possible to recognize the corrosion on the electronic equipment 900 caused by a variety of types of corrosive gas. Furthermore, by combining the series connection and the parallel connection of the corrosion detection structures, it is possible to display the degree of progress (the danger level) of the corrosion of the electronic device 900 in detail to the user.

Ausführungsform 4Embodiment 4

In den ersten bis dritten Ausführungsformen ist beschrieben, dass sowohl die Metall-Dünnschicht 8 als auch der Widerstand 9 innerhalb der Korrosionserkennungsstruktur vorgesehen sind. Wie im Folgenden beschrieben wird, ist die Gestaltung der Korrosionserkennungsstruktur jedoch nicht darauf beschränkt. Der Widerstand 9 kann auch außerhalb der Korrosionserkennungsstruktur vorgesehen sein.In the first to third embodiments, it is described that both the metal thin film 8 and the resistor 9 are provided inside the corrosion detection structure. However, as described below, the design of the corrosion detection structure is not limited to this. The resistor 9 can also be provided outside the corrosion detection structure.

19 ist eine Ansicht, die ein Elektrogerät zeigt, das mit einem Korrosionserkennungssensor gemäß einer vierten Ausführungsform ausgestattet ist. Wie gezeigt in 19 enthält ein Elektrogerät 904 einen Korrosionserkennungssensor 104. 19 14 is a view showing an electronic device equipped with a corrosion detection sensor according to a fourth embodiment. As shown in 19 An electrical device 904 contains a corrosion detection sensor 104.

Der Korrosionserkennungssensor 104 beinhaltet einen Sensorkörper 171. Der Sensorkörper 171 unterscheidet sich von dem Sensorkörper 11 (siehe 1) der ersten Ausführungsform dadurch, dass der Sensorkörper 171 eine Korrosionserkennungsstruktur 24 anstelle der Korrosionserkennungsstruktur 21 aufweist und ferner einen Festwiderstand 50 beinhaltet. Die anderen Konfigurationen des Sensorkörpers 171 sind die gleichen wie die entsprechenden Konfigurationen des Sensorkörpers 11, und die Beschreibung derselben wird nicht wiederholt. Als Konfiguration der Korrosionserkennungsstruktur 24 kann zum Beispiel die Konfiguration des ersten Beispiels der vierten Ausführungsform, die später beschrieben wird, übernommen werden.The corrosion detection sensor 104 includes a sensor body 171. The sensor body 171 is different from the sensor body 11 (see FIG 1 ) of the first embodiment in that the sensor body 171 has a corrosion detection structure 24 instead of the corrosion detection structure 21 and further includes a fixed resistor 50 . The other configurations of the sensor body 171 are the same as the corresponding configurations of the sensor body 11, and the description thereof will not be repeated. As the configuration of the corrosion detection structure 24, for example, the configuration of the first example of the fourth embodiment, which will be described later, can be adopted.

Der Festwiderstand 50 kann beispielsweise ein oberflächenmontierter Widerstand (Chip-Widerstandselement) oder ein Leitungsdrahtwiderstand sein. Der Festwiderstand 50 ist mit der Korrosionserkennungsstruktur 24 in Reihe geschaltet. Der Festwiderstand 50 ist resistent gegen korrosive Gase. Der Widerstandswert des Festwiderstandes 50 ist größer eingestellt als der Widerstandswert der Metall-Dünnschicht 8 (siehe und ). Der Festwiderstand 50 ist ein weiteres Beispiel für ein „Widerstandselement“ im Sinne der vorliegenden Erfindung.The fixed resistor 50 may be, for example, a surface mount resistor (chip resistor element) or a lead wire resistor. The fixed resistor 50 is connected in series with the corrosion detection structure 24 . The fixed resistor 50 is resistant to corrosive gases. The resistance value of the fixed resistor 50 is set larger than the resistance value of the metal thin film 8 (see FIG and ). The fixed resistor 50 is another example of a “resistive element” within the meaning of the present invention.

20 ist eine perspektivische Ansicht, die eine Beispielkonfiguration der Korrosionserkennungsstruktur 24 gemäß der vierten Ausführungsform zeigt. 21 ist eine Querschnittsansicht der Korrosionserkennungsstruktur 24 entlang der Linie XXI-XXI von 20. 20 14 is a perspective view showing an example configuration of the corrosion detection structure 24 according to the fourth embodiment. 21 FIG. 14 is a cross-sectional view of the corrosion detection structure 24 taken along line XXI-XXI of FIG 20 .

Wie gezeigt in 20 und 21 unterscheidet sich die Korrosionserkennungsstruktur 24 von den Korrosionserkennungsstrukturen 21 bis 23 (siehe 3, 5 und 7) der ersten Ausführungsform dadurch, dass die Korrosionserkennungsstruktur 24 den Widerstand 9 nicht enthält. In der Korrosionserkennungsstruktur 24 ist die Metall-Dünnschicht 8 auf dem Isoliersubstrat 6 angeordnet und elektrisch mit der ersten Elektrode 71 und der zweiten Elektrode 72 verbunden. Ähnlich wie bei der ersten Ausführungsform besteht die Metall-Dünnschicht 8 aus Metall (wie Silber oder Kupfer), das durch ein korrosives Gas korrodiert wird.As shown in 20 and 21 the corrosion detection structure 24 differs from the corrosion detection structures 21 to 23 (see 3 , 5 and 7 ) of the first embodiment in that the corrosion detection structure 24 does not include the resistor 9. In the corrosion detection structure 24, the metal thin film 8 is disposed on the insulating substrate 6 and electrically connected to the first th electrode 71 and the second electrode 72 connected. Similar to the first embodiment, the metal thin film 8 is made of metal (such as silver or copper) corroded by a corrosive gas.

Wie oben beschrieben, kann anstelle der Anordnung des Widerstands 9 innerhalb der Korrosionserkennungsstruktur 21 als Bestandteil der Korrosionserkennungsstruktur 21 ein Festwiderstand 50 außerhalb der Korrosionserkennungsstruktur 24 als eigenständiger Bestandteil angeordnet werden. Ähnlich wie bei der ersten Ausführungsform kann bei der vierten Ausführungsform der Grad des Fortschreitens der durch das korrosive Gas verursachten Korrosion an dem Elektrogerät 900 erfasst werden. Da das Detektionsverfahren dasselbe ist wie das Verfahren in der ersten Ausführungsform (siehe 9), wird dessen detaillierte Beschreibung nicht wiederholt.As described above, instead of arranging the resistor 9 inside the corrosion detection structure 21 as a part of the corrosion detection structure 21, a fixed resistor 50 may be arranged outside of the corrosion detection structure 24 as a separate part. Similar to the first embodiment, in the fourth embodiment, the degree of progress of corrosion on the electronic equipment 900 caused by the corrosive gas can be detected. Since the detection method is the same as the method in the first embodiment (see 9 ), its detailed description will not be repeated.

Erstes Beispiel der Ausführungsform 4First example of embodiment 4

Im ersten Beispiel der vierten Ausführungsform war das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 24 vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 Silber. Die Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 betrug 3 µm. Diese Schichtdicke entspricht einer Gefahrenstufe von 25 % (= 3 µm/12 µm). Der Widerstandswert des Festwiderstandes 50 betrug 1000 kΩ.In the first example of the fourth embodiment, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 24 was silver. The film thickness of the metal thin film 8 was 3 µm. This layer thickness corresponds to a danger level of 25% (= 3 µm/12 µm). The resistance of the fixed resistor 50 was 1000 kΩ.

Das Elektrogerät 904 (ein Wechselrichter), das mit dem Korrosionserkennungssensor 104 einschließlich des Sensorkörpers 171 ausgestattet ist, wurde einem Expositionstest in einer Umgebung mit sublimiertem Schwefel unterzogen. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 1000 kΩ. Nach 10 Tagen ab Beginn des Expositionstests wurde der kombinierte Widerstand X größer als der Bezugswiderstand REF (= 1010 kS2), und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 24 (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde.The electrical equipment 904 (an inverter) equipped with the corrosion detection sensor 104 including the sensor body 171 was subjected to an exposure test in a sublimated sulfur environment. The initial combined resistance X0 was 1000 kΩ. After 10 days from the start of the exposure test, the combined resistance X became larger than the reference resistance REF (= 1010 kS2), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 24 (a silver thin film with a film thickness of 3 µm) was caused.

Auch in der vierten Ausführungsform können, wie in der zweiten Ausführungsform und der dritten Ausführungsform beschrieben, zwei oder mehr Reihenschaltungen, die jeweils die Korrosionserkennungsstruktur 24 und den Festwiderstand 50 beinhalten, in geeigneter Weise in Reihe oder parallelgeschaltet werden. Die Konfiguration des Sensorkörpers in der vierten Ausführungsform ist im Wesentlichen die gleiche wie die in der zweiten Ausführungsform und der dritten Ausführungsform beschriebene Konfiguration des Sensorkörpers, außer dass der Festwiderstand 50 außerhalb der Korrosionserkennungsstruktur anstelle des Widerstands 9 vorgesehen ist. Nachfolgend wird die Wirksamkeit des Korrosionserkennungssensors im Wesentlichen anhand der in der zweiten Ausführungsform und der dritten Ausführungsform beschriebenen entsprechenden Konfiguration verifiziertAlso in the fourth embodiment, as described in the second embodiment and the third embodiment, two or more series circuits each including the corrosion detection structure 24 and the fixed resistor 50 can be suitably connected in series or in parallel. The configuration of the sensor body in the fourth embodiment is basically the same as the configuration of the sensor body described in the second embodiment and the third embodiment, except that the fixed resistor 50 is provided outside the corrosion detection structure instead of the resistor 9. In the following, the effectiveness of the corrosion detection sensor will be verified mainly based on the corresponding configuration described in the second embodiment and the third embodiment

Zweites Beispiel der Ausführungsform 4Second example of embodiment 4

22 ist ein Bild, das die Konfiguration eines Sensorkörpers gemäß einem zweiten Beispiel der vierten Ausführungsform zeigt. Wie gezeigt in 22 ist ein Sensorkörper 172 äquivalent zu dem in 10 dargestellten Sensorkörper 121 oder dem in 12 dargestellten Sensorkörper 122. 22 14 is a diagram showing the configuration of a sensor body according to a second example of the fourth embodiment. As shown in 22 is a sensor body 172 equivalent to that in FIG 10 sensor body 121 shown or in 12 illustrated sensor body 122.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde an dem Elektrogerät 904 (einem Wechselrichter), das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich des Sensorkörpers 172 ausgestattet ist, ein Expositionstest durchgeführt. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 91 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der kombinierte Widerstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 92 kS2), und es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 24A (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 101 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg auf die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 24B (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 6 µm) zurückzuführen ist.An exposure test was performed on the electrical equipment 904 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including the sensor body 172 in an environment with a temperature of 75°C containing sublimated sulfur. The initial combined resistance X0 was 91 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the combined resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 92 kS2), and it was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 24A (a thin film of silver with a layer thickness of 3 µm) was caused. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 101 kΩ). It was confirmed that the resistance increase is due to the corrosive separation of the corrosion detection structure 24B (a thin film of silver with a film thickness of 6 µm).

Drittes Beispiel der Ausführungsform 4Third example of embodiment 4

23 ist ein Bild, das die Konfiguration eines Sensorkörpers gemäß einem dritten Beispiel der vierten Ausführungsform zeigt. Wie gezeigt in 23 entspricht ein Sensorkörper 173 dem in 13 dargestellten Sensorkörper 131 oder dem in 15 dargestellten Sensorkörper 132. 23 14 is a diagram showing the configuration of a sensor body according to a third example of the fourth embodiment. As shown in 23 a sensor body 173 corresponds to that in 13 sensor body 131 shown or in 15 illustrated sensor body 132.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde an dem Elektrogerät 904 (einem Wechselrichter), das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich des Sensorkörpers 173 ausgestattet ist, ein Expositionstest durchgeführt. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 9,01 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der Gesamtwiderstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 9,02 kS2), und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 24C (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 9,10 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 24D (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 6 µm) verursacht wurde. Daraufhin wurde der Gesamtwiderstand X größer als der dritte Bezugswiderstand REF3 (=10,1 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 24E (Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 9 µm) verursacht wurde.An exposure test was performed on the electrical equipment 904 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including the sensor body 173 in an environment with a temperature of 75°C containing sublimated sulfur. The initial combined resistance X0 was 9.01 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the total resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 9.02 kS2), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 24C (a silver thin film with a film thickness of 3 µm ) was caused. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 9.10 kΩ). It was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 24D (a thin film of silver with a film thickness of 6 µm). As a result, the total resistance X became larger than the third reference resistance REF3 (=10.1 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 24E (thin film made of silver with a film thickness of 9 µm).

Viertes Beispiel der Ausführungsform 4Fourth example of embodiment 4

24 ist ein Bild, das die Konfiguration eines Sensorkörpers gemäß einem vierten Beispiel der vierten Ausführungsform zeigt. Wie gezeigt in 24 entspricht ein Sensorkörper 174 dem in 16 dargestellten Sensorkörper 14. 24 14 is a diagram showing the configuration of a sensor body according to a fourth example of the fourth embodiment. As shown in 24 a sensor body 174 corresponds to that in 16 illustrated sensor body 14.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde ein Expositionstest an dem Elektrogerät 904 (einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich des Sensorkörpers 174 ausgestattet ist. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 2000 kΩ. 10 Tage nach Beginn der Expositionsprüfung wurde der kombinierte Widerstand X größer als der Bezugswiderstand REF (= 2020 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg auf die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 24F (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm) zurückzuführen ist.An exposure test was performed on the electrical equipment 904 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including the sensor body 174 in an environment with a temperature of 75°C containing sublimated sulfur. The initial combined resistance X0 was 2000 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the combined resistance X became larger than the reference resistance REF (= 2020 kΩ). It was confirmed that the resistance increase is due to the corrosive separation of the corrosion detection structure 24F (a thin film of silver with a film thickness of 3 µm).

Fünftes Beispiel der Ausführungsform 4Fifth example of embodiment 4

25 ist ein Bild, das die Konfiguration eines Sensorkörpers gemäß einem fünften Beispiel der vierten Ausführungsform zeigt. Wie gezeigt in 25 entspricht ein Sensorkörper 175 dem in 17 dargestellten Sensorkörper 15. 25 14 is a diagram showing the configuration of a sensor body according to a fifth example of the fourth embodiment. As shown in 25 a sensor body 175 corresponds to that in 17 illustrated sensor body 15.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde an dem Elektrogerät 904 (einem Wechselrichter), das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich des Sensorkörpers 175 ausgestattet ist, ein Expositionstest durchgeführt. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 182 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der Gesamtwiderstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 184 kΩ) und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 24H (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 202 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg auf die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 24J (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 6 µm) zurückzuführen ist.An exposure test was performed on the electrical equipment 904 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including the sensor body 175 in an environment with a temperature of 75°C containing sublimated sulfur. The initial combined resistance X0 was 182 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the total resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 184 kΩ), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 24H (a silver thin film with a film thickness of 3 µm). . When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 202 kΩ). It was confirmed that the resistance increase is due to the corrosive separation of the corrosion detection structure 24J (a thin film of silver with a film thickness of 6 µm).

Sechstes Beispiel der Ausführungsform 4Sixth example of embodiment 4

26 ist ein Bild, das die Konfiguration eines Sensorkörpers gemäß einem sechsten Beispiel der vierten Ausführungsform zeigt. Wie gezeigt in 26 entspricht ein Sensorkörper 176 dem in 18 dargestellten Sensorkörper 16. 26 14 is a diagram showing the configuration of a sensor body according to a sixth example of the fourth embodiment. As shown in 26 a sensor body 176 corresponds to that in 18 illustrated sensor body 16.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde ein Expositionstest an dem Elektrogerät 904 (einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich des Sensorkörpers 176 ausgestattet ist. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 18,0 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der Gesamtwiderstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 18,1 kΩ) und es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 24L (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 18,3 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 24N (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 6 µm) verursacht wurde. An exposure test was performed on the electrical equipment 904 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including the sensor body 176 in an environment with a temperature of 75°C containing sublimated sulfur. The initial combined resistance X0 was 18.0 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the total resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 18.1 kΩ), and it was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 24L (a silver thin film with a film thickness of 3 µm) was caused. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 18.3 kΩ). It has been confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 24N (a thin film of silver with a film thickness of 6 µm).

Daraufhin wurde der Gesamtwiderstand X größer als der dritte Bezugswiderstand REF3 (= 20,2 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 24P (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 9 µm) verursacht wurde.As a result, the total resistance X became larger than the third reference resistance REF3 (=20.2 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 24P (a thin film made of silver with a film thickness of 9 µm).

In jedem Beispiel der vierten Ausführungsform wird beschrieben, dass das Elektrogerät 904 einer Umgebung ausgesetzt wird, die sublimierten Schwefel enthält, um die korrosive Trennung der Metall-Dünnschicht 8 aus Silber zu bestätigen. Wie in der zweiten Ausführungsform und der dritten Ausführungsform beschrieben, ist es jedoch möglich, die korrosive Trennung der Metall-Dünnschicht 8 aus Kupfer in einer Umgebung von z.B. 40°C/95%RH/(3 ppm H₂S+10 ppm NO₂) zu bestätigen.In each example of the fourth embodiment, it is described that the electronic device 904 is exposed to an environment containing sublimated sulfur to confirm the corrosive separation of the metal thin film 8 of silver. However, as described in the second embodiment and the third embodiment, it is possible to improve the corrosive separation of the metal thin film 8 made of copper in an environment of, for example, 40°C/95%RH/(3ppm H ₂ S+10ppm NO ₂ ) to confirm.

Wie oben beschrieben, kann gemäß der vierten Ausführungsform, obwohl der Festwiderstand 50 außerhalb der Korrosionserkennungsstruktur vorgesehen ist, der Grad des Fortschreitens der durch das korrosive Gas verursachten Korrosion an dem Elektrogerät 904 mit einer einfachen Konfiguration wie in der ersten Ausführungsform bestimmt werden. Durch Hintereinanderschalten einer Vielzahl von Korrosionserkennungsstrukturen ist es außerdem möglich, die durch eine Vielzahl von Arten korrosiver Gase verursachte Korrosion am Elektrogerät 904 festzustellen. Durch Parallelschaltung einer Vielzahl von Korrosionserkennungsstrukturen ist es ferner möglich, dem Benutzer den Grad des Fortschreitens (die Gefahrenstufe) der Korrosion am Elektrogerät 904 genauer anzuzeigen.As described above, according to the fourth embodiment, although the fixed resistor 50 is provided outside the corrosion detection structure, the degree of progress of corrosion on the electronic equipment 904 caused by the corrosive gas can be determined with a simple configuration as in the first embodiment. In addition, by cascading a plurality of corrosion detection structures, it is possible to detect the corrosion of the electronic equipment 904 caused by a variety of types of corrosive gases. Further, by connecting a plurality of corrosion detection structures in parallel, it is possible to more accurately indicate to the user the degree of progress (the danger level) of the corrosion of the electronic equipment 904 .

Ausführungsform 5Embodiment 5

In der fünften Ausführungsform sind die Materialien der Metall-Dünnschichten in der Vielzahl von Korrosionserkennungsstrukturen voneinander verschieden. Die Gesamtkonfiguration des Elektrogeräts gemäß der fünften Ausführungsform ist die gleiche wie die Gesamtkonfiguration des Elektrogeräts 900 gemäß der ersten Ausführungsform (siehe 1), mit Ausnahme des unterschiedlichen Materials der Metall-Dünnschicht.In the fifth embodiment, the materials of the metal thin films in the plurality of corrosion detection structures are different from each other. The overall configuration of the electronic device according to the fifth embodiment is the same as the overall configuration of the electronic device 900 according to the first embodiment (see FIG 1 ), except for the different material of the metal thin film.

Das Material der Metall-Dünnschicht kann eine Legierung auf Silberbasis oder eine Legierung auf Kupferbasis zusätzlich zu Silber oder Kupfer sein. Beispiele für Zusatzelemente in der Silberbasislegierung oder der Kupferbasislegierung sind Nickel (Ni), Titan (Ti), Magnesium (Mg), Aluminium (Al), Zinn (Sn), Palladium (Pd), Gold (Au), Zink (Zn) und Platin (Pt). Das Zusatzelement kann im Bereich von 0 Gew.-% bis 30 Gew.-% in Bezug auf Silber oder Kupfer zugesetzt werden. Darüber hinaus kann einer Legierung auf Silberbasis Kupfer im Bereich von 0 bis 30 Gew.-% und einer Legierung auf Kupferbasis Silber im Bereich von 0 bis 30 Gew.-% zugesetzt werden. Bei diesen Materialien handelt es sich um typische Metalle, die in Elektrogeräten verwendet werden und die empfindlich auf die wichtigsten korrosiven Gase reagieren. Sie eignen sich daher als Materialien für die quantitative Bewertung der korrosiven Eigenschaften einer Umgebung, der das Elektrogerät 900 ausgesetzt ist. Die Legierung auf Silberbasis und die Legierung auf Kupferbasis können drei oder mehr Arten von Bestandselementen enthalten.The material of the metal thin film may be a silver-based alloy or a copper-based alloy in addition to silver or copper. Examples of additive elements in the silver base alloy or the copper base alloy are nickel (Ni), titanium (Ti), magnesium (Mg), aluminum (Al), tin (Sn), palladium (Pd), gold (Au), zinc (Zn) and Platinum (Pt). The additive element may be added in the range of 0% to 30% by weight in terms of silver or copper. In addition, copper can be added in the range of 0 to 30% by weight to a silver-based alloy and silver in the range of 0 to 30% by weight to a copper-based alloy. These materials are typical metals used in electrical equipment and are sensitive to the main corrosive gases. Therefore, they are useful as materials for quantitatively evaluating the corrosive properties of an environment to which the electronic device 900 is exposed. The silver base alloy and the copper base alloy may contain three or more kinds of constituent elements.

27 ist ein Bild, das eine Beispielkonfiguration eines Sensorkörpers gemäß der fünften Ausführungsform zeigt. 27 zeigt eine spezifische Konfiguration von Korrosionserkennungsstrukturen, die in einem Sensorkörper gemäß einem ersten Beispiel der fünften Ausführungsform vorgesehen sind. Wie gezeigt in 27 beinhaltet ein Sensorkörper 181 zwei parallel geschaltete Korrosionserkennungsstrukturen 25A und 25B. Die Konfiguration jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 25A und 25B ist im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration der in den 3 und 4 dargestellten Korrosionserkennungsstruktur 21. 27 14 is a diagram showing an example configuration of a sensor body according to the fifth embodiment. 27 12 shows a specific configuration of corrosion detection structures provided in a sensor body according to a first example of the fifth embodiment. As shown in 27 For example, a sensor body 181 includes two corrosion detection structures 25A and 25B connected in parallel. The configuration of each of the corrosion detection structures 25A and 25B is basically the same as the configuration of those in FIGS 3 and 4 shown corrosion detection structure 21.

Das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 25A vorgesehen ist, unterscheidet sich von dem Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 25B vorgesehen ist. Der maximale Reduktionsbetrag des in der Korrosionserkennungsstruktur 25A vorgesehenen Materials der Metall-Dünnschicht 8 ist größer als der maximale Reduktionsbetrag des in der Korrosionserkennungsstruktur 25B vorgesehenen Materials der Metall-Dünnschicht 8. Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25A vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 ist gleich der Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25B vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25A ist größer als der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25B.The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25A is different from the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25B. The maximum reduction amount of the metal thin film 8 material provided in the corrosion detection pattern 25A is greater than the maximum reduction amount of the metal thin film 8 material provided in the corrosion detection pattern 25B. The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25A is equal to the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25B. The resistance value of the corrosion detection pattern 25A is larger than the resistance value of the corrosion detection pattern 25B.

Im ersten Beispiel der fünften Ausführungsform betrugen die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25A vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 und die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25B vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 jeweils 3 µm. Das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 25A vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 war Silber und das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 25B vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 war eine Silber-Zink-Legierung (die Zugabemenge an Zink betrug 0,4 Gew.-%). Die maximale Reduktionsmenge der Silber-Zink-Legierung-Dünnschicht (die Zugabemenge an Zink betrug 0,4 Gew.-%) betrug 9,1 µm. Nach der Definition der Gefahrenstufe im obigen Ausdruck (1) entspricht die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25A vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 einer Gefahrenstufe von 25% (= 3 µm/12 µm). Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25B vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 entspricht einer Gefahrenstufe von 32% (= 3 µm/9, 1 µm). Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25A betrug 1000 kΩ, der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25B betrug 100 kΩ.In the first example of the fifth embodiment, the film thickness of the metal thin film provided in the corrosion detection structure 25A was 8 and the film thickness was 8 in the corrosion detection structure voltage structure 25B provided metal thin film 8 each 3 microns. The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25A was silver, and the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25B was silver-zinc alloy (the addition amount of zinc was 0.4% by weight). The maximum reduction amount of the silver-zinc alloy thin film (the addition amount of zinc was 0.4 wt%) was 9.1 µm. According to the definition of the danger level in the above expression (1), the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 25A corresponds to a danger level of 25% (=3 µm/12 µm). The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 25B corresponds to a danger level of 32% (=3 μm/9.1 μm). The resistance value of the corrosion detection pattern 25A was 1000 kΩ, the resistance value of the corrosion detection pattern 25B was 100 kΩ.

In der fünften Ausführungsform werden zwei Bezugswiderstände zum Vergleich mit dem kombinierten Widerstand X hergestellt. Wie oben beschrieben, ist bei den beiden Korrosionserkennungsstrukturen 25A und 25B der maximale Reduktionsbetrag (= 12 µm) der in der Korrosionserkennungsstruktur 25A vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 größer als der maximale Reduktionsbetrag (= 9,1 µm) der in der Korrosionserkennungsstruktur 25B vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8. Der erste Bezugswiderstand REF wird auf der Grundlage des Widerstands (kombinierter Widerstand X) zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 181 bestimmt, wenn die Korrosionserkennungsstruktur 25A korrosiv getrennt ist, die Korrosionserkennungsstruktur 25B jedoch nicht. Der zweite Bezugswiderstand REF2 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X des Sensorkörpers 181 bestimmt, wenn beide Korrosionserkennungsstrukturen 25A und 25B korrosiv getrennt sind.In the fifth embodiment, two reference resistances for comparison with the combined resistance X are prepared. As described above, in the two corrosion detection structures 25A and 25B, the maximum reduction amount (=12 μm) of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 25A is larger than the maximum reduction amount (=9.1 μm) of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 25B. Thin film 8. The first reference resistance REF is determined based on the resistance (combined resistance X) between the two ends of the sensor body 181 when the corrosion detection pattern 25A is corrosively separated but the corrosion detection pattern 25B is not. The second reference resistance REF2 is determined based on the combined resistance X of the sensor body 181 when both the corrosion detection structures 25A and 25B are corrosively separated.

Im ersten Beispiel der fünften Ausführungsform beträgt der anfängliche kombinierte Widerstand X0: 91 kΩ. Der erste Bezugswiderstand REF1 wird auf 92 kΩ eingestellt, was 1,2 % größer ist als der anfängliche kombinierte Widerstand X0. Der zweite Bezugswiderstand REF2 wird auf 101 kΩ eingestellt, was einem Wert entspricht, der um 11 % höher ist als der anfängliche kombinierte Widerstand X0. Wenn in diesem Fall der kombinierte Widerstand X größer wird als der erste Bezugswiderstand REF1, bedeutet dies, dass eine Unterbrechung in der Korrosionserkennungsstruktur 25A aufgetreten ist, mit anderen Worten, die Metall-Dünnschicht 8 mit einem maximalen Reduktionsbetrag von 12 µm und einer Schichtdicke von 3 µm wurde korrosiv unterbrochen, was darauf hinweist, dass die Gefahrenstufe 25% erreicht hat. Wenn danach der kombinierte Widerstand X größer wird als der zweite Bezugswiderstand REF2, bedeutet dies, dass die Metall-Dünnschicht 8 mit einem maximalen Reduktionsbetrag von 9,1 µm und einer Schichtdicke von 3 µm korrosiv getrennt wurde, was anzeigt, dass die Gefahrenstufe 32 % erreicht hat.In the first example of the fifth embodiment, the initial combined resistance is X0: 91 kΩ. The first reference resistance REF1 is set to 92 kΩ, which is 1.2% larger than the initial combined resistance X0. The second reference resistance REF2 is set to 101 kΩ, which corresponds to a value which is 11% higher than the initial combined resistance X0. In this case, if the combined resistance X becomes larger than the first reference resistance REF1, it means that a disconnection has occurred in the corrosion detection structure 25A, in other words, the metal thin film 8 with a maximum reduction amount of 12 µm and a film thickness of 3 µm has been corrosively interrupted, indicating that the danger level has reached 25%. Thereafter, if the combined resistance X becomes larger than the second reference resistance REF2, it means that the metal thin film 8 has been corrosively separated with a maximum reduction amount of 9.1 µm and a film thickness of 3 µm, indicating that the danger level is 32%. has reached.

Das Flussdiagramm des Korrosionserkennungsverfahrens in der fünften Ausführungsform ist das gleiche wie das Flussdiagramm des Korrosionserkennungsverfahrens in der zweiten Ausführungsform (siehe 11) und daher wird die detaillierte Beschreibung nicht wiederholt.The flowchart of the corrosion detection method in the fifth embodiment is the same as the flowchart of the corrosion detection method in the second embodiment (see 11 ) and therefore the detailed description will not be repeated.

Erstes Beispiel der Ausführungsform 5First example of embodiment 5

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde an dem Elektrogerät 900 (einem Wechselrichter), das mit einem Korrosionserkennungssensor mit dem in 27 dargestellten Sensorkörper 181 ausgestattet ist, ein Expositionstest durchgeführt. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 91 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der Gesamtwiderstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 92 kΩ) und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 25A (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm)verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 101 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 25B (eine Dünnschicht aus einer Silber-Zink-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde.In an environment with a temperature of 75°C containing sublimated sulfur, electrical equipment 900 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor with the in 27 sensor body 181 shown, an exposure test is performed. The initial combined resistance X0 was 91 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the total resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 92 kΩ), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 25A (a silver thin film with a film thickness of 3 µm). . When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 101 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 25B (a silver-zinc alloy thin film having a film thickness of 3 µm).

Zweites Beispiel der Ausführungsform 5Second example of embodiment 5

28 ist ein Bild, das ein weiteres Konfigurationsbeispiel eines Sensorkörpers gemäß der fünften Ausführungsform zeigt. 28 zeigt eine spezifische Konfiguration von Korrosionserkennungsstrukturen, die in einem Sensorkörper gemäß einem zweiten Beispiel der fünften Ausführungsform vorgesehen sind. Wie gezeigt in 28 ist die Konfiguration des Sensorkörpers 182 im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration des Sensorkörpers 181 (siehe 27). 28 14 is a diagram showing another configuration example of a sensor body according to the fifth embodiment. 28 12 shows a specific configuration of corrosion detection structures provided in a sensor body according to a second example of the fifth embodiment. As shown in 28 the configuration of the sensor body 182 is substantially the same as the configuration of the sensor body 181 (see FIG 27 ).

Im zweiten Beispiel der fünften Ausführungsform betrugen die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25C vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 und die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25D vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 jeweils 3 µm. Das Material der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 25C war eine Kupfer-Zink-Legierung (der Zinkanteil betrug 30 Gew.-%). Die oben genannte Schichtdicke der Metall-Dünnschicht aus diesem Material entspricht einer Gefahrenstufe von 18% (= 3 µm/ 16,8 µm). Das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 25D vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 war Kupfer. Die oben genannte Schichtdicke der Metall-Dünnschicht aus diesem Material entspricht einer Gefahrenstufe von 25 % (= 3 µm/12 µm). Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25C betrug 1000 kΩ und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25D betrug 100 kΩ.In the second example of the fifth embodiment, the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25C and the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25D were each 3 μm. The material of the metal thin film 8 in the corrosion detection pattern 25C was copper-zinc alloy (the zinc content was 30% by weight). The above-mentioned layer thickness of the thin metal layer made of this material corresponds to a danger level of 18% (= 3 µm/ 16.8 µm). The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25D was copper. The above-mentioned layer thickness of the thin metal layer made of this material corresponds to a danger level of 25% (= 3 µm/12 µm). The resistance value of the corrosion detection pattern 25C was 1000 kΩ, and the resistance value of the corrosion detection pattern 25D was 100 kΩ.

In einer Umgebung von 40°C/95%RH/(3 ppm H₂S+10 ppm NO₂) wurde ein Expositionstest mit dem Elektrogerät 900 (einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich des Sensorkörpers 182 ausgestattet war. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 91 kΩ. 1,2 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der kombinierte Widerstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 92 kΩ) und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 25C (eine Dünnschicht aus einer Kupfer-Zink-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 101 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 25D (eine Dünnschicht aus Kupfer mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde.In an environment of 40°C/95%RH/(3ppm H ₂ S+10ppm NO ₂ ), an exposure test was performed on the electronic device 900 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including the sensor body 182 . The initial combined resistance X0 was 91 kΩ. 1.2 days after the start of the exposure test, the combined resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 92 kΩ), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 25C (a copper-zinc alloy thin film with a layer thickness of 3 µm). When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 101 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 25D (a thin film made of copper with a film thickness of 3 µm).

Drittes Beispiel der Ausführungsform 5Third example of embodiment 5

29 ist ein Bild, das ein weiteres Konfigurationsbeispiel eines Sensorkörpers gemäß der fünften Ausführungsform zeigt. 29 zeigt eine spezifische Konfiguration von Korrosionserkennungsstrukturen, die in einem Sensorkörper gemäß einem dritten Beispiel der fünften Ausführungsform vorgesehen sind. Wie gezeigt in 29 beinhaltet ein Sensorkörper 183 drei parallel geschaltete Korrosionserkennungsstrukturen 25E bis 25G. Die Konfiguration jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 25E bis 25G ist im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration der in den 3 und 4 dargestellten Korrosionserkennungsstruktur 21. 29 14 is a diagram showing another configuration example of a sensor body according to the fifth embodiment. 29 12 shows a specific configuration of corrosion detection structures provided in a sensor body according to a third example of the fifth embodiment. As shown in 29 For example, a sensor body 183 includes three corrosion detection structures 25E to 25G connected in parallel. The configuration of each of the corrosion detection structures 25E to 25G is basically the same as the configuration of those in FIGS 3 and 4 shown corrosion detection structure 21.

Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25E vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8, die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25F vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 und die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25G vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 sind einander gleich. Dagegen sind das Material der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 25E, das Material der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 25F und das Material der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 25G voneinander verschieden. Der maximale Reduktionsbetrag der in der Korrosionserkennungsstruktur 25E vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 ist der größte, der maximale Reduktionsbetrag der in der Korrosionserkennungsstruktur 25F vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 ist der zweitgrößte und der maximale Reduktionsbetrag der in der Korrosionserkennungsstruktur 25G vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 ist der kleinste. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25E ist der größte, der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25F ist der zweitgrößte und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25G ist der kleinste.The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25E, the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25F, and the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25G are equal to each other. On the other hand, the material of the metal thin film 8 in the corrosion detection pattern 25E, the material of the metal thin film 8 in the corrosion detection pattern 25F, and the material of the metal thin film 8 in the corrosion detection pattern 25G are different from each other. The maximum reduction amount of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 25E is the largest, the maximum reduction amount of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 25F is the second largest, and the maximum reduction amount of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 25G is the smallest . The resistance value of the corrosion detection pattern 25E is the largest, the resistance value of the corrosion detection pattern 25F is second largest, and the resistance value of the corrosion detection pattern 25G is the smallest.

Im dritten Beispiel der fünften Ausführungsform betrugen die Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 25E, die Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 25F und die Schichtdicke der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 25G jeweils 3 µm. Das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 25E vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 war Silber. Die oben genannte Schichtdicke der Metall-Dünnschicht aus diesem Material entspricht einer Gefahrenstufe von 25 % (= 3 µm/12 µm). Das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 25F vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 war eine Silber-Zink-Legierung (der Zinkzusatz betrug 0,4 Gew.-%). Die oben genannte Schichtdicke der Metall-Dünnschicht aus diesem Material entspricht einer Gefahrenstufe von 32 % (= 3 µm/9,1 µm). Bei dem in der Korrosionserkennungsstruktur 25G vorgesehenen Material der Metall-Dünnschicht 8 handelte es sich um eine Silber-Aluminium-Legierung (der Aluminiumzusatz betrug 0,4 Gew.-%). Die oben erwähnte Schichtdicke der Metall-Dünnschicht aus diesem Material entspricht einer Gefährdungsstufe von 41% (= 3 µm/7,3 µm). Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25E betrug 1000 kΩ, der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25F betrug 100 kΩ und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25G betrug 10 kΩ.In the third example of the fifth embodiment, the film thickness of the metal thin film 8 in the corrosion detection pattern 25E, the film thickness of the metal thin film 8 in the corrosion detection pattern 25F, and the film thickness of the metal thin film 8 in the corrosion detection pattern 25G were all 3 μm. The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25E was silver. The above-mentioned layer thickness of the thin metal layer made of this material corresponds to a danger level of 25% (= 3 µm/12 µm). The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25F was silver-zinc alloy (the addition of zinc was 0.4% by weight). The above layer thickness of the metal thin layer of this material corresponds to a danger level of 32% (= 3 µm/9.1 µm). The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 25G was silver-aluminum alloy (aluminum addition was 0.4% by weight). The above-mentioned layer thickness of the thin metal layer made of this material corresponds to a hazard level of 41% (= 3 µm/7.3 µm). The resistance value of the corrosion detection pattern 25E was 1000 kΩ, the resistance value of the corrosion detection pattern 25F was 100 kΩ, and the resistance value of the corrosion detection pattern 25G was 10 kΩ.

In der in 29 dargestellten Konfiguration werden drei Bezugswiderstände (der erste Bezugswiderstand REF1 bis dritte Bezugswiderstand REF3) zum Vergleich mit dem kombinierten Widerstand X vorgesehen. Der erste Bezugswiderstand REF1 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 183 ermittelt, wenn die Korrosionserkennungsstruktur 25E, deren maximaler Minderungsbetrag unter den drei Korrosionserkennungsstrukturen 25E bis 25G am größten ist, korrosiv getrennt wird, die beiden übrigen Korrosionserkennungsstrukturen 25F und 25G aber nicht getrennt werden. Der zweite Bezugswiderstand REF2 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 183 bestimmt, wenn die Korrosionserkennungsstrukturen 25E und 25F korrosiv getrennt sind, die Korrosionserkennungsstruktur 25G, deren maximaler Reduktionsbetrag am kleinsten ist, jedoch nicht getrennt ist. Der dritte Bezugswiderstand REF3 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X des Sensorkörpers 183 bestimmt, wenn alle drei Korrosionserkennungsstrukturen 25E bis 25G korrosiv getrennt sind.in the in 29 In the configuration shown, three reference resistances (the first reference resistance REF1 to the third reference resistance REF3) are provided for comparison with the resistance X combined. The first reference resistance REF1 is determined based on the combined resistance X between the two ends of the sensor body 183 when the corrosion detection structure 25E whose maximum reduction amount is largest among the three corrosion detection structures 25E to 25G is corrosively separated, the remaining two corrosion detection structures 25F and 25G but not be separated. The second reference resistance REF2 is determined based on the combined resistance X between the two ends of the sensor body 183 when the corrosion detection structures 25E and 25F are corrosively disconnected, but the corrosion detection structure 25G whose maximum reduction amount is smallest is not disconnected. The third reference resistance REF3 is determined based on the combined resistance X of the sensor body 183 when all three corrosion detection structures 25E to 25G are corrosively separated.

Genauer gesagt ist der erste Bezugswiderstand REF1 ein Wert, der durch Multiplikation des kombinierten Widerstands X vor der Korrosion (der anfängliche kombinierte Widerstand X0) mit einem ersten Koeffizienten K1 größer als 1 (REF1 = K1 × X0, K1 > 1) erhalten wird. Der zweite Bezugswiderstand REF2 ist ein Wert, der sich durch Multiplikation des anfänglichen kombinierten Widerstands X0 mit einem zweiten Koeffizienten K2 größer als 1 ergibt (REF2 = K2 × X0, K2 > 1). Der dritte Bezugswiderstand REF3 ist ein Wert, den man durch Multiplikation des kombinierten Anfangswiderstands X0 mit einem dritten Koeffizienten K3 größer als 1 erhält (REF3 = K3 × X0, K3 > 1). Der dritte Koeffizient K3, der zweite Koeffizient K2 und der erste Koeffizient K1 nehmen in dieser Reihenfolge zu (K3 > K2 > K1). Daher steigen der dritte Bezugswiderstand REF3, der zweite Bezugswiderstand REF2 und der erste Bezugswiderstand REF1 in dieser Reihenfolge an (REF3 >REF2 >REF1).More specifically, the first reference resistance REF1 is a value obtained by multiplying the combined resistance X before corrosion (the initial combined resistance X0) by a first coefficient K1 greater than 1 (REF1=K1×X0, K1>1). The second reference resistance REF2 is a value obtained by multiplying the initial combined resistance X0 by a second coefficient K2 greater than 1 (REF2=K2×X0, K2>1). The third reference resistance REF3 is a value obtained by multiplying the combined initial resistance X0 by a third coefficient K3 greater than 1 (REF3=K3×X0, K3>1). The third coefficient K3, the second coefficient K2, and the first coefficient K1 increase in this order (K3>K2>K1). Therefore, the third reference resistance REF3, the second reference resistance REF2, and the first reference resistance REF1 increase in this order (REF3 >REF2 >REF1).

Im dritten Beispiel der fünften Ausführungsform betrug der anfängliche kombinierte Widerstand X0: 9,01 kΩ. Der erste Bezugswiderstand REF1 wurde auf 9,02 kΩ eingestellt, was 0,1 % mehr ist als der anfängliche kombinierte Widerstand X0. Der zweite Bezugswiderstand REF2 wurde auf 9,10 kΩ eingestellt, was einem Wert entspricht, der 1 % größer ist als der anfängliche kombinierte Widerstand X0. Der dritte Bezugswiderstand REF3 wurde auf 10,1 kΩ eingestellt, was einem Wert entspricht, der 12 % größer ist als der anfängliche kombinierte Widerstand X0. Wenn in diesem Fall der kombinierte Widerstand X größer wird als der erste Bezugswiderstand REF1, bedeutet dies, dass die in der Korrosionserkennungsstruktur 25E vorgesehene Metall-Dünnschicht 8 aus Silber korrosiv getrennt wurde, was darauf hinweist, dass die Gefahrenstufe 25 % erreicht hat. Wenn der kombinierte Widerstand X größer wird als der zweite Bezugswiderstand REF2, bedeutet dies, dass die in der Korrosionserkennungsstruktur 25F vorgesehene Metall-Dünnschicht 8 aus der Silber-Zink-Legierung weiter korrosiv getrennt wurde, was anzeigt, dass die Gefahrenstufe 32 % erreicht hat. Wenn der kombinierte Widerstand X größer wird als der dritte Bezugswiderstand REF3, bedeutet dies, dass die Metall-Dünnschicht 8 der in der Korrosionserkennungsstruktur 2 1 G vorgesehenen Silber-Aluminium-Legierung korrosiv getrennt wurde, was anzeigt, dass der Gefährdungsgrad 41% erreicht hat.In the third example of the fifth embodiment, the initial combined resistance was X0: 9.01 kΩ. The first reference resistance REF1 was set to 9.02 kΩ, which is 0.1% more than the initial combined resistance X0. The second reference resistance REF2 was set to 9.10 kΩ, which corresponds to a value 1% larger than the initial combined resistance X0. The third reference resistance REF3 was set to 10.1 kΩ, which corresponds to a value 12% larger than the initial combined resistance X0. In this case, if the combined resistance X becomes larger than the first reference resistance REF1, it means that the silver metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 25E has been corrosively separated, indicating that the danger level has reached 25%. When the combined resistance X becomes larger than the second reference resistance REF2, it means that the silver-zinc alloy metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 25F has been further corrosively separated, indicating that the danger level has reached 32%. When the combined resistance X becomes larger than the third reference resistance REF3, it means that the metal thin film 8 of the silver-aluminum alloy provided in the corrosion detection structure 2 1 G has been corrosively separated, indicating that the degree of danger has reached 41%.

Das Flussdiagramm der Korrosionserkennungsprozedur im dritten Beispiel der fünften Ausführungsform ist das gleiche wie das Flussdiagramm der Korrosionserkennungsprozedur im dritten Beispiel der zweiten Ausführungsform (siehe 14) und daher wird die detaillierte Beschreibung davon nicht wiederholt.The flowchart of the corrosion detection procedure in the third example of the fifth embodiment is the same as the flowchart of the corrosion detection procedure in the third example of the second embodiment (see 14 ) and therefore the detailed description thereof will not be repeated.

In einer Umgebung, die eine Temperatur von 75°C hat und sublimierten Schwefel enthält, wurde ein Expositionstest an dem Elektrogerät 900 (einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor ausgestattet ist, der den in 29 dargestellten Sensorkörper 183 enthält. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 9,01 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der Gesamtwiderstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 9,02 kΩ) und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 25E (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 9,10 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 25F (eine Dünnschicht aus einer Silber-Zink-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Bei weiterer Fortsetzung des Expositionstests wurde der kombinierte Widerstand X größer als der dritte Bezugswiderstand REF3 (= 10,1 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 25G (eine Dünnschicht aus einer Silber-Aluminium-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm)verursacht wurde.In an environment that has a temperature of 75°C and contains sublimated sulfur, an exposure test was performed on the electrical equipment 900 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor that meets the in 29 sensor body 183 shown contains. The initial combined resistance X0 was 9.01 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the total resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 9.02 kΩ), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 25E (a silver thin film with a film thickness of 3 µm) was caused. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 9.10 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 25F (a silver-zinc alloy thin film having a film thickness of 3 µm). As the exposure test continued, the combined resistance X became greater than the third reference resistance REF3 (= 10.1 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 25G (a silver-aluminum alloy thin film having a film thickness of 3 µm).

Viertes Beispiel der Ausführungsform 5Fourth example of embodiment 5

30 ist ein Bild, das ein weiteres Konfigurationsbeispiel eines Sensorkörpers gemäß der fünften Ausführungsform zeigt. 30 zeigt eine spezifische Konfiguration von Korrosionserkennungsstrukturen, die in dem Sensorkörper gemäß dem vierten Beispiel der fünften Ausführungsform vorgesehen sind. Wie gezeigt in 30 ist die Konfiguration des Sensorkörpers 184 im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration des Sensorkörpers 183 (siehe 29). 30 14 is a diagram showing another configuration example of a sensor body according to the fifth embodiment. 30 12 shows a specific configuration of corrosion detection structures provided in the sensor body according to the fourth example of the fifth embodiment. As shown in 30 the configuration of the sensor body 184 is substantially the same as the configuration of the sensor body 183 (see FIG 29 ).

Die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25H vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8, die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 251 vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 und die Schichtdicke der in der Korrosionserkennungsstruktur 25J vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrugen alle 3 µm. Das Material der Metall-Dünnschicht 8 in der Korrosionserkennungsstruktur 25H war eine Kupfer-Zinn-Legierung (der Zusatz von Zinn betrug 6 Gew.-%). Die oben erwähnte Schichtdicke der Metall-Dünnschicht aus diesem Material entspricht einer Gefährdungsstufe von 17% (= 3 µm/ 18 µm). Das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 251 vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 war eine Kupfer-Zink-Legierung (der Zinkzusatz betrug 30 Gew.-%). Das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 21J vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 war Kupfer. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25H betrug 1000 kΩ, der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 251 betrug 100 kΩ und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 25J betrug 10 kΩ.The film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25H, the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 251, and the film thickness of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 25J were all 3 µm. The material of the metal thin film 8 in the corrosion detection structure 25H was a copper-tin alloy (the addition of tin was 6% by weight). The above-mentioned layer thickness of the thin metal layer made of this material corresponds to a hazard level of 17% (= 3 µm/ 18 µm). The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 251 was copper-zinc alloy (the addition of zinc was 30% by weight). The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 21J was copper. The resistance value of the corrosion detection pattern 25H was 1000 kΩ, the resistance value of the corrosion detection pattern 251 was 100 kΩ, and the resistance value of the corrosion detection pattern 25J was 10 kΩ.

In einer Umgebung von 40°C/95%RH/(3 ppm H₂S+10 ppm NO₂) wurde ein Expositionstest mit dem Elektrogerät 900 (einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich des Sensorkörpers 184 ausgestattet war. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 9,01 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der Gesamtwiderstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 9,02 kΩ) und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 25H (eine Dünnschicht aus einer Kupfer-Zinn-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 9,10 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 251 (eine Dünnschicht aus einer Kupfer-Zink-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Daraufhin wurde der kombinierte Widerstand X größer als der dritte Bezugswiderstand REF3 (= 10,1 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 25J (eine Dünnschicht aus Kupfer mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde.In an environment of 40°C/95%RH/(3ppm H ₂ S+10ppm NO ₂ ), an exposure test was performed on the electronic device 900 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including the sensor body 184 . The initial combined resistance X0 was 9.01 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the total resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 9.02 kΩ), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 25H (a copper-tin alloy thin film with a layer thickness of 3 µm) was caused. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 9.10 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 251 (a copper-zinc alloy thin film having a film thickness of 3 µm). As a result, the combined resistance X became larger than the third reference resistance REF3 (= 10.1 kΩ). It was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 25J (a thin film made of copper with a film thickness of 3 µm).

Wie oben beschrieben, kann gemäß der fünften Ausführungsform der Grad des Fortschreitens der durch das korrosive Gas verursachten Korrosion an dem Elektrogerät mit einer einfachen Konfiguration wie in der zweiten Ausführungsform bestimmt werden. In der fünften Ausführungsform werden eine Vielzahl von Korrosionserkennungsstrukturen parallelgeschaltet und eine Vielzahl von Gefahrenstufen eingestellt. Dadurch ist es möglich, den Benutzer über den Grad des Fortschreitens der Korrosion schrittweise näher zu informieren.As described above, according to the fifth embodiment, the degree of progress of the corrosion on the electronic equipment caused by the corrosive gas can be determined with a simple configuration as in the second embodiment. In the fifth embodiment, a plurality of corrosion detection structures are connected in parallel, and a plurality of danger levels are set. This makes it possible to gradually inform the user of the degree of progress of the corrosion.

In den 27 bis 30 ist beschrieben, dass zwei oder drei Korrosionserkennungsstrukturen parallelgeschaltet sind, es können aber auch vier oder mehr Korrosionserkennungsstrukturen wie in der zweiten Ausführungsform verwendet werden. Wenn eine Anzahl von N (N ist eine ganze Zahl von 2 oder mehr) Korrosionserkennungsstrukturen verwendet wird, werden N Parallelschaltungen gebildet. Mit zunehmender Anzahl von N wird die Konfiguration des Korrosionserkennungssensors komplizierter, was es ermöglicht, dem Benutzer den Grad des Fortschreitens (die Gefahrenstufe) der Korrosion detaillierter mitzuteilen.In the 27 until 30 For example, it is described that two or three corrosion detection structures are connected in parallel, but four or more corrosion detection structures may be used as in the second embodiment. When N (N is an integer of 2 or more) number of corrosion detection structures are used, N parallel circuits are formed. As the number of N increases, the configuration of the corrosion detection sensor becomes more complicated, making it possible to tell the user the degree of progress (the danger level) of corrosion in more detail.

Ausführungsform 6Embodiment 6

In der sechsten Ausführungsform wird eine Konfiguration beschrieben, die in der Lage ist, Korrosion zu erkennen, die durch eine Vielzahl von Arten von korrosiven Gasen wie in der dritten Ausführungsform verursacht wird. Silber oder eine Legierung auf Silberbasis ist empfindlich gegenüber sublimiertem Schwefel, Chlorgas und dergleichen. Kupfer oder eine Legierung auf Kupferbasis ist empfindlich gegenüber Schwefelwasserstoff, Schwefeldioxid, Stickstoffdioxid und dergleichen. Wenn sublimierter Schwefel oder ähnliches in der Umgebung vorhanden ist, in der das Elektrogerät installiert ist, ist die Korrosionsrate von Silber oder einer Silberbasislegierung schneller als die Korrosionsrate von Kupfer oder einer Kupferbasislegierung. Daher kann der Grad des Fortschreitens (die Gefahrenstufe) der durch sublimierten Schwefel oder ähnliches verursachten Korrosion des Elektrogeräts durch Verwendung einer Korrosionserkennungsstruktur mit einer Silber-Dünnschicht oder einer Dünnschicht aus einer Silberbasislegierung bewertet werden. Andererseits, wenn Schwefelwasserstoff oder ähnliches in einer Umgebung vorhanden ist, in der das Elektrogerät installiert ist, ist die Korrosionsrate von Kupfer oder einer Kupferbasislegierung schneller als die Korrosionsrate von Silber oder einer Silberbasislegierung. Daher kann der Grad der Korrosionsgefahr für das Elektrogerät, die durch Schwefelwasserstoff oder ähnliches verursacht wird, unter Verwendung einer Korrosionserkennungsstruktur, die eine Kupfer-Dünnschicht oder eine Dünnschicht aus einer Kupferbasislegierung enthält, bewertet werden.In the sixth embodiment, a configuration capable of detecting corrosion caused by a variety of types of corrosive gases as in the third embodiment will be described. Silver or a silver-based alloy is sensitive to sublimated sulfur, chlorine gas and the like. Copper or a copper-based alloy is sensitive to hydrogen sulfide, sulfur dioxide, nitrogen dioxide, and the like. If sublimated sulfur or similar in the environment in which the electrical equipment is installed, the corrosion rate of silver or a silver-based alloy is faster than the corrosion rate of copper or a copper-based alloy. Therefore, the degree of progression (the level of danger) of the corrosion of the electronic equipment caused by sublimated sulfur or the like can be evaluated by using a corrosion detection structure having a silver thin film or a silver base alloy thin film. On the other hand, when hydrogen sulfide or the like is present in an environment where the electric appliance is installed, the corrosion rate of copper or a copper-based alloy is faster than the corrosion rate of silver or a silver-based alloy. Therefore, the degree of danger of corrosion of the electrical equipment caused by hydrogen sulfide or the like can be evaluated using a corrosion detection structure including a copper thin film or a copper-based alloy thin film.

Erstes Beispiel der Ausführungsform 6First example of embodiment 6

31 ist ein Bild, das eine Beispielkonfiguration eines Sensorkörpers gemäß einer sechsten Ausführungsform zeigt. 31 zeigt eine spezifische Konfiguration von Korrosionserkennungsstrukturen, die in dem Sensorkörper gemäß einem ersten Beispiel der sechsten Ausführungsform vorgesehen sind. 31 14 is a diagram showing an example configuration of a sensor body according to a sixth embodiment. 31 12 shows a specific configuration of corrosion detection structures provided in the sensor body according to a first example of the sixth embodiment.

Wie gezeigt in 31 beinhaltet ein Sensorkörper 191 drei Korrosionserkennungsstrukturen 26A bis 26C und drei Drähte 41 bis 43. Die Korrosionserkennungsstruktur 26A und die Korrosionserkennungsstruktur 26B sind durch den Draht 42 in Reihe geschaltet. Die Korrosionserkennungsstrukturen 26A und 26B sind parallel zur Korrosionserkennungsstruktur 26C zwischen dem Draht 41 und dem Draht 43 angeschlossen. Die Konfiguration jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 26A bis 26C ist im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration der Korrosionserkennungsstruktur 21, die in den 3 und 4 dargestellt ist.As shown in 31 For example, a sensor body 191 includes three corrosion detection structures 26A to 26C and three wires 41 to 43. The corrosion detection structure 26A and the corrosion detection structure 26B are connected by the wire 42 in series. Corrosion detection patterns 26A and 26B are connected in parallel to corrosion detection pattern 26C between wire 41 and wire 43 . The configuration of each of the corrosion detection structures 26A to 26C is basically the same as the configuration of the corrosion detection structure 21 shown in FIGS 3 and 4 is shown.

Das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 26A oder der Korrosionserkennungsstruktur 26B vorgesehen ist, unterscheidet sich von dem Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 26C vorgesehen ist. Der Widerstandswert jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 26A und 26B ist größer als der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 26C.The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 26A or the corrosion detection pattern 26B is different from the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 26C. The resistance value of each of the corrosion detection patterns 26A and 26B is larger than the resistance value of the corrosion detection pattern 26C.

Im ersten Beispiel der sechsten Ausführungsform war das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 26A vorgesehen ist, Silber, das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 26B vorgesehen ist, war Kupfer und das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 26C vorgesehen ist, war eine Silber-Zink-Legierung (die Zugabemenge von Zink war 0,4 Gew.-%). Die Schichtdicke der in jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 26A bis 26C vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 3 µm.Diese Schichtdicke entspricht einer Gefahrenstufe von 25 % (= 3 µm/12 µm) in den Korrosionserkennungsstrukturen 26A und 26B und entspricht einer Gefahrenstufe von 32 % (= 3 µm/9,1 µm) in der Korrosionserkennungsstruktur 26C. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstrukturen 26A und 26B betrug jeweils 1000 kΩ und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 26C betrug 200 kΩ.In the first example of the sixth embodiment, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 26A was silver, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 26B was copper, and the material of the metal thin film was copper 8 provided in the corrosion detection structure 26C was a silver-zinc alloy (the addition amount of zinc was 0.4% by weight). The film thickness of the thin metal film 8 provided in each of the corrosion detection structures 26A to 26C was 3 µm 3 µm/9.1 µm) in the corrosion detection pattern 26C. The resistance value of each of the corrosion detection patterns 26A and 26B was 1000 kΩ, and the resistance value of the corrosion detection pattern 26C was 200 kΩ.

Zwei Bezugswiderstände (der erste Bezugswiderstand REF1 und der zweite Bezugswiderstand REF2) werden für den Vergleich mit dem kombinierten Widerstand X vorgesehen. Der erste Bezugswiderstand REF1 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen beiden Enden des Sensorkörpers 191 bestimmt, wenn mindestens eine der in Reihe geschalteten Korrosionserkennungsstrukturen 26A und 26B korrosiv getrennt ist. Der zweite Bezugswiderstand REF2 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 191 bestimmt, wenn die Korrosionserkennungsstruktur 26C korrosiv getrennt ist. Ein spezifisches Einstellverfahren unter Verwendung eines Koeffizienten ist das gleiche wie das Einstellverfahren im ersten Beispiel (siehe 10) der zweiten Ausführungsform. Das Korrosionserkennungsverfahren, das unter Verwendung des Korrosionserkennungssensors einschließlich des Sensorkörpers 191 durchgeführt wird, ist dasselbe wie das Verfahren, das durch das in 11 dargestellte Flussdiagramm dargestellt wird, und die Beschreibung davon wird nicht wiederholt.Two reference resistances (the first reference resistance REF1 and the second reference resistance REF2) are provided for comparison with the combined resistance X. The first reference resistance REF1 is determined based on the combined resistance X between both ends of the sensor body 191 when at least one of the series-connected corrosion detection structures 26A and 26B is corrosively disconnected. The second reference resistance REF2 is determined based on the combined resistance X between the two ends of the sensor body 191 when the corrosion detection structure 26C is corrosively separated. A specific adjustment method using a coefficient is the same as the adjustment method in the first example (see 10 ) of the second embodiment. The corrosion detection method performed using the corrosion detection sensor including the sensor body 191 is the same as the method described in FIG 11 shown flowchart is shown, and the description thereof will not be repeated.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde ein Expositionstest mit dem Elektrogerät 900 (einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich des Sensorkörpers 191 ausgestattet ist. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 182 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der kombinierte Widerstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 184 kΩ) und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 26A (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm)verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 202 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 26C (eine Dünnschicht aus einer Silber-Zink-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde.In an environment with a temperature of 75° C. containing sublimated sulfur, an exposure test was performed on the electric device 900 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including the sensor body 191 . The initial combined resistance X0 was 182 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the combined resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 184 kΩ), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 26A (a silver thin film with a film thickness of 3 µm). became. When the exposure test was continued thereafter, the com Binary resistance X greater than the second reference resistance REF2 (= 202 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 26C (a silver-zinc alloy thin film having a film thickness of 3 µm).

Zweites Beispiel der Ausführungsform 6Second example of embodiment 6

32 ist ein Bild, das ein weiteres Beispiel für die Konfiguration eines Sensorkörpers gemäß der sechsten Ausführungsform zeigt. 32 zeigt eine spezifische Konfiguration von Korrosionserkennungsstrukturen, die in dem Sensorkörper gemäß einem zweiten Beispiel der sechsten Ausführungsform vorgesehen sind. 32 14 is a diagram showing another configuration example of a sensor body according to the sixth embodiment. 32 12 shows a specific configuration of corrosion detection structures provided in the sensor body according to a second example of the sixth embodiment.

Wie gezeigt in 32 beinhaltet der Sensorkörper 191 vier Korrosionserkennungsstrukturen 26D bis 26G und drei Drähte 41 bis 43. Die Korrosionserkennungsstruktur 26D und die Korrosionserkennungsstruktur 26E sind durch den Draht 42 in Reihe geschaltet. Die Korrosionserkennungsstrukturen 26D und 26E, die Korrosionserkennungsstruktur 26F und die Korrosionserkennungsstruktur 26G sind zwischen dem Draht 41 und dem Draht 43 parallelgeschaltet. Die Konfiguration jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 26D bis 26G ist im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration der Korrosionserkennungsstruktur 21, die in den 3 und 4 dargestellt ist.As shown in 32 For example, the sensor body 191 includes four corrosion detection structures 26D to 26G and three wires 41 to 43. The corrosion detection structure 26D and the corrosion detection structure 26E are connected by the wire 42 in series. The corrosion detection patterns 26D and 26E, the corrosion detection pattern 26F and the corrosion detection pattern 26G are connected in parallel between the wire 41 and the wire 43. FIG. The configuration of each of the corrosion detection structures 26D to 26G is basically the same as the configuration of the corrosion detection structure 21 shown in FIGS 3 and 4 is shown.

Das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 26D oder der Korrosionserkennungsstruktur 26E vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8, das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 26F vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 und das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 26G vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 sind voneinander verschieden. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 26D ist gleich dem Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 26E. Der Widerstandswert jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 26D und 26E ist größer als der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 26F. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 26F ist größer als der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 26G.The material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 26D or the corrosion detection pattern 26E, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 26F, and the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 26G are different from each other. The resistance of the corrosion detection pattern 26D is equal to the resistance of the corrosion detection pattern 26E. The resistance value of each of the corrosion detection patterns 26D and 26E is larger than the resistance value of the corrosion detection pattern 26F. The resistance value of the corrosion detection pattern 26F is greater than the resistance value of the corrosion detection pattern 26G.

Im zweiten Beispiel der sechsten Ausführungsform war das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 26D vorgesehen ist, Silber, das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 26E vorgesehen ist, war Kupfer, das Material der Metall-Dünnschicht 8, die in der Korrosionserkennungsstruktur 26F vorgesehen ist, war eine Silber-Zink-Legierung (die Zusatzmenge an Zink war 0. 4 Gew.-%), und das Material der in der Korrosionserkennungsstruktur 26G vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 war eine Silber-Aluminium-Legierung (die Zugabemenge von Aluminium betrug 0,4 Gew.-%). Die Schichtdicke der in jeder der Korrosionserkennungsstrukturen 26D bis 26G vorgesehenen Metall-Dünnschicht 8 betrug 3 µm.Diese Schichtdicke entspricht einer Gefahrenstufe von 25 % (= 3 µm/ 12 µm) in den Korrosionserkennungsstrukturen 26D und 26E, entspricht einer Gefahrenstufe von 32 % (= 3 µm/9,1 µm) in der Korrosionserkennungsstruktur 26F und entspricht einer Gefahrenstufe von 41 % (= 3 µm/7,3 µm) in der Korrosionserkennungsstruktur 26G. Der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstrukturen 26D und 26E betrug jeweils 1000 kΩ, der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 26F betrug 200 kΩ und der Widerstandswert der Korrosionserkennungsstruktur 26G betrug 20 kΩ.In the second example of the sixth embodiment, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 26D was silver, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection pattern 26E was copper, the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 26F was silver-zinc alloy (the addition amount of zinc was 0.4% by weight), and the material of the metal thin film 8 provided in the corrosion detection structure 26G was silver-aluminum alloy (the addition amount of aluminum was 0.4% by weight). The layer thickness of the thin metal layer 8 provided in each of the corrosion detection structures 26D to 26G was 3 µm 3 µm/9.1 µm) in the corrosion detection structure 26F and corresponds to a danger level of 41% (= 3 µm/7.3 µm) in the corrosion detection structure 26G. The resistance value of each of the corrosion detection patterns 26D and 26E was 1000 kΩ, the resistance value of the corrosion detection pattern 26F was 200 kΩ, and the resistance value of the corrosion detection pattern 26G was 20 kΩ.

Drei Bezugswiderstände (der erste Bezugswiderstand REF1 bis dritte Bezugswiderstand REF3) werden für den Vergleich mit dem kombinierten Widerstand X vorgesehen. Der erste Bezugswiderstand REF1 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen beiden Enden des Sensorkörpers 192 bestimmt, wenn mindestens eine der in Reihe geschalteten Korrosionserkennungsstrukturen 26D und 26E korrosiv getrennt ist. Der zweite Bezugswiderstand REF2 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 192 bestimmt, wenn die Korrosionserkennungsstruktur 26F korrosiv getrennt ist. Der dritte Bezugswiderstand REF3 wird auf der Grundlage des kombinierten Widerstands X zwischen den beiden Enden des Sensorkörpers 192 bestimmt, wenn die Korrosionserkennungsstruktur 26G korrosiv getrennt ist. Ein spezifisches Einstellverfahren unter Verwendung eines Koeffizienten ist das gleiche wie das Einstellverfahren im dritten Beispiel (siehe 13) der zweiten Ausführungsform. Das Korrosionserkennungsverfahren, das unter Verwendung eines Korrosionserkennungssensors mit dem Sensorkörper 192 durchgeführt wird, ist dasselbe wie das Verfahren, das durch das in 14 dargestellte Flussdiagramm dargestellt wird, und die Beschreibung davon wird nicht wiederholt.Three reference resistances (the first reference resistance REF1 to the third reference resistance REF3) are provided for comparison with the resistance X combined. The first reference resistance REF1 is determined based on the combined resistance X between both ends of the sensor body 192 when at least one of the series-connected corrosion detection structures 26D and 26E is corrosively disconnected. The second reference resistance REF2 is determined based on the combined resistance X between the two ends of the sensor body 192 when the corrosion detection structure 26F is corrosively separated. The third reference resistance REF3 is determined based on the combined resistance X between the two ends of the sensor body 192 when the corrosion detection structure 26G is corrosively separated. A specific adjustment method using a coefficient is the same as the adjustment method in the third example (see 13 ) of the second embodiment. The corrosion detection method performed using a corrosion detection sensor having the sensor body 192 is the same as the method described in FIG 14 shown flowchart is shown, and the description thereof will not be repeated.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde ein Expositionstest mit dem Elektrogerät 900 (einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich des Sensorkörpers 192 ausgestattet ist. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 18 kΩ. 1,2 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der kombinierte Widerstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 18,1 kΩ) und es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 26D (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 18,3 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 26F (eine Dünnschicht aus einer Silber-Zink-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Daraufhin wurde der kombinierte Widerstand X größer als der dritte Bezugswiderstand REF3 (= 20,2 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 26G (eine Dünnschicht aus einer Silber-Aluminium-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde.In an environment with a temperature of 75° C. containing sublimated sulfur, an exposure test was performed on the electronic device 900 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including the sensor body 192 . The initial combined resistance X0 was 18 kΩ. 1.2 days after the start of the exposure test, the combined resistance X was greater ßer than the first reference resistance REF1 (= 18.1 kΩ), and it was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection pattern 26D (a thin film of silver with a film thickness of 3 µm). When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 18.3 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 26F (a silver-zinc alloy thin film having a film thickness of 3 µm). As a result, the combined resistance X became larger than the third reference resistance REF3 (=20.2 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 26G (a silver-aluminum alloy thin film having a film thickness of 3 µm).

Wie oben beschrieben, kann gemäß der sechsten Ausführungsform der Grad des Fortschreitens der durch das korrosive Gas verursachten Korrosion an dem Elektrogerät 900 mit einer einfachen Konfiguration wie in der ersten bis fünften Ausführungsform bestimmt werden. In der sechsten Ausführungsform ist es möglich, die durch eine Vielzahl von Arten korrosiver Gase verursachte Korrosion am Elektrogerät 900 zu bestimmen. As described above, according to the sixth embodiment, the degree of progress of corrosion on the electronic equipment 900 caused by the corrosive gas can be determined with a simple configuration as in the first to fifth embodiments. In the sixth embodiment, it is possible to determine the corrosion of the electronic equipment 900 caused by a variety of types of corrosive gases.

Weiterhin ist es durch die Kombination der Serienschaltung und der Parallelschaltung der Korrosionserkennungsstruktur möglich, dem Benutzer den Grad des Fortschreitens (die Gefahrenstufe) der Korrosion am Elektrogerät 900 detailliert mitzuteilen.Furthermore, by combining the series connection and the parallel connection of the corrosion detection structure, it is possible to notify the user of the degree of progress (the danger level) of the corrosion of the electronic equipment 900 in detail.

Ausführungsform 7Embodiment 7

Wie in der vierten Ausführungsform beschrieben, kann, auch wenn das Material der Metall-Dünnschicht 8 in jeder Korrosionserkennungsstruktur unterschiedlich ist, der Widerstand 9 außerhalb der Korrosionserkennungsstruktur vorgesehen sein. Die Konfiguration des Elektrogeräts mit dem Korrosionserkennungssensor gemäß der siebten Ausführungsform ist im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration des Elektrogeräts 904 mit dem Korrosionserkennungssensor gemäß der vierten Ausführungsform (siehe 19). Die Konfiguration der Korrosionserkennungsstruktur in der siebten Ausführungsform ist im Wesentlichen die gleiche wie die Konfiguration der Korrosionserkennungsstruktur 24 in der vierten Ausführungsform (siehe 20). In jedem Beispiel der siebten Ausführungsform ist jedoch die Metall-Dünnschicht, die durch das korrosive Gas korrodiert werden soll, aus einer Legierung auf Silberbasis, einer Legierung auf Kupferbasis oder ähnlichem zusätzlich zu Silber und Kupfer hergestellt.As described in the fourth embodiment, although the material of the metal thin film 8 is different in each corrosion detection structure, the resistor 9 can be provided outside the corrosion detection structure. The configuration of the electronic device with the corrosion detection sensor according to the seventh embodiment is basically the same as the configuration of the electronic device 904 with the corrosion detection sensor according to the fourth embodiment (see FIG 19 ). The configuration of the corrosion detection structure in the seventh embodiment is basically the same as the configuration of the corrosion detection structure 24 in the fourth embodiment (see FIG 20 ). However, in each example of the seventh embodiment, the metal thin film to be corroded by the corrosive gas is made of a silver-based alloy, a copper-based alloy, or the like in addition to silver and copper.

Erstes Beispiel der Ausführungsform 7First example of embodiment 7

33 ist ein Bild, das eine Konfiguration eines Sensorkörpers gemäß einem ersten Beispiel einer siebten Ausführungsform zeigt. Wie gezeigt in 33 ist ein Sensorkörper 193 äquivalent zu dem in 27 dargestellten Sensorkörper 181 oder dem in 28 dargestellten Sensorkörper 182. 33 14 is a diagram showing a configuration of a sensor body according to a first example of a seventh embodiment. As shown in 33 is a sensor body 193 equivalent to that in FIG 27 illustrated sensor body 181 or in 28 illustrated sensor body 182.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde an dem Elektrogerät 904 (einem Wechselrichter), das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich des Sensorkörpers 193 ausgestattet ist, ein Expositionstest durchgeführt. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 91 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der kombinierte Widerstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 92 kΩ), und es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 27A (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 101 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 27B (eine Dünnschicht aus einer Silber-Zink-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde.An exposure test was performed on the electrical equipment 904 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including the sensor body 193 in an environment with a temperature of 75°C containing sublimated sulfur. The initial combined resistance X0 was 91 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the combined resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 92 kΩ), and it was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 27A (a thin film of silver with a layer thickness of 3 µm) was caused. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 101 kΩ). It was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 27B (a silver-zinc alloy thin film having a film thickness of 3 µm).

Zweites Beispiel der Ausführungsform 7Second example of embodiment 7

34 ist ein Bild, das eine Konfiguration eines Sensorkörpers gemäß einem zweiten Beispiel der siebten Ausführungsform zeigt. Wie gezeigt in 34 ist ein Sensorkörper 194 äquivalent zu dem in 29 dargestellten Sensorkörper 183 oder dem in 30 dargestellten Sensorkörper 184. 34 14 is a diagram showing a configuration of a sensor body according to a second example of the seventh embodiment. As shown in 34 is a sensor body 194 equivalent to that in FIG 29 illustrated sensor body 183 or in 30 illustrated sensor body 184.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde an dem Elektrogerät 904 (einem Wechselrichter), das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich eines Sensorkörpers 194 ausgestattet ist, ein Expositionstest durchgeführt. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 9,01 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der Gesamtwiderstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 9,02 kΩ), und es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 27C (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 9,10 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 27D (eine Dünnschicht aus einer Silber-Zink-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Daraufhin wurde der kombinierte Widerstand X größer als der dritte Bezugswiderstand REF3 (=10,1 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 27E (eine Dünnschicht aus einer Silber-Aluminium-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde.An exposure test was performed on the electrical equipment 904 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including a sensor body 194 in an environment with a temperature of 75°C containing sublimated sulfur. The initial combined cons stood X0 was 9.01 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the total resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 9.02 kΩ), and it was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 27C (a thin film made of silver with a film thickness of 3 µm) was caused. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 9.10 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 27D (a silver-zinc alloy thin film having a film thickness of 3 µm). As a result, the combined resistance X became larger than the third reference resistance REF3 (=10.1 kΩ). It was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 27E (a silver-aluminum alloy thin film having a film thickness of 3 µm).

Drittes Beispiel der Ausführungsform 7Third example of embodiment 7

35 ist ein Bild, das eine Konfiguration eines Sensorkörpers gemäß dem dritten Beispiel der siebten Ausführungsform zeigt. Wie gezeigt in 35 ist ein Sensorkörper 195 äquivalent zu dem in 31 dargestellten Sensorkörper 191. 35 14 is a diagram showing a configuration of a sensor body according to the third example of the seventh embodiment. As shown in 35 is a sensor body 195 equivalent to that in FIG 31 illustrated sensor body 191.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde an dem Elektrogerät 904 (einem Wechselrichter), das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich eines Sensorkörpers 195 ausgestattet ist, ein Expositionstest durchgeführt. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 182 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der Gesamtwiderstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 184 kΩ), und es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 27F (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm)verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 202 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Widerstandsanstieg durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 27H (eine Dünnschicht aus einer Silber-Zink-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde.An exposure test was performed on the electrical equipment 904 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including a sensor body 195 in an environment with a temperature of 75°C containing sublimated sulfur. The initial combined resistance X0 was 182 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the total resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 184 kΩ), and it was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 27F (a silver thin film with a film thickness of 3 µm). became. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 202 kΩ). It was confirmed that the resistance increase was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 27H (a silver-zinc alloy thin film with a film thickness of 3 µm).

Viertes Beispiel der Ausführungsform 7Fourth example of embodiment 7

36 ist ein Bild, das eine Konfiguration eines Sensorkörpers gemäß einem vierten Beispiel der siebten Ausführungsform zeigt. Wie gezeigt in 36 entspricht ein Sensorkörper 196 dem in 32 dargestellten Sensorkörper 192. 36 14 is a diagram showing a configuration of a sensor body according to a fourth example of the seventh embodiment. As shown in 36 a sensor body 196 corresponds to that in 32 illustrated sensor body 192.

In einer Umgebung mit einer Temperatur von 75°C, die sublimierten Schwefel enthält, wurde ein Expositionstest an dem Elektrogerät 904 (einem Wechselrichter) durchgeführt, das mit einem Korrosionserkennungssensor einschließlich eines Sensorkörpers 196 ausgestattet ist. Der anfängliche kombinierte Widerstand X0 betrug 18,0 kΩ. 10 Tage nach Beginn des Expositionstests wurde der Gesamtwiderstand X größer als der erste Bezugswiderstand REF1 (= 18,1 kΩ), und es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 271 (eine Dünnschicht aus Silber mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Als der Expositionstest danach fortgesetzt wurde, wurde der kombinierte Widerstand X größer als der zweite Bezugswiderstand REF2 (= 18,3 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 27K (eine Dünnschicht aus einer Silber-Zink-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde. Daraufhin wurde der kombinierte Widerstand X größer als der dritte Bezugswiderstand REF3 (= 20,2 kΩ). Es wurde bestätigt, dass der Anstieg des Widerstands durch die korrosive Trennung der Korrosionserkennungsstruktur 27L (eine Dünnschicht aus einer Silber-Aluminium-Legierung mit einer Schichtdicke von 3 µm) verursacht wurde.In an environment with a temperature of 75° C. containing sublimed sulfur, an exposure test was performed on the electric device 904 (an inverter) equipped with a corrosion detection sensor including a sensor body 196 . The initial combined resistance X0 was 18.0 kΩ. 10 days after the start of the exposure test, the total resistance X became larger than the first reference resistance REF1 (= 18.1 kΩ), and it was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 271 (a thin film made of silver with a film thickness of 3 µm) was caused. When the exposure test was continued thereafter, the combined resistance X became larger than the second reference resistance REF2 (= 18.3 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 27K (a silver-zinc alloy thin film with a film thickness of 3 µm). As a result, the combined resistance X became larger than the third reference resistance REF3 (=20.2 kΩ). It was confirmed that the increase in resistance was caused by the corrosive separation of the corrosion detection structure 27L (a silver-aluminum alloy thin film having a film thickness of 3 µm).

In jedem Beispiel der siebten Ausführungsform wird beschrieben, dass das Elektrogerät 904 einer Umgebung ausgesetzt wird, die sublimierten Schwefel enthält, um die korrosive Trennung der Metall-Dünnschicht 8 aus Silber oder einer Silberbasislegierung zu bestätigen. Wie in der fünften Ausführungsform beschrieben, ist es jedoch möglich, die korrosive Trennung der Metall-Dünnschicht 8 aus Kupfer oder einer Kupferbasislegierung in einer Umgebung von z.B. 40°C/95%RH/(3 ppm H₂S+ 10 ppm NO₂) zu bestätigen.In each example of the seventh embodiment, it is described that the electronic device 904 is exposed to an environment containing sublimated sulfur to confirm the corrosive separation of the silver or silver-base alloy metal thin film 8 . However, as described in the fifth embodiment, it is possible to prevent the corrosive separation of the copper or copper-based alloy metal thin film 8 in an environment of, for example, 40°C/95%RH/(3ppm H ₂ S + 10ppm NO ₂ ). to confirm.

Wie oben beschrieben, kann gemäß der siebten Ausführungsform, obwohl der Festwiderstand 50 (50L bis 50R) außerhalb der Korrosionserkennungsstruktur vorgesehen ist, der Grad des Fortschreitens der Korrosion an dem Elektrogerät 904, verursacht durch ein korrosives Gas, mit einer einfachen Konfiguration wie in der vierten Ausführungsform bestimmt werden. Durch Hintereinanderschalten einer Vielzahl von Korrosionserkennungsstrukturen ist es außerdem möglich, die durch eine Vielzahl von Arten korrosiver Gase verursachte Korrosion am Elektrogerät 904 festzustellen. Durch Parallelschaltung einer Vielzahl von Korrosionserkennungsstrukturen ist es ferner möglich, dem Benutzer den Grad des Fortschreitens (die Gefährdungsstufe) der Korrosion am Elektrogerät 904 genauer anzuzeigen.As described above, according to the seventh embodiment, although the fixed resistor 50 (50L to 50R) is provided outside the corrosion detection structure, the degree of progress of corrosion on the electronic device 904 caused by a corrosive gas can be controlled with a simple configuration as in the fourth embodiment are determined. In addition, by cascading a variety of corrosion detection structures, it is possible to detect the corrosion caused by a variety of types of corrosive gases cause corrosion on the electrical device 904 to determine. Further, by connecting a plurality of corrosion detection structures in parallel, it is possible to more accurately indicate to the user the degree of progress (the danger level) of the corrosion of the electronic equipment 904 .

Es sollte verstanden werden, dass die hier beschriebenen Ausführungsformen illustrativ und in keiner Hinsicht einschränkend sind. Der Umfang der vorliegenden Erfindung soll alle Modifikationen innerhalb des Umfangs und der Bedeutung der verwendeten Begriffe beinhalten.It should be understood that the embodiments described herein are illustrative and not restrictive in any respect. The scope of the present invention is intended to include all modifications within the scope and meaning of the terms used.

BezugszeichenlisteReference List

33: Leiterplattecircuit board
4, 41, 42, 43, 444, 41, 42, 43, 44: Drahtwire
55: LotLot
66: Isoliersubstratinsulating substrate
77: Elektrodenpaarpair of electrodes
7171: erste Elektrodefirst electrode
7272: zweite Elektrodesecond electrode
88th: Metall-Dünnschichtmetal thin film
99: Widerstandresistance
11, 121, 122, 131, 132, 14, 15, 16, 171 - 176, 181 - 184, 191 - 19611, 121, 122, 131, 132, 14, 15, 16, 171 - 176, 181 - 184, 191 - 196: Sensorkörpersensor body
2020: Widerstandsmessgerätresistance meter
201201: Voltmetervoltmeter
202202: Amperemeterammeter
21, 21A to 21V, 22 - 24, 24A - 24P, 25A - 25J, 26A - 26G, 27A t- 27L21, 21A to 21V, 22 - 24, 24A - 24P, 25A - 25J, 26A - 26G, 27A t - 27L: Korrosionserkennungsstrukturcorrosion detection structure
3030: Steuerungseinheitcontrol unit
4040: Notifikationseinheitnotification unit
5050: Festwiderstandfixed resistor
9090: Elektrogerätekörperelectrical equipment body
101, 104101, 104: KorrosionserkennungssensorCorrosion detection sensor
900, 904900, 904: Elektrogerätelectrical appliance

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturPatent Literature Cited

JP 2010038838 A [0003, 0004]

Claims

Corrosion detection sensor that detects corrosion on an electronic device caused by a corrosive gas, the corrosion detection sensor comprising: a metal thin film to be/can be corroded by the corrosive gas; a resistance element connected in series with the metal thin film; a resistance measurement unit that measures a combined resistance of the metal thin film and the resistance element; and a resistance output unit that outputs a detection result indicating that the combined resistance measured by the resistance measurement unit is greater than a predetermined reference resistance, wherein the reference resistance is determined according to a danger level indicating that the electrical equipment is corrosively damaged by the corrosive gas.

Corrosion detection sensor claim 1 , wherein the danger level is a ratio of an actual reduction amount of a film thickness of the metal thin film to a maximum reduction amount of the film thickness, the maximum reduction amount is a reduction amount of the film thickness until the electrical equipment is corrosively damaged when the electrical equipment and the metal thin film one the corrosive Gas-containing environment are exposed.

Corrosion detection sensor claim 1 or 2 , wherein the metal thin film comprises a plurality of thin films connected in parallel, the materials of the plurality of thin films are the same, the film thicknesses of the plurality of thin films are different from each other, each of the plurality of thin films is defined with a corresponding reference resistance, and the resistance output unit outputs the detection result outputs each time the combined resistance measured by the resistance measurement unit becomes greater than the corresponding reference resistance.

Corrosion detection sensor claim 1 or 2 wherein the metal thin film comprises a plurality of thin films connected in series, and each of the plurality of thin films contains a material to be/can be corroded by the corrosive gases and which is different in kind from the others.

Corrosion detection sensor claim 1 or 2 , wherein the metal thin film comprises a first thin film, a second thin film, a third thin film and a fourth thin film, the first thin film and the second thin film are connected in series, the third thin film and the fourth thin film are connected in series, the first thin film and the second thin film are connected in parallel to the third thin film and the fourth thin film, each of the first thin film and the third thin film contains a material to be/can be corroded by a first corrosive gas, each of the second thin film and the fourth thin film contains a material to be/can be corroded by a second corrosive gas different from the first corrosive gas, the film thickness of the first thin film and the film thickness of the third thin film are different from each other, the film thickness of the second thin film and the film thickness of the fourth thin film are different from each other, an e a first reference resistance is defined for the first thin film and the second thin film, a second reference resistance is defined for the third thin film and the fourth thin film, and the resistance output unit outputs the detection result every time the combined resistance measured by the resistance measuring unit becomes larger than one of the first Reference resistors and the second reference resistors.

Corrosion detection sensor claim 1 or 2 , wherein the metal thin film comprises a plurality of thin films connected in parallel, the materials of the plurality of thin films are different from each other, each of the plurality of thin films is defined with a corresponding reference resistance, and the resistance output unit outputs the detection result each time the resistance measurement unit outputs measured combined resistance becomes greater than the corresponding reference resistance.

Corrosion detection sensor claim 1 or 2 , wherein the metal thin film comprises a first thin film, a second thin film and a third thin film, the first thin film and the second thin film are connected in series, the first thin film and the second thin film are connected in parallel with the third thin film, the first thin film and the third thin film contains different materials that are/can be corroded by a first corrosive gas, the second thin film contains a material that is/can be corroded by a second corrosive gas that is different from the first corrosive gas, a first reference resistance is defined for the first thin film and the second thin film, a second reference resistance is defined for the third thin film, and the resistance output unit outputs the detection result every time the combined resistance measured by the resistance measuring unit becomes larger than the first reference resistance or the second reference resistance stood.

Corrosion detection sensor according to one of Claims 1 until 7 further comprising: an insulating substrate, wherein the metal thin film and the resistance element are integrally disposed on the insulating substrate.

Corrosion detection sensor according to one of Claims 1 until 7 further comprising: an insulating substrate, wherein the metal thin film is disposed on the insulating substrate, and the resistive element is disposed outside of the insulating substrate as a discrete component.

An electrical device comprising: a corrosion detection sensor according to any one of Claims 1 until 9 ; and an electric equipment main body.

A method for detecting corrosion on an electronic device caused by a corrosive gas using a corrosion detection sensor having a thin metal film to be/can be corroded by the corrosive gas and a resistance element connected to the thin metal film is connected in series, the method comprising the following steps: measuring a combined resistance of the metal thin film and the resistance element; and outputting a detection result indicating that the combined resistance measured in the measurement is greater than a predetermined reference resistance, wherein the reference resistance is determined according to a hazard level indicative of the electrical equipment being corrosively damaged by the corrosive gas.