DE112016003560T5 - Sensor manufacturing process and sensor - Google Patents

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Tomoyuki Yanagisawa
Minoru Kubokawa
Toshiaki Oguchi
Hideki Furukawa
Yasuhiro Kawai
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Abstract

Ein Sensorherstellungsverfahren ist ein Verfahren zum Herstellen eines Sensors, der einen Generator, der ein vorgegebenes Detektionsziel erzeugt, einen Detektor, der das durch den Generator erzeugte Detektionsziel detektiert, und einen Bewegungskörper, der eine Bewegung in dem Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor ausführt, enthält. In dem Verfahren werden der Generator und der Detektor entweder durch Krümmen oder durch Biegen eines Substrats, das einen ersten Abschnitt, der den darauf installierten Generator aufweist, und einen zweiten Abschnitt, der den darauf installierten Detektor aufweist, enthält, die in einer integrierten Weise ausgebildet sind, einander gegenüberliegend positioniert, wobei bewirkt wird, dass das Substrat und der Bewegungskörper eine Relativbewegung in einer derartigen Weise ausführen, dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor eintritt.A sensor manufacturing method is a method of manufacturing a sensor including a generator that generates a predetermined detection target, a detector that detects the detection target generated by the generator, and a moving body that performs motion in the region between the generator and the detector; contains. In the method, the generator and detector are formed by either bending or bending a substrate having a first portion having the generator installed thereon and a second portion having the detector installed thereon formed in an integrated manner are positioned opposite each other, causing the substrate and the moving body to make a relative movement in such a manner that the moving body enters the area between the generator and the detector.

Description

Gebietarea

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Sensorherstellungsverfahren und einen Sensor.The present invention relates to a sensor manufacturing method and a sensor.

Hintergrundbackground

Soweit wie die Konfigurationen eines Drehgebers betroffen sind, ist eine Konfiguration bekannt, in der ein Gehäuse eines Drehgebers ein Substrat, auf dem eine Lichtemissionsvorrichtung, die Licht emittiert, installiert ist, und ein Substrat, auf dem eine Lichtempfangsvorrichtung, die das von der Lichtemissionsvorrichtung emittierte Licht detektiert ist, installiert ist, unterbringt (z. B. Patentliteratur 1).As far as the configurations of a rotary encoder are concerned, a configuration is known in which a case of a rotary encoder is a substrate on which a light emitting device that emits light is installed, and a substrate on which a light receiving device that emits that from the light emitting device Light is detected, installed, accommodates (eg Patent Literature 1).

Liste der EntgegenhaltungenList of citations

Patentliteraturpatent literature

  • Patentliteratur 1: japanische Offenlegungsschrift Nr. 2001-027551 Patent Literature 1: Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2001-027551

ZusammenfassungSummary

Technisches ProblemTechnical problem

Weil jedoch in dem in der Patentliteratur 1 offenbarten Drehgeber die Lichtemissionsvorrichtung und die Lichtempfangsvorrichtung auf verschiedenen Substraten vorhanden sind, muss die Positionierung während des Zusammenbaus für den Zweck des Bestimmens der Beziehung zwischen dem Bereich, der durch das von der Lichtemissionsvorrichtung emittierte Licht bestrahlt wird, und dem Bereich, in dem das Licht durch die Lichtempfangsvorrichtung empfangen wird, ausgeführt werden. In einem Fall, in dem aufgrund eines Fehlers bei der Positionierung eine Fehlausrichtung auftritt, gibt es Zeiten, in denen die Ausgabe der Lichtempfangsvorrichtung nicht die gleiche wie die vorgesehene Ausgabe ist, was dadurch zu einer Instabilität in der die Detektion begleitenden Ausgabe führt. Wenn mehrere Lichtempfangsvorrichtungen verwendet werden, verursacht insbesondere jede Fehlausrichtung eine Variation in den Ausgaben der Lichtempfangsvorrichtungen, was dadurch zu einer Instabilität in der die Detektion begleitenden Ausgabe führt.However, in the rotary encoder disclosed in Patent Literature 1, since the light emitting device and the light receiving device are provided on different substrates, positioning must be performed during assembly for the purpose of determining the relationship between the area irradiated by the light emitted from the light emitting device and the area in which the light is received by the light receiving device can be performed. In a case where misalignment occurs due to an error in positioning, there are times when the output of the light receiving device is not the same as the intended output, thereby resulting in instability in the detection accompanying the detection. In particular, when multiple light receiving devices are used, each misalignment causes a variation in the outputs of the light receiving devices, thereby resulting in instability in the detection accompanying the detection.

Das obenerwähnte Problem, das auf den in der Patentliteratur 1 offenbarten Drehgeber bezogen ist, ist nicht auf die Drehgeber begrenzt, in denen Licht detektiert wird, sondern es ist unter den Sensoren häufig, in denen ein Generator, der das Detektionsziel (z. B. Licht) erzeugt, und ein Detektor, der das durch den Generator erzeugte Detektionsziel detektiert, auf getrennten Substraten installiert sind.The above-mentioned problem related to the rotary encoder disclosed in Patent Literature 1 is not limited to the rotary encoders in which light is detected, but it is common among the sensors in which a generator having the detection target (e.g. Light), and a detector detecting the detection target generated by the generator is installed on separate substrates.

Es ist eine Aufgabe eines Aspekts der vorliegenden Erfindung, ein Sensorherstellungsverfahren und einen Sensor zum Ermöglichen einer leichteren Positionierung eines Generators und eines Detektors zu schaffen. Überdies ist es eine Aufgabe eines Aspekts der vorliegenden Erfindung, ein Sensorherstellungsverfahren und einen Sensor zum Ermöglichen einer leichteren Herstellung zu schaffen.It is an object of one aspect of the present invention to provide a sensor manufacturing method and a sensor for facilitating positioning of a generator and a detector. Moreover, it is an object of one aspect of the present invention to provide a sensor manufacturing method and a sensor for facilitating ease of manufacture.

Die Lösung für das ProblemThe solution to the problem

Um die oben beschriebenen Probleme zu lösen, ist ein Sensorherstellungsverfahren gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung ein Sensorherstellungsverfahren für einen Sensor, der einen Generator, der ein vorgegebenes Detektionsziel erzeugt, einen Detektor, der das durch den Generator erzeugte Detektionsziel detektiert, und einen Bewegungskörper, der eine Bewegung in einem Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor ausführt, enthält. Das Sensorherstellungsverfahren enthält: Positionieren des Generators und des Detektors einander gegenüberliegend entweder durch Krümmen oder Biegen eines Substrats, das einen ersten Abschnitt, der den darauf installierten Generator aufweist, und einen zweiten Abschnitt, der den darauf installierten Detektor aufweist, enthält, die in einer integrierten Weise ausgebildet sind; und Bewirken, dass das Substrat und der Bewegungskörper eine Relativbewegung in einer derartigen Weise ausführen, dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor eintritt.In order to solve the above-described problems, a sensor manufacturing method according to one aspect of the present invention is a sensor manufacturing method for a sensor comprising a generator generating a predetermined detection target, a detector detecting the detection target generated by the generator, and a moving body performs a movement in an area between the generator and the detector contains. The sensor manufacturing method includes: positioning the generator and the detector opposite one another either by bending or bending a substrate including a first portion having the generator installed thereon and a second portion having the detector installed thereon integrated in one Are formed manner; and causing the substrate and the moving body to perform relative movement in such a manner that the moving body enters the area between the generator and the detector.

Weil der erste Abschnitt, der den darauf installierten Generator aufweist, und der zweite Abschnitt, der den darauf installierten Detektor aufweist, in einer integrierten Weise auf dem Substrat vorhanden sind, ermöglicht folglich die einfache Aufgabe des Biegens oder des Krümmen des Substrats das Ausführen der Positionierung des Generators und des Detektors. Dies macht die Positionierung des Generators und des Detektors leichter. Weil überdies die Positionierung mit mehr Leichtigkeit ausgeführt werden kann, kann der auf die Positionierung bezogene Herstellungsprozess vereinfacht werden. Folglich wird die Herstellung des Sensors leichter. Weil überdies bewirkt wird, dass das Substrat und der Bewegungskörper eine Relativbewegung in einer derartigen Weise ausführen, dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor eintritt, ist es möglich, einen Sensor herzustellen, der das auf die Bewegung des Bewegungskörpers bezogene Abtasten unter Verwendung des Generators und des Detektors, die auf dem Substrat installiert sind, auf dem der erste Abschnitt und der zweite Abschnitt in einer integrierten Weise ausgebildet sind, ausführen kann.Consequently, because the first portion having the generator installed thereon and the second portion having the detector installed thereon are provided on the substrate in an integrated manner, the simple task of bending or bending the substrate enables the positioning to be performed of the generator and the detector. This makes the positioning of the generator and the detector easier. Moreover, because the positioning can be carried out with more ease, the positioning process related to the positioning can be simplified. As a result, the production of the sensor becomes easier. Moreover, because the substrate and the moving body are caused to move relative to each other in such a manner that the moving body enters the area between the generator and the detector, it is possible to manufacture a sensor which senses the scanning related to the movement of the moving body using the generator and the detector installed on the substrate on which the first portion and the second portion are formed in an integrated manner.

In dem Sensorherstellungsverfahren gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung enthält das Substrat ein Verbindungselement, das den ersten Abschnitt und den zweiten Abschnitt verbindet, wobei bewirkt wird, dass das Substrat und der Bewegungskörper die Relativbewegung in einer derartigen Weise ausführen, dass der Bewegungskörper von einer Seite, die dem Verbindungselement gegenüberliegt, in den Bereich eintritt.In the sensor manufacturing method according to one aspect of the present invention, the A substrate connecting member connecting the first portion and the second portion, wherein the substrate and the moving body is caused to perform the relative movement in such a manner that the moving body enters the area from a side opposite to the connecting member.

Folglich kann der Raum zwischen dem ersten Abschnitt und dem zweiten Abschnitt unter Verwendung des Verbindungselements mit mehr Leichtigkeit zugewiesen werden. Folglich kann der Zielbereich für die Detektion zwischen dem Generator und dem Detektor mit mehr Leichtigkeit geschaffen werden. Weil bewirkt wird, dass der Bewegungskörper von der dem Verbindungselement gegenüberliegenden Seite in den Bereich eintritt, werden nicht nur die Positionierung und die Herstellung leichter, sondern kann außerdem der Vorteil weiterhin verwendet werden, dass das Verbindungselement vorhanden ist.Consequently, the space between the first portion and the second portion can be assigned with more ease using the connecting member. As a result, the target area for detection between the generator and the detector can be provided with more ease. Because the moving body is caused to enter the area from the side opposite to the connecting member, not only the positioning and the manufacture become easier but also the advantage that the connecting member is provided can be further used.

In dem Sensorherstellungsverfahren gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung sind der erste Abschnitt und der zweite Abschnitt nach dem Krümmen oder Biegen des Substrats parallel zueinander, wobei eine Richtung der Relativbewegung des Substrats und des Bewegungskörpers entlang dem ersten Abschnitt und dem zweiten Abschnitt verläuft.In the sensor manufacturing method according to one aspect of the present invention, after the bending or bending of the substrate, the first portion and the second portion are parallel to each other with a direction of relative movement of the substrate and the moving body along the first portion and the second portion.

Folglich kann die Positionsbeziehung zwischen dem Generator, der in dem ersten Abschnitt installiert ist, und dem Detektor, der in dem zweiten Abschnitt installiert ist, basierend auf der Beziehung zwischen dem ersten Abschnitt und dem zweiten Abschnitt, die parallel zueinander ausgebildet sind, eingestellt werden. Wenn der Generator Richteigenschaften aufweist, werden aus diesem Grund sowohl die Positionseinstellung zum Unterbringen des Detektors innerhalb des Erzeugungsbereichs des durch den Generator erzeugten Detektionsziels als auch die Bauform in Bezug auf den Positionswinkel beim Installieren des Generators und des Detektors auf dem Substrat einfacher. Indem die Richtung der Relativbewegung des Substrats und des Bewegungskörpers entlang dem ersten Abschnitt und dem zweiten Abschnitt beibehalten wird, kann überdies der Bezug für die Richtung der Relativbewegung mit mehr Leichtigkeit bestimmt werden und kann es schwieriger gemacht werden, dass das Substrat und der Bewegungskörper während der Relativbewegung miteinander in Kontakt gelangen. Folglich kann mit mehr Leichtigkeit bewirkt werden, dass der Bewegungskörper in den Bereich eintritt.Thus, the positional relationship between the generator installed in the first portion and the detector installed in the second portion can be adjusted based on the relationship between the first portion and the second portion formed in parallel with each other. For this reason, when the generator has directivity, both the positional adjustment for accommodating the detector within the generation range of the detection target generated by the generator and the configuration with respect to the positional angle in installing the generator and the detector on the substrate become easier. Moreover, by maintaining the direction of the relative movement of the substrate and the moving body along the first portion and the second portion, the reference to the direction of the relative movement can be determined more easily, and it can be made more difficult for the substrate and the moving body to move during the process Relative movement get in touch with each other. Consequently, it can be made more easily that the moving body enters the area.

In dem Sensorherstellungsverfahren gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung ist der Bewegungskörper ein scheibenförmiges Element, das über eine Welle in einer drehbaren Weise gestützt ist, wobei wenigstens entweder in dem ersten Abschnitt oder in dem zweiten Abschnitt eine Kerbe ausgebildet ist, um sicherzustellen, dass die Welle und das Substrat keinen Kontakt miteinander herstellen, während der Bewegungskörper in dem Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor bleibt.In the sensor manufacturing method according to one aspect of the present invention, the moving body is a disc-shaped member supported on a shaft in a rotatable manner, wherein at least one of the first portion and the second portion has a notch to ensure that the shaft and the substrate does not make contact with each other while the moving body remains in the region between the generator and the detector.

Folglich wird es möglich, es zu verhindern, dass das Substrat einen Kontakt mit der Welle herstellt, wobei folglich eine Situation verhindert wird, in der die Bewegung der Welle behindert ist.Consequently, it becomes possible to prevent the substrate from making contact with the shaft, thus preventing a situation in which the movement of the shaft is obstructed.

In dem Sensorherstellungsverfahren gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung ist das Substrat an einem ersten Element, das eines von mehreren Elementen repräsentiert, die ein Gehäuse bilden, angebracht, und werden ein zweites Element, das eines der mehreren Elemente repräsentiert, die das Gehäuse bilden, und das den Bewegungskörper stützt, und das erste Element näher zueinander gebracht, um das Gehäuse zusammenzubauen und um zu bewirken, dass das Substrat und der Bewegungskörper eine Relativbewegung ausführen, so dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor eintritt.In the sensor manufacturing method according to one aspect of the present invention, the substrate is attached to a first element that represents one of a plurality of elements that form a housing, and a second element that represents one of the plurality of elements that form the housing, and which supports the moving body and brings the first member closer to each other to assemble the housing and to cause the substrate and the moving body to move relative to each other so that the moving body enters the area between the generator and the detector.

Folglich kann gleichzeitig während des einzigen Prozesses des Zusammenbauens des Gehäuses bewirkt werden, dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor eintritt. Überdies kann während des Zusammenbaus des Gehäuses die Einstellung der Positionsbeziehung zwischen dem Bewegungskörper und den Strahlen zwischen dem Generator und dem Detektor außerdem gemäß der Positionsbeziehung zwischen dem ersten Element und dem zweiten Element bestimmt werden. Folglich wird gemäß dem vorliegenden Aspekt die Herstellung leichter.Thus, at the same time, during the single process of assembling the housing, the moving body may be caused to enter the area between the generator and the detector. Moreover, during the assembly of the housing, the adjustment of the positional relationship between the moving body and the beams between the generator and the detector can also be determined according to the positional relationship between the first element and the second element. Consequently, according to the present aspect, the production becomes easier.

In dem Sensorherstellungsverfahren gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird, nachdem das erste Element und das zweite Element zusammengebaut worden sind, ein Eingang für das Substrat, wie er in dem zweiten Element ausgebildet ist, durch ein Abdeckelement abgedeckt.In the sensor manufacturing method according to one aspect of the present invention, after the first member and the second member are assembled, an entrance for the substrate as formed in the second member is covered by a cover member.

Folglich können der Generator, der Detektor und der Bewegungskörper innerhalb des Gehäuses abgedichtet sein. Folglich kann gemäß der vorliegenden Ausführungsform die Abtastung in Bezug auf die Bewegung des Bewegungskörpers mit mehr Genauigkeit ausgeführt werden.Consequently, the generator, the detector and the moving body can be sealed within the housing. Thus, according to the present embodiment, the scanning with respect to the movement of the moving body can be performed with more accuracy.

Um die oben beschriebenen Probleme zu lösen, enthält ein Sensor gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung: einen Generator, der ein vorgegebenes Detektionsziel erzeugt; einen Detektor, der das durch den Generator erzeugte Detektionsziel detektiert; ein Substrat, auf dem der Generator und das Detektieren installiert sind; einen Bewegungskörper, der eine Bewegung in einem Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor ausführt; und ein Gehäuse, das den Generator, den Detektor und den Bewegungskörper unterbringt. Das Substrat weist einen ersten Abschnitt, auf dem der Generator installiert ist, und einen zweiten Abschnitt, auf dem der Detektor installiert ist, auf, die in einer integrierten Weise ausgebildet sind, weist eine gekrümmte oder gebogene Form in einer derartigen Weise auf, dass der Generator und der Detektor einander gegenüberliegend positioniert sind. Das Gehäuse enthält ein erstes Element, an dem das Substrat angebracht ist, und enthält ein zweites Element, an dem der Bewegungskörper installiert ist. Der Sensor ist in einer derartigen Weise zusammengebaut, dass das zweite Element und das erste Element in einer vorgegebenen Richtung relativ bewegt werden und dann aneinander anstoßen. Die vorgegebene Richtung ist eine Richtung, die es dem Bewegungskörper ermöglicht, in den Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor einzutreten.In order to solve the above-described problems, according to one aspect of the present invention, a sensor includes: a generator that generates a predetermined detection target; a detector that detects the detection target generated by the generator; a substrate on which the generator and the detecting are installed; a moving body that performs a movement in a region between the generator and the detector; and a Housing housing the generator, detector and motor body. The substrate has a first portion on which the generator is installed, and a second portion on which the detector is installed, which are formed in an integrated manner, has a curved or curved shape in such a manner that the Generator and the detector are positioned opposite each other. The housing includes a first member to which the substrate is attached, and includes a second member on which the moving body is installed. The sensor is assembled in such a manner that the second member and the first member are relatively moved in a predetermined direction and then abutted against each other. The predetermined direction is a direction that allows the moving body to enter the area between the generator and the detector.

Weil das Substrat den ersten Abschnitt, der den darauf installierten Generator aufweist, und den zweiten Abschnitt, der den darauf installierten Detektor aufweist, die in einer integrierten Weise vorhanden sind, ermöglicht die einfache Aufgabe des Biegens oder Krümmens des Substrats das Ausführen der Positionierung des Generators und des Detektors. Folglich wird es möglich, einen Sensor zu schaffen, bei dem die Positionierung des Generators und des Detektierens mit mehr Leichtigkeit ausgeführt werden kann. Weil die Positionierung mit mehr Leichtigkeit ausgeführt werden kann, kann der Herstellungsprozess in Bezug auf die Positionierung vereinfacht werden. Folglich wird es möglich, einen Sensor zu schaffen, der mit mehr Leichtigkeit hergestellt werden kann. Weil bewirkt wird, dass das Substrat und der Bewegungskörper die Relativbewegung in einer derartigen Weise ausführen, dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor eintritt, wird es weiterhin möglich, einen Sensor herzustellen, der das auf die Bewegung des Bewegungskörpers bezogene Abtasten unter Verwendung des Generators und des Detektors ausführen kann, die auf dem Substrat installiert sind, das den ersten Abschnitt und den zweiten Abschnitt enthält, die in einer integrierten Weise ausgebildet sind. Im Ergebnis des Verwendens des Sensors gemäß dem Aspekt der vorliegenden Erfindung kann überdies gleichzeitig während des einzigen Prozesses des Zusammenbauens des Gehäuses bewirkt werden, dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor eintritt. Im Ergebnis der Verwendung des Sensors gemäß dem Aspekt der vorliegenden Erfindung kann weiterhin die Einstellung der Positionsbeziehung zwischen dem Bewegungskörper und den Strahlen zwischen dem Generator und dem Detektor außerdem während des Zusammenbaus des Gehäuses gemäß der Positionsbeziehung zwischen dem ersten Element und dem zweiten Element bestimmt werden. Folglich wird gemäß dem Aspekt der vorliegenden Erfindung die Herstellung leichter.Because the substrate has the first portion having the generator installed thereon and the second portion having the detector installed thereon provided in an integrated manner, the simple task of bending or bending the substrate makes it possible to perform the positioning of the generator and the detector. Consequently, it becomes possible to provide a sensor in which the positioning of the generator and the detection can be carried out with more ease. Because the positioning can be carried out with more ease, the manufacturing process can be simplified in terms of positioning. Consequently, it becomes possible to provide a sensor which can be manufactured with more ease. Further, because the substrate and the moving body are caused to perform the relative movement in such a manner that the moving body enters the area between the generator and the detector, it becomes possible to manufacture a sensor which senses the scanning related to the movement of the moving body using the generator and the detector installed on the substrate including the first portion and the second portion formed in an integrated manner. Moreover, as a result of using the sensor according to the aspect of the present invention, during the single process of assembling the housing, at the same time, the moving body may be caused to enter the area between the generator and the detector. Further, as a result of using the sensor according to the aspect of the present invention, the adjustment of the positional relationship between the moving body and the beams between the generator and the detector can be determined during assembly of the housing according to the positional relationship between the first member and the second member. Consequently, according to the aspect of the present invention, the production becomes easier.

In dem Sensor gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung enthält das Gehäuse ein Abdeckelement zum Abdecken eines Eingangs für das Substrat, der nach dem Zusammenbauen des ersten Elements und des zweiten Elements vorhanden ist.In the sensor according to one aspect of the present invention, the housing includes a cover member for covering an entrance for the substrate, which is present after assembling the first member and the second member.

Folglich können der Generator, der Detektor und der Bewegungskörper innerhalb des Gehäuses abgedichtet sein. Folglich kann gemäß der vorliegenden Ausführungsform die Abtastung in Bezug auf die Bewegung des Bewegungskörpers mit mehr Genauigkeit ausgeführt werden.Consequently, the generator, the detector and the moving body can be sealed within the housing. Thus, according to the present embodiment, the scanning with respect to the movement of the moving body can be performed with more accuracy.

Die vorteilhaften Wirkungen der ErfindungThe beneficial effects of the invention

Das Sensorherstellungsverfahren und der Sensor gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung fördern die Positionierung des Generators und des Detektors. Überdies fördern das Sensorherstellungsverfahren und der Sensor gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung die Herstellung eines Sensors.The sensor manufacturing method and the sensor according to one aspect of the present invention promote the positioning of the generator and the detector. Moreover, the sensor manufacturing method and the sensor according to one aspect of the present invention promote the manufacture of a sensor.

Kurzbeschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings

1 ist eine graphische Konfigurationsdarstellung eines Sensors gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; 1 FIG. 12 is a graphical configuration diagram of a sensor according to an embodiment of the present invention; FIG.

2 ist eine externe perspektivische Ansicht des Sensors; 2 is an external perspective view of the sensor;

3 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären einer beispielhaften Anordnung eines Generators, einer optischen Skala und eines Detektors; 3 Fig. 10 is an explanatory diagram for explaining an exemplary arrangement of a generator, an optical scale and a detector;

4 ist ein Blockschaltplan eines optischen Codierers; 4 Fig. 10 is a block diagram of an optical encoder;

5 ist eine erklärende graphische Darstellung eines beispielhaften Musters der optischen Skala; 5 Fig. 12 is an explanatory diagram of an exemplary pattern of the optical scale;

6 ist eine perspektivische Ansicht, die ein Beispiel eines Substrats veranschaulicht; 6 Fig. 16 is a perspective view illustrating an example of a substrate;

7 ist eine ebene Ansicht, die ein Beispiel des Substrats veranschaulicht, bevor es gebogen wird; 7 Fig. 12 is a plan view illustrating an example of the substrate before being bent;

8 ist eine graphische Darstellung, die eine beispielhafte Übereinstimmungsbeziehung zwischen der Anordnung der Schaltung auf der Fläche, auf der der Generator und der Detektor angeordnet sind, und der auf der Rückseite vorgesehenen Konfiguration veranschaulicht; 8th Fig. 12 is a graph illustrating an exemplary correspondence relationship between the arrangement of the circuit on the surface on which the generator and the detector are arranged and the configuration provided on the back side;

9 ist eine perspektivische Ansicht eines Körpers eines Stators und einer beispielhaften Konfiguration, die an dem Körper angeordnet ist; 9 FIG. 12 is a perspective view of a body of a stator and an exemplary configuration disposed on the body; FIG.

10 ist eine perspektivische Ansicht einer beispielhaften Konfiguration, die an einem Unterkörper des Stators angeordnet ist; 10 FIG. 12 is a perspective view of an exemplary configuration disposed on a lower body of the stator; FIG.

11 ist eine graphische Darstellung, die eine beispielhafte Positionsbeziehung zwischen dem Generator und dem Detektor veranschaulicht; 11 Fig. 10 is a graph illustrating an exemplary positional relationship between the generator and the detector;

12 ist eine graphische Darstellung, die eine beispielhafte Positionsbeziehung zwischen dem Generator und dem Detektor veranschaulicht; 12 Fig. 10 is a graph illustrating an exemplary positional relationship between the generator and the detector;

13 ist eine ebene Ansicht, die ein beispielhaftes Substrat vor der Schaltungsimplementierung veranschaulicht; 13 Fig. 10 is a plan view illustrating an exemplary substrate prior to the circuit implementation;

14 ist eine graphische Darstellung, die eine beispielhafte Baugruppe des Stators für den Zweck des Anordnens der optischen Skala in einem Zielbereich für die Detektion veranschaulicht; 14 Fig. 12 is a diagram illustrating an exemplary assembly of the stator for the purpose of arranging the optical scale in a target area for detection;

15 ist eine graphische Darstellung, die eine beispielhafte Baugruppe des Stators für den Zweck des Anordnens der optischen Skala in dem Zielbereich für die Detektion veranschaulicht; 15 Fig. 12 is a diagram illustrating an exemplary assembly of the stator for the purpose of arranging the optical scale in the target area for detection;

16 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären eines Beispiels des Detektors; 16 Fig. 12 is an explanatory diagram for explaining an example of the detector;

17 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären eines Beispiels eines ersten Lichtempfängers des Detektors; 17 Fig. 12 is an explanatory diagram for explaining an example of a first light receiver of the detector;

18 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären eines Beispiels eines dritten Lichtempfängers des Detektors; 18 Fig. 12 is an explanatory diagram for explaining an example of a third photoreceiver of the detector;

19 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären der Trennung der Polarisationskomponenten, die mit der optischen Skala ausgeführt wird; 19 Fig. 12 is an explanatory diagram for explaining the separation of the polarization components performed with the optical scale;

20 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären der Trennung der Polarisationskomponenten, die mit der optischen Skala ausgeführt wird; 20 Fig. 12 is an explanatory diagram for explaining the separation of the polarization components performed with the optical scale;

21 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären der Trennung der Polarisationskomponenten, die mit der optischen Skala ausgeführt wird; 21 Fig. 12 is an explanatory diagram for explaining the separation of the polarization components performed with the optical scale;

22 ist ein funktionaler Blockschaltplan des optischen Codierers; 22 Fig. 10 is a functional block diagram of the optical encoder;

23 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären des Drehwinkels der optischen Skala und der Variation der Lichtintensität der Polarisationskomponente jedes Lichtempfängers; 23 Fig. 12 is an explanatory diagram for explaining the rotation angle of the optical scale and the variation of the light intensity of the polarization component of each light receiver;

24 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären einer Beziehung zwischen dem Drehwinkel der optischen Skala und dem Lissajous-Winkel; 24 Fig. 12 is an explanatory diagram for explaining a relationship between the rotation angle of the optical scale and the Lissajous angle;

25 ist eine graphische Darstellung zum Erklären des Generators; 25 Fig. 12 is a diagram for explaining the generator;

26 ist eine graphische Darstellung, die eine Beziehung zwischen einem abgehenden Bereich des Lichts von dem Generator und den Positionen des Detektors und einer Welle veranschaulicht; 26 Fig. 12 is a graph illustrating a relationship between an outgoing portion of the light from the generator and the positions of the detector and a shaft;

27 ist ein Ablaufplan zum Erklären eines beispielhaften Ablaufs der Prozesse in Bezug auf die Herstellung des Sensors; 27 FIG. 10 is a flowchart for explaining an exemplary flow of the processes related to the manufacture of the sensor; FIG.

28 ist eine graphische Darstellung, die ein weiteres Beispiel der Anordnung mehrerer Lichtempfangsvorrichtungen des Detektors veranschaulicht; 28 Fig. 12 is a diagram illustrating another example of the arrangement of a plurality of light receiving devices of the detector;

29 ist eine externe perspektivische Ansicht eines Sensors, in dem ein Stator, der eine andere äußere Form als in dem in 2 veranschaulichten Beispiel aufweist, verwendet wird; 29 FIG. 12 is an external perspective view of a sensor in which a stator having a different outer shape than that in FIG 2 illustrated example is used;

30 ist eine graphische Darstellung, die den Sensor veranschaulicht, der in einem Loch angebracht ist, das in einem tafelförmigen Element ausgebildet ist; und 30 Fig. 12 is a diagram illustrating the sensor mounted in a hole formed in a tabular member; and

31 ist eine graphische Darstellung, die eine beispielhafte Querschnittsform eines nach innen abgeflachten Abschnitts veranschaulicht. 31 FIG. 12 is a diagram illustrating an exemplary cross-sectional shape of an inwardly flattened portion. FIG.

Beschreibung der AusführungsformenDescription of the embodiments

Im Folgenden wird eine beispielhafte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen ausführlich beschrieben. Die vorliegende Erfindung ist jedoch in der Ausführungsform nicht durch die im Folgenden angegebene Beschreibung eingeschränkt. Die in der folgenden Erklärung erwähnten konstituierenden Elemente enthalten überdies konstituierende Elemente, die einem Fachmann auf dem Gebiet leicht einfallen können, und enthalten äquivalente konstituierende Elemente. Weiterhin können die im Folgenden beschriebenen konstituierenden Elemente geeignet kombiniert werden.Hereinafter, an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited in the embodiment by the description given below. Moreover, the constituent elements mentioned in the following explanation contain constituent elements that may be readily apparent to one skilled in the art and include equivalent constituent elements. Furthermore, the constituent elements described below can be suitably combined.

1 ist eine graphische Konfigurationsdarstellung eines Sensors 31 gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 2 ist eine externe perspektivische Ansicht des Sensors 31. Folglich repräsentiert 1 eine schematische Querschnittsansicht nach 2. 3 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären einer beispielhaften Anordnung eines Generators 41, einer optischen Skala 11 und eines Detektors 35. 4 ist ein Blockschaltplan eines optischen Codierers 2. 5 ist eine erklärende graphische Darstellung eines beispielhaften Musters der optischen Skala 11. Der Sensor 31 enthält den Generator 41, der ein durch elektromagnetische Wellen (z. B. Licht) repräsentiertes Detektionsziel erzeugt; den Detektor 35, der das durch den Generator 41 erzeugte Detektionsziel über einen Zielbereich für die Detektion detektiert; und ein Substrat 50, auf dem der Generator 41 und der Detektor 35 angeordnet sind. In der vorliegenden Ausführungsform enthält der Sensor 31 ferner einen Rotor 10 und einen Stator 20. Der Rotor 10 enthält eine Welle 12, die mit einer sich drehenden Maschine, wie z. B. einem Motor, gekoppelt ist, und weist einen Bewegungskörper (die optisches Skala 11) auf, der an einem Endabschnitt der Welle 12 befestigt ist und der in einer drehbaren Weise in dem Zielbereich für die Detektion angeordnet ist. Hier ist der Zielbereich für die Detektion der Raum zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35. Der Generator 41 gemäß der vorliegenden Ausführungsform enthält eine Lichtemissionsvorrichtung, die Licht emittiert. Der Detektor 35 gemäß der vorliegenden Ausführungsform ist eine Lichtempfangsvorrichtung, die das durch den Generator 41, der die Lichtemissionsvorrichtung repräsentiert, emittierte Licht empfängt. Insbesondere enthält der Detektor 35 gemäß der vorliegenden Ausführungsform vier Lichtempfangsvorrichtungen, nämlich einen ersten Lichtempfänger PD1, der eine Polarisationsschicht PP1 aufweist, einen zweiten Lichtempfänger PD2, der eine Polarisationsschicht PP2 aufweist, einen dritten Lichtempfänger PD3, der eine Polarisationsschicht PP3 aufweist, und einen vierten Lichtempfänger PD4, der eine Polarisationsschicht PP4 aufweist. Um zu veranschaulichen, dass das einfallende Licht 73, das das Quelllicht 71 repräsentiert, das von dem Generator 41 emittiert wird, das auf die Lichtempfänger (den ersten Lichtempfänger PD1 bis vierten Lichtempfänger PD4) fällt, durch die Polarisationsschichten PP1 bis PP4 hindurchgeht; sind in 3 die Polarisationsschichten PP1 bis PP4 jeweils von dem ersten Lichtempfänger PD1 bis vierten Lichtempfänger PD4 getrennt veranschaulicht. In der Realität stoßen jedoch die Polarisationsschichten PP1 bis PP4 jeweils gegen den ersten Lichtempfänger PD1 bis vierten Lichtempfänger PD4 an. 1 is a graphical configuration representation of a sensor 31 according to the embodiment of the present invention. 2 is a external perspective view of the sensor 31 , Consequently, represented 1 a schematic cross-sectional view according to 2 , 3 Fig. 10 is an explanatory diagram for explaining an exemplary arrangement of a generator 41 , an optical scale 11 and a detector 35 , 4 Fig. 10 is a block diagram of an optical encoder 2 , 5 Fig. 10 is an explanatory diagram of an exemplary pattern of the optical scale 11 , The sensor 31 contains the generator 41 generating a detection target represented by electromagnetic waves (eg, light); the detector 35 that by the generator 41 detected detection target detected over a target area for the detection; and a substrate 50 on which the generator 41 and the detector 35 are arranged. In the present embodiment, the sensor includes 31 further a rotor 10 and a stator 20 , The rotor 10 contains a wave 12 , which with a rotating machine, such. As a motor, coupled, and has a moving body (the optical scale 11 ) at an end portion of the shaft 12 is attached and which is arranged in a rotatable manner in the target area for the detection. Here is the target area for detecting the space between the generator 41 and the detector 35 , The generator 41 According to the present embodiment includes a light emitting device that emits light. The detector 35 According to the present embodiment, a light receiving device is the one generated by the generator 41 , which represents the light emitting device, receives emitted light. In particular, the detector contains 35 According to the present embodiment, four light receiving devices, namely, a first light receiver PD1 having a polarizing layer PP1, a second light receiver PD2 having a polarizing layer PP2, a third light receiver PD3 having a polarizing layer PP3, and a fourth light receiver PD4 having a polarizing layer PP4 has. To illustrate that the incident light 73 that the source light 71 represented by the generator 41 which is incident on the light receivers (first light receiver PD1 to fourth light receiver PD4) through which polarization layers PP1 to PP4 pass; are in 3 the polarization layers PP1 to PP4 are respectively separated from the first light receiver PD1 to the fourth light receiver PD4. In reality, however, the polarization layers PP1 to PP4 abut against the first light receiver PD1 to the fourth light receiver PD4, respectively.

6 ist eine perspektivische Ansicht, die ein Beispiel des Substrats 50 veranschaulicht. 7 ist eine ebene Ansicht, die ein Beispiel des Substrats 50 veranschaulicht, bevor es gebogen wird. 8 ist eine graphische Darstellung, die eine beispielhafte Übereinstimmungsbeziehung zwischen der Anordnung der Schaltung auf der Fläche, auf der der Generator 41 und der Detektor 35 angeordnet sind, und der auf der Rückseite vorgesehenen Konfiguration veranschaulicht. 9 ist eine perspektivische Ansicht eines Körpers 21 des Stators 20 und einer beispielhaften Konfiguration, die an dem Körper 21 angeordnet ist. 10 ist eine perspektivische Ansicht einer beispielhaften Konfiguration, die an einem Unterkörper 22 des Stators 20 angeordnet ist. Die 11 und 12 sind graphische Darstellungen, die eine beispielhafte Positionsbeziehung zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 veranschaulichen. 13 ist eine ebene Ansicht, die ein beispielhaftes Substrat vor der Schaltungsimplementierung veranschaulicht. Die 14 und 15 sind graphische Darstellungen, die eine beispielhafte Baugruppe des Stators 20 für den Zweck des Anordnens der optischen Skala 11 in einem Zielbereich für die Detektion veranschaulichen. 16 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären eines Beispiels des Detektors 35. In dem Substrat 50 ist ein erster Abschnitt 51, an dem der Generator 41 installiert ist, in einer integrierten Weise mit einem zweiten Abschnitt 52, an dem der Detektor 35 installiert ist, ausgebildet. Wie in den 6 und 7 veranschaulicht ist, ist das Substrat 50 z. B. ein einziges Substrat, das den halbbogenförmigen ersten Abschnitt 51 und den kreisförmigen zweiten Abschnitt 52 enthält. Das Substrat 50 besteht z. B. aus flexiblen gedruckten Schaltungen (FPC) und weist verschiedene Schaltungen (z. B. eine in 6 veranschaulichte IC-Schaltung 60) einschließlich des Generators 41 und des Detektors 35, die daran angebracht sind, auf. Spezieller ist die FPC ein flexibles Verbindungsubstrat, in dem z. B. ein Isoliermaterial, wie z. B. ein Polyimidfilm oder ein Lötabdecklack-Film, als ein Basisfilm dient; eine Adhäsionsschicht und eine Leiterschicht auf dem Basisfilm ausgebildet sind; und Abschnitte ausgenommen der Anschlüsse (einschließlich der gelöteten Abschnitte) zwischen den Abschnitten in der Leiterschicht durch ein Isoliermaterial abgedeckt sind. Die Leiterschicht ist ein aus Kupfer hergestellter elektrischer Leiter, wobei Signalleitungen und Leistungsleitungen, die mit den Komponenten, wie z. B. verschiedenen Schaltungen, verbunden sind, gemäß ihren Muster auf der Leiterschicht vorgesehen sind. Eine spezifische Konfiguration eines flexiblen Substrats, das für die vorliegende Erfindung verwendet werden kann, ist jedoch nicht auf das oben angegebene Beispiel eingeschränkt, und kann bei Bedarf modifiziert werden. Mit Ausnahme des Detektors 35 und des Genaueres 41 bilden verschiedene Schaltungen, wie z. B. die IC-Schaltung 60, z. B. einen Vorverstärker AMP, eine Differenzoperationsschaltung DS, eine Filterschaltung NR und eine Multiplikationsschaltung AP, die in der später beschriebenen 22 veranschaulicht sind. In der folgenden Erklärung wird eine Fläche des Substrats 50, auf der der Generator 41 und der Detektor 53 angeordnet sind, als eine Oberseite 50A bezeichnet, während eine Fläche auf ihrer gegenüberliegenden Seite als eine Rückseite 50B bezeichnet wird (siehe 8). Überdies sind von der Oberseite 50A des Substrats 50 eine Oberseite 51A des ersten Abschnitts 51 und eine Oberseite 52A des zweiten Abschnitts 52 voneinander unterscheidbar. Weiterhin sind von der Rückseite 50B des Substrats 50 eine Rückseite 51B des ersten Abschnitts 51 und eine Rückseite 52B des zweiten Abschnitts 52 voneinander unterscheidbar. 6 Fig. 16 is a perspective view showing an example of the substrate 50 illustrated. 7 is a plane view, which is an example of the substrate 50 illustrated before it is bent. 8th FIG. 12 is a graph showing an exemplary correspondence relationship between the arrangement of the circuit on the surface on which the generator. FIG 41 and the detector 35 are arranged, and illustrates the configuration provided on the back. 9 is a perspective view of a body 21 of the stator 20 and an exemplary configuration attached to the body 21 is arranged. 10 FIG. 12 is a perspective view of an exemplary configuration attached to a lower body. FIG 22 of the stator 20 is arranged. The 11 and 12 are graphical representations illustrating an exemplary positional relationship between the generator 41 and the detector 35 illustrate. 13 Fig. 10 is a plan view illustrating an exemplary substrate prior to the circuit implementation. The 14 and 15 12 are diagrams illustrating an exemplary assembly of the stator 20 for the purpose of arranging the optical scale 11 in a target area for detection. 16 Fig. 10 is an explanatory diagram for explaining an example of the detector 35 , In the substrate 50 is a first section 51 at which the generator 41 is installed, in an integrated way with a second section 52 at which the detector 35 is installed, trained. As in the 6 and 7 is illustrated is the substrate 50 z. B. a single substrate, the semi-curved first section 51 and the circular second section 52 contains. The substrate 50 exists z. B. from flexible printed circuits (FPC) and has various circuits (eg 6 illustrated integrated circuit 60 ) including the generator 41 and the detector 35 that are attached to it. More specifically, the FPC is a flexible interconnect substrate in which z. B. an insulating material such. A polyimide film or a solder mask paint film serves as a base film; an adhesion layer and a conductor layer are formed on the base film; and portions excluding the terminals (including the soldered portions) between the portions in the conductor layer are covered by an insulating material. The conductor layer is an electrical conductor made of copper, wherein signal lines and power lines connected to the components such. B. different circuits, are provided according to their patterns on the conductor layer. However, a specific configuration of a flexible substrate which can be used for the present invention is not limited to the above example, and may be modified as necessary. Except for the detector 35 and the details 41 form various circuits, such. As the IC circuit 60 , z. A preamplifier AMP, a differential operation circuit DS, a filter circuit NR, and a multiplication circuit AP which will be described later 22 are illustrated. In the following explanation will be an area of the substrate 50 on which the generator 41 and the detector 53 are arranged as an upper side 50A while a surface on its opposite side as a back 50B is designated (see 8th ). Moreover, they are from the top 50A of the substrate 50 a top 51A of the first section 51 and a top 52A of the second section 52 distinguishable from each other. Furthermore, from the back 50B of the substrate 50 a back 51B of the first section 51 and a back 52B of the second section 52 distinguishable from each other.

In dem Substrat 50 ist ein tafelförmiges Stützelement an der Rückseite wenigstens einer der Fläche des ersten Abschnitts 51, auf der die elektronischen Komponenten einschließlich des Generators 41 angeordnet sind, und der Fläche des zweiten Abschnitts 52, auf der die elektronischen Komponenten einschließlich des Detektors 35 angeordnet sind, befestigt. Das tafelförmige Stützelement erhält die Fläche, auf der die elektronischen Komponenten angeordnet sind, in einer Ebene aufrecht. Spezieller sind abgesehen von den Photodioden (dem ersten Lichtempfänger PD1 bis vierten Empfänger PD4), die in den Lichtempfangsvorrichtungen enthalten sind, die Komponenten 61 auf der Fläche (d. h., der Oberseite 52A) des zweiten Abschnitts 52, auf der die Lichtempfangsvorrichtung angeordnet ist, innerhalb des Befestigungsbereichs der IC-Schaltung 60 auf der Rückseite 52B angeordnet, wie in 7 veranschaulicht ist. Die Komponenten 61 repräsentieren andere Schaltungen, die auf der Fläche (d. h., der Oberseite 52A) des zweiten Abschnitts 52, auf der die Lichtempfangsvorrichtungen angeordnet sind, angeordnet sind. Spezieller enthalten die Komponenten 61 Schaltungskomponenten, wie z. B. einen IC-Chip, einen Widerstand und einen Kondensator. Die IC-Schaltung 60 ist eine integrierte Schaltung, in der z. B. eine Baugruppe des quadratischen flachen Typs ohne Anschlüsse (Quad Flat No Leads Package) (QFN-Baugruppe) verwendet wird. Folglich ist gemäß der vorliegenden Ausführungsform das Stützelement des zweiten Abschnitts 52 eine Baugruppe der integrierten Schaltung (der IC-Schaltung 60). Eine oder mehrere elektronische Komponenten (wie z. B. der Detektor 35 und die Komponenten 61), die an dem zweiten Abschnitt 52, an dem die Baugruppe angebracht ist, angeordnet sind, sind auf der Rückseite an der Position der Baugruppe auf der anderen Seite des Substrats 50 angeordnet. Der Typ der Baugruppe der integrierten Schaltung ist nicht auf den QFN-Typ eingeschränkt. Das heißt, es kann irgendeine Stützstruktur verwendet werden, die als das Stützelement funktionieren kann, um die Fläche (z. B. die Oberseite 52A des zweiten Abschnitts 52), die der Fläche, auf der die integrierte Schaltung angeordnet ist, gegenüberliegt, in einer Ebene aufrechtzuerhalten. In der vorliegenden Ausführungsform enthalten die Komponenten 61, wie z. B. die anderen Schaltungen einschließlich eines IC-Chips, eines Widerstands und eines Kondensators, die auf der Oberseite 52A des zweiten Abschnitts 52 angeordnet sind, eine Baugruppenschaltung, die unter Verwendung des Lötens mit der Verdrahtung verbunden ist, und einen nackten Chip, der unter Verwendung des Drahtbondens mit der Verdrahtung verbunden ist. Dies ist jedoch lediglich beispielhaft, wobei die Konfiguration nicht darauf eingeschränkt ist. Das heißt, es kann entweder die Baugruppenschaltung oder der nackte Chip verwendet werden oder es können einige oder alle Schaltungen andere Baugruppentypen verwenden.In the substrate 50 is a tabular support member on the back of at least one of the surfaces of the first section 51 on which the electronic components including the generator 41 are arranged, and the surface of the second section 52 on which the electronic components including the detector 35 are arranged, fastened. The tabular support member maintains the surface on which the electronic components are disposed in a plane. More specifically, apart from the photodiodes (the first light receiver PD1 to the fourth receiver PD4) included in the light receiving devices, the components 61 on the surface (ie, the top 52A ) of the second section 52 on which the light receiving device is disposed, within the mounting area of the integrated circuit 60 on the back side 52B arranged as in 7 is illustrated. The components 61 represent other circuits on the surface (ie, the top 52A ) of the second section 52 on which the light receiving devices are arranged are arranged. More specifically contain the components 61 Circuit components, such. As an IC chip, a resistor and a capacitor. The IC circuit 60 is an integrated circuit in which z. For example, a Quad Flat No Leads Package (QFN) package is used. Thus, according to the present embodiment, the support member of the second section 52 an assembly of the integrated circuit (the IC circuit 60 ). One or more electronic components (such as the detector 35 and the components 61 ), on the second section 52 on which the assembly is mounted are located on the back side at the position of the assembly on the other side of the substrate 50 arranged. The type of the integrated circuit package is not limited to the QFN type. That is, any support structure that can function as the support member may be used to support the surface (eg, the top 52A of the second section 52 ), which is opposite to the surface on which the integrated circuit is arranged, to maintain in one plane. In the present embodiment, the components include 61 , such as Example, the other circuits including an IC chip, a resistor and a capacitor, on the top 52A of the second section 52 an assembly circuit connected to the wiring using the soldering, and a bare chip connected to the wiring using the wire bonding. However, this is merely exemplary, the configuration is not limited thereto. That is, either the package circuit or the bare chip may be used, or some or all of the circuits may use other types of packages.

Wie in 8 veranschaulicht ist, ist ein Stützsubstrat 65 auf der Rückseite der Fläche des ersten Abschnitts 51 gemäß der vorliegenden Ausführungsform, auf der eine Lichtemissionsvorrichtung, die eine darin angeordnete Lichtemissionsvorrichtung 41U aufweist (siehe 25), angeordnet. Das Stützsubstrat 65 ist ein tafelförmiges Element, das eine halbbogenförmige Form aufweist und z. B. der gegenbogenförmigen Form des ersten Abschnitts 51 entspricht. Spezieller wird angenommen, dass eine torusförmige (bogenartige) Plattenoberfläche, in der ein kreisförmiges Loch, das einen Durchmesser aufweist, der kleiner als der Durchmesser der kreisförmigen Platte ist, in der Mitte der kreisförmigen Platte ausgebildet ist, entlang dem Durchmesser in zwei Abschnitte aufgeteilt ist. In diesem Fall weisen der erste Abschnitt 51 und das Stützsubstrat 65 eine halbbogenförmige Plattenoberfläche auf, die einem der beiden aufgeteilten Abschnitte entspricht. Das Stützsubstrat 65 ist z. B. aus einem Harz hergestellt, das Isolationseigenschaften aufweist. Folglich ist das Stützelement des ersten Abschnitts 51 in der vorliegenden Ausführungsform ein röhrenförmiges Element, das Isolationseigenschaften aufweist und in Übereinstimmung mit der Form des ersten Abschnitts 51 geformt ist. Das Stützsubstrat 65 gemäß der vorliegenden Ausführungsform ist nur ein Beispiel des Stützelements, das keine Schaltung ist. Das Stützelement ist jedoch nicht auf das Stützsubstrat 65 eingeschränkt und kann geeignet geändert werden.As in 8th is a supporting substrate 65 on the back of the surface of the first section 51 according to the present embodiment, on which a light emitting device having a light emitting device disposed therein 41U has (see 25 ). The support substrate 65 is a tabular element having a semi-arcuate shape and z. B. the counter-arched shape of the first section 51 equivalent. More specifically, it is assumed that a toroidal (sheet-like) plate surface in which a circular hole having a diameter smaller than the diameter of the circular plate formed in the center of the circular plate is divided into two sections along the diameter , In this case, the first section 51 and the support substrate 65 a semicircular plate surface corresponding to one of the two divided sections. The support substrate 65 is z. B. made of a resin having insulating properties. Consequently, the support member of the first section 51 in the present embodiment, a tubular member having insulating properties and in conformity with the shape of the first portion 51 is shaped. The support substrate 65 According to the present embodiment, only one example of the support member that is not a circuit. However, the support member is not on the support substrate 65 restricted and can be changed appropriately.

Das Substrat 50 weist ein Verbindungselement 53 zum Verbinden des ersten Abschnitts 51 und des zweiten Abschnitts 53 auf. Spezieller ist das Verbindungselement 53 z. B. zwischen dem ersten Abschnitt 51 und dem zweiten Abschnitt 52 vorgesehen und verbindet den äußeren Umfang des Bogens des ersten Abschnitts 51 und den äußeren Umfang des Bogens des zweiten Abschnitts 52, wie in den 6 und 7 veranschaulicht ist.The substrate 50 has a connection element 53 to connect the first section 51 and the second section 53 on. More specifically, the connecting element 53 z. B. between the first section 51 and the second section 52 provided and connects the outer circumference of the arc of the first section 51 and the outer circumference of the arch of the second section 52 as in the 6 and 7 is illustrated.

Das Verbindungselement 53 enthält eine Verdrahtung, die mit dem Generator 41 (oder dem Detektor 35) verbunden werden soll. In der vorliegenden Ausführungsform enthält das Verbindungselement 53 Signalleitungen und Leistungsleitungen, die mit dem Generator 41 verbunden sind. Spezieller ist die Verdrahtung des Verbindungselements 53 z. B. als Signalleitungen und Leistungsleitungen vorgesehen, die in einer FPC implementiert sind. Obwohl in dem Verbindungselement 53 gemäß der vorliegenden Ausführungsform keine Schaltung installiert ist, ist es außerdem möglich, Komponenten, wie z. B. eine Schaltung, in dem Verbindungselement 53 zu installieren.The connecting element 53 contains a wiring that connects to the generator 41 (or the detector 35 ) should be connected. In the present embodiment, the connecting element includes 53 Signal lines and power lines connected to the generator 41 are connected. More specifically, the wiring of the connecting element 53 z. B. as signal lines and power lines, which are implemented in an FPC. Although in the connecting element 53 according to the present embodiment, no circuit is installed, it is also possible components such. B. a circuit in the connecting element 53 to install.

Wie in den 6 und 7 veranschaulicht ist, weist das Verbindungselement 53 gemäß der vorliegenden Ausführungsform in einer Richtung, die zu einer Erstreckungsrichtung des Verbindungselements 53 zwischen dem ersten Abschnitt 51 und dem zweiten Abschnitt 52 senkrecht ist und die entlang der Plattenoberfläche des Substrats 50 verläuft, eine kleinere Breite als jene des ersten Abschnitts 51 und des zweiten Abschnitts 52 auf.As in the 6 and 7 is illustrated has the connector 53 According to the present embodiment, in a direction to an extension direction of the connecting element 53 between the first section 51 and the second section 52 is perpendicular and along the plate surface of the substrate 50 runs, a smaller width than that of the first section 51 and the second section 52 on.

Das Substrat 50 enthält einen Kabelbaumabschnitt 54, der die Verdrahtung enthält, die mit dem Generator 41 und dem Detektor 35 zu verbinden ist. Spezieller ist der Kabelbaumabschnitt 54 z. B. angeordnet, so dass er sich von dem ersten Abschnitt 51 und auf der dem Verbindungselement 53 gegenüberliegenden Seite erstreckt, wie in den 6 und 7 veranschaulicht ist. Der Kabelbaumabschnitt 54 enthält die Signalleitungen und die Leistungsleitungen, die mit verschiedenen Schaltungen zu verbinden sind, die in dem Generator 41, dem Detektor 35 und dem Substrat 50 installiert sind. Spezieller ist die Verdrahtung in dem Kabelbaumabschnitt 54 z. B. als die Signalleitungen und die Leistungsleitungen vorgesehen, die in einer FPC implementiert sind. In der vorliegenden Ausführungsform ist die Verdrahtung des Generators 41 in dem ersten Abschnitt 51, dem Verbindungselement 53 und dem Kabelbaumabschnitt 54 vorgesehen. Überdies ist die Verdrahtung des Detektors 35 in dem zweiten Abschnitt 52 und dem Kabelbaumabschnitt 54 vorgesehen.The substrate 50 includes a harness section 54 that contains the wiring to the generator 41 and the detector 35 to connect. More specifically, the harness section 54 z. B. arranged so that it extends from the first section 51 and on the connecting element 53 extends opposite side, as in the 6 and 7 is illustrated. The harness section 54 contains the signal lines and the power lines to be connected to various circuits in the generator 41 , the detector 35 and the substrate 50 are installed. More specifically, the wiring is in the harness section 54 z. For example, as the signal lines and the power lines implemented in an FPC. In the present embodiment, the wiring of the generator 41 in the first section 51 , the connecting element 53 and the harness section 54 intended. Moreover, the wiring of the detector 35 in the second section 52 and the harness section 54 intended.

Wie in 1 veranschaulicht ist, kann der Kabelbaumabschnitt 54 z. B. mit einem Verbinder CNT verbunden sein. Hier ist der Verbinder CNT eine Schnittstelle zum Verbinden des Sensors 31 mit anderen Vorrichtungen (z. B. einer Arithmetikvorrichtung 3). Folglich ist der Sensor 31 über den Verbinder CNT mit der Arithmetikvorrichtung 3 verbunden. Das heißt, der Kabelbaumabschnitt 54 arbeitet als die Verdrahtung zum Verbinden verschiedener auf dem Substrat 50 installierter Schaltungen mit anderen Vorrichtungen (z. B. der Arithmetikvorrichtung 3). Der Kabelbaumabschnitt 54 kann außerdem Komponenten, wie z. B. darin installierte Schaltungen, aufweisen. Der Verbinder CNT kann weggelassen sein. In diesem Fall ist das vordere Ende des Kabelbaumabschnitts 54 z. B. als ein Anschluss vorgesehen, der in den (nicht veranschaulichten) Verbinder eingesetzt ist, der an der Vorrichtung vorgesehen ist, mit der der Sensor 31 verbunden werden soll.As in 1 is illustrated, the harness section 54 z. B. connected to a connector CNT. Here, the connector CNT is an interface for connecting the sensor 31 with other devices (eg, an arithmetic device 3 ). Consequently, the sensor 31 via the connector CNT with the arithmetic device 3 connected. That is, the harness section 54 works as the wiring for connecting different on the substrate 50 installed circuits with other devices (eg the arithmetic device 3 ). The harness section 54 can also components such. B. circuits installed therein have. The connector CNT may be omitted. In this case, the front end of the harness section 54 z. B. is provided as a terminal, which is inserted into the (not shown) connector, which is provided on the device, with which the sensor 31 to be connected.

Das Substrat 50 ist in einer derartigen Weise angeordnet, dass der erste Abschnitt 51 und der zweite Abschnitt 52 zueinander parallel sind. Spezieller ist das Substrat 50 in eine derartige Form (die C-Form) gebogen, wie in den 1 und 6 veranschaulicht ist, dass der Generator 41 und der Detektor 35 einander gegenüberliegend positioniert sind. In der vorliegenden Ausführungsform ist an zwei Biegepositionen 55a und 55b, die in dem Verbindungselement 53 vorgesehen sind, das Substrat 50 in rechten Winkeln gebogen, so dass die Oberseite 50A der Innenseite zugewandt ist. Das heißt, das Substrat 50 ist in einer derartigen Weise gebogen, dass sowohl der erste Abschnitt 51 als auch der zweite Abschnitt 52 bezüglich des Verbindungselements 53 einen rechten Winkel bilden und dass der erste Abschnitt 51 und der zweite Abschnitt 52 einander gegenüberliegend positioniert sind. Damit sind der erste Abschnitt 51 und der zweite Abschnitt 52 parallel zueinander und sind der Generator 41 und der Detektor 35 einander gegenüberliegend positioniert. In der vorliegenden Ausführungsform wird von den beiden Biegepositionen 55a und 55b die Biegeposition, die sich näher an dem ersten Abschnitt 51 befindet, als die Biegeposition 55a bezeichnet, während die Biegeposition, die sich näher an dem zweiten Abschnitt 52 befindet, als die Biegeposition 55b bezeichnet wird.The substrate 50 is arranged in such a way that the first section 51 and the second section 52 are parallel to each other. More specific is the substrate 50 in such a shape (the C-shape) bent as in the 1 and 6 It is illustrated that the generator 41 and the detector 35 are positioned opposite each other. In the present embodiment is at two bending positions 55a and 55b which are in the connecting element 53 are provided, the substrate 50 bent at right angles, leaving the top 50A facing the inside. That is, the substrate 50 is bent in such a way that both the first section 51 as well as the second section 52 with respect to the connecting element 53 form a right angle and that the first section 51 and the second section 52 are positioned opposite each other. This is the first section 51 and the second section 52 parallel to each other and are the generator 41 and the detector 35 positioned opposite each other. In the present embodiment, of the two bending positions 55a and 55b the bending position, which is closer to the first section 51 is located as the bending position 55a referred to, while the bending position, which is closer to the second section 52 is located as the bending position 55b referred to as.

Die Fläche des ersten Abschnitts 51, auf der der Generator 41 installiert ist, und die Fläche des zweiten Abschnitts 52, auf der der Detektor 35 installiert ist, befinden sich auf derselben Fläche des Substrats 50 (d. h., der Oberseite 50A). Wenn die Fläche, auf der der Generator 41 installiert ist, der Fläche, auf der der Detektor 35 angeordnet ist, gegenüberliegend positioniert ist, wird die Positionsbeziehung zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 so, dass das durch den Generator 41 erzeugte Detektionsziel (z. B. das Licht) durch den Detektor 35 detektierbar ist, wie in 3 und anderen Figuren veranschaulicht ist. Überdies entspricht der Raum zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35, die einander gegenüberliegend positioniert sind, dem Zielbereich für die Detektion.The area of the first section 51 on which the generator 41 is installed, and the area of the second section 52 on which the detector 35 are installed on the same surface of the substrate 50 (ie, the top 50A ). If the area on which the generator 41 is installed, the area on which the detector 35 is positioned opposite, the positional relationship between the generator 41 and the detector 35 so that through the generator 41 generated detection target (eg the light) by the detector 35 is detectable, as in 3 and other figures. Moreover, the space between the generator corresponds 41 and the detector 35 which are positioned opposite each other, the target area for the detection.

In dieser Weise sind in dem Substrat 50 der erste Abschnitt 51, auf dem der Generator 41 angeordnet ist, der zweite Abschnitt 52, auf dem der Detektor 35 angeordnet ist, und das Verbindungselement 53, das den ersten Abschnitt 51 und den zweiten Abschnitt 52 verbindet, in einer integrierten Weise ausgebildet; wobei die Fläche (d. h., die Oberseite 51A) des ersten Abschnitts 51, auf der der Generator 41 installiert ist, und die Fläche (d. h., die Oberseite 52A) des zweiten Abschnitts 52, auf der der Detektor 35 installiert ist, durch das Biegen des Substrats 50 in rechten Winkeln an den beiden Biegepositionen 55a und 55b parallel zueinander und einander gegenüberliegend positioniert sind. Wie in 7 veranschaulicht ist, sind eine erste Achse LA, die die Biegeachse an der Biegeposition 55a repräsentiert, und eine zweite Achse LB, die die Biegeachse an der Biegeposition 55b repräsentiert, zueinander parallel. Hier entspricht eine Biegeachse einer Mittelachse für die Drehbewegung eines Abschnitts (z. B. des Verbindungselements 53) bezüglich des anderen Abschnitts (z. B. des ersten Abschnitts 51 oder des zweiten Abschnitts 52), der über die Biegeposition (z. B. die Biegeposition 55a oder die Biegeposition 55b) gegenüberliegend ist, beim Biegen des Substrats 50. In der vorliegenden Ausführungsform sind die erste Achse LA und die zweite Achse LB jeweils an Positionen vorhanden, die die beiden Biegelinien überlappen, die als die Faltlinien an den Biegepositionen 55a und 55b in dem Substrat 50 ausgebildet sind.In this way are in the substrate 50 the first paragraph 51 on which the generator 41 is arranged, the second section 52 on which the detector 35 is arranged, and the connecting element 53 that the first section 51 and the second section 52 connects, formed in an integrated way; the area (ie, the top 51A ) of the first section 51 on which the generator 41 is installed, and the area (ie, the top 52A ) of the second section 52 on which the detector 35 is installed by bending the substrate 50 at right angles to the two bending positions 55a and 55b are positioned parallel to each other and opposite each other. As in 7 are illustrated are a first axis LA, which is the bending axis at the bending position 55a and a second axis LB representing the bending axis at the bending position 55b represents, to each other parallel. Here, a bending axis corresponds to a central axis for the rotational movement of a portion (eg, the connecting member 53 ) with respect to the other section (eg the first section 51 or the second section 52 ), which exceeds the bending position (eg the bending position 55a or the bending position 55b ) when bending the substrate 50 , In the present embodiment, the first axis LA and the second axis LB are respectively present at positions that overlap the two bending lines that are the folding lines at the bending positions 55a and 55b in the substrate 50 are formed.

Überdies ist der Abstand zwischen einem ersten Punkt und der ersten Achse LA gleich dem Abstand zwischen einem zweiten Punkt und der zweiten Achse LB, wobei der erste Punkt der Mittelpunkt der Erzeugung des durch den Generator 41 erzeugten Detektionsziels in der Ebene vor dem Biegen des Substrats 50 ist, während der zweite Punkt entweder die Mitte des Detektionsbereichs, in dem das Detektionsziel durch den Detektor 35 detektiert wird, oder die Anordnungsmitte mehrerer Detektionsbereiche des Detektors 35 ist. Spezieller ist ein Abstand W1 zwischen einem Lichtemissionspunkt 41S des Generators 41 gemäß der vorliegenden Ausführungsform und der Biegelinie an der Biegeposition 55a, die als die erste Achse LA dient, gleich einem Abstand W2 zwischen einer Anordnungsmitte S0 der vier Lichtempfangsvorrichtungen einschließlich des ersten Lichtempfängers PD1, des zweiten Lichtempfängers PD2, der dritten Lichtempfangsvorrichtung PD2 und der vierten Lichtempfangsvorrichtung PD4 des Detektors 35 und der Biegelinie an der Biegeposition 55b, die als die zweite Achse LB dient, wie in 7 veranschaulicht ist. Hier repräsentiert der Lichtemissionspunkt 41S des Generators 41 den ersten Punkt gemäß der vorliegenden Ausführungsform, während die Anordnungsmitte S0 den zweiten Punkt gemäß der vorliegenden Ausführungsform repräsentiert.Moreover, the distance between a first point and the first axis LA is equal to the distance between a second point and the second axis LB, where the first point is the midpoint of generation by the generator 41 generated detection target in the plane before bending the substrate 50 while the second point is either the center of the detection area in which the detection target is through the detector 35 is detected, or the arrangement center of several detection areas of the detector 35 is. More specifically, a distance W1 is between a light emitting point 41S of the generator 41 according to the present embodiment and the bending line at the bending position 55a serving as the first axis LA equal to a distance W2 between a placement center S0 of the four light receiving devices including the first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiving device PD2 and the fourth light receiving device PD4 of the detector 35 and the bending line at the bending position 55b serving as the second axis LB, as in 7 is illustrated. Here represents the light emission point 41S of the generator 41 the first point according to the present embodiment, while the arrangement center S0 represents the second point according to the present embodiment.

Der erste Punkt und der zweite Punkt sind auf derselben Geraden entlang dem Substrat 50 vor dessen Biegen vorhanden, wobei sich diese Gerade mit der ersten Achse LA und der zweiten Achse LB in rechten Winkeln schneidet. Folglich sind der erste Punkt und der zweite Punkt auf derselben Geraden vorhanden, die zu der ersten Achse LA und der zweiten Achse LB orthogonal ist. Spezieller sind der Lichtemissionspunkt 41S des Generators 41 und die Anordnungsmitte S0 auf einer Geraden L1 vorhanden, die an den Biegepositionen 55a und 55b zu den beiden Biegelinien orthogonal ist, d. h., zu der ersten Achse LA und der zweiten Achse LB orthogonal ist, wie in 7 veranschaulicht ist.The first point and the second point are on the same line along the substrate 50 before its bending, this line intersects with the first axis LA and the second axis LB at right angles. Thus, the first point and the second point are on the same line orthogonal to the first axis LA and the second axis LB. More specifically, the light emission point 41S of the generator 41 and the locating center S0 exists on a straight line L1 at the bending positions 55a and 55b is orthogonal to the two bending lines, ie orthogonal to the first axis LA and the second axis LB, as in FIG 7 is illustrated.

Die vier Lichtempfangsvorrichtungen sind an verschiedenen Positionen in einer vorgegebenen Ebene angezeigt. Der Abstand zu einem einzigen Punkt in der vorgegebenen Ebene ist von jeder der vier Lichtempfangsvorrichtungen gleich. Die vier Liniensegmente, die den einzigen Punkt mit den jeweiligen Mitten der Lichtempfangsbereiche der vier Lichtempfangsvorrichtungen verbinden, befinden sich in rechten Winkeln zueinander. Spezieller sind die vier Lichtempfangsvorrichtungen, nämlich der erste Lichtempfänger PD1, der zweite Lichtempfänger PD2, der dritte Lichtempfänger PD3 und der vierte Lichtempfänger PD4 des Detektors 35 von einem einzigen Punkt (der Anordnungsmitte S0) auf der Oberseite 52A des zweiten Abschnitts 52 des Substrats 50 äquidistant angeordnet. Überdies sind auf der Oberseite 52A der erste Lichtempfänger PD1 und der dritte Lichtempfänger PD3 an punktsymmetrischen Positionen über der Anordnungsmitte S0 angeordnet, während der zweite Lichtempfänger PD2 und der vierte Lichtempfänger PD4 an punktsymmetrischen Positionen über der Anordnungsmitte S0 angeordnet sind. Überdies sind in der vorliegenden Ausführungsform die Lichtempfangsbereiche des ersten Lichtempfängers PD1, des zweiten Lichtempfängers PD2, des dritten Lichtempfängers PD3 und des vierten Lichtempfängers PD4 in der Form und den Abmessungen völlig gleich. Weiterhin sind in dem Detektor 35 die Mitte des Lichtempfangsbereichs des ersten Lichtempfängers PD1 und die Mitte des Lichtempfangsbereichs des dritten Lichtempfängers PD3 in einem Abstand von 2 W angeordnet, wobei die Anordnungsmitte S0 als der Mittelpunkt dient; während die Mitte des Lichtempfangsbereichs des zweiten Lichtempfängers PD2 und die Mitte des Lichtempfangsbereichs des vierten Lichtempfängers PD4 in einem Abstand von 2 W angeordnet sind, wobei die Anordnungsmitte S0 als der Mittelpunkt dient. Mit anderen Worten, die Mitte des Lichtempfangsbereichs jeder der vier Lichtempfangsvorrichtungen einschließlich des ersten Lichtempfängers PD1 bis vierten Lichtempfängers PD4 weist den völlig gleichen Abstand W bis zu der Anordnungsmitte S0 auf. In der vorliegenden Ausführungsform ist der Abstand W von der Mitte des Lichtempfangsbereichs jedes des ersten Lichtempfängers PD1, des zweiten Lichtempfängers PD2, des dritten Lichtempfängers PD3 und des vierten Lichtempfängers PD4 bis zur Anordnungsmitte S0 größer als eine Breite w des ersten Lichtempfängers PD1, des zweiten Lichtempfängers PD2, des dritten Lichtempfängers PD3 und des vierten Lichtempfängers PD4. Falls die x-Achse durch eine virtuelle Achse repräsentiert wird, die durch die Mitte des Lichtempfangsbereichs des ersten Lichtempfängers PD1, die Anordnungsmitte S0 und die Mitte des Lichtempfangsbereichs des dritten Lichtempfängers PD3 hindurchgeht, und falls die y-Achse durch eine virtuelle Achse repräsentiert wird, die durch die Mitte des Lichtempfangsbereichs des zweiten Lichtempfängers PD2, die Anordnungsmitte S0 und die Mitte des Lichtempfangsbereichs des vierten Lichtempfängers PD4 hindurchgeht; dann sind die x-Achse und die y-Achse auf der Oberseite 52A des zweiten Abschnitts 52 zueinander orthogonal. Das heißt, auf der Oberseite 52A des zweiten Abschnitts 52 bilden die Mitte des Lichtempfangsbereichs des ersten Lichtempfängers PD1 und die Mitte des Lichtempfangsbereichs des zweiten Lichtempfängers PD2 einen Winkel θ1 dazwischen, der gleich 90° ist. Ähnlich bilden die Mitte des Lichtempfangsbereichs des zweiten Lichtempfängers PD2 und die Mitte des Lichtempfangsbereichs des dritten Lichtempfängers PD3 einen Winkel θ2 dazwischen, der gleich 90° ist; bilden die Mitte des Lichtempfangsbereichs des dritten Lichtempfängers PD3 und die Mitte des Lichtempfangsbereichs des vierten Lichtempfängers PD4 einen Winkel θ3 dazwischen, der gleich 90° ist; und bilden die Mitte des Lichtempfangsbereichs des vierten Lichtempfängers PD4 und die Mitte des Lichtempfangsbereichs des ersten Lichtempfängers PD1 einen Winkel θ4 dazwischen, der gleich 90° ist. In dieser Weise sind der erste Lichtempfänger PD1, der zweite Lichtempfänger PD2, der dritte Lichtempfänger PD3 und der vierte Lichtempfänger PD4 in einer konzyklischen Weise bei 90° voneinander auf der Oberseite 52A um die Anordnungsmitte S0 angeordnet, die als die Mitte des Kreises dient. Überdies ist die x-y-Ebene, die die x-Achse und die y-Achse enthält, zu einer z-Achse orthogonal, die den Lichtemissionspunkt 41S des Generators 41 mit der Anordnungsmitte S0 verbindet. Das heißt, wenn vom Generator 41 entlang der Richtung der z-Achse von der Oberseite 52A hinuntergesehen wird, überlappt der Lichtemissionspunkt 41S die Anordnungsmitte S0. Das heißt, eine Gerade L2 (siehe 12), die die Normale einer vorgegebenen Ebene (z. B. der Oberseite 52A des zweiten Abschnitts 52) repräsentiert, die durch einen einzigen Punkt (die Anordnungsmitte S0) hindurchgeht, geht durch die Mitte des Lichtemissionspunkts 41S des Generators 41 hindurch. Folglich sind der erste Lichtempfänger PD1, der zweite Lichtempfänger PD2, der dritte Lichtempfänger PD3 und der vierte Lichtempfänger PD4 von dem Lichtemissionspunkt 41S des Lichtemitters 41 äquidistant angeordnet.The four light receiving devices are displayed at different positions in a given plane. The distance to a single point in the given plane is the same for each of the four light receiving devices. The four line segments connecting the single point to the respective centers of the light receiving areas of the four light receiving devices are at right angles to each other. More specifically, the four light receiving devices, namely, the first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiver PD3, and the fourth light receiver PD4 of the detector 35 from a single point (the placement center S0) on the top 52A of the second section 52 of the substrate 50 arranged equidistantly. Moreover, they are on the top 52A the first light receiver PD1 and the third light receiver PD3 are arranged at point-symmetrical positions above the arrangement center S0, while the second light receiver PD2 and the fourth light receiver PD4 are arranged at point-symmetrical positions above the arrangement center S0. Moreover, in the present embodiment, the light receiving areas of the first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiver PD3 and the fourth light receiver PD4 are identical in shape and dimensions. Furthermore, in the detector 35 the center of the light receiving area of the first light receiver PD1 and the center of the light receiving area of the third light receiver PD3 are arranged at a distance of 2W, the locating center S0 serving as the center; while the center of the light receiving area of the second light receiver PD2 and the center of the light receiving area of the fourth light receiver PD4 are arranged at a pitch of 2W, the locating center S0 serving as the center. In other words, the center of the light receiving area of each of the four light receiving devices including the first light receiver PD1 to fourth light receiver PD4 has the same distance W to the arrangement center S0. In the present embodiment, the distance W from the center of the light receiving area of each of the first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiver PD3 and the fourth light receiver PD4 to the arrangement center S0 is larger than a width w of the first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiver PD3 and the fourth light receiver PD4. If the x-axis is represented by a virtual axis passing through the center of the light receiving area of the first light receiver PD1, the arrangement center S0 and the center of the light receiving area of the third light receiver PD3, and if the y-axis is represented by a virtual axis, passing through the center of the light receiving area of the second light receiver PD2, the arranging center S0, and the center of the light receiving area of the fourth light receiver PD4; then the x-axis and the y-axis are on the top 52A of second section 52 orthogonal to each other. That is, on the top 52A of the second section 52 The center of the light receiving area of the first light receiver PD1 and the center of the light receiving area of the second light receiver PD2 form an angle θ1 therebetween equal to 90 °. Similarly, the center of the light receiving area of the second light receiver PD2 and the center of the light receiving area of the third light receiver PD3 form an angle θ2 therebetween equal to 90 °; the center of the light receiving area of the third light receiver PD3 and the center of the light receiving area of the fourth light receiver PD4 form an angle θ3 therebetween equal to 90 °; and the center of the light receiving area of the fourth light receiver PD4 and the center of the light receiving area of the first light receiver PD1 form an angle θ4 equal to 90 ° therebetween. In this way, the first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiver PD3, and the fourth light receiver PD4 are in a conjoint manner at 90 ° from each other on the top side 52A arranged around the arrangement center S0, which serves as the center of the circle. Moreover, the xy plane containing the x-axis and the y-axis is orthogonal to a z-axis which is the light emission point 41S of the generator 41 with the arrangement center S0 connects. That is, if from the generator 41 along the z-axis direction from the top 52A is looked down, the light emission point overlaps 41S the arrangement center S0. That is, a line L2 (see 12 ), which are the normals of a given plane (eg the top 52A of the second section 52 ) passing through a single point (the arrangement center S0) passes through the center of the light emitting point 41S of the generator 41 therethrough. Consequently, the first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiver PD3, and the fourth light receiver PD4 are from the light emitting point 41S of the light emitter 41 arranged equidistantly.

Der Detektor 35 detektiert die Änderungen des Detektionsziels (z. B. die elektromagnetischen Wellen des Lichts), die den Änderungen der physikalischen Größe in dem Zielbereich für die Detektion zugeschrieben werden. Die Änderungen der physikalischen Größe werden z. B. der Drehung des Bewegungskörpers in dem Zielbereich für die Detektion zugeschrieben. Spezifischer ist z. B. die optische Skala 11 des Rotors 10 in dem Zielbereich für die Detektion installiert, wie in den 1 bis 3 veranschaulicht ist. Der Sensor 31 führt die Ausgabe gemäß den Änderungen des Detektionsergebnisses des Detektionsziels aus, die der Drehung der optischen Skala 11 zugeschrieben werden, die den Bewegungskörper repräsentiert. Das heißt, der Sensor 31 arbeitet als ein Drehgeber, der die Winkelposition des Drehbewegungskörpers detektiert, der mit dem Rotor 10 zum Übertragen der Drehbewegung verbunden ist.The detector 35 detects the changes in the detection target (eg, the electromagnetic waves of light) attributed to the changes in physical quantity in the target area for detection. The changes in physical size are z. B. attributed to the rotation of the moving body in the target area for the detection. More specific is z. As the optical scale 11 of the rotor 10 installed in the target area for detection, as in the 1 to 3 is illustrated. The sensor 31 performs the output according to the changes of the detection result of the detection target, that of the rotation of the optical scale 11 be attributed that represents the moving body. That is, the sensor 31 operates as a rotary encoder which detects the angular position of the rotary body of motion associated with the rotor 10 connected to transmit the rotational movement.

Einer des ersten Abschnitts 51 und des zweiten Abschnitts 52 ist kleiner als der andere der beiden. Spezieller weist der bogenförmige erste Abschnitt 51 der vorliegenden Ausführungsform z. B. einen Durchmesser auf, der im Wesentlichen zu dem Durchmesser des kreisförmigen zweiten Abschnitts 52 völlig gleich ist, wie in den 6 und 7 veranschaulicht ist. Der erste Abschnitt 51 weist eine halbbogenförmige Form auf, in der eine halbkreisförmige Kerbe 51a im inneren Umfang der halbkreisförmigen FPC ausgebildet ist. Aus diesem Grund ist der durch den ersten Abschnitt 51 in dem Substrat 50 belegte Bereich kleiner als der durch den zweiten Abschnitt 52 belegte Bereich. Die Kerbe 51a ist ausgebildet, um sicherzustellen, dass die Welle 12 und das Substrat 50 keinen Kontakt miteinander herstellen.One of the first section 51 and the second section 52 is smaller than the other of the two. More specifically, the arcuate first section 51 the present embodiment z. B. has a diameter substantially to the diameter of the circular second portion 52 is completely the same as in the 6 and 7 is illustrated. The first paragraph 51 has a semi-circular shape in which a semicircular notch 51a is formed in the inner periphery of the semicircular FPC. That's why the first section 51 in the substrate 50 occupied area smaller than that through the second section 52 occupied area. The score 51a is designed to ensure that the shaft 12 and the substrate 50 do not make contact with each other.

Der Rotor 10 enthält die optische Skala 11, die scheibenförmig ist, wie in 5 veranschaulicht ist, (oder polygonal ist). Die optische Skala 11 ist z. B. aus Silicium, Glas oder einem hochpolymeren Material hergestellt. Die optische Skala 11, die in 5 veranschaulicht ist, weist eine Signalspur T1 auf, die auf einer der Plattenoberflächen ausgebildet ist. Überdies ist in dem Rotor 10 die Welle 12 an der anderen Plattenoberfläche angebracht, die anders als die Plattenoberfläche ist, an der die optische Skala 11 angebracht ist. Die optische Skala 11 kann einen Gradienten aufweisen. Falls der Winkel des Gradienten klein ist, gibt es in diesem Fall keine Auswirkung auf die Polarisationstrennung. Die optische Skala 11 gemäß der vorliegenden Ausführungsform arbeitet als ein Element, das die Bewegung in dem Zielbereich für die Detektion ausführt, der zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 vorhanden ist, und einen Einfluss auf das Licht ausübt. Obwohl die optische Skala 11, die den Bewegungskörper gemäß der vorliegenden Ausführungsform repräsentiert, ein scheibenförmiges Element ist, das über eine Welle in einer drehbaren Weise gestützt ist, ist sie lediglich beispielhaft, wobei ihre Form oder dergleichen geeignet modifiziert werden kann.The rotor 10 contains the optical scale 11 , which is disc-shaped, as in 5 is illustrated (or is polygonal). The optical scale 11 is z. B. made of silicon, glass or a high polymer material. The optical scale 11 , in the 5 is illustrated has a signal trace T1 formed on one of the plate surfaces. Moreover, in the rotor 10 the wave 12 attached to the other plate surface, which is different than the plate surface at which the optical scale 11 is appropriate. The optical scale 11 may have a gradient. If the angle of the gradient is small, there is no effect on the polarization separation in this case. The optical scale 11 According to the present embodiment, as an element that performs the movement in the target area for detection works between the generator 41 and the detector 35 exists and exerts an influence on the light. Although the optical scale 11 1, which represents the moving body according to the present embodiment, is a disk-shaped member supported on a shaft in a rotatable manner, it is merely exemplified, and its shape or the like can be suitably modified.

Der Stator 20 ist aus einem lichtblockierenden Element hergestellt und umschreibt die Lager 26a und 26b, die Welle 12, die optische Skala 11, die an einem Endabschnitt der Welle 12 angebracht ist, und den Detektor 35. Folglich kann innerhalb des Stators 20 das optische Rauschen von außen niedrig gehalten werden. Der Stator 20 gemäß der vorliegenden Ausführungsform arbeitet als ein Gehäuse für das Substrat 50 und das Element (die optische Skala 11). Das Gehäuse enthält ein erstes Element, an dem irgendein Abschnitt des Substrats 50 befestigt ist, und ein zweites Element, das das Element in einer beweglichen Weise stützt. Spezieller enthält der Stator 20 den Körper 21, der als das zweite Element arbeitet, den Unterkörper 22, der als das erste Element arbeitet, und eine Abdeckung 23. Der Körper 21 ist ein Gehäuse, das die Welle 12 über die Lager 26a und 26b in einer drehbaren Weise stützt. Der innere Umfang des Körpers 21 ist an den Außenringen der Lager 26a und 26b befestigt, während der äußere Umfang des Körpers 21 an den Innenringen der Lager 26a und 26b befestigt ist. Wenn sich die Welle 12 aufgrund der von einer sich drehenden Maschine, wie z. B. einem Motor, übertragenen Drehungen dreht, dreht sich die optische Skala 11 zusammen mit der Welle 12 um eine Drehmitte Zr, die als die Achsenmitte dient. Der Körper 21 weist eine Öffnung 21a auf, die beim Anbringen des Unterkörpers 22, der an dem Substrat 50 angeordnet ist, an dem Körper 21 verwendet wird. Das Substrat 50 ist in einer derartigen Weise an dem Unterkörper 22 befestigt, dass von dem zweiten Abschnitt 52 des Substrats 50 wenigstens ein Abschnitt der Fläche auf der Seite, die der Seite gegenüberliegt, auf der der Detektor 35 installiert ist, (d. h., irgendein Abschnitt der Rückseite) gegen den Unterkörper 22 anstößt. Spezieller ist auf der Rückseite 50B des Substrats 50 die IC-Schaltung 60 als eine in dem Sensor 31 enthaltene Komponente angeordnet, wie oben beschrieben worden ist. Wie in 10 veranschaulicht ist, weist der Unterkörper 22 z. B. eine derartige Form auf, dass er die IC-Schaltung von außen auf der Rückseite bedeckt und gegen den kreisförmigen äußeren Umfang des zweiten Abschnitts 52 anstößt. Das Verbindungselement 53 des Substrats 50, das in der C-Form gebogen ist, ist an dem Unterkörper 22 befestigt und folglich positioniert, so dass es von dem zweiten Abschnitt 52 aufrecht steht. In dieser Weise ist der zweite Abschnitt 52 an dem Unterkörper 22 befestigt und ist folglich das Substrat 50 in der vorliegenden Ausführungsform an dem Unterkörper 22 befestigt. Die Abdeckung 23 bildet einen Teil des zylindrischen äußeren Umfangs des Stators 20. Die Abdeckung 23 ist auf der Seite der Öffnung 21a des Körpers 21, d. h., auf der einer Kerbe 21b, in der sich der Kabelbaumabschnitt 54 von dem Unterkörper 22 erstreckt, gegenüberliegenden Seite angeordnet. Wenn die Abdeckung 23 an einer Baugruppe angebracht ist, die durch das Zusammenbauen des Körpers 21 und des Unterkörpers 22 erhalten wird, um die Öffnung 21a abzudecken; bilden der Körper 21, der Unterkörper 22 und die Abdeckung 23 den zylindrischen Stator 20, wobei sie das Eintreten des äußeren optischen Rauschens in das Innere des Stators 20 blockieren. In dieser Weise arbeiten der Unterkörper 22 und die Abdeckung 23 als der Deckel des Körpers 21, das als das Gehäuse dient.The stator 20 is made of a light-blocking element and circumscribes the bearings 26a and 26b , the wave 12 , the optical scale 11 attached to an end portion of the shaft 12 attached, and the detector 35 , Consequently, inside the stator 20 the optical noise can be kept low from the outside. The stator 20 according to the present embodiment operates as a housing for the substrate 50 and the element (the optical scale 11 ). The housing includes a first element to which any portion of the substrate 50 is attached, and a second element which supports the element in a movable manner. More specifically, the stator contains 20 the body 21 as the second element works, the lower body 22 acting as the first element and a cover 23 , The body 21 is a housing that holds the shaft 12 over the camps 26a and 26b supports in a rotatable manner. The inner circumference of the body 21 is on the outer rings of the bearings 26a and 26b attached while the outer circumference of the body 21 on the inner rings of the bearings 26a and 26b is attached. When the wave 12 because of a rotating machine, such. As a motor, rotates transmitted rotates the optical scale 11 together with the wave 12 about a rotation center Zr serving as the axis center. The body 21 has an opening 21a on, when attaching the lower body 22 that is attached to the substrate 50 is arranged on the body 21 is used. The substrate 50 is in such a way on the lower body 22 attached that from the second section 52 of the substrate 50 at least a portion of the surface on the side opposite the side on which the detector is located 35 is installed (ie, any portion of the back) against the lower body 22 abuts. More special is on the back 50B of the substrate 50 the IC circuit 60 as one in the sensor 31 contained component as described above. As in 10 is illustrated, the lower body 22 z. B. has a shape such that it covers the IC circuit from the outside on the back and against the circular outer periphery of the second portion 52 abuts. The connecting element 53 of the substrate 50 that is bent in the C-shape is on the lower body 22 attached and thus positioned, leaving it from the second section 52 stands upright. In this way is the second section 52 on the lower body 22 attached and thus is the substrate 50 in the present embodiment, on the lower body 22 attached. The cover 23 forms part of the cylindrical outer circumference of the stator 20 , The cover 23 is on the side of the opening 21a of the body 21 ie, on the one notch 21b in which the wiring harness section 54 from the lower body 22 extends, arranged opposite side. If the cover 23 attached to an assembly by assembling the body 21 and the lower body 22 gets to the opening 21a cover; make up the body 21 , the lower body 22 and the cover 23 the cylindrical stator 20 wherein it is the entry of the external optical noise into the interior of the stator 20 To block. In this way work the lower body 22 and the cover 23 as the lid of the body 21 which serves as the housing.

Die Fläche des ersten Abschnitts 51 auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite ist mit dem zweiten Element (z. B. dem Körper 21) verbunden. Spezieller ist die Fläche des ersten Abschnitts 51 auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite (d. h., der Rückseite 51B) über ein tafelförmiges Element (z. B. das Stützsubstrat 65) mit dem zweiten Element verbunden. Spezieller ist in dem Stützsubstrat 65 gemäß der vorliegenden Ausführungsform ein Klebeband sowohl auf der Fläche, die gegen den ersten Abschnitt 51 anstößt, als auch auf der gegenüberliegenden Fläche angewendet. Dieses Band ist das, was als ein doppelseitiges Klebeband bezeichnet wird. Folglich ist eine Fläche des Stützsubstrats 65 über das Band mit der Fläche (d. h., der Rückseite 51B) auf der Rückseite des ersten Abschnitts 51 verbunden. Überdies weist die andere Fläche eine Klebstoffeigenschaft auf, während eine Fläche des Stützsubstrats 65 mit dem ersten Abschnitt 51 verbunden bleibt. Die andere Fläche ist über das Band mit der Fläche des Körpers 21, wo sich die Welle 12 von dem Körper 21 erstreckt und die dem Unterkörper 22 zugewandt ist, (die in der folgenden Erklärung als eine Verbindungsfläche 21c bezeichnet wird) verbunden. Folglich ist einer des ersten Abschnitts 51 und des zweiten Abschnitts 52 (in der vorliegenden Ausführungsform der zweite Abschnitt 52) an dem ersten Element (dem Unterkörper 22) befestigt. Die Fläche des anderen Abschnitts (in der vorliegenden Ausführungsform des ersten Abschnitts 51) auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite ist mit dem Körper 21 verbunden. Weil eine Fläche des tafelförmigen Elements (z. B. des Stützsubstrats 65) mit der Fläche (d. h., mit der Rückseite 51B) des anderen Abschnitts auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite verbunden bleibt, ist überdies die andere Fläche mit dem Körper 21 verbunden. Das tafelförmige Element (z. B. das Stützsubstrat 65) zwischen dem zweiten Element (z. B. dem Körper 21) und der Fläche (z. B. der Rückseite 51B) des anderen (z. B. des ersten Abschnitts 51) des ersten Abschnitts 51 und des zweiten Abschnitts 52 auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite weist wünschenswert mehr Steifigkeit als das Substrat 50 auf.The area of the first section 51 on the side opposite the target area for the detection is connected to the second element (eg the body 21 ) connected. More specific is the area of the first section 51 on the opposite side of the target area for detection (ie, the back 51B ) via a tabular element (eg the support substrate 65 ) connected to the second element. More specifically, in the backing substrate 65 according to the present embodiment, an adhesive tape on both the surface facing the first section 51 abuts, as well as applied to the opposite surface. This tape is what is referred to as a double sided tape. Consequently, an area of the support substrate is 65 across the band with the surface (ie, the back 51B ) on the back of the first section 51 connected. Moreover, the other surface has an adhesive property, while a surface of the support substrate 65 with the first section 51 remains connected. The other area is over the band with the area of the body 21 where the wave is 12 from the body 21 extends and the lower body 22 is facing (which in the following explanation as an interface 21c is designated) connected. Consequently, one of the first section 51 and the second section 52 (In the present embodiment, the second section 52 ) on the first element (the lower body 22 ) attached. The area of the other portion (in the present embodiment, the first portion 51 ) on the side opposite the target area for the detection is with the body 21 connected. Because one surface of the tabular member (eg, the support substrate 65 ) with the surface (ie, with the back 51B ) of the other portion on the opposite side of the target area for the detection is also the other surface with the body 21 connected. The tabular element (eg, the support substrate 65 ) between the second element (eg the body 21 ) and the surface (eg the back 51B ) of the other (eg the first section 51 ) of the first section 51 and the second section 52 on the opposite side of the target area for detection desirably has more rigidity than the substrate 50 on.

In der vorliegenden Ausführungsform ist die Fläche des ersten Abschnitts 51 auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite über das Stützsubstrat 65 mit dem zweiten Element verbunden. Dies ist jedoch nur ein spezifisches Beispiel der Verbindung, wobei die Verbindung nicht auf dieses Beispiel eingeschränkt ist. Alternativ kann z. B. die Rückseite 51B des ersten Abschnitts 51 unter Verwendung eines Klebers oder eines Bandes (wie z. B. eines doppelseitigen Klebebands) mit der Verbindungsfläche 21c verbunden sein. Spezieller können z. B. Punkte des Klebers auf mehrere Punkte in der Nähe des äußeren Umfangs oder auf mehrere Punkte auf dem inneren Umfang des Stützsubstrats 65 aufgetragen werden und können dann das Stützsubstrat 65 und die Rückseite 51B des ersten Abschnitts 51 punktbefestigt werden und können das Stützsubstrat 65 und die Verbindungsfläche 21c punktbefestigt werden. Überdies kann als die bis zum Festwerden des Klebers verwendete Verstärkung außerdem ein weiteres Band zusammen bei der Punktbefestigung verwendet werden.In the present embodiment, the area of the first section is 51 on the opposite side of the target area for the detection via the support substrate 65 connected to the second element. However, this is only a specific example of the compound, and the compound is not limited to this example. Alternatively, z. B. the back 51B of the first section 51 using an adhesive or a tape (such as a double-sided adhesive tape) with the bonding surface 21c be connected. More specifically, for. For example, dots of the adhesive on multiple points near the outer circumference or on multiple points on the inner circumference of the support substrate 65 can be applied and then the support substrate 65 and the back 51B of the first section 51 can be point-fixed and can support the substrate 65 and the interface 21c point-fastened. Moreover, as the reinforcement used to solidify the adhesive as well another band can be used together in the point attachment.

Im Fall der Verwendung eines Klebers kann der Kleber ebenfalls auf das zweite Element (z. B. den Körper 21) oder auf die Fläche des anderen Abschnitts des ersten Abschnitts 51 und des zweiten Abschnitts 52 aufgetragen werden, wobei sich die Fläche auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite befindet; wobei nur durch das Anstoßen des zweiten Elements gegen den anderen Abschnitt die Fläche des anderen Abschnitts auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite mit dem zweiten Element verbunden werden kann. Folglich wird es leichter, den Sensor 31 zusammenzubauen.In the case of using an adhesive, the adhesive may also be applied to the second element (eg the body 21 ) or on the surface of the other section of the first section 51 and the second section 52 with the surface located on the opposite side of the target area for detection; wherein only by the abutment of the second member against the other portion, the surface of the other portion on the opposite side of the target area for the detection with the second element can be connected. Consequently, it becomes easier to use the sensor 31 assemble.

Wie in 3 veranschaulicht wird, führt die optische Skala 11 eine Relativbewegung bezüglich des Detektors 35, z. B. in einer R-Richtung aus, wenn sich die Welle 12 des Rotors 10 dreht. Im Ergebnis führt die Signalspur T1 der optischen Skala 11 eine Relativbewegung bezüglich des Detektors 35 aus. In der optischen Skala 11 verläuft eine Polarisationsrichtung Pm der Polarisatoren in der Ebene zu einer vorgegebenen Richtung, wobei sie sich aufgrund der Drehung ändert. Der Detektor 35 kann das einfallende Licht (das durchgelassene Licht) 73, das im Ergebnis des Durchgangs des Quelllichts 71, das von dem Generator 41 emittiert wird, durch die optische Skala 11 erhalten wird, empfangen und kann die Signalspur T1 der in 5 veranschaulichten optischen Skala 11 lesen.As in 3 is illustrated, performs the optical scale 11 a relative movement with respect to the detector 35 , z. B. in an R-direction, when the shaft 12 of the rotor 10 rotates. As a result, the signal track T1 leads to the optical scale 11 a relative movement with respect to the detector 35 out. In the optical scale 11 A direction of polarization Pm of the polarizers in the plane is toward a predetermined direction and changes due to the rotation. The detector 35 can the incident light (the transmitted light) 73 as a result of the passage of the source light 71 that from the generator 41 is emitted through the optical scale 11 is received, and the signal track T1 of the in 5 illustrated optical scale 11 read.

Der optische Codierer 2 enthält den Sensor 31 und die Arithmetikvorrichtung 3. Wie in 4 veranschaulicht ist, sind der Sensor 31 und die Arithmetikvorrichtung 3 miteinander verbunden. Die Arithmetikeinheit 3 ist z. B. mit einem Controller 5 der sich drehenden Maschine, wie z. B. eines Motors, verbunden.The optical encoder 2 contains the sensor 31 and the arithmetic device 3 , As in 4 is illustrated are the sensor 31 and the arithmetic device 3 connected with each other. The arithmetic unit 3 is z. With a controller 5 the rotating machine, such. As a motor connected.

Der optische Codierer 2 detektiert das einfallende Licht 73 mit dem Detektor 35, wobei das einfallende Licht 73, das dem Quelllicht 71 entspricht, durch die optische Skala 11 hindurchgegangen und auf den Detektor 35 eingefallen ist. Die Arithmetikvorrichtung 3 berechnet die relative Position des Rotors 10 des Sensors 31 bezüglich des Detektors 35 basierend auf dem Detektionssignal des Detektors 35 und gibt die Informationen über die relative Position als ein Steuersignal an den Controller 5 der sich drehenden Maschine, wie z. B. eines Motors, aus.The optical encoder 2 detects the incident light 73 with the detector 35 where the incident light 73 that the source light 71 corresponds, through the optical scale 11 gone through and onto the detector 35 has fallen. The arithmetic device 3 calculates the relative position of the rotor 10 of the sensor 31 with respect to the detector 35 based on the detection signal of the detector 35 and outputs the relative position information as a control signal to the controller 5 the rotating machine, such. As a motor, from.

Die Arithmetikvorrichtung 3 ist ein Computer, wie z. B. ein Personalcomputer (PC), und enthält eine Eingangsschnittstelle 4a, eine Ausgangsschnittstelle 4b, eine Zentraleinheit (CPU) 4c, einen Festwertspeicher (ROM) 4d, einen Schreib-Lese-Speicher (RAM) 4e und eine interne Speichervorrichtung 4f. Die Eingangsschnittstelle 4a, die Ausgangsschnittstelle 4b, die CPU 4c, der ROM 4d, der RAM 4e und die interne Speichervorrichtung 4f sind durch einen internen Bus miteinander verbunden. Die Arithmetikvorrichtung 3 kann alternativ unter Verwendung einer dedizierten Verarbeitungsschaltung konfiguriert sein.The arithmetic device 3 is a computer, such as A personal computer (PC), and includes an input interface 4a , an output interface 4b , a central processing unit (CPU) 4c , a read-only memory (ROM) 4d , a random access memory (RAM) 4e and an internal storage device 4f , The input interface 4a , the output interface 4b , the CPU 4c , the ROM 4d , the RAM 4e and the internal storage device 4f are connected by an internal bus. The arithmetic device 3 may alternatively be configured using a dedicated processing circuit.

Die Eingangsschnittstelle 4a empfängt ein Eingangssignal von dem Detektor 35 des Sensors 31 und gibt das Eingangssignal zu der CPU 4c aus. Die Ausgangschnittstelle 4b empfängt ein Steuersignal von der CPU 4c und gibt das Steuersignal zu dem Controller 5 aus.The input interface 4a receives an input signal from the detector 35 of the sensor 31 and gives the input signal to the CPU 4c out. The output interface 4b receives a control signal from the CPU 4c and gives the control signal to the controller 5 out.

Der ROM 4d speichert Programme, wie z. B. das BIOS (das grundlegende Eingabe-Ausgabe-System). Die interne Speichervorrichtung 4f ist z. B. eine HDD (ein Festplattenlaufwerk) oder ein Flash-Speicher und speichert ein Betriebssystemprogramm oder ein Anwendungsprogramm. Die CPU 4c verwendet den RAM 4e als den Arbeitsbereich und führt die in dem ROM 4d oder der internen Speichervorrichtung 4f gespeicherten Programme aus, um verschiedene Funktionen zu implementieren.The ROM 4d saves programs, such as For example, the BIOS (the basic input-output system). The internal storage device 4f is z. For example, an HDD (a hard disk drive) or a flash memory and stores an operating system program or an application program. The CPU 4c uses the RAM 4e as the workspace and performs the in the ROM 4d or the internal storage device 4f stored programs to implement various functions.

Die interne Speichervorrichtung 4f speichert eine Datenbank, in der die Polarisationsrichtung Pm aufgrund der optischen Skala 11 in einer der Ausgabe des Detektors 35 entsprechenden Weise gehalten ist. Ferner speichert die interne Speichervorrichtung 4f eine Datenbank, in der der Abstand D (siehe 12) zwischen dem Lichtemissionspunkt 41S des Generators 41 und der Anordnungsmitte S0 (dem Detektor 35) in einer den Positionsinformationen der optischen Skala 11 entsprechenden Weise gehalten ist.The internal storage device 4f stores a database in which the polarization direction Pm due to the optical scale 11 in one of the output of the detector 35 appropriate manner is held. Further, the internal storage device stores 4f a database in which the distance D (see 12 ) between the light emission point 41S of the generator 41 and the placement center S0 (the detector 35 ) in one of the positional information of the optical scale 11 appropriate manner is held.

Die in 5 veranschaulichte Signalspur T1 wird durch das Bilden einer Anordnung dünner Metalldrähte g, die als ein Drahtgittermuster bezeichnet wird, auf der in 1 veranschaulichten optischen Skala 11 erhalten. Auf der optischen Skala 11 sind benachbarte dünne Metalldrähte g parallel zueinander linear ausgebildet, die als die Signalspur T1 arbeiten. Folglich weist die optische Skala 11 ungeachtet der durch das Quelllicht 71 bestrahlten Position die gleiche Polarisationsachse auf, wobei die Polarisationsrichtung der Polarisatoren in der Ebene zu einer einzigen Richtung verläuft.In the 5 illustrated signal trace T1 is formed by forming an array of thin metal wires g, which is referred to as a wireframe pattern on the in 1 illustrated optical scale 11 receive. On the optical scale 11 adjacent thin metal wires g are linearly parallel to each other and function as the signal trace T1. Consequently, the optical scale points 11 regardless of the source light 71 Irradiated position on the same polarization axis, wherein the polarization direction of the polarizers in the plane to a single direction.

Die optische Skala 11, die die dünnen Metalldrähte g, die als ein Drahtgittermuster bezeichnet werden, enthält, ermöglicht das Erreichen einer Verbesserung der Wärmebeständigkeit im Vergleich zu einer lichtinduzierten Polarisationsplatte. Überdies weist die optische Skala 11 lokal ebenfalls Linienmuster auf, die keine sich schneidenden Abschnitte aufweisen. Folglich erreicht die optische Skala 11 eine hohe Genauigkeit mit weniger Fehlern. Weil die optische Skala 11 außerdem in einer stabilen Weise unter Verwendung einer einmaligen Belichtung oder der Nanoprägetechnik weiterhin hergestellt werden kann. Folglich erreicht die optische Skala 11 eine hohe Genauigkeit mit weniger Fehlern. Alternativ kann eine lichtinduzierte Polarisationsplatte als die optische Skala 11 verwendet werden.The optical scale 11 which contains the thin metal wires g, which are referred to as a wireframe pattern, makes it possible to achieve an improvement in heat resistance as compared with a light-induced polarizing plate. Moreover, the optical scale indicates 11 locally also have line patterns that do not have intersecting sections. Consequently, the optical scale reaches 11 a high accuracy with fewer errors. Because the optical scale 11 also in a stable manner using a one-time exposure or the nanoprecipitation technique can continue to be produced. Consequently, the optical scale reaches 11 a high accuracy with fewer errors. Alternatively, a light-induced polarizing plate may be used as the optical scale 11 be used.

Es sind mehrere dünne Metalldrähte g ohne irgendeinen Schnittpunkt dazwischen angeordnet. Der Bereich zwischen benachbarten dünnen Metalldrähten g ist ein Durchlassbereich d, durch den ein Teil des Quelllichts 71 oder das gesamte Quelllicht 71 hindurchgehen kann. Wenn die Breite der dünnen Metalldrähte g und die Lücke zwischen benachbarten dünnen Metalldrähten g, d. h., die Breite der dünnen Metalldrähte g und die Breite der Durchlassbereiche d, so festgelegt sind, dass sie ausreichend kleiner als die Wellenlänge des Quelllichts 71 von dem Generator 41 sind; wird die optische Skala 11 imstande, die Polarisationstrennung des einfallenden Lichts 73 des Quelllichts 71 auszuführen. Aus diesem Grund enthält die optische Skala 11 Polarisatoren, die eine einheitliche Polarisationsrichtung Pm in der Ebene aufweisen. In der Drehungsumfangsrichtung ändert sich die Polarisationsachse des einfallenden Lichts 73, das auf den Detektor 35 einfällt, gemäß der Drehung der optischen Skala 11. In der vorliegenden Ausführungsform nimmt die Änderung der Polarisationsachse bezüglich einer einzigen Drehung der optischen Skala 11 zweimal zu oder ab.There are several thin metal wires g arranged without any intersection between them. The area between adjacent thin metal wires g is a passage area d through which a part of the source light 71 or the entire source light 71 can go through. When the width of the thin metal wires g and the gap between adjacent thin metal wires g, ie, the width of the thin metal wires g and the width of the passbands d, are set to be sufficiently smaller than the wavelength of the source light 71 from the generator 41 are; becomes the optical scale 11 capable of polarization separation of the incident light 73 of the source light 71 perform. Because of this, the optical scale contains 11 Polarizers having a uniform polarization direction Pm in the plane. In the rotation circumferential direction, the polarization axis of the incident light changes 73 that on the detector 35 is incident according to the rotation of the optical scale 11 , In the present embodiment, the change of the polarization axis with respect to a single rotation of the optical scale decreases 11 twice to or from.

In der optischen Skala 11 müssen die Segmente, die unterschiedliche Polarisationsrichtungen aufweisen, nicht fein sein. Weil die optische Skala 11 eine einheitliche Polarisationsrichtung Pm aufweist, gibt es überdies keine Grenzen der Bereiche, die unterschiedliche Polarisationsrichtungen Pm aufweisen, wobei es folglich möglich wird, die Störung im Polarisationszustand des einfallenden Lichts 73, die den Grenzen zugeschrieben wird, niedrig zu halten. Der optische Codierer 2 gemäß der vorliegenden Ausführungsform ermöglicht das Erreichen einer Verringerung der fehlerhaften Detektion und das Erreichen einer Verringerung der Möglichkeit des Auftretens von Rauschen.In the optical scale 11 For example, the segments that have different directions of polarization need not be fine. Because the optical scale 11 Moreover, if the polarization direction Pm is uniform, there are no boundaries of the regions having different polarization directions Pm, thus making possible the disturbance in the polarization state of the incident light 73 which is attributed to the limits to keep low. The optical encoder 2 According to the present embodiment, achieving achieves a reduction in erroneous detection and achievement of a reduction in possibility of occurrence of noise.

17 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären eines Beispiels eines ersten Lichtempfängers PD1 des Detektors 35. 18 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären eines Beispiels eines dritten Lichtempfängers PD3 des Detektors 35. Der Generator 41 ist z. B. eine Leuchtdiode. Wie in 3 veranschaulicht ist, geht das von dem Generator 41 emittierte Quelllicht 71 durch die optische Skala 11 hindurch, wobei es dann als das einfallende Licht 73 durch die Polarisationsschichten PP1, PP2, PP3 und PP4 hindurchgeht, bevor es auf den ersten Lichtempfänger PD1, den zweiten Lichtempfänger PD2, den dritten Lichtempfänger PD3 und den vierten Lichtempfänger PD4 fällt. In der ebenen Ansicht aus der Richtung der z-Achse; sind der erste Lichtempfänger PD1, der zweite Lichtempfänger PD2, der dritte Lichtempfänger PD3 und der vierte Lichtempfänger PD4 um den Generator 41 angeordnet. Der erste Lichtempfänger PD1, der zweite Lichtempfänger PD2, der dritte Lichtempfänger PD3 und der vierte Lichtempfänger PD4 weisen zu der Anordnungsmitte S0 einen gleichen Abstand auf. Diese Struktur verringert die Rechenbelastung der CPU 4c, die als die Computereinheit dient. 17 Fig. 12 is an explanatory diagram for explaining an example of a first light receiver PD1 of the detector 35 , 18 Fig. 12 is an explanatory diagram for explaining an example of a third light receiver PD3 of the detector 35 , The generator 41 is z. B. a light emitting diode. As in 3 is illustrated, this is from the generator 41 emitted source light 71 through the optical scale 11 passing through it, taking it as the incident light 73 passes through the polarizing layers PP1, PP2, PP3 and PP4 before falling on the first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiver PD3 and the fourth light receiver PD4. In the plane view from the direction of the z-axis; are the first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiver PD3 and the fourth light receiver PD4 around the generator 41 arranged. The first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiver PD3, and the fourth light receiver PD4 are equally spaced from the device center S0. This structure reduces the CPU load 4c which serves as the computer unit.

Wie in 17 veranschaulicht ist, enthält der erste Lichtempfänger PD1 ein Siliciumsubstrat 34, einen Lichtempfänger 37 und eine erste Polarisationsschicht 39a. Wie in 18 veranschaulicht ist, enthält der dritte Lichtempfänger PD3 das Siliciumsubstrat 34, den Lichtempfänger 37 und eine zweite Polarisationsschicht 39b. Das Siliciumsubstrat 34 ist z. B. ein n-Typ-Halbleiter, der Lichtempfänger 37 ist ein p-Typ-Halbleiter und eine Photodiode kann unter Verwendung des p-n-Übergangs des Siliciumsubstrats 34 und des Lichtempfängers 37 konfiguriert sein. Die erste Polarisationsschicht 39a und die zweite Polarisationsschicht 39b können aus lichtinduzierten Polarisationsschichten oder einem Drahtgittermuster, in dem dünne Metalldrähte parallel angeordnet sind, ausgebildet sein. Die erste Polarisationsschicht 39a trennt eine Komponente in einer ersten Polarisationsrichtung von dem einfallenden Licht 73, das von dem Quelllicht 71 auf die in 3 veranschaulichte optische Skala 11 fällt; während die zweite Polarisationsschicht 39b eine Komponente in einer zweiten Polarisationsrichtung von dem einfallenden Licht 73 trennt. Hier ist es erwünscht, dass die Polarisationsachse des ersten getrennten Lichts und des zweiten getrennten Lichts um 90° relativ verschieden sind. Diese Struktur ermöglicht es der CPU 4c der Arithmetikvorrichtung 3, den Polarisationswinkel leicht zu berechnen.As in 17 is illustrated, the first light receiver PD1 includes a silicon substrate 34 , a light receiver 37 and a first polarizing layer 39a , As in 18 is illustrated, the third light receiver PD3 contains the silicon substrate 34 , the light receiver 37 and a second polarizing layer 39b , The silicon substrate 34 is z. B. an n-type semiconductor, the light receiver 37 is a p-type semiconductor and a photodiode may be formed by using the pn junction of the silicon substrate 34 and the light receiver 37 be configured. The first polarization layer 39a and the second polarization layer 39b may be formed of light-induced polarizing layers or a wire mesh pattern in which thin metal wires are arranged in parallel. The first polarization layer 39a separates a component in a first polarization direction from the incident light 73 that from the source light 71 on the in 3 illustrated optical scale 11 falls; while the second polarization layer 39b a component in a second polarization direction of the incident light 73 separates. Here, it is desirable that the polarization axis of the first separated light and the second separated light be relatively different by 90 °. This structure allows the CPU 4c the arithmetic device 3 to easily calculate the polarization angle.

Ähnlich enthält bezüglich der 17 und 18 der zweite Lichtempfänger PD2 das Siliciumsubstrat 34, den Lichtempfänger 37 und die erste Polarisationsschicht 39a. Wie in 18 veranschaulicht ist, enthält überdies der vierte Lichtempfänger PD4 das Siliciumsubstrat 34, den Lichtempfänger 37 und die zweite Polarisationsschicht 39b. Das Siliciumsubstrat 34 ist z. B. ein n-Typ-Halbleiter, der Lichtempfänger 37 ist ein p-Typ-Halbleiter und eine Photodiode kann unter Verwendung des p-n-Übergangs des Siliciumsubstrats 34 und des Lichtempfängers 37 konfiguriert sein. Die erste Polarisationsschicht 39a und die zweite Polarisationsschicht 39b können aus lichtinduzierten Polarisationsschichten oder einem Drahtgittermuster, in dem dünne Metalldrähte parallel angeordnet sind, ausgebildet sein. Die erste Polarisationsschicht 39a trennt eine Komponente in der ersten Polarisationsrichtung von dem einfallenden Licht 73, das auf die in 3 veranschaulichte optische Skala 11 fällt, von dem Quelllicht 71, während die zweite Polarisationsschicht 39b eine Komponente in der zweiten Polarisationsrichtung von dem einfallenden Licht 73 trennt. Hier ist es erwünscht, dass die Polarisationsachsen des ersten getrennten Lichts und des zweiten getrennten Lichts um 90° relativ verschieden sind. Diese Struktur ermöglicht der CPU 4c der Arithmetikvorrichtung 3, den Polarisationswinkel leicht zu berechnen.Similarly, regarding the 17 and 18 the second light receiver PD2 the silicon substrate 34 , the light receiver 37 and the first polarization layer 39a , As in 18 In addition, the fourth photoreceptor PD4 includes the silicon substrate 34 , the light receiver 37 and the second polarization layer 39b , The silicon substrate 34 is z. B. an n-type semiconductor, the light receiver 37 is a p-type semiconductor and a photodiode may be formed by using the pn junction of the silicon substrate 34 and the light receiver 37 be configured. The first polarization layer 39a and the second polarization layer 39b may be formed of light-induced polarizing layers or a wire mesh pattern in which thin metal wires are arranged in parallel. The first polarization layer 39a separates a component in the first polarization direction from the incident light 73 on the in 3 illustrated optical scale 11 falls, from the source light 71 while the second polarization layer 39b a Component in the second polarization direction of the incident light 73 separates. Here, it is desired that the polarization axes of the first separated light and the second separated light are relatively different by 90 °. This structure allows the CPU 4c the arithmetic device 3 to easily calculate the polarization angle.

Der erste Lichtempfänger PD1, der zweite Lichtempfänger PD2, der dritte Lichtempfänger PD3 und der vierte Lichtempfänger PD4 empfangen jeweils das Licht über die Polarisationsschichten PP1, PP2, PP3 und PP4, die die entsprechenden Komponenten in den verschiedenen Polarisationsrichtungen von dem einfallenden Licht 73 trennen. Aus diesem Grund ist es erwünscht, dass die Polarisationsachse für die Trennung durch die Polarisationsschicht PP1 und die Polarisationsachse für die Trennung durch die Polarisationsschicht PP2 um 45° relativ verschieden sind. Überdies ist es erwünscht, dass die Polarisationsachse für die Trennung durch die Polarisationsschicht PP2 und die Polarisationsachse für die Trennung durch die Polarisationsschicht PP3 um 45° relativ verschieden sind. Weiterhin ist es erwünscht, dass die Polarisationsachse für die Trennung durch die Polarisationsschicht PP3 und die Polarisationsachse für die Trennung durch die Polarisationsschicht PP4 um 45° relativ verschieden sind. Überdies ist es erwünscht, dass die Polarisationsachse für die Trennung durch die Polarisationsschicht PP4 und die Polarisationsachse für die Trennung durch die Polarisationsschicht PP1 um 45° relativ verschieden sind. Diese Struktur ermöglicht es der CPU 4c der Arithmetikvorrichtung 3, den Polarisationswinkel leicht zu berechnen.The first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiver PD3, and the fourth light receiver PD4 each receive the light via the polarization layers PP1, PP2, PP3, and PP4, which isolate the corresponding components in the different polarization directions from the incident light 73 separate. For this reason, it is desirable that the polarization axis for separation by the polarization layer PP1 and the polarization axis for separation by the polarization layer PP2 be relatively different by 45 °. Moreover, it is desirable that the polarization axis for the separation by the polarization layer PP2 and the polarization axis for the separation by the polarization layer PP3 be relatively different by 45 °. Furthermore, it is desirable that the polarization axis for separation by the polarization layer PP3 and the polarization axis for the separation by the polarization layer PP4 be relatively different by 45 °. Moreover, it is desirable that the polarization axis for the separation by the polarization layer PP4 and the polarization axis for the separation by the polarization layer PP1 be relatively different by 45 °. This structure allows the CPU 4c the arithmetic device 3 to easily calculate the polarization angle.

Die 19 bis 21 sind erklärende graphische Darstellungen zum Erklären der Trennung der Polarisationskomponenten, die mit der optischen Skala 11 ausgeführt wird. Wie in 19 veranschaulicht ist, ist das einfallende Licht in der Polarisationsrichtung Pm durch die Signalspur T1 der optischen Skala 11 polarisiert. In 19 sind die Fremdpartikel D1 und D2 im Detektionsbereich vorhanden. Die Polarisationsrichtung Pm des einfallenden Lichts kann unter Verwendung einer Lichtintensität PI(–) der Komponenten in der ersten Polarisationsrichtung und einer Lichtintensität PI(+) der Komponenten in der zweiten Polarisationsrichtung ausgedrückt werden. Wie oben beschrieben worden ist, ist es erwünscht, dass die erste Polarisationsrichtung und die zweite Polarisationsrichtung um 90° verschieden sind und z. B. eine +45°-Komponente und eine –45°-Komponente bezüglich einer Bezugsrichtung aufweisen. In den 19 bis 21 sind die Achsenrichtungen des Drahtgitters so veranschaulicht, dass sie zu der Papierebene parallel sind. Falls jedoch die Achsenrichtungen des Drahtgitters in dem gleichen Winkel bezüglich der Papierebene geneigt sind, aber der Neigungswinkel klein ist, weist die Neigung keinen Einfluss auf die Funktion der Polarisationstrennung auf. Das heißt, selbst wenn die optische Achse 11 bezüglich der Drehachse geneigt ist, arbeitet sie als ein Polarisationstrennungselement.The 19 to 21 are explanatory diagrams for explaining the separation of polarization components with the optical scale 11 is performed. As in 19 is illustrated, the incident light in the polarization direction Pm is through the signal track T1 of the optical scale 11 polarized. In 19 the foreign particles D1 and D2 are present in the detection area. The polarization direction Pm of the incident light can be expressed by using a light intensity PI (-) of the components in the first polarization direction and a light intensity PI (+) of the components in the second polarization direction. As has been described above, it is desirable that the first polarization direction and the second polarization direction are different by 90 ° and z. B. have a + 45 ° component and a -45 ° component with respect to a reference direction. In the 19 to 21 For example, the axis directions of the wire grid are illustrated as being parallel to the paper plane. However, if the axis directions of the wire grid are inclined at the same angle with respect to the paper plane, but the inclination angle is small, the inclination has no influence on the function of polarization separation. That is, even if the optical axis 11 is inclined with respect to the rotation axis, it works as a polarization separation element.

Wie in 20 veranschaulicht ist, detektiert der erste Lichtempfänger PD1 das einfallende Licht über die erste Polarisationsschicht 39a, die eine Komponente in der ersten Polarisationsrichtung von dem einfallenden Licht trennt, wobei er deshalb die Lichtintensität PI(–) der Komponente in der ersten Polarisationsrichtung detektiert. Wie in 21 veranschaulicht ist, detektiert der dritte Lichtempfänger PD3 das einfallende Licht über die zweite Polarisationsschicht 39b, die eine Komponente in der zweiten Polarisationsrichtung von dem einfallenden Licht trennt, wobei er folglich die Lichtintensität PI(+) der Komponente in der zweiten Polarisationsrichtung detektiert. Ähnlich detektiert, wie in 20 veranschaulicht ist, der zweite Lichtempfänger PD2 das einfallende Licht über die erste Polarisationsschicht 39a, die eine Komponente in der ersten Polarisationsrichtung von dem einfallenden Licht trennt, wobei er folglich die Lichtintensität PI(–) der Komponente in der ersten Polarisationsrichtung detektiert. Wie in 21 veranschaulicht ist, detektiert der vierte Lichtempfänger PD4 das einfallende Licht über die zweite Polarisationsschicht 39b, die eine Komponente in der zweiten Polarisationsrichtung von dem einfallenden Licht trennt, wobei er folglich die Lichtintensität PI(+) der Komponente in der zweiten Polarisationsrichtung detektiert.As in 20 is illustrated, the first light receiver PD1 detects the incident light via the first polarization layer 39a which separates a component in the first polarization direction from the incident light, therefore detecting the light intensity PI (-) of the component in the first polarization direction. As in 21 is illustrated, the third light receiver PD3 detects the incident light via the second polarization layer 39b which separates a component in the second polarization direction from the incident light, thus detecting the light intensity PI (+) of the component in the second polarization direction. Similarly detected as in 20 2, the second light receiver PD2 illustrates the incident light via the first polarizing layer 39a which separates a component in the first polarization direction from the incident light, thus detecting the light intensity PI (-) of the component in the first polarization direction. As in 21 is illustrated, the fourth light receiver PD4 detects the incident light via the second polarization layer 39b which separates a component in the second polarization direction from the incident light, thus detecting the light intensity PI (+) of the component in the second polarization direction.

22 ist ein funktionaler Blockschaltplan des optischen Codierers 2. 23 ist eine erklärende graphische Darstellung zum Erklären des Drehwinkels der optischen Skala 11 und der Variation der Lichtintensität der Polarisationskomponente jedes Lichtempfängers. Wie in 22 veranschaulicht ist, emittiert der Generator 41 Licht basierend auf dem Bezugssignal, wobei er die optische Skala 11 mit dem Quelllicht 71 bestrahlt. Das einfallende Licht 73 als das durchgelassene Licht wird durch den Detektor 35 empfangen. Die Differenzoperationsschaltung DS führt eine Differenzoperation unter Verwendung des Detektionssignals aus, das von dem Detektor 35 ausgegeben und durch den Vorverstärker AMP verstärkt wird. Hier kann der Vorverstärker in Abhängigkeit von der Größe der Ausgabe des Detektors 35 weggelassen werden. 22 is a functional block diagram of the optical encoder 2 , 23 Fig. 16 is an explanatory diagram for explaining the rotation angle of the optical scale 11 and the variation of the light intensity of the polarization component of each light receiver. As in 22 is illustrated, the generator emits 41 Light based on the reference signal, taking the optical scale 11 with the source light 71 irradiated. The incident light 73 as the transmitted light is passed through the detector 35 receive. The difference operation circuit DS performs a differential operation using the detection signal supplied from the detector 35 output and amplified by the preamplifier AMP. Here, the preamplifier can vary depending on the size of the output of the detector 35 be omitted.

Die Differenzverstärkerschaltung DS erhält die Lichtintensität PI(–) der Komponente in der ersten Polarisationsrichtung (eines ersten getrennten Lichts) und erhält die Lichtintensität PI(+) der Komponente in der zweiten Polarisationsrichtung (eines zweiten getrennten Lichts). Die Ausgaben des ersten Lichtempfängers PD1, des zweiten Lichtempfängers PD2, des dritten Lichtempfängers PD3 und des vierten Lichtempfängers PD4, die der Lichtintensität PI(–) und der Lichtintensität PI(+) entsprechen, sind z. B. die Lichtintensitäten I1, I2, I3 bzw. I4, die gemäß der Drehung der optischen Skala 11 verschobene Phasen aufweisen, wie in 23 veranschaulicht ist.The differential amplifier circuit DS obtains the light intensity PI (-) of the component in the first polarization direction (a first separate light) and obtains the light intensity PI (+) of the component in the second polarization direction (a second separate light). The outputs of the first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiver PD3, and the fourth light receiver PD4 corresponding to the light intensity PI (-) and the light intensity PI (+), z. As the light intensities I1, I2, I3 and I4, respectively, according to the rotation of the optical scale 11 have shifted phases, as in 23 is illustrated.

Gemäß den Gleichungen (1) und (2) berechnet die Differenzoperationsschaltung DS aus der Lichtintensität PI(–) der Komponente in der ersten Polarisationsrichtung und der Lichtintensität PI(+) der Komponente in der zweiten Polarisationsrichtung ein Differenzsignal Vc und ein Differenzsignal Vs, die von der Drehung der optischen Skala 11 abhängig sind. Das Differenzsignal Vc entspricht dem, was als die Kosinuskomponente (cos-Komponente) bezeichnet wird, während das Differenzsignal Vs dem entspricht, was als die Sinuskomponente (sin-Komponente) bezeichnet wird.

  • a. Vc = (I1 – I3)/(I1 + I3)(1)
  • b. Vs = (I2 – I4)/(I2 + I4)(2)
According to equations (1) and (2), the difference operation circuit DS calculates from the light intensity PI (-) of the component in the first polarization direction and the light intensity PI (+) of the component in the second polarization direction a difference signal Vc and a difference signal Vs derived from the rotation of the optical scale 11 are dependent. The difference signal Vc corresponds to what is called the cosine component (cos component), while the difference signal Vs corresponds to what is called the sine component (sin component).
  • a. Vc = (I1-I3) / (I1 + I3) (1)
  • b. Vs = (I2-I4) / (I2 + I4) (2)

In dieser Weise berechnet die Differenzoperationsschaltung DS basierend auf den Lichtintensitäten I1 und I3 die Summe [I1 + I3] der Lichtintensitäten und die Differenz [I1 – I3] der Lichtintensitäten, wobei sie das Differenzsignal Vc durch das Teilen der Differenz [I1 – I3] der Lichtintensitäten durch die Summe [I1 + I3] der Lichtintensitäten berechnet. Überdies berechnet die Differenzoperationsschaltung DS basierend auf den Lichtintensitäten I2 und I4 die Summe [I2 + I4] der Lichtintensitäten und die Differenz [I2 – I4] der Lichtintensitäten, wobei sie das Differenzsignal Vs durch das Teilen der Differenz [I2 – I4] der Lichtintensitäten durch die Summe [I2 + I4] der Lichtintensitäten berechnet. In den Differenzsignalen Vc und Vs, die gemäß den Gleichungen (1) bzw. (2) berechnet werden, gibt es keinen Parameter, der durch die Lichtintensität des Quelllichts 71 beeinflusst wird, wobei die Ausgabe des Sensors 31 die Wirkung des Abstands zwischen dem Detektor 35 und der optischen Skala 11 und die Wirkung der Variabilität der Lichtintensität des Generators 41 verringern kann. Die Differenzsignale Vc und Vs sind Funktionen eines Drehwinkels (der im Folgenden als ein Polarisationswinkel bezeichnet wird) β der Polarisationsachse der optischen Skala 11 als der Drehwinkel der optischen Skala 11. Falls jedoch für das Steuern der Lichtmenge der Lichtquelle in dem Generator 41 auf einen konstanten Betrag eine automatische Leistungssteuerung (APC) bereitgestellt ist, muss die oben beschriebene Division nicht ausgeführt werden.In this way, based on the light intensities I1 and I3, the difference operation circuit DS calculates the sum [I1 + I3] of the light intensities and the difference [I1 - I3] of the light intensities, dividing the difference signal Vc by dividing the difference [I1 - I3] of the light intensities Light intensities calculated by the sum [I1 + I3] of the light intensities. Moreover, the difference operation circuit DS calculates the sum [I2 + I4] of the light intensities and the difference [I2-I4] of the light intensities based on the light intensities I2 and I4, and transmits the difference signal Vs by dividing the difference [I2-I4] of the light intensities the sum [I2 + I4] of the light intensities is calculated. In the difference signals Vc and Vs calculated in accordance with the equations (1) and (2), respectively, there is no parameter caused by the light intensity of the source light 71 is influenced, the output of the sensor 31 the effect of the distance between the detector 35 and the optical scale 11 and the effect of the variability of the light intensity of the generator 41 can reduce. The difference signals Vc and Vs are functions of a rotation angle (hereinafter referred to as a polarization angle) β of the polarization axis of the optical scale 11 as the rotation angle of the optical scale 11 , However, if for controlling the amount of light of the light source in the generator 41 is provided to a constant amount of automatic power control (APC), the division described above does not have to be executed.

Wie in 22 veranschaulicht ist, werden die Differenzsignale Vc und Vs in die Filterschaltung NR eingegeben und der Rauschentfernung unterworfen. Dann wird in der Multiplikationsschaltung AP ein in 24 veranschaulichtes Lissajous-Muster aus den Differenzsignalen Vc und Vs berechnet, wobei der Absolutwinkel des Drehwinkels des Rotors 10, der sich aus der Anfangsposition gedreht hat, identifiziert werden kann. Die Differenzsignale Vc und Vs sind Differenzsignale, die die Phasenverschiebung von λ/4 aufweisen. Folglich wird ein Lissajous-Muster mit der Kosinuskurve des entlang der horizontalen Achse genommenen Differenzsignals Vc und der Sinuskurve des entlang der vertikalen Achse genommenen Differenzsignals Vs berechnet; wobei der Lissajous-Winkel gemäß dem Drehwinkel bestimmt wird. Wenn sich der Rotor 10 z. B. einmal dreht, führt das in 24 veranschaulichte Lissajous-Muster zwei Runden aus. Die Arithmetikvorrichtung 3 weist eine Funktion des Speicherns von Informationen darüber auf, ob sich die Drehposition der optischen Skala 11 innerhalb des Bereichs von 0° oder größer bis kleiner als 180° befindet oder ob sich die Drehposition der optischen Skala 11 innerhalb des Bereichs von 180° oder größer bis kleiner als 360° befindet. Damit kann der optische Codierer 2 als ein Absolutcodierer behandelt werden, der die Absolutposition des Rotors 10 berechnen kann.As in 22 is illustrated, the differential signals Vc and Vs are input to the filter circuit NR and subjected to noise removal. Then, in the multiplication circuit AP, an in 24 illustrated Lissajous pattern of the difference signals Vc and Vs calculated, wherein the absolute angle of the rotation angle of the rotor 10 who has turned from the initial position can be identified. The difference signals Vc and Vs are differential signals having the phase shift of λ / 4. Consequently, a Lissajous pattern is calculated with the cosine curve of the difference signal Vc taken along the horizontal axis and the sine curve of the difference signal Vs taken along the vertical axis; wherein the Lissajous angle is determined according to the angle of rotation. When the rotor 10 z. B. once turns, leads in 24 Lissajous pattern illustrated two rounds. The arithmetic device 3 has a function of storing information on whether the rotational position of the optical scale 11 within the range of 0 ° or greater to less than 180 °, or the rotational position of the optical scale 11 within the range of 180 ° or greater to less than 360 °. Thus, the optical encoder 2 are treated as an absolute encoder, which is the absolute position of the rotor 10 can calculate.

25 ist eine graphische Darstellung zum Erklären des Generators 41. Der in 25 veranschaulichte Generator 41 ist ein Lichtemissionselement, in dem eine Lichtemissionsvorrichtung 41U, wie z. B. eine Leuchtdiode, angeordnet ist. Alternativ kann die Lichtemissionsvorrichtung 41U irgendeine andere Konfiguration aufweisen. Insbesondere kann die Lichtemissionsvorrichtung 41U z. B. eine Laserquelle, wie z. B. ein oberflächenemittierender Laser mit vertikalem Resonator, oder ein Glühdraht sein. Der Generator 41 enthält ein Basissubstrat 41F, eine durchdringende leitfähige Schicht 41H, die in ein Durchgangsloch SH eingebettet ist, eine äußere Elektrode 41P, die mit der durchdringenden leitfähigen Schicht 41H elektrisch verbunden ist, die Lichtemissionsvorrichtung 41U, die an dem Basissubstrat 41F angebracht ist, einen Bonddraht 41W, der die Lichtemissionsvorrichtung 41U leitfähig mit der durchdringenden leitfähigen Schicht 41H verbindet, ein Einkapselungsharz 41M, das die Lichtemissionsvorrichtung 41U schützt, und einen Lichtblockierfilm 41R. 25 Fig. 12 is a diagram for explaining the generator 41 , The in 25 illustrated generator 41 is a light emitting element in which a light emitting device 41U , such as B. a light emitting diode is arranged. Alternatively, the light emitting device 41U have any other configuration. In particular, the light emission device 41U z. B. a laser source, such as. Example, a vertical cavity surface emitting laser, or a filament. The generator 41 contains a base substrate 41F , a penetrating conductive layer 41H embedded in a through-hole SH, an outer electrode 41P that with the penetrating conductive layer 41H is electrically connected, the light emitting device 41U attached to the base substrate 41F attached is a bonding wire 41W , which is the light emission device 41U conductive with the penetrating conductive layer 41H connects, an encapsulating resin 41M that the light emission device 41U protects, and a light blocking film 41R ,

Der Lichtblockierfilm 41R des Generators 41 hat die Funktion einer Blende, um zu bewirken, dass das Quelllicht 41, das durch die Lichtemissionsvorrichtung 41U emittiert wird, innerhalb des Bereichs einer abgehenden Oberfläche 41T eingeengt wird. Die abgehende Oberfläche 41T weist keine Linsenfläche auf, wobei die Lichtverteilung des Quelllichts 71 die Lichtverteilung eines vorgegebenen Winkels 2θo bezüglich des Querschnitts der abgehenden Oberfläche 41T aufweist. Der vorgegebene Winkel 2θo der Lichtverteilung ist von dem Generator 41 abhängig. Obwohl der Winkel 2θo z. B. gleich 30° ist, kann er auf größer oder kleiner als 30° festgelegt sein.The light blocking film 41R of the generator 41 has the function of a shutter to cause the source light 41 caused by the light emission device 41U is emitted within the range of an outgoing surface 41T is narrowed down. The outgoing surface 41T has no lens surface, the light distribution of the source light 71 the light distribution of a given angle 2θo with respect to the cross-section of the outgoing surface 41T having. The predetermined angle 2θo of the light distribution is from the generator 41 dependent. Although the angle 2θo z. B. is equal to 30 °, it may be set to greater than or less than 30 °.

Der Sensor 31 kann von dem Generator 41 Gebrauch machen, der keine an ihm befestigte Linse aufweist. Durch das Festlegen des Abstands D zwischen dem Lichtemissionspunkt 41S des Lichts des Generators 41 und der Anordnungsmitte S0 (des Detektors 35), so dass er kurz ist, kann das SN-Verhältnis verbessert werden. Der Abstand W zu jedem des ersten Lichtempfängers PD1, des zweiten Lichtempfängers PD2, des dritten Lichtempfängers PD3 und des vierten Lichtempfängers PD4 kann in einem Bereich festgelegt sein, in dem die Lichtempfänger das Licht empfangen können und die Wirkung des zerstreuten Lichts des Generators 41 verringert werden kann. Dies führt zu einer Verbesserung der Messgenauigkeit des Sensors 31 und des optischen Codierers 2. Offensichtlich ist es außerdem möglich, den Generator 41 zu verwenden, der eine Linse aufweist.The sensor 31 can from the generator 41 Use that has no lens attached to it. By setting the distance D between the light emission point 41S the light of the generator 41 and the placement center S0 (of the detector 35 ), so that it is short, the SN ratio can be improved. The distance W to each of the first light receiver PD1, the second light receiver PD2, the third light receiver PD3, and the fourth light receiver PD4 may be set in a range in which the light receivers can receive the light and the effect of the scattered light of the generator 41 can be reduced. This leads to an improvement in the measurement accuracy of the sensor 31 and the optical encoder 2 , Obviously it is also possible to use the generator 41 to use, which has a lens.

26 ist eine graphische Darstellung, die eine Beziehung zwischen dem abgehenden Bereich des Lichts von dem Generator 41 und den Positionen des Detektors 35 und der Welle 12 veranschaulicht. In der vorliegenden Ausführungsform ist das Licht das durch den Generator 41 erzeugte Detektionsziel, wobei es durch den Detektor 35 detektiert wird. Der abgehende Winkel (der obenerwähnte Winkel 2θo) des Quelllichts 71 in dem Generator 41 kann in der Bauform beliebig festgelegt sein. Folglich kann sichergestellt sein, dass das Verbindungselement 53 und die Welle 12 nicht in dem Bereich enthalten sind, während der gesamte Lichtempfangsbereich für den Detektor 35 innerhalb des Bereichs des abgehenden Winkels des Quellichts 71 enthalten ist, wie in 26 veranschaulicht ist. Es ist jedoch schwierig, zu veranlassen, dass das Quelllicht 71 von der Leuchtdiode als eine Lichtquelle vollständig in den abgehenden Bereich fällt, und folglich das Entweichen von Licht zu eliminieren. Überdies ist es außerdem unter Berücksichtigung des reflektierten Lichts und dergleichen nach der Ausgabe des Lichts schwierig, zu verhindern, dass alles des anderen Lichts (z. B. des zerstreuten Reflexionslichts) mit Ausnahme des Quelllichts 71 in den Detektor 35 eintritt. In dieser Hinsicht wird in der vorliegenden Ausführungsform mit dem Ziel des Verringerns des reflektierten Lichts eine Antireflexionsbehandlung auf die Fläche des Substrats 50, auf der die Lichtemissionsvorrichtungen installiert sind, angewendet. Spezieller ist es als die Antireflexionsbehandlung möglich, eine Beschichtungsoperation auszuführen, bei der ein Antireflexionsmaterial, wie z. B. ein schwarzes Beschichtungsmaterial, das die Lichtabsorptionseigenschaft aufweist, wenigstens auf die Fläche unter den Plattenoberflächen des Substrats 50, auf der der Generator 41 und der Detektor 35 angeordnet sind, (d. h., die Oberseite 50A) aufgetragen wird. 26 Fig. 12 is a graph showing a relationship between the outgoing portion of the light from the generator 41 and the positions of the detector 35 and the wave 12 illustrated. In the present embodiment, the light is that through the generator 41 generated detection target, passing it through the detector 35 is detected. The outgoing angle (the above-mentioned angle 2θo) of the source light 71 in the generator 41 can be set arbitrarily in the design. Consequently, it can be ensured that the connecting element 53 and the wave 12 are not included in the range, while the entire light receiving range for the detector 35 within the range of the outgoing angle of the source 71 is included as in 26 is illustrated. However, it is difficult to cause the source light 71 from the light emitting diode as a light source completely falls in the outgoing area, and hence to eliminate the leakage of light. Moreover, considering the reflected light and the like after the output of the light, moreover, it is difficult to prevent all of the other light (eg, the scattered reflection light) except the source light 71 into the detector 35 entry. In this regard, in the present embodiment, with the object of reducing the reflected light, antireflection treatment is applied to the surface of the substrate 50 on which the light emitting devices are installed applied. More specifically, as the antireflection treatment, it is possible to carry out a coating operation in which an antireflection material such as an antireflective material is used. For example, a black coating material having the light absorbing property at least on the surface under the plate surfaces of the substrate 50 on which the generator 41 and the detector 35 are arranged (ie, the top 50A ) is applied.

Unter Berücksichtigung der Möglichkeit der Reflexion des Lichts am äußeren Umfang der Welle 12 kann überdies die Antireflexionsbehandlung außerdem auf die Welle 12 angewendet werden. In diesem Fall ist der Sensor 31 konfiguriert, so dass er eine Skala (die optische Skala 11), die das Licht beeinflusst, indem sie im Zielbereich für die Detektion gedreht wird, der den Raum zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 repräsentiert, und ein Drehstützelement (den Körper 21 des Stators 20), das die Welle 12 enthält, die die Skala in einer drehbaren Weise stützt und auf die die Antireflexionsbehandlung angewendet worden ist, enthält. Spezieller kann eine Galvanisierungsbearbeitung eines schwarzen Oxidfilms oder die obenerwähnte Beschichtungsseparation als die Antireflexionsbehandlung auf dem äußeren Umfang der Metallwelle 12 ausgeführt werden. Mit der gleichen Idee kann die Antireflexionsbehandlung auf den inneren Umfang des Stators 20 angewendet werden, der die optische Skala 11 und das Substrat 50 unterbringt.Taking into account the possibility of reflection of the light on the outer circumference of the shaft 12 In addition, the anti-reflection treatment can also affect the shaft 12 be applied. In this case, the sensor 31 configured so that he has a scale (the optical scale 11 ), which affects the light by being turned in the target area for detection, which is the space between the generator 41 and the detector 35 represents, and a rotary support element (the body 21 of the stator 20 ) that is the wave 12 which supports the scale in a rotatable manner and to which the antireflection treatment has been applied. More specifically, a plating process of a black oxide film or the above-mentioned coating separation may be used as the antireflection treatment on the outer circumference of the metal shaft 12 be executed. With the same idea, the anti-reflection treatment can be applied to the inner circumference of the stator 20 applied to the optical scale 11 and the substrate 50 houses.

Im Folgenden wird bezüglich eines in 27 veranschaulichten Ablaufplans ein Verfahren zum Herstellen des Sensors 31 erklärt. 27 ist ein Ablaufplan zum Erklären eines beispielhaften Ablaufes der mit dem Herstellen des Sensors 31 in Beziehung stehenden Prozesse. Die folgende Erklärung wird über die Operationsprozesse gegeben, die sich auf den Produktionsarbeiter und die Maschinen, die durch den Produktionsarbeiter für die Herstellungszwecke betrieben werden, konzentrieren. Zuerst wird das Substrat 50 gebildet, in dem der erste Abschnitt 51, der den darauf angeordneten Generator 41 aufweist, und der zweite Abschnitt 52, der den darauf angeordneten Detektor 35 aufweist, in einer integrierten Weise gebildet werden (Schritt S1). Spezieller wird z. B. eine FPC gebildet, die den halbbogenförmigen ersten Abschnitt 51, den kreisförmigen zweiten Abschnitt 52, das Verbindungselement 53, das den ersten Abschnitt 51 und den zweiten Abschnitt 52 verbindet, und den Kabelbaumabschnitt 54, der sich von dem ersten Abschnitt 51 und auf der dem Verbindungselement 53 gegenüberliegenden Seite erstreckt, enthält, wie in 13 veranschaulicht ist. Bei diesem Prozess wird die Verdrahtung, wie z. B. die Signalleitungen und die Leistungsleitungen, die in den späteren Prozessen mit verschiedenen an dem Substrat 50 angebrachten Schaltungen verbunden werden sollen, auf der FPC gebildet. Überdies wird eine Antireflexionsbehandlung auf die Oberseite der FPC angewendet. Zu diesem Zeitpunkt wird keine Antireflexionsbehandlung auf den Anschlussabschnitt angewendet, mit dem die Verdrahtung der verschiedenen Schaltungen einschließlich des Detektors 35 verbunden werden soll. In dieser Weise enthält das Verfahren zum Herstellen des Sensors 31 (des optischen Sensors) gemäß der vorliegenden Ausführungsform den Prozess des Bildens des Substrats 50, in dem der erste Abschnitt 51, der den darauf angeordneten Generator 41 aufweist, und der zweite Abschnitt 52, der den darauf angeordneten Detektor 35 aufweist, in einer integrierten Weise gebildet werden.In the following, regarding an in 27 illustrated a method of manufacturing the sensor 31 explained. 27 FIG. 13 is a flowchart for explaining an exemplary procedure of manufacturing the sensor 31 related processes. The following explanation is given about the operation processes that focus on the production worker and the machines operated by the production worker for manufacturing purposes. First, the substrate 50 formed in which the first section 51 , the generator arranged thereon 41 and the second section 52 , the detector arranged thereon 35 to be formed in an integrated manner (step S1). More specifically z. B. formed an FPC, which is the semi-curved first section 51 , the circular second section 52 , the connecting element 53 that the first section 51 and the second section 52 connects, and the wiring harness section 54 that is different from the first section 51 and on the connecting element 53 extends opposite side, contains, as in 13 is illustrated. In this process, the wiring, such. The signal lines and the power lines used in the later processes with different ones on the substrate 50 attached circuits are to be connected, formed on the FPC. Moreover, an antireflection treatment is applied to the top of the FPC. At this time, no antireflection treatment is applied to the terminal section, with which the wiring of the various circuits including the detector 35 to be connected. In this way, the method includes manufacturing the sensor 31 (of the optical sensor) according to the present embodiment, the process of forming the substrate 50 in which the first section 51 , the generator arranged thereon 41 and the second section 52 , the detector arranged thereon 35 to be formed in an integrated manner.

Anschließend werden verschiedene Komponenten an dem Substrat 50 angebracht. Spezieller wird z. B. zuerst das Stützsubstrat 65 mit der Rückseite 51B des ersten Abschnitts 51 verbunden (Schritt S2). Dann werden für den Zweck des Installierens der IC-Schaltung 60 auf der Rückseite 52B des zweiten Abschnitts 52 verschiedene Prozesse implementiert. Spezifischer wird die IC-Schaltung 60 auf der Rückseite 52B des zweiten Abschnitts 52 gemäß den folgenden Prozessen installiert: Lötdruck für den Zweck des Installierens der IC-Schaltung 60 auf der Rückseite 52B des zweiten Abschnitts 52 (Schritt S3), Implementierung der IC-Schaltung 60 auf der Rückseite 52B des zweiten Abschnitts 52 (Schritt S4), ein Aufschmelzprozess, der durch das Erwärmen der Rückseite 52B des zweiten Abschnitts 52 nach der Implementierung im Schritt S4 ausgeführt wird, (Schritt S5) und eine Überprüfung des äußeren Aussehens des Lötens der Rückseite 52B des zweiten Abschnitts 52 (Schritt S6). In dieser Weise enthält das Verfahren zum Herstellen des Sensors 31 (des optischen Sensors) gemäß der vorliegenden Ausführungsform den Prozess des Anbringens tafelförmiger Stützelemente (der IC-Schaltung 60 und des Stützsubstrats 65) auf den Rückseiten (d. h., den Rückseiten 51B und 52B), die den Flächen gegenüberliegen, auf denen die elektronischen Komponenten (die Oberseiten 51A und 52B) installiert sind, wobei die tafelförmigen Stützelemente Elemente sind, die die Flächen, auf denen die elektronischen Komponenten installiert sind, in einer Ebene aufrechterhalten, wobei die Flächen, auf denen die elektronischen Komponenten installiert sind, die Fläche (d. h., die Oberseite 51A) des ersten Abschnitts 51, auf der die elektronischen Komponenten einschließlich des Generators 41 installiert sind, und die Fläche (d. h., die Oberseite 52A) des zweiten Abschnitts 52, auf der die elektronischen Komponenten einschließlich des Detektors 35 installiert sind, enthalten.Subsequently, various components are attached to the substrate 50 appropriate. special is z. B. first the support substrate 65 with the back 51B of the first section 51 connected (step S2). Then for the purpose of installing the IC circuit 60 on the back side 52B of the second section 52 implemented different processes. More specific is the integrated circuit 60 on the back side 52B of the second section 52 installed according to the following processes: Soldering for the purpose of installing the IC circuit 60 on the back side 52B of the second section 52 (Step S3), implementation of the IC circuit 60 on the back side 52B of the second section 52 (Step S4), a reflow process by heating the backside 52B of the second section 52 is performed after the implementation in step S4, (step S5) and a check of the external appearance of the soldering of the back 52B of the second section 52 (Step S6). In this way, the method includes manufacturing the sensor 31 (the optical sensor) according to the present embodiment, the process of attaching tabular support members (the IC circuit 60 and the support substrate 65 ) on the backsides (ie, the backsides 51B and 52B ) facing the surfaces on which the electronic components (the tops 51A and 52B ), wherein the tabular support members are elements that maintain the surfaces on which the electronic components are installed in a plane, wherein the surfaces on which the electronic components are installed, the surface (ie, the top 51A ) of the first section 51 on which the electronic components including the generator 41 are installed, and the area (ie, the top 52A ) of the second section 52 on which the electronic components including the detector 35 are installed.

Anschließend werden verschiedene Prozesse zum Anbringen der Komponenten auf der Oberseite 50A des Substrats 50 ausgeführt. Spezieller werden die Komponenten, mit denen die Verdrahtung durch Löten verbunden werden soll, gemäß den folgenden Prozessen an der Oberseite 50A befestigt: Lötdruck für den Zweck des Installieren eines Teils des Generators 41 und der Komponenten 61 auf der Oberseite 51A des ersten Abschnitts 51 und des Installierens des Detektors 35 auf der Oberseite 52A des zweiten Abschnitts 52 (Schritt S7), Implementierung verschiedener Schaltungen einschließlich des Generators 41 und des Detektors 35 auf der Oberseite 50A (Schritt S8), ein Aufschmelzprozess, der durch das Erwärmen der Oberseite 50A nach der Implementierung im Schritt S8 ausgeführt wird, (Schritt S9) und eine Überprüfung des äußeren Aussehens des Lötens der Oberseite 50A (Schritt S10). Dann wird das Substrat 50 gereinigt (Schritt S11). Nach dem Reinigen des Substrats 50 wird eine Paste (z. B. eine Ag-Paste) zum Befestigen eines nackten Chips, der ein Teil der Komponenten 61 ist, auf die Oberseite 50A aufgetragen (Schritt S12); wird der nackte Chip installiert (Schritt S13); und wird der nackte Chip unter Verwendung des thermischen Aushärtens befestigt (Schritt S14). Dann werden der nackte Chip und die Verdrahtung des Substrats 50 durch Drahtbonden verbunden (Schritt S15). Nach dem Ausführen des Drahtbondens wird ein Harz, das durch ultraviolettes Licht gehärtet wird, (UV-härtbares Harz) auf die Oberfläche 50A des Substrats 50 aufgetragen (Schritt S16); wird ein Dichtungssubstrat (z. B. ein Glassubstrat) auf der Oberfläche 50A angeordnet, auf die das UV-härtbare Harz aufgetragen worden ist, (Schritt S17); und wird eine UV-Härtungsoperation ausgeführt, bei der das UV-härtbare Harz durch das Bestrahlen mit ultraviolettem Licht gehärtet wird, (Schritt S18). In dieser Weise enthält das Verfahren zum Herstellen des Sensors 31 (des optischen Sensors) gemäß der vorliegenden Ausführungsform den Prozess des Installierens des Generators 41 an dem ersten Abschnitt 51 und des Installierens des Detektors 35 in dem zweiten Abschnitt 52. Wenn die Fläche des Substrats 50, auf der ein tafelförmiges Element (z. B. das Stützsubstrat 65) angeordnet ist, (d. h., die Rückseite 50B) hier als die eine Fläche betrachtet wird, sind der Generator 41 und der Detektor 35 auf der anderen Fläche (der Oberseite 50A) installiert. Überdies sind ein oder mehrere elektronische Komponenten (z. B. der Detektor 35 und die Komponenten 61), die auf der Oberseite 52A des zweiten Abschnitts 52 installiert sind, innerhalb eines Bereichs installiert, in dem die Baugruppe der IC-Schaltung 60 auf der Rückseite 52B angeordnet ist.Subsequently, various processes for attaching the components on top 50A of the substrate 50 executed. More specifically, the components to which the wiring is to be connected by soldering, according to the following processes at the top 50A Attached: Soldering for the purpose of installing a part of the generator 41 and the components 61 on the top 51A of the first section 51 and installing the detector 35 on the top 52A of the second section 52 (Step S7), implementation of various circuits including the generator 41 and the detector 35 on the top 50A (Step S8), a reflow process by heating the top 50A is performed after the implementation in step S8, (step S9) and a check of the external appearance of the soldering of the top 50A (Step S10). Then the substrate becomes 50 cleaned (step S11). After cleaning the substrate 50 is a paste (for example, an Ag paste) for attaching a bare chip, which is part of the components 61 is, on top 50A plotted (step S12); the naked chip is installed (step S13); and the bare chip is fixed using the thermal curing (step S14). Then the bare chip and the wiring of the substrate 50 by wire bonding (step S15). After performing the wire bonding, a resin cured by ultraviolet light (UV curable resin) is applied to the surface 50A of the substrate 50 plotted (step S16); becomes a seal substrate (eg, a glass substrate) on the surface 50A disposed on which the UV-curable resin has been applied (step S17); and a UV curing operation is performed in which the UV curable resin is cured by the irradiation of ultraviolet light (step S18). In this way, the method includes manufacturing the sensor 31 (the optical sensor) according to the present embodiment, the process of installing the generator 41 at the first section 51 and installing the detector 35 in the second section 52 , If the area of the substrate 50 on which a tabular element (eg the support substrate 65 ), (ie, the back 50B ) here is considered the one surface are the generator 41 and the detector 35 on the other surface (the top 50A ) Installed. Moreover, one or more electronic components (eg the detector 35 and the components 61 ) on the top 52A of the second section 52 are installed within a range in which the assembly of the integrated circuit 60 on the back side 52B is arranged.

Das Drahtbonden ist z. B. ein Au-Drahtbonden unter Verwendung von Golddrähten. Dies ist jedoch lediglich beispielhaft, wobei das Drahtbonden nicht auf dieses Beispiel eingeschränkt ist, sondern geeignet geändert werden kann. Anstelle der Verwendung des Drahtbondens kann überdies das automatisierte Band-Bonden (Tape Automated Bonding) (TAB) verwendet werden oder kann ein nackter Chip als ein Flip-Chip an die Verdrahtung des Substrats gelötet werden.The wire bonding is z. B. Au wire bonding using gold wires. However, this is merely exemplary, wire bonding is not limited to this example, but can be suitably changed. Moreover, instead of using wire bonding, automated tape bonding (TAB) may be used, or a bare chip may be soldered as a flip chip to the wiring of the substrate.

Anschließend werden der Generator 41 und der Detektor 35 einander gegenüberliegend positioniert. Spezieller wird z. B. das Substrat 50 an zwei Positionen in einer derartigen Weise gebogen, dass die Fläche (d. h., die Oberseite 51A) des ersten Abschnitts 51, auf der Generator 41 installiert ist, und die Fläche (d. h., die Oberseite 52A) des zweiten Abschnitts 52, auf der der Detektor 35 installiert ist, zueinander parallel und einander gegenüberliegend sind (Schritt S19). In dieser Weise enthält das Verfahren zum Herstellen des Sensors 31 (des optischen Sensors) gemäß der vorliegenden Ausführungsform den Prozess des Biegens des Substrats 50, das ein flexibles Substrat (FPC) ist, in einer derartigen Weise, dass die Fläche (d. h., die Oberseite 51A) des ersten Abschnitts 51, auf der der Generator 41 installiert ist, und die Fläche (d. h., die Oberseite 52A) des zweiten Abschnitts, auf der Detektor 35 installiert ist, einander gegenüberliegend sind.Subsequently, the generator 41 and the detector 35 positioned opposite each other. More specifically z. B. the substrate 50 bent at two positions in such a way that the surface (ie, the top 51A ) of the first section 51 , on the generator 41 is installed, and the surface (ie, the top 52A ) of the second section 52 on which the detector 35 are installed, parallel to each other and opposite to each other (step S19). In this way, the method includes manufacturing the sensor 31 (of the optical sensor) according to the present embodiment, the process of bending the substrate 50 , which is a flexible substrate (FPC), in such a way that the surface (ie, the top 51A ) of the first section 51 on which the generator 41 is installed, and the area (ie, the top 52A ) of the second section, on the detector 35 is installed, are opposite each other.

Wie in den Prozessen der Schritte S7 bis S14 erklärt worden ist, enthält das Verfahren zum Herstellen des Sensors 31 (des optischen Sensors) gemäß der vorliegenden Ausführungsform den Prozess des Installierens des Generators 41 in dem ersten Abschnitt 51 und des Installierens des Detektors 35 in dem zweiten Abschnitt 52. Es ist erwünscht, dass: der erste Lichtempfänger PD1 bis vierte Lichtempfänger PD4 an verschiedenen Positionen in einer vorgegebenen Ebene (z. B. der Oberseite 52A) angeordnet sind; der Abstand (der Abstand W) bis zu einem einzigen Punkt in der vorgegebenen Ebene für jede der vier Lichtempfangsvorrichtungen gleich ist; und sich die vier Liniensegmente, die den einzigen Punkt mit den Mitten der Lichtempfangsbereiche der vier Lichtempfangsvorrichtungen verbinden, in rechten Winkeln zueinander befinden. Überdies ist es erwünscht, dass, nachdem das Substrat 50 gebogen worden ist, die Gerade L2, die die Normale einer vorgegebenen Ebene (der Oberseite 52A) repräsentiert, die durch einen einzigen Punkt (die Anordnungsmitte S0) hindurchgeht, durch die Mitte des Lichtemissionspunkts 41S des Generators 41 hindurchgeht. Weiterhin ist es erwünscht, dass der Generator 41 und der Detektor 35 unter Berücksichtigung der oben angegebenen Punkte installiert sind. Spezieller soll eine erste Bedingung erfüllt sein, die angibt, dass die erste Achse LA, die die Biegeachse an der Biegeposition 55a repräsentiert, und die zweite Achse LB, die die Biegeachse an der Biegeposition 55b repräsentiert, zueinander parallel sind. Überdies soll eine zweite Bedingung erfüllt sein, die angibt, dass der Abstand (der Abstand W1) zwischen der ersten Achse LA und einem ersten Punkt, der den Mittelpunkt für die Erzeugung für den Generator 41 repräsentiert, (z. B. der Lichtemissionspunkt 41S) in der Ebene vor dem Biegen des Substrats 50 festgelegt ist, so dass er gleich dem Abstand (dem Abstand W2) zwischen der zweiten Achse LB und einem zweiten Punkt, der entweder die Mitte des Detektionsbereichs, in dem der Detektor 35 des Detektionsziel detektiert, oder die Anordnungsmitte mehrerer Detektionsbereiche des Detektors 35 (z. B. die Anordnungsmitte S0) repräsentiert, ist. Weiterhin soll eine dritte Bedingung erfüllt sein, die angibt, dass der erste Punkt und der zweite Punkt auf derselben Geraten (z. B. der Geraden L1), die die erste Achse LA und die zweite Achse LB in rechten Winkeln schneidet (oder die erste Achse LA und die zweite Achse LB in einer erhöhten Weise schneidet), in dem Substrat vor dem Biegen vorhanden sind. Um die erste Bedingung, die zweite Bedingung und die dritte Bedingung zu erfüllen, wird die Verdrahtung des Generators 41 und des Detektors 35 beim Bilden des Substrats 50 gebildet, werden die erste Achse LA und die zweite Achse LB bestimmt und wird die Anordnung des Generators 41 und des Detektors 35 bei deren Installation bestimmt.As explained in the processes of steps S7 to S14, the method of manufacturing the sensor includes 31 (the optical sensor) according to the present embodiment, the process of installing the generator 41 in the first section 51 and installing the detector 35 in the second section 52 , It is desirable that: the first light receiver PD1 to fourth light receivers PD4 be located at different positions in a predetermined plane (eg, the top 52A ) are arranged; the distance (the distance W) is equal to a single point in the predetermined plane for each of the four light receiving devices; and the four line segments connecting the single point to the centers of the light receiving areas of the four light receiving devices are at right angles to each other. Moreover, it is desirable that after the substrate 50 the line L2, which is the normal of a given plane (the top 52A ) passing through a single point (the device center S0) through the center of the light emitting point 41S of the generator 41 passes. Furthermore, it is desirable that the generator 41 and the detector 35 are installed in consideration of the above points. More specifically, a first condition is to be satisfied, indicating that the first axis LA, which is the bending axis at the bending position 55a represents, and the second axis LB, the bending axis at the bending position 55b represent, are parallel to each other. Moreover, a second condition is to be fulfilled, which indicates that the distance (the distance W1) between the first axis LA and a first point, which is the center point for the generation for the generator 41 represents (eg the light emission point 41S ) in the plane before bending the substrate 50 is set so that it equals the distance (the distance W2) between the second axis LB and a second point which is either the center of the detection area in which the detector 35 the detection target detected, or the arrangement center of several detection areas of the detector 35 (eg, the arrangement center S0) is. Furthermore, a third condition is to be fulfilled, which indicates that the first point and the second point on the same device (eg, the straight line L1) that intersects the first axis LA and the second axis LB at right angles (or the first Axis LA and the second axis LB intersects in an increased manner) in which substrate is present before bending. In order to satisfy the first condition, the second condition and the third condition, the wiring of the generator becomes 41 and the detector 35 while forming the substrate 50 formed, the first axis LA and the second axis LB are determined, and the arrangement of the generator 41 and the detector 35 determined during their installation.

Anschließend wird ein Gehäuse (z. B. der Stator 20) gebildet (Schritt S20). Insbesondere wird ein Gehäuse gebildet, das ein zweites Element (z. B. den Körper 21) und ein erstes Element (z. B. den Unterkörper 22) enthält. Das zweite Element ist ein Element, das das Element (z. B. die optische Skala 11), das einen Einfluss auf das Licht ausübt, indem es im Zielbereich für die Detektion bewegt wird, der den Raum zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 repräsentiert, in einer beweglichen Weise stützt. Das erste Element ist ein Element, an dem ein Abschnitt des Substrats 50 befestigt ist. In der vorliegenden Ausführungsform ist die Abdeckung 23 ferner als eine Komponente des Stators 20 ausgebildet, der das Gehäuse des Substrats 50 und der optischen Skala 11 repräsentiert. Hier ist jedoch lediglich ein spezifisches Beispiel des Gehäuses angegeben, wobei das Gehäuse nicht auf dieses Beispiel eingeschränkt ist. Alternativ kann die Abdeckung 23 z. B. mit dem Unterkörper 22 integriert sein. Überdies kann die Welle 12, die in dem Körper 21, der das zweite Element repräsentiert, angeordnet ist, eine Welle sein, auf deren äußeren Umfang die Antireflexionsbehandlung angewendet worden ist. Überdies kann in dem Stator 20, in dem das Substrat 50 und die optische Skala 11 untergebracht werden sollen, auf den inneren Umfang die Antireflexionsbehandlung angewendet werden.Subsequently, a housing (eg the stator 20 ) is formed (step S20). In particular, a housing is formed, which is a second element (eg the body 21 ) and a first element (eg the lower body 22 ) contains. The second element is an element that contains the element (eg the optical scale 11 ), which exerts an influence on the light by moving it in the target area for the detection, the space between the generator 41 and the detector 35 represents, supports in a moving way. The first element is an element on which a portion of the substrate 50 is attached. In the present embodiment, the cover 23 further as a component of the stator 20 formed, which is the housing of the substrate 50 and the optical scale 11 represents. However, here only one specific example of the housing is given, the housing not being limited to this example. Alternatively, the cover 23 z. B. with the lower body 22 be integrated. Moreover, the wave can 12 in the body 21 , which represents the second element, is a shaft on the outer periphery of which antireflection treatment has been applied. Moreover, in the stator 20 in which the substrate 50 and the optical scale 11 are to be housed, applied to the inner periphery of the anti-reflection treatment.

Anschließend wird der Prozess des Zusammenbauens des Sensors 31 (Schritt S21) ausgeführt. Im Folgenden wird die Erklärung des auf den Zusammenbau bezogenen Prozesses während der Herstellung des Sensors 31 gegeben. Während der Herstellung des Sensors 31 werden das Substrat 50 und der Bewegungskörper (z. B. die optische Skala 11) in einer derartigen Weise relativ bewegt, dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 (d. h., den Zielbereich für die Detektion) eintritt. Spezifisch werden bei der Herstellung des Sensors 31 das Substrat 50 und der Bewegungskörper in einer derartigen Weise relativ bewegt, dass der Bewegungskörper von einer dem Verbindungselement 53 gegenüberliegenden Seite in den Bereich (den Zielbereich für die Detektion) eintritt, wie in den 14 und 15 veranschaulicht ist. In dem Substrat 50 ist das Verbindungselement 53 auf der dem Kabelbaumabschnitt 54 gegenüberliegenden Seite auf der anderen Seite des zweiten Abschnitts 52 positioniert. Folglich werden in der vorliegenden Ausführungsform das Substrat 50 und der Bewegungskörper in einer derartigen Weise relativ bewegt, dass der Bewegungskörper von der Seite des Kabelbaums 54 in den Zielbereich für die Detektion eintritt.Subsequently, the process of assembling the sensor 31 (Step S21). The following is the explanation of the assembly-related process during the manufacture of the sensor 31 given. During the production of the sensor 31 become the substrate 50 and the moving body (eg, the optical scale 11 ) is relatively moved in such a manner that the moving body is in the area between the generator 41 and the detector 35 (ie, the target area for detection). Specifically, in the manufacture of the sensor 31 the substrate 50 and the moving body is relatively moved in such a manner that the moving body moves from one of the connecting member 53 opposite side into the area (the target area for the detection) occurs, as in the 14 and 15 is illustrated. In the substrate 50 is the connecting element 53 on the wiring harness section 54 opposite side on the other side of the second section 52 positioned. Thus, in the present embodiment, the substrate becomes 50 and the moving body is relatively moved in such a manner that the moving body is moved from the side of the wire harness 54 enters the target area for detection.

Spezieller wird bezüglich einer vorgegebenen Ebene (z. B. der Oberseite 52A des zweiten Abschnitts 52) sichergestellt, dass sich der erste Abschnitt 51 und der zweite Abschnitt 52 des gebogenen Substrats 50 und die Plattenoberfläche der optischen Skala 11 entlang der vorgegebenen Ebene befinden. In diesem Zustand wird der Stator 20, der die optische Skala 11 enthält, und/oder das Substrat 50 in der Richtung entlang der vorgegebenen Ebene bewegt, so dass die optische Skala 11 in dem Zielbereich für die Detektion angeordnet ist. Auf dem zylindrischen äußeren Umfang des Stators 20 ist z. B. an der Position, an der die optische Skala 11 angeordnet ist, eine Öffnung (z. B. die Öffnung 21a) ausgebildet, durch die das Substrat 50 in der Richtung entlang der Plattenoberfläche der optischen Skala 11 eingesetzt werden kann, wobei der Eintritt des Substrats 50 in diese Öffnung zu der Positionierung der optischen Skala 11 in dem Zielbereich für die Detektion führt. In diesem Fall wird das Substrat 50 von der Seite des Kabelbaumabschnitts 54 in die Öffnung 21a eingesetzt. Überdies tritt der halbbogenförmige erste Abschnitt 51 in die Seite der optischen Skala 11, auf der die Welle 12 vorhanden ist, ein, während der kreisförmige zweite Abschnitt 52 in die Seite der optischen Skala 11, auf der die Welle 12 nicht vorhanden ist, eintritt.More specifically, with respect to a given plane (eg, the top side 52A of the second section 52 ) ensure that the first section 51 and the second section 52 of the curved substrate 50 and the disk surface of the optical scale 11 located along the given level. In this state, the stator becomes 20 that the optical scale 11 contains, and / or the substrate 50 moved in the direction along the given plane, leaving the optical scale 11 is arranged in the target area for the detection. On the cylindrical outer circumference of the stator 20 is z. B. at the position where the optical scale 11 is arranged, an opening (eg., The opening 21a ), through which the substrate 50 in the direction along the disk surface of the optical scale 11 can be used, wherein the entry of the substrate 50 in this opening to the positioning of the optical scale 11 in the target area for detection. In this case, the substrate becomes 50 from the side of the harness section 54 in the opening 21a used. Moreover, the semi-curved first section occurs 51 in the side of the optical scale 11 on the shaft 12 is present, while the circular second section 52 in the side of the optical scale 11 on the shaft 12 does not exist, enters.

In der vorliegenden Ausführungsform sind der erste Abschnitt 51 und der zweite Abschnitt 52 parallel zueinander. Das Verfahren zum Herstellen des Sensors 31 gemäß der vorliegenden Ausführungsform enthält den Prozess, bei dem mit der Oberseite 52A des zweiten Abschnitts 52 als die vorgegebene Ebene der Stator 20, der die optische Skala 11 enthält, und/oder das Substrat 50 in der Richtung entlang der vorgegebenen Ebene bewegt werden. Folglich ist die Richtung der Relativbewegung des Substrats 50 und des Bewegungskörpers entlang dem ersten Abschnitt 51 und dem zweiten Abschnitt 52.In the present embodiment, the first section 51 and the second section 52 parallel to each other. The method of manufacturing the sensor 31 according to the present embodiment includes the process in which with the top 52A of the second section 52 as the default level of the stator 20 that the optical scale 11 contains, and / or the substrate 50 be moved in the direction along the given plane. Consequently, the direction of the relative movement of the substrate 50 and the moving body along the first section 51 and the second section 52 ,

Der auf den Zusammenbau während der Herstellung des Sensors 31 bezogene Prozess wird unter Bezugnahme auf ein tatsächliches Beispiel erklärt. Zuerst wird das Substrat 50 an dem ersten Element (dem Unterkörper 22) befestigt, das eines von mehreren Elementen repräsentiert, die das Gehäuse (den Stator 20) des Sensors 31 bilden. Dann wird das erste Element nah an das zweite Element (den Körper 21) gebracht, das eines der mehreren Elemente ist, die das Gehäuse bilden und das den Bewegungskörper stützt, um das Gehäuse zusammenzubauen und um zu bewirken, dass das Substrat 50 und der Bewegungskörper eine Relativbewegung in einer derartigen Weise ausführen, dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 eintritt. Spezieller wird der zweite Abschnitt 52 des Substrats 50 an dem Unterkörper 22 befestigt, wie in 10 veranschaulicht ist. Dann werden der Unterkörper 22, an dem der zweite Abschnitt 52 befestigt ist, und der Körper 21, in dem der Rotor 10 in einer drehbaren Weise angeordnet ist, angeordnet, so dass sie eine derartige Positionsbeziehung aufweisen, dass der erste Abschnitt 51, der zweite Abschnitt 52 und die optische Skala 11 im Wesentlichen parallel zueinander sind und dass die optische Skala 11 in dem Zielbereich für die Detektion zwischen dem ersten Abschnitt 51 und dem zweiten Abschnitt 52 positioniert ist, wie in 14 veranschaulicht ist. Das heißt, der erste Abschnitt 51, der zweite Abschnitt 52 und die optische Skala 11 werden so angeordnet, dass sie die Positionsbeziehung aufweisen, dass sie sich entlang der vorgegebenen Ebene befinden. Bei einer derartigen Positionsbeziehung werden der Körper 21 und der Unterkörper 22 in einer derartigen Weise, dass sich der Unterkörper 22 von der Öffnung 21a des Körpers 21 herein bewegt, entlang der vorgegebenen Ebene näher zueinander bewegt, wobei bewirkt wird, dass sie gegeneinander anstoßen; wobei folglich der Körper 21 und der Unterkörper 22 zusammengebaut sind. Im Ergebnis ist die optische Skala 11 in dem Zielbereich für die Detektion angeordnet. Wenn der Körper 21 und der Unterkörper 22 mit der Positionsbeziehung, in der die optische Skala 11 in dem Zielbereich für die Detektion zwischen dem ersten Abschnitt 51 und dem zweiten Abschnitt 52 positioniert ist, nah zueinander gebracht werden, ist es hier erwünscht, dass das Stützsubstrat 65, das mit der Rückseite 51B des ersten Abschnitts 51 verbunden ist, und die Verbindungsfläche 21c des Körpers 21 nicht gegeneinander anstoßen. Dann wird beim Zusammenbauen des Körpers 21 und des Unterkörpers 22, indem bewirkt wird, dass sie gegeneinander anstoßen, der Unterkörper 22 näher zu der Verbindungsfläche 21c geschoben, so dass das Stützsubstrat 65 und die Verbindungsfläche 21c aneinander anstoßen und miteinander verbunden sind. Während bei diesem Zusammenbauverfahren eine Fläche des tafelförmigen Elements (des Stützsubstrats 65) mit der Fläche (z. B. der Rückseite 51B) des anderen Abschnitts (z. B. des ersten Abschnitts 51) auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite verbunden wird; wird die andere Fläche des tafelförmigen Elements mit dem zweiten Element (z. B. dem Körper 21) verbunden. Es ist erwünscht, dass verschiedene spezifische Einzelheiten der Bauform, wie z. B. die Länge des Verbindungselements 53, die Länge der Ausdehnung der Welle 12 auf der Seite der Verbindungsfläche 21c und die Dicke des Stützsubstrats 65 festgelegt sind, um den Zusammenbau des Körpers 21 und des Unterkörpers 22 zu ermöglichen, wie er oben beschrieben worden ist. In dieser Weise enthält das Verfahren zum Herstellen des Sensors 31 (des optischen Sensors) gemäß der vorliegenden Ausführungsform den Prozess des Befestigens eines (z. B. des zweiten Abschnitts 52) des ersten Abschnitts 51 und des zweiten Abschnitts 52 an dem ersten Element (z. B. dem Unterkörper 22) und des Verbindens der Fläche (z. B. der Rückseite 51B) des anderen Abschnitts (z. B. des ersten Abschnitts 51) des ersten Abschnitts 51 und des zweiten Abschnitts 52, der sich auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite befindet, mit dem zweiten Element (z. B. dem Körper 21).The on the assembly during the production of the sensor 31 related process will be explained with reference to an actual example. First, the substrate 50 on the first element (the lower body 22 ), which represents one of several elements that surround the housing (the stator 20 ) of the sensor 31 form. Then the first element becomes close to the second element (the body 21 ), which is one of a plurality of elements that form the housing and that supports the moving body to assemble the housing and to cause the substrate 50 and the moving body perform relative movement in such a manner that the moving body enters the area between the generator 41 and the detector 35 entry. More specific is the second section 52 of the substrate 50 on the lower body 22 attached, as in 10 is illustrated. Then the lower body 22 at which the second section 52 is attached, and the body 21 in which the rotor 10 is arranged in a rotatable manner, arranged so that they have such a positional relationship that the first portion 51 , the second section 52 and the optical scale 11 are essentially parallel to each other and that the optical scale 11 in the target area for detection between the first section 51 and the second section 52 is positioned as in 14 is illustrated. That is, the first section 51 , the second section 52 and the optical scale 11 are arranged so that they have the positional relationship that they are along the given plane. In such a positional relationship, the body becomes 21 and the lower body 22 in such a way that the lower body 22 from the opening 21a of the body 21 moved in, moved closer to each other along the predetermined plane, causing them to abut against each other; consequently the body 21 and the lower body 22 assembled. The result is the optical scale 11 placed in the target area for detection. When the body 21 and the lower body 22 with the positional relationship in which the optical scale 11 in the target area for detection between the first section 51 and the second section 52 is positioned close to each other, it is here desirable that the support substrate 65 that with the back 51B of the first section 51 connected, and the connection surface 21c of the body 21 do not push against each other. Then, when assembling the body 21 and the lower body 22 by causing them to bump against each other, the lower body 22 closer to the interface 21c pushed so that the supporting substrate 65 and the interface 21c abut each other and are connected to each other. While in this assembling method, a surface of the tabular member (the supporting substrate 65 ) with the surface (eg the back 51B ) of the other section (eg the first section 51 ) on the opposite side of the target area for the detection; becomes the other surface of the tabular element with the second element (eg the body 21 ) connected. It is desirable that various specific details of the design, such as. B. the length of the connecting element 53 , the length of the extension of the shaft 12 on the side of the interface 21c and the thickness of the support substrate 65 are fixed to the assembly of the body 21 and the lower body 22 to enable, as has been described above. In this way, the method includes manufacturing the sensor 31 (the optical sensor) according to the present embodiment, the process of attaching a (eg, the second portion 52 ) of the first section 51 and the second section 52 on the first element (eg the lower body 22 ) and connecting the surface (eg the back 51B ) of the other section (eg the first section 51 ) of the first section 51 and the second section 52 which is on the opposite side of the target area for the detection, with the second element (eg the body 21 ).

Der Körper 21 und der Unterkörper 22 weisen die dem Zusammenbauprozess entsprechende Struktur auf, bei dem das Substrat 50 und der Bewegungskörper (z. B. die optische Skala 11) relativ bewegt werden, so dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 (d. h., den Zielbereich für die Detektion) eintritt. Spezieller enthält der Unterkörper 22 einen bogenförmigen Positionierungsabschnitt 22a, der so ausgebildet ist, dass er den zweiten Abschnitt des angeordneten Substrats 50 umschreibt. Der Positionierungsabschnitt 22a weist eine Kerbe auf, um es zu ermöglichen, dass der Kabelbaumabschnitt 54 in der Richtung der Relativbewegung des Körpers 21 und des Unterkörpers 22 beim Zusammenbau verläuft. Wie in den 10 und 15 veranschaulicht ist, kann überdies der Positionierungsabschnitt 22a außerdem eine Kerbe an der Position, die dem Verbindungselement 53 entspricht, aufweisen. Ein bogenförmiger äußerer Umfang 22b des Positionierungsabschnitts 22a weist die Form auf, die entlang einem inneren Umfang 21e einer bogenförmigen Wand 21d des Körpers 21, der die Außenseite der optischen Skala 11 bedeckt, verläuft. Aus diesem Grund stößt bei dem Zusammenbauprozess ein Abschnitt auf einer sich erstreckenden Seite des Kabelbaumabschnitts 54 des äußeren Umfangs 22b des Positionierungsabschnitts 22a gegen den inneren Umfang 21e der Wand 21d des Körpers 21 an. Dies führt zu der Herstellung der Positionsbeziehung zwischen dem Substrat 50 und dem Bewegungskörper, aufgrund der die optische Skala 11 auf der Geraden L2 vorhanden ist (siehe 12). Mit anderen Worten, der Positionierungsabschnitt 22a und die Wand 21d arbeiten als eine Positionierungsstruktur zum Ermöglichen der Herstellung der Positionsbeziehung zwischen dem Substrat 50 und dem Bewegungskörper (z. B. der optischen Skala 11). Überdies weist der Unterkörper 22 bezüglich einer radialen Richtung, wobei die Richtung der Ausdehnung der Welle 12 als die Mittelachse dient, eine abgestufte Fläche 22c auf, die so ausgebildet ist, dass sie sich zur Außenseite des Positionierungsabschnitts 22a erstreckt. Wenn der Körper 21 und der Unterkörper 22 zusammengebaut werden, stößt die abgestufte Fläche 22c gegen ein unteres Ende 21f der Wand 21d des Körpers 21 an. Im Ergebnis sind bezüglich der Richtung der Ausdehnung der Welle 12 sowohl die Positionsbeziehung zwischen dem Körper 21 und dem Unterkörper 22 als auch die Positionsbeziehung zwischen dem Substrat 50 und dem Bewegungskörper (z. B. der optischen Skala 11) bestimmt. Mit anderen Worten, der Unterkörper 22, der den Positionierungsabschnitt 22a und die abgestufte Fläche 22c enthält, und der Unterkörper 21, der die Wand 21d enthält, arbeiten als eine Positionierungsstruktur zum Ermöglichen der Herstellung der Positionsbeziehung zwischen dem Substrat 50 und dem Bewegungskörper (z. B. der optischen Skala 11). In der vorliegenden Ausführungsform sind die abgestufte Fläche 22c, das untere Ende 21f und die optische Skala 11 entlang der Richtung der Relativbewegung des Körpers 21 und des Unterkörpers 22 positioniert. Überdies ist der Unterkörper 22 in einer derartigen Weise an dem Substrat 50 vorgesehen, dass die Oberseite 52A entlang einer abgestuften Fläche 55c verläuft (oder zu einer abgestuften Fläche 55c parallel ist). Infolge der Struktur des Körpers 21 und des Unterkörpers 22 wird außerdem die parallele Beziehung der optischen Skala 11 zu dem ersten Abschnitt 51 und dem zweiten Abschnitt 52 hergestellt. Infolge der Kerbe 51a stellen überdies die Welle 12 und das Substrat 50 sogar nach dem Zusammenbau des Körpers 21 und des Unterkörpers 22 keinen Kontakt miteinander her. Dies verhindert eine Situation, in der die Drehung der Welle 12 aufgrund des Kontakts mit dem Substrat 50 behindert ist. In dieser Weise wird in dem Verfahren zum Herstellen des Sensors 31 gemäß der vorliegenden Ausführungsform eine Kerbe (die Kerbe 51a) in dem ersten Abschnitt 51 gebildet, um sicherzustellen, dass die Welle 12 und das Substrat 50 keinen Kontakt miteinander herstellen, während der Bewegungskörper in dem Bereich zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 bleibt.The body 21 and the lower body 22 have the structure corresponding to the assembly process, in which the substrate 50 and the moving body (eg, the optical scale 11 ) are relatively moved, so that the moving body in the area between the generator 41 and the detector 35 (ie, the target area for detection). More specific is the lower body 22 an arcuate positioning portion 22a formed to cover the second portion of the arrayed substrate 50 rewrites. The positioning section 22a has a notch to allow the harness section 54 in the direction of the relative movement of the body 21 and the lower body 22 during assembly runs. As in the 10 and 15 is illustrated, moreover, the positioning section 22a also a notch at the position that the connecting element 53 corresponds to. An arcuate outer circumference 22b of the positioning section 22a has the shape along an inner circumference 21e an arcuate wall 21d of the body 21 which is the outside of the optical scale 11 covered, runs. For this reason, in the assembling process, a portion strikes an extending side of the harness portion 54 the outer circumference 22b of the positioning section 22a against the inner circumference 21e the Wall 21d of the body 21 at. This leads to the production of the positional relationship between the substrate 50 and the moving body, due to the optical scale 11 on the straight line L2 is present (see 12 ). In other words, the positioning section 22a and the wall 21d work as a positioning structure to enable the positional relationship between the substrate to be established 50 and the moving body (eg the optical scale 11 ). Moreover, the lower body points 22 with respect to a radial direction, the direction of expansion of the shaft 12 as the central axis serves, a stepped surface 22c configured to extend to the outside of the positioning section 22a extends. When the body 21 and the lower body 22 assembled, pushes the stepped surface 22c against a lower end 21f the Wall 21d of the body 21 at. As a result, with respect to the direction of expansion of the shaft 12 both the positional relationship between the body 21 and the lower body 22 as well as the positional relationship between the substrate 50 and the moving body (eg the optical scale 11 ) certainly. In other words, the lower body 22 , who is the positioning section 22a and the stepped surface 22c contains, and the lower body 21 who is the wall 21d includes working as a positioning structure to enable the positional relationship between the substrate to be established 50 and the moving body (eg the optical scale 11 ). In the present embodiment, the stepped surface 22c , the lower end 21f and the optical scale 11 along the direction of the relative movement of the body 21 and the lower body 22 positioned. Moreover, the lower body 22 in such a way on the substrate 50 provided that the top 52A along a stepped surface 55c runs (or to a stepped surface 55c is parallel). As a result of the structure of the body 21 and the lower body 22 also becomes the parallel relationship of the optical scale 11 to the first section 51 and the second section 52 produced. As a result of the score 51a moreover, make the wave 12 and the substrate 50 even after the body has been assembled 21 and the lower body 22 no contact with each other. This prevents a situation in which the rotation of the shaft 12 due to contact with the substrate 50 is hampered. In this way, in the method of manufacturing the sensor 31 according to the present embodiment, a notch (the notch 51a ) in the first section 51 formed to ensure that the shaft 12 and the substrate 50 make no contact with each other, while the moving body in the area between the generator 41 and the detector 35 remains.

Nach dem Zusammenbau des Körpers 21 und des Unterkörpers 22 erstreckt sich der Kabelbaumabschnitt 54 von der Kerbe 21b, die auf der der Öffnung 21a des Körpers 21 gegenüberliegenden Seite ausgebildet ist. Anschließend wird, wenn die Abdeckung 23 und der Unterkörper 22 getrennte Teile sind, die Abdeckung 23 befestigt, um die Öffnung 21a des Körpers 21 abzudecken. Das heißt, in dem Verfahren zum Herstellen des Sensors 31 gemäß der vorliegenden Ausführungsform wird nach dem Zusammenbau des ersten Elements (des Unterkörpers 22) und des zweiten Elements (des Körpers 21) ein Eingang (die Öffnung 21a) für das Substrat 50, der in dem zweiten Element ausgebildet ist, durch ein Abdeckelement (die Abdeckung 23) abgedeckt. In den 13 bis 16 sind einige der Schaltungen, wie z. B. der Detektor 35, nicht veranschaulicht. In der Praxis sind jedoch verschiedene Schaltungen einschließlich des Detektors 35 bereits installiert.After assembling the body 21 and the lower body 22 the harness section extends 54 from the notch 21b on the opening 21a of the body 21 opposite side is formed. Subsequently, when the cover 23 and the lower body 22 separate parts are the cover 23 attached to the opening 21a of the body 21 cover. That is, in the method of manufacturing the sensor 31 According to the present embodiment, after the assembly of the first member (the lower body 22 ) and the second element (the body 21 ) an entrance (the opening 21a ) for the substrate 50 formed in the second member by a cover member (the cover 23 ). In the 13 to 16 are some of the circuits, such. B. the detector 35 , not illustrated. In practice, however, there are various circuits including the detector 35 already installed.

Wenn der Verbinder CNT bereits an dem Substrat 50 installiert ist, z. B. in der Stufe der Positionseinstellungen des Körpers 21 und des Unterkörpers 22 vor der Relativbewegung des Körpers 21 und des Unterkörpers 22, kann die Positionsbeziehung so sein, dass das vordere Ende des Kabelbaumabschnitts 54 bereits zur Außenseite des Körpers 21 freigelegt ist. Im Ergebnis wird bei der Relativbewegung des Körpers 21 und des Unterkörpers 22 für den Zweck des Bewirkens, dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 eintritt, verhindert, dass der Verbinder CNT in der Kerbe 21b gefangen wird und hindurchgeht, wobei folglich der Zusammenbau in einer günstigen Weise ausgeführt werden kann. Der Verbinder CNT kann vor dem Zusammenbau des Gehäuses (des Stators 20) an dem Substrat 50 installiert werden. Offensichtlich kann der Verbinder CNT außerdem nach dem Zusammenbau des Gehäuses installiert werden.When the connector CNT is already attached to the substrate 50 is installed, z. In the stage of positional adjustments of the body 21 and the lower body 22 before the relative movement of the body 21 and the lower body 22 , the positional relationship may be such that the front end of the harness section 54 already to the outside of the body 21 is exposed. As a result, during the relative movement of the body 21 and the lower body 22 for the purpose of effecting that the moving body in the area between the generator 41 and the detector 35 enters, prevents the connector CNT in the notch 21b is caught and passes through, and thus the assembly can be carried out in a favorable manner. The connector CNT may prior to assembly of the housing (the stator 20 ) on the substrate 50 be installed. Obviously, the connector CNT may also be installed after assembly of the housing.

In dieser Weise enthält das Gehäuse des Sensors 31 das erste Element (den Unterkörper 22), an dem das Substrat 50 angebracht ist, und das zweite Element (den Körper 21), an dem der Bewegungskörper angeordnet ist. Das Gehäuse des Sensors 31 wird durch das relative Bewegen des zweiten Elements und des ersten Elements in der vorgegebenen Richtung, um zu bewirken, dass die gegeneinander anstoßen, zusammengebaut. Hier ist die vorgegebene Richtung die Richtung, in der der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 (d. h., den Zielbereich für die Detektion) hineingebracht werden kann.In this way, the housing contains the sensor 31 the first element (the lower body 22 ) to which the substrate 50 attached, and the second element (the body 21 ) on which the moving body is arranged. The housing of the sensor 31 is assembled by relatively moving the second member and the first member in the predetermined direction to cause them to abut against each other. Here, the predetermined direction is the direction in which the moving body enters the area between the generator 41 and the detector 35 (ie, the target area for detection) can be brought in.

Wie oben beschrieben worden ist, ermöglicht gemäß der vorliegenden Ausführungsform die einfache Aufgabe des Biegens oder Krümmens des Substrats 50 das Ausführen der Positionierung des Generators 41 und des Detektors 35, weil das Substrat 50 den ersten Abschnitt 51, an dem der Generator 41 installiert ist, und den zweiten Abschnitt 52, an dem der Detektor 35 installiert ist, enthält. In dieser Weise wird gemäß der vorliegenden Ausführungsform die Positionierung des Generators 41 und des Detektors 35 leichter. Weil überdies die Positionierung leicht ausgeführt werden kann, kann der auf die Positionierung bezogene Herstellungsprozess vereinfacht werden. Folglich wird gemäß der vorliegenden Ausführungsform die Herstellung des Sensors leichter. Weiterhin wird es möglich, den Sensor 31 herzustellen, der das auf die Bewegung des Bewegungskörpers bezogene Abtasten ausführen kann, weil das Substrat 50 und der Bewegungskörper in einer derartigen Weise relativ bewegt werden, dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 eintritt, weil der Generator 41 und der Detektor 35 an dem Substrat 50 angeordnet sind, das den ersten Abschnitt 51 und den zweiten Abschnitt 52 aufweist, die in einer integrierten Weise ausgebildet sind.As described above, according to the present embodiment, the simple task of bending or bending the substrate enables 50 performing the positioning of the generator 41 and the detector 35 because the substrate 50 the first section 51 at which the generator 41 is installed, and the second section 52 at which the detector 35 is installed contains. In this way, according to the present embodiment, the positioning of the generator 41 and the detector 35 lighter. Moreover, because the positioning can be carried out easily, the positioning process related to the positioning can be simplified. Consequently, according to the present embodiment, the manufacture of the sensor becomes easier. Furthermore, it becomes possible to use the sensor 31 can perform the related to the movement of the moving body scanning, because the substrate 50 and the moving body are relatively moved in such a manner that the moving body enters the area between the generator 41 and the detector 35 occurs because of the generator 41 and the detector 35 on the substrate 50 are arranged, which is the first section 51 and the second section 52 which are formed in an integrated manner.

Überdies kann infolge des Verbindungselements 53 der Raum mit mehr Leichtigkeit zwischen dem ersten Abschnitt 51 und dem zweiten Abschnitt 52 zugewiesen werden. Aus diesem Grund kann der Zielbereich für die Detektion zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 leicht geschaffen werden. Weil der Bewegungskörper von der dem Verbindungselement 53 gegenüberliegenden Seite in den Bereich (den Zielbereich für die Detektion) eintritt, werden nicht nur die Positionierung und die Herstellung leichter, sondern es kann außerdem der Vorteil verwendet werden, dass das Verbindungselement 53 vorhanden ist.Moreover, as a result of the connecting element 53 the room with more ease between the first section 51 and the second section 52 be assigned to. For this reason, the target range for detection between the generator 41 and the detector 35 be easily created. Because the moving body of the connecting element 53 opposite side into the area (the target area for detection), not only the positioning and the manufacturing easier, but it can also be used the advantage that the connecting element 53 is available.

Im Ergebnis des Bereitstellens des ersten Abschnitts 51 und des zweiten Abschnitts 52, so dass sie zueinander parallel sind, kann weiterhin die Positionsbeziehung zwischen dem Generator 41, der an dem ersten Abschnitt 51 installiert ist, und dem Detektor, der an dem zweiten Abschnitt 52 installiert ist, basierend auf der Beziehung zwischen dem ersten Abschnitt 51 und dem zweiten Abschnitt 52 eingestellt werden. Aus diesem Grund werden, wenn der Generator 41 eine Richteigenschaft aufweist, sowohl die Positionseinstellung, um den Detektor 35 innerhalb des Bereichs der Erzeugung des Detektionsziels, das durch den Generator 41 detektiert wird, zu halten als auch die auf den Positionswinkel beim Installieren des Generators 41 und des Detektors 35 auf dem Substrat 50 bezogene Bauform einfacher. Überdies kann durch das Halten der Richtung der Relativbewegung des Substrats 50 und des Bewegungskörpers entlang dem ersten Abschnitt 51 und dem zweiten Abschnitt 52 der Bezug für die Richtung der Relativbewegung mit mehr Leichtigkeit bestimmt werden, wobei es schwieriger gemacht werden kann, dass das Substrat 50 und der Bewegungskörper während der Relativbewegung miteinander in Kontakt kommen. Folglich kann mit mehr Leichtigkeit bewirkt werden, dass der Bewegungskörper in den Bereich (den Zielbereich für die Detektion) eintritt.As a result of providing the first section 51 and the second section 52 So that they are parallel to each other, the positional relationship between the generator can continue 41 that at the first section 51 is installed, and the detector attached to the second section 52 is installed based on the relationship between the first section 51 and the second section 52 be set. Because of this, when the generator 41 has a directivity, both the position adjustment, around the detector 35 within the range of generation of the detection target by the generator 41 is detected as well as the position angle when installing the generator 41 and the detector 35 on the substrate 50 related design easier. Moreover, by keeping the direction of the relative movement of the substrate 50 and the moving body along the first section 51 and the second section 52 the reference to the direction of the relative movement can be determined with more ease, whereby it can be made more difficult that the substrate 50 and the moving body come into contact with each other during the relative movement. Consequently, it can be made more easily that the moving body enters the area (the target area for detection).

Weiterhin wird es im Ergebnis des Bilden einer Kerbe (z. B. der Kerbe 51a) zum Sicherstellen, dass die Welle 12 und das Substrat 50 keinen Kontakt miteinander herstellen, während der Bewegungskörper in dem Bereich zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 bleibt, möglich, zu verhindern, dass das Substrat 50 einen Kontakt mit der Welle 12 herstellt, und folglich eine Situation zu verhindern, in der die Bewegung der Welle 12 behindert ist.Further, as a result of forming a notch (eg, the notch 51a ) to make sure the shaft 12 and the substrate 50 make no contact with each other, while the moving body in the area between the generator 41 and the detector 35 stays, possible, to prevent the substrate 50 a contact with the shaft 12 and thus prevent a situation in which the movement of the shaft 12 is hampered.

Im Ergebnis des Zusammenbauens des Gehäuses, indem das erste Element (z. B. der Unterkörper 22) und das zweite Element (z. B. der Körper 21) nah zueinander gebracht werden, und im Ergebnis des Bewirkens, dass das Substrat 50 und der Bewegungskörper eine Relativbewegung in einer derartigen Weise ausführen, dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 eintritt, kann überdies bewirkt werden, dass der Bewegungskörper gleichzeitig während des einzigen Prozesses des Zusammenbauens des Gehäuses in den Bereich zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 eintritt. Weiterhin kann die Einstellung der Positionsbeziehung zwischen dem Bewegungskörper und den Strahlen zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 außerdem gemäß der Positionsbeziehung zwischen dem ersten Element und dem zweiten Element während des Zusammenbaus des Gehäuses bestimmt werden. Folglich kann der Sensor 31 gemäß der vorliegenden Ausführungsform leicht hergestellt werden.As a result of assembling the housing by placing the first element (eg the lower body 22 ) and the second element (eg the body 21 ) are brought close to each other, and as a result of causing the substrate 50 and the moving body perform relative movement in such a manner that the moving body enters the area between the generator 41 and the detector 35 Moreover, during the single process of assembling the housing into the area between the generator, the moving body can be caused to move simultaneously 41 and the detector 35 entry. Furthermore, the adjustment of the positional relationship between the moving body and the beams between the generator 41 and the detector 35 also in accordance with the positional relationship between the first member and the second member during the Assembly of the housing to be determined. Consequently, the sensor can 31 can be easily produced according to the present embodiment.

Überdies wird nach dem Zusammenbauen des ersten Elements und des zweiten Elements der in dem zweiten Element ausgebildete Eingang (z. B. die Öffnung 21a) für das Substrat durch ein Abdeckelement (z. B. die Abdeckung 23) abgedeckt, so dass der Generator 41, der Detektor 35 und der Bewegungskörper innerhalb des Gehäuses abgedichtet sein können. Folglich kann gemäß der vorliegenden Ausführungsform der Sensor 31 das auf die Bewegung des Bewegungskörpers bezogene Abtasten mit mehr Genauigkeit ausführen.Moreover, after assembling the first member and the second member, the entrance formed in the second member (eg, the opening 21a ) for the substrate by a cover member (eg the cover 23 ), so that the generator 41 , the detector 35 and the moving body may be sealed within the housing. Consequently, according to the present embodiment, the sensor 31 perform the related to the movement of the moving body scanning with more accuracy.

Indem bewirkt wird, dass das Verbindungselement 53 die mit dem Generator 41 zu verbindende Verdrahtung enthält, können überdies die mit dem Generator 41 zu verbindende Verdrahtung und das Verbindungselement 53 miteinander integriert werden. Dies bewirkt, dass das Verbindungselement 53 und das Substrat 50, die die Verdrahtung aufweisen, kompakt sind.By causing the connecting element 53 the one with the generator 41 In addition, the wiring to be connected may include those with the generator 41 Wiring to be connected and the connecting element 53 be integrated with each other. This causes the connecting element 53 and the substrate 50 that have the wiring are compact.

Weil das Verbindungselement 53 eine Breite aufweist, die kleiner als der erste Abschnitt 51 und der zweite Abschnitt 52 ist, können weiterhin die Abmessungen des Substrats 50 im Vergleich zu dem Fall, in dem die Breite des Substrats 50, das den ersten Abschnitt 51 und den zweiten Abschnitt 52 über das Verbindungselement 53 enthält, gleichmäßig gehalten ist, klein gehalten werden. Folglich kann das Substrat 50 mit einem leichteren Gewicht hergestellt werden.Because the connecting element 53 has a width smaller than the first section 51 and the second section 52 is, can continue the dimensions of the substrate 50 compared to the case where the width of the substrate 50 that the first section 51 and the second section 52 over the connecting element 53 contains, kept evenly, be kept small. Consequently, the substrate can 50 be made with a lighter weight.

Im Ergebnis des Biegens des Substrats 50 an zwei Positionen kann überdies der Zielbereich für die Detektion zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 aufgrund des Biegens des Substrats 50 zugewiesen werden. Überdies können die Biegeposition genau definiert werden.As a result of bending the substrate 50 In addition, at two positions, the target area for detection between the generator 41 and the detector 35 due to the bending of the substrate 50 be assigned to. Moreover, the bending position can be precisely defined.

Weil der erste Abschnitt 51 kleiner als der zweite Abschnitt 52 ist, kann weiterhin der erste Abschnitt 51 mit einem leichteren Gewicht hergestellt werden. Aus diesem Grund können die Anforderungen an das Verbindungselement 53 einfacher gehalten werden.Because the first section 51 smaller than the second section 52 is, can continue the first section 51 be made with a lighter weight. For this reason, the requirements for the connecting element 53 be kept simpler.

Weil das Substrat 50 (z. B. in einer C-förmigen Weise) gebogen wird, so dass der Generator 41 und der Detektor 35 einander gegenüberliegend positioniert sind, kann überdies bewirkt werden, dass irgendein Teil des Substrats 50 (z. B. der zweite Abschnitt 52) entlang einer Ebene in dem Stator 20 (z. B. dem ebenen Abschnitt des Unterkörpers 22) verläuft. Im Ergebnis kann die Handhabung des Sensors 31 leichter werden, während der Sensor 31 in dem Gehäuse installiert wird.Because the substrate 50 (eg in a C-shaped way) is bent so that the generator 41 and the detector 35 In addition, each part of the substrate may be caused to be positioned opposite to each other 50 (eg the second section 52 ) along a plane in the stator 20 (eg, the flat portion of the lower body 22 ) runs. As a result, the handling of the sensor 31 become lighter while the sensor 31 is installed in the housing.

Weil das Substrat 50 ein flexibles Substrat ist, kann weiterhin bezüglich der Folge von Aufgaben, wie z. B. des Installierens der Komponenten einschließlich des Generators 41 und des Detektors 35, während der erste Abschnitt 51 und der zweite Abschnitt 52 in derselben Ebene vorhanden sind, und dann des Bearbeitens des Substrats 50 für den Zweck des Sicherstellens des Zielbereichs für die Detektion zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35, die Folge von Aufgaben mit mehr Leichtigkeit ausgeführt werden.Because the substrate 50 is a flexible substrate, can continue with respect to the sequence of tasks, such. B. installing the components including the generator 41 and the detector 35 while the first section 51 and the second section 52 present in the same plane, and then processing the substrate 50 for the purpose of ensuring the target area for detection between the generator 41 and the detector 35 To run the sequence of tasks with more ease.

Überdies enthält das Substrat 50 den Kabelbaumabschnitt 54, der die Verdrahtung enthält, die mit dem Generator 41 und den Detektor 35 zu verbinden ist. Folglich kann die Verdrahtung, die mit der Konfiguration des Sensors 31, die den Generator 41 und den Detektor 35 enthält, zu verbinden ist, gemeinsam in dem Substrat 50 enthalten sein. Das heißt, im Ergebnis des Anordnens des Kabelbaumabschnitts 54 müssen die Kabel nicht einzeln von den Komponenten (wie z. B. den Schaltungen), die die Verdrahtung erfordern, gezogen werden. Folglich müssen das Substrat 50 und die Verdrahtung nicht einzeln gehandhabt werden, wobei es dadurch leichter gemacht wird, den Sensor 31 zu handhaben.Moreover, the substrate contains 50 the harness section 54 that contains the wiring to the generator 41 and the detector 35 to connect. Consequently, the wiring can match the configuration of the sensor 31 that the generator 41 and the detector 35 contains, is to be joined together in the substrate 50 be included. That is, as a result of arranging the harness section 54 The cables need not be pulled one at a time from the components (such as the circuits) that require the wiring. Consequently, the substrate must 50 and the wiring can not be handled individually, thereby making it easier to use the sensor 31 to handle.

Wenn der Detektor 35 die Änderungen des Detektionsziels detektiert, die den Änderungen der physikalischen Größe in dem Zielbereich für die Detektion zugeschrieben werden, kann weiterhin das Objekt, in dem sich die physikalische Größe geändert hat, als das Ziel zum Abtasten durch den Sensor 31 behandelt werden.If the detector 35 Further, when the changes of the detection target detected in the target area for detection are attributed to the changes in the physical quantity, the object in which the physical quantity has changed may be used as the target for scanning by the sensor 31 be treated.

Weil elektromagnetische Wellen das Detektionsziel (z. B. das durch den Generator 41 emittierte Licht) repräsentieren; können überdies die Änderungen in dem Zielbereich für die Detektion gemäß den Änderungen der elektromagnetischen Wellen detektiert werden.Because electromagnetic waves are the detection target (eg, that caused by the generator 41 emitted light); moreover, the changes in the target area for the detection can be detected according to the changes of the electromagnetic waves.

Weil die Änderungen der physikalischen Größe von der Drehung des Bewegungskörpers (z. B. der optischen Skala 11), der in dem Zielbereich für die Detektion vorhanden ist, abhängig sind, kann weiterhin die Drehbewegung des Bewegungskörpers als das Ziel zum Abtasten durch den Sensor 31 behandelt werden.Because the changes in the physical quantity of the rotation of the moving body (eg., The optical scale 11 ), which is present in the target area for detection, may further include the rotational movement of the moving body as the target for scanning by the sensor 31 be treated.

Einer des ersten Abschnitts und des zweiten Abschnitts (z. B. der zweite Abschnitt 52) ist überdies an dem ersten Element (z. B. dem Unterkörper 22) befestigt, wobei die Fläche des anderen Abschnitts (z. B. des ersten Abschnitts 51) auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite mit dem zweiten Element (z. B. dem Körper 21 verbunden ist). Das heißt, während des Zusammenbaus des Sensors 31 ist es einfach erforderlich, dass ein Abschnitt an dem ersten Element befestigt wird und dass die Fläche des anderen Abschnitts auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite mit dem zweiten Element verbunden wird. Dies macht den Zusammenbau des Sensors 31 leichter.One of the first section and the second section (eg, the second section 52 ) is also on the first element (eg the lower body 22 ), wherein the surface of the other portion (eg of the first section 51 ) on the opposite side of the target area for the detection with the second element (eg the body 21 connected is). That is, during assembly of the sensor 31 it is simply necessary for a section to be attached to the first element and that the surface of the other portion on the opposite side of the target area for the detection is connected to the second element. This makes the assembly of the sensor 31 lighter.

Weiterhin kann nur durch die Verwendung eines tafelförmigen Elements, das auf beiden Flächen eine Klebstoffeigenschaft aufweist, (z. B. des Stützsubstrats 65) die Fläche des anderen Abschnitts auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite mit dem zweiten Element verbunden werden. Folglich wird der Zusammenbau des Sensors 31 leichter.Further, only by using a tabular member having an adhesive property on both surfaces (eg, the support substrate 65 ) the surface of the other portion on the opposite side of the target area for the detection with the second element are connected. Consequently, the assembly of the sensor becomes 31 lighter.

Überdies wird vor dem Zusammenbau des Gehäuses (z. B. des Stators 20) das tafelförmige Element (z. B. das Stützsubstrat 65) an der Fläche des anderen Abschnitts auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite befestigt. Damit können in einem integrierten Zustand des tafelförmigen Elements und des Substrats 50 die Fläche des anderen Abschnitts und das zweite Element verbunden werden. Folglich wird der Zusammenbau des Sensors 31 leichter.Moreover, before assembling the housing (eg the stator 20 ) the tabular element (eg the support substrate 65 ) is attached to the surface of the other portion on the opposite side of the detection target area. Thus, in an integrated state of the tabular element and the substrate 50 the area of the other section and the second element are connected. Consequently, the assembly of the sensor becomes 31 lighter.

Weiterhin sind die vier Lichtempfangsvorrichtungen an verschiedenen Positionen in einer vorgegebenen Ebene (z. B. der Oberseite 52A) angeordnet; ist der Abstand (der Abstand W) bis zu einem einzigen Punkt (der Anordnungsmitte S0) in der vorgegebenen Ebene von jeder der vier Lichtempfangsvorrichtung gleich; befinden sich die vier Liniensegmente, die den einzigen Punkt mit den Mitten der Lichtempfangsbereiche der vier Lichtempfangsvorrichtungen verbinden, in rechten Winkeln (θ1 bis θ4) zueinander; und geht die Normale (die Gerade L2) der vorgegebenen Ebene, die durch den einzigen Punkt hindurchgeht, durch den Lichtemissionspunkt 41S des Generators 41. Folglich kann jede Lichtempfangsvorrichtung festgelegt sein, so dass sie den gleichen Abstand von der Lichtemissionsvorrichtung aufweist. Dies verringert die Variabilität der Ausgaben, die die Detektion des Lichts durch die Lichtempfangsvorrichtungen begleitet. In dieser Weise können gemäß der vorliegenden Ausführungsform die Ausgaben der Lichtempfangsvorrichtungen in einem größeren Ausmaß stabilisiert werden.Furthermore, the four light receiving devices are at different positions in a given plane (eg, the top side 52A ) arranged; the distance (the distance W) is equal to a single point (the arrangement center S0) in the predetermined plane of each of the four light receiving devices; the four line segments connecting the single point to the centers of the light receiving areas of the four light receiving devices are at right angles (θ1 to θ4) to each other; and the normal (the line L2) of the given plane passing through the single point passes through the light emission point 41S of the generator 41 , Consequently, each light receiving device can be fixed so as to be the same distance from the light emitting device. This reduces the variability of the outputs accompanying the detection of the light by the light receiving devices. In this way, according to the present embodiment, the outputs of the light receiving devices can be stabilized to a greater extent.

An den Flächen auf der Rückseite der FPC (z. B. den Rückseiten 51B und 52B) ist überdies ein Stützelement zum Aufrechterhalten der Flächen auf der gegenüberliegenden Seite (z. B. den Oberseiten 51A und 52A) in einer Ebene befestigt. Folglich kann die Beanspruchung in einem Verbindungselement zwischen der FPC und den auf der FPC installierten elektronischen Komponenten weiter verringert werden. Folglich können die mit dem Verbindungselement zwischen der FPC und den auf der FPC installierten elektronischen Komponenten in Beziehung stehenden Störungen weiter verringert werden. Dies erhöht ferner die mit den normalen Operationen des Sensors 31 in Beziehung stehende Zuverlässigkeit. Weil die Beanspruchung bezüglich des Verbindungselements verringert werden kann, kann überdies das Niveau der Schwierigkeit der Installation der elektronischen Komponenten an der FPC verringert werden und können die elektronischen Komponenten leichter auf den Flächen der dem Stützelement gegenüberliegenden Seite installiert werden.At the areas on the back of the FPC (eg the backs 51B and 52B ) is also a support element for maintaining the surfaces on the opposite side (eg the topsides) 51A and 52A ) fastened in a plane. Consequently, the stress in a connector between the FPC and the electronic components installed on the FPC can be further reduced. As a result, the disturbances associated with the connector between the FPC and the electronic components installed on the FPC can be further reduced. This also increases with the normal operations of the sensor 31 Relative reliability. Moreover, because the stress on the connector can be reduced, the level of difficulty of installing the electronic components to the FPC can be reduced, and the electronic components can be more easily installed on the surfaces of the opposite side of the support member.

Weiterhin kann die Baugruppe einer integrierten Schaltung (z. B. der IC-Schaltung 60), die auf der Fläche auf der Rückseite (z. B. auf der Rückseite 52B) installiert ist, als das Stützelement der elektronischen Komponenten verwendet werden, die auf der Fläche auf der gegenüberliegenden Seite (z. B. der Oberseite 52A) installiert sind. Weil die integrierte Schaltung ebenfalls eine der Schaltungen ist, die den Sensor 31 bilden, ermöglicht überdies das Installieren der Schaltungen auf beiden Flächen der FPC eine effizientere Verwendung der Substratabmessungen. Folglich können die Abmessungen der FPC bezüglich des Ausmaßes der erforderlichen Schaltungen mit mehr Leichtigkeit verringert werden. Folglich kann die Verkleinerung des Sensors 31 aufgrund der hohen Integration der Schaltungen leichter erreicht werden.Furthermore, the assembly of an integrated circuit (eg the IC circuit 60 ), on the surface on the back (eg on the back 52B ) is used as the support member of the electronic components located on the surface on the opposite side (eg, the top 52A ) are installed. Because the integrated circuit is also one of the circuits that make up the sensor 31 Moreover, installing the circuits on both faces of the FPC allows more efficient use of the substrate dimensions. Consequently, the dimensions of the FPC can be reduced more easily with respect to the amount of required circuits. Consequently, the downsizing of the sensor 31 be achieved more easily due to the high integration of the circuits.

Weil ein tafelförmiges Element, wie z. B. das Stützsubstrat 65, angeordnet ist, das Isolationseigenschaften aufweist und das in Übereinstimmung mit der Form des ersten Abschnitts 51 geformt ist, kann weiterhin die Fläche, auf der die elektronischen Komponenten installiert sind, (z. B. die Oberseite 51A) durch das Stützelement umfassend gestützt sein.Because a tabular element, such. B. the support substrate 65 , which has insulating properties and that in accordance with the shape of the first section 51 In addition, the surface on which the electronic components are installed may be formed (eg, the top side 51A ) be supported by the support member comprehensively.

Überdies sind die Fläche des ersten Abschnitts 51, auf der der Generator 41 installiert ist, (z. B. die Oberseite 51A) und die Fläche des zweiten Abschnitts 52, auf der der Detektor 35 installiert ist, (z. B. die Oberseite 52A) zueinander parallel und einander gegenüberliegend; sind die erste Achse LA und die zweite Achse LB zueinander parallel; ist der Abstand W1 zwischen dem ersten Punkt (z. B. dem Lichtemissionspunkt 41S) und der ersten Achse LA gleich dem Abstand W2 zwischen dem zweiten Punkt (z. B. der Anordnungsmitte S0) und der zweiten Achse LB; und sind der erste Punkt und der zweite Punkt in dem Substrat 50 vor dem Biegen auf derselben Geraden (z. B. der Geraden L1) vorhanden, die die erste Achse LA und die zweite Achse LB in rechten Winkeln schneidet (oder die erste Achse LA und die zweite Achse LB in einer erhöhten Weise schneidet). Folglich sind der erste Punkt und der zweite Punkt auf derselben Geraden (z. B. der Geraden L2) vorhanden, die zu dem ersten Abschnitt 51 und dem zweiten Abschnitt 52 nach dem Biegen des Substrats 50 orthogonal ist. Aus diesem Grund kann mit mehr Genauigkeit bewirkt werden, dass der Generator 41 und der Detektor 35 einander gegenüberliegen, wobei folglich die Ausgabe des Detektors 35 weiter stabilisiert werden kann.Moreover, the area of the first section 51 on which the generator 41 is installed (eg the top 51A ) and the area of the second section 52 on which the detector 35 is installed (eg the top 52A ) parallel to each other and opposite each other; the first axis LA and the second axis LB are parallel to each other; is the distance W1 between the first point (eg the light emission point 41S ) and the first axis LA equal to the distance W2 between the second point (eg, the placement center S0) and the second axis LB; and are the first point and the second point in the substrate 50 before bending on the same straight line (eg, the straight line L1) intersecting the first axis LA and the second axis LB at right angles (or intersecting the first axis LA and the second axis LB in an increased manner). Consequently, the first point and the second point are present on the same straight line (eg, the line L2) as the first section 51 and the second section 52 after bending the substrate 50 is orthogonal. For this reason can be effected with more accuracy that the generator 41 and the detector 35 facing each other, thus the output of the detector 35 can be further stabilized.

Weiterhin verringert das Anwenden einer Antireflexionsbehandlung auf die Fläche des Substrats 50, auf der der Generator 41 und der Detektor 35 angeordnet sind, (d. h., die Oberseite 50A) die Reflexion des Lichts, das von dem Generator 41 emittiert wird, von dem Substrat. Dies ermöglicht das Erreichen der Verringerung der Ausgabe des Detektors 35, die der Detektion des reflektierten Lichts zugeschrieben wird, wobei folglich die Ausgabe des Detektors 35 weiter stabilisiert werden kann.Furthermore, applying an anti-reflection treatment to the surface of the substrate reduces 50 on which the generator 41 and the detector 35 are arranged (ie, the top 50A ) the reflection of the light coming from the generator 41 is emitted from the substrate. This makes it possible to achieve the reduction of the output of the detector 35 , which is attributed to the detection of the reflected light, and consequently the output of the detector 35 can be further stabilized.

Überdies verringert das Anwenden einer Antireflexionsbehandlung auf die Welle 12 die Reflexion des Lichts, das von dem Generator 41 emittiert wird, von der Welle 12. Dies ermöglicht das Erreichen einer Verringerung der Ausgabe des Detektors 35, die der Detektion des reflektierten Lichts zugeschrieben wird, wobei folglich die Ausgabe des Detektors 35 weiter stabilisiert werden kann.Moreover, applying an anti-reflection treatment to the shaft reduces 12 the reflection of the light coming from the generator 41 is emitted from the shaft 12 , This makes it possible to achieve a reduction in the output of the detector 35 , which is attributed to the detection of the reflected light, and consequently the output of the detector 35 can be further stabilized.

Weil der Sensor 31 als ein Drehgeber arbeitet, wird es weiterhin möglich, die Winkelposition des Drehwinkels des Drehbewegungskörpers, der an den Sensor 31 gekoppelt ist, zu detektieren.Because the sensor 31 As a rotary encoder operates, it will further be possible to determine the angular position of the angle of rotation of the rotary body of motion which is adjacent to the sensor 31 is coupled to detect.

28 ist eine graphische Darstellung, die ein weiteres Beispiel der Anordnung mehrerer Lichtempfangsvorrichtungen des Detektors 35 veranschaulicht. Wie in 28 veranschaulicht ist, können in dem Detektor 35 der erste Lichtempfänger PD1 bis vierte Lichtempfänger PD4, die entsprechende tetragonale Polarisationsschichten PP1 bis PP4 aufweisen, an den vier Ecken eines tetragonalen Anordnungsbereichs 35A um die Anordnungsmitte S0 angeordnet sein. In diesem Fall können ebenfalls die vier Lichtempfangsvorrichtungen äquidistant von der Anordnungsmitte S0 angeordnet sein, wobei sich die vier Liniensegmente, die die Anordnungsmitte S0 mit den Mitten der Lichtempfangsbereiche der vier Lichtempfangsvorrichtungen verbinden, in rechten Winkeln zueinander befinden können. Obwohl der Abstand von der Anordnungsmitte S0 zu jeder der vier Lichtempfangsvorrichtungen beliebig ist; kann dann, wenn der Abstand so festgelegt ist, dass er ein kürzerer Abstand ist, bewirkt werden, dass die vier Lichtempfangsvorrichtungen das Licht in dem Zustand einer kleineren Dämpfung des Quelllichts 71 von dem Generator 41 detektieren. Die vier Lichtempfangsvorrichtungen können in dem zweiten Abschnitt 52 getrennt installiert sein. Alternativ kann der Detektor 35 in dem zweiten Abschnitt 52 als eine Baugruppe installiert sein, in der die Positionsbeziehung zwischen den vier Lichtempfangsvorrichtungen und der Anordnungsmitte S0 im Voraus festgelegt ist. Im Ergebnis des Implementierens der Baugruppe wird die Einstellung der Anordnung der vier Lichtempfangsvorrichtungen leichter. 28 Fig. 12 is a diagram showing another example of the arrangement of a plurality of light receiving devices of the detector 35 illustrated. As in 28 can be illustrated in the detector 35 the first light receiver PD1 to fourth light receivers PD4 having respective tetragonal polarization layers PP1 to PP4 at the four corners of a tetragonal array area 35A be arranged around the arrangement center S0. In this case, too, the four light receiving devices may be arranged equidistantly from the arrangement center S0, and the four line segments connecting the arrangement center S0 to the centers of the light receiving areas of the four light receiving devices may be at right angles to each other. Although the distance from the arrangement center S0 to each of the four light receiving devices is arbitrary; For example, when the distance is set to be a shorter distance, the four light receiving devices can cause the light to be in the state of smaller attenuation of the source light 71 from the generator 41 detect. The four light receiving devices may be in the second section 52 be installed separately. Alternatively, the detector can 35 in the second section 52 as an assembly in which the positional relationship between the four light receiving devices and the device center S0 is set in advance. As a result of implementing the assembly, the adjustment of the arrangement of the four light receiving devices becomes easier.

Der erste Abschnitt 51 und der zweite Abschnitt 52 müssen nicht parallel zueinander sein. Es kann irgendeine Beziehung zwischen dem ersten Abschnitt 51 und dem zweiten Abschnitt 52 verwendet werden, so dass der Zielbereich für die Detektion zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 zugewiesen werden kann und dass das durch den in dem ersten Abschnitt 51 installierten Generator 41 erzeugte Detektionsziel durch den in dem zweiten Abschnitt 52 installierten Detektor 35 detektierbar ist. Folglich kann die ausführliche Anordnung des ersten Abschnitts 51 und des zweiten Abschnitts 52 geeignet variiert werden.The first paragraph 51 and the second section 52 do not have to be parallel to each other. There may be some relationship between the first section 51 and the second section 52 be used so that the target area for detection between the generator 41 and the detector 35 can be assigned and that by the in the first section 51 installed generator 41 generated detection target by the in the second section 52 installed detector 35 is detectable. Consequently, the detailed arrangement of the first section 51 and the second section 52 be varied suitably.

Alternativ können der erste Abschnitt 51 und der zweite Abschnitt 52 eine umgekehrte Beziehung aufweisen. Das heißt, der erste Abschnitt 51 kann an dem ersten Element befestigt sein, wobei die Fläche (die Rückseite 52B) des zweiten Abschnitts 52 auf der dem Zielbereich für die Detektion gegenüberliegenden Seite mit dem zweiten Element verbunden sein kann. In diesem Fall weisen jedoch sowohl das Substrat 50 als auch die Schaltungen (z. B. die Komponenten 61), die auf dem Substrat 50 Installiert sind, eine Konfiguration, bei der die Störung mit der Konfiguration des Gehäuses (des Stators 20) berücksichtigt ist, wie z. B. eine Konfiguration, bei der die Form des zweiten Abschnitts 52 zu der Form des ersten Abschnitts 51 völlig gleich ist, gemäß der Ausführungsform auf. Überdies ist z. B. eine Kerbe, wie z. B. die Kerbe 51a, die den fehlenden Kontakt zwischen dem Substrat 50 und der Welle 12 sicherstellt, gemäß dem Ausdehnungsbereich der Welle 12 ausgebildet. Wenn z. B. die Welle 12 so verläuft, dass sie durch die optische Skala 11 hindurchgeht und an einer Position vorhanden ist, die sich über den ersten Abschnitt 51 und den zweiten Abschnitt 52 erstreckt, dann ist die Kerbe sowohl im ersten Abschnitt 51 als auch im zweiten Abschnitt 52 ausgebildet.Alternatively, the first section 51 and the second section 52 have a reverse relationship. That is, the first section 51 may be attached to the first element, wherein the surface (the back 52B ) of the second section 52 on the opposite side of the target area for detection may be connected to the second element. In this case, however, both the substrate 50 as well as the circuits (eg the components 61 ) on the substrate 50 Installed, a configuration in which the fault with the configuration of the housing (the stator 20 ) is taken into account, such. B. a configuration in which the shape of the second section 52 to the shape of the first section 51 is completely the same, according to the embodiment. Moreover, z. B. a notch, such as. The notch 51a that the lack of contact between the substrate 50 and the wave 12 ensures, according to the expansion range of the shaft 12 educated. If z. B. the shaft 12 so it goes through the optical scale 11 passes through and is present at a position extending over the first section 51 and the second section 52 extends, then the notch is in both the first section 51 as well as in the second section 52 educated.

Das Verbindungselement 53 kann die Verdrahtung nicht enthalten. In diesem Fall stützt das Verbindungselement 53 aus dem ersten Abschnitt 51 und dem zweiten Abschnitt 52 den nicht an dem Unterkörper 22 befestigten Abschnitt. Der eine Abschnitt muss überdies nicht kleiner als der andere Abschnitt sein. Das heißt, der erste Abschnitt 51 und der zweite Abschnitt 52 können die gleiche Größe aufweisen oder der durch das Verbindungselement 53 gestützte Abschnitt kann eine größere Größe aufweisen. Überdies können der Stator 20 oder die anderen Komponenten eine Stütze zum Stützen wenigstens entweder des Verbindungselements 53 oder des ersten Abschnitts 51 gemäß der vorliegenden Ausführungsform enthalten. Weiterhin kann die Stütze eine Konfiguration (z. B. einen Kleber, ein Klebeband oder ein Verriegelungselement, wie z. B. einen Vorsprung) zum Befestigen wenigstens entweder des Verbindungselements 53 oder des ersten Abschnitts 51 gemäß der vorliegenden Ausführungsform aufweisen.The connecting element 53 can not contain the wiring. In this case, the connecting element supports 53 from the first section 51 and the second section 52 not on the lower body 22 fortified section. Moreover, one section need not be smaller than the other section. That is, the first section 51 and the second section 52 may be the same size or through the connecting element 53 supported section may be larger in size. Moreover, the stator can 20 or the other components a support for supporting at least one of the connecting element 53 or the first section 51 according to the present embodiment. Furthermore, the support may have a configuration (eg, an adhesive, an adhesive tape or a locking element, such as a Projection) for fixing at least one of the connecting element 53 or the first section 51 according to the present embodiment.

Die Biegepositionen 55a und 55b in dem Substrat 50 können keine darauf ausgebildeten Faltlinien aufweisen. Überdies können die Biegeposition 55a und 55b nach dem Biegen gekrümmt sein. In diesem Fall repräsentiert die Drehmittelachse der Krümmungsbewegung des Substrats die Biegeachse. In diesem Fall weisen jedoch die beiden Biegepositionen (z. B. die Biegepositionen 55a und 55b) eine völlig gleiche gekrümmte Form auf. In diesem Fall sind überdies der erste Punkt und der zweite Punkt auf derselben Geraden vorhanden, die entlang dem Substrat vor dem Biegen verläuft, wobei die Gerade die erste Achse und die zweite Achse in rechten Winkeln in einer erhöhten Weise schneidet. Das Substrat 50 kann teilweise oder völlig gekrümmt sein, um sicherzustellen, dass der Generator 41 und das Verbindungselement 35 einander gegenüberliegend positioniert sind. In diesem Fall wird anstelle des früher beschriebenen Biegeprozesses ein Krümmungsprozess zum Formen des Substrats in eine derartige Form ausgeführt, wobei die Form des Substrats 50 bestimmt wird. Spezieller wird in dem Substrat 50 der Teil des Verbindungselements 53 oder das ganze Verbindungselement 53 gekrümmt, so dass der Generator 41 und das Verbindungselement 35 einander gegenüberliegend positioniert sind. Der zu krümmende Abschnitt ist jedoch nicht auf dieses Beispiel eingeschränkt und kann geeignet geändert werden.The bending positions 55a and 55b in the substrate 50 can not have fold lines formed thereon. Moreover, the bending position 55a and 55b to be bent after bending. In this case, the rotational center axis of the bending movement of the substrate represents the bending axis. In this case, however, the two bending positions (eg the bending positions 55a and 55b ) a completely same curved shape. In this case, moreover, the first point and the second point are on the same line running along the substrate before bending, the line intersecting the first axis and the second axis at right angles in an increased manner. The substrate 50 may be partially or fully curved to ensure that the generator 41 and the connecting element 35 are positioned opposite each other. In this case, instead of the bending process described earlier, a bending process is performed for molding the substrate into such a shape, wherein the shape of the substrate 50 is determined. More specifically, in the substrate 50 the part of the connecting element 53 or the whole connecting element 53 curved so that the generator 41 and the connecting element 35 are positioned opposite each other. However, the portion to be bent is not limited to this example and can be suitably changed.

Das Substrat ist nicht darauf eingeschränkt, ein flexibles Substrat zu sein. Das Substrat in der vorliegenden Erfindung kann irgendein Substrat sein, das es ermöglicht, dass der Zielbereich für die Detektion, der zwischen dem Generator 41 und dem Detektor 35 zuzuweisen ist, den ersten Abschnitt 51, in dem der Generator 41, der das Detektionsziel erzeugt, installiert ist, und den zweiten Abschnitt 52, in dem der Detektor 35, der das Detektionsziel detektieren kann, installiert ist, enthält und den ersten Abschnitt 51 und den zweiten Abschnitt 52 aufweist, die in einer integrierten Weise ausgebildet sind. Es kann z. B. ein Substrat verwendet werden, das aus einem Material hergestellt ist, das an einem Abschnitt, das einer Behandlung, z. B. dem Erwärmen, unterworfen ist, gebogen oder gekrümmt werden kann, wobei der Abschnitt zwischen dem ersten Abschnitt und dem zweiten Abschnitt (z. B. das Verbindungselement) der Behandlung unterworfen und gebogen oder gekrümmt werden kann, um zu bewirken, dass sich der erste Abschnitt und der zweite Abschnitt einander gegenüberliegend befinden. Alternativ ist es möglich, ein starr-flexibles Substrat zu verwenden, das einen nicht leicht deformierbaren Abschnitt und einen leicht deformierbaren Abschnitt aufweist. In diesem Fall wird der nicht leicht deformierbare Abschnitt als der erste Abschnitt und der zweite Abschnitt verwendet, während der leicht deformierbare Abschnitt als der Abschnitt zwischen dem ersten Abschnitt und dem zweiten Abschnitt (z. B. als das Verbindungselement) verwendet werden kann. Damit kann bewirkt werden, dass der erste Abschnitt und der zweite Abschnitt einander gegenüberliegen.The substrate is not limited to being a flexible substrate. The substrate in the present invention may be any substrate that allows the target area for detection to be located between the generator 41 and the detector 35 assign is the first section 51 in which the generator 41 which generates the detection target is installed, and the second section 52 in which the detector 35 , which can detect the detection target is installed, contains and the first section 51 and the second section 52 which are formed in an integrated manner. It can, for. For example, a substrate made of a material adhering to a portion undergoing treatment, e.g. The portion between the first portion and the second portion (eg, the connecting member) may be subjected to the treatment and bent or curved to cause the portion to be subjected to heat treatment first section and the second section are opposite each other. Alternatively, it is possible to use a rigid-flexible substrate having a non-easily deformable portion and an easily deformable portion. In this case, the non-easily deformable portion is used as the first portion and the second portion, while the easily deformable portion may be used as the portion between the first portion and the second portion (eg, as the connecting member). Thus, the first portion and the second portion may be caused to face each other.

Der Kabelbaumabschnitt 54 kann weggelassen sein. Alternativ kann es zwei oder mehr sich erstreckende Teile geben, die als Kabelbaumabschnitte arbeiten. Die Erstreckungsrichtung der sich erstreckenden Teile, die als die Kabelbaumabschnitte arbeiten, kann überdies irgendeine Richtung sein, wobei sie nicht durch die Positionsbeziehung mit den anderen Konfigurationen in dem Substrat 50, wie z. B. dem Verbindungselement 53, eingeschränkt ist.The harness section 54 may be omitted. Alternatively, there may be two or more extending parts that function as wire harness sections. Moreover, the extending direction of the extending parts that work as the harness sections may be any direction, not by the positional relationship with the other configurations in the substrate 50 , such as B. the connecting element 53 , is restricted.

Bezüglich der Relativbewegung des Bewegungskörpers und des Substrats 50 kann sich eine Komponente näher zu der anderen Komponente bewegen oder können sich beide Komponenten näher zueinander bewegen. Spezieller kann z. B. ein Element (z. B. der Unterkörper 22) bewegt werden, während das andere Element (z. B. der Körper 21) fest gehalten wird, um zu bewirken, dass sich das erste Element (der Unterkörper 22) und das zweite Element (der Körper 21) während des Zusammenbaus des Sensors 31 in der Nähe zueinander befinden. Alternativ kann die Beziehung des festen Elements und des sich bewegenden Elements umgekehrt sein oder können beide Elemente bewegt werden.With respect to the relative movement of the moving body and the substrate 50 For example, one component may move closer to the other component, or both components may move closer together. More specifically, z. B. an element (eg the lower body 22 ) while the other element (eg the body 21 ) is held tight to cause the first member (the lower body 22 ) and the second element (the body 21 ) during assembly of the sensor 31 are close to each other. Alternatively, the relationship of the fixed element and the moving element may be reversed or both elements may be moved.

Das spezifische Muster der Signalspur T1 der optischen Skala 11 und das Muster der Polarisationsschichten PP1 bis PP4, die in dem Detektor 35 ausgebildet sind, können geeignet geändert werden. Die Muster werden unter Berücksichtigung einer Beziehung zwischen dem Muster der Konfiguration (z. B. der optischen Skala 11), die in dem Zielbereich für die Detektion vorgesehen ist und die die Polarisation verursacht, und dem Muster der Konfiguration (z. B. der Polarisationsschichten), die das Licht während der Detektion durchlässt, bestimmt.The specific pattern of the optical scale signal track T1 11 and the pattern of the polarization layers PP1 to PP4 included in the detector 35 are formed, can be changed suitably. The patterns are calculated considering a relationship between the pattern of the configuration (eg, the optical scale 11 ), which is provided in the target area for detection and which causes the polarization, and the pattern of the configuration (eg, the polarization layers) which transmits the light during the detection.

Die in dem Zielbereich für die Detektion vorgesehene Konfiguration ist nicht auf die optische Skala 11 eingeschränkt, die für die Polarisation verantwortlich ist. Anstelle der Verwendung der optischen Skala 11 kann z. B. ein tafelförmiges Element verwendet werden, das ein Loch oder einen Durchlassabschnitt aufweist, um das Licht durchzulassen oder um das Licht in einer selektiven Weise gemäß dem Drehwinkel des Rotors 10 durchzulassen. In diesem Fall erscheinen die Änderungen des Drehwinkels des Rotors 10 in der Form von Änderungen der Position und der Zeitsteuerung der Detektion des Lichts durch den Detektor. Hier kann der Detektor die Polarisationsschichten PP1 bis PP4 nicht enthalten. Wenn ein Signal, das die Position der Detektion des Lichts angibt, von dem Sensor ausgegeben wird, dann ist es möglich, die Winkelposition der sich drehenden Maschine, die an die Welle 12 gekoppelt ist, zu detektieren. In diesem Fall muss überdies der Detektor die vier Lichtempfangsvorrichtungen nicht enthalten. Es kann z. B. nur eine einzige Lichtempfangsvorrichtung verwendet werden oder es können mehrere Lichtempfangsvorrichtungen verwendet werden. Wenn eine einzige Lichtempfangsvorrichtung verwendet wird, ist es erwünscht, dass der Abstand W2 und der Abstand W1 so festgelegt sind, dass sie gleich sind, während der Abstand von der Mitte des Detektionsbereichs des Detektionsziels, das durch die einzige Lichtempfangsvorrichtung zu detektieren ist, (d. h., der Mitte des Lichtempfangsbereichs) und der zweiten Achse LB als der Abstand W2 behandelt wird. Wenn mehrere Lichtempfangsvorrichtungen verwendet werden, ist es erwünscht, dass der Abstand W2 und der Abstand W1 so festgelegt sind, dass sie gleich sind, während der Abstand zwischen der Anordnungsmitte mehrerer Detektionsbereiche des aus dem Lichtempfangsvorrichtungen hergestellten Detektors und der zweiten Achse LB als der Abstand W2 behandelt wird.The configuration provided in the target area for detection is not on the optical scale 11 restricted, which is responsible for the polarization. Instead of using the optical scale 11 can z. For example, a tabular member having a hole or passage portion for transmitting the light or for selectively selecting the light in accordance with the rotation angle of the rotor may be used 10 pass. In this case, the changes of the rotation angle of the rotor appear 10 in the form of changes in the position and timing of the detection of the light by the detector. Here, the detector can not contain the polarization layers PP1 to PP4. When a signal indicating the position of the Detecting the light indicates is output from the sensor, then it is possible to determine the angular position of the rotating machine, which is connected to the shaft 12 is coupled to detect. Moreover, in this case, the detector need not contain the four light receiving devices. It can, for. For example, only a single light-receiving device may be used, or multiple light-receiving devices may be used. When a single light receiving device is used, it is desired that the distance W2 and the distance W1 be set to be equal while the distance from the center of the detection range of the detection target to be detected by the single light receiving device (ie the center of the light receiving area) and the second axis LB is treated as the distance W2. When multiple light receiving devices are used, it is desirable that the distance W2 and the distance W1 be set to be equal, while the distance between the arrangement center of a plurality of detection regions of the detector made of the light receiving device and the second axis LB is the distance W2 is treated.

Die Lichtemissionsvorrichtung des Generators 41 zum Emittieren des Lichts ist nicht auf eine Leuchtdiode eingeschränkt. Alternativ kann die Lichtemissionsvorrichtung eine Punktlichtquelle oder eine Flächenlichtquelle sein. Wenn die Lichtemissionsvorrichtung eine Flächenlichtquelle ist, wobei die Mitte des Lichtemissionsbereichs der Flächenlichtquelle zu dem Lichtemissionspunkt 41S gemäß der oben beschriebenen Ausführungsform äquivalent ist, wird es möglich, eine Gerade zu definieren, die durch die Mitte der Lichtemissionsfläche der Lichtemissionsvorrichtung hindurchgeht und die entlang der Richtung verläuft, in der die Lichtemissionsvorrichtung und die Lichtempfangsvorrichtungen einander gegenüberliegend sind. Während die wie oben definierte Gerade als zu der in 12 veranschaulichten Gerade L2 äquivalent behandelt wird, kann die Anordnung der vier Lichtempfangsvorrichtungen in einer Weise bestimmt werden, die zu der oben beschriebenen Ausführungsform völlig gleich ist. Das heißt, die Anordnung der vier Lichtempfangsvorrichtungen kann in einer derartigen Weise bestimmt werden, dass sie von der Geraden an unterschiedlichen Positionen in einer zu der Geraden orthogonalen vorgegebenen Ebene äquidistant positioniert sind und dass sich die vier Liniensegmente, die den Schnittpunkt zwischen der Geraden und der vorgegebenen Ebene mit den Mitten der Lichtempfangsbereiche der vier Lichtempfangsvorrichtungen verbinden, in rechten Winkeln miteinander befinden. Die abgehende Fläche 41T kann anstelle des Lichtemissionspunkts 41S als die Mitte verwendet werden.The light emitting device of the generator 41 for emitting the light is not limited to a light emitting diode. Alternatively, the light emitting device may be a point light source or a surface light source. When the light emitting device is an area light source, the center of the light emitting area of the area light source is to the light emitting point 41S According to the embodiment described above, it becomes possible to define a straight line which passes through the center of the light emitting surface of the light emitting device and which runs along the direction in which the light emitting device and the light receiving devices are opposed to each other. While the straight line defined above as to the in 12 When the straight line L2 illustrated in FIG. 11 is treated equivalently, the arrangement of the four light receiving devices can be determined in a manner completely identical to the embodiment described above. That is, the arrangement of the four light-receiving devices can be determined in such a manner that they are equidistantly positioned from the straight line at different positions in a given plane orthogonal to the line, and that the four line segments representing the intersection between the straight line and the line connect predetermined plane with the centers of the light receiving areas of the four light receiving devices, at right angles to each other. The outgoing area 41T can instead of the light emission point 41S to be used as the middle.

In der oben beschriebenen Ausführungsform sind die Komponenten (die IC-Schaltung 60 und das Stützsubstrat 65), die als die Stützelemente arbeiten, die die Flächen, auf denen die elektronischen Komponenten installiert sind, (d. h., die Oberseiten 51A und 52A) in einer Ebene aufrechterhalten, sowohl in dem ersten Abschnitt 51 als auch in dem zweiten Abschnitt 52 angeordnet. Diese Komponenten müssen jedoch nicht in beiden Abschnitten angeordnet sein. Gemäß der Anordnung der Komponenten, die auf der FPC, die in der vorliegenden Erfindung als das Substrat 50 verwendet wird, installiert sind, können die Stützelemente geeignet geändert werden und können entweder nur auf dem ersten Abschnitt oder nur auf dem zweiten Abschnitt angeordnet sein. Überdies kann außerdem ein Stützelement in dem Verbindungselement 53 angeordnet sein.In the embodiment described above, the components (the IC circuit 60 and the support substrate 65 ), which work as the support elements that cover the surfaces on which the electronic components are installed (ie, the tops 51A and 52A ) in one plane, both in the first section 51 as well as in the second section 52 arranged. However, these components need not be located in both sections. According to the arrangement of the components used on the FPC, in the present invention as the substrate 50 can be used, the support elements can be suitably changed and can be arranged either only on the first section or only on the second section. Moreover, a support member may also be provided in the connector 53 be arranged.

Die elektromagnetischen Wellen, die das Detektionssignal repräsentieren, sind nicht darauf eingeschränkt, dass sie das Licht oder das Laserlicht sind, das von einer Leuchtdiode emittiert wird. Das heißt, die elektromagnetischen Wellen, die das Detektionsziel repräsentieren, können unsichtbares Licht, wie z. B. Infrarotlicht oder Ultraviolettlicht, sein oder können Röntgenstrahlen sein. Alternativ kann sich das Detektionsziel in der Form einer Magnetkraft befinden. In diesem Fall erzeugt der Generator ein Magnetfeld unter Verwendung der Magnetkraft. Der Detektor führt das Abtasten durch das Detektieren der Änderungen der Magnetkraft aus, die den Änderungen der physikalischen Größe (z. B. dem Vorbeigang eines Objekts) in dem Zielbereich für die Detektion zugeschrieben werden. Weil die Magnetkraft das Detektionsziel repräsentiert, können die Änderungen in dem Zielbereich für die Detektion aus den Änderungen der Magnetkraft detektiert werden. Alternativ können außer der Magnetkraft die elektromagnetischen Wellen Schallwellen einschließlich Ultraschall-Schallwellen, Ionen, wie z. B. Plasma, oder Kathodenstrahlen (z. B. Elektronenstrahlen) sein. Solange wie das Detektionsziel den Änderungen aufgrund der Änderungen der physikalischen Größe der in dem Zielbereich für die Detektion angeordneten Konfiguration unterzogen wird, kann irgendein Typ eines Detektionsziels verwendet werden.The electromagnetic waves representing the detection signal are not limited to being the light or the laser light emitted from a light emitting diode. That is, the electromagnetic waves that represent the detection target, invisible light, such. As infrared light or ultraviolet light, or may be X-rays. Alternatively, the detection target may be in the form of a magnetic force. In this case, the generator generates a magnetic field using the magnetic force. The detector performs the sampling by detecting the changes in magnetic force attributed to the changes in the physical quantity (e.g., the passage of an object) in the target area for detection. Because the magnetic force represents the detection target, the changes in the target area for detection can be detected from the changes of the magnetic force. Alternatively, in addition to the magnetic force, the electromagnetic waves sound waves including ultrasonic sound waves, ions such. Plasma, or cathode rays (e.g., electron beams). As long as the detection target is subjected to the changes due to the changes in the physical size of the configuration arranged in the target area for detection, any type of detection target may be used.

Die Änderungen der physikalischen Größe können aufgrund der Linearbewegung eines Linearbewegungskörpers, der in dem Zielbereich für die Detektion vorhanden ist, auftreten. In diesem Fall kann die Linearbewegung des Linearbewegungskörpers als das Abtastziel für den Sensor behandelt werden. Der Sensor kann überdies als ein linearer Codierer arbeiten. Spezieller arbeitet der Sensor als ein linearer Codierer, wenn der Detektor die Änderungen detektiert, die der Konfiguration (z. B. einer Skala) zugeschrieben werden, die die lineare Relativbewegung innerhalb des Zielbereichs für die Detektion bezüglich des ersten Abschnitts 51 und des zweiten Abschnitts 52 ausführt, und das Abtasten bezüglich der Linearbewegung dieser Konfiguration ausführt. Folglich kann gemäß der vorliegenden Erfindung das Vorhandensein oder das Fehlen der Bewegung eines Linearbewegungskörpers, der mit dem Codierer gekoppelt ist, zusammen mit dem Detektieren der Position der Bewegung detektiert werden. Wie in der Ausführungsform oben beschrieben worden ist, tritt dann, wenn der Bewegungskörper ein Drehkörper (die an dem Endabschnitt der Welle 12 befestigte optische Skala 11) ist, der Abschnitt nah bei der Welle 12 nicht in den Bereich (den Zielbereich für die Detektion) ein. Folglich tritt nur ein Abschnitt des Bewegungskörpers in den Bereich ein. Wenn jedoch der Bewegungskörper ein Linearbewegungskörper ist, tritt wenigstens ein Abschnitt des Bewegungskörpers von Natur aus in den Bereich ein. In Abhängigkeit von dem möglichen Bewegungsbereich für den Linearbewegungskörper kann überdies der ganze Linearbewegungskörper außerdem in den Bereich eintreten (z. B. das Innere und das Äußere des Bereichs passieren). In dieser Weise kann der Bewegungskörper irgendein Element sein, das wenigstens einen Abschnitt aufweist, der sich in dem Bereich zwischen dem Generator und Detektor bewegt.The physical quantity changes may occur due to the linear motion of a linear motion body present in the target area for detection. In this case, the linear motion of the linear motion body can be treated as the sensing target for the sensor. The sensor can also operate as a linear encoder. More specifically, the sensor operates as a linear encoder when the detector detects the changes attributed to the configuration (eg, a scale) that represents the linear relative motion within the target area for detection relative to the first section 51 and the second section 52 performs and performs the scanning with respect to the linear motion of this configuration. Thus, according to the present invention, the presence or absence of the movement of a linear motion body coupled to the encoder can be detected together with the detection of the position of the movement. As has been described above in the embodiment, when the moving body has a rotating body (which is at the end portion of the shaft 12 fixed optical scale 11 ), the section is close to the shaft 12 not in the area (the target area for the detection). Consequently, only a portion of the moving body enters the area. However, when the moving body is a linear motion body, at least a portion of the moving body naturally enters the area. In addition, depending on the possible range of motion for the linear motion body, the entire linear motion body may also enter the area (eg, pass the interior and exterior of the area). In this way, the moving body may be any element having at least a portion that moves in the area between the generator and the detector.

Die Form des Stators 20, der als das Gehäuse arbeitet, kann geeignet geändert werden. Im Folgenden wird bezüglich der 29 und 30 ein Sensor 31A erklärt, in dem ein Stator 20A verwendet wird, der eine andere äußere Form als das in 2 veranschaulichte Beispiel aufweist.The shape of the stator 20 that works as the housing can be suitably changed. The following is regarding the 29 and 30 a sensor 31A explains in which a stator 20A is used, which has a different outer shape than that in 2 illustrated example.

29 ist eine externe perspektivische Ansicht des Sensors 31A, in dem ein Stator 20A, der eine andere äußere Form als in dem in 2 veranschaulichten Beispiel aufweist, verwendet wird. 30 ist eine graphische Darstellung, die den Sensor 31A veranschaulicht, der in einem in einem tafelförmigen Element 100 ausgebildeten Loch 101 angebracht ist. Der Stator 20A enthält einen sich erstreckenden Abschnitt 70, einen nach innen abgeflachten Abschnitt 80 und einen Eingriffsabschnitt 90. Spezieller sind in dem Stator 20A der sich erstreckende Abschnitt 70 und der Eingriffsabschnitt 90 über den nach innen abgeflachten Abschnitt 80 einander gegenüberliegend positioniert, wie in 29 veranschaulicht ist. Das heißt, der sich erstreckende Abschnitt 70 erstreckt sich auf der dem Eingriffsabschnitt 90 gegenüberliegenden Seite über den nach innen abgeflachten Abschnitt 80. 29 is an external perspective view of the sensor 31A in which a stator 20A which has a different outer shape than in the 2 illustrated example is used. 30 is a graph showing the sensor 31A illustrated in a in a tabular element 100 trained hole 101 is appropriate. The stator 20A contains an extending section 70 , an inwardly flattened section 80 and an engaging portion 90 , More special are in the stator 20A the extending section 70 and the engaging portion 90 over the inwardly flattened section 80 positioned opposite each other, as in 29 is illustrated. That is, the extending section 70 extends on the engaging portion 90 opposite side over the inwardly flattened section 80 ,

Der nach innen abgeflachte Abschnitt 80 passt in das Loch 101, in dem der Sensor 31A angebracht ist. Spezieller weist der nach innen abgeflachte Abschnitt 80 z. B. einen äußeren Umfang auf, der gegen den inneren Umfang des Lochs 101 anstößt, das in dem Element 100 ausgebildet ist, in dem der Sensor 31A angebracht ist. Spezieller weist der in 29 veranschaulichte nach innen abgeflachte Abschnitt 80 des Sensors 31A einen bogenförmigen äußeren Umfang auf, der entlang dem inneren Umfang des kreisförmigen Lochs 101 verläuft. Der bogenförmige äußere Umfang kann einen vollständigen Kreis bilden oder kann irgendeinen in einer Geraden ausgeschnittenen Abschnitt aufweisen, wie in 29 veranschaulicht ist.The flattened inside section 80 fits in the hole 101 in which the sensor 31A is appropriate. More specifically, the inwardly flattened section 80 z. B. an outer periphery, against the inner circumference of the hole 101 abuts that in the element 100 is formed, in which the sensor 31A is appropriate. More specifically, the in 29 illustrated inwardly flattened section 80 of the sensor 31A an arcuate outer circumference extending along the inner circumference of the circular hole 101 runs. The arcuate outer circumference may form a complete circle or may have any section cut out in a straight line, as in FIG 29 is illustrated.

31 ist eine graphische Darstellung, die eine beispielhafte Querschnittsform des nach innen abgeflachten Abschnitts 80 veranschaulicht. Wenn das Loch 101 den inneren Umfang aufweist, der einen Kreisbogen bildet, wenn z. B. das Loch 101 eine kreisförmige Form aufweist, ist es einfach erforderlich, dass der Durchmesser des nach innen abgeflachten Abschnitts 80 entlang der Ebene, die zu der Richtung der Ausdehnung der Welle 12 orthogonal ist, dem Innendurchmesser des Lochs 101 entspricht, wie in 31 veranschaulicht ist. Wenn der nach innen abgeflachte Abschnitt 80 in das Loch 101 passt, wird die Position des Sensors 31A auf der Plattenoberfläche des Elements 100 fest. Nach dem Einpassen in das Loch 101 stößt der äußere Umfang des nach innen abgeflachten Abschnitts 80 gegen den inneren Umfang des Lochs 101 an. Damit wird verhindert, dass in der Richtung entlang der Plattenoberfläche des Elements 100 die Fehlausrichtung des Sensors 31A bezüglich des Elements 100 auftritt. 31 FIG. 12 is a graph showing an exemplary cross-sectional shape of the inwardly flattened portion. FIG 80 illustrated. If the hole 101 having the inner circumference forming a circular arc when z. B. the hole 101 has a circular shape, it is simply required that the diameter of the inwardly flattened portion 80 along the plane leading to the direction of expansion of the shaft 12 orthogonal, the inner diameter of the hole 101 corresponds, as in 31 is illustrated. When the inwardly flattened section 80 in the hole 101 fits, the position of the sensor 31A on the plate surface of the element 100 firmly. After fitting in the hole 101 abuts the outer periphery of the inwardly flattened portion 80 against the inner circumference of the hole 101 at. This will prevent in the direction along the plate surface of the element 100 the misalignment of the sensor 31A concerning the element 100 occurs.

Der Eingriffsabschnitt 90 weist einen Außendurchmesser auf, der größer als der Durchmesser des Lochs 101 ist. Der sich erstreckende Abschnitt 70 weist einen derartigen Außendurchmesser auf, dass er durch das Loch 101 hindurchgehen kann. Obwohl der sich erstreckende Abschnitt 70 durch das Loch 101 hindurchgehen kann, kann folglich der Eingriffsabschnitt 90 nicht durch das Loch 101 hindurchgehen. Der Arbeiter, der den Sensor 31A in dem Loch 101 des Elements 100 anbringt, bewegt den Sensor 31A und das Element 100 in einer derartigen Weise relativ, dass der Sensor 31A von der Seite des sich erstreckenden Abschnitts 70 in das Loch 101 eintritt. Infolge der Relativbewegung geht der sich erstreckende Abschnitt 70 durch das Loch 101 hindurch; wird der nach innen abgeflachte Abschnitt 80 in das Loch 101 eingepasst; und stößt der Eingriffsabschnitt 90 gegen das Element 100 an. Im Ergebnis des Anstoßens des Eingriffsabschnitts 90 gegen das Element 100 ist der Sensor 31A bezüglich des Elements 100 in der Richtung der Ausdehnung der Welle 12 positioniert.The engaging section 90 has an outer diameter larger than the diameter of the hole 101 is. The extending section 70 has such an outer diameter that it passes through the hole 101 can go through. Although the extending section 70 through the hole 101 can pass through, therefore, the engaging portion 90 not through the hole 101 pass. The worker, the sensor 31A in the hole 101 of the element 100 attaches, moves the sensor 31A and the element 100 in such a way relative that the sensor 31A from the side of the extending section 70 in the hole 101 entry. Due to the relative movement of the extending section goes 70 through the hole 101 therethrough; becomes the inwardly flattened section 80 in the hole 101 fitted; and abuts the engaging portion 90 against the element 100 at. As a result of the abutment of the engaging portion 90 against the element 100 is the sensor 31A concerning the element 100 in the direction of expansion of the shaft 12 positioned.

Der sich erstreckende Abschnitt 70 weist eine säulenförmige äußere Form auf und weist an seinem äußeren Umfang ein Außengewinde auf. Spezieller ist an den äußeren Umfang des sich erstreckenden Abschnitts 70 ein Außengewinde geschraubt, wobei die Richtung der Ausdehnung der Welle 12 als die Mittelachse dient. Der Arbeiter, der den Sensor 31 in das Loch 101 des Elements 100 einpasst, schraubt eine Mutter, die durch eine Hohlschraube hindurchgegangen ist, mit dem sich erstreckenden Abschnitt 70, der sich von dem Loch 101 erstreckt, zusammen. Die Mutter 110 weist einen Außendurchmesser auf, der größer als der Durchmesser des Lochs 101 ist. Im Ergebnis legen die Mutter 110 und der Eingriffsabschnitt 90 das Element 100 über den nach innen abgeflachten Abschnitt 80 ein, wobei folglich der Sensor 31A an dem Element 100 befestigt ist.The extending section 70 has a columnar outer shape and has an external thread on its outer periphery. More specifically, the outer periphery of the extending portion 70 screwed an external thread, with the direction of expansion of the shaft 12 serves as the central axis. The worker, the sensor 31 in the hole 101 of the element 100 fits, a nut, which has passed through a hollow screw, screwed with the extending portion 70 that is from the hole 101 extends, together. The mother 110 has an outer diameter larger than the diameter of the hole 101 is. As a result, lay the mother 110 and the engaging portion 90 the element 100 over the inwardly flattened section 80 a, and consequently the sensor 31A on the element 100 is attached.

In der Richtung der Ausdehnung der Welle 12 ist der nach innen abgeflachte Abschnitt 80 festgelegt, so dass er eine Breite aufweist, die kleiner als die Breite des Elements 100 ist. Damit kann das Außengewinde in das Innere des Lochs 101 geschraubt werden. Im Ergebnis kann das Element 100 durch die Mutter 110 und den Eingriffsabschnitt 90 zuverlässiger gehalten sein, wobei folglich der Sensor 31A zuverlässiger an dem Element 100 befestigt sein kann.In the direction of the extension of the shaft 12 is the inwardly flattened section 80 set so that it has a width that is smaller than the width of the element 100 is. This allows the external thread into the interior of the hole 101 be screwed. As a result, the element can 100 through the mother 110 and the engaging portion 90 be held more reliable, and consequently the sensor 31A more reliable on the element 100 can be attached.

Der Eingriffsabschnitt 90 weist einen Anstoßabschnitt 91 auf, der gegen eine Ablenkplatte 95 anstößt, die an dem Element 100 angeordnet ist, an dem der Sensor 31 angebracht ist. Spezieller ist die Ablenkplatte 95 z. B. auf der Fläche des tafelförmigen Elements 100 auf der Seite des Eingriffsabschnitts 90 angeordnet, wie in den 29 bis 31 veranschaulicht ist, wobei das tafelförmige Element 100 den daran in dem Loch 101 angebrachten Sensor 31A aufweist. Die Ablenkplatte 95 ist z. B. ein Quaderelement 100 und ist an dem tafelförmigen Element 100 befestigt. Der Anstoßabschnitt 91 ist z. B. als ein ebener Abschnitt ausgebildet, der durch das Ausschneiden irgendeines Abschnitts des zylinderförmigen äußeren Umfangs des Eingriffsabschnitts 90 erhalten wird, so dass der Anstoßabschnitt 91 gegen die Ablenkplatte 95 anstößt. Überdies ist der Anstoßabschnitt 91 an einer anderen Position als der Position der Ausdehnung des Kabelbaumabschnitts 54 ausgebildet. Spezieller ist z. B. der Anstoßabschnitt 91 an der Abdeckung 23 ausgebildet, die auf der Seite positioniert ist, die der Position der Ausdehnung des Kabelbaumabschnitts 54 gegenüberliegt.The engaging section 90 has a kick-off section 91 up against a baffle 95 abuts on the element 100 is arranged, on which the sensor 31 is appropriate. More specific is the baffle plate 95 z. On the surface of the tabular element 100 on the side of the engaging portion 90 arranged as in the 29 to 31 wherein the tabular element 100 the one in the hole 101 attached sensor 31A having. The baffle 95 is z. B. a cuboid element 100 and is on the tabular element 100 attached. The kick-off section 91 is z. B. formed as a planar portion by cutting out any portion of the cylindrical outer periphery of the engaging portion 90 is obtained, so the abutting section 91 against the baffle 95 abuts. Moreover, the kick-off section 91 at a position other than the position of extension of the harness section 54 educated. More specific is z. B. the abutting section 91 on the cover 23 formed, which is positioned on the side, the position of the extension of the harness section 54 opposite.

Zum Zeitpunkt des Schraubens der Mutter 110 in den sich erstreckenden Abschnitt 70 wird eine Drehkraft auf den sich erstreckenden Abschnitt 70 übertragen. Weil jedoch die Ablenkplatte 95 und der Anstoßabschnitt 91 gegeneinander anstoßen, arretiert die Ablenkplatte 95 den Sensor 31A in der der Drehkraft zugeschriebenen Richtung der Drehung. Dies verhindert, dass sich der Sensor 31A zusammen mit dem Schrauben der Mutter 110 dreht. Der Abschnitt, wo der Anstoßabschnitt 91 und die Ablenkplatte 95 gegeneinander anstoßen, ist nicht darauf eingeschränkt, dass er eben ist, wobei er geeignet geändert werden kann. Solange wie der Stator 20A aufgrund des Anstoßens des Anstoßabschnitts 91 und der Ablenkplatte 95 arretiert ist, wobei dadurch die das Schrauben begleitende Drehbewegung verhindert wird, dient er dem Zweck.At the time of screwing the nut 110 in the extending section 70 becomes a turning force on the extending portion 70 transfer. Because, however, the baffle 95 and the kick-off section 91 abut against each other, locks the baffle 95 the sensor 31A in the direction of rotation ascribed to the rotational force. This prevents the sensor 31A along with the nuts of the mother 110 rotates. The section where the kick-off section 91 and the baffle 95 against each other, is not limited to that he is even, and it can be suitably changed. As long as the stator 20A due to the abutment of the abutment section 91 and the baffle 95 is locked, thereby preventing the screws accompanying rotational movement, he serves the purpose.

Wie oben beschrieben worden ist, enthält der Stator 20A den nach innen abgeflachten Abschnitt 80, den Eingriffsabschnitt 90 und den sich erstreckenden Abschnitt 70. Der sich erstreckende Abschnitt 70 weist eine säulenförmige äußere Form auf, weist auf seinem äußeren Umfang ein Außengewinde auf und weist einen derartigen Außendurchmesser auf, dass er durch das Loch 101 hindurchgehen kann. Damit kann die Installation des Sensors 31A unter Verwendung eines Schraubelements, wie z. B. der Mutter 110, mit mehr Leichtigkeit ausgeführt werden.As described above, the stator includes 20A the flattened inside section 80 , the engaging portion 90 and the extending section 70 , The extending section 70 has a columnar outer shape, has an outer thread on its outer periphery, and has such an outer diameter as to pass through the hole 101 can go through. This will allow the installation of the sensor 31A using a screw element, such. B. the mother 110 to be executed with more ease.

Überdies kann das Loch 101 ein kreisförmiges Loch sein, wobei der nach innen abgeflachte Abschnitt 80 einen bogenförmigen äußeren Umfang aufweisen kann, der gegen den inneren Umfang des kreisförmigen Lochs 101 anstößt. Wenn in diesem Fall der Eingriffsabschnitt 90 den Anstoßabschnitt 91 aufweist, der gegen die Ablenkplatte 95 anstößt, kann verhindert werden, dass sich der Sensor 31A zusammen mit dem Schrauben der Mutter 110 dreht. Damit kann das Befestigen des Sensors 31A durch das Schrauben der Mutter 110 mit mehr Leichtigkeit ausgeführt werden.Moreover, the hole can 101 a circular hole, with the inwardly flattened section 80 may have an arcuate outer circumference, which is against the inner circumference of the circular hole 101 abuts. If in this case the engaging portion 90 the kick-off section 91 which is against the baffle 95 abuts, the sensor can be prevented 31A along with the nuts of the mother 110 rotates. This can be the attachment of the sensor 31A by screwing the nut 110 be carried out with more ease.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

22
optischer Codiereroptical encoder
33
Arithmetikvorrichtungarithmetic means
55
Controllercontroller
1010
Rotorrotor
1111
optische Skalaoptical scale
1212
Wellewave
20, 20A20, 20A
Statorstator
2121
Körperbody
2222
Unterkörperlower body
2323
Abdeckungcover
31, 31A31, 31A
Sensorsensor
3535
Detektordetector
4141
Generatorgenerator
5050
Substratsubstratum
5151
erster Abschnittfirst section
5252
zweiter Abschnittsecond part
5353
Verbindungselementconnecting member
5454
KabelbaumabschnittHarness portion
6060
IC-SchaltungIC circuit
6565
Stützsubstratsupport substrate
7070
sich erstreckender Abschnittextending section
8080
nach innen abgeflachter Abschnittinside flattened section
9090
Eingriffsabschnittengaging portion
9191
Anstoßabschnittabutting portion
9595
Ablenkplattebaffle
100100
Elementelement
101101
Lochhole

Claims (10)

Sensorherstellungsverfahren für einen Sensor, der Folgendes umfasst: einen Generator, der ein vorgegebenes Detektionsziel erzeugt, einen Detektor, der das durch den Generator erzeugte Detektionsziel detektiert, und einen Bewegungskörper, der eine Bewegung in einem Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor ausführt, wobei das Sensorherstellungsverfahren Folgendes umfasst: Positionieren des Generators und des Detektors einander gegenüberliegend entweder durch Krümmen oder durch Biegen eines Substrats, das einen ersten Abschnitt, der den darauf installierten Generator aufweist, und einen zweiten Abschnitt, der den darauf installierten Detektor aufweist, enthält, die in einer integrierten Weise ausgebildet sind; und Bewirken, dass das Substrat und der Bewegungskörper eine Relativbewegung in einer derartigen Weise ausführen, dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor eintritt.A sensor manufacturing method for a sensor, comprising: a generator that generates a predetermined detection target, a detector that detects the detection target generated by the generator, and a moving body that performs motion in a region between the generator and the detector, the sensor manufacturing method comprising: positioning the generator and the generator Detector opposing each other either by bending or bending a substrate having a first portion having the generator installed thereon and a second portion having the detector installed thereon formed in an integrated manner; and causing the substrate and the moving body to perform relative movement in such a manner that the moving body enters the area between the generator and the detector. Sensorherstellungsverfahren nach Anspruch 1, wobei das Substrat ein Verbindungselement, das den ersten Abschnitt und den zweiten Abschnitt verbindet, enthält, wobei bewirkt wird, dass das Substrat und der Bewegungskörper die Relativbewegung in einer derartigen Weise ausführen, dass der Bewegungskörper von einer Seite, die dem Verbindungselement gegenüberliegt, in den Bereich eintritt.A sensor manufacturing method according to claim 1, wherein the substrate includes a connector connecting the first portion and the second portion, wherein the substrate and the moving body are caused to perform the relative movement in such a manner that the moving body enters the area from a side opposite to the connecting member. Sensorherstellungsverfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei der erste Abschnitt und der zweite Abschnitt nach dem Krümmen oder Biegen des Substrats parallel zueinander sind, wobei eine Richtung der Relativbewegung des Substrats und des Bewegungskörpers entlang dem ersten Abschnitt und dem zweiten Abschnitt verläuft.A sensor manufacturing method according to claim 1 or 2, wherein the first portion and the second portion after the bending or bending of the substrate are parallel to each other, wherein a direction of relative movement of the substrate and the moving body extends along the first portion and the second portion. Sensorherstellungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei der Bewegungskörper ein scheibenförmiges Element ist, das über eine Welle in einer drehbaren Weise gestützt ist, wobei wenigstens entweder in dem ersten Abschnitt oder in dem zweiten Abschnitt eine Kerbe ausgebildet ist, um sicherzustellen, dass die Welle und das Substrat keinen Kontakt miteinander herstellen, während der Bewegungskörper in dem Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor bleibt.A sensor manufacturing method according to any one of claims 1 to 3, wherein the moving body is a disk-shaped member supported by a shaft in a rotatable manner, wherein a notch is formed in at least one of the first portion and the second portion to ensure that the shaft and the substrate do not make contact with each other while the moving body remains in the area between the generator and the detector. Sensorherstellungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das Substrat an einem ersten Element, das eines von mehreren Elementen repräsentiert, die ein Gehäuse bilden, angebracht ist, und ein zweites Element, das eines der mehreren Elemente repräsentiert, die das Gehäuse bilden, und das den Bewegungskörper stützt, und das erste Element näher zueinander gebracht werden, um das Gehäuse zusammenzubauen und um zu bewirken, dass das Substrat und der Bewegungskörper eine Relativbewegung ausführen, so dass der Bewegungskörper in den Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor eintritt.A sensor manufacturing method according to any one of claims 1 to 4, wherein the substrate is attached to a first element representing one of a plurality of elements forming a housing, and a second member representing one of the plurality of members constituting the housing and supporting the moving body and bringing the first member closer to each other to assemble the housing and to cause the substrate and the moving body to move relatively, such that the moving body enters the area between the generator and the detector. Sensorherstellungsverfahren nach Anspruch 5, wobei, nachdem das erste Element und das zweite Element zusammengebaut worden sind, ein Eingang für das Substrat, wie er in dem zweiten Element ausgebildet ist, durch ein Abdeckelement abgedeckt wird.A sensor manufacturing method according to claim 5, wherein, after the first member and the second member have been assembled, an entrance for the substrate as formed in the second member is covered by a cover member. Sensor, der Folgendes umfasst: einen Generator, der ein vorgegebenes Detektionsziel erzeugt; einen Detektor, der das durch den Generator erzeugte Detektionsziel detektiert; ein Substrat, auf dem der Generator und das Detektieren installiert sind; einen Bewegungskörper, der eine Bewegung in einem Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor ausführt; und ein Gehäuse, das den Generator, den Detektor und den Bewegungskörper unterbringt, wobei das Substrat einen ersten Abschnitt, auf dem der Generator installiert ist, und einen zweiten Abschnitt, auf dem der Detektor installiert ist, aufweist, die in einer integrierten Weise ausgebildet sind, eine gekrümmte Form oder eine gebogene Form in einer derartigen Weise aufweist, dass der Generator und der Detektor einander gegenüberliegend positioniert sind, und an einer derartigen Position angeordnet ist, dass der Bewegungskörper in dem Bereich zwischen dem Generator und dem Detektor vorhanden ist, und das Gehäuse ein erstes Element, an dem das Substrat angebracht ist, enthält und ein zweites Element, an dem der Bewegungskörper installiert ist, enthält.A sensor comprising: a generator that generates a predetermined detection target; a detector that detects the detection target generated by the generator; a substrate on which the generator and the detecting are installed; a moving body that performs a movement in a region between the generator and the detector; and a housing housing the generator, the detector and the moving body, wherein the substrate a first section on which the generator is installed, and a second section on which the detector is installed, which are formed in an integrated manner, a curved shape or a curved shape in such a manner that the generator and the detector are positioned opposite to each other, and is arranged at such a position that the moving body is present in the area between the generator and the detector, and the housing includes a first member to which the substrate is attached, and a second member to which the moving body is installed. Sensor nach Anspruch 7, wobei das Gehäuse ein Abdeckelement zum Abdecken eines Eingangs für das Substrat, wie er in dem zweiten Element ausgebildet ist, enthält.The sensor of claim 7, wherein the housing includes a cover member for covering an input to the substrate as formed in the second member. Sensor nach Anspruch 7 oder 8, wobei das Gehäuse Folgendes umfasst: einen nach innen abgeflachten Abschnitt, der in ein Loch passt, das in einem Element ausgebildet ist, in dem der Sensor angebracht ist; einen Eingriffsabschnitt, der einen Außendurchmesser aufweist, der größer als ein Durchmesser des Lochs ist; und einen sich erstreckenden Abschnitt, der sich auf einer dem Eingriffsabschnitt gegenüberliegenden Seite über den nach innen abgeflachten Abschnitt erstreckt, wobei der sich erstreckende Abschnitt eine säulenförmige äußere Form aufweist, auf seinem äußeren Umfang ein Außengewinde aufweist und einen Außendurchmesser aufweist, der klein genug ist, um durch das Loch hindurchgehen zu können.The sensor of claim 7 or 8, wherein the housing comprises: an inwardly flattened portion that fits into a hole formed in a member in which the sensor is mounted; an engagement portion having an outer diameter larger than a diameter of the hole; and an extending portion located on a portion opposite to the engagement portion Extending side over the inwardly flattened portion, wherein the extending portion has a columnar outer shape having on its outer periphery an external thread and having an outer diameter which is small enough to pass through the hole can. Sensor nach Anspruch 9, wobei das Loch ein kreisförmiges Loch ist, der nach innen abgeflachte Abschnitt einen bogenförmigen äußeren Umfang aufweist, der gegen einen inneren Umfang des kreisförmigen Lochs anstößt, und der Eingriffsabschnitt einen Anstoßabschnitt aufweist, der gegen eine an dem Element angeordnete Ablenkplatte anstößt.A sensor according to claim 9, wherein the hole is a circular hole, the inwardly flattened portion has an arcuate outer periphery abutting against an inner circumference of the circular hole, and the engagement portion has an abutment portion abutting against a baffle plate disposed on the member.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07209310A (en) * 1994-01-19 1995-08-11 Nippondenso Co Ltd Detector for rotational speed
JPH09126817A (en) * 1995-10-30 1997-05-16 Canon Inc Displacement information detector
JP4201941B2 (en) * 1999-11-18 2008-12-24 セイコーインスツル株式会社 Rotation angle detector
JP2005091092A (en) * 2003-09-16 2005-04-07 Alps Electric Co Ltd Position detection sensor

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