DE112015002288B4 - Lager und Verfahren zur Bildung eines Lagers - Google Patents

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Abstract

Lageranordnung (10), mit folgenden Merkmalen:- einem inneren Laufring (14), der eine innere Laufbahn (30) definiert;- einem äußeren Laufring (18), der eine äußere Laufbahn (32) definiert;- einer Vielzahl von Wälzelementen (22) in Wälzkontakt mit der inneren Laufbahn (30) und der äußeren Laufbahn (32); und- wobei mindestens eine der inneren Laufbahn (30) und der äußeren Laufbahn (32) folgende Merkmale aufweist:- einen zentralen Bereich (34), der während eines normalen Betriebs in Kontakt mit der Vielzahl der Wälzelemente (22) steht, und- mindestens einen zurückgesetzten Seitenbereich (38), der während eines normalen Betriebs nicht in Kontakt mit der Vielzahl der Wälzelemente (22) steht,- wobei der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich (38) längsgerichtete Mikrorillen aufweist, die im Allgemeinen parallel zu einer Bewegungsrichtung der Wälzelemente (22) ausgerichtet sind, und- wobei der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich (38) eine Oberflächenrauheit aufweist, die größer ist als eine Oberflächenrauheit des zentralen Bereichs (34).

Description

  • Verbundene Anmeldungen
  • Diese Anmeldung beansprucht den Zeitrang der am 15. Mai 2014 eingereichten vorläufigen US-Patentanmeldung (US Provisional Patent Application) Nr. 61/993,422
  • Hintergrund
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Lager und insbesondere auf eine Oberflächenstruktur der Lagerlaufbahnen.
  • Der Einfluss einer Oberflächenstruktur auf eine Schmierungsleistung hängt in hohem Maße von einem tribologischen Komponentendesign und den Anwendungsbedingungen ab. In Anwendungen einer Oberflächenstruktur innerhalb der Kontaktzone zwischen Wälzelementen und Laufbahnen von Lagern ist die Kontaktbelastung zwischen ineinander eingreifenden Komponentenoberflächen sehr groß. Eine Oberflächenstruktur innerhalb der Kontaktzone kann dazu beitragen, ein Schmiermittel zu halten, aber sie kann auch Belastungskonzentrationen in Oberflächennähe bewirken, die ihre vorteilhaften Schmierungseffekte kompensieren, womit sie potentiell nachteilig für eine Oberflächenbeständigkeit ist.
  • Ähnliche Lager bzw. Lageranordnungen sowie Verfahren zur Bildung einer Lageranordnung sind bekannt aus der US 8,821,025 B2 , der US 2013/0326880 A1 , der JP 2009-002436 A , der US 2014/0079349 A1 , der JP 2013-174339A sowie der JP 2009 - 115187 A .
  • Zusammenfassung
  • In einem Gesichtspunkt schafft die Erfindung eine Lageranordnung, die einen ersten Laufring aufweist, der eine erste Laufbahn definiert, sowie einen zweiten Laufring, der eine zweite Laufbahn definiert. Eine Vielzahl von Wälzelementen stehen in rollendem Kontakt mit der ersten und der zweiten Laufbahn. Mindestens eine der ersten Laufbahn und der zweiten Laufbahn weist einen zentralen Bereich auf, der während eines normalen Betriebs in Kontakt mit der Vielzahl der Wälzelemente steht, sowie mindestens einen zurückgesetzten Seitenbereich, der während eines normalen Betriebs nicht in direktem Kontakt mit der Vielzahl der Wälzelemente steht. Der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich weist dabei längsgerichtete Mikrorillen auf, die im Allgemeinen parallel zu einer Bewegungsrichtung der Wälzelemente ausgerichtet sind. Der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich weist dabei außerdem eine Oberflächenrauheit auf, die größer ist als eine Oberflächenrauheit des zentralen Bereichs.
  • In einem anderen Gesichtspunkt schafft die Erfindung ein Verfahren zum Bilden einer Lageranordnung, die einen ersten Laufring aufweist, der eine erste Laufbahn definiert, sowie einen zweiten Laufring, der eine zweite Laufbahn definiert. Ein erster Endbearbeitungsvorgang wird durchgeführt, um ein raues Oberflächenprofil an mindestens einer der ersten Laufbahn und der zweiten Laufbahn auszubilden. Das raue Oberflächenprofil umfasst einen rauen Seitenbereich und einen rauen Zentralbereich. Ein zweiter Endbearbeitungsvorgang wird dann ausgeführt, um die Rauheit des zentralen Bereichs zu verringern, so dass er glatter ist als der raue Seitenbereich. Der mindestens eine Seitenbereich weist dabei eine Tiefe D auf, die von einer durchschnittlichen Rauheitslinie aus gemessen wird, die durch eine Rauheit des zentralen Bereichs definiert wird und sich entlang einer Krümmung des zentralen Bereichs über den mindestens einen Seitenbereich erstreckt, wobei die Tiefe D des Seitenbereichs größer ist als eine maximale Spitze-Tal-Rauheitstiefe innerhalb des zentralen Bereichs und derart ist, dass der mindestens eine Seitenbereich nicht in Kontakt mit einer Vielzahl von Wälzelementen kommt, die einen Teil der Lageranordnung bilden und entlang des zentralen Bereichs rollen. Der erste Endbearbeitungsvorgang bildet dabei längsgerichtete Mikrorillen in dem mindestens einen Seitenbereich, die im Allgemeinen parallel zu einer Bewegungsrichtung der Wälzelemente ausgerichtet sind.
  • Weitere Gesichtspunkte der Erfindung ergeben sich aus einer Betrachtung der detaillierten Beschreibung und der beigefügten Zeichnungen.
  • Figurenliste
    • 1 ist eine perspektivische Ansicht, teilweise weggebrochen, einer die Erfindung umfassenden Lageranordnung.
    • 2 ist eine Querschnittsansicht der Lageranordnung aus 1.
    • 3 ist eine perspektivische Ansicht eines Ausschnitts aus der Lageranordnung der 1, die eine innere Laufbahn und ein Wälzelement darstellt.
    • 4 ist eine perspektivische Ansicht des Ausschnitts der 3, gezeigt ohne das Wälzelement.
    • 5 ist eine schematische Endansicht des Ausschnitts der 4, die ein Rauheitsprofil vor einem abschließenden Endbearbeitungsvorgang darstellt.
    • 6 ist eine schematische Endansicht des Ausschnitts der 4, die ein Rauheitsprofil nach einem abschließenden Endbearbeitungsvorgang darstellt.
  • Bevor einzelne Ausführungsformen der Erfindung im Detail erläutert werden, versteht es sich, dass die Erfindung in ihrer Anwendung nicht auf die Konstruktionsdetails und die Anordnung der Komponenten beschränkt ist, wie sie in der nachfolgenden Beschreibung dargelegt oder in den nachfolgenden Zeichnungen dargestellt werden. Die Erfindung kann auch andere Ausführungsformen umfassen und kann in verschiedenen Weisen ausgeführt oder in die Praxis umgesetzt werden.
  • Detaillierte Beschreibung
  • Die 1-3 zeigen eine Ausführungsform einer Lageranordnung 10, die dafür brauchbar ist, eine Welle in einer Vielzahl von Lageranwendungen derart abzustützen, dass die Welle dazu in der Lage ist, sich zu drehen und Kräfte zu übertragen. Die Lageranordnung 10 umfasst einen inneren Laufring 14, einen äußeren Laufring 18 sowie eine Vielzahl von Wälzelementen oder Kugeln 22, die zwischen dem inneren Laufring 14 und dem äußeren Laufring 18 angeordnet sind. Die mehreren Wälzelemente 22 können durch eine Halterungseinrichtung oder einen Käfig 26 mit einem Abstand voneinander angeordnet oder in einer gewünschten Ausrichtung gehalten werden. In anderen Ausführungsformen muss kein Käfig verwendet werden, um ein vollrolliges Lager zu schaffen. Während die Lageranordnung 10 mit Kugeln als Wälzelementen 22 dargestellt ist, versteht es sich, dass auch unterschiedliche Arten von Lagern mit verschiedenen anderen Wälzelementen (z.B. kegelförmigen Rollen, zylindrischen Rollen, etc.) verwendet werden können.
  • Der innere Laufring 14 definiert eine innere Laufbahn 30, und der äußere Laufring 18 definiert eine äußere Laufbahn 32, auf denen die Vielzahl der Wälzelemente 22 rollen. Die Lageranordnung 10 wird anfangs dadurch gebildet, dass herkömmliche Lagerherstellungsprozesse verwendet werden, und die Laufbahnen 30, 32 werden dann nach einer Wärmebehandlung unter Verwendung von Oberflächenendbearbeitungsprozessen mit einer Struktur versehen. Die Lagerlaufbahnen 30, 32 werden dann unter Verwendung der Oberflächenendbearbeitungsvorgänge maschinell bearbeitet, um ein bevorzugtes Oberflächenprofil und eine Struktur zur Verbesserung der Schmierleistung zu bilden.
  • Die 3 und 4 zeigen ein Oberflächenprofil der inneren Laufbahn 30, die eine Wälzkörperkontaktoberfläche oder ein zentrales Band oder einen zentralen Bereich 34 sowie zwei zurückgesetzte Nicht-Kontakt-Oberflächen oder Seitenbänder oder Seitenbereiche 38 aufweist. Die Seitenbänder 38 erstrecken sich in Umfangsrichtung entlang der inneren Laufbahn 30 und umgeben das zentrale Band 34, bzw. ist dieses zwischen den Seitenbändern 38 angeordnet. Das dargestellte zentrale Band 34 ist in einer im Allgemeinen kurvenförmigen Weise geformt, entsprechend der gewünschten Kontaktlinie mit den spezifischen Wälzelementen (d.h. Kugeln 22) in der dargestellten Ausführungsform, wobei es die Wälzelemente 22 während eines normalen Betriebs der Lageranordnung 10 berührt. Der Fachmann versteht, dass die Umrisslinie des zentralen Bands 34 für verschiedene Arten von Wälzelementen unterschiedlich ist. Die Seitenbänder 38 sind relativ zu dem zentralen Band 34 in die Laufbahn 30 zurückversetzt (und relativ zu der von dem zentralen Band 34 definierten Umrisslinie, wenn diese mit ihrer gleichen Krümmung über die von den Seitenbändern 38 eingenommenen Bereiche der Laufbahn 30 fortgesetzt wäre), wobei die Seitenbänder 38 während des normalen Betriebs der Lageranordnung 10 im Allgemeinen nicht in einen direkten Kontakt mit den Wälzelementen 22 kommen. Das zentrale Band 34 hat eine Breite W1 (5), die 0-25% breiter ist als eine erwartete maximale Kontaktlänge 42 zwischen dem Wälzelement 22 und der Laufbahn 30 für den Anwendungsarbeitszyklus, um die Bildung einer übermäßigen Kantenbelastung zu vermeiden. Darüber hinaus ist die Breite W1 des zentralen Bands 34 auch dafür ausgelegt, die Möglichkeit einer Kontaktwinkelveränderung aufzunehmen, wie bei Anwendungen in spherischen Rollenlagern (Tonnenlagern) und Schrägkugellagern. Jedes Seitenband 38 hat eine Breite W2 und eine Tiefe D (5). Die Art und Weise der Messung der Tiefe D wird unten erläutert. Die Breite W2 der Seitenbänder 38 ist kleiner als die Breite W1 des zentralen Bands 34, und die Tiefe D ist derart, dass die Seitenbänder 38 typischerweise nicht in direkten Kontakt mit den Wälzelementen 22 kommen.
  • Die 5 und 6 zeigen schematisch die Oberflächenrauheitsprofile der inneren Laufbahn 30 vor und nach einem zweiten oder abschließenden Endbearbeitungsvorgang. Das in 5 dargestellte anfängliche Rauheitsprofil wird erzeugt, indem ein erster Endbearbeitungsvorgang oder ein Vorgang für ein grobes Einstechschleifen verwendet wird, der eine Schleifscheibe verwendet, die dafür ausgestattet ist, ein im Allgemeinen raues Oberflächenprofil zu erzeugen. Der Einstechschleifvorgang erzeugt das Oberflächenprofil, in dem das zentrale Band 34 und die Seitenbänder 38 die in 5 gezeigte gewünschte zentrale Breite W1, Seitenbandbreite W2 und Seitenbandtiefe D haben. Die Seitenbandtiefe D wird von einer durchschnittlichen Rauheitslinie 46 gemessen, die durch die Rauheit des zentralen Bands 34 definiert ist und sich entlang der Krümmung des zentralen Bands über die Seitenbänder 38 erstreckt. Die Seitenbandtiefe D ist größer als die maximale Spitze-Tal-Rauheitstiefe innerhalb des zentralen Bands 34. Der bei der Erzeugung des anfänglichen Rauheitsprofils verwendete Schleifvorgang erzeugt längsgerichtete Mikrorillen, die im Allgemeinen parallel zu der Bewegungsrichtung der Wälzelemente 22 auf der Laufbahn 30 ausgerichtet sind. Die über die Rillen gemessene arithmetische Durchschnittsrauheit Ra, oder der quadratische Mittelrauwert Rq, ist in der gleichen Größenordnung wie, aber nicht größer als die Tiefe D der Seitenbänder 38. Dieses verhindert es, dass sich die Spitzen des rauen Oberflächenprofils innerhalb der Seitenbänder 38 derart nach außen erstrecken, dass sie in Kontakt mit dem Wälzelement 22 kommen. Die Struktur innerhalb der Seitenbänder 38 kann zusätzlich oder alternativ quer schraffierte, isotrope, gewarzte oder auf andere Weise strukturierte Muster umfassen.
  • 6 stellt das Oberflächenprofil der inneren Laufbahn 30 dar, nachdem ein abschließender Endbearbeitungsvorgang ausgeführt worden ist. Der abschließende Endbearbeitungsvorgang kann ein Schleifen und/oder ein Honen umfassen, um die Oberflächenrauheit des zentralen Bands 34 deutlich zu verringern. Der abschließende Endbearbeitungsvorgang hat nur einen geringen oder keinen Einfluss auf die Oberflächenrauheit der Seitenbänder 38. Nach dem abschließenden Endbearbeitungsvorgang ist die Rauheit des zentralen Bands 34 merklich kleiner als die Rauheit der Seitenbänder 38. Die Bildung des zentralen Bands 34 mit einer geringeren Rauheit sowie der zurückgesetzten Seitenbänder 38 mit einer größeren Rauheit erhöht oder vergrößert die zwischen den Wälzelementen 22 und der Laufbahn 30 innerhalb des zentralen Bands 34 gebildete Oberflächen-teilende hydrodynamische Schmierfilmdicke. Die Seitenbänder 38 beeinflussen die seitlichen Fließeigenschaften des geschmierten Kontaktbereichs, um die allgemeine Schmierleistung zu verbessern.
  • Unter elastohydrodynamischen Schmierungsbedingungen (EHL), wie sie üblicherweise bei Wälzlagern unter Betriebslasten gefunden werden, hängt das Schmiermittelfließverhalten in den Kontaktbereich hinein und aus diesem heraus von einem Gleichgewicht verschiedener Faktoren ab. Schmiermittel tritt über einen Einlass in den Kontaktbereich ein, wird durch die Mitte des Kontaktbereichs mitgenommen und tritt hauptsächlich durch einen Auslass des Kontaktbereichs hindurch. Ein Teil des Schmiermittels verlässt den Kontaktbereich auch durch ein seitliches Abfließen oder eine seitliche Leckage. Eine Schmiermittelverfügbarkeit oder -verringerung in der Umgebung des Kontaktbereichs bestimmt jedoch die Bildung und die Dicke des Schmiermittelfilms in der Mitte des Kontaktbereichs. Das oben beschriebene Lageroberflächenprofil schafft ein Schmiermittelreservoir in dem Bereich, in dem eine seitliche Leckage normalerweise auftreten würde. Mehr Schmiermittel wird von den Wälzelementen 22 an den Seitenbändern 38 getragen. Dieses Schmiermittel wird dann durch die Zentrifugalwirkung entlang der gekrümmten Oberflächen an das zentrale Band 34 außerhalb des Kontaktbereichs umgeleitet. Dieses verbessert die Verfügbarkeit von Schmiermittel an dem Einlass des Kontaktbereichs zwischen den Kugeln 22 und dem zentralen Band 34. Im Allgemeinen erhöhen die zurückversetzten Seitenbänder 38 die Verfügbarkeit und die Fließeigenschaften des Schmiermittels in der unmittelbaren Umgebung der seitlichen EHL-Leckagezonen, was die Verfügbarkeit von Schmiermittel an dem Eingang des EHL-Kontaktbereichs für den nachfolgenden Kontaktzyklus verbessert. Die zurückgesetzten Seitenbänder 38 können auch eine seitliche Leckage verringern und tragen daher dazu bei, die gesamte EHL-Filmdicke zu vergrößern. Eine vergrößerte EHL-Filmdicke resultiert im Allgemeinen in einer erhöhten Wälzlager-Lebensdauer.
  • Durch eine Oberflächenstrukturierung eines zurückgesetzten Bereichs anstelle eines Rollkontaktbereichs können die vorteilhaften Schmierungseffekte einer Oberflächenrauheit außerdem ohne die negativen Effekte der Bildung von Belastungskonzentrationen in der Nähe der Oberfläche verwendet werden, die für eine Oberflächenwiderstandsfähigkeit potentiell nachteilig sein können. Die Rauheit am Boden der zurückgesetzten Seitenbänder 38 kann technisch konstruiert sein, um die seitlichen EHL-Leckagezonen in dem Kontaktbereich weiter vorteilhaft zu beeinflussen. Rauheitsmerkmale können in den Seitenbändern 38 ausgebildet sein, um eine Pumpwirkung in der Umgebung der Kontaktseitenleckagezonen zu erzeugen, wodurch die Druck- und Schmiermittelverfügbarkeitsbedingungen in diesen Bereichen weiter beeinflusst werden, um die gesamte EHL-Filmdicke durch eine Beeinflussung des Seitenleckageverhaltens zu unterstützen.
  • Das Verfahren zur Bildung der oben beschriebenen Lager beginnt mit der Bildung der Lageranordnung 10 unter Verwendung herkömmlicher Lagerherstellungsverfahren. Eine Schleifscheibe wird dann zum Aufbringen des geeigneten Profils auf die Lagerlaufbahn 30 bereitgestellt. Nachdem die Schleifscheibe vorbereitet worden ist, wird die Lageranordnung 10 wärmebehandelt, und ein erster Endbearbeitungsvorgang (z.B. ein Einstechgrobschleifen) wird durchgeführt, um ein raues Oberflächenprofil (wie es in 5 gezeigt ist) auf mindestens einer der inneren Laufbahn 30 und der äußeren Laufbahn 32 zu bilden. Das raue Oberflächenprofil umfasst die rauen Seitenbereiche 38 und den rauen Zentralbereich 34. Ein zweiter Endbearbeitungsvorgang wird dann durchgeführt, um die Rauheit des Zentralbereichs 34 zu verringern oder zu glätten (wie es in 6 gezeigt ist), so dass dieser glatter ist als er es nach dem ersten Endbearbeitungsvorgang war und glatter als die Rauheit der Seitenbereiche 38. Die anfängliche Oberflächenrauheit in dem zentralen Band 34 und die endgültige Oberflächenrauheit in den zurückgesetzten Seitenbändern 38 können nach dem ersten Endbearbeitungsvorgang beispielsweise einen durchschnittlichen Rauheitswert von ungefähr 0,254 µm (10 Mikroinch) bis ungefähr 1,016 µm (40 Mikroinch) haben. Nach dem zweiten Endbearbeitungsvorgang für das zentrale Band 34 kann die Oberflächenrauheit des endgültigen zentralen Bands 34 einen durchschnittlichen Rauheitswert von ungefähr 0,1016 µm (4 Mikroinch) bis ungefähr 0,254 µm (10 Mikroinch) haben. Anders ausgedrückt ist ein Rauheitsverhältnis zwischen den zurückgesetzten Seitenbändern 38 und dem zentralen Band 34 größer als 1 und kann bei bis zu ungefähr 10 liegen. In anderen Ausführungsformen kann das Verhältnis größer als 1 sein und bei bis zu ungefähr 40 liegen. In anderen Ausführungsformen kann das Verhältnis größer als 2 sein.
  • Das anfängliche, durch den Einstechschleifvorgang erzeugte grobe Oberflächenprofil kann auch durch Hartdrehen oder andere geeignete maschinelle Verarbeitungsprozesse in Abhängigkeit von der erforderlichen Lagergröße und dem Herstellungsvolumen erzeugt werden. In ähnlicher Weise versteht es sich, dass der abschließende Endbearbeitungsvorgang auch durch andere geeignete mechanische, elektrische, optische/laserunterstützte oder chemische Prozesse ausgeführt werden kann. Beispielsweise kann der abschließende Endbearbeitungsvorgang durch ein mechanisches Taumelverfahren chemisch unterstützt werden, bei dem die Seitenbänder 38 abgedeckt werden, um die bevorzugte Struktur zu schützen.
  • Zusätzlich versteht es sich, dass das oben beschriebene Verfahren zum Herstellen eines Oberflächenprofils und einer Oberflächenstruktur auch auf die äußere Laufbahn 32 des äußeren Laufrings 18 oder auf irgendeine Laufbahn verschiedener anderer Arten von Wälzelementlagern (z.B. Kugellagern, Zylinderrollenlagern, Kegelrollenlagern, usw.) angewendet werden kann.
  • Verschiedene Merkmale und Vorteile der Erfindung sind in den nachfolgenden Ansprüchen dargestellt.
  • Bezugszeichenliste
    • 10
    Lageranordnung
    14
    innerer Laufring
    18
    äußerer Laufring
    22
    Wälzelemente
    26
    Käfig
    30
    innere Laufbahn
    32
    äußere Laufbahn
    34
    zentraler Bereich bzw. Band
    38
    zurückgesetzter Seitenbereich bzw. -band
    42
    maximale Kontaktlänge
    46
    durchschnittliche Rauheitslinie

Claims (19)

  1. Lageranordnung (10), mit folgenden Merkmalen: - einem inneren Laufring (14), der eine innere Laufbahn (30) definiert; - einem äußeren Laufring (18), der eine äußere Laufbahn (32) definiert; - einer Vielzahl von Wälzelementen (22) in Wälzkontakt mit der inneren Laufbahn (30) und der äußeren Laufbahn (32); und - wobei mindestens eine der inneren Laufbahn (30) und der äußeren Laufbahn (32) folgende Merkmale aufweist: - einen zentralen Bereich (34), der während eines normalen Betriebs in Kontakt mit der Vielzahl der Wälzelemente (22) steht, und - mindestens einen zurückgesetzten Seitenbereich (38), der während eines normalen Betriebs nicht in Kontakt mit der Vielzahl der Wälzelemente (22) steht, - wobei der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich (38) längsgerichtete Mikrorillen aufweist, die im Allgemeinen parallel zu einer Bewegungsrichtung der Wälzelemente (22) ausgerichtet sind, und - wobei der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich (38) eine Oberflächenrauheit aufweist, die größer ist als eine Oberflächenrauheit des zentralen Bereichs (34).
  2. Lageranordnung (10) nach Anspruch 1, wobei der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich (38) die Schmierleistung der Lageranordnung (10) verbessert, indem das Rückhaltevermögen von Schmiermittel aufgrund einer größeren Oberflächenrauheit vergrößert wird.
  3. Lageranordnung (10) nach Anspruch 1, wobei der zentrale Bereich (34) zwischen zwei zurückgesetzten Seitenbereichen (38) angeordnet ist.
  4. Lageranordnung (10) nach Anspruch 1, wobei sowohl die innere Laufbahn (30) als auch die äußere Laufbahn (32) jeweils den zentralen Bereich (34) und den mindestens einen zurückgesetzten Seitenbereich (38) aufweisen.
  5. Lageranordnung (10) nach Anspruch 1, wobei das Verhältnis der Rauheit zwischen dem mindestens einen zurückgesetzten Seitenbereich (38) und dem zentralen Bereich (34) größer ist als 1 und bei bis zu 40 liegt.
  6. Lageranordnung (10) nach Anspruch 1, wobei der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich (38) einen durchschnittlichen Rauheitswert von 0,254 µm (10 Mikroinch) bis 1,016 µm (40 Mikroinch) hat.
  7. Lageranordnung (10) nach Anspruch 6, wobei der zentrale Bereich (34) einen durchschnittlichen Rauheitswert von 0,1016 µm (4 Mikroinch) bis 0,254 µm (10 Mikroinch) hat.
  8. Lageranordnung (10) nach Anspruch 1, wobei der zentrale Bereich (34) eine Breite W1 aufweist, die 0-25% breiter ist als eine erwartete maximale Kontaktlänge zwischen den Wälzelementen (22) und der mindestens einen der inneren Laufbahn (30) und der äußeren Laufbahn (32), auf der der zentrale Bereich (34) ausgebildet ist.
  9. Lageranordnung (10) nach Anspruch 8, wobei der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich (38) eine Breite W2 hat, die kleiner als die Breite W1 des zentralen Bereichs (34) ist.
  10. Lageranordnung (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich (38) eine Tiefe D aufweist, die von einer durchschnittlichen Rauheitslinie (46) aus gemessen wird, die durch eine Rauheit des zentralen Bereichs (34) definiert wird und sich entlang einer Krümmung des zentralen Bereichs (34) über den mindestens einen Seitenbereich (38) erstreckt, wobei die Tiefe D des Seitenbereichs (38) größer ist als eine maximale Spitze-Tal-Rauheitstiefe innerhalb des zentralen Bereichs (34) und derart ist, dass der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich (38) nicht in Kontakt mit der Vielzahl der Wälzelemente (22) kommt.
  11. Verfahren zum Bilden einer Lageranordnung (10), mit folgenden Schritten: - Erzeugen einer Lageranordnung (10), die einen eine innere Laufbahn (30) definierenden inneren Laufring (14) und einen eine äußere Laufbahn (32) definierenden äußeren Laufring (18) aufweist; - Durchführen eines ersten Endbearbeitungsvorgangs, um ein raues Oberflächenprofil auf mindestens einer der inneren Laufbahn (30) und der äußeren Laufbahn (32) zu bilden, wobei das raue Oberflächenprofil mindestens einen rauen zurückgesetzten Seitenbereich (38) und einen rauen zentralen Bereich (34) umfasst; und - Durchführen eines zweiten Endbearbeitungsvorgangs, um die Rauheit des rauen zentralen Bereichs (34) zu verringern, um einen zentralen Bereich (34) zu erzeugen, der glatter ist als der raue zurückgesetzte Seitenbereich (38), - wobei der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich (38) eine Tiefe D aufweist, die von einer durchschnittlichen Rauheitslinie (46) aus gemessen wird, die durch eine Rauheit des zentralen Bereichs (34) definiert wird und sich entlang einer Krümmung des zentralen Bereichs (34) über den mindestens einen Seitenbereich (38) erstreckt, wobei die Tiefe D des Seitenbereichs (38) größer ist als eine maximale Spitze-Tal-Rauheitstiefe innerhalb des zentralen Bereichs (34) und derart ist, dass der mindestens eine zurückgesetzte Seitenbereich (38) nicht in Kontakt mit einer Vielzahl von Wälzelementen (22) kommt, die einen Teil der Lageranordnung (10) bilden und entlang des zentralen Bereichs (34) rollen, und - wobei der erste Endbearbeitungsvorgang längsgerichtete Mikrorillen in dem mindestens einen zurückgesetzten Seitenbereich (38) bildet, die im Allgemeinen parallel zu einer Bewegungsrichtung der Wälzelemente (22) ausgerichtet sind.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, wobei der erste Endbearbeitungsvorgang ein erster Schleifvorgang ist und der zweite Endbearbeitungsvorgang ein zweiter Schleifvorgang ist.
  13. Verfahren nach Anspruch 11, wobei einer des ersten Endbearbeitungsvorgangs und des zweiten Endbearbeitungsvorgangs einen Vorgang aus der Gruppe umfasst, die aus einem mechanischen, elektrischen, optischen/laserunterstützten oder chemischen Endbearbeitungsvorgang besteht.
  14. Verfahren nach Anspruch 11, wobei es des Weiteren ein Zurückhalten von Schmiermittel in dem mindestens einen zurückgesetzten Seitenbereich (38) umfasst, um eine Schmierleistung der Lageranordnung (10) zu verbessern.
  15. Verfahren nach Anspruch 11, wobei der zentrale Bereich (34) zwischen zwei zurückgesetzten Seitenbereichen (38) angeordnet ist.
  16. Verfahren nach Anspruch 11, wobei der erste Endbearbeitungsvorgang und der zweite Endbearbeitungsvorgang sowohl an der inneren Laufbahn (30) als auch der äußeren Laufbahn (32) durchgeführt werden.
  17. Verfahren nach Anspruch 11, wobei das Durchführen des zweiten Endbearbeitungsvorgangs ein Verhältnis der Rauheit zwischen dem mindestens einen zurückgesetzten Seitenbereich (38) und dem zentralen Bereich (34) erzeugt, das größer ist als 1 und bei bis zu 40 liegt.
  18. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Durchführung des ersten Endbearbeitungsvorgangs einen durchschnittlichen Rauheitswert auf dem mindestens einen rauen zurückgesetzten Seitenbereich (38) von 0,254 µm (10 Mikroinch) bis 1,016 µm (40 Mikroinch) erzeugt.
  19. Verfahren nach Anspruch 18, wobei die Durchführung des zweiten Endbearbeitungsvorgangs einen durchschnittlichen Rauheitswert auf dem zentralen Bereich (34) von 0,1016 µm (4 Mikroinch) bis 0,254 µm (10 Mikroinch) erzeugt.
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