DE112012001546T5 - GLASS PLATE WITH A FILM WITH LOW REFLECTION - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 157
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 62
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 57
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 claims abstract description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims abstract description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 90
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 57
- -1 fluorinated ether compound Chemical class 0.000 claims description 52
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 46
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 39
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 34
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 18
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 15
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 14
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 11
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 11
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 9
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 8
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 5
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 abstract description 26
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 abstract description 13
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 230
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 35
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 29
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 6
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 3
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 239000012789 electroconductive film Substances 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000007775 flexo coating Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000009828 non-uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical group FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVPKQBWUNYZZFZ-UHFFFAOYSA-N tris(1,1,2,2,2-pentafluoroethoxy)-(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)O[Si](OC(F)(F)C(F)(F)F)(OC(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)F UVPKQBWUNYZZFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Glasplatte (10), die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion (14), der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte (12) umfasst, wobei der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion (14) innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm höchstens 1,7% beträgt, der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion (14) mindestens 97° beträgt, der Ölsäurekontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion (14) mindestens 50° beträgt und der Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion (14) höchstens 25° beträgt. Erfindungsgemäß ist es möglich, eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der einen ausreichend niedrigen Reflexionsgrad und eine vorteilhafte Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken aufweist, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, ein Herstellungsverfahren, mit dem die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, hergestellt werden kann, und eine Anzeigevorrichtung, welche die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, aufweist, bereitzustellen.The present invention relates to a glass plate (10) provided with a low-reflection film which comprises a single-layer low-reflection film (14) containing a matrix and hollow fine particles on the surface of a glass plate (12). wherein the minimum reflectance of the low reflection film (14) within a wavelength range of 300 to 1200 nm is at most 1.7%, the water contact angle on the surface of the low reflection film (14) is at least 97 °, the oleic acid contact angle on the surface of the film with low reflection (14) is at least 50 ° and the oleic acid angle on the surface of the film with low reflection (14) is at most 25 °. According to the present invention, it is possible to have a glass plate provided with a low reflection film comprising a single layer low reflection film having a sufficiently low reflectance and an advantageous removability of oil and grease stains on the surface of a glass plate Manufacturing method by which the glass plate provided with a low reflection film can be manufactured and a display device comprising the glass plate provided with a low reflection film.
Description
TECHNISCHES GEBIETTECHNICAL AREA
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, ein Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, eine Anzeigevorrichtung und eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, für eine Anzeigevorrichtung.The present invention relates to a glass plate provided with a low reflection film, a method of manufacturing a glass plate provided with a low reflection film, a display device, and a glass plate provided with a low reflection film. for a display device.
STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen Film mit geringer Reflexion auf der Oberfläche einer Glasplatte aufweist, wurde z. B. für Abdeckungsgläser für Solarzellen, verschiedene Anzeigen oder deren Frontplatten, verschiedene Fensterscheiben, Abdeckungsgläser für Berührungsbildschirme, usw., verwendet.A glass plate provided with a low-reflection film having a low-reflection film on the surface of a glass plate has been e.g. As for cover glasses for solar cells, various displays or their front panels, various windows, cover glasses for touch screens, etc., used.
In verschiedenen Anzeigevorrichtungen, wie z. B. kleinen Anzeigen, wie z. B. Mobiltelefonen oder tragbaren Informationsendgeräten, großen Anzeigen, wie z. B. verschiedenen Fernsehgeräten oder Berührungsbildschirmen, wurde ein Abdeckungsglas (Schutzglas) auf der Front bzw. Vorderseite eines Anzeigeelements verwendet, um die Anzeige zu schützen und die Optik in vielen Fällen zu verbessern. Ferner wurde zur Verbesserung der Sichtbarkeit eines Bilds, das auf der Anzeigevorrichtung angezeigt wird, als ein Abdeckungsglas eine Glasplatte verwendet, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der einen Antireflexionsfilm für sichtbares Licht aufweist.In various display devices, such. B. small displays, such. As mobile phones or portable information terminals, large displays, such. As various televisions or touch screens, a cover glass (protective glass) was used on the front or front of a display element to protect the display and to improve the appearance in many cases. Further, in order to improve the visibility of an image displayed on the display device, as a cover glass, a glass plate provided with a low reflection film having a visible light antireflection film was used.
Von diesen wird eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist und die z. B. für verschiedene Anzeigen, Fensterscheiben für Automobile und Berührungsbildschirme verwendet wird, oder die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist und für die vorstehend genannten Anzeigevorrichtungen verwendet werden soll, häufig durch menschliche Hände berührt und muss eine Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken, wie z. B. Fingerabdrücken, aufweisen.Of these, a glass plate, which is provided with a film with low reflection and the z. Used for various displays, window panes for automobiles and touch screens, or the glass plate provided with a low-reflection film to be used for the aforementioned display devices is frequently touched by human hands and has a removability of oil and oil Grease stains, such. Fingerprints.
Als ein Verfahren, mit dem einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, eine Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken verliehen wird, sind ein Verfahren des Bindens eines schmutzabweisenden Films gegen Öl und Fett an deren Oberfläche und ein Verfahren des Aufbringens einer schmutzabweisenden Schicht auf einem Antireflexionsfilm (Patentdokument 1) bekannt.As a method of imparting removability of oil and grease stains to a glass plate provided with a low-reflection film, there are a method of adhering a stain-repellent film to oil and grease on the surface thereof and a method of applying a stain-resistant film dirt-repellent layer on an antireflection film (Patent Document 1).
In einem Fall, bei dem ein schmutzabweisender Film gegen Öl und Fett an die Oberfläche einer Glasplatte gebunden wird, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, können jedoch Probleme wie z. B. eine Verminderung der Produktivität aufgrund einer Zunahme der Anzahl von Schritten, wie z. B. eines Filmherstellungsschritts und eines Filmbindungsschritts, eine Verminderung der Optik durch ein uneinheitliches Binden und ein Anstieg der Kosten der Filmbindung auftreten. Ferner können auch in einem Fall, bei dem eine schmutzabweisende Schicht auf einer Antireflexionsschicht aufgebracht wird, Probleme wie z. B. eine Verminderung der Produktivität auftreten.However, in a case where a dirt-repellent film against oil and grease is bonded to the surface of a glass plate provided with a low-reflection film, problems such as e.g. B. a reduction in productivity due to an increase in the number of steps, such. A film-making step and a film-bonding step, a reduction in optics due to uneven binding, and an increase in the cost of film bonding. Further, even in a case where a stain-proofing layer is applied to an antireflection layer, problems such as e.g. B. a reduction in productivity occur.
DOKUMENT DES STANDES DER TECHNIKDOCUMENT OF THE PRIOR ART
PATENTDOKUMENTPatent Document
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Patentdokument 1:
JP-A-2002-506887 JP-A-2002-506887
OFFENBARUNG DER ERFINDUNGDISCLOSURE OF THE INVENTION
TECHNISCHES PROBLEMTECHNICAL PROBLEM
Die vorliegende Erfindung stellt eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion mit einem ausreichend geringen Reflexionsgrad und mit einer vorteilhaften Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken auf der Oberfläche einer Glasplatte aufweist, ein Herstellungsverfahren, mit dem die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, hergestellt werden kann, und eine Anzeigevorrichtung bereit, welche die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, aufweist.The present invention provides a glass plate provided with a low-reflection film having a low-reflection monolayer film with a sufficiently low reflectance and with favorable removability of oil and grease stains on the surface of a glass plate, a production method wherein the glass plate provided with a low reflection film can be produced, and a display device having the glass plate provided with a low reflection film.
LÖSUNG DES PROBLEMS THE SOLUTION OF THE PROBLEM
Die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung ist eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, wobei der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm höchstens 1,7% beträgt, der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 97° beträgt, der Ölsäurekontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 50° beträgt und der Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion höchstens 25° beträgt.The glass plate provided with a low-reflection film of the present invention is a glass plate provided with a low-reflection film comprising a single-layered low-reflection film containing a matrix and hollow fine particles on the surface a glass plate, wherein the minimum reflectance of the low reflection film within a wavelength range of 300 to 1200 nm is at most 1.7%, the water contact angle on the surface of the low reflection film is at least 97 °, the oleic contact angle on the surface of the film with low reflectance is at least 50 ° and the oleic incidence angle on the surface of the low reflection film is at most 25 °.
In dieser Beschreibung wird „bis”, das verwendet wird, um den Bereich eines Zahlenwerts zu zeigen, so eingesetzt, dass es die Zahlenwerte davor und danach als den unteren Grenzwert und den oberen Grenzwert umfasst, und das Gleiche gilt nachstehend, falls nichts anderes angegeben ist.In this specification, "bis" used to show the range of a numerical value is set to include the numerical values before and after as the lower limit and the upper limit, and the same applies hereinafter unless otherwise specified is.
Bezüglich der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung steht der einschichtige Film mit geringer Reflexion für einen Film, der eine homogene, im Wesentlichen homogene oder nicht-homogene einschichtige Struktur aufweist, welche die Funktion einer geringen Reflexion verleiht. Ferner steht die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung für eine Glasplatte, bei welcher der vorstehend genannte Film mit geringer Reflexion auf der äußersten Seite von mindestens einer Oberfläche der Glasplatte ausgebildet ist. Demgemäß können auf der gegenüber liegenden Seite, auf welcher der Film mit geringer Reflexion nicht auf der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, ausgebildet ist, oder als eine Basisschicht des Films mit geringer Reflexion, der auf der äußersten Seite ausgebildet ist, eine Schicht oder eine Mehrzahl von Schichten von gewünschten funktionellen Filmen, wie z. B. ein elektrisch leitender Film, ein Nahinfrarotabschirmungsfilm, ein Abschirmungsfilm für elektromagnetische Wellen, ein Farbtoneinstellungsfilm, ein haftungsverbessernder Film, ein die Dauerbeständigkeit verbessernder Film, ein Antistatikfilm und andere bereitgestellt sein.With respect to the glass plate provided with a low-reflection film of the present invention, the single-layered low-reflection film stands for a film having a homogeneous, substantially homogeneous or non-homogeneous single-layered structure giving the function of low reflection , Further, the glass plate provided with a low-reflection film of the present invention stands for a glass plate in which the above-mentioned low-reflection film is formed on the outermost side of at least one surface of the glass plate. Accordingly, on the opposite side on which the low-reflection film is not formed on the glass plate provided with a low reflection film, or as a base layer of the low reflection film formed on the outermost side , a layer or a plurality of layers of desired functional films, such as. For example, an electroconductive film, a near-infrared shielding film, an electromagnetic wave shielding film, a hue adjusting film, an adhesion-improving film, a durability-improving film, an antistatic film, and others may be provided.
Der Anteil des Elements Fluor auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion, gemessen mittels Röntgenphotoelektronenspektroskopie, beträgt vorzugsweise von 3 bis 20 Atom-%.The content of the element fluorine on the surface of the low-reflection film measured by X-ray photoelectron spectroscopy is preferably from 3 to 20 atomic%.
Die arithmetische mittlere Rauhigkeit (Ra) der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion, gemessen mittels eines Rastersondenmikroskops, beträgt vorzugsweise von 3,0 bis 5,0 nm.The arithmetic mean roughness (Ra) of the surface of the low-reflection film measured by a scanning probe microscope is preferably from 3.0 to 5.0 nm.
Der Brechungsindex des Films mit geringer Reflexion beträgt vorzugsweise von 1,30 bis 1,46.The refractive index of the low reflection film is preferably from 1.30 to 1.46.
Es ist bevorzugt, dass die Matrix Siliziumdioxid als die Hauptkomponente enthält und eine Struktur aufweist, die von einer fluorierten Etherverbindung abgeleitet ist, die eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette als die Hauptkette und eine hydrolysierbare Silylgruppe an mindestens einem Ende der Hauptkette aufweist.It is preferable that the matrix contains silica as the main component and has a structure derived from a fluorinated ether compound having a poly (oxyperfluoroalkylene) chain as the main chain and a hydrolyzable silyl group at at least one end of the main chain.
Es ist bevorzugt, dass die fluorierte Etherverbindung eine Verbindung (A) ist, die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird:
RF1 eine einwertige gesättigte C1-20-Perfluorkohlenwasserstoffgruppe oder eine einwertige gesättigte C2-20-Perfluorkohlenwasserstoffgruppe mit einem Ethersauerstoffatom ist, das zwischen Kohlenstoffatomen insertiert ist, und es sich um eine Gruppe handelt, die keine -OCF2O-Struktur aufweist,
a eine ganze Zahl von 1 bis 200 ist,
b 0 oder 1 ist,
Q nicht vorliegt, wenn b 0 ist, und eine zweiwertige oder dreiwertige Verknüpfungsgruppe ist, wenn b 1 ist,
c 1 ist, wenn Q nicht vorliegt oder eine zweiwertige Verknüpfungsgruppe ist, und 2 ist, wenn Q eine dreiwertige Verknüpfungsgruppe ist,
d eine ganze Zahl von 2 bis 6 ist,
L eine hydrolysierbare Gruppe ist,
R ein Wasserstoffatom oder eine einwertige Kohlenwasserstoffgruppe ist und
p eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist.It is preferable that the fluorinated ether compound is a compound (A) represented by the following formula (A):
R F1 is a monovalent saturated C 1-20 perfluorohydrocarbon group or a monovalent saturated C 2-20 perfluorohydrocarbon group having an ether oxygen atom inserted between carbon atoms, and is a group having no -OCF 2 O structure;
a is an integer from 1 to 200,
b is 0 or 1,
Q is absent when b is 0, and is a divalent or trivalent linking group when b is 1,
c is 1 if Q is absent or a divalent linking group, and 2 if Q is a trivalent linking group,
d is an integer from 2 to 6,
L is a hydrolyzable group,
R is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group and
p is an integer from 1 to 3.
Es ist bevorzugt, dass die hohlen feinen Teilchen hohle feine Siliziumdioxidteilchen sind.It is preferable that the hollow fine particles are hollow fine silica particles.
Das Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, das einen Schritt des Aufbringens eines Beschichtungsfluids, das eine Matrixvorstufe, hohle feine Teilchen und ein Lösungsmittel enthält, auf die Oberfläche einer Glasplatte, gefolgt von einem Brennen, umfasst, wobei die Matrixvorstufe eine Siliziumdioxid-Vorstufe und eine fluorierte Etherverbindung, die eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette als die Hauptkette aufweist und eine hydrolysierbare Silylgruppe an mindestens einem Ende der Hauptkette aufweist, und/oder deren hydrolysiertes Kondensat enthält, wobei das Massenverhältnis der hohlen feinen Teilchen zu der Siliziumdioxid-Vorstufe (berechnet als SiO2) (hohle feine Teilchen/SiO2) in dem Beschichtungsfluid von 6/4 bis 4/6 beträgt, und der Anteil der fluorierten Etherverbindung in dem Beschichtungsfluid von 0,8 bis 3,0 Massen-% bezogen auf die Gesamtmenge (100 Massen-%) der hohlen feinen Teilchen und der Siliziumdioxid-Vorstufe (berechnet als SiO2) beträgt. The method for producing a glass plate provided with a low-reflection film of the present invention is a method of manufacturing a glass plate provided with a low-reflection film comprising a single-layered low-reflection film comprising a matrix and containing hollow fine particles, on the surface of a glass plate comprising a step of applying a coating fluid containing a matrix precursor, hollow fine particles and a solvent to the surface of a glass plate, followed by firing, wherein the matrix precursor comprises a silica Precursor and a fluorinated ether compound having a poly (oxyperfluoroalkylene) chain as the main chain and having a hydrolyzable silyl group at at least one end of the main chain and / or containing the hydrolyzed condensate thereof, wherein the mass ratio of the hollow fine particles to the silica Precursor (calculated as SiO 2 ) (hollow fine particles / SiO 2 ) in the coating fluid is from 6/4 to 4/6, and the proportion of the fluorinated ether compound in the coating fluid is from 0.8 to 3.0 mass% based on the total amount (100 Mass%) of the hollow fine particles and the silica precursor (calculated as SiO 2 ).
Die vorstehend genannte „fluorierte Etherverbindung und/oder deren hydrolysiertes Kondensat” steht in dieser Beschreibung für mindestens ein Mitglied, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einer fluorierten Etherverbindung und einem hydrolysierten Kondensat der fluorierten Etherverbindung.The above-mentioned "fluorinated ether compound and / or its hydrolyzed condensate" in this specification means at least one member selected from the group consisting of a fluorinated ether compound and a hydrolyzed condensate of the fluorinated ether compound.
Es ist bevorzugt, dass die fluorierte Etherverbindung eine Verbindung (A) ist, die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird:
Es ist bevorzugt, dass die Siliziumdioxid-Vorstufe ein hydrolysiertes Kondensat eines Alkoxysilans ist.It is preferred that the silica precursor is a hydrolyzed condensate of an alkoxysilane.
In dem Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, dass bei der Herstellung des Beschichtungsfluids nach der Hydrolyse des Alkoxysilans die Verbindung (A) zugesetzt wird und dann eine Dispersion der hohlen feinen Teilchen zugesetzt wird, um das Beschichtungsfluid zu erhalten.In the method for producing a glass plate provided with a low-reflection film of the present invention, it is preferred that in the preparation of the coating fluid after the hydrolysis of the alkoxysilane, the compound (A) be added and then a dispersion of the hollow fine Particles is added to obtain the coating fluid.
Es ist bevorzugt, dass die hohlen feinen Teilchen hohle feine Siliziumdioxidteilchen sind.It is preferable that the hollow fine particles are hollow fine silica particles.
Die vorliegende Erfindung stellt ferner eine Anzeigevorrichtung bereit, die ein Gehäuse, ein Anzeigeelement und eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist und die auf einer Anzeigeoberfläche des Anzeigeelements angeordnet ist, umfasst, wobei die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, eine Glasplatte ist, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, wobei der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm höchstens 1,7% beträgt, der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 97° beträgt, der Ölsäurekontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 50° beträgt und der Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion höchstens 25° beträgt.The present invention further provides a display device comprising a housing, a display element, and a glass plate provided with a low-reflection film and disposed on a display surface of the display element, the glass plate being covered with a film having a low reflectance Reflection is a glass plate provided with a low-reflection film comprising a single-layered low-reflection film containing a matrix and hollow fine particles on the surface of a glass plate, wherein the minimum reflectance of the film with less Reflection within a wavelength range of 300 to 1200 nm is at most 1.7%, the water contact angle on the surface of the low reflection film is at least 97 °, the oleic contact angle on the surface of the low reflection film is at least 50 ° and the oleic angle on the Surface of the film with low he reflection is not more than 25 °.
Die vorliegende Erfindung stellt ferner eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, für eine Anzeigevorrichtung bereit, die eine Glasplatte ist, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, wobei der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm höchstens 1,7% beträgt, der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 97° beträgt, der Ölsäurekontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 50° beträgt und der Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion höchstens 25° beträgt.The present invention further provides a glass plate provided with a low-reflection film for a display device which is a glass plate provided with a low-reflection film comprising a single-layered low-reflection film comprising a matrix and wherein the minimum reflectance of the low reflection film within a wavelength range of 300 to 1200 nm is at most 1.7%, the water contact angle on the surface of the low reflection film is at least 97 ° That is, the oleic contact angle on the surface of the low reflection film is at least 50 °, and the oleic acid angle on the surface of the low reflection film is 25 ° or less.
D. h., die Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung umfasst ein Gehäuse, ein Anzeigeelement und die vorstehend genannte Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist und die auf einer Anzeigeoberfläche des Anzeigeelements angeordnet ist.That is, the display device of the present invention comprises a housing, a display element, and the aforementioned glass plate provided with a low-reflection film and disposed on a display surface of the display element.
Die vorliegende Erfindung stellt ferner eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, für eine Anzeigevorrichtung bereit.The present invention further provides a glass plate provided with a low reflection film for a display device.
Bei der vorstehend genannten Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der Anzeigevorrichtung, und der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, für eine Anzeige, ist der Film mit geringer Reflexion auf der Außenseite der Anzeigevorrichtung ausgebildet, d. h. auf der äußersten Seite auf der Seite des Betrachters oder auf der Seite des Anwenders. In the above-mentioned glass plate provided with a low reflection film, the display device, and the glass plate provided with a low reflection film for display, the low reflection film is formed on the outside of the display device. ie on the extreme side on the viewer's side or on the user's side.
VORTEILHAFTE WIRKUNGEN DER ERFINDUNGADVANTAGEOUS EFFECTS OF THE INVENTION
Die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung weist einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion mit einem ausreichend geringen Reflexionsgrad und einer vorteilhaften Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken auf der Oberfläche einer Glasplatte auf.The glass plate provided with a low-reflection film of the present invention has a single-layered low-reflection film having a sufficiently low reflectance and advantageous removability of oil and grease stains on the surface of a glass plate.
Gemäß dem Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung ist es möglich, eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, bereitzustellen, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion mit einem ausreichend geringen Reflexionsgrad und einer vorteilhaften Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken auf der Oberfläche einer Glasplatte aufweist.According to the method of manufacturing a glass plate provided with a low-reflection film of the present invention, it is possible to provide a glass plate provided with a low-reflection film having a single-reflection low-reflection film with sufficient low reflectance and advantageous removability of oil and grease stains on the surface of a glass plate.
Die Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung ist eine Anzeigevorrichtung, die als ein Abdeckungsglas eine Glasplatte mit einem einschichtigen Film mit geringer Reflexion mit einem ausreichend geringen Reflexionsgrad und einer vorteilhaften Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken aufweist.The display device of the present invention is a display device having, as a cover glass, a glass plate having a single-layer low reflection film with a sufficiently low reflectance and advantageous removability of oil and grease stains.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
BESCHREIBUNG VON AUSFÜHRUNGSFORMENDESCRIPTION OF EMBODIMENTS
In den
Die Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung umfasst verschiedene Anzeigevorrichtungen, wie z. B. kleine Anzeigen, wie z. B. Mobiltelefone und tragbare Informationsendgeräte, große Anzeigen, wie z. B. verschiedene Fernsehgeräte, und Berührungsbildschirme. Insbesondere sind Mobiltelefone, tragbare Informationsendgeräte, Berührungsbildschirme, usw., deren Anzeigeoberfläche häufig direkt von menschlichen Händen berührt wird, bevorzugte spezifische Beispiele für die Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung, die eine Glasplatte aufweist, die mit einem Film mit geringer Reflexion mit einer hervorragenden Entfernbarkeit von Fingerabdrücken versehen ist.The display device of the present invention comprises various display devices, such. B. small ads, such. As mobile phones and portable information terminals, large displays, such. Various television sets, and touch screens. In particular, mobile phones, portable information terminals, touch screens, etc. whose display surface is often directly touched by human hands are preferred specific examples of the display device of the present invention. which has a glass plate provided with a low reflection film with excellent fingerprint removability.
Das Anzeigeelement kann z. B. ein Flüssigkristallanzeigeelement, ein Plasmaanzeigeelement oder ein organisches EL-Anzeigeelement sein.The display element can, for. Example, a liquid crystal display element, a plasma display element or an organic EL display element.
Das Gehäuse ist ein kastenförmiges Element, in dem das Anzeigeelement
(Glasplatte)(Glass plate)
Die Glasplatte
Auf der Oberfläche der Glasplatte
(Film mit geringer Reflexion)(Low reflection film)
Der Film mit geringer Reflexion
Die Matrix enthält vorzugsweise Siliziumdioxid als die Hauptkomponente und weist ferner eine geringe Menge einer Komponente auf, die eine Struktur aufweist, die von einer fluorierten Etherverbindung abgeleitet ist, wodurch der Brechungsindex relativ niedrig ist, ein geringer Reflexionsgrad erhalten werden kann, eine hervorragende chemische Stabilität erhalten wird und eine hervorragende Haftung an der Glasplatte
Ferner weist die Matrix im Hinblick auf eine hervorragende Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken vorzugsweise eine Struktur auf, die von einer fluorierten Etherverbindung abgeleitet ist, die eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette als die Hauptkette und eine hydrolysierbare Silylgruppe an mindestens einem Ende der Hauptkette aufweist, wie es nachstehend beschrieben wird.Further, in view of excellent oil and grease stain removability, the matrix preferably has a structure derived from a fluorinated ether compound having a poly (oxyperfluoroalkylene) chain as the main chain and a hydrolyzable silyl group at at least one end of the main chain , as described below.
Die Matrix kann z. B. ein gebranntes Produkt aus mindestens einer Matrixvorstufe sein, die aus der Gruppe, bestehend aus den folgenden Matrixvorstufen (a), (b) und (c), ausgewählt ist, mehr bevorzugt ein gebranntes Produkt einer Matrixvorstufe (a) im Hinblick auf eine hervorragende Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken.
- (a) Eine Matrixvorstufe, welche die nachstehend genannte Siliziumdioxid-Vorstufe und die nachstehend genannte fluorierte Etherverbindung enthält.
- (b) Eine Matrixvorstufe, welche die nachstehend genannte Siliziumdioxid-Vorstufe, die nachstehend genannte fluorierte Etherverbindung und ein hydrolysiertes Kondensat von fluorierten Etherverbindungen enthält.
- (c) Eine Matrixvorstufe, welche die nachstehend genannte Siliziumdioxid-Vorstufe, ein hydrolysiertes Kondensat der nachstehend genannten fluorierten Etherverbindungen und ein hydrolysiertes Kondensat einer Siliziumdioxid-Vorstufe (Alkoxysilan) und einer fluorierten Etherverbindung enthält.
- (a) A matrix precursor containing the below-mentioned silica precursor and the fluorinated ether compound mentioned below.
- (b) A matrix precursor containing the below-mentioned silica precursor, the below-mentioned fluorinated ether compound and a hydrolyzed condensate of fluorinated ether compounds.
- (c) A matrix precursor containing the below-mentioned silica precursor, a hydrolyzed condensate of the below-mentioned fluorinated ether compounds, and a hydrolyzed condensate of a silica precursor (alkoxysilane) and a fluorinated ether compound.
Das Material der Hülle der hohlen feinen Teilchen kann z. B. Al2O3, SiO2, SiO2, TiO2, ZrO2, ZnO, CeO2, Sb-enthaltendes SnOx(ATO), Sn-enthaltendes In2O3 (ITO) oder RuO2 sein. Diese können allein oder in einer Kombination von zwei oder mehr eingesetzt werden. The material of the shell of the hollow fine particles may, for. Al 2 O 3 , SiO 2 , SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , ZnO, CeO 2 , Sb-containing SnO x (ATO), Sn-containing In 2 O 3 (ITO) or RuO 2 . These may be used alone or in a combination of two or more.
Bei der Form der hohlen feinen Teilchen kann es sich z. B. um Kugeln, Ellipsoide, Nadeln, Plättchen, Stäbchen, Kegel, Säulen, Würfel, Quader, Rauten, Sterne oder eine nicht festgelegte Form handeln.The shape of the hollow fine particles may be, for. B. balls, ellipsoids, needles, platelets, rods, cones, columns, cubes, cuboids, diamonds, stars or an undefined form act.
Ferner können bei den hohlen feinen Teilchen die jeweiligen feinen Teilchen unabhängig vorliegen, sie können in einer Kettenform verbunden sein oder sie können agglomeriert sein.Further, in the hollow fine particles, the respective fine particles may be independently present, they may be connected in a chain form, or they may be agglomerated.
Die hohlen feinen Teilchen sind vorzugsweise hohle feine Siliziumdioxidteilchen, wodurch der Brechungsindex des Films mit geringer Reflexion
Die durchschnittliche Primärteilchengröße der hohlen feinen Siliziumdioxidteilchen beträgt vorzugsweise von 5 bis 150 nm, mehr bevorzugt von 50 bis 100 nm. Wenn die durchschnittliche Primärteilchengröße der hohlen feinen Siliziumdioxidteilchen mindestens 5 nm beträgt, ist der Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion
Die durchschnittliche Primärteilchengröße wird durch zufälliges Auswählen von 100 feinen Teilchen in einem elektronenmikroskopischen Bild, Messen der Teilchengrößen der jeweiligen feinen Teilchen und Erhalten eines Durchschnitts der Teilchengröße der 100 feinen Teilchen erhalten.The average primary particle size is obtained by randomly selecting 100 fine particles in an electron micrograph, measuring the particle sizes of the respective fine particles, and obtaining an average of the particle size of the 100 fine particles.
Der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion
Der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion
Der Ölsäurekontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion
Der Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion
Wenn der Wasserkontaktwinkel, der Ölsäurekontaktwinkel und der Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion
Der Anteil des Elements Fluor auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion
Die arithmetische mittlere Rauhigkeit (Ra) der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion
Der Brechungsindex des Films mit geringer Reflexion
Um den Brechungsindex n des Films mit geringer Reflexion
Die Dicke des Films mit geringer Reflexion
Die Dicke des Films mit geringer Reflexion
(Verfahren zur Herstellung der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist)(Method of Manufacturing Glass Plate Provided with Low Reflection Film)
Die Glasplatte
Das Beschichtungsfluid ist ein Beschichtungsfluid, das eine Matrixvorstufe, hohle feine Teilchen und ein Lösungsmittel enthält.The coating fluid is a coating fluid containing a matrix precursor, hollow fine particles and a solvent.
Das Beschichtungsfluid kann ein grenzflächenaktives Mittel zur Verbesserung der Verlaufeigenschaften, eine Metallverbindung zur Verbesserung der Dauerbeständigkeit des Films mit geringer Reflexion
Die Matrixvorstufe enthält eine Siliziumdioxid-Vorstufe und eine fluorierte Etherverbindung und/oder deren hydrolysiertes Kondensat, die eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette als die Hauptkette und eine hydrolysierbare Silylgruppe an mindestens einem Ende der Hauptkette aufweist.The matrix precursor contains a silica precursor and a fluorinated ether compound and / or their hydrolyzed condensate having a poly (oxyperfluoroalkylene) chain as the main chain and a hydrolyzable silyl group at at least one end of the main chain.
Das hydrolysierte Kondensat der fluorierten Etherverbindung kann ein hydrolysiertes Kondensat von fluorierten Etherverbindungen oder ein hydrolysiertes Kondensat eines Alkoxysilans als die Siliziumdioxid-Vorstufe und einer fluorierten Etherverbindung sein.The hydrolyzed condensate of the fluorinated ether compound may be a hydrolyzed condensate of fluorinated ether compounds or a hydrolyzed condensate of an alkoxysilane as the silica precursor and a fluorinated ether compound.
Die Matrixvorstufe kann insbesondere mindestens eine Matrixvorstufe sein, die aus der Gruppe, bestehend aus den folgenden Matrixvorstufen (a), (b) und (c), ausgewählt ist, mehr bevorzugt die Matrixvorstufe (a) im Hinblick auf eine hervorragende Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken des Films mit geringer Reflexion
- (a) Eine Matrixvorstufe, die eine Siliziumdioxid-Vorstufe und eine fluorierte Etherverbindung enthält.
- (b) Eine Matrixvorstufe, die eine Siliziumdioxid-Vorstufe, eine fluorierte Etherverbindung und ein hydrolysiertes Kondensat einer Verbindung (A) enthält.
- (c) Eine Matrixvorstufe, die eine Siliziumdioxid-Vorstufe, ein hydrolysiertes Kondensat von fluorierten Etherverbindungen und ein hydrolysiertes Kondensat einer Siliziumdioxid-Vorstufe (Alkoxysilan) und einer fluorierten Etherverbindung enthält.
- (a) A matrix precursor containing a silica precursor and a fluorinated ether compound.
- (b) A matrix precursor containing a silica precursor, a fluorinated ether compound and a hydrolyzed condensate of a compound (A).
- (c) A matrix precursor containing a silica precursor, a hydrolyzed condensate of fluorinated ether compounds, and a hydrolyzed condensate of a silica precursor (alkoxysilane) and a fluorinated ether compound.
Die Siliziumdioxid-Vorstufe kann z. B. ein Alkoxysilan, ein hydrolysiertes Kondensat (Sol-Gel-Siliziumdioxid) eines Alkoxysilans oder Silazans sein, und es handelt sich im Hinblick auf die Eigenschaften des Films mit geringer Reflexion
Das Alkoxysilan kann z. B. ein Tetraalkoxysilan (wie z. B. Tetramethoxysilan, Tetraethoxysilan, Tetrapropoxysilan oder Tetrabutoxysilan), ein Alkoxysilan mit einer Perfluorpolyethergruppe (wie z. B. Perfluorpolyethertriethoxysilan), ein Alkoxysilan mit einer Perfluoralkylgruppe (wie z. B. Perfluorethyltriethoxysilan), ein Alkoxysilan mit einer Vinylgruppe (wie z. B. Vinyltrimethoxysilan oder Vinyltriethoxysilan), ein Alkoxysilan mit einer Epoxygruppe (wie z. B. ein 2-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilan, 3-Glycidoxypropyltrimethoxysilan, 3-Glycidoxypropylmethyldiethoxysilan oder 3-Glycidoxypropyltriethoxysilan) oder ein Alkoxysilan mit einer Acryloyloxygruppe (wie z. B. 3-Acryloyloxypropyltrimethoxysilan) sein.The alkoxysilane can, for. A tetraalkoxysilane (such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane or tetrabutoxysilane), an alkoxysilane having a perfluoropolyether group (such as perfluoropolyethtriethoxysilane), an alkoxysilane having a perfluoroalkyl group (such as perfluoroethyltriethoxysilane), an alkoxysilane a vinyl group (such as vinyltrimethoxysilane or vinyltriethoxysilane), an alkoxysilane having an epoxy group (such as a 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane or 3-glycidoxypropyltriethoxysilane) or the like Alkoxysilane having an acryloyloxy group (such as 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane).
Die Hydrolyse eines Alkoxysilans wird in dem Fall von Tetraalkoxysilan unter Verwendung von Wasser in einer Menge von mindestens der 4-fachen molaren Menge des Alkoxysilans und einer Säure oder einem Alkali als Katalysator durchgeführt. Die Säure kann eine anorganische Säure (wie z. B. Salpetersäure, Schwefelsäure oder Chlorwasserstoffsäure) oder eine organische Säure (wie z. B. Ameisensäure, Oxalsäure, Monochloressigsäure, Dichloressigsäure oder Trichloressigsäure) sein. Das Alkali kann z. B. Ammoniak, Natriumhydroxid oder Kaliumhydroxid sein. Der Katalysator ist im Hinblick auf die Langzeitlagereigenschaften des hydrolysierten Kondensats des Alkoxysilans vorzugsweise eine Säure. Der Katalysator, der für die Hydrolyse des Alkoxysilans verwendet werden soll, ist vorzugsweise ein Katalysator, der eine Verteilung bzw. Dispersion von hohlen feinen Teilchen nicht verhindert.The hydrolysis of an alkoxysilane is carried out in the case of tetraalkoxysilane using water in an amount of at least 4 times the molar amount of the alkoxysilane and an acid or an alkali as a catalyst. The acid may be an inorganic acid (such as nitric acid, sulfuric acid or hydrochloric acid) or an organic acid (such as formic acid, oxalic acid, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid or trichloroacetic acid). The alkali may, for. As ammonia, sodium hydroxide or potassium hydroxide. The catalyst is preferably an acid in view of the long-term storage properties of the hydrolyzed condensate of the alkoxysilane. The catalyst to be used for the hydrolysis of the alkoxysilane is preferably a catalyst which does not prevent dispersion of hollow fine particles.
Die fluorierte Etherverbindung kann eine hydrolysierbare Silylgruppe an einem Ende der Hauptkette aufweisen oder kann eine hydrolysierbare Silylgruppe an beiden Enden der Hauptkette aufweisen. Im Hinblick darauf, einer Schicht mit geringer Reflexion eine ausreichende Abriebbeständigkeit zu verleihen, weist die fluorierte Etherverbindung vorzugsweise eine hydrolysierbare Silylgruppe an nur einem Ende der Hauptkette auf.The fluorinated ether compound may have a hydrolyzable silyl group at one end of the main chain or may have a hydrolyzable silyl group at both ends of the main chain. From the viewpoint of imparting sufficient abrasion resistance to a low-reflection layer, the fluorinated ether compound preferably has a hydrolyzable silyl group at only one end of the main chain.
Die Schicht mit geringer Reflexion ist eine Schicht, die auf der äußersten Oberfläche des Films gebildet wird und es handelt sich um den äußersten Abschnitt des Films, der direkt mit Fingerabdrücken oder Flecken in Kontakt ist.The low-reflection layer is a layer formed on the outermost surface of the film and is the outermost portion of the film directly in contact with fingerprints or stains.
Die fluorierte Etherverbindung kann eine einzelne Verbindung sein oder es kann sich um ein Gemisch von zwei oder mehr Verbindungen handeln, die sich bezüglich der Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette, der Endgruppe, der Verknüpfungsgruppe oder dergleichen unterscheiden.The fluorinated ether compound may be a single compound or it may be a mixture of two or more compounds differing in the poly (oxyperfluoroalkylene) chain, the end group, the linking group or the like.
Das Zahlenmittel des Molekulargewichts der fluorierten Etherverbindung beträgt vorzugsweise von 500 bis 10000, mehr bevorzugt von 800 bis 8000. Wenn das Zahlenmittel des Molekulargewichts innerhalb des vorstehend genannten Bereichs liegt, wird eine hervorragende Abriebbeständigkeit erhalten. Im Hinblick auf die Verträglichkeit mit anderen Komponenten, welche die Matrix-Vorstufe bilden, beträgt das Zahlenmittel des Molekulargewichts der Verbindung besonders bevorzugt von 800 bis 2000.The number average molecular weight of the fluorinated ether compound is preferably from 500 to 10,000, more preferably from 800 to 8000. When the number average molecular weight is within the above-mentioned range, excellent abrasion resistance is obtained. From the viewpoint of compatibility with other components constituting the matrix precursor, the number average molecular weight of the compound is more preferably from 800 to 2,000.
Üblicherweise wird davon ausgegangen, dass die chemische Bindung an ein Substrat umso stärker ist, je niedriger das Zahlenmittel des Molekulargewichts der fluorierten Etherverbindung ist. Es wird davon ausgegangen, dass der Grund dafür darin liegt, dass die Menge von hydrolysierbaren Silylgruppen, die pro Einheitsmolekulargewicht vorliegen, größer ist. Die vorliegenden Erfinder haben jedoch bestätigt, dass es wahrscheinlich ist, dass die Abriebbeständigkeit vermindert wird, wenn das Zahlenmittel des Molekulargewichts unterhalb der Untergrenze des vorstehend genannten Bereichs liegt. Ferner wird dann, wenn das Zahlenmittel des Molekulargewichts die Obergrenze des vorstehend genannten Bereichs übersteigt, die Abriebbeständigkeit vermindert. Es wird davon ausgegangen, dass der Grund dafür darin liegt, dass der Einfluss durch eine Verminderung der Anzahl von hydrolysierbaren Silylgruppen, die pro Einheitsmolekulargewicht vorliegen, signifikant ist.It is usually considered that the lower the number average molecular weight of the fluorinated ether compound, the stronger the chemical bonding to a substrate is. The reason for this is considered to be that the amount of hydrolyzable silyl groups present per unit molecular weight is larger. However, the present inventors have confirmed that it is likely that the abrasion resistance is lowered when the number-average molecular weight is below the lower limit of the above-mentioned range. Further, when the number-average molecular weight exceeds the upper limit of the above range, the abrasion resistance becomes reduced. It is considered that the reason for this is that the influence by reducing the number of hydrolyzable silyl groups present per unit molecular weight is significant.
Da die fluorierte Etherverbindung eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette aufweist, weist sie einen hohen Fluorgehalt auf. Demgemäß kann mit der fluorierten Etherverbindung eine Schicht mit geringer Reflexion mit einer hohen anfänglichen Wasser/Öl-Abweisung und mit einer hervorragenden Abriebbeständigkeit oder einer hervorragenden Entfernbarkeit von Flecken durch Fingerabdrücke gebildet werden.Since the fluorinated ether compound has a poly (oxyperfluoroalkylene) chain, it has a high fluorine content. Accordingly, with the fluorinated ether compound, a low reflection layer having a high initial water / oil repellency and having excellent abrasion resistance or stain removability from stains can be formed by fingerprints.
Die hydrolysierbaren Silylgruppen (-SiLmR3·m) in der fluorierten Etherverbindung werden unter Bildung von Silanolgruppen (Si-OH) hydrolysiert und Silanolgruppen werden intermolekular umgesetzt, so dass eine Si-O-Si-Bindung gebildet wird, oder solche Silanolgruppen werden einer Dehydratisierungskondensation mit Hydroxygruppen (Substrat-OH) auf der Oberfläche eines Substrats unterzogen, so dass eine chemische Bindung (Substrat-O-Si) gebildet wird. D. h., die Schicht mit geringer Reflexion in der vorliegenden Erfindung enthält die vorliegende Verbindung in einem Zustand, bei dem einige oder alle hydrolysierbaren Silylgruppen hydrolysiert sind.The hydrolyzable silyl groups (-SiL m R 3 .m) in the fluorinated ether compound are hydrolyzed to form silanol groups (Si-OH), and silanol groups are intermolecularly reacted to form an Si-O-Si bond or become such silanol groups subjected to dehydration condensation with hydroxy groups (substrate-OH) on the surface of a substrate to form a chemical bond (substrate-O-Si). That is, the low-reflection layer in the present invention contains the present compound in a state in which some or all of the hydrolyzable silyl groups are hydrolyzed.
Die fluorierte Etherverbindung kann z. B. eine Verbindung (A) sein.The fluorinated ether compound may, for. B. be a compound (A).
Die Verbindung (A) ist eine Verbindung, die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird:
a ist eine ganze Zahl von 1 bis 200, vorzugsweise eine ganze Zahl von 2 bis 100, mehr bevorzugt eine ganze Zahl von 3 bis 50, noch mehr bevorzugt eine ganze Zahl von 5 bis 25.
b ist 0 oder 1, vorzugsweise 1.
Q liegt nicht vor in einem Fall, wenn b 0 ist, und ist eine zweiwertige oder dreiwertige Verknüpfungsgruppe, wenn b 1 ist.
c ist 1, wenn Q nicht vorliegt oder eine zweiwertige Verknüpfungsgruppe, und ist 2, wenn Q eine dreiwertige Verknüpfungsgruppe ist.
d ist eine ganze Zahl von 2 bis 6.
R ist ein Wasserstoffatom oder eine einwertige Kohlenwasserstoffgruppe.
L ist eine hydrolysierbare Gruppe. Die hydrolysierbare Gruppe ist eine Gruppe, die durch Hydrolyse einer Si-L-Gruppe eine Si-OH-Gruppe bilden kann.The compound (A) is a compound represented by the following formula (A):
a is an integer from 1 to 200, preferably an integer from 2 to 100, more preferably an integer from 3 to 50, even more preferably an integer from 5 to 25.
b is 0 or 1, preferably 1.
Q does not exist in a case when b is 0, and is a divalent or trivalent linking group when b is 1.
c is 1 if Q is absent or a divalent linking group, and 2 if Q is a trivalent linking group.
d is an integer from 2 to 6.
R is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group.
L is a hydrolyzable group. The hydrolyzable group is a group which can form an Si-OH group by hydrolysis of an Si-L group.
L kann z. B. eine Alkoxygruppe, eine Acyloxygruppe, eine Ketoximgruppe, eine Alkenyloxygruppe, eine Aminogruppe, eine Aminoxygruppe, eine Amidgruppe, eine Isocyanatgruppe oder ein Halogenatom sein und im Hinblick auf eine Ausgewogenheit zwischen der Stabilität der Verbindung (A) und der Hydrolysierbarkeit ist L vorzugsweise eine Alkoxygruppe, eine Isocyanatgruppe oder ein Halogenatom (insbesondere ein Chloratom). Die Alkoxygruppe ist vorzugsweise eine C1-3-Alkoxygruppe, mehr bevorzugt eine Methoxygruppe oder eine Ethoxygruppe. In einem Fall, bei dem zwei oder mehr L-Gruppen in der fluorierten Verbindung vorliegen, können solche L-Gruppen gleich oder verschieden sein und sind im Hinblick auf die Verfügbarkeit vorzugsweise gleich.L can z. Example, an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoxime group, an alkenyloxy group, an amino group, an aminoxy group, an amide group, an isocyanate group or a halogen atom and in view of a balance between the stability of the compound (A) and the hydrolyzability L is preferably one Alkoxy group, an isocyanate group or a halogen atom (especially a chlorine atom). The alkoxy group is preferably a C 1-3 alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. In a case where two or more L groups are present in the fluorinated compound, such L groups may be the same or different and are preferably the same in terms of availability.
p ist eine ganze Zahl von 1 bis 3. Wenn p mindestens 1 ist, wird die Struktur, die von der Verbindung (A) abgeleitet ist, durch Kondensation von Si-OH-Gruppen stark an die Matrix gebunden. p ist vorzugsweise 2 oder 3, besonders bevorzugt 3.p is an integer of 1 to 3. When p is at least 1, the structure derived from the compound (A) becomes strongly bonded to the matrix by condensation of Si-OH groups. p is preferably 2 or 3, more preferably 3.
Die Verbindung (A) ist im Hinblick auf die Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken und die Einfachheit der Herstellung der Verbindung (A) vorzugsweise die folgende Verbindung (A-1) oder die Verbindung (A-2).
In den vorstehenden Formeln ist jeder von a1 und a2 eine ganze Zahl von 5 bis 25.In the above formulas, each of a1 and a2 is an integer of 5 to 25.
Da die Verbindung (A) keine -OCF2O-Struktur aufweist, kann ein Film mit geringer Reflexion
Ferner ist die (CF2CF2O)a-Struktur der Verbindung (A) eine Alkylenoxy-Struktur, in der eine CF3-Gruppe, welche die Mobilität eines Moleküls vermindert, nicht vorliegt. Demgemäß weisen Moleküle der Verbindung (A) selbst eine hohe Mobilität auf und ein Film mit geringer Reflexion
Das Massenverhältnis (hohle feine Teilchen/SiO2) der hohlen feinen Teilchen zu der Siliziumdioxid-Vorstufe (berechnet als SiO2) in dem Beschichtungsfluid beträgt vorzugsweise von 6/4 bis 4/6. Wenn der Anteil der hohlen feinen Teilchen kleiner als 6/4 ist, neigt die arithmetische mittlere Rauhigkeit (Ra) der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion
Der Anteil der fluorierten Etherverbindung in dem Beschichtungsfluid beträgt vorzugsweise 0,8 bis 3,0 Massen-%, mehr bevorzugt von 1,0 bis 1,8 Massen-%, bezogen auf die Gesamtmenge (100 Massen-%) der hohlen feinen Teilchen und der Siliziumdioxid-Vorstufe (berechnet als SiO2). Wenn der Anteil der fluorierten Etherverbindung mindestens 0,8 Massen-% beträgt, wird die Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken weiter verbessert. Wenn der Anteil der fluorierten Etherverbindung höchstens 2,0 Massen-% beträgt, wird z. B. eine Zunahme der Trübung, die aus einer lokalen ungleichmäßigen Verteilung der fluorierten Etherverbindung auf der Filmoberfläche resultiert, nicht auftreten.The proportion of the fluorinated ether compound in the coating fluid is preferably 0.8 to 3.0 mass%, more preferably 1.0 to 1.8 mass%, based on the total amount (100 mass%) of the hollow fine particles and the silica precursor (calculated as SiO 2 ). When the proportion of the fluorinated ether compound is at least 0.8 mass%, the removability of oil and grease stains is further improved. When the content of the fluorinated ether compound is at most 2.0 mass%, z. For example, an increase in haze resulting from local non-uniform distribution of the fluorinated ether compound on the film surface does not occur.
Das Lösungsmittel kann das Lösungsmittel einer Lösung der Matrix-Vorstufe oder das Dispersionsmedium einer Dispersion der hohlen feinen Teilchen sein.The solvent may be the solvent of a solution of the matrix precursor or the dispersion medium of a dispersion of the hollow fine particles.
Das Lösungsmittel einer Lösung eines hydrolysierten Kondensats des Alkoxysilans ist vorzugsweise ein Mischlösungsmittel aus Wasser und einem Alkohol (wie z. B. Methanol, Ethanol, Isopropanol, Butanol oder Diacetonalkohol).The solvent of a solution of a hydrolyzed condensate of the alkoxysilane is preferably a mixed solvent of water and an alcohol (such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol or diacetone alcohol).
Das Lösungsmittel einer Lösung der fluorierten Etherverbindung ist vorzugsweise ein organisches Lösungsmittel. Das organische Lösungsmittel kann ein organisches Lösungsmittel des Fluor-Typs, ein organisches Lösungsmittel des nicht-Fluor-Typs oder ein Gemisch dieser Lösungsmittel sein. Ein solches Lösungsmittel kann z. B. Methanol oder Ethanol sein.The solvent of a solution of the fluorinated ether compound is preferably an organic solvent. The organic solvent may be a fluorine-type organic solvent, a non-fluorine-type organic solvent, or a mixture of these solvents. Such a solvent may, for. As methanol or ethanol.
Das Dispersionsmedium einer Dispersion der hohlen feinen Teilchen kann Wasser, ein Alkohol, ein Keton, ein Ether, ein Cellosolve, ein Ester, ein Glykolether, eine Stickstoffenthaltende Verbindung oder eine Schwefel-enthaltende Verbindung sein.The dispersion medium of a dispersion of the hollow fine particles may be water, an alcohol, a ketone, an ether, a cellosolve, an ester, a glycol ether, a nitrogen-containing compound or a sulfur-containing compound.
Als ein Verfahren zur Herstellung des Beschichtungsfluids können die folgenden Verfahren (α) bis (γ) genannt werden und bevorzugt ist ein Verfahren (β), bei dem ein Beschichtungsfluid auf die Oberfläche einer Glasplatte
- (α) Ein Verfahren des Hydrolysierens des Alkoxysilans und der fluorierten Etherverbindung in einer Lösung, gegebenenfalls des Verdünnens der Lösung mit einem Lösungsmittel, und des Hinzufügens einer Dispersion der hohlen feinen Teilchen.
- (β) Ein Verfahren des Hinzufügens einer Lösung der fluorierten Etherverbindung nach der Hydrolyse des Alkoxysilans in einer Lösung (vorzugsweise mindestens zwei Stunden nach der Hydrolyse), gegebenenfalls des Verdünnens der Lösung mit einem Lösungsmittel, und des Hinzufügens einer Dispersion der hohlen feinen Teilchen.
- (γ) Ein Verfahren des Hydrolysierens des Alkoxysilans in einer Lösung, des Verdünnens der Lösung mit einem Lösungsmittel, dann des Hinzufügens einer Lösung der fluorierten Etherverbindung, und des Hinzufügens einer Dispersion der hohlen feinen Teilchen.
- (α) A method of hydrolyzing the alkoxysilane and the fluorinated ether compound in a solution, optionally diluting the solution with a solvent, and adding a dispersion of the hollow fine particles.
- (β) A method of adding a solution of the fluorinated ether compound after hydrolysis of the alkoxysilane in a solution (preferably at least two hours after the hydrolysis), optionally diluting the solution with a solvent, and adding a dispersion of the hollow fine particles.
- (γ) A method of hydrolyzing the alkoxysilane in a solution, diluting the solution with a solvent, then adding a solution of the fluorinated ether compound, and adding a dispersion of the hollow fine particles.
Das Aufbringverfahren kann ein bekanntes Nassaufbringverfahren sein (wie z. B. ein Schleuderbeschichtungsverfahren, ein Sprühbeschichtungsverfahren, ein Tauchbeschichtungsverfahren, ein Düsenbeschichtungsverfahren, ein Vorhangbeschichtungsverfahren, ein Siebbeschichtungsverfahren, ein Tintenstrahlverfahren, ein Flutbeschichtungsverfahren, ein Gravurbeschichtungsverfahren, ein Rakelbeschichtungsverfahren, ein Flexobeschichtungsverfahren, ein Schlitzbeschichtungsverfahren oder ein Walzenbeschichtungsverfahren). The application method may be a known wet application method (such as a spin coating method, a spray coating method, a dip coating method, a die coating method, a curtain coating method, a screen coating method, an ink jet method, a flow coating method, a gravure coating method, a doctor blade coating method, a flexo coating method, a slot coating method or the like) roll coating method).
Die Aufbringtemperatur beträgt vorzugsweise von Raumtemperatur bis 200°C, mehr bevorzugt von Raumtemperatur bis 150°C.The application temperature is preferably from room temperature to 200 ° C, more preferably from room temperature to 150 ° C.
Die Brenntemperatur beträgt vorzugsweise mindestens 30°C, mehr bevorzugt von 100 bis 180°C, und wird abhängig von dem Material der Glasplatte, der feinen Teilchen oder der Matrix in geeigneter Weise festgelegt.The firing temperature is preferably at least 30 ° C, more preferably from 100 to 180 ° C, and is appropriately determined depending on the material of the glass plate, the fine particles or the matrix.
Die Brennzeit beträgt vorzugsweise mindestens 3 Minuten, mehr bevorzugt von 10 Minuten bis 60 Minuten, und wird abhängig von dem Material der Glasplatte, der feinen Teilchen oder der Matrix in geeigneter Weise festgelegt.The firing time is preferably at least 3 minutes, more preferably from 10 minutes to 60 minutes, and is appropriately determined depending on the material of the glass plate, the fine particles or the matrix.
Die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung ist vorzugsweise eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, wobei die Matrix eine Struktur aufweist, die von der fluorierten Etherverbindung abgeleitet ist, und die hohlen feinen Teilchen hohle feine Siliziumdioxidteilchen sind und wobei mehr bevorzugt die fluorierte Etherverbindung eine Verbindung ist, die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird.The glass plate provided with a low-reflection film of the present invention is preferably a glass plate provided with a low-reflection film comprising a single-layered low-reflection film containing a matrix and hollow fine particles on the surface Surface of a glass plate, wherein the matrix has a structure derived from the fluorinated ether compound, and the hollow fine particles are hollow silica fine particles, and more preferably the fluorinated ether compound is a compound represented by the following formula (A) ,
Die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung wird durch Aufbringen eines Beschichtungsfluids, das eine Matrixvorstufe, hohle feine Teilchen und ein Lösungsmittel enthält, auf die Oberfläche einer Glasplatte hergestellt.The glass plate provided with a low reflection film of the present invention is prepared by applying a coating fluid containing a matrix precursor, hollow fine particles and a solvent to the surface of a glass plate.
D. h., die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung weist auf deren Oberfläche einen Film mit geringer Reflexion auf und der Film mit geringer Reflexion enthält eine Matrixstufe und hohle feine Teilchen. Der Film mit geringer Reflexion wird vorzugsweise durch ein Beschichtungsfluid gebildet, das eine Matrixvorstufe enthält, die eine Siliziumdioxid-Vorstufe und eine fluorierte Etherverbindung und/oder deren hydrolysiertes Kondensat, hohle feine Siliziumdioxidteilchen und ein Lösungsmittel enthält, und ein solches Beschichtungsfluid enthält mehr bevorzugt eine Matrixvorstufe, die ein hydrolysiertes Kondensat eines Alkoxysilans und einer Verbindung (A), die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird, hohle feine Siliziumdioxidteilchen und ein Lösungsmittel enthält, und enthält noch mehr bevorzugt eine Matrixvorstufe, die ein hydrolysiertes Kondensat von Tetraethoxysilan und einer Verbindung (A), die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird, hohle feine Siliziumdioxidteilchen und ein Lösungsmittel enthält.
(Funktionseffekt)(Functional effect)
Die vorstehend beschriebene Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung ist eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, wobei der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm höchstens 1,7% beträgt, der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 97° beträgt, der Ölsäurekontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 50° beträgt und der Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion höchstens 25° beträgt. Demgemäß ist der Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion ausreichend niedrig und es wird eine vorteilhafte Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken erhalten.The above-described glass plate provided with a low-reflection film of the present invention is a glass plate provided with a low-reflection film comprising a single-layered low-reflection film containing a matrix and hollow fine particles of the surface of a glass plate, wherein the minimum reflectance of the low reflection film within a wavelength range of 300 to 1200 nm is 1.7% or less, the water contact angle on the surface of the low reflection film is 97 ° or more, the oleic contact angle on the surface of the low-reflection film is at least 50 ° and the oleic acid angle on the surface of the low-reflection film is at most 25 °. Accordingly, the reflectance of the low reflection film is sufficiently low and advantageous removability of oil and grease stains is obtained.
Das vorstehend beschriebene Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung umfasst einen Schritt des Aufbringens eines Beschichtungsfluids, das eine Matrixvorstufe, hohle feine Teilchen und ein Lösungsmittel enthält, auf die Oberfläche einer Glasplatte, gefolgt von einem Brennen, wobei die Matrixvorstufe eine Siliziumdioxid-Vorstufe und eine fluorierte Etherverbindung, die eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette als die Hauptkette aufweist und eine hydrolysierbare Silylgruppe an mindestens einem Ende der Hauptkette aufweist, und/oder deren hydrolysiertes Kondensat enthält, wobei das Massenverhältnis der hohlen feinen Teilchen zu der Siliziumdioxid-Vorstufe (berechnet als SiO2) (hohle feine Teilchen/SiO2) in dem Beschichtungsfluid von 6/4 bis 4/6 beträgt, und der Anteil der fluorierten Etherverbindung in dem Beschichtungsfluid von 0,8 bis 3,0 Massen-% bezogen auf die Gesamtmenge (100 Massen-%) der hohlen feinen Teilchen und der Siliziumdioxid-Vorstufe (berechnet als SiO2) beträgt. Demgemäß ist es möglich, eine Glasplatte zu erzeugen, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der einen ausreichend niedrigen Reflexionsgrad und eine vorteilhafte Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken aufweist, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst.The above-described method for producing a glass plate provided with a low-reflection film of the present invention comprises a step of applying a coating fluid containing a matrix precursor, hollow fine particles and a solvent to the surface of a glass plate, followed by a firing, wherein the matrix precursor comprises a silica precursor and a fluorinated ether compound having a poly (oxyperfluoroalkylene) chain as the main chain and having a hydrolyzable silyl group at at least one end of the main chain and / or its hydrolyzed condensate, wherein the mass ratio of the hollow fine particles to the silica precursor (calculated SiO 2 ) (hollow fine particles / SiO 2 ) in the coating fluid is from 6/4 to 4/6, and the content of the fluorinated ether compound in the coating fluid is from 0.8 to 3.0 mass% based on the total amount ( 100 mass%) of the hollow fine particles and the silica precursor (calculated as SiO 2 ). Accordingly, it is possible to produce a glass plate provided with a low-reflection film comprising a single-layered low-reflection film having a sufficiently low reflectance and advantageous removability of oil and grease stains on the surface of a glass plate ,
Die vorstehend beschriebene Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung umfasst eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst. Im Hinblick auf die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, beträgt der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm höchstens 1,7%, der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion beträgt mindestens 97°, der Ölsäurekontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion beträgt mindestens 50° und der Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion beträgt höchstens 25°. Demgemäß ist der Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion ausreichend niedrig und es wird eine vorteilhafte Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken erhalten.The above-described display device of the present invention comprises a glass plate provided with a low-reflection film comprising a single-layered low-reflection film containing a matrix and hollow fine particles on the surface of a glass plate. With respect to the glass plate provided with a low reflection film, the minimum reflectance of the low reflection film within a wavelength range of 300 to 1200 nm is 1.7% or less, which is water contact angle on the surface of the low reflection film at least 97 °, the oleic contact angle on the surface of the low reflection film is at least 50 °, and the oleic acid angle on the surface of the low reflection film is at most 25 °. Accordingly, the reflectance of the low reflection film is sufficiently low and advantageous removability of oil and grease stains is obtained.
BEISPIELEEXAMPLES
Nachstehend wird die vorliegende Erfindung unter Bezugnahme auf Beispiele detaillierter beschrieben.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
Die Beispiele 15 bis 18, 21 bis 23, 26 bis 28, 31 bis 34, 37 bis 42, 45 bis 50, 53 bis 58 und 61 bis 66 sind Beispiele der vorliegenden Erfindung, und die Beispiele 1 bis 14, 19, 20, 24, 25, 29, 30, 35, 36, 43, 44, 51, 52, 59 und 60 sind Vergleichsbeispiele.Examples 15 to 18, 21 to 23, 26 to 28, 31 to 34, 37 to 42, 45 to 50, 53 to 58 and 61 to 66 are examples of the present invention, and Examples 1 to 14, 19, 20, 24, 25, 29, 30, 35, 36, 43, 44, 51, 52, 59 and 60 are comparative examples.
(Lichtreflexionsgrad)(Light reflectivity)
Der Reflexionsgrad eines Films mit geringer Reflexion wurde durch ein Spektrophotometer (von Hitachi, Ltd., hergestellt, Modell: U-4100) gemessen. Der Lichtreflexionsgrad ist ein Reflexionsgrad, der durch Multiplizieren des Reflexionsgrads bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm durch die Wichtungsfunktion für die Durchschnittsbildung erhalten wird.The reflectance of a low reflection film was measured by a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., Model: U-4100). The light reflectance is a reflectance obtained by multiplying the reflectance at a wavelength of 380 to 780 nm by the weighting function for averaging.
(Minimaler Reflexionsgrad)(Minimum reflectance)
Der Reflexionsgrad eines Films mit geringer Reflexion bei einer Wellenlänge von 300 bis 1200 nm wird durch ein Spektrophotometer (von Hitachi, Ltd., hergestellt, Modell: U-4100) gemessen, so dass ein Minimalwert des Reflexionsgrads erhalten wurde (minimaler Reflexionsgrad).The reflectance of a low-reflection film at a wavelength of 300 to 1200 nm is measured by a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., Model: U-4100), so that a minimum value of the reflectance is obtained (minimum reflectance).
(Trübung)(Turbidity)
Die Trübung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, wurde durch eine Trübungsmessvorrichtung (hergestellt von BYK-Gardner, Haze Guard Plus) gemessen.The haze of a glass plate provided with a low reflection film was measured by a haze meter (manufactured by BYK-Gardner, Haze Guard Plus).
(Wasserkontaktwinkel)(Water contact angle)
Etwa 48 μl destilliertes Wasser wurden auf drei Abschnitten auf der Oberfläche eines Films mit geringer Reflexion aufgebracht und die jeweiligen Wasserkontaktwinkel wurden durch ein Kontaktwinkelmessgerät (von Kyowa Interface Science Co., Ltd., hergestellt, FAMAS) gemessen und der Durchschnitt der drei Werte wurde erhalten.About 48 μl of distilled water was applied to three portions on the surface of a low reflection film, and the respective water contact angles were measured by a contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., FAMAS), and the average of the three values was obtained ,
(Ölsäurekontaktwinkel)(Oleic acid contact angle)
Etwa 48 μl Ölsäure wurden auf drei Abschnitten auf der Oberfläche eines Films mit geringer Reflexion aufgebracht und die jeweiligen Ölsäurekontaktwinkel wurden durch ein Kontaktwinkelmessgerät (von Kyowa Interface Science Co., Ltd., hergestellt, FACE SLIDING ANGLE METER) gemessen und der Durchschnitt der drei Werte wurde erhalten.About 48 μl of oleic acid was applied to three sections on the surface of a low-reflection film and the respective oleic acid contact angles were determined by a contact angle meter (available from Kyowa Interface Science Co., Ltd., manufactured, FACE SLIDING ANGLE METER) and the average of the three values was obtained.
(Ölsäurefallwinkel)(Oleic acid falling angle)
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde horizontal gehalten, etwa 48 μl Ölsäure wurden auf die Oberfläche des Films mit geringer Reflexion getropft und die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde allmählich geneigt und der Winkel (Fallwinkel) der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, zur horizontalen Ebene, wenn die Ölsäure nach unten zu fallen begann, wurde gemessen. Bezüglich des Messergebnisses steht „Messung unmöglich” für einen Zustand, bei dem sich Ölsäure auf einem Substrat ausbreitet, und keine Bewegung der Ölsäure festgestellt wurde, selbst wenn die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, geneigt wurde.A glass plate provided with a low-reflection film was kept horizontal, about 48 μl of oleic acid was dropped on the surface of the low-reflection film, and the glass plate provided with a low-reflection film was gradually inclined, and the glass plate Angle (falling angle) of the glass plate provided with a low reflection film to the horizontal plane when the oleic acid started to fall down was measured. As for the measurement result, "measurement impossible" means a state in which oleic acid spreads on a substrate and no movement of the oleic acid was detected even if the glass plate provided with a low reflection film was tilted.
(Anteil des Elements Fluor)(Proportion of element fluorine)
Bezüglich drei Glasplatten, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen sind, in den Beispielen 11, 23 und 35 wurde der Anteil des Elements Fluor auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mit einem Röntgenphotoelektronenspektrometer (von ULVAC-PHI, Inc., hergestellt, Quantera SXM) erhalten. Aus den Messergebnissen an drei Punkten wurde eine analytische Kurve des Anteils des Elements Fluor auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion bezogen auf den Anteil der Verbindung (A) in einem Beschichtungsfluid erstellt. Bezüglich Glasplatten, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen sind, in von den Beispielen 11, 23 und 35 verschiedenen Beispielen wurde der Anteil der Fluoratome auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion aus dem Anteil der Verbindung (A) in einem Beschichtungsfluid unter Verwendung der analytischen Kurve bestimmt.As for three glass plates provided with a low-reflection film, in Examples 11, 23 and 35, the content of the fluorine element on the surface of the low-reflection film was measured by an X-ray photoelectron spectrometer (manufactured by ULVAC-PHI, Inc.). Quantera SXM). From the measurement results at three points, an analytical curve of the content of the element fluorine on the surface of the low-reflection film with respect to the content of the compound (A) in a coating fluid was prepared. With respect to glass plates provided with a low reflection film in Examples other than Examples 11, 23 and 35, the content of fluorine atoms on the surface of the low reflection film was calculated from the proportion of the compound (A) in a coating fluid determined the analytical curve.
(Arithmetische mittlere Rauhigkeit)(Arithmetic average roughness)
Die arithmetische mittlere Rauhigkeit (Ra) der Oberfläche eines Films mit geringer Reflexion wurde durch ein Rastersondenmikroskop (hergestellt von SII Nanotechnology, SPA400DFM) gemessen.The arithmetical mean roughness (Ra) of the surface of a low reflection film was measured by a scanning probe microscope (manufactured by SII Nanotechnology, SPA400DFM).
(Brechungsindex)(Refractive index)
Der Brechungsindex n eines Films mit geringer Reflexion wurde gemäß der folgenden Formel (1) aus dem minimalen Reflexionsgrad Rmin innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm, gemessen bezüglich eines einschichtigen Films mit geringer Reflexion durch ein Spektrophotometer, und dem Brechungsindex ns einer Glasplatte berechnet.
(Haftung von Öl- und Fettflecken)(Adhesion of oil and grease stains)
Auf der Oberfläche eines Films mit geringer Reflexion wurde unter Verwendung eines Markierungsstifts auf Ölbasis (von ZEBRA CO., LTD. hergestellt, Mckee (eingetragene Marke)) eine gerade Linie (Gerade) aufgezeichnet und eine Bewertung wurde auf der Basis der folgenden Standards durchgeführt.
- A:
- Die gesamte Linie wurde zu Tröpfchen ausgebildet und konnte überhaupt nicht deutlich gezeichnet werden.
- B:
- Ein Teil der Linie wurde zu Tröpfchen ausgebildet, war jedoch als Linie erkennbar.
- C:
- Die Linie konnte aufgezeichnet werden und war deutlich als Linie erkennbar.
- A:
- The entire line was formed into droplets and could not be clearly drawn at all.
- B:
- Part of the line was formed into droplets, but was recognizable as a line.
- C:
- The line could be recorded and was clearly recognizable as a line.
(Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken)(Removability of oil and grease stains)
Nach der Bewertung der Haftung von Öl- und Fettflecken wurde die Tinte auf Ölbasis auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mit einem Kimwipe abgewischt und eine Bewertung wurde auf der Basis der folgenden Standards durchgeführt.
- A:
- Die Tinte auf Ölbasis wurde durch nur dreimaliges Reiben vollständig entfernt.
- B:
- Die Tinte auf Ölbasis wurde durch zehnmaliges Reiben im Wesentlichen entfernt, jedoch blieb eine Spur davon zurück.
- C:
- Die Farbe der Tinte auf Ölbasis verblasste durch 30-maliges Reiben geringfügig, jedoch wurde die Tinte kaum entfernt.
- D:
- Die Farbe der Tinte auf Ölbasis verblasste durch 100-maliges Reiben, jedoch wurde die Tinte kaum entfernt.
- E:
- Die Farbe der Tinte auf Ölbasis veränderte sich selbst durch 100-maliges Reiben überhaupt nicht.
- A:
- The oil-based ink was completely removed by rubbing only three times.
- B:
- The oil-based ink was substantially removed by rubbing ten times, but a trace of it remained.
- C:
- The color of the oil-based ink slightly faded by rubbing 30 times, but the ink was scarcely removed.
- D:
- The color of the oil-based ink faded by rubbing 100 times, but the ink was scarcely removed.
- e:
- The color of the oil-based ink did not change at all even by rubbing 100 times.
(Glasplatte)(Glass plate)
Als Glasplatte wurde ein Kalknatronglas (von Asahi Glass Company, Limited, hergestellt, Größe: 100 mm × 100 mm, Dicke: 3,2 mm, Brechungsindex: 1,52, Durchlässigkeit für sichtbares Licht: 90,4%) bereitgestellt.As the glass plate, a soda-lime glass (manufactured by Asahi Glass Company, Limited, size: 100 mm × 100 mm, thickness: 3.2 mm, refractive index: 1.52, visible light transmittance: 90.4%) was provided.
(Verbindung (A))(Compound (A))
Als Verbindung (A) wurde die Verbindung (A-1) hergestellt.As the compound (A), the compound (A-1) was prepared.
Die Verbindung (A-1) wurde gemäß dem Verfahren hergestellt, das in den Beispielen 1 und 2 von
(Alkoxysilan)(Alkoxysilane)
Als Alkoxysilan wurde eine Lösung (hergestellt von Junsei Chemical Co., Ltd., Feststoffgehaltkonzentration berechnet als SiO2: 5 Massen-%, Isopropylalkohol: 30 Massen-%, 2-Butanol: 25 Massen-%, Ethanol: 8 Massen-%, Diacetonalkohol: 15 Massen-%, Methanol: 17 Massen-%) von Tetraethoxysilan (nachstehend als TEOS bezeichnet) bereitgestellt.As the alkoxysilane, a solution (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd., solid content concentration calculated as SiO 2 : 5 mass%, isopropyl alcohol: 30 mass%, 2-butanol: 25 mass%, ethanol: 8 mass%, Diacetone alcohol: 15 mass%, methanol: 17 mass%) of tetraethoxysilane (hereinafter referred to as TEOS).
(Hohle feine Teilchen)(Hollow fine particles)
Als hohle feine Teilchen wurden die folgenden Teilchen bereitgestellt: Dispersion von hohlen feinen Siliziumdioxidteilchen (C-1): Hergestellt von Asahi Glass Company, Limited, Sol von hohlen Teilchen, Feststoffgehaltkonzentration berechnet als SiO2: 20 Massen-%, durchschnittliche Primärteilchengröße: 10 nm, Wasser: 40 Massen-%, Alkohol: 40 Massen-%.As hollow fine particles, the following particles were provided: Dispersion of hollow fine silica particles (C-1): Manufactured by Asahi Glass Company, Limited, sol of hollow particles, solid content concentration calculated as SiO 2 : 20 mass%, average primary particle size: 10 nm , Water: 40% by mass, alcohol: 40% by mass.
Dispersion von hohlen feinen Siliziumdioxidteilchen (C-2): Hergestellt von JGC Catalysts and Chemicals Ltd., Sol von hohlen Teilchen, Feststoffgehaltkonzentration berechnet als SiO2: 20 Massen-%, durchschnittliche Primärteilchengröße: 20 nm, Alkohol: 80 Massen-%.Calculated Manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Ltd., sol of the hollow particles, solid content concentration as SiO 2: dispersion of hollow silica fine particles (C-2) 20 mass%, average primary particle size: 20 nm, alcohol: 80% by mass.
[Beispiel 1][Example 1]
0,02 g einer wässrigen 8 mol/L Salpetersäurelösung wurden 10 g der Lösung von TEOS zugesetzt, worauf für 2 Stunden gerührt wurde, so dass eine Lösung eines hydrolysierten Kondensats von TEOS erhalten wurde.To 0.02 g of an aqueous 8 mol / L nitric acid solution was added 10 g of the solution of TEOS, followed by stirring for 2 hours to obtain a solution of a hydrolyzed condensate of TEOS.
Der Lösung eines hydrolysierten Kondensats von TEOS wurden 0,005 g der Lösung der Verbindung (A-1) zugesetzt, worauf 15 Minuten gerührt wurde, und 12 g eines Mischlösungsmittels (Isopropylalkohol: 30 Massen-%, 2-Butanol: 25 Massen-%, Ethanol: 8 Massen-%, Diacetonalkohol: 15 Massen-%, Ethanol: 17 Massen-%) wurden zugesetzt, worauf für 120 Minuten gerührt wurde, so dass eine Lösung einer Matrix-Vorstufe erhalten wurde.To the solution of a hydrolyzed condensate of TEOS was added 0.005 g of the solution of the compound (A-1), followed by stirring for 15 minutes, and 12 g of a mixed solvent (isopropyl alcohol: 30% by mass, 2-butanol: 25% by mass, ethanol : 8 mass%, diacetone alcohol: 15 mass%, ethanol: 17 mass%) were added, followed by stirring for 120 minutes to obtain a solution of a matrix precursor.
Der Lösung einer Matrix-Vorstufe wurden 6 g der Dispersion von hohlen feinen Siliziumdioxidteilchen (C-1) zugesetzt, worauf für 15 Minuten gerührt wurde, so dass ein Beschichtungsfluid erhalten wurde. Die Zusammensetzung des Beschichtungsfluids ist in der Tabelle 1 gezeigt.To the solution of a matrix precursor was added 6 g of the dispersion of hollow fine silica particles (C-1), followed by stirring for 15 minutes to obtain a coating fluid. The composition of the coating fluid is shown in Table 1.
Das Beschichtungsfluid wurde auf die Oberfläche der Glasplatte durch Schleuderbeschichten (180 U/min, 60 Sekunden) aufgebracht und für 30 Minuten bei 150°C gebrannt, so dass eine Glasplatte erhalten wurde, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war. Die Ergebnisse der Bewertung der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, sind in der Tabelle 2 gezeigt.The coating fluid was spin-coated on the surface of the glass plate (180 rpm, 60 seconds) and baked at 150 ° C for 30 minutes to obtain a glass plate provided with a low reflection film. The results of evaluation of the glass plate provided with a low-reflection film are shown in Table 2.
[Beispiel 2] [Example 2]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 erhalten, jedoch wurde die Drehzahl des Schleuderbeschichtens von 180 U/min auf 250 U/min geändert. Die Zusammensetzung des Beschichtungsfluids ist in der Tabelle 1 gezeigt. Die Ergebnisse der Bewertung der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, sind in der Tabelle 2 gezeigt.A glass plate provided with a low reflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the spin coating speed was changed from 180 rpm to 250 rpm. The composition of the coating fluid is shown in Table 1. The results of evaluation of the glass plate provided with a low-reflection film are shown in Table 2.
[Beispiele 3 bis 12][Examples 3 to 12]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 oder 2 erhalten, jedoch wurde die Zusammensetzung des Beschichtungsfluids so geändert, wie es in der Tabelle 1 gezeigt ist. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 2 gezeigt. [Tabelle 1] 
[Beispiele 13 bis 23] [Examples 13 to 23]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 1 bis 12 erhalten, jedoch wurde der Anteil der Verbindung (A-1) so geändert, wie es in der Tabelle 3 gezeigt ist. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 4 gezeigt. [Tabelle 3] 
[Beispiele 24 bis 34] [Examples 24 to 34]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 1 bis 12 erhalten, jedoch wurde der Anteil der Verbindung (A-1) so geändert, wie es in der Tabelle 5 gezeigt ist. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 6 gezeigt. [Tabelle 5] 
[Beispiele 35 bis 42] [Examples 35 to 42]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 1 bis 12 erhalten, jedoch wurde die Zusammensetzung des Beschichtungsfluids so geändert, wie es in der Tabelle 7 gezeigt ist, und der Zeitpunkt der Zugabe der Verbindung (A-1) wurde so geändert, dass er vor der Hydrolyse von TEOS lag. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 8 gezeigt.A glass plate provided with a low-reflection film was obtained in the same manner as in Examples 1 to 12, but the composition of the coating fluid was changed as shown in Table 7 and the time of addition The compound (A-1) was changed to be before the hydrolysis of TEOS. Each glass plate provided with a low reflection film was evaluated. The results are shown in Table 8.
[Beispiele 43 bis 50][Examples 43 to 50]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 35 bis 42 erhalten, jedoch wurde der Zeitpunkt der Zugabe der Verbindung (A-1) so geändert, dass er 1 Stunde nach der Hydrolyse von TEOS lag. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 8 gezeigt.A glass plate provided with a low reflection film was obtained in the same manner as in Examples 35 to 42, but the time of addition of compound (A-1) was changed to 1 hour after the hydrolysis from TEOS. Each glass plate provided with a low reflection film was evaluated. The results are shown in Table 8.
[Beispiele 51 bis 58] [Examples 51 to 58]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 35 bis 42 erhalten, jedoch wurde der Zeitpunkt der Zugabe der Verbindung (A-1) so geändert, dass er 2 Stunden nach der Hydrolyse von TEOS lag. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 10 gezeigt.A glass plate provided with a low-reflection film was obtained in the same manner as in Examples 35 to 42, but the time of adding the compound (A-1) was changed to 2 hours after the hydrolysis from TEOS. Each glass plate provided with a low reflection film was evaluated. The results are shown in Table 10.
[Beispiele 59 bis 66][Examples 59 to 66]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 35 bis 42 erhalten, jedoch wurde der Zeitpunkt der Zugabe der Verbindung (A-1) so geändert, dass er 2 Stunden nach der Hydrolyse von TEOS und nach der Verdünnung mit dem Lösungsmittel lag. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 10 gezeigt.A glass plate provided with a low-reflection film was obtained in the same manner as in Examples 35 to 42, but the time of adding the compound (A-1) was changed to 2 hours after the hydrolysis of TEOS and after dilution with the solvent. Each glass plate provided with a low reflection film was evaluated. The results are shown in Table 10.
Eine rasterelektronenmikroskopische Photographie eines Querschnitts der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, des Beispiels 37 ist in der
GEWERBLICHE ANWENDBARKEITINDUSTRIAL APPLICABILITY
Die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung und eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die mit dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Erfindung erhalten worden ist, sind als Glasplatte zur Verwendung für verschiedene Anzeigen, Fensterscheiben für Automobile, Berührungsbildschirme, usw., geeignet.The glass plate provided with a low-reflection film of the present invention and a glass plate provided with a low-reflection film obtained by the production method of the present invention are used as a glass plate for use in various displays. Windows for automobiles, touch screens, etc., suitable.
Die Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung ist z. B. für verschiedene Fernsehgeräte, Berührungsbildschirme, Mobiltelefone, tragbare Informationsendgeräte, usw., geeignet.The display device of the present invention is e.g. B. for various televisions, touch screens, mobile phones, portable information terminals, etc., suitable.
Die gesamte Offenbarung der
BEZUGSZEICHENREFERENCE NUMBERS
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 10:10:
- Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen istGlass plate provided with a low reflection film
- 12:12:
- Glasplatteglass plate
- 14:14:
- Film mit geringer ReflexionFilm with low reflection
- 100:100:
- Anzeigevorrichtungdisplay device
- 20:20:
- Anzeigeelementdisplay element
- 30:30:
- Gehäusecasing
Claims (15)
Applications Claiming Priority (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011-081720 | 2011-04-01 | ||
| JP2011081833 | 2011-04-01 | ||
| JP2011-081719 | 2011-04-01 | ||
| JP2011081720 | 2011-04-01 | ||
| JP2011081719 | 2011-04-01 | ||
| JPJP-2011-081720 | 2011-04-01 | ||
| JPJP-2011-081833 | 2011-04-01 | ||
| JP2011-081833 | 2011-04-01 | ||
| JPJP-2011-081719 | 2011-04-01 | ||
| PCT/JP2012/059002 WO2012137744A1 (en) | 2011-04-01 | 2012-04-02 | Glass plate with low reflective film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE112012001546T5 true DE112012001546T5 (en) | 2014-01-16 |
| DE112012001546B4 DE112012001546B4 (en) | 2023-02-16 |
Family
ID=46969142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE112012001546.0T Active DE112012001546B4 (en) | 2011-04-01 | 2012-04-02 | GLASS PLATE WITH A LOW REFLECTION FILM |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6020444B2 (en) |
| KR (1) | KR101884961B1 (en) |
| CN (1) | CN103476726B (en) |
| DE (1) | DE112012001546B4 (en) |
| TW (1) | TWI572481B (en) |
| WO (1) | WO2012137744A1 (en) |
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| EP4150011A4 (en) * | 2020-05-14 | 2024-04-10 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated coupling agents and fluorinated (co)polymer layers made using the same |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10077207B2 (en) | 2011-11-30 | 2018-09-18 | Corning Incorporated | Optical coating method, apparatus and product |
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- 2012-04-02 WO PCT/JP2012/059002 patent/WO2012137744A1/en active Application Filing
- 2012-04-02 CN CN201280016572.8A patent/CN103476726B/en active Active
- 2012-04-02 KR KR1020137025382A patent/KR101884961B1/en active IP Right Grant
- 2012-04-02 DE DE112012001546.0T patent/DE112012001546B4/en active Active
- 2012-04-02 JP JP2013508865A patent/JP6020444B2/en active Active
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| TW201244924A (en) | 2012-11-16 |
| CN103476726B (en) | 2016-06-01 |
| KR20140011348A (en) | 2014-01-28 |
| JP6020444B2 (en) | 2016-11-02 |
| KR101884961B1 (en) | 2018-08-02 |
| CN103476726A (en) | 2013-12-25 |
| JPWO2012137744A1 (en) | 2014-07-28 |
| WO2012137744A1 (en) | 2012-10-11 |
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| DE112012001546B4 (en) | 2023-02-16 |
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|
| R082 | Change of representative |
Representative=s name: MUELLER-BORE & PARTNER PATENTANWAELTE PARTG MB, DE |
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