DE112012001546B4 - GLASS PLATE WITH A LOW REFLECTION FILM - Google Patents
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Abstract
Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, wobei die durchschnittliche Primärteilchengröße der hohlen feinen Teilchen von 5 bis 150 nm beträgt,wobei der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm höchstens 1,7 % beträgt,der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 97° beträgt,der Ölsäurekontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 50° beträgt undder Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion höchstens 25° beträgt,wobei die Matrix Siliziumdioxid als die Hauptkomponente enthält und eine Struktur aufweist, die von einer fluorierten Etherverbindung abgeleitet ist, die eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette als die Hauptkette aufweist und eine hydrolysierbare Silylgruppe an mindestens einem Ende der Hauptkette aufweist,wobei die fluorierte Etherverbindung eine Verbindung (A) ist, die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird:RF1O(CF2CF2O)aCF2-(Q)b(-(CH2)d-SiLpR3-p)c(A)worinRF1eine einwertige gesättigte C1-20-Perfluorkohlenwasserstoffgruppe oder eine einwertige gesättigte C2-20-Perfluorkohlenwasserstoffgruppe mit einem Ethersauerstoffatom ist, das zwischen Kohlenstoffatomen insertiert ist, und es sich um eine Gruppe handelt, die keine -OCF2O-Struktur aufweist,a eine ganze Zahl von 1 bis 200 ist,b 0 oder 1 ist,Q nicht vorliegt, wenn b 0 ist, und eine zweiwertige oder dreiwertige Verknüpfungsgruppe ist, wenn b 1 ist,c 1 ist, wenn Q nicht vorliegt oder eine zweiwertige Verknüpfungsgruppe ist, und 2 ist, wenn Q eine dreiwertige Verknüpfungsgruppe ist,d eine ganze Zahl von 2 bis 6 ist,L eine hydrolysierbare Gruppe ist,R ein Wasserstoffatom oder eine einwertige Kohlenwasserstoffgruppe ist undp eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, undwobei die hohlen feinen Teilchen hohle feine Siliziumdioxidteilchen sind.A low-reflection film-applied glass plate comprising a single-layer low-reflection film containing a matrix and hollow fine particles on the surface of a glass plate, wherein the average primary particle size of the hollow fine particles is from 5 to 150 nm ,wherein the minimum reflectance of the low reflectance film is 1.7% or less within a wavelength range of 300 to 1200 nm,the water contact angle on the surface of the low reflectance film is at least 97°,the oleic acid contact angle on the surface of the low reflectance film is at least 50° and the oleic acid fall angle on the surface of the low reflection film is at most 25°,wherein the matrix contains silica as the main component and has a structure derived from a fluorinated ether compound having a poly(oxyperfluoroalkylene) chain as the Has main chain and hydrolysis has an accessible silyl group at at least one end of the main chain, wherein the fluorinated ether compound is a compound (A) represented by the following formula (A): RF1O(CF2CF2O)aCF2-(Q)b(-(CH2)d-SiLpR3 -p)c(A)wherein RF1 is a C1-20 monovalent saturated perfluorocarbon group or a C2-20 monovalent saturated perfluorocarbon group having an ether oxygen atom inserted between carbon atoms and is a group not having a -OCF2O structure ,a is an integer from 1 to 200,b is 0 or 1,Q is absent when b is 0 and is a divalent or trivalent linking group when b is 1,c is 1 when Q is absent or a divalent is linking group and 2 when Q is a trivalent linking group,d is an integer from 2 to 6,L is a hydrolyzable group,R is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group and p is an integer from 1 to 3, andwherein d The hollow fine particles are hollow silica fine particles.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, ein Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, eine Anzeigevorrichtung und eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, für eine Anzeigevorrichtung.The present invention relates to a glass plate provided with a low reflection film, a method for manufacturing a glass plate provided with a low reflection film, a display device and a glass plate provided with a low reflection film, for a display device.
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen Film mit geringer Reflexion auf der Oberfläche einer Glasplatte aufweist, wurde z.B. für Abdeckungsgläser für Solarzellen, verschiedene Anzeigen oder deren Frontplatten, verschiedene Fensterscheiben, Abdeckungsgläser für Berührungsbildschirme, usw., verwendet.A glass plate provided with a low-reflection film having a low-reflection film on the surface of a glass plate has been used for, for example, cover glasses for solar cells, various displays or their front panels, various window panes, cover glasses for touch screens, etc .
In verschiedenen Anzeigevorrichtungen, wie z.B. kleinen Anzeigen, wie z.B. Mobiltelefonen oder tragbaren Informationsendgeräten, großen Anzeigen, wie z.B. verschiedenen Fernsehgeräten oder Berührungsbildschirmen, wurde ein Abdeckungsglas (Schutzglas) auf der Front bzw. Vorderseite eines Anzeigeelements verwendet, um die Anzeige zu schützen und die Optik in vielen Fällen zu verbessern. Ferner wurde zur Verbesserung der Sichtbarkeit eines Bilds, das auf der Anzeigevorrichtung angezeigt wird, als ein Abdeckungsglas eine Glasplatte verwendet, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der einen Antireflexionsfilm für sichtbares Licht aufweist.In various display devices, such as small displays such as mobile phones or portable information terminals, large displays such as various televisions or touch screens, a cover glass (protective glass) has been used on the front of a display element to protect the display and optics to improve in many cases. Further, in order to improve the visibility of an image displayed on the display device, as a cover glass, a glass plate provided with a low-reflection film comprising a visible light anti-reflection film has been used.
Von diesen wird eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist und die z.B. für verschiedene Anzeigen, Fensterscheiben für Automobile und Berührungsbildschirme verwendet wird, oder die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist und für die vorstehend genannten Anzeigevorrichtungen verwendet werden soll, häufig durch menschliche Hände berührt und muss eine Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken, wie z.B. Fingerabdrücken, aufweisen.Of these, a glass plate provided with a low reflection film used for, e.g., various displays, window panes for automobiles and touch screens, or the glass plate provided with a low reflection film used for the above display devices to be touched frequently by human hands and must exhibit removability of oil and grease stains such as fingerprints.
Als ein Verfahren, mit dem einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, eine Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken verliehen wird, sind ein Verfahren des Bindens eines schmutzabweisenden Films gegen Öl und Fett an deren Oberfläche und ein Verfahren des Aufbringens einer schmutzabweisenden Schicht auf einem Antireflexionsfilm (Patentdokument 1) bekannt.As a method of imparting oil and grease stain removability to a glass plate provided with a low reflection film, a method of bonding an oil and grease stainproof film to the surface thereof and a method of applying a antisoiling layer on an antireflection film (Patent Document 1).
In einem Fall, bei dem ein schmutzabweisender Film gegen Öl und Fett an die Oberfläche einer Glasplatte gebunden wird, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, können jedoch Probleme wie z.B. eine Verminderung der Produktivität aufgrund einer Zunahme der Anzahl von Schritten, wie z.B. eines Filmherstellungsschritts und eines Filmbindungsschritts, eine Verminderung der Optik durch ein uneinheitliches Binden und ein Anstieg der Kosten der Filmbindung auftreten. Ferner können auch in einem Fall, bei dem eine schmutzabweisende Schicht auf einer Antireflexionsschicht aufgebracht wird, Probleme wie z.B. eine Verminderung der Produktivität auftreten.However, in a case where an oil and grease stainproof film is bonded to the surface of a glass plate provided with a low reflection film, problems such as a decrease in productivity due to an increase in the number of steps such as a film-making step and a film-bonding step, a reduction in appearance due to non-uniform bonding, and an increase in film-bonding cost. Further, also in a case where an antisoiling layer is provided on an antireflection layer, problems such as a reduction in productivity may occur.
Patentdokument 1:
Die vorliegende Erfindung stellt eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion mit einem ausreichend geringen Reflexionsgrad und mit einer vorteilhaften Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken auf der Oberfläche einer Glasplatte aufweist, ein Herstellungsverfahren, mit dem die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, hergestellt werden kann, und eine Anzeigevorrichtung bereit, welche die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, aufweist.The present invention provides a glass plate provided with a low reflection film, which has a single-layer low reflection film with a sufficiently low reflectance and with an advantageous removability of oil and grease stains on the surface of a glass plate, a manufacturing method, with which the glass panel provided with a low reflection film can be manufactured, and a display device comprising the glass panel provided with a low reflection film.
Die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung ist eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, wobei der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm höchstens 1,7 % beträgt, der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 97° beträgt, der Ölsäurekontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 50° beträgt und der Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion höchstens 25° beträgt.The glass plate provided with a low reflection film of the present invention is a glass plate provided with a low reflection film having a single-layered low reflection film containing a matrix and hollow fine particles on the surface a glass plate, wherein the minimum reflectance of the low reflectance film is 1.7% or less within a wavelength range of 300 to 1200 nm, the water contact angle on the surface of the low reflectance film is at least 97°, the oleic acid contact angle on the surface of the film low reflectance is at least 50° and the oleic acid falling angle on the surface of the low reflectance film is at most 25°.
In dieser Beschreibung wird „bis“, das verwendet wird, um den Bereich eines Zahlenwerts zu zeigen, so eingesetzt, dass es die Zahlenwerte davor und danach als den unteren Grenzwert und den oberen Grenzwert umfasst, und das Gleiche gilt nachstehend, falls nichts anderes angegeben ist.In this specification, “to” used to show the range of a numeric value is substituted to include the numeric values before and after as the lower limit and the upper limit, and the same applies hereinafter unless otherwise noted is.
Bezüglich der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung steht der einschichtige Film mit geringer Reflexion für einen Film, der eine homogene, im Wesentlichen homogene oder nicht-homogene einschichtige Struktur aufweist, welche die Funktion einer geringen Reflexion verleiht. Ferner steht die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung für eine Glasplatte, bei welcher der vorstehend genannte Film mit geringer Reflexion auf der äußersten Seite von mindestens einer Oberfläche der Glasplatte ausgebildet ist. Demgemäß können auf der gegenüber liegenden Seite, auf welcher der Film mit geringer Reflexion nicht auf der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, ausgebildet ist, oder als eine Basisschicht des Films mit geringer Reflexion, der auf der äußersten Seite ausgebildet ist, eine Schicht oder eine Mehrzahl von Schichten von gewünschten funktionellen Filmen, wie z.B. ein elektrisch leitender Film, ein Nahinfrarotabschirmungsfilm, ein Abschirmungsfilm für elektromagnetische Wellen, ein Farbtoneinstellungsfilm, ein haftungsverbessernder Film, ein die Dauerbeständigkeit verbessernder Film, ein Antistatikfilm und andere bereitgestellt sein.Regarding the glass plate provided with a low reflection film of the present invention, the low reflection single-layer film means a film having a homogeneous, substantially homogeneous or non-homogeneous single-layer structure imparting the low reflection function . Further, the glass plate provided with a low reflection film of the present invention stands for a glass plate in which the above low reflection film is formed on the outermost side of at least one surface of the glass plate. Accordingly, on the opposite side on which the low reflection film is not formed on the glass plate provided with a low reflection film, or as a base layer of the low reflection film formed on the outermost side , a layer or a plurality of layers of desired functional films such as an electroconductive film, a near infrared shielding film, an electromagnetic wave shielding film, a color tone adjusting film, an adhesion improving film, a durability improving film, an antistatic film and others.
Der Anteil des Elements Fluor auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion, gemessen mittels Röntgenphotoelektronenspektroskopie, beträgt vorzugsweise von 3 bis 20 Atom-%.The content of the fluorine element on the surface of the low reflection film as measured by X-ray photoelectron spectroscopy is preferably from 3 to 20 atomic %.
Die arithmetische mittlere Rauhigkeit (Ra) der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion, gemessen mittels eines Rastersondenmikroskops, beträgt vorzugsweise von 3,0 bis 5,0 nm. The arithmetic mean roughness (Ra) of the surface of the low reflection film measured by a scanning probe microscope is preferably from 3.0 to 5.0 nm.
Der Brechungsindex des Films mit geringer Reflexion beträgt vorzugsweise von 1,30 bis 1,46.The refractive index of the low reflection film is preferably from 1.30 to 1.46.
Es ist erfindungsgemäß, dass die Matrix Siliziumdioxid als die Hauptkomponente enthält und eine Struktur aufweist, die von einer fluorierten Etherverbindung abgeleitet ist, die eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette als die Hauptkette und eine hydrolysierbare Silylgruppe an mindestens einem Ende der Hauptkette aufweist.It is the invention that the matrix contains silica as the main component and has a structure derived from a fluorinated ether compound having a poly(oxyperfluoroalkylene) chain as the main chain and a hydrolyzable silyl group at at least one end of the main chain.
Es ist erfindungsgemäß, dass die fluorierte Etherverbindung eine Verbindung (A) ist, die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird:
worin
RF1 eine einwertige gesättigte C1-20-Perfluorkohlenwasserstoffgruppe oder eine einwertige gesättigte C2-20-Perfluorkohlenwasserstoffgruppe mit einem Ethersauerstoffatom ist, das zwischen Kohlenstoffatomen insertiert ist, und es sich um eine Gruppe handelt, die keine -OCF2O-Struktur aufweist,
a eine ganze Zahl von 1 bis 200 ist,
b 0 oder 1 ist,
Q nicht vorliegt, wenn b 0 ist, und eine zweiwertige oder dreiwertige Verknüpfungsgruppe ist, wenn b 1 ist,
c 1 ist, wenn Q nicht vorliegt oder eine zweiwertige Verknüpfungsgruppe ist, und 2 ist, wenn Q eine dreiwertige Verknüpfungsgruppe ist,
d eine ganze Zahl von 2 bis 6 ist,
Leine hydrolysierbare Gruppe ist,
R ein Wasserstoffatom oder eine einwertige Kohlenwasserstoffgruppe ist und
p eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist.It is according to the invention that the fluorinated ether compound is a compound (A) represented by the following formula (A):
wherein
R F1 is a C 1-20 monovalent saturated perfluorocarbon group or a C 2-20 monovalent saturated perfluorocarbon group having an ether oxygen atom inserted between carbon atoms and is a group that does not have a -OCF 2 O structure,
a is an integer from 1 to 200,
b is 0 or 1,
Q is absent when b is 0 and is a divalent or trivalent linking group when b is 1,
c is 1 when Q is absent or is a divalent linking group and 2 when Q is a trivalent linking group,
d is an integer from 2 to 6,
le hydrolyzable group is,
R is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group and
p is an integer from 1 to 3.
Es ist erfindungsgemäß, dass die hohlen feinen Teilchen hohle feine Siliziumdioxidteilchen sind.It is the present invention that the hollow fine particles are hollow silica fine particles.
Das Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, das einen Schritt des Aufbringens eines Beschichtungsfluids, das eine Matrixvorstufe, hohle feine Teilchen und ein Lösungsmittel enthält, auf die Oberfläche einer Glasplatte, gefolgt von einem Brennen, umfasst, wobei die Matrixvorstufe eine Siliziumdioxid-Vorstufe und eine fluorierte Etherverbindung, die eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette als die Hauptkette aufweist und eine hydrolysierbare Silylgruppe an mindestens einem Ende der Hauptkette aufweist, und/oder deren hydrolysiertes Kondensat enthält, wobei das Massenverhältnis der hohlen feinen Teilchen zu der Siliziumdioxid-Vorstufe (berechnet als SiO2) (hohle feine Teilchen/SiO2) in dem Beschichtungsfluid von 6/4 bis 4/6 beträgt, und der Anteil der fluorierten Etherverbindung in dem Beschichtungsfluid von 0,8 bis 3,0 Massen-% bezogen auf die Gesamtmenge (100 Massen-%) der hohlen feinen Teilchen und der Siliziumdioxid-Vorstufe (berechnet als SiO2) beträgt.The method for manufacturing a glass plate provided with a low reflection film of the present invention is a method for manufacturing a glass plate provided with a low reflection film comprising a single-layer low reflection film comprising a matrix and contains hollow fine particles, on the surface of a glass plate, comprising a step of applying a coating fluid containing a matrix precursor, hollow fine particles and a solvent to the Surface of a glass plate followed by firing, wherein the matrix precursor comprises a silica precursor and a fluorinated ether compound having a poly(oxyperfluoroalkylene) chain as the main chain and a hydrolyzable silyl group at at least one end of the main chain, and/or the hydrolyzed condensate thereof, wherein the mass ratio of the hollow fine particles to the silica precursor (calculated as SiO 2 ) (hollow fine particles/SiO 2 ) in the coating fluid is from 6/4 to 4/6, and the proportion of the fluorinated ether compound in the coating fluid is from 0.8 to 3.0% by mass based on the total amount (100% by mass) of the hollow fine particles and the silica precursor (calculated as SiO 2 ).
Die vorstehend genannte „fluorierte Etherverbindung und/oder deren hydrolysiertes Kondensat“ steht in dieser Beschreibung für mindestens ein Mitglied, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einer fluorierten Etherverbindung und einem hydrolysierten Kondensat der fluorierten Etherverbindung.The above “fluorinated ether compound and/or its hydrolyzed condensate” in this specification means at least one member selected from the group consisting of a fluorinated ether compound and a hydrolyzed condensate of the fluorinated ether compound.
Es ist erfindungsgemäß, dass die fluorierte Etherverbindung eine Verbindung (A) ist, die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird:
worin RF1, a, b, Q, c, d, L, R und p die vorstehend angegebene Bedeutung haben.It is according to the invention that the fluorinated ether compound is a compound (A) represented by the following formula (A):
wherein R F1 , a, b, Q, c, d, L, R and p have the meaning given above.
Es ist bevorzugt, dass die Siliziumdioxid-Vorstufe ein hydrolysiertes Kondensat eines Alkoxysilans ist.It is preferred that the silica precursor is a hydrolyzed condensate of an alkoxysilane.
In dem Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, dass bei der Herstellung des Beschichtungsfluids nach der Hydrolyse des Alkoxysilans die Verbindung (A) zugesetzt wird und dann eine Dispersion der hohlen feinen Teilchen zugesetzt wird, um das Beschichtungsfluid zu erhalten.In the method for producing a glass plate provided with a low reflection film of the present invention, it is preferable that in the preparation of the coating fluid, after hydrolysis of the alkoxysilane, the compound (A) is added and then a dispersion of the hollow fines particles is added to obtain the coating fluid.
Es ist erfindungsgemäß, dass die hohlen feinen Teilchen hohle feine Siliziumdioxidteilchen sind.It is the present invention that the hollow fine particles are hollow silica fine particles.
Die vorliegende Erfindung stellt ferner eine Anzeigevorrichtung bereit, die ein Gehäuse, ein Anzeigeelement und eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist und die auf einer Anzeigeoberfläche des Anzeigeelements angeordnet ist, umfasst, wobei die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorstehend definierten Glasplatte entspricht.The present invention further provides a display device that includes a housing, a display element, and a glass plate that is provided with a low-reflection film and that is arranged on a display surface of the display element, wherein the glass plate that is provided with a low-reflection film reflection, corresponds to the glass plate defined above.
Die vorliegende Erfindung stellt ferner eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, für eine Anzeigevorrichtung bereit, wobei die eine Glasplatte der vorstehend definierten Glasplatte entspricht.The present invention further provides a glass panel provided with a low reflection film for a display device, wherein the one glass panel corresponds to the glass panel defined above.
D.h., die Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung umfasst ein Gehäuse, ein Anzeigeelement und die vorstehend genannte Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist und die auf einer Anzeigeoberfläche des Anzeigeelements angeordnet ist.That is, the display device of the present invention comprises a case, a display element, and the above glass plate which is provided with a low-reflection film and which is arranged on a display surface of the display element.
Die vorliegende Erfindung stellt ferner eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, für eine Anzeigevorrichtung bereit.The present invention further provides a glass panel provided with a low reflection film for a display device.
Bei der vorstehend genannten Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der Anzeigevorrichtung, und der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, für eine Anzeige, ist der Film mit geringer Reflexion auf der Außenseite der Anzeigevorrichtung ausgebildet, d.h. auf der äußersten Seite auf der Seite des Betrachters oder auf der Seite des Anwenders.In the above low-reflection film-applied glass plate, display device, and low-reflection film-applied glass plate for display, the low-reflection film is formed on the outside of the display device, i.e. on the outermost side on the viewer's side or on the user's side.
Die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung weist einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion mit einem ausreichend geringen Reflexionsgrad und einer vorteilhaften Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken auf der Oberfläche einer Glasplatte auf.The glass plate provided with a low reflection film of the present invention has a single layer low reflection film having a sufficiently low reflectance and favorable removability of oil and grease stains on the surface of a glass plate.
Gemäß dem Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung ist es möglich, eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, bereitzustellen, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion mit einem ausreichend geringen Reflexionsgrad und einer vorteilhaften Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken auf der Oberfläche einer Glasplatte aufweist.According to the method for manufacturing a glass plate provided with a low reflection film of the present invention, it is possible to provide a glass plate provided with a low reflection film having a single-layer low reflection film with a sufficient low reflectance and advantageous removability of oil and grease stains on the surface of a glass plate.
Die Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung ist eine Anzeigevorrichtung, die als ein Abdeckungsglas eine Glasplatte mit einem einschichtigen Film mit geringer Reflexion mit einem ausreichend geringen Reflexionsgrad und einer vorteilhaften Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken aufweist.
-
1 ist eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, und einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, für eine Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung zeigt. -
2 ist ein rasterelektronenmikroskopisches Bild eines Querschnitts einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, des Beispiels 37 (Beispiel der vorliegenden Erfindung). -
3 ist eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel einer Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung zeigt.
-
1 12 is a cross-sectional view showing an example of a glass plate provided with a low reflection film and a glass plate provided with a low reflection film for a display device of the present invention. -
2 Fig. 12 is a scanning electron micrograph of a cross section of a glass plate provided with a low reflection film of Example 37 (Example of the present invention). -
3 Fig. 12 is a cross-sectional view showing an example of a display device of the present invention.
In den
Die Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung umfasst verschiedene Anzeigevorrichtungen, wie z.B. kleine Anzeigen, wie z.B. Mobiltelefone und tragbare Informationsendgeräte, große Anzeigen, wie z.B. verschiedene Fernsehgeräte, und Berührungsbildschirme. Insbesondere sind Mobiltelefone, tragbare Informationsendgeräte, Berührungsbildschirme, usw., deren Anzeigeoberfläche häufig direkt von menschlichen Händen berührt wird, bevorzugte spezifische Beispiele für die Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung, die eine Glasplatte aufweist, die mit einem Film mit geringer Reflexion mit einer hervorragenden Entfernbarkeit von Fingerabdrücken versehen ist.The display device of the present invention includes various display devices such as small displays such as cellular phones and portable information terminals, large displays such as various televisions, and touch screens. In particular, mobile phones, portable information terminals, touch screens, etc., whose display surface is often directly touched by human hands, are preferred specific examples of the display device of the present invention, which has a glass plate coated with a low-reflection film having excellent fingerprint removability is provided.
Das Anzeigeelement kann z.B. ein Flüssigkristallanzeigeelement, ein Plasmaanzeigeelement oder ein organisches EL-Anzeigeelement sein.The display element may be, for example, a liquid crystal display element, a plasma display element, or an organic EL display element.
Das Gehäuse ist ein kastenförmiges Element, in dem das Anzeigeelement 20 und die Glasplatte 10, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, untergebracht sind, und dessen Material kann z.B. ein Harz bzw. Kunststoff oder ein Metall sein.The case is a box-shaped member accommodating the
(Glasplatte)(glass plate)
Die Glasplatte 12 kann z.B. aus Kalknatronglas, Borosilikatglas, Aluminosilikatglas oder Alkali-freiem Glas hergestellt sein. Es kann eine glatte Glasplatte sein, die z.B. durch das Float-Verfahren hergestellt worden ist, oder es kann ein Profilglas sein, das Unregelmäßigkeiten auf dessen Oberfläche aufweist. Ferner beträgt der Brechungsindex der Glasplatte 12 im Hinblick auf die Beziehung zwischen dem Film mit geringer Reflexion und dem Brechungsindex vorzugsweise von 1,45 bis 1,60.The
Auf der Oberfläche der Glasplatte 12 kann im Vorhinein eine Schicht ausgebildet werden, die von dem Film mit geringer Reflexion 14 verschieden ist, wie z.B. eine Alkalibarriereschicht oder eine Haftvermittlerschicht.On the surface of the
(Film mit geringer Reflexion)(Low reflection film)
Der Film mit geringer Reflexion 14 ist ein einschichtiger Film, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, und der z.B. durch einmaliges Aufbringen des nachstehend genannten Beschichtungsfluids zur Bildung eines Films mit geringer Reflexion gebildet wird. Der Film mit geringer Reflexion 14 kann jedoch auch durch zusätzliches mehrmaliges Aufbringen des Beschichtungsfluids zur Bildung eines Films mit geringer Reflexion gebildet werden und ist nicht beschränkt, solange es sich um eine einschichtige Struktur oder eine im Wesentlichen einschichtige Struktur handelt, die als Film mit geringer Reflexion wirkt.The low-
Die Matrix enthält erfindungsgemäß Siliziumdioxid als die Hauptkomponente und weist ferner bevorzugt eine geringe Menge einer Komponente auf, die eine Struktur aufweist, die von einer fluorierten Etherverbindung abgeleitet ist, wodurch der Brechungsindex relativ niedrig ist, ein geringer Reflexionsgrad erhalten werden kann, eine hervorragende chemische Stabilität erhalten wird und eine hervorragende Haftung an der Glasplatte 12 erhalten wird. Die Matrix besteht mehr bevorzugt neben der Komponente, die eine Struktur aufweist, die von einer fluorierten Etherverbindung abgeleitet ist, im Wesentlichen aus Siliziumdioxid. „Enthält Siliziumdioxid als die Hauptkomponente“ bedeutet, dass der Anteil von Siliziumdioxid mindestens 90 Massen-% der Matrix (100 Massen-%) beträgt, und „besteht im Wesentlichen aus Siliziumdioxid“ bedeutet, dass die Matrix abgesehen von der Struktur, die von der nachstehend genannten Verbindung (A) abgeleitet ist, und unvermeidbaren Verunreinigungen aus Siliziumdioxid besteht.The matrix of the present invention contains silica as the main component, and further preferably has a small amount of a component having a structure derived from a fluorinated ether compound, whereby the refractive index is relatively low, low reflectance can be obtained, excellent chemical stability is obtained and excellent adhesion to the
Ferner weist die Matrix im Hinblick auf eine hervorragende Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken erfindungsgemäß eine Struktur auf, die von einer fluorierten Etherverbindung abgeleitet ist, die eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette als die Hauptkette und eine hydrolysierbare Silylgruppe an mindestens einem Ende der Hauptkette aufweist, wie es nachstehend beschrieben wird.Further, in view of excellent oil and grease stain removability, according to the present invention, the matrix has a structure derived from a fluorinated ether compound having a poly(oxyperfluoroalkylene) chain as the main chain and a hydrolyzable silyl group at at least one end of the main chain , as described below.
Die Matrix kann z.B. ein gebranntes Produkt aus mindestens einer Matrixvorstufe sein, die aus der Gruppe, bestehend aus den folgenden Matrixvorstufen (a), (b) und (c), ausgewählt ist, mehr bevorzugt ein gebranntes Produkt einer Matrixvorstufe (a) im Hinblick auf eine hervorragende Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken.
- (a) Eine Matrixvorstufe, welche die nachstehend genannte Siliziumdioxid-Vorstufe und die nachstehend genannte fluorierte Etherverbindung enthält.
- (b) Eine Matrixvorstufe, welche die nachstehend genannte Siliziumdioxid-Vorstufe, die nachstehend genannte fluorierte Etherverbindung und ein hydrolysiertes Kondensat von fluorierten Etherverbindungen enthält.
- (c) Eine Matrixvorstufe, welche die nachstehend genannte Siliziumdioxid-Vorstufe, ein hydrolysiertes Kondensat der nachstehend genannten fluorierten Etherverbindungen und ein hydrolysiertes Kondensat einer Siliziumdioxid-Vorstufe (Alkoxysilan) und einer fluorierten Etherverbindung enthält.
- (a) A matrix precursor containing the silica precursor mentioned below and the fluorinated ether compound mentioned below.
- (b) A matrix precursor containing the following silica precursor, the following fluorinated ether compound and a hydrolyzed condensate of fluorinated ether compounds.
- (c) A matrix precursor containing the following silica precursor, a hydrolyzed condensate of the following fluorinated ether compounds, and a hydrolyzed condensate of a silica precursor (alkoxysilane) and a fluorinated ether compound.
Das Material der Hülle der hohlen feinen Teilchen ist SiO2.The shell material of the hollow fine particles is SiO 2 .
Bei der Form der hohlen feinen Teilchen kann es sich z.B. um Kugeln, Ellipsoide, Nadeln, Plättchen, Stäbchen, Kegel, Säulen, Würfel, Quader, Rauten, Sterne oder eine nicht festgelegte Form handeln.The shape of the hollow fine particles may be, for example, sphere, ellipsoid, needle, plate, rod, cone, column, cube, parallelepiped, rhombus, star, or an unspecified shape.
Ferner können bei den hohlen feinen Teilchen die jeweiligen feinen Teilchen unabhängig vorliegen, sie können in einer Kettenform verbunden sein oder sie können agglomeriert sein.Further, in the hollow fine particles, each fine particle may exist independently, may be linked in a chain form, or may be agglomerated.
Die hohlen feinen Teilchen sind erfindungsgemäß hohle feine Siliziumdioxidteilchen, wodurch der Brechungsindex des Films mit geringer Reflexion 14 niedrig ist, ein niedriger Reflexionsgrad erhalten wird, eine hervorragende chemische Stabilität erhalten wird und eine hervorragende Haftung an der Glasplatte 12 erhalten wird.The hollow fine particles are hollow silica fine particles according to the present invention, whereby the refractive index of the
Die durchschnittliche Primärteilchengröße der hohlen feinen Siliziumdioxidteilchen beträgt erfindungsgemäß von 5 bis 150 nm, mehr bevorzugt von 50 bis 100 nm. Da die durchschnittliche Primärteilchengröße der hohlen feinen Siliziumdioxidteilchen mindestens 5 nm beträgt, ist der Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion 14 ausreichend niedrig. Da die durchschnittliche Primärteilchengröße der hohlen feinen Siliziumdioxidteilchen höchstens 150 nm beträgt, kann die Trübung des Films mit geringer Reflexion 14 gering gehalten werden.In the present invention, the average primary particle size of the hollow fine silica particles is from 5 to 150 nm, more preferably from 50 to 100 nm. Since the average primary particle size of the hollow fine silica particles is at least 5 nm, the reflectance of the low-
Die durchschnittliche Primärteilchengröße wird durch zufälliges Auswählen von 100 feinen Teilchen in einem elektronenmikroskopischen Bild, Messen der Teilchengrößen der jeweiligen feinen Teilchen und Erhalten eines Durchschnitts der Teilchengröße der 100 feinen Teilchen erhalten.The average primary particle size is obtained by randomly selecting 100 fine particles in an electron micrograph, measuring the particle sizes of the respective fine particles, and obtaining an average of the particle size of the 100 fine particles.
Der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion 14 innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm beträgt höchstens 1,7 %, vorzugsweise von 0,2 bis 1,7 %, mehr bevorzugt von 0,8 bis 1,1 %, noch mehr bevorzugt von 0,9 bis 1,0 %. Wenn der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion 14 höchstens 1,7 % beträgt, weist die Glasplatte 10, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, einen ausreichend niedrigen Reflexionsgrad auf, der für verschiedene Anzeigen, Fensterscheiben für Automobile, Berührungsbildschirme, usw., erforderlich ist. Wenn der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion 14 höher als 1,7 % ist, können die Eigenschaften einer geringen Reflexion unzureichend sein.The minimum reflectance of the
Der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14 beträgt mindestens 97°, vorzugsweise von 97° bis 121°, mehr bevorzugt von 97° bis 109°, noch mehr bevorzugt von 97° bis 99°.The water contact angle on the surface of the
Der Ölsäurekontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14 beträgt mindestens 50°, vorzugsweise von 50° bis 90°, mehr bevorzugt von 52° bis 87°, noch mehr bevorzugt von 55° bis 85°.The oleic acid contact angle on the surface of the
Der Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14 beträgt höchstens 25°, vorzugsweise von 5° bis 25°, mehr bevorzugt von 5° bis 20°, noch mehr bevorzugt von 6° bis 10°.The oleic acid fall angle on the surface of the
Wenn der Wasserkontaktwinkel, der Ölsäurekontaktwinkel und der Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14 gleichzeitig in den vorstehend genannten Bereichen liegen, wird eine hervorragende Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14 erhalten.When the water contact angle, oleic acid contact angle and oleic acid fall angle on the surface of the
Der Anteil des Elements Fluor auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14, gemessen mittels Röntgenphotoelektronenspektroskopie, beträgt vorzugsweise von 3 bis 20 Atom-%, mehr bevorzugt von 5 bis 18 Atom-%, noch mehr bevorzugt von 5 bis 16 Atom-%. Der Anteil des Elements Fluor auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14 gibt das Ausmaß an, in dem die Struktur, die von einer fluorierten Verbindung (die nachstehend genannte Verbindung (A)) abgeleitet ist, auf der Oberfläche und in deren Umgebung des Films mit geringer Reflexion 14 vorliegt. Wenn der Anteil von Fluoratomen auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14 mindestens 3 Atom-% beträgt, wird die Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken weiter verbessert. Wenn der Anteil des Elements Fluor auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14 höchstens 20 Atom-% beträgt, wird die optische Gestaltung des Films nicht beeinträchtigt und die Eigenschaften einer geringen Reflexion werden aufrechterhalten, was vorteilhaft ist. Da die Röntgenphotoelektronenspektroskopie ein Mittel zum Erfassen von Photoelektronen ist, die aus der Probenoberfläche durch Bestrahlen mit Röntgenstrahlen austreten, stellen die Analyseergebnisse analytische Informationen über die äußerste Schicht bei der erfassbaren Photoelektronenaustrittstiefe dar, insbesondere bei einer Tiefe von etwa mehreren nm bis mehreren zehn nm ausgehend von der äußersten Oberfläche auf der Luftseite des Films mit geringer Reflexion.The content of the fluorine element on the surface of the
Die arithmetische mittlere Rauhigkeit (Ra) der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14, gemessen mittels eines Rastersondenmikroskops, beträgt vorzugsweise von 3,0 bis 5,0 nm, mehr bevorzugt von 3,0 bis 4,5 nm, noch mehr bevorzugt von 3,0 bis 4,0 nm. Eine arithmetische mittlere Rauhigkeit (Ra) der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14 von mindestens 3,0 nm gibt an, dass sehr feine Unregelmäßigkeiten ausgebildet sind und es wahrscheinlich ist, dass das Wasser/Öl-Abweisungsvermögen verbessert ist. Wenn die arithmetische mittlere Rauhigkeit (Ra) der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14 höchstens 5,0 nm beträgt, wird die Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken weiter verbessert.The arithmetic mean roughness (Ra) of the surface of the
Der Brechungsindex des Films mit geringer Reflexion 14 beträgt vorzugsweise von 1,20 bis 1,46, mehr bevorzugt von 1,20 bis 1,40, noch mehr bevorzugt von 1,20 bis 1,35. Wenn der Brechungsindex des Films mit geringer Reflexion 14 mindestens 1,20 beträgt, wird die Porosität des Films mit geringer Reflexion 14 nicht zu hoch sein und die Dauerbeständigkeit wird sich verbessern. Wenn der Brechungsindex des Films mit geringer Reflexion 14 höchstens 1,46 beträgt, wird der Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion 14 ausreichend niedrig sein.The refractive index of the
Um den Brechungsindex n des Films mit geringer Reflexion 14 zu erhalten, wird ein einschichtiger Film mit geringer Reflexion 14 auf der Oberfläche einer Glasplatte 12 gebildet und der Brechungsindex n wird gemäß der folgenden Formel (1) aus dem minimalen Reflexionsgrad (dem sogenannten Basisreflexionsgrad) Rmin des einschichtigen Films mit geringer Reflexion 14 innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm, gemessen mittels eines Spektrophotometers, und dem Brechungsindex ns der Glasplatte 12 berechnet:
Die Dicke des Films mit geringer Reflexion 14 beträgt vorzugsweise von 80 bis 100 nm, mehr bevorzugt von 85 bis 95 nm. Wenn die Dicke des Films mit geringer Reflexion 14 mindestens 80 nm beträgt, wird eine Dauerbeständigkeit des Films mit geringer Reflexion 14 erhalten. The thickness of the
Wenn die Dicke des Films mit geringer Reflexion 14 höchstens 100 nm beträgt, wird abhängig von dem Brechungsindex des zu verwendenden Films die Eigenschaft einer geringen Reflexion als ein einschichtiger Film erhalten.When the thickness of the
Die Dicke des Films mit geringer Reflexion 14 wird von einem Bild des Querschnitts des Films mit geringer Reflexion 14 gemessen, das mit einem Rasterelektronenmikroskop aufgenommen worden ist.The thickness of the
(Verfahren zur Herstellung der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist)(Method of Manufacturing the Glass Plate Provided with Low Reflection Film)
Die Glasplatte 10, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung kann z.B. durch Aufbringen eines Beschichtungsfluids zur Bildung eines Films mit geringer Reflexion 14 auf die Oberfläche einer Glasplatte 12, gegebenenfalls gefolgt von einem Vorwärmen, und schließlich Brennen erzeugt werden.The
Das Beschichtungsfluid ist ein Beschichtungsfluid, das eine Matrixvorstufe, hohle feine Teilchen und ein Lösungsmittel enthält.The coating fluid is a coating fluid containing a matrix precursor, hollow fine particles and a solvent.
Das Beschichtungsfluid kann ein grenzflächenaktives Mittel zur Verbesserung der Verlaufeigenschaften, eine Metallverbindung zur Verbesserung der Dauerbeständigkeit des Films mit geringer Reflexion 14 oder dergleichen enthalten.The coating fluid may contain a surfactant to improve leveling properties, a metal compound to improve durability of the low-
Die Matrixvorstufe enthält eine Siliziumdioxid-Vorstufe und eine fluorierte Etherverbindung und/oder deren hydrolysiertes Kondensat, die eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette als die Hauptkette und eine hydrolysierbare Silylgruppe an mindestens einem Ende der Hauptkette aufweist.The matrix precursor contains a silica precursor and a fluorinated ether compound and/or its hydrolyzed condensate having a poly(oxyperfluoroalkylene) chain as the backbone and a hydrolyzable silyl group at at least one end of the backbone.
Das hydrolysierte Kondensat der fluorierten Etherverbindung kann ein hydrolysiertes Kondensat von fluorierten Etherverbindungen oder ein hydrolysiertes Kondensat eines Alkoxysilans als die Siliziumdioxid-Vorstufe und einer fluorierten Etherverbindung sein.The hydrolyzed condensate of the fluorinated ether compound may be a hydrolyzed condensate of fluorinated ether compounds or a hydrolyzed condensate of an alkoxysilane as the silica precursor and a fluorinated ether compound.
Die Matrixvorstufe kann insbesondere mindestens eine Matrixvorstufe sein, die aus der Gruppe, bestehend aus den folgenden Matrixvorstufen (a), (b) und (c), ausgewählt ist, mehr bevorzugt die Matrixvorstufe (a) im Hinblick auf eine hervorragende Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken des Films mit geringer Reflexion 14.
- (a) Eine Matrixvorstufe, die eine Siliziumdioxid-Vorstufe und eine fluorierte Etherverbindung enthält.
- (b) Eine Matrixvorstufe, die eine Siliziumdioxid-Vorstufe, eine fluorierte Etherverbindung und ein hydrolysiertes Kondensat einer Verbindung (A) enthält.
- (c) Eine Matrixvorstufe, die eine Siliziumdioxid-Vorstufe, ein hydrolysiertes Kondensat von fluorierten Etherverbindungen und ein hydrolysiertes Kondensat einer Siliziumdioxid-Vorstufe (Alkoxysilan) und einer fluorierten Etherverbindung enthält.
- (a) A matrix precursor containing a silica precursor and a fluorinated ether compound.
- (b) A matrix precursor containing a silica precursor, a fluorinated ether compound and a hydrolyzed condensate of a compound (A).
- (c) A matrix precursor containing a silica precursor, a hydrolyzed condensate of fluorinated ether compounds, and a hydrolyzed condensate of a silica precursor (alkoxysilane) and a fluorinated ether compound.
Die Siliziumdioxid-Vorstufe kann z.B. ein Alkoxysilan, ein hydrolysiertes Kondensat (Sol-Gel-Siliziumdioxid) eines Alkoxysilans oder Silazans sein, und es handelt sich im Hinblick auf die Eigenschaften des Films mit geringer Reflexion 14 vorzugsweise um ein hydrolysiertes Kondensat eines Alkoxysilans.The silica precursor may be, for example, an alkoxysilane, a hydrolyzed condensate (sol-gel silica) of an alkoxysilane or silazane, and is preferably a hydrolyzed condensate of an alkoxysilane in view of the properties of the
Das Alkoxysilan kann z.B. ein Tetraalkoxysilan (wie z.B. Tetramethoxysilan, Tetraethoxysilan, Tetrapropoxysilan oder Tetrabutoxysilan), ein Alkoxysilan mit einer Perfluorpolyethergruppe (wie z.B. Perfluorpolyethertriethoxysilan), ein Alkoxysilan mit einer Perfluoralkylgruppe (wie z.B. Perfluorethyltriethoxysilan), ein Alkoxysilan mit einer Vinylgruppe (wie z.B. Vinyltrimethoxysilan oder Vinyltriethoxysilan), ein Alkoxysilan mit einer Epoxygruppe (wie z.B. ein 2-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilan, 3-Glycidoxypropyltrimethoxysilan, 3-Glycidoxypropylmethyldiethoxysilan oder 3-Glycidoxypropyltriethoxysilan) oder ein Alkoxysilan mit einer Acryloyloxygruppe (wie z.B. 3-Acryloyloxypropyltrimethoxysilan) sein.The alkoxysilane may, for example, be a tetraalkoxysilane (such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane or tetrabutoxysilane), an alkoxysilane having a perfluoropolyether group (such as perfluoropolyethertriethoxysilane), an alkoxysilane having a perfluoroalkyl group (such as perfluoroethyltriethoxysilane), an alkoxysilane having a vinyl group (such as vinyltrimethoxysilane or vinyltriethoxysilane), an alkoxysilane having an epoxy group (such as 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane or 3-glycidoxypropyltriethoxysilane) or an alkoxysilane having a be acryloyloxy group (such as 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane).
Die Hydrolyse eines Alkoxysilans wird in dem Fall von Tetraalkoxysilan unter Verwendung von Wasser in einer Menge von mindestens der 4-fachen molaren Menge des Alkoxysilans und einer Säure oder einem Alkali als Katalysator durchgeführt. Die Säure kann eine anorganische Säure (wie z.B. Salpetersäure, Schwefelsäure oder Chlorwasserstoffsäure) oder eine organische Säure (wie z.B. Ameisensäure, Oxalsäure, Monochloressigsäure, Dichloressigsäure oder Trichloressigsäure) sein. Das Alkali kann z.B. Ammoniak, Natriumhydroxid oder Kaliumhydroxid sein. Der Katalysator ist im Hinblick auf die Langzeitlagereigenschaften des hydrolysierten Kondensats des Alkoxysilans vorzugsweise eine Säure. Der Katalysator, der für die Hydrolyse des Alkoxysilans verwendet werden soll, ist vorzugsweise ein Katalysator, der eine Verteilung bzw. Dispersion von hohlen feinen Teilchen nicht verhindert.The hydrolysis of an alkoxysilane, in the case of tetraalkoxysilane, is carried out using water in an amount at least 4 times the molar amount of the alkoxysilane and an acid or an alkali as a catalyst. The acid may be an inorganic acid (such as nitric acid, sulfuric acid or hydrochloric acid) or an organic acid (such as formic acid, oxalic acid, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid or trichloroacetic acid). The alkali can be, for example, ammonia, sodium hydroxide or potassium hydroxide. The catalyst is preferably an acid in view of the long-term storage properties of the hydrolyzed condensate of the alkoxysilane. The catalyst to be used for the hydrolysis of the alkoxysilane is preferably a catalyst which does not prevent dispersion of hollow fine particles.
Die fluorierte Etherverbindung kann eine hydrolysierbare Silylgruppe an einem Ende der Hauptkette aufweisen oder kann eine hydrolysierbare Silylgruppe an beiden Enden der Hauptkette aufweisen. Im Hinblick darauf, einer Schicht mit geringer Reflexion eine ausreichende Abriebbeständigkeit zu verleihen, weist die fluorierte Etherverbindung vorzugsweise eine hydrolysierbare Silylgruppe an nur einem Ende der Hauptkette auf.The fluorinated ether compound may have a hydrolyzable silyl group at one end of the main chain or may have a hydrolyzable silyl group at both ends of the main chain. From the viewpoint of imparting sufficient abrasion resistance to a low-reflection layer, the fluorinated ether compound preferably has a hydrolyzable silyl group at only one end of the main chain.
Die Schicht mit geringer Reflexion ist eine Schicht, die auf der äußersten Oberfläche des Films gebildet wird und es handelt sich um den äußersten Abschnitt des Films, der direkt mit Fingerabdrücken oder Flecken in Kontakt ist.The low reflection layer is a layer formed on the outermost surface of the film, and it is the outermost portion of the film that is directly in contact with fingerprints or smudges.
Die fluorierte Etherverbindung kann eine einzelne Verbindung sein oder es kann sich um ein Gemisch von zwei oder mehr Verbindungen handeln, die sich bezüglich der Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette, der Endgruppe, der Verknüpfungsgruppe oder dergleichen unterscheiden.The fluorinated ether compound may be a single compound or it may be a mixture of two or more compounds differing in poly(oxyperfluoroalkylene) chain, end group, linking group, or the like.
Das Zahlenmittel des Molekulargewichts der fluorierten Etherverbindung beträgt vorzugsweise von 500 bis 10000, mehr bevorzugt von 800 bis 8000. Wenn das Zahlenmittel des Molekulargewichts innerhalb des vorstehend genannten Bereichs liegt, wird eine hervorragende Abriebbeständigkeit erhalten. Im Hinblick auf die Verträglichkeit mit anderen Komponenten, welche die Matrix-Vorstufe bilden, beträgt das Zahlenmittel des Molekulargewichts der Verbindung besonders bevorzugt von 800 bis 2000.The number-average molecular weight of the fluorinated ether compound is preferably from 500 to 10,000, more preferably from 800 to 8000. When the number-average molecular weight is within the above range, excellent abrasion resistance is obtained. In view of compatibility with other components constituting the matrix precursor, the number-average molecular weight of the compound is particularly preferably from 800 to 2,000.
Üblicherweise wird davon ausgegangen, dass die chemische Bindung an ein Substrat umso stärker ist, je niedriger das Zahlenmittel des Molekulargewichts der fluorierten Etherverbindung ist. Es wird davon ausgegangen, dass der Grund dafür darin liegt, dass die Menge von hydrolysierbaren Silylgruppen, die pro Einheitsmolekulargewicht vorliegen, größer ist. Die vorliegenden Erfinder haben jedoch bestätigt, dass es wahrscheinlich ist, dass die Abriebbeständigkeit vermindert wird, wenn das Zahlenmittel des Molekulargewichts unterhalb der Untergrenze des vorstehend genannten Bereichs liegt. Ferner wird dann, wenn das Zahlenmittel des Molekulargewichts die Obergrenze des vorstehend genannten Bereichs übersteigt, die Abriebbeständigkeit vermindert. Es wird davon ausgegangen, dass der Grund dafür darin liegt, dass der Einfluss durch eine Verminderung der Anzahl von hydrolysierbaren Silylgruppen, die pro Einheitsmolekulargewicht vorliegen, signifikant ist.It is commonly believed that the lower the number average molecular weight of the fluorinated ether compound, the stronger the chemical bond to a substrate. This is considered to be because the amount of hydrolyzable silyl groups present per unit molecular weight is larger. However, the present inventors have confirmed that when the number-average molecular weight is below the lower limit of the above range, abrasion resistance is likely to be lowered. Further, when the number-average molecular weight exceeds the upper limit of the above range, abrasion resistance is reduced. This is considered to be because the influence by a reduction in the number of hydrolyzable silyl groups present per unit molecular weight is significant.
Da die fluorierte Etherverbindung eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette aufweist, weist sie einen hohen Fluorgehalt auf. Demgemäß kann mit der fluorierten Etherverbindung eine Schicht mit geringer Reflexion mit einer hohen anfänglichen Wasser/Öl-Abweisung und mit einer hervorragenden Abriebbeständigkeit oder einer hervorragenden Entfernbarkeit von Flecken durch Fingerabdrücke gebildet werden.Since the fluorinated ether compound has a poly(oxyperfluoroalkylene) chain, it has a high fluorine content. Accordingly, with the fluorinated ether compound, a low reflection layer having high initial water/oil repellency and having excellent abrasion resistance or fingerprint stain removability can be formed.
Die hydrolysierbaren Silylgruppen (-SiLmR3-m) in der fluorierten Etherverbindung werden unter Bildung von Silanolgruppen (Si-OH) hydrolysiert und Silanolgruppen werden intermolekular umgesetzt, so dass eine Si-O-Si-Bindung gebildet wird, oder solche Silanolgruppen werden einer Dehydratisierungskondensation mit Hydroxygruppen (Substrat-OH) auf der Oberfläche eines Substrats unterzogen, so dass eine chemische Bindung (Substrat-O-Si) gebildet wird. D.h., die Schicht mit geringer Reflexion in der vorliegenden Erfindung enthält die vorliegende Verbindung in einem Zustand, bei dem einige oder alle hydrolysierbaren Silylgruppen hydrolysiert sind.The hydrolyzable silyl groups (-SiL m R 3-m ) in the fluorinated ether compound are hydrolyzed to form silanol groups (Si-OH), and silanol groups are intermolecularly reacted to form a Si-O-Si bond or become such silanol groups undergoes dehydration condensation with hydroxy groups (substrate-OH) on the surface of a substrate to form a chemical bond (substrate-O-Si). That is, the low reflection layer in the present invention contains the present compound in a state where some or all of the hydrolyzable silyl groups are hydrolyzed.
Die fluorierte Etherverbindung ist eine Verbindung (A).The fluorinated ether compound is a compound (A).
Die Verbindung (A) ist eine Verbindung, die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird:
RF1 ist eine einwertige gesättigte C1-20-Perfluorkohlenwasserstoffgruppe oder eine einwertige gesättigte C2-20-Perfluorkohlenwasserstoffgruppe mit einem Ethersauerstoffatom, das zwischen Kohlenstoffatomen insertiert ist, und sie enthält keine -OCF2O-Struktur.
a ist eine ganze Zahl von 1 bis 200, vorzugsweise eine ganze Zahl von 2 bis 100, mehr bevorzugt eine ganze Zahl von 3 bis 50, noch mehr bevorzugt eine ganze Zahl von 5 bis 25.
b ist 0 oder 1, vorzugsweise 1.
Q liegt nicht vor in einem Fall, wenn b 0 ist, und ist eine zweiwertige oder dreiwertige Verknüpfungsgruppe, wenn b 1 ist.
c ist 1, wenn Q nicht vorliegt oder eine zweiwertige Verknüpfungsgruppe, und ist 2, wenn Q eine dreiwertige Verknüpfungsgruppe ist.
d ist eine ganze Zahl von 2 bis 6.
R ist ein Wasserstoffatom oder eine einwertige Kohlenwasserstoffgruppe.
L ist eine hydrolysierbare Gruppe. Die hydrolysierbare Gruppe ist eine Gruppe, die durch Hydrolyse einer Si-L-Gruppe eine Si-OH-Gruppe bilden kann.
L kann z.B. eine Alkoxygruppe, eine Acyloxygruppe, eine Ketoximgruppe, eine Alkenyloxygruppe, eine Aminogruppe, eine Aminoxygruppe, eine Amidgruppe, eine Isocyanatgruppe oder ein Halogenatom sein und im Hinblick auf eine Ausgewogenheit zwischen der Stabilität der Verbindung (A) und der Hydrolysierbarkeit ist L vorzugsweise eine Alkoxygruppe, eine Isocyanatgruppe oder ein Halogenatom (insbesondere ein Chloratom). Die Alkoxygruppe ist vorzugsweise eine C1-3-Alkoxygruppe, mehr bevorzugt eine Methoxygruppe oder eine Ethoxygruppe. In einem Fall, bei dem zwei oder mehr L-Gruppen in der fluorierten Verbindung vorliegen, können solche L-Gruppen gleich oder verschieden sein und sind im Hinblick auf die Verfügbarkeit vorzugsweise gleich.
p ist eine ganze Zahl von 1 bis 3. Wenn p mindestens 1 ist, wird die Struktur, die von der Verbindung (A) abgeleitet ist, durch Kondensation von Si-OH-Gruppen stark an die Matrix gebunden. p ist vorzugsweise 2 oder 3, besonders bevorzugt 3.The compound (A) is a compound represented by the following formula (A):
R F1 is a C 1-20 monovalent saturated perfluorocarbon group or a C 2-20 monovalent saturated perfluorocarbon group having an ether oxygen atom inserted between carbon atoms and does not contain a -OCF 2 O structure.
a is an integer from 1 to 200, preferably an integer from 2 to 100, more preferably an integer from 3 to 50, even more preferably an integer from 5 to 25.
b is 0 or 1, preferably 1.
Q is absent in a case when b is 0 and is a divalent or trivalent linking group when b is 1.
c is 1 when Q is absent or is a divalent linking group and is 2 when Q is a trivalent linking group.
d is an integer from 2 to 6.
R is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group.
L is a hydrolyzable group. The hydrolyzable group is a group capable of forming a Si-OH group by hydrolysis of a Si-L group.
L may be, for example, an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoxime group, an alkenyloxy group, an amino group, an aminoxy group, an amide group, an isocyanate group or a halogen atom, and in view of a balance between the stability of the compound (A) and the hydrolyzability, L is preferable an alkoxy group, an isocyanate group or a halogen atom (especially a chlorine atom). The alkoxy group is preferably a C 1-3 alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. In a case where there are two or more L groups in the fluorinated compound, such L groups may be the same or different, and are preferably the same in view of availability.
p is an integer of 1 to 3. When p is at least 1, the structure derived from compound (A) is strongly bonded to the matrix by condensation of Si-OH groups. p is preferably 2 or 3, particularly preferably 3.
Die Verbindung (A) ist im Hinblick auf die Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken und die Einfachheit der Herstellung der Verbindung (A) vorzugsweise die folgende Verbindung (A-1) oder die Verbindung (A-2).
In den vorstehenden Formeln ist jeder von a1 und a2 eine ganze Zahl von 5 bis 25.In the above formulas, each of a1 and a2 is an integer of 5 to 25.
Da die Verbindung (A) keine -OCF2O-Struktur aufweist, kann ein Film mit geringer Reflexion 14, der eine hervorragende Beständigkeit gegen eine Schädigung selbst dann aufweist, wenn er in der Gegenwart eines Säurekatalysators Bedingungen einer hohen Temperatur ausgesetzt wird, gebildet werden.Since the compound (A) has no -OCF 2 O structure, a
Ferner ist die (CF2CF2O)a-Struktur der Verbindung (A) eine Alkylenoxy-Struktur, in der eine CF3-Gruppe, welche die Mobilität eines Moleküls vermindert, nicht vorliegt. Demgemäß weisen Moleküle der Verbindung (A) selbst eine hohe Mobilität auf und ein Film mit geringer Reflexion 14, der aus einer Matrix-Vorstufe ausgebildet ist, die eine solche Verbindung (A) enthält, ist ein Film mit einer hervorragenden Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken.Further, the (CF 2 CF 2 O) a structure of the compound (A) is an alkyleneoxy structure in which a CF 3 group which reduces the mobility of a molecule does not exist. Accordingly, molecules of compound (A) themselves have high mobility, and a low-
Das Massenverhältnis (hohle feine Teilchen/SiO2) der hohlen feinen Teilchen zu der Siliziumdioxid-Vorstufe (berechnet als SiO2) in dem Beschichtungsfluid beträgt von 6/4 bis 4/6. Da der Anteil der hohlen feinen Teilchen kleiner als 6/4 ist, neigt die arithmetische mittlere Rauhigkeit (Ra) der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14 dazu, klein zu sein, und die Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken des Films mit geringer Reflexion 14 wird verbessert. Da der Anteil der hohlen feinen Teilchen größer als 4/6 ist, neigt der Brechungsindex des Films mit geringer Reflexion 14 dazu, klein zu sein, und der Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion 14 wird ausreichend niedrig sein.The mass ratio (hollow fine particles/SiO 2 ) of the hollow fine particles to the silica precursor (calculated as SiO 2 ) in the coating fluid is from 6/4 to 4/6. Since the proportion of the hollow fine particles is less than 6/4, the arithmetic mean roughness (Ra) of the surface of the
Der Anteil der fluorierten Etherverbindung in dem Beschichtungsfluid beträgt 0,8 bis 3,0 Massen-%, mehr bevorzugt von 1,0 bis 1,8 Massen-%, bezogen auf die Gesamtmenge (100 Massen-%) der hohlen feinen Teilchen und der Siliziumdioxid-Vorstufe (berechnet als SiO2). Da der Anteil der fluorierten Etherverbindung mindestens 0,8 Massen-% beträgt, wird die Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken weiter verbessert. Wenn der Anteil der fluorierten Etherverbindung höchstens 2,0 Massen-% beträgt, wird z.B. eine Zunahme der Trübung, die aus einer lokalen ungleichmäßigen Verteilung der fluorierten Etherverbindung auf der Filmoberfläche resultiert, nicht auftreten.The proportion of the fluorinated ether compound in the coating fluid is from 0.8 to 3.0% by mass, more preferably from 1.0 to 1.8% by mass based on the total amount (100% by mass) of the hollow fine particles and the Silica precursor (calculated as SiO 2 ). Since the content of the fluorinated ether compound is at least 0.8% by mass, the removability of oil and grease stains is further improved. When the proportion of the fluorinated ether compound is at most 2.0% by mass, for example, an increase in haze resulting from local uneven distribution of the fluorinated ether compound on the film surface will not occur.
Das Lösungsmittel kann das Lösungsmittel einer Lösung der Matrix-Vorstufe oder das Dispersionsmedium einer Dispersion der hohlen feinen Teilchen sein.The solvent may be the solvent of a matrix precursor solution or the dispersion medium of a dispersion of the hollow fine particles.
Das Lösungsmittel einer Lösung eines hydrolysierten Kondensats des Alkoxysilans ist vorzugsweise ein Mischlösungsmittel aus Wasser und einem Alkohol (wie z.B. Methanol, Ethanol, Isopropanol, Butanol oder Diacetonalkohol).The solvent of a hydrolyzed condensate solution of the alkoxysilane is preferably a mixed solvent of water and an alcohol (such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol or diacetone alcohol).
Das Lösungsmittel einer Lösung der fluorierten Etherverbindung ist vorzugsweise ein organisches Lösungsmittel. Das organische Lösungsmittel kann ein organisches Lösungsmittel des Fluor-Typs, ein organisches Lösungsmittel des nicht-Fluor-Typs oder ein Gemisch dieser Lösungsmittel sein. Ein solches Lösungsmittel kann z.B. Methanol oder Ethanol sein.The solvent of a solution of the fluorinated ether compound is preferably an organic solvent. The organic solvent may be a fluorine type organic solvent, a non-fluorine type organic solvent, or a mixture of these solvents. Such a solvent can be, for example, methanol or ethanol.
Das Dispersionsmedium einer Dispersion der hohlen feinen Teilchen kann Wasser, ein Alkohol, ein Keton, ein Ether, ein Cellosolve, ein Ester, ein Glykolether, eine Stickstoffenthaltende Verbindung oder eine Schwefel-enthaltende Verbindung sein.The dispersion medium of a hollow fine particle dispersion may be water, an alcohol, a ketone, an ether, a cellosolve, an ester, a glycol ether, a nitrogen-containing compound or a sulfur-containing compound.
Als ein Verfahren zur Herstellung des Beschichtungsfluids können die folgenden Verfahren (α) bis (γ) genannt werden und bevorzugt ist ein Verfahren (β), bei dem ein Beschichtungsfluid auf die Oberfläche einer Glasplatte 12 aufgebracht wird, die fluorierte Etherverbindung hoch zu der Oberfläche eines Beschichtungsfilms aufschwimmt und die von der fluorierten Etherverbindung abgeleitete Struktur nach dem Brennen ungleichmäßig auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 14 verteilt ist, wodurch eine hervorragende Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken erhalten wird. Ferner wird die Dispersion von hohlen feinen Teilchen vorzugsweise zugesetzt, nachdem eine Lösung der Matrixvorstufe verdünnt worden ist, und zwar im Hinblick auf die Unterdrückung der Agglomeration der hohlen feinen Teilchen.
- (α) Ein Verfahren des Hydrolysierens des Alkoxysilans und der fluorierten Etherverbindung in einer Lösung, gegebenenfalls des Verdünnens der Lösung mit einem Lösungsmittel, und des Hinzufügens einer Dispersion der hohlen feinen Teilchen.
- (β) Ein Verfahren des Hinzufügens einer Lösung der fluorierten Etherverbindung nach der Hydrolyse des Alkoxysilans in einer Lösung (vorzugsweise mindestens zwei Stunden nach der Hydrolyse), gegebenenfalls des Verdünnens der Lösung mit einem Lösungsmittel, und des Hinzufügens einer Dispersion der hohlen feinen Teilchen.
- (γ) Ein Verfahren des Hydrolysierens des Alkoxysilans in einer Lösung, des Verdünnens der Lösung mit einem Lösungsmittel, dann des Hinzufügens einer Lösung der fluorierten Etherverbindung, und des Hinzufügens einer Dispersion der hohlen feinen Teilchen.
- (α) A method of hydrolyzing the alkoxysilane and the fluorinated ether compound in a solution, optionally diluting the solution with a solvent, and adding a dispersion of the hollow fine particles.
- (β) A method of adding a solution of the fluorinated ether compound after hydrolysis of the alkoxysilane in a solution (preferably at least two hours after the hydrolysis), optionally diluting the solution with a solvent, and adding a dispersion of the hollow fine particles.
- (γ) A method of hydrolyzing the alkoxysilane in a solution, diluting the solution with a solvent, then adding a solution of the fluorinated ether compound, and adding a dispersion of the hollow fine particles.
Das Aufbringverfahren kann ein bekanntes Nassaufbringverfahren sein (wie z.B. ein Schleuderbeschichtungsverfahren, ein Sprühbeschichtungsverfahren, ein Tauchbeschichtungsverfahren, ein Düsenbeschichtungsverfahren, ein Vorhangbeschichtungsverfahren, ein Siebbeschichtungsverfahren, ein Tintenstrahlverfahren, ein Flutbeschichtungsverfahren, ein Gravurbeschichtungsverfahren, ein Rakelbeschichtungsverfahren, ein Flexobeschichtungsverfahren, ein Schlitzbeschichtungsverfahren oder ein Walzenbeschichtungsverfahren).The application process may be a known wet application process (such as a spin coating process, a spray coating process, a dip coating process, a die coating process, a curtain coating process, a screen coating process, an ink jet process, a flow coating process, a gravure coating process, a knife coating process, a flexo coating process, a slot coating process or a roll coating process).
Die Aufbringtemperatur beträgt vorzugsweise von Raumtemperatur bis 200 °C, mehr bevorzugt von Raumtemperatur bis 150 °C.The application temperature is preferably from room temperature to 200°C, more preferably from room temperature to 150°C.
Die Brenntemperatur beträgt vorzugsweise mindestens 30 °C, mehr bevorzugt von 100 bis 180 °C, und wird abhängig von dem Material der Glasplatte, der feinen Teilchen oder der Matrix in geeigneter Weise festgelegt.The firing temperature is preferably at least 30°C, more preferably from 100 to 180°C, and appropriately determined depending on the material of the glass plate, the fine particles or the matrix.
Die Brennzeit beträgt vorzugsweise mindestens 3 Minuten, mehr bevorzugt von 10 Minuten bis 60 Minuten, und wird abhängig von dem Material der Glasplatte, der feinen Teilchen oder der Matrix in geeigneter Weise festgelegt.The firing time is preferably at least 3 minutes, more preferably from 10 minutes to 60 minutes, and appropriately determined depending on the material of the glass plate, the fine particles or the matrix.
Die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung ist erfindungsgemäß eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, wobei die Matrix eine Struktur aufweist, die von der fluorierten Etherverbindung abgeleitet ist, und die hohlen feinen Teilchen hohle feine Siliziumdioxidteilchen sind und wobei die fluorierte Etherverbindung eine Verbindung ist, die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird.The glass plate provided with a low reflection film of the present invention is a glass plate provided with a low reflection film comprising a film low-reflection film containing a matrix and hollow fine particles on the surface of a glass plate, the matrix having a structure derived from the fluorinated ether compound, and the hollow fine particles are hollow fine silica particles and the fluorinated Ether compound is a compound represented by the following formula (A).
Die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung wird durch Aufbringen eines Beschichtungsfluids, das eine Matrixvorstufe, hohle feine Teilchen und ein Lösungsmittel enthält, auf die Oberfläche einer Glasplatte hergestellt.The glass plate provided with a low reflection film of the present invention is produced by applying a coating fluid containing a matrix precursor, hollow fine particles and a solvent onto the surface of a glass plate.
D.h., die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung weist auf deren Oberfläche einen Film mit geringer Reflexion auf und der Film mit geringer Reflexion enthält eine Matrixstufe und hohle feine Teilchen. Der Film mit geringer Reflexion wird vorzugsweise durch ein Beschichtungsfluid gebildet, das eine Matrixvorstufe enthält, die eine Siliziumdioxid-Vorstufe und eine fluorierte Etherverbindung und/oder deren hydrolysiertes Kondensat, hohle feine Siliziumdioxidteilchen und ein Lösungsmittel enthält, und ein solches Beschichtungsfluid enthält mehr bevorzugt eine Matrixvorstufe, die ein hydrolysiertes Kondensat eines Alkoxysilans und einer Verbindung (A), die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird, hohle feine Siliziumdioxidteilchen und ein Lösungsmittel enthält, und enthält noch mehr bevorzugt eine Matrixvorstufe, die ein hydrolysiertes Kondensat von Tetraethoxysilan und einer Verbindung (A), die durch die folgende Formel (A) dargestellt wird, hohle feine Siliziumdioxidteilchen und ein Lösungsmittel enthält.
(Funktionseffekt)(functional effect)
Die vorstehend beschriebene Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung ist eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, wobei der minimale Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm höchstens 1,7 % beträgt, der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 97° beträgt, der Ölsäurekontaktwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mindestens 50° beträgt und der Ölsäurefallwinkel auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion höchstens 25° beträgt. Demgemäß ist der Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion ausreichend niedrig und es wird eine vorteilhafte Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken erhalten.The above-described low-reflection film-applied glass plate of the present invention is a low-reflection film-applied glass plate comprising a single-layer low-reflection film containing a matrix and hollow fine particles the surface of a glass plate, where the minimum reflectance of the low reflectance film is 1.7% or less within a wavelength range of 300 to 1200 nm, the water contact angle on the surface of the low reflectance film is at least 97°, the oleic acid contact angle on the surface of the low reflection film is at least 50° and the oleic acid falling angle on the surface of the low reflection film is at most 25°. Accordingly, the reflectance of the low-reflection film is sufficiently low, and favorable oil and grease stain removability is obtained.
Das vorstehend beschriebene Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung umfasst einen Schritt des Aufbringens eines Beschichtungsfluids, das eine Matrixvorstufe, hohle feine Teilchen und ein Lösungsmittel enthält, auf die Oberfläche einer Glasplatte, gefolgt von einem Brennen, wobei die Matrixvorstufe eine Siliziumdioxid-Vorstufe und eine fluorierte Etherverbindung, die eine Poly(oxyperfluoralkylen)-Kette als die Hauptkette aufweist und eine hydrolysierbare Silylgruppe an mindestens einem Ende der Hauptkette aufweist, und/oder deren hydrolysiertes Kondensat enthält, wobei das Massenverhältnis der hohlen feinen Teilchen zu der Siliziumdioxid-Vorstufe (berechnet als SiO2) (hohle feine Teilchen/SiO2) in dem Beschichtungsfluid von 6/4 bis 4/6 beträgt, und der Anteil der fluorierten Etherverbindung in dem Beschichtungsfluid von 0,8 bis 3,0 Massen-% bezogen auf die Gesamtmenge (100 Massen-%) der hohlen feinen Teilchen und der Siliziumdioxid-Vorstufe (berechnet als SiO2) beträgt. Demgemäß ist es möglich, eine Glasplatte zu erzeugen, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der einen ausreichend niedrigen Reflexionsgrad und eine vorteilhafte Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken aufweist, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst.The above-described method for producing a glass plate provided with a low reflection film of the present invention comprises a step of applying a coating fluid containing a matrix precursor, hollow fine particles and a solvent onto the surface of a glass plate, followed by firing, wherein the matrix precursor contains a silica precursor and a fluorinated ether compound having a poly(oxyperfluoroalkylene) chain as the main chain and a hydrolyzable silyl group at at least one end of the main chain, and/or its hydrolyzed condensate, wherein the mass ratio of the hollow fine particles to the silica precursor (calculated as SiO 2 ) (hollow fine particles/SiO 2 ) in the coating fluid is from 6/4 to 4/6, and the ratio of the fluorinated ether compound in the coating fluid is from 0.8 to 0.8 3.0% by mass based on the total amount (100% by mass) of the hollow free n particles and the silica precursor (calculated as SiO 2 ). Accordingly, it is possible to produce a glass plate provided with a low reflection film comprising a single-layer low reflection film having a sufficiently low reflectance and favorable oil and grease stain removability on the surface of a glass plate .
Die vorstehend beschriebene Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung umfasst eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die einen einschichtigen Film mit geringer Reflexion, der eine Matrix und hohle feine Teilchen enthält, auf der Oberfläche einer Glasplatte umfasst, wobei die Glasplatte der vorstehend definierten Glasplatte entspricht. Demgemäß ist der Reflexionsgrad des Films mit geringer Reflexion ausreichend niedrig und es wird eine vorteilhafte Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken erhalten.The display device of the present invention described above comprises a glass panel provided with a low reflection film comprising a single-layer low reflection film containing a matrix and hollow fine particles on the surface of a glass panel, the glass panel of the above defined glass plate corresponds. Accordingly, the reflectance of the low-reflection film is sufficiently low, and favorable oil and grease stain removability is obtained.
BEISPIELEEXAMPLES
Nachstehend wird die vorliegende Erfindung unter Bezugnahme auf Beispiele detaillierter beschrieben.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
Die Beispiele 15 bis 18, 21 bis 23, 26 bis 28, 31 bis 34, 37 bis 42, 45 bis 50, 53 bis 58 und 61 bis 66 sind Beispiele der vorliegenden Erfindung, und die Beispiele 1 bis 14, 19, 20, 24, 25, 29, 30, 35, 36, 43, 44, 51, 52, 59 und 60 sind Vergleichsbeispiele.Examples 15 to 18, 21 to 23, 26 to 28, 31 to 34, 37 to 42, 45 to 50, 53 to 58 and 61 to 66 are examples of the present invention, and Examples 1 to 14, 19, 20, 24, 25, 29, 30, 35, 36, 43, 44, 51, 52, 59 and 60 are comparative examples.
(Lichtreflexionsgrad)(light reflectance)
Der Reflexionsgrad eines Films mit geringer Reflexion wurde durch ein Spektrophotometer (von Hitachi, Ltd., hergestellt, Modell: U-4100) gemessen. Der Lichtreflexionsgrad ist ein Reflexionsgrad, der durch Multiplizieren des Reflexionsgrads bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm durch die Wichtungsfunktion für die Durchschnittsbildung erhalten wird.The reflectance of a low reflection film was measured by a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., Model: U-4100). The light reflectance is a reflectance obtained by multiplying the reflectance at a wavelength of 380 to 780 nm by the weighting function for averaging.
(Minimaler Reflexionsgrad)(Minimum reflectance)
Der Reflexionsgrad eines Films mit geringer Reflexion bei einer Wellenlänge von 300 bis 1200 nm wird durch ein Spektrophotometer (von Hitachi, Ltd., hergestellt, Modell: U-4100) gemessen, so dass ein Minimalwert des Reflexionsgrads erhalten wurde (minimaler Reflexionsgrad).The reflectance of a low-reflectance film at a wavelength of 300 to 1200 nm is measured by a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., Model: U-4100) to obtain a minimum reflectance value (minimum reflectance).
(Trübung)(turbidity)
Die Trübung einer Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, wurde durch eine Trübungsmessvorrichtung (hergestellt von BYK-Gardner, Haze Guard Plus) gemessen.The haze of a glass plate provided with a low reflection film was measured by a haze meter (manufactured by BYK-Gardner, Haze Guard Plus).
(Wasserkontaktwinkel)(water contact angle)
Etwa 48 µl destilliertes Wasser wurden auf drei Abschnitten auf der Oberfläche eines Films mit geringer Reflexion aufgebracht und die jeweiligen Wasserkontaktwinkel wurden durch ein Kontaktwinkelmessgerät (von Kyowa Interface Science Co., Ltd., hergestellt, FAMAS) gemessen und der Durchschnitt der drei Werte wurde erhalten.About 48 µl of distilled water was applied to three sections on the surface of a low-reflection film, and the respective water contact angles were measured by a contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., FAMAS) and the average of the three values was obtained .
(Ölsäurekontaktwinkel)(oleic acid contact angle)
Etwa 48 µl Ölsäure wurden auf drei Abschnitten auf der Oberfläche eines Films mit geringer Reflexion aufgebracht und die jeweiligen Ölsäurekontaktwinkel wurden durch ein Kontaktwinkelmessgerät (von Kyowa Interface Science Co., Ltd., hergestellt, FACE SLIDING ANGLE METER) gemessen und der Durchschnitt der drei Werte wurde erhalten.About 48 µl of oleic acid was applied to three sections on the surface of a low-reflection film, and the respective oleic acid contact angles were measured by a contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., FACE SLIDING ANGLE METER) and the average of the three values has been received.
(Ölsäurefallwinkel)(Oleic Acid Fall Angle)
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde horizontal gehalten, etwa 48 µl Ölsäure wurden auf die Oberfläche des Films mit geringer Reflexion getropft und die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde allmählich geneigt und der Winkel (Fallwinkel) der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, zur horizontalen Ebene, wenn die Ölsäure nach unten zu fallen begann, wurde gemessen. Bezüglich des Messergebnisses steht „Messung unmöglich“ für einen Zustand, bei dem sich Ölsäure auf einem Substrat ausbreitet, und keine Bewegung der Ölsäure festgestellt wurde, selbst wenn die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, geneigt wurde.A glass plate provided with a low reflection film was held horizontally, about 48 µl of oleic acid was dropped on the surface of the low reflection film, and the glass plate provided with a low reflection film was gradually tilted and the Angle (angle of fall) of the glass plate provided with a low reflection film to the horizontal plane when the oleic acid started to fall down was measured. Regarding the measurement result, “measurement impossible” represents a state where oleic acid spreads on a substrate and no movement of oleic acid was detected even when the glass plate provided with a low reflection film was tilted.
(Anteil des Elements Fluor)(percentage of the element fluorine)
Bezüglich drei Glasplatten, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen sind, in den Beispielen 11, 23 und 35 wurde der Anteil des Elements Fluor auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mit einem Röntgenphotoelektronenspektrometer (von ULVAC-PHI, Inc., hergestellt, Quantera SXM) erhalten. Aus den Messergebnissen an drei Punkten wurde eine analytische Kurve des Anteils des Elements Fluor auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion bezogen auf den Anteil der Verbindung (A) in einem Beschichtungsfluid erstellt. Bezüglich Glasplatten, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen sind, in von den Beispielen 11, 23 und 35 verschiedenen Beispielen wurde der Anteil der Fluoratome auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion aus dem Anteil der Verbindung (A) in einem Beschichtungsfluid unter Verwendung der analytischen Kurve bestimmt.With respect to three glass plates provided with a low-reflection film in Examples 11, 23 and 35, the content of the fluorine element on the surface of the low-reflection film was measured with an X-ray photoelectron spectrometer (manufactured by ULVAC-PHI, Inc., Quantera SXM). From the measurement results at three points, an analytical curve was prepared of the content of the element fluorine on the surface of the low reflection film with respect to the content of the compound (A) in a coating fluid. Regarding glass plates provided with a low reflection film, in Examples different from Examples 11, 23 and 35, the proportion of fluorine atoms on the surface of the low reflection film was determined from the proportion of the compound (A) in a coating fluid using the analytical curve.
(Arithmetische mittlere Rauhigkeit)(arithmetic mean roughness)
Die arithmetische mittlere Rauhigkeit (Ra) der Oberfläche eines Films mit geringer Reflexion wurde durch ein Rastersondenmikroskop (hergestellt von SII Nanotechnology, SPA400DFM) gemessen.The arithmetic mean roughness (Ra) of the surface of a low reflection film was measured by a scanning probe microscope (manufactured by SII Nanotechnology, SPA400DFM).
(Brechungsindex)(refractive index)
Der Brechungsindex n eines Films mit geringer Reflexion wurde gemäß der folgenden Formel (1) aus dem minimalen Reflexionsgrad Rmin innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 300 bis 1200 nm, gemessen bezüglich eines einschichtigen Films mit geringer Reflexion durch ein Spektrophotometer, und dem Brechungsindex ns einer Glasplatte berechnet.
(Haftung von Öl- und Fettflecken)(Adhesion of oil and grease stains)
Auf der Oberfläche eines Films mit geringer Reflexion wurde unter Verwendung eines Markierungsstifts auf Ölbasis (von ZEBRA CO., LTD. hergestellt, Mckee (eingetragene Marke)) eine gerade Linie (Gerade) aufgezeichnet und eine Bewertung wurde auf der Basis der folgenden Standards durchgeführt.
- A: Die gesamte Linie wurde zu Tröpfchen ausgebildet und konnte überhaupt nicht deutlich gezeichnet werden.
- B: Ein Teil der Linie wurde zu Tröpfchen ausgebildet, war jedoch als Linie erkennbar.
- C: Die Linie konnte aufgezeichnet werden und war deutlich als Linie erkennbar.
- A: The entire line was formed into droplets and could not be drawn clearly at all.
- B: A part of the line was formed into droplets but was recognized as a line.
- C: The line could be recorded and was clearly recognized as a line.
(Entfernbarkeit von Öl- und Fettflecken)(removability of oil and grease stains)
Nach der Bewertung der Haftung von Öl- und Fettflecken wurde die Tinte auf Ölbasis auf der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion mit einem Kimwipe abgewischt und eine Bewertung wurde auf der Basis der folgenden Standards durchgeführt.
- A: Die Tinte auf Ölbasis wurde durch nur dreimaliges Reiben vollständig entfernt.
- B: Die Tinte auf Ölbasis wurde durch zehnmaliges Reiben im Wesentlichen entfernt, jedoch blieb eine Spur davon zurück.
- C: Die Farbe der Tinte auf Ölbasis verblasste durch 30-maliges Reiben geringfügig, jedoch wurde die Tinte kaum entfernt.
- D: Die Farbe der Tinte auf Ölbasis verblasste durch 100-maliges Reiben, jedoch wurde die Tinte kaum entfernt.
- E: Die Farbe der Tinte auf Ölbasis veränderte sich selbst durch 100-maliges Reiben überhaupt nicht.
- A: The oil-based ink was completely removed with just three rubs.
- B: The oil-based ink was substantially removed by rubbing 10 times, but a trace remained.
- C: The color of the oil-based ink slightly faded by rubbing 30 times, but the ink was hardly removed.
- D: The color of the oil-based ink faded by rubbing 100 times, but the ink was hardly removed.
- E: The color of the oil-based ink did not change at all even after rubbing 100 times.
(Glasplatte)(glass plate)
Als Glasplatte wurde ein Kalknatronglas (von Asahi Glass Company, Limited, hergestellt, Größe: 100 mm × 100 mm, Dicke: 3,2 mm, Brechungsindex: 1,52, Durchlässigkeit für sichtbares Licht: 90,4 %) bereitgestellt.As a glass plate, a soda-lime glass (manufactured by Asahi Glass Company, Limited, size: 100 mm × 100 mm, thickness: 3.2 mm, refractive index: 1.52, visible light transmittance: 90.4%) was provided.
(Verbindung (A))(Compound (A))
Als Verbindung (A) wurde die Verbindung (A-1) hergestellt.As compound (A), compound (A-1) was prepared.
Die Verbindung (A-1) wurde gemäß dem Verfahren hergestellt, das in den Beispielen 1 und 2 von
(Alkoxysilan)(alkoxysilane)
Als Alkoxysilan wurde eine Lösung (hergestellt von Junsei Chemical Co., Ltd., Feststoffgehaltkonzentration berechnet als SiO2: 5 Massen-%, Isopropylalkohol: 30 Massen-%, 2-Butanol: 25 Massen-%, Ethanol: 8 Massen-%, Diacetonalkohol: 15 Massen-%, Methanol: 17 Massen-%) von Tetraethoxysilan (nachstehend als TEOS bezeichnet) bereitgestellt.As the alkoxysilane, a solution (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd., solid content concentration calculated as SiO 2 : 5% by mass, isopropyl alcohol: 30% by mass, 2-butanol: 25% by mass, ethanol: 8% by mass, Diacetone alcohol: 15% by mass, methanol: 17% by mass of tetraethoxysilane (hereinafter referred to as TEOS).
(Hohle feine Teilchen)(hollow fine particles)
Als hohle feine Teilchen wurden die folgenden Teilchen bereitgestellt:
- Dispersion von hohlen feinen Siliziumdioxidteilchen (C-1): Hergestellt von Asahi Glass Company, Limited, Sol von hohlen Teilchen, Feststoffgehaltkonzentration berechnet als SiO2: 20 Massen-%, durchschnittliche Primärteilchengröße: 10 nm, Wasser: 40 Massen-%, Alkohol: 40 Massen-%.
- Dispersion von hohlen feinen Siliziumdioxidteilchen (C-2): Hergestellt von JGC Catalysts and Chemicals Ltd., Sol von hohlen Teilchen, Feststoffgehaltkonzentration berechnet als SiO2: 20 Massen-%, durchschnittliche Primärteilchengröße: 20 nm, Alkohol: 80 Massen-%.
- Dispersion of hollow silica fine particles (C-1): Manufactured by Asahi Glass Company, Limited, Sol of hollow particles, solid content concentration calculated as SiO 2 : 20% by mass, average primary particle size: 10 nm, water: 40% by mass, alcohol: 40% by mass.
- Dispersion of hollow silica fine particles (C-2): Manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Ltd. Hollow particle sol Solid content concentration calculated as SiO 2 : 20% by mass, Average primary particle size: 20 nm, Alcohol: 80% by mass.
[Beispiel 1][Example 1]
0,02 g einer wässrigen 8 mol/L Salpetersäurelösung wurden 10 g der Lösung von TEOS zugesetzt, worauf für 2 Stunden gerührt wurde, so dass eine Lösung eines hydrolysierten Kondensats von TEOS erhalten wurde.0.02 g of an aqueous 8 mol/L nitric acid solution was added to 10 g of the solution of TEOS, followed by stirring for 2 hours, so that a solution of a hydrolyzed condensate of TEOS was obtained.
Der Lösung eines hydrolysierten Kondensats von TEOS wurden 0,005 g der Lösung der Verbindung (A-1) zugesetzt, worauf 15 Minuten gerührt wurde, und 12 g eines Mischlösungsmittels (Isopropylalkohol: 30 Massen-%, 2-Butanol: 25 Massen-%, Ethanol: 8 Massen-%, Diacetonalkohol: 15 Massen-%, Ethanol: 17 Massen-%) wurden zugesetzt, worauf für 120 Minuten gerührt wurde, so dass eine Lösung einer Matrix-Vorstufe erhalten wurde.To the solution of a hydrolyzed condensate of TEOS were added 0.005 g of the compound (A-1) solution, followed by stirring for 15 minutes, and 12 g of a mixed solvent (isopropyl alcohol: 30% by mass, 2-butanol: 25% by mass, ethanol : 8% by mass, diacetone alcohol: 15% by mass, ethanol: 17% by mass were added, followed by stirring for 120 minutes, so that a matrix precursor solution was obtained.
Der Lösung einer Matrix-Vorstufe wurden 6 g der Dispersion von hohlen feinen Siliziumdioxidteilchen (C-1) zugesetzt, worauf für 15 Minuten gerührt wurde, so dass ein Beschichtungsfluid erhalten wurde. Die Zusammensetzung des Beschichtungsfluids ist in der Tabelle 1 gezeigt.To the matrix precursor solution was added 6 g of the dispersion of hollow silica fine particles (C-1), followed by stirring for 15 minutes so that a coating fluid was obtained. The composition of the coating fluid is shown in Table 1.
Das Beschichtungsfluid wurde auf die Oberfläche der Glasplatte durch Schleuderbeschichten (180 U/min, 60 Sekunden) aufgebracht und für 30 Minuten bei 150 °C gebrannt, so dass eine Glasplatte erhalten wurde, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war. Die Ergebnisse der Bewertung der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, sind in der Tabelle 2 gezeigt.The coating fluid was applied onto the surface of the glass plate by spin coating (180 rpm, 60 seconds) and baked at 150°C for 30 minutes to obtain a glass plate provided with a low reflection film. The results of evaluation of the glass plate provided with a low reflection film are shown in Table 2.
[Beispiel 2][Example 2]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 erhalten, jedoch wurde die Drehzahl des Schleuderbeschichtens von 180 U/min auf 250 U/min geändert. Die Zusammensetzung des Beschichtungsfluids ist in der Tabelle 1 gezeigt. Die Ergebnisse der Bewertung der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, sind in der Tabelle 2 gezeigt.A glass plate provided with a low reflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the spin coating speed was changed from 180 rpm to 250 rpm. The composition of the coating fluid is shown in Table 1. The results of evaluation of the glass plate provided with a low reflection film are shown in Table 2.
[Beispiele 3 bis 12][Examples 3 to 12]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 oder 2 erhalten, jedoch wurde die Zusammensetzung des Beschichtungsfluids so geändert, wie es in der Tabelle 1 gezeigt ist. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 2 gezeigt. [Tabelle 1]
[Beispiele 13 bis 23][Examples 13 to 23]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 1 bis 12 erhalten, jedoch wurde der Anteil der Verbindung (A-1) so geändert, wie es in der Tabelle 3 gezeigt ist. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 4 gezeigt. [Tabelle 3]
[Beispiele 24 bis 34][Examples 24 to 34]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 1 bis 12 erhalten, jedoch wurde der Anteil der Verbindung (A-1) so geändert, wie es in der Tabelle 5 gezeigt ist. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 6 gezeigt. [Tabelle 5]
[Beispiele 35 bis 42][Examples 35 to 42]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 1 bis 12 erhalten, jedoch wurde die Zusammensetzung des Beschichtungsfluids so geändert, wie es in der Tabelle 7 gezeigt ist, und der Zeitpunkt der Zugabe der Verbindung (A-1) wurde so geändert, dass er vor der Hydrolyse von TEOS lag. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 8 gezeigt.A glass plate provided with a low reflection film was obtained in the same manner as in Examples 1 to 12, except that the composition of the coating fluid was changed as shown in Table 7 and the timing of addition of compound (A-1) was changed to be before hydrolysis of TEOS. Each glass plate provided with a low reflection film was evaluated. The results are shown in Table 8.
[Beispiele 43 bis 50][Examples 43 to 50]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 35 bis 42 erhalten, jedoch wurde der Zeitpunkt der Zugabe der Verbindung (A-1) so geändert, dass er 1 Stunde nach der Hydrolyse von TEOS lag. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 8 gezeigt. [Tabelle 7]
[Beispiele 51 bis 58][Examples 51 to 58]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 35 bis 42 erhalten, jedoch wurde der Zeitpunkt der Zugabe der Verbindung (A-1) so geändert, dass er 2 Stunden nach der Hydrolyse von TEOS lag. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 10 gezeigt.A glass plate provided with a low reflection film was obtained in the same manner as in Examples 35 to 42 except that the timing of adding the compound (A-1) was changed to be 2 hours after the hydrolysis from TEOS. Each glass plate provided with a low reflection film was evaluated. The results are shown in Table 10.
[Beispiele 59 bis 66][Examples 59 to 66]
Eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 35 bis 42 erhalten, jedoch wurde der Zeitpunkt der Zugabe der Verbindung (A-1) so geändert, dass er 2 Stunden nach der Hydrolyse von TEOS und nach der Verdünnung mit dem Lösungsmittel lag. Jede Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen war, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 10 gezeigt. [Tabelle 9]
Eine rasterelektronenmikroskopische Photographie eines Querschnitts der Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, des Beispiels 37 ist in der
Die Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, der vorliegenden Erfindung und eine Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen ist, die mit dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Erfindung erhalten worden ist, sind als Glasplatte zur Verwendung für verschiedene Anzeigen, Fensterscheiben für Automobile, Berührungsbildschirme, usw., geeignet.The glass plate provided with a low reflection film of the present invention and a glass plate provided with a low reflection film obtained by the manufacturing method of the present invention are useful as a glass plate used for various displays, automobile windowpanes, touch screens, etc.
Die Anzeigevorrichtung der vorliegenden Erfindung ist z.B. für verschiedene Fernsehgeräte, Berührungsbildschirme, Mobiltelefone, tragbare Informationsendgeräte, usw., geeignet.The display device of the present invention is suitable for various televisions, touch screens, cellular phones, portable information terminals, etc., for example.
BezugszeichenlisteReference List
- 1010
- Glasplatte, die mit einem Film mit geringer Reflexion versehen istGlass plate coated with a low reflection film
- 1212
- Glasplatteglass plate
- 1414
- Film mit geringer ReflexionLow reflection film
- 100100
- Anzeigevorrichtungdisplay device
- 2020
- Anzeigeelementdisplay element
- 3030
- GehäuseHousing
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