DE10358937A1 - Grid panel, for large visible surface areas, is composed of micro-structured diffraction units to give a two-dimensional diffraction of light rays for a variety of design effects - Google Patents

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Abstract

The grid is composed of a number of micro-structured diffraction units (12), assembled in a panel (15). They give a two-dimensional diffraction of light rays, through separate bodies on a common surface with gaps between them to act as light scatter centers. The panel surface is covered by the thin-film diffraction elements using lithography.

Description

STAND DER TECHNIKSTATE OF TECHNOLOGY

Die vorliegende Erfindung betrifft Mikro- und Nanostrukturtechnologien und insbesondere Gitteranordnungen für zweidimensionale optische Gitter.The The present invention relates to micro and nanostructure technologies and in particular grating arrangements for two-dimensional optical Grid.

Eindimensionale optische Gitter sind derzeit im wesentlichen nur zum Einbau in Spektrometer für den Bereich der Spektralanalyse bekannt. Sie habe echte zweidimensionale Ausmaße, etwa in Form eines Rechtecks im Bereich von bis zu 20 cm Kantenlänge und bestehen aus hochwertigen Materialien, wobei die Gitterstruktur eine Gitterperiode aufweist, die in der derselben Größenordnung wie die zugehörige Lichtwellenlänge liegt. Das Gitter entsteht meist durch feines, sequentielles Ritzen mittels Diamantspitzen, um Furchen in einem geeigneten Vollmaterial hinein zu generieren. Es liegt dabei eine periodische Anordnung von vielen rechteckförmigen Linien der Maße b1 und b2 vor. Da bei diesen Gittern b1 >> b2 gilt, bezeichnet man diese als eindimensional.dimensional Optical grids are currently essentially only for incorporation into spectrometers for the Area of spectral analysis known. You have real two-dimensional proportions, approximately in the form of a rectangle in the range of up to 20 cm edge length and are made of high quality materials, with the lattice structure has a grating period which is of the same order of magnitude like the associated one Light wavelength lies. The grid is usually created by fine, sequential scribing using diamond tips, around furrows in a suitable solid material into it. There is a periodic arrangement of many rectangular ones Lines of measurements b1 and b2 before. Because with these grids b1 >> b2 applies, they are called one-dimensional.

Die Beugungseffekte, die man am Gitter erzielen kann, sind bekannt. Sie beruhen auf der Überlagerung von Elementarstrahlen, die durch Streuung oder Beugung (Streuung, Reflexion und partielle Transmission) an Strukturelementenden Hindernissen, die hiernach folgend auch als Streu- oder Mesa-Beugungskörper bezeichnet werden, erfolgt. Man kann interessant aussehende Interferenzmuster erzeugen.The Diffraction effects that can be achieved on the grid are known. They are based on the overlay of elementary rays scattered or diffracted (scattering, Reflection and partial transmission) at structural element ends obstacles, hereafter referred to as a stray or mesa diffractive body be done. You can get interesting-looking interference patterns produce.

Im Fall zweidimensionaler Gitter, also wenn b1 und b2 in derselben Größenordnung zueinander und der Größenordnung der Lichtwellenlänge liegen, wird das Licht in den gesamten Halbraum gebeugt. Dies wird theoretisch beispielsweise in Pedrotti, „Optik, eine Einführung", Prentice Hall 1996, S. 479 ff, diskutiert. Eine „kreuzartig zweidimensionale" Figur entsteht als Beugungsbild, anstelle einer „linienartigen eindimensionalen" Figur bei Verwendung eines eindimensionalen Gitters.in the Case of two-dimensional lattice, so if b1 and b2 in the same Magnitude to each other and the order of magnitude the wavelength of light lie, the light is diffracted throughout the half space. this will theoretically for example in Pedrotti, "Optics, an Introduction", Prentice Hall 1996, P. 479 ff., Discussed. A "cruciform two-dimensional figure arises as a diffraction image, instead of a "line-like one-dimensional" figure in use a one-dimensional grid.

Weiter sind zweidimensionale Gitter bekannt, die willkürliche Formen als Beugungselemente anstelle der oben genannten Gitterstege (Rippen) und Furchen (Gittergräben) haben. Eine besondere Ausgestaltung, sind dabei Hologramme, bei denen die Gitteranordnungen so gestaltet sind, dass deren Fouriertransformation ein gewünschtes Bild mit Wiedererkennungswert für das menschliche Auge hat, siehe etwa die Hologramme auf Geldscheinen.Further For example, two-dimensional lattices are known which have arbitrary shapes as diffraction elements instead of the above grid bars (ribs) and furrows (grid trenches) have. A special embodiment, are holograms in which the Grid arrangements are designed so that their Fourier transform a desired one Image with recognition value for the human eye has, see about the holograms on bills.

Diese zweidimensionalen optischen Gitter werden insbesondere dann, wenn sie nicht nur parallele Linienstrukturen als Beugungszentren, sondern eine zweidimensionale Matrix aus einzelnen punkthaften Beugungszentren besitzen, zweckmäßigerweise mit lithographischen Verfahren und entsprechender Dünnschichttechnologie hergestellt.These Two-dimensional optical gratings are used in particular when They not only parallel line structures as diffraction centers, but one two-dimensional matrix of individual point-like diffraction centers possess, suitably with lithographic processes and appropriate thin-film technology produced.

Nachteilig an diesen Anordnungen ist, dass sie im Stand der Technik nur relativ kleinräumig hergestellt werden, etwa in Form von experimentell bei Spektroskopen verwendeten Gittern im Bereich bis etwa 20 cm mal 20 cm, oder in Form von Hologrammen im Bereich bis zu etwa 1 × 1 Quadratmeter ( 1 m2). Damit reduzieren sich die ästhetisch durchaus ansprechenden Beugungserscheinungen wie polychrome Interferenzmuster auf kleinere Bereiche.A disadvantage of these arrangements is that they are produced in the prior art only relatively small-scale, such as in the form of lattice experimentally used in spectroscopes in the range up to about 20 cm by 20 cm, or in the form of holograms in the range up to about 1 × 1 Square meters (1 m 2 ). This reduces the aesthetically pleasing diffraction phenomena such as polychrome interference patterns to smaller areas.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, solche Anordnungen diffraktiver Elemente, im folgenden kurz als „Gitteranordnungen" oder „Gitter" bezeichnet, völlig anders einzusetzen.task Therefore, it is the object of the present invention to make such arrangements more diffractive Elements, hereafter referred to as "grid arrangements" or "grid", are completely different use.

VORTEILE DER ERFINDUNGADVANTAGES OF INVENTION

Der Gegenstand mit den Merkmalen des Anspruchs 1 löst diese Aufgabe.Of the The subject matter with the features of claim 1 solves this problem.

In den Unteransprüchen finden sich vorteilhafte Weiterbildungen und Verbesserungen des jeweiligen Gegenstandes der Erfindung.In the dependent claims find advantageous developments and improvements of respective subject of the invention.

Die vorliegende Erfindung beruht auf der grundliegenden Erkenntnis, dass ein zweidimensionales Gitter mit beliebigen Anordnungen und Mustern von Beugungszentren beispielsweise auf lithographischem Weg auch großflächig hergestellt werden kann.The present invention is based on the basic knowledge, that a two-dimensional grid with arbitrary arrangements and Patterns of diffraction centers, for example, on lithographic Way made also large area can be.

Der Begriff Gitter ist für die Zwecke der vorliegenden Erfindung in einer allgemeinen Form verwendet, welche die vier Gittertypen (Phasentransmissionsgitter, Phasenreflexionsgitter, Amplitudentransmissionsgitter und Amplitudenreflexionsgitter) einschließt, sowie beliebige Variationen der lateralen Ausdehnung der Mesa (Berge, Stege) und der Mesazwischenräume (Täler, Furchen, Gräben). Es ist also ein Gitter mit lateral beliebig variierender Periode und Tastverhältnis gemeint.Of the Term grid is for the purposes of the present invention in a general form using the four types of lattice (phase transmission grating, Phase reflection grating, amplitude transmission grating and amplitude reflection grating), as well as any variations of the lateral extent of the mesa (mountains, Footbridges) and the Mesazwischenräume (Valleys, Furrows, trenches). It is therefore a lattice with laterally varying periods and duty cycle meant.

Gemäß dem Hauptaspekt der vorliegenden Erfindung wird eine neue Verwendung einer zweidimensional aufgebauten, optisch wirkenden Vorrichtung in Form eines Gitters offenbart, mit einer Mehrzahl von mit einer gemeinsamen Grundträgerfläche verbundenen Einzelkörpern, wobei die Einzelkörper so gestaltet, angeordnet und zueinander beabstandet sind, dass sie als Beugungszentren für Lichtstrahlen wirken, und wobei die Einzelkörper Strukturelemente aus einem Dünnschichtherstellungsprozess sind, die dadurch gekennzeichnet ist, dass sie eine gezielt lateral strukturierte Anordnung von zahlreichen, diffraktiven Elementen darstellt, und zur Gestaltung von großen Flächen durch großflächige Beugungsmuster verwendet wird.According to the main aspect In the present invention, a new use of a two-dimensional constructed, optically acting device in the form of a grid disclosed with a plurality of connected to a common base support surface Individual bodies, whereby the single bodies so are designed, arranged and spaced from each other that they as diffraction centers for Light rays act, and wherein the single body structural elements of a Thin-film manufacturing process which is characterized by being a targeted lateral structured arrangement of numerous, diffractive elements represents, and for the design of large areas by large-scale diffraction patterns is used.

Besonders vorteilhaft ist daher eine Verwendung, bei der diese Vorrichtung als Bauelement bei einer Bautätigkeit zur Errichtung oder Renovierung von Gebäudefassaden eingesetzt wird, oder bei der mobile Systeme mit relativ großen, sichtbaren Flächen erfindungsgemäß ausgestattet werden, etwa die Karosserieflächen von Kraftfahrzeugen (PKW, LKW incl. Anhängern, Busse, Bahnen), oder die großen Flächen von Flugzeugen.Especially therefore advantageous is a use in which this device as a component in a construction activity used for the construction or renovation of building facades, or equipped in the mobile systems with relatively large, visible surfaces according to the invention be, such as the body surfaces of motor vehicles (cars, trucks incl. trailers, buses, trains), or the big ones surfaces of aircraft.

Weiter wird vorgeschlagen, diese Anordnung mit Gitterwirkung als modulweise replizierbares, flächenhaftes, architektonisch verwendbares Bauelement mit geeigneter Schutzabdeckung gegen die Witterungseinflüsse herzustellen. Damit lassen sich dann weite Fassadenflächen bestücken. Dazu enthält die erfindungsgemäße Vorrichtung Verbindungselemente, mit denen sie mit anderen Vorrichtungen der gleichen Art randseitig zu einem Panel-Bauelement verbunden werden kann. Dafür kommen bspw. Steckbare Rastungen, andere verriegelbare Steckverbindungen oder andere, im Stand der Technik bekannte Verbindungselemente wie etwa einrastende, in Frage. Ein Panel zur Abdeckung einer Fläche von einem Quadratmeter besteht beispielsweise aus einer zusammengesetzten Anordnung aus einer 10 × 10 Matrix aus erfindungsgemäßen Beugungsvorrichtungen, die jeweils quadratische Gestalt haben mit einer Kantenlänge von 10 cm.Further It is proposed that this arrangement with grid effect as a module replicable, areal, architecturally usable component with suitable protective cover against the weather manufacture. This can then be used to equip wide façade surfaces. To contains the device according to the invention Connecting elements with which they are compatible with other devices same type edge to be connected to a panel component can. Therefore come, for example. Plug-in detents, other lockable connectors or other known in the art connecting elements such as about latching, in question. A panel to cover an area of one Square meters, for example, consists of a compound Arrangement of a 10 × 10 Matrix of diffraction devices according to the invention, each having a square shape with an edge length of 10 centimeters.

Wenn dabei noch preisgünstige Ausgangsstoffe und Rohmaterialien verwendet werden, ist damit der Weg frei für ein preisgünstig herstellbares Massenprodukt, das architektonisch vorteilhaft eingesetzt werden kann, um damit interessante Beugungsmuster zu erzielen oder bei langsamer Änderung des Betrachtungswinkels schöne Farbeffekte großflächig erkennen zu können.If while still inexpensive Starting materials and raw materials are used, is thus the Way for free a cheap producible mass product that used architecturally advantageous can be used to achieve interesting diffraction patterns or at slow change the viewing angle beautiful Detect color effects over a large area to be able to.

Einem vorteilhaften Aspekt der vorliegenden Erfindung folgend werden sogenannte Billigmaterialien zur Herstellung der Gitter verwendet, wobei:

  • a) das Material für die Grundträgerfläche vorgewählt ist aus der Gruppe: organische oder anorganische Gläser, Kunststoffe, insbesondere Polymere, Metalle,
  • b1) das Material für die Einzelkörper so gewählt ist, dass es allgemein als ätzbare Schicht oder als Opferschicht in einem Ätzprozess selektiv zu einem der vorgewählten Materialien geeignet ist, oder
  • b2) das Material für die Einzelkörper so gewählt ist, dass es selektives Wachstum erlaubt, insbesondere durch Anwenden von Galvanik in tiefenlithographisch geformtem Polymethylmethacrylat (PMMA).
According to an advantageous aspect of the present invention, so-called cheap materials are used to make the grids, wherein:
  • a) the material for the base support surface is selected from the group: organic or inorganic glasses, plastics, in particular polymers, metals,
  • b1) the material for the individual bodies is chosen such that it is generally suitable as an etchable layer or as a sacrificial layer in an etching process selective to one of the preselected materials, or
  • b2) the material for the individual bodies is chosen so that it allows selective growth, in particular by applying electroplating in deep lithographic molded polymethyl methacrylate (PMMA).

Wenn die Einzelkörper der erfindungsgemäßen Vorrichtung in regelmässiger Matrixform aus parallelen Zeilen und parallelen Spalten angeordnet sind, erleichtert sich deren Herstellung und Ansteuerung.If the single bodies the device according to the invention in regular Matrix form of parallel rows and parallel columns are arranged, facilitates their production and control.

Vorteilhaft können die Materialen für die Grundträgerflächen, auf denen eine jeweilige Vielzahl von Einzelkörpern steht, durch Wahl bspw. von Glas, Plexiglas, Kunststoffen, insbesondere Polymeren, tatsächlich so gewählt werden, dass zumindest der Materialwert der Grundträgerfläche eines Moduls mit einer Kantenlänge bspw. von knapp 25 cm sehr niedrig liegt.Advantageous can the materials for the basic support surfaces, on which is a respective plurality of individual bodies, by choice eg. of glass, Plexiglas, plastics, especially polymers, in fact so chosen be that at least the material value of the basic support surface of a Module with one edge length For example, from just under 25 cm is very low.

Als Material für die diffraktiven Elemente – die Einzelkörper – empfiehlt sich grundsätzlich ein solches Material, das eine gewisse, langzeitstabile Formfestigkeit besitzt und gleichzeitig gut geeignet ist, um in einem Ätzprozess gegebenenfalls auch als Opferschicht zu dienen. Dabei kommen verschiedene Polymere wie z.B. thermotrope Hauptketten-Flüssigkristalline-Polymere, und in besonderer Weise auch handelsüblicher Fotolack in Frage, der gleichmäßig aufgetragen werden kann, um eine einheitliche Schichtdicke zu bilden.When Material for the diffractive elements - the Single body - recommends basically Such a material, which has a certain, long-term stable dimensional stability owns and at the same time is well suited to in an etching process if necessary also serve as a sacrificial layer. There are different ones Polymers such as e.g. thermotropic backbone liquid crystalline polymers, and in a special way also commercially available photoresist in question, applied evenly can be used to form a uniform layer thickness.

Um eine hohe Festigkeit der Einzelkörper zu erreichen, können diese Stellen zuvor komplett aus dielektrischen Materialien z.B. aus geeigneten Silizium-Stickstoffverbindungen, etwa Si3N4, oder Siliziumoxide, besonders Siliziumdioxid (SiO2) gefertigt werden.In order to achieve a high strength of the individual bodies, these locations can previously be made entirely of dielectric materials, for example of suitable silicon-nitrogen compounds, such as Si 3 N 4 , or silicon oxides, especially silicon dioxide (SiO 2 ).

Alternativ kann das Material für die Einzelkörper so gewählt werden, dass es selektives Wachstum erlaubt, insbesondere durch Anwenden von Galvanik in tiefenlithographisch geformtem Polymethylmethacrylat – Acrylglas (PMMA).alternative can the material for the single bodies so chosen be that it allows selective growth, in particular by Using electroplating in deep lithographic polymethyl methacrylate - acrylic glass (PMMA).

ZEICHNUNGENDRAWINGS

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Die genannten Einzelkörper dienen als Beugungskörper im Sinne der Erzielung von Beugungseffekten.embodiments The invention is illustrated in the drawings and in the following Description closer explained. The mentioned single body serve as a diffraction body in the sense of achieving diffraction effects.

Es zeigen:It demonstrate:

1 in einer schematischen Ansichtsdarstellung ein Gesamtsystem gemäß eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung enthaltend ein Panel für eine Fassadenteilfläche mit einer Vielzahl von erfindungsgemäßen Einzelmodulen; 1 in a schematic view representation of an overall system according to a preferred embodiment of the present invention comprising a panel for a facade part surface with a plurality of individual modules according to the invention;

2 eine schematische Darstellung der randseitigen Kopplungsvorrichtungen zwischen zwei Einzelmodulen aus 1; 2 a schematic representation of the edge coupling devices between two individual modules 1 ;

3 eine vergrößerte Ansicht als Ausschnitt innerhalb einer Gitteranordnung aus vielen Einzelkörpern; und 3 an enlarged view as a section within a grid arrangement of many Individual bodies; and

4 eine Übersicht verschiedener Gittertypen, welche für die erfindungsgemäße Lösung relevant sind. 4 an overview of different types of lattice, which are relevant to the inventive solution.

BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSBEISPIELEDESCRIPTION OF THE EMBODIMENTS

In den Figuren bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche oder funktionsgleiche Komponenten.In the same reference numerals designate the same or functionally identical Components.

Mit Bezug zu 1 ist ein erfindungsgemäßes Panel 15 gezeigt, enthaltend eine Vielzahl von matrixartig angeordneten (arrayförmigen) Einzelmodulen 12, wobei die Außenmaße des Panels 15 im Fall von Gebäudefassaden etwa 1m auf 1 m betragen.In reference to 1 is a panel according to the invention 15 shown containing a plurality of matrix-like arranged (array-shaped) individual modules 12 , where the outer dimensions of the panel 15 in the case of building facades about 1m to 1 m.

Die Einzelmodule 12 enthalten ihrerseits wieder eine Vielzahl von optisch beugend wirkenden Einzelkörpern, hier als Mesa-Beugungskörper 31 bezeichnet, siehe 3, die beispielsweise hier ebenfalls matrixartig in regelmäßigen Zeilen und Spalten auf einer gemeinsamen Trägerfläche 30 angeordnet sein können. Die Einzelkörper sind allerdings in 1 aus Gründen erhöhter Klarheit nicht dargestellt. Wie aus 1 ebenfalls ersichtlich, sind die Einzelmodule 12 von identischer Form und miteinander verbunden, wobei nähere Details in 2 dargestellt sind.The individual modules 12 For their part, they again contain a large number of optically diffracting single bodies, here as mesa diffraction bodies 31 designated, see 3 Here, for example, here also matrix-like in regular rows and columns on a common support surface 30 can be arranged. The individual bodies are however in 1 not shown for reasons of clarity. How out 1 also visible, are the individual modules 12 of identical shape and interconnected, with more details in 2 are shown.

Mit weiterem Bezug zu 2 wird die Kopplung zwischen Einzelmodulen 12 aus 1 näher beschrieben.With further relation to 2 becomes the coupling between individual modules 12 out 1 described in more detail.

Zwei Einzelmodule 12A und 12B mit quadratischer Kontur liegen kanten- und eckenbündig auf Stoß angeordnet mit ihren jeweiligen Kantenseiten aneinander an. In vorteilhafter Weise ist eine Einrastverbindung 22a und weitere Einrastverbindung 22b jeweils außermittig vorgesehen, um die beiden Einzelmodule 12A und 12B an zwei Stellen miteinander mechanisch zu verbinden.Two individual modules 12A and 12B with square contour are edge and corner flush arranged with shock with their respective edge sides together. Advantageously, a snap connection 22a and further snap connection 22b each eccentrically provided to the two individual modules 12A and 12B mechanically connect at two points.

Mit Bezug zu 3 ist eine vergrößerte Ansicht als Ausschnitt innerhalb einer Gitteranordnung 12 aus vielen Einzelkörpern 31 dargestellt.In reference to 3 is an enlarged view as a section within a grid arrangement 12 from many individual bodies 31 shown.

Die Einzelkörper 31 sind hier nur exemplarisch als gleichförmige Quader ausgebildet auf der Grundträgerfläche 30 gleichmässig angeordnet gezeigt.The single bodies 31 are here only exemplarily designed as a uniform cuboid on the base support surface 30 shown evenly arranged.

Die Kantenmaße dieser Einzelkörper, der Beugungskörpers 31 und deren Abstände zueinander können in einem weitem Bereich variiert werden. Dies gilt für ortsabhängige Variationen in ein und demselben Einzelmodul, innerhalb eines Panels, als auch für Variationen von Gesamtsystem zu Gesamtsystem. Dabei können die Kantenlängen der Mesa-Beugungskörper 31 und deren Abstände zumindest in einer Richtung vorzugsweise in einem Bereich variieren, der durch die Beugungsbedingung, Kantenlänge in der Größenordnung der Lichtwellenlänge, festgelegt ist, beispielsweise zwischen 200 und 2400 Nanometern. Dabei ist zu bedenken dass gegebenenfalls der Brechungsindex einer Gitterdeckschicht mitberücksichtigt werden muss. Die genaue Gestalt und Anordnung der Mesa-Beugungskörper 31 sollte auch vom späteren Verwendungszweck der Einzelmodule 12 bzw. der Panels 15 abhängig gemacht werden. Dies ist insbesondere für Hologramme unerlässlich.The edge dimensions of these individual bodies, the diffraction body 31 and their distances from each other can be varied in a wide range. This applies to location-dependent variations in the same single module, within a panel, as well as for variations from overall system to overall system. In this case, the edge lengths of the mesa diffraction bodies 31 and whose distances in at least one direction preferably vary within a range determined by the diffraction condition, edge length on the order of the wavelength of the light, for example between 200 and 2400 nanometers. It should be remembered that, if necessary, the refractive index of a lattice top layer must be taken into account. The exact shape and arrangement of the mesa diffraction bodies 31 should also be of the future intended use of the individual modules 12 or the panels 15 be made dependent. This is essential especially for holograms.

Im folgenden werden grundlegende Leitlinien für die Herstellung einer erfindungsgemäßen Beugungskörpervorrichtung gegeben. Zunächst ist dabei festzustellen, dass die Basis der Herstellung übliche, im Stand der Technik bekannte Dünnschichtherstellungsprozesse sind, bei denen dünne Schichten durch Aufdampfen, Aufschleudern, Tauchbeschichtung, Sputtern, Galvanisieren, etc. hergestellt werden, und die durch weitere lithografische Herstellungsprozesse dann kleinräumig und meist in planparallelem Aufbau zu den vorher aufgebrachten Schichten strukturiert werden können, je nach dem, wie groß die Strukturen in der Fotomaske sind. Insoweit wird vollständig auf Lehrbücher verwiesen, die die vorgenannten Techniken beschreiben.in the The following are basic guidelines for the manufacture of a diffractive body device according to the invention given. First It should be noted that the basis of the production usual, in The prior art known thin film manufacturing processes are where thin ones Layers by vapor deposition, spin coating, dip coating, sputtering, Galvanizing, etc. are produced, and by further lithographic Manufacturing processes then small-scale and usually in plane-parallel construction to the previously applied layers can be structured depending on how big the Structures in the photomask are. In that regard is completely on textbooks referenced, which describe the aforementioned techniques.

Herstellungsverfahren:Production method:

Im folgenden werden grundlegende Leitlinien für die Herstellung einer erfindungsgemäßen Beugungskörpervorrichtung gegeben. Zunächst ist dabei festzustellen, dass die Basis der Herstellung übliche, im Stand der Technik bekannte Dünnschichtherstellungsprozesse sind, bei denen dünne Schichten durch Aufdampfen, Aufschleudern, Tauchbeschichtung, Sputtern, Galvanisieren, etc. hergestellt werden, und die durch weitere lithografische bzw. fotolithografische Herstellungsprozesse dann kleinräumig und meist in oberflächenmikromechanischem planparallelem Aufbau zu den vorher aufgebrachten Schichten strukturiert werden können, je nach dem, wie groß die Strukturen in der Fotomaske sind. Insoweit wird vollständig auf Lehrbücher verwiesen, die die vorgenannten Techniken beschreiben.in the The following are basic guidelines for the manufacture of a diffractive body device according to the invention given. First It should be noted that the basis of the production usual, in The prior art known thin film manufacturing processes are where thin ones Layers by vapor deposition, spin coating, dip coating, sputtering, Galvanizing, etc. are produced, and by further lithographic or photolithographic manufacturing processes then small-scale and mostly in surface micromechanical plane-parallel structure to the previously applied layers structured can be depending on how big the Structures in the photomask are. In that regard is completely on textbooks referenced, which describe the aforementioned techniques.

Herstellungsverfahren auf der Basis der Oberflächenmikromechanik:
Im folgenden werden die wichtigsten Herstellungsmerkmale exemplarisch für das in 3 gezeigte Ausführungsbeispiel erläutert wie folgt:

  • I. Für eine Verwendung als Fassadenelement und zur Herstellung von Einzelmodulen quadratischer Form mit einer Kantenlänge von knapp 12,5 cm wird als Grundträgerfläche 30 eine dünne Glasscheibe als Glassubstrat mit diesen Abmessungen verwendet. Anstelle von anorganischem Glas kann auch ein anderes transparentes Material, organische Gläser (z.B. Plexiglas), transparente Kunststoffe bzw. Polymere evtl. unter Beimischung einer Abtönfarbe verwendet werden.
  • IIa). In einem zweiten Schritt erfolgt das Aufbringen einer ätzbaren Gitterschicht – oder im Falle von gewollten Unterätzungen, um eine gewisse Beweglichkeit der Einzelkörper zu er zielen, einer Opferschicht – mit definierter Dicke, die im wesentlichen durch die Höhe der in 3 dargestellten Beugungskörper – diffraktiven Elemente – 31 vorgegeben ist. Die Höhe der Opferschicht sollte wenigstens so hoch sein, dass ein gut sichtbarer Beugungseffekt entstehen kann, etwa eine Höhe von mindestens 50 Nanometern, oder mindestens circa einem Viertel der Wellenlänge.
Manufacturing method based on surface micromechanics:
In the following, the most important manufacturing characteristics are exemplary for the in 3 embodiment shown explains as follows:
  • I. For use as a facade element and for the production of single modules square shape with an edge length of almost 12.5 cm is used as a basic support surface 30 a thin glass plate as a glass substrate with these dimensions used. Instead of inorganic glass, it is also possible to use another transparent material, organic glasses (eg Plexiglas), transparent plastics or polymers possibly with the addition of a tinting ink.
  • IIa). In a second step, the application of an etchable grid layer - or in the case of intentional undercuts, to a certain mobility of the individual body to he aim, a sacrificial layer - with a defined thickness, which is essentially determined by the height of in 3 illustrated diffraction bodies - diffractive elements - 31 is predetermined. The height of the sacrificial layer should be at least so high that a highly visible diffraction effect can occur, such as a height of at least 50 nanometers, or at least about a quarter of the wavelength.

Der Einfachheit halber wird im folgenden nicht zwischen ätzbarer Gitterschicht und Opferschicht unterschieden, beides soll unter dem Begriff „Opferschicht" verstanden werden.Of the For the sake of simplicity, the following will not distinguish between etchable Grid layer and sacrificial layer distinguished, both should be under the term "sacrificial layer".

Diese Opferschicht soll die Beugungskörper 31 für die Gitteranordnungen bilden. Dies gilt für die vier Gittertypen: Amplitudenreflexionsgitter, Amplitudentransmissionsgitter, Phasenreflexionsgitter, Phasentransmissionsgitter. An den Stellen der Einzelkörper muss die Opferschicht nachfolgend erhalten bleiben, und an allen anderen Stellen wird die Opferschicht nachfolgend weggeätzt, um Beugung zu ermöglichen. Um gegebenenfalls eine hohe Transparenz zu gewährleisten, etwa wenn das Gitter im Durchlicht verwendet werden soll, wird die Opferschicht vorzugsweise bis auf das Glassubstrat an diesen Stellen entfernt. Dies gelingt mit heutigen technologischen Verfahren perfekt. Es sei darauf hingewiesen, dass z.B. die Grundplatte aus anorganischen Gläsern hergestellt werden kann.This sacrificial layer is said to diffract 31 form for the grid arrangements. This applies to the four types of gratings: amplitude reflection gratings, amplitude transmission gratings, phase reflection gratings, phase transmission gratings. At the locations of the individual bodies, the sacrificial layer must subsequently be preserved, and in all other places the sacrificial layer is subsequently etched away to allow diffraction. In order to ensure a high degree of transparency, for example if the grating is to be used in transmitted light, the sacrificial layer is preferably removed at these points except for the glass substrate. This succeeds perfectly with today's technological processes. It should be noted that, for example, the base plate can be made of inorganic glasses.

Als Materialien der Opferschicht kommen in erster Linie solche Materialien in Frage, die sich gegenüber allen anderen verwendeten Materialien selektiv ätzen lassen und die gegenüber Witterung, Feuchtigkeit und Temperaturunterschieden relativ unempfindlich sind, eine ausreichende mechanische Festigkeit aufweisen und kein nennenswertes plastisches Fließen aufweisen (ohne Hysterese). Beispielsweise kommen Materialien, etwa Polymethylmethacrylat, Siliziumdioxid oder ein UV-Fotolack in Frage, solange er sich mit einer definierten Dicke auftragen lässt.When Materials of the sacrificial layer come primarily such materials in question, facing each other all other materials used can be selectively etched and weathered, moisture and temperature differences are relatively insensitive, a sufficient have mechanical strength and no appreciable plastic Flow have (without hysteresis). For example, come materials, such as Polymethyl methacrylate, silica or a UV photoresist in question, as long as it can be applied with a defined thickness.

Beispielhaft sei ferner die Materialklasse der thermotropen Hauptketten-Flüssigkristalline-Polymere genannt. Diese Materialklasse lässt sich mit bestimmten organischen Lösungsmitteln einerseits gut lösen (Opferschichteigenschaft) und erfüllt auf der anderen Seite auch relativ hohe, mechanische Stabilitätskriterien,.

  • II.b). Alternativ zu IIa) wird eine Variante angegeben, welche Beugungskörper 31 mit erhöhter Festigkeit liefert. Im wesentlichen wird dabei der Prozessschritt IIa) wie folgt ersetzt. Dazu wird ein tiefenlithographiefähiger Photolack (z.B. PMMA) aufgebracht, in welchem die Formen aller Einzelkörper 31 durch Belichten und Entwickeln als Negativ definiert werden. Durch selektives Auffüllen beispielsweise durch galvanische Prozesse, werden stabile Beugungskörper etwa als Quader oder Zylinderformen definiert. Nachfolgend werden die weiter unten folgenden Prozessschritte IV, V, und VI angewandt, wobei der verbleibende Photolack (Opferschicht) nasschemisch entfernt wird.
  • III. In einem weiteren Schritt werden vorzugsweise am Rand eines jeden Einzelmoduls umlaufende Abstandhalter aufgebracht, beispielsweise aus dem selben Material wie die vorgenannte Opferschicht, um in einem weiteren (späteren) Schritt das Anbringen einer äußeren Schutzschicht bewirken zu können, die sich flächig über die gesamte Modulfläche erstreckt, um eine hermetische Versiegelung gegen Staub und Feuchtigkeit sowie einen Spannungsschutz zu realisieren. Diese Schutzschicht kann beispielsweise auf die vorgenannten Abstandhalter, die besonders bevorzugt als umlaufende Randbegrenzung vorliegt, durch Kleben aufgebracht werden.
  • IV. In einem nächsten Schritt wird die vertikale Strukturierung vorgenommen, indem ein Ätzvorgang senkrecht zur Grundplatte 30 hin vorgenommen wird. Anschließend werden selektiv die oben beschriebenen Teile der Opferschicht entfernt.
As an example, the material class of the thermotropic main chain liquid crystalline polymers may be mentioned. On the one hand, this class of materials can be well-solved with certain organic solvents (sacrificial layer property) and, on the other hand, also meets relatively high mechanical stability criteria.
  • II.b). Alternative to IIa), a variant is given which diffraction bodies 31 delivers with increased strength. Essentially, the process step IIa) is replaced as follows. For this purpose, a deep lithography photoresist (eg PMMA) is applied, in which the forms of all individual bodies 31 be defined as negative by exposure and development. By selective filling, for example, by galvanic processes, stable diffraction bodies are defined approximately as cuboids or cylindrical shapes. Subsequently, the process steps IV, V, and VI below are applied, whereby the remaining photoresist (sacrificial layer) is removed wet-chemically.
  • III. In a further step, peripheral spacers are preferably applied to the edge of each individual module, for example of the same material as the aforementioned sacrificial layer, in order to be able to attach an outer protective layer in a further (later) step, which extends over the entire module surface to provide a hermetic seal against dust and moisture as well as voltage protection. This protective layer can be applied by gluing, for example, to the abovementioned spacers, which are particularly preferably in the form of peripheral boundary.
  • IV. In a next step, the vertical structuring is done by etching perpendicular to the base plate 30 is made. Subsequently, the above-described parts of the sacrificial layer are selectively removed.

Optional kann je nach späterer Verwendung des so gefertigten Moduls noch ein hermetischer Abdichtungslack über den gesamten Randbereich des Moduls gebracht werden, damit das Modulinnere einen langzeitstabilen, verwitterungsresistenten Zustand behält.optional may be later Using the thus manufactured module still a hermetic sealing paint over the entire edge area of the module are brought, so that the module interior maintains a long term stable, weather resistant condition.

Dann werden die somit hergestellten Module zusammengesteckt, wie es in 2 skizziert ist, bis ein Panel mit der gewünschten Größe gebildet ist. Beispielsweise kann bei einer Einzelmodulgröße von 12,5 cm × 12,5 cm ein Raster von 8 × 8 Einzelmodulen zusammengesteckt werden, um ein zusammenhängendes Panel zu erhalten. Die Einzelmodule 12 haben zu diesem Zweck in vorteilhafter Weise auch geeignet steckbare Einrastverbindungen 22A und B an den übrigen Kanten, die in 2 nicht gezeigt sind. Dabei können die Einrastverbindungen in Querrichtung auch eines anderen Typs sein – beispielsweise eine L-förmige Rastung – im Vergleich zu dem Typ der Längsrichtung wie in 2 gezeigt, um das Zusammenstecken zu vereinfachen.Then the modules thus produced are put together as shown in FIG 2 is sketched until a panel is formed with the desired size. For example, with a single module size of 12.5 cm × 12.5 cm, a grid of 8 × 8 individual modules can be plugged together to obtain a coherent panel. The individual modules 12 have for this purpose also advantageously pluggable snap-in connections 22A and B at the remaining edges, which in 2 not shown. The latching connections in the transverse direction may also be of another type - for example an L-shaped detent - compared to the type of the longitudinal direction as in FIG 2 shown to simplify the mating.

In optionaler Weise kann dieses gesamte Panel 15 nun noch auf einen weiteren Träger 15 aufgebracht werden, wofür beispielsweise eine weitere Glasscheibe in Frage kommt. Dies würde sich besonders dann empfehlen, wenn eine erhöhte mechanische Stabilität des gesamten Panels erforderlich sein sollte.In an optional way, this entire panel can 15 now on another carrier 15 on be brought, for which, for example, another glass in question. This would be particularly recommended if increased mechanical stability of the entire panel should be required.

Die erfindungsgemäße Beugungskörperanordnung kann, soviel wird dem Fachmann auf dem Gebiet der Dünnschichtherstellung und Mikrostrukturierung klar sein, auf vielen verschiedenen Wegen hergestellt werden. Charakteristisch für das erfindungsgemäße Herstellungsverfahren ist daher lediglich die Verwendung solcher Materialen, die ein vernünftiges Preis/Leistungsverhältnis für eine großflächige Verwendung im Fenster oder Fassadenbereich zulassen, und die Anpassung des lithographischen Prozesses an die relativ kleinen Abmessungen der Beugungskörper.The Diffraction body arrangement according to the invention can, so much is the expert in the field of thin film production and microstructuring be made in many different ways become. Characteristic of the production process according to the invention is therefore only the use of such materials, which is a reasonable Price-performance ratio for one large area use in the window or facade area, and the adaptation of the lithographic process to the relatively small dimensions of the diffraction bodies.

Im allgemeinen und besonders in dem Fall einer angestrebten Hologrammwirkung empfiehlt sich eine rechnerische Optimierung gezielt auf diesen gewünschten Anwendungszweck. Bei dieser Optimierung sollten folgende Aspekte eine besondere Berücksichtigung finden:
Die Orientierung der Fassade bzgl. der Himmelsrichtung und der Lage des Gebäudes bzgl. der geografischen Breite und der Winkelbereiche, unter denen das Gebäude von Passanten in den meisten Fällen gesehen wird. Diese Einflussfaktoren können mit einer quantitativen Wichtung belegt werden, um ein gewünschtes Optimum zu erreichen. Eine geringe, außentemperaturbedingte Variation der Beugungskörperkrümmungen ruft dabei noch periodische Farbverschiebungen über längere Zeiträume hervor.
In general and especially in the case of a desired hologram effect, a mathematical optimization is specifically recommended for this desired application. In this optimization, the following aspects should be given special consideration:
The orientation of the facade in terms of the direction and location of the building in terms of the latitude and the angular areas under which the building is seen in most cases by passers-by. These influencing factors can be assigned a quantitative weighting in order to achieve a desired optimum. A slight, outside temperature-induced variation of the diffraction body curvatures still causes periodic color shifts over longer periods of time.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsbeispielen vorstehend beschrieben wurde, ist sie darauf nicht beschränkt, sondern auf vielfältige Weise modifizierbar.Even though the present invention based on preferred embodiments As described above, it is not limited thereto on diverse Modifiable way.

Beispielsweise kann die Dimensionierung der Fläche der Einzelmodule an Herstellungsanlagen angepasst werden, die bereits existieren und vorher zur Herstellung von IC- Bauteilen, Festplatten im Computerbereich, etc, verwendet wurden.For example can the sizing of the area the individual modules are adapted to manufacturing plants that already exist and previously for the production of IC components, hard disks in the computer field, etc, were used.

Es sei darauf hingewiesen, dass sich Gitter in zwei Klassen einteilen lassen: Reflexionsgitter und Transmissionsgitter. In beiden Fällen wird weiter unterteilt, je nach dem, ob Phasenunterschiede oder Amplitudenunterschiede involviert sind.It It should be noted that grids are divided into two classes leave: reflection grille and transmission grating. In both cases will divided further, depending on whether phase differences or amplitude differences are involved.

Demnach gibt es Phasentransmissionsgitter, Phasenreflexionsgitter, Amplitudentransmissionsgitter und Amplitudenreflexionsgitter. Dies ist in 4 dargestellt. Exemplarisch und zum Wecke einer erhöhten Klarheit der Darstellung der eigentlichen Erfindung, wurde im Text in den meisten Fällen das Amplitudenreflexionsgitter zu Grunde gelegt. Dem Fachmann wird es jedoch nicht schwer fallen, den eigentlichen, erfindungsgemäßen Sachverhalt entsprechend auf die anderen, erwähnten Gittertypen zu übertragen.Thus, there are phase transmission gratings, phase reflection gratings, amplitude transmission gratings and amplitude reflection gratings. This is in 4 shown. By way of example and in order to arouse increased clarity of the representation of the actual invention, the text in most cases was based on the amplitude reflection grating. However, it will not be difficult for a person skilled in the art to correspondingly transfer the actual inventive situation to the other types of lattice mentioned.

In diesem Zusammenhang steht das Wort „Reflexion" hierin nicht zwingend für spiegelnde Elemente. Es deutet darauf hin, dass das Beugungsmuster auf derselben Seite des Gitters beobachtet wird, auf der auch das Licht einfällt (vergl. 4). Die Elemente müssen lediglich streuenden Charakter aufweisen. Bei Transmissionsgittern wird das Beugungsmuster auf der anderen Seite des Gitters beobachtet, von der das Licht einfällt (4).In this context, the word "reflection" is not necessarily meant for specular elements, indicating that the diffraction pattern is observed on the same side of the grating on which the light is incident (cf. 4 ). The elements must only have scattering character. In transmission grids, the diffraction pattern is observed on the other side of the grating from which the light is incident ( 4 ).

Amplitudentransmissionsgitter weisen lichtundurchlässige Elemente 97 und lichtdurchlässige Elemente 96 auf. Amplitudenreflexionsgitter weisen lichtstreuende (in Sonderfällen reflektierende) Elemente 94 und lichtdurchlässige (bzw. lichtabsorbierende) Elemente 95 auf. In einem Ausführungsbeispiel können dies Mesa (Rippen, Stege) und Mesazwischenräume (Spalte, Furchen) sein. Phasentransmissionsgitter weisen mindestens zwei verschiedene lichtdurchlässige Elemente auf, welche sich darin unterscheiden, dass zwischen benachbarten Elementen eine Phasenverschiebung des Lichtes entsteht. In einem Ausführungsbeispiel können dies Glasmesa 92 und fluidgefüllte Mesazwischenräume 93 sein. Phasenreflexionsgitter weisen mindestens zwei verschiedene lichtstreuende bzw. lichtreflektierende Elemente auf, welche sich darin unterscheiden, dass zwischen benachbarten Elementen eine Phasenverschiebung des Lichtes entsteht. In einem Ausführungsbeispiel können die Mesa 99 und die Böden der Mesazwischenräume 98 aus oberflächen verspiegeltem Glas bestehen. Der Phasenunterschied resultiert allein aus der Höhendifferenz zwischen Mesazwischenräumen und Mesa, der Wellenlänge, den Ein- und Ausfallswinkeln und dem Brechungsindex des fluiden Mediums in den Mesazwischenräumen. Schließlich können die Merkmale der Unteransprüche im wesentlichen frei miteinander und nicht durch die in den Ansprüchen vorliegende Reihenfolge miteinander kombiniert werden, sofern sie unabhängig voneinander sind.Amplitude transmission gratings have opaque elements 97 and translucent elements 96 on. Amplitude reflection gratings have light-scattering (in special cases reflective) elements 94 and translucent (or light absorbing) elements 95 on. In one embodiment, these may be mesa (ribs, lands) and mesa spaces (clefts, furrows). Phase transmission gratings have at least two different light-transmissive elements, which differ in that a phase shift of the light arises between adjacent elements. In one embodiment, these may be glass mesa 92 and fluid mesa spaces 93 be. Phase reflection gratings have at least two different light-scattering or light-reflecting elements, which differ in that a phase shift of the light arises between adjacent elements. In one embodiment, the mesa 99 and the soils of the mesas 98 Made of surfaces mirrored glass. The phase difference results solely from the height difference between mesas and mesa, the wavelength, the angles of incidence and reflection, and the refractive index of the fluid in the mesas. Finally, the features of the subclaims can be combined substantially freely with one another and not by the order given in the claims, provided that they are independent of each other.

Die Querschnittsform der Mesa-Beugungskörper 31 kann in einem weitem Bereich variiert werden, so lange die erforderliche beugungsrelevante Größe vorhanden ist. Dabei können die Kantenlängen der Mesa-Beugungskörper 31 und deren Abstände zumindest in einer Richtung vorzugsweise in einem Bereich variieren, der durch die Beugungsbedingung, Kantenlänge in der Größenordnung der Wellenlänge, festgelegt ist, beispielsweise zwischen 200 und 2400 Nanometern. Die genaue Gestalt und Anordnung der Mesa-Beugungskörper 31 sollte auch vom späteren Verwendungszweck der Einzelmodule 12 bzw. der Panels 15 abhängig gemacht werden. Dies ist insbesondere für Hologramme unerlässlich.The cross-sectional shape of the mesa diffraction bodies 31 can be varied in a wide range, as long as the required diffraction-relevant size is present. In this case, the edge lengths of the mesa diffraction bodies 31 and whose distances in at least one direction preferably vary within a range determined by the diffraction condition, edge length on the order of the wavelength, for example between 200 and 2400 nanometers. The exact shape and arrangement of the mesa diffraction bodies 31 should also be of the future intended use of the individual modules 12 or the panels 15 be made dependent. This is essential especially for holograms.

Wenn die Grundträgerfläche nicht eben sein soll, sondern eine beliebig gekrümmte Form aufweisen soll, beispielsweise, um sie der individuellen Form von PKW-Karosserieteilen anzupassen, so kann es zweckmäßig sein, die erfindungsgemäße Beugungsvorrichtung 12 auf einer dickenangepassten Folie herzustellen als Grundträger 30 herzustellen, um die erforderliche Flexibilität zu gewährleisten. Individuell gekrümmte Module können dann an geeigneter Stelle in den Fertigungsprozess bei de Karosseriebearbeitung, insbesondere während der Lackierung, eingegliedert werden.If the base support surface should not be flat, but should have an arbitrarily curved shape, for example in order to adapt it to the individual shape of car body parts, it may be expedient to use the inventive diffraction device 12 to produce on a thickness-adapted film as a basic carrier 30 to ensure the required flexibility. Individually curved modules can then be incorporated at a suitable location in the manufacturing process in the bodywork processing, especially during painting.

Claims (6)

Verwendung einer zweidimensional aufgebauten, optischen Gittervorrichtung (12) mit einer Mehrzahl von mit einer gemeinsamen Grundträgerfläche (30) verbundenen Einzelkörpern (31), wobei die Einzelkörper so gestaltet, angeordnet und zueinander beabstandet sind, dass sie als Beugungszentren für Lichtstrahlen wirken, und wobei die Einzelkörper Strukturelemente aus einem Dünnschichtherstellungsprozess sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Gittervorrichtung (12) eine gezielt lateral strukturierte Anordnung von zahlreichen diffraktiven Elementen darstellt und zur Gestaltung von großen Flächen durch großflächige Beugungsmuster verwendet wird.Use of a two-dimensional optical grating device ( 12 ) having a plurality of with a common base support surface ( 30 ) connected individual bodies ( 31 ), wherein the individual bodies are designed, arranged and spaced from each other so that they act as diffraction centers for light rays, and wherein the single bodies are structural elements from a thin film manufacturing process, characterized in that the grating device ( 12 ) represents a deliberately laterally structured arrangement of numerous diffractive elements and is used for the design of large areas by large-area diffraction patterns. Verwendung nach Anspruch 1, bei der Panel (15) enthaltend eine Mehrzahl von Vorrichtungen (12) gemäß Anspruch 1 eingesetzt werden.Use according to claim 1, wherein the panel ( 15 ) comprising a plurality of devices ( 12 ) are used according to claim 1. Verwendung nach Anspruch 1 oder 2, bei der die Gittervorrichtung (12) oder ein Panel (15) als Bauelement bei einer Bautätigkeit zur Errichtung oder Renovierung von Gebäudefassaden eingesetzt wird.Use according to claim 1 or 2, wherein the grating device ( 12 ) or a panel ( 15 ) is used as a component in a construction activity for the construction or renovation of building facades. Verwendung einer Gittervorrichtung (12) nach Anspruch 1 oder 2 zur Gestaltung von Flächen, insbesondere von Karosserieteilen von mobilen Systemen, einschließlich deren Fenstern.Use of a grating device ( 12 ) according to claim 1 or 2 for the design of surfaces, in particular of body parts of mobile systems, including their windows. Verwendung nach Anspruch 1 oder 2, wobei Gitteranordnungen (12) bestehend aus Billigmaterialien verwendet werden.Use according to claim 1 or 2, wherein grid arrangements ( 12 ) consisting of cheap materials. Verwendung nach dem vorstehenden Anspruch, wobei: a) das Material für die Grundträgerfläche (30) vorgewählt ist aus der Gruppe: organische oder anorganische Gläser, Kunststoffe, insbesondere Polymere, Metalle, b1) das Material für die Einzelkörper (31) so gewählt ist, dass es ätzbare Schicht oder als Opferschicht in einem Ätzprozess selektiv zu einem der vorgewählten Materialien geeignet ist, oder b2) das Material für die Einzelkörper (31) so gewählt ist, dass es selektives Wachstum erlaubt, insbesondere durch Anwenden von Galvanik in tiefenlithographisch geformtem Polymethylmethacrylat (PMMA).Use according to the preceding claim, wherein: a) the material for the basic support surface ( 30 ) is selected from the group: organic or inorganic glasses, plastics, in particular polymers, metals, b1) the material for the individual bodies ( 31 ) is selected such that it is etchable layer or as a sacrificial layer in an etching process selectively to one of the preselected materials, or b2) the material for the single body ( 31 ) is selected to allow selective growth, in particular by employing electroplating in deep lithographic polymethyl methacrylate (PMMA).
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