DE10356658B4 - Verfahren zum Betrieb eines Lasersystems und Lasersystem für die Bearbeitung von Substraten - Google Patents

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Abstract

Verfahren zum Betrieb eines Lasersystems für die Bearbeitung von Substraten (11), insbesondere von elektrischen Schaltungssubstraten, wobei,
– eine Laserquelle (1) mit einer vorgegebenen Wiederholfrequenz getriggert wird, um einen gepulsten Laserstrahl (12) mit einer vorgegebenen Leistung und Qualität zu erzeugen und über eine Ablenkeinheit (6) auf ein Substrat (11) abzugeben,
– jeweils in einer Stabilisierungsphase (S3,S4) der Pulserzeugung ein Verschlußelement (2;4) für eine vorgegebene Stabilisierungszeit (T2) in den optischen Pfad des Laserstrahls (12) gebracht wird,
– die Laserpulse während der Stabilisierungszeit auf das Verschlußelement (2;4) abgegeben werden und
– das Verschlußelement (2;4) geöffnet wird, um die Laserpulse auf das Substrat (11) freizugeben, wenn die vorgegebene Stabilisierungszeit (T2) verstrichen ist und das Substrat (11) sich in einer vorgegebenen Bearbeitungsposition befindet,
dadurch gekennzeichnet, daß
– der Laser in die Stabilisierungsphase (S2,S3,S4) versetzt und das Verschlußelement geschlossen wird, wenn der Laser (1) über mehr als eine vorgegebene maximale...

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betrieb eines Lasersystems für die Bearbeitung von Substraten, insbesondere von elektrischen Schaltungssubstraten, wobei eine Laserquelle mit einer vorgegebenen Wiederholfrequenz getriggert wird, um einen gepulsten Laserstrahl mit einer vorgegebenen Leistung und Qualität zu erzeugen und über eine Ablenkeinheit auf ein Substrat abzugeben. Außerdem betrifft die Erfindung ein Lasersystem zur Durchführung dieses Verfahrens.
  • Für die Bearbeitung von Leiterplatten oder vergleichbaren Substraten werden gütegeschaltete Laserquellen in einem weiten Wellenlängenbereich von UV (266 nm) bis Wide-Infrarot (10,6 μm) eingesetzt. Häufig zeigen diese Laserquellen zu Beginn der Triggerung mit dem Güteschalter ein instabiles Puls-zu-Puls-Verhalten über durchschnittlich 15 ms; bei verschiedenen Laserquellen dauert dieser instabile Zustand sogar bis zu mehreren Sekunden. Werden die Laserpulse in dieser Anfangsphase zum Bohren oder Strukturieren des Substrats eingesetzt, führt dies zu einer mangelhaften Qualität der so gewonnenen Bohrlöcher oder Leiterbahnstrukturen. Das instabile Puls-zu-Puls-Verhalten zeigt sich in Form von Anlaufzeiten und Überschwingern über mehrere Bohrlöcher oder Strukturen hinweg, wobei alle verschiedenen Laserquellen mehr oder weniger diesen Effekt aufweisen und wobei jedoch das Verhalten der verschiedenen Laserquellen unterschiedlich sein kann.
  • Um diese negativen Effekte auf die Bearbeitungsqualität auszuschalten, wurden bisher beispielsweise zu Beginn eines Bohr- oder Bearbeitungsprozesses einige Probelöcher (Dummy-Löcher) außerhalb des für die Bearbeitung genutzten Feldes gebohrt. Doch ist dies zeitaufwendig und für eine Großserien fertigung nicht praktikabel. Im Übrigen müssen auch solche Löcher bereits im CAD-Layout hinterlegt werden.
  • Neben den oben geschilderten Problemen in der Anlaufphase eines Produktionsprozesses kann der gleiche Effekt auch auftreten, wenn längere Unterbrechungen während des Prozesses auftreten, beispielsweise aufgrund nicht erkannter Positionsmarkierungen. Solche Unterbrechungen können im Minutenbereich liegen; auch dann kann der Laser seine Prozeßstabilität verlieren, wenn er während dieser Unterbrechungszeiten nicht getriggert wird. Zwar könnte der Laserstrahl in dieser Wartezeit auf eine Strahlenfalle gelenkt werden. Doch hat dies den großen Nachteil, daß dabei eine erhebliche dauerhafte Wärmeentwicklung erfolgt. Bei dieser Lösung müßte überdies eine weitere optisch-mechanische Komponente mit eventuellen Verlusten in den optischen Pfad integriert werden.
  • Aus der JP 10-137960 A und aus der JP 06-292986 A ergibt sich jeweils ein Verfahren zur Bearbeitung von Substraten, bei dem eine Laserquelle mit einer vorgegebenen Wiederholfrequenz getriggert wird, um einen gepulsten Laserstrahl zu erzeugen und über eine Ablenkeinheit auf ein Substrat abzugeben. In einer Stabilisierungsphase der Pulserzeugung wird ein Verschlußelement für eine vorgegebene Stabilisierungszeit in den optischen Pfad des Laserstrahls gebracht, während der die Laserpulse auf das Verschlußelement abgegeben werden. Wenn die vorgegebene Stabilisierungszeit verstrichen ist und das Substrat sich in einer vorgegebenen Bearbeitungsposition befindet, wird das Verschlußelement geöffnet, um die Laserpulse auf das Substrat freizugeben. Dieses Verfahren hat den Nachteil, dass abhängig von dem jeweiligen Bearbeitungsprozeß die erforderlichen Stabilisierungsphasen der Laserquelle im Voraus bekannt sein müssen.
  • Ziel der Erfindung ist es, ein Verfahren der eingangs genannten Art und ein System zur Durchführung dieses Verfahrens zu schaffen, mit dem für jeden Bearbeitungsprozeß mit möglichst geringem Zeitverlust sichergestellt wird, daß der Laser automatisch in die erforderlichen Stabilisierungsphasen gebracht wird und somit jederzeit stabile Pulse liefert.
  • Erfindungsgemäß wird dieses Ziel bei dem Verfahren der eingangs genannten Art dadurch erreicht, daß jeweils in einer Stabilisierungsphase der Pulserzeugung ein Verschlußelement für eine vorgegebene Stabilisierungszeit in den optischen Pfad des Laserstrahls gebracht wird, daß die Laserpulse während der Stabilisierungszeit auf das Verschlußelement abgegeben werden und daß das Verschlußelement geöffnet wird, um die Laserpulse auf das Substrat freizugeben, wenn die vorgegebene Stabilisierungszeit verstrichen ist und das Substrat sich in einer vorgegebenen Bearbeitungsposition befindet.
  • Nach der Erfindung ist also vorgesehen, daß zu Beginn eines jeden Bohr- oder Strukturierungsprozesses, sofern es für die Laserstabilisierung notwendig ist, ein externes oder internes Verschlußelement, ein so genannter Shutter, an der Laserquelle geschlossen wird, wobei der Laser seine Pulse für eine vorgegebene Zeit auf dieses Verschlußelement abgibt. Da während dieser Stabilisierungszeit also keine Pulse nach außen dringen und über das optische System zum Substrat gelangen können, kann gleichzeitig der Bearbeitungstisch bewegt und das Substrat mit dem ersten bzw. dem jeweils nächsten Bearbeitungsfeld in die richtige Bearbeitungsposition gegenüber dem optischen System gebracht werden. Durch diesen (offenen) parallelen Ablauf der Laserstabilisierung einerseits und der Produktionsvorbereitung einschließlich Bilderkennung und Substratpositionierung andererseits wird sichergestellt, daß für die Stabilisierung ein möglichst geringer Zeitverlust entsteht.
  • Erfindungsgemäß gibt es während des Prozesses eine unabhängige Überwachung, die den Laser bei Bedarf triggern kann. Dabei wird explizit die Zeit kontrolliert, in der der Laser aktiv getriggert wird. Wird innerhalb des Produktionsprozesses der Laser für mehr als eine festgelegte maximale Inaktivitätszeit nicht getriggert, so daß er automatisch seine Prozeßstabilität verliert, dann wird der Prozeß unterbrochen, das Verschlußelement geschlossen und der Laser in einer neuen Stabilisierungsphase für die vorgesehene Stabilisierungszeit getriggert, wobei die Laserpulse wiederum auf das geschlossene Verschlußelement treffen. Somit wird bei der Erfindung durch prozeßabhängige und zeitoptimierte Ansteuerung des Lasers und des Verschlußelementes die jeweilige Laserquelle optimiert, wobei es sich vorzugsweise um Laser mit Wellenlängen von 266 nm, 355 nm, 532 nm, 1064 nm, 9,3 μm und 10,6 μm handelt.
  • Wenn nach Ablauf der Stabilisierungsphase das Substrat noch nicht bereit zur Bearbeitung ist, kann zunächst die Triggerung des Lasers bei geschlossenem Verschlußelement weitergeführt werden. Um jedoch eine übermäßige Erwärmung des Verschlußelementes zu vermeiden, ist eine maximale Aktivierungszeit für die Stabilisierungsphase vorgesehen. Ist diese Zeit abgelaufen, ohne daß das Substrat bearbeitet werden kann, wird die Triggerung auf das Verschlußelement gestoppt.
  • Während der Stabilisierungsphase des Lasers wird dabei vorzugsweise ein Bearbeitungsprozeß, also ein Bohr- oder Strukturierprozeß, auf das geschlossene Verschlußelement in der gleichen Weise durchgeführt wie bei der Bearbeitung eines Substrats. Dieser ist beispielsweise definiert durch
    • a) die Spiegelauslenkung in der Ablenkeinheit zur Zielposition,
    • b) die Triggerung des Lasers mit Prozeßparametern und
    • c) eine Laser-Regenerationszeit.
  • Durch zyklisches Wiederholen dieser Einzelphasen wird somit die Laserquelle in der Stabilisierungsphase in einem Zustand betrieben, der voll den Betriebsbedingungen in der Bearbeitungsphase entspricht.
  • Ein Lasersystem zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens weist folgende Merkmale auf:
    • – einen innerhalb einer horizontalen Ebene verstellbaren Bearbeitungstisch zur Aufnahme und Positionierung eines Substrates,
    • – eine Laserquelle mit einem Güteschalter zur Triggerung des Laserstrahls,
    • – ein Verschlußelement am Ausgang der Laserquelle,
    • – eine Ablenkeinheit und eine Abbildungseinheit zur Positionierung und Fokussierung der Laserstrahlen auf vorgegebene Zielpunkte des Substrats,
    • – eine Steuereinrichtung zur Steuerung der Laserquelle, des Güteschalters, des Verschlußelementes, der Ablenk- und Abbildungseinheit sowie des Bearbeitungstisches,
    • – eine Überwachungseinheit zur Überwachung der Aktivzeiten und der Inaktivzeiten des Lasers und
    • – eine Bilderkennungseinrichtung zur Positionserfassung des Substrates.
  • Die Erfindung wird nachfolgend an Ausführungsbeispielen anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt:
  • 1 ein Blockschaltbild eines erfindungsgemäßen Lasersystems und
  • 2 ein Flußdiagramm zur Darstellung des erfindungsgemäßen Verfahrens.
  • Das in 1 gezeigte Laser-Bearbeitungssystem besitzt eine Laserquelle 1, welche je nach Bauweise, zum Beispiel bei einer CO2-Laserquelle, ein internes Verschlußelement 2 (gestrichelt gezeigt) aufweisen kann. Bei anderen Lasern, wie etwa bei Solid-State-Laserquellen, kann ein Trippler- oder Doppler-Modul 3 nachgeschaltet sein, an welches sich dann ein externes Verschlußelement 4 anschließt. Der jeweilige Laserstrahl 12 wird nach dem Verlassen der Laserquelle und nach dem Passieren des jeweiligen (offenen) Verschlußelementes 2 oder 4 durch einen Strahlaufweiter 5 geleitet. Danach gelangt der Laserstrahl 12 in eine Ablenkeinheit 6, wo er in der Regel über zwei Spiegel-Ablenkelemente um zwei zueinander senkrechte Achsen abgelenkt wird. Über eine Abbildungseinheit 7, in der Regel eine F-Theta-Linse, wird der Strahl dann auf eine Zielposition gelenkt.
  • Ein zu bearbeitendes Substrat 11 ist auf einem XY-Bearbeitungstisch 10 angeordnet und beispielsweise über Ansauglöcher mittels Unterdruck fixiert. Der XY-Bearbeitungstisch 10 bewegt das Substrat 11 in Richtung der Doppelpfeile x und y unter die Ablenkeinheit 6 bzw. die Abbildungseinheit 7. Die Ablenkeinheit 6 ihrerseits bewegt den Laserstrahl 12 jeweils über ein definiertes Schreibfeld bzw. Bearbeitungsfeld 13. Ist ein Schreibfeld 13 vollständig bearbeitet, bewegt der XY-Bearbeitungstisch das Substrat an die nächste zu bearbeitende Position. Dieser Vorgang wird wiederholt, bis das Substrat 11 vollständig bearbeitet ist. Nach Bearbeitung des letzten Schreibfeldes 13 wird das Substrat 11 in eine Ein-, Aus- oder eine Übergabeposition bewegt.
  • Zur Identifizierung und Positionierung des Substrats bezüglich des optischen Systems ist über dem Bearbeitungstisch 10 eine Bilderkennungseinrichtung in Form einer Kamera 14 angeordnet, welche beispielsweise Erkennungsmarken 11a auf dem Substrat 11 erkennt und anhand dieser Erkennungsmarken die richtige Positionierung ermöglicht.
  • Alle Abläufe in dem System werden von einem Maschinencomputer 9 und einer Steuerbaugruppe 8 gesteuert und überwacht. Über die Steuerbaugruppe 8 werden eine Stromversorgung 15 für die Laserquelle 1, ein Güteschalter 16 für die Laseraktivierung und die Ablenkeinheit 6 gesteuert und überwacht.
  • Der Maschinencomputer 9 empfängt nicht nur die Signale von der Kamera 14 und steuert entsprechend den XY-Bearbeitungstisch 10 in die jeweils richtige Position. Vielmehr enthält der Maschinencomputer 9 insbesondere zwei Module 9a und 9b, welche jeweils die Inaktiv-Zeiten (Modul 9a) sowie die Aktiv-Zeiten (Modul 9b) und den aktuellen Laserzustand überwachen. Dieser aktuelle Laserzustand definiert sich in "Laser stabil" und "Laser instabil". Dieser letztere Zustand gilt immer dann, wenn der Laser mehr als eine vorgegebene Zeit T1 inaktiv war, also wenn die Laserquelle für mehr als diese Zeit T1 nicht getriggert wurde. Im normalen Prozeßablauf tritt dieser Fall nur dann ein, wenn die Maschine im Bereitschaftsmodus steht oder wenn sie beispielsweise bei einer negativen Bilderkennung durch die Kamera 14 angehalten werden mußte.
  • In 2 ist in einem Flußdiagramm der Arbeitsablauf bei dem erfindungsgemäßen System bzw. nach dem erfindungsgemäßen Verfahren gezeigt. In einem Schritt S1 wird der Laser über die Stromversorgung eingeschaltet. Das Verschlußelement 2 oder 4 wird geschlossen (Schritt S2) und mit den nachfolgenden Prozeßbedingungen (Lastverhältnis, Triggerfrequenz und Pulsenergie) in gleicher Weise angesteuert wie für den beabsichtigten Bearbeitungsprozeß an einem Substrat 11. Die Laserpulse werden jedoch nicht auf das Substrat gelenkt, sondern auf das geschlossene Verschlußelement. Es beginnt die Aufwärm- bzw. Stabilisierungsphase mit der Stabilisierungszeit T2, die im Schritt S3 mit T2 = 0 gestartet wird und in der, wie erwähnt, die Stabilisierungs-Triggerpulse (Schritt S4) auf das Verschlußelement abgegeben werden, bis die Laserquelle einen stabilen Zustand erreicht hat. Diese Stabilisierungsphase läuft so lange, bis im Schritt S5 festgestellt wird, ob die Zeit T2 die benötigte Stabilisierungszeit T2 erreicht hat.
  • Gleichzeitig und parallel zu der Stabilisierungszeit des Lasers startet die Maschine die Produktionsvorbereitung. Der XY-Bearbeitungstisch 10 ist eingeschaltet (Schritt S11); das Substrat wird im Schritt S12 unter die Kamera 14 bewegt, und alle Erkennungsmarken des Substrats 11 werden aufgenommen. Mit Abschluß der Bilderkennung wird das Substrat 11 mit dem ersten zu bearbeitenden Schreibfeld 13 in den Bereich des Laserstrahls 12 positioniert (Schritt S13).
  • Wie erwähnt, wird im Schritt S5 überprüft, ob die Zeit T2 bereits abgelaufen ist. Ist dies nicht der Fall, muß die Restzeit abgewartet werden, bis der Produktionsprozeß gestartet werden kann. Ist T2 aber abgelaufen und wird im Schritt S6 auch festgestellt, daß das Substrat positioniert und zur Bearbeitung bereit ist, dann wird die Stabilisierungstriggerung mit den Laserpulsen auf das Verschlußelement 2 bzw. 4 beendet und der Verschluß geöffnet (Schritt S7). Es beginnt nun die eigentliche Bearbeitung mit dem Schritt S8, in welchem die Prozeß-Triggerpulse auf das Substrat 11 gelenkt werden. Dabei ist sichergestellt, daß mit Beginn der Bearbeitung eines ersten Bohrloches oder einer ersten Struktur am Substrat der Laser bereits einen stabilen Zustand hat.
  • Das erste Schreibfeld oder Bearbeitungsfeld 13 wird nunmehr bearbeitet, bis im Schritt S9 die Fertigstellung der Arbeit an dem ersten Schreibfeld 13 festgestellt wird. Ist dieser Bearbeitungsprozeß beendet, wird der Laser im Schritt S10 deaktiviert. Zugleich wird über den Schritt S14 geprüft, ob ein neues Feld auf dem Substrat 11 zu bearbeiten ist. In diesem Fall wird das Substrat über den Schritt S13 neu positioniert, d.h., ein neues Bearbeitungsfeld 13 wird in den Bereich des Laserstrahls 12 gebracht. Sobald das neue Bearbeitungsfeld positioniert ist, kann über den Schritt S6 der Schritt S8 mit der Abgabe von Prozeßtriggerpulsen auf das neue Feld 13 begonnen werden, wenn das Verschlußelement am Laser noch geöffnet ist (S7).
  • Nach dem Schritt S10 überwacht das Modul 9a ("Laser inaktiv") die Zeit, in der der Laser nicht getriggert wird. Dies beginnt mit t1 = 0 im Schritt S15; im Schritt S16 wird jeweils geprüft, ob der Laser mehr als die maximale Inaktivzeit T1 nicht getriggert wurde. So lange die maximale Inaktivzeit T1 nicht überschritten ist, kann über den Schritt S6 jeweils ein neuer Bearbeitungsprozeß eingeleitet werden, wenn das neue Bearbeitungsfeld 13 positioniert ist.
  • Ist jedoch die maximale Inaktivzeit T1 überschritten, was im Schritt S16 festgestellt wird, dann wird der Produktionsprozeß angehalten und der Laser über die Schritte S2, S3 und S4 wieder stabilisiert. Das heißt, daß das Verschlußelement 2 bzw. 4 geschlossen und daß Stabilisierungs-Trigger-Pulse gemäß dem Schritt S4 auf das geschlossene Verschlußelement abgegeben werden, bis die Stabilisierungszeit T2 wieder erreicht ist. Nach Ablauf dieser Zeit T2 ist sichergestellt, daß der Laser wieder stabil ist und daß ein neuer Produktionsprozeß begonnen werden kann.
  • In der Regel ist die Stabilisierungszeit T2 festgelegt, so daß nach dem Schließen des Verschlußelementes 2 bzw. 4 immer gleichlang auf das Verschlußelement zum Zweck der Stabilisierung des Lasers getriggert wird. Es ist aber auch möglich, die Länge der Abschaltzeit bzw. der Inaktivzeit t1 berücksichtigen und beispielsweise die Stabilisierungszeit T2 zu verkürzen, wenn die maximale Inaktivzeit nur wenig überschritten wurde.
  • Ist jedoch eine Unterbrechung des Produktionsprozesses eingetreten, beispielsweise durch eine nicht erkannte Erkennungsmarke, so daß der Laser länger als die benötigte Zeit T2 Stabilisierungs-Trigger-Pulse aussendet, so wird zunächst das Verschlußelement nicht geöffnet und weiter mit Stabilisierungs-Trigger-Pulsen beaufschlagt. Es wird jedoch gleichzeitig über den Schritt S17 und den Schritt S18 festgestellt, ob eine maximale Aktivzeit T3 im Stabilisierungsmodus überschritten wird. Ist dies der Fall, kann die Triggerung – wenn nötig – je nach Beschaffenheit des Verschlußelementes gestoppt werden (Schritt S10), um eine unnötige Erwärmung des Verschlußelementes und der Maschinenumgebung zu vermeiden.
  • Im normalen Bearbeitungsbetrieb wird jedoch mit dem im Schritt S9 festgestellten Prozeßende, also dem Abschluß der Bearbeitung eines Bearbeitungsfeldes 13, im Schritt S14 geprüft, ob ein neues Feld auf dem gleichen Substrat zu bearbeiten ist. Ist dies der Fall, so wird über den Schritt S13 dieses neue Feld unter dem Laserstrahl positioniert, so daß über den Schritt S6 und den Schritt S8 dieses neue Feld bearbeitet werden kann. Der Schritt S7 kann dabei übersprungen werden, da der Verschluß ja noch geöffnet ist. Sind jedoch alle Felder eines Substrates bereits bearbeitet, so wird im schritt S14 festgestellt, daß kein neues Feld mehr zur Bearbeitung ansteht. Dann wird im Schritt S19 geprüft, ob ein neues Substrat zur Bearbeitung aufgelegt werden soll. In diesem Fall wird über den Schritt S12 das neue Substrat mit der Kamera vermessen und identifiziert und danach im Schritt S13 unter dem Laserstrahl positioniert. Wenn dann die Inaktivphase des Lasers nicht länger war als T1, kann die Bearbeitung über die Schritte S6 und S8 in der vorher beschriebenen Weise erfolgen.
  • Wird kein neues Substrat mehr bearbeitet, so kann über die Schritte S20 und S21 der Laser als auch die Steuerung für den XY-Bearbeitungstisch ausgeschaltet werden.
  • Durch das erfindungsgemäße Konzept mit den Überwachungsmodulen 9a für die Inaktivzeit des Lasers und 9b für die Aktivzeit des Lasers wird erreicht, daß in der Massenproduktion die Prozeßgeschwindigkeit der Maschine nicht reduziert wird. Gleichzeitig wird sichergestellt, daß die Qualität der Bearbeitung durch die Maschine nicht durch Anlaufeffekte beeinträchtigt wird.

Claims (6)

  1. Verfahren zum Betrieb eines Lasersystems für die Bearbeitung von Substraten (11), insbesondere von elektrischen Schaltungssubstraten, wobei, – eine Laserquelle (1) mit einer vorgegebenen Wiederholfrequenz getriggert wird, um einen gepulsten Laserstrahl (12) mit einer vorgegebenen Leistung und Qualität zu erzeugen und über eine Ablenkeinheit (6) auf ein Substrat (11) abzugeben, – jeweils in einer Stabilisierungsphase (S3,S4) der Pulserzeugung ein Verschlußelement (2;4) für eine vorgegebene Stabilisierungszeit (T2) in den optischen Pfad des Laserstrahls (12) gebracht wird, – die Laserpulse während der Stabilisierungszeit auf das Verschlußelement (2;4) abgegeben werden und – das Verschlußelement (2;4) geöffnet wird, um die Laserpulse auf das Substrat (11) freizugeben, wenn die vorgegebene Stabilisierungszeit (T2) verstrichen ist und das Substrat (11) sich in einer vorgegebenen Bearbeitungsposition befindet, dadurch gekennzeichnet, daß – der Laser in die Stabilisierungsphase (S2,S3,S4) versetzt und das Verschlußelement geschlossen wird, wenn der Laser (1) über mehr als eine vorgegebene maximale Inaktivzeit (T1) nicht getriggert wurde.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß während der Stabilisierungsphase (S3,S4,S5) das Substrat (11) über eine Bilderkennungseinrichtung (14) erfaßt (S12) und über eine mechanische Positioniereinrichtung (10) in eine vorgegebene Bearbeitungsposition gebracht wird (S13).
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß nach Ablauf der Stabilisierungsphase (S3,S4) das Verschlußelement (2;4) geschlossen bleibt und die Triggerung des Lasers (1) bis zu einer maximalen Aktivzeit (T3) weitergeführt wird und daß danach die Triggerung abgeschaltet wird (S10), wenn das Substrat (11) nicht zur Bearbeitung bereit ist.
  4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß während der Stabilisierungsphase (S2,S3,S4) der Laser (1) in gleicher Weise wie bei einem Bearbeitungsprozeß (S8) am Substrat angesteuert wird.
  5. Verfahren nach einem der Ansprüch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Stabilisierungszeit (T2) in Abhängigkeit von der tatsächlichen Dauer der Inaktivzeit (t1) veränderbar ist.
  6. Lasersystem zur Bearbeitung von Substraten, insbesondere von elektrischen Schaltungssubstraten, gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, mit – einem innerhalb einer horizontalen Ebene (x,y) verstellbaren Bearbeitungstisch (10) zur Aufnahme und Positionierung eines Substrates (11), – einer Laserquelle (1) mit einem Güteschalter (16) zur Triggerung des Laserstrahls (12), – einem Verschlußelement (2;4) am Ausgang der Laserquelle (1;3), – einer Ablenkeinheit (6) und einer Abbildungseinheit (7) zur Positionierung und Fokussierung des Laserstrahls (12) auf vorgegebene Zielpunkte des Substrats (11), – einer Steuereinrichtung (8,9) zur Steuerung der Laserquelle (1), des Güteschalters (16), des Verschlußelementes (2,4), der Ablenkeinheit (6), der Abbildungseinheit (7) sowie des Bearbeitungstisches (10), – einer Überwachungseinheit (9a,9b) zur Überwachung der Aktivzeiten und der Inaktivzeiten des Lasers und – einer Bilderkennungseinrichtung (14) zur Positionserfassung des Substrates (11).
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Englische Übersetzung der JP 10137960 A aus Searching PAJ, JPO (online), (recherchiert am 27.5.2004). Im Internet: <URL:http://www19.ipld.jpo.go.jp/PA1/cgi-bin/PA1DETAIL>, DETAILLED DESCRIPTION, CLAI-MS, DRAWINGS. *
Englische Übersetzung der JP 6292986 A aus Searching PAJ, JPO (online), (recherchiert am 27.5.2004). Im Interner:<URL: http://ww19ipld.jpo.go.jp/Pa1/cgi-bin/PA1DETAIL>, DETAILLED DESCRIPTION, CLAIMS, DRAWINGS. *
Englische Übersetzung der JP10137960A aus Search- ing PAJ, JPO (online), (recherchiert am 27.5.2004) . Im Internet: <URL:http://www19.ipld.jpo.go.jp/PA 1/cgi-bin/PA1DETAIL>, DETAILLED DESCRIPTION, CLAI- MS, DRAWINGS.
Englische Übersetzung der JP6292986A aus Search- ing PAJ, JPO (online), (recherchiert am 27.5.2004) . Im Interner:<URL: http://ww19ipld.jpo.go.jp/Pa1/ cgi-bin/PA1DETAIL>, DETAILLED DESCRIPTION, CLAIMS, DRAWINGS.

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