DE1034720B

DE1034720B - Electrical damping element for a waveguide

Info

Publication number: DE1034720B
Application number: DEG16034A
Authority: DE
Inventors: Alfred George Hayes
Original assignee: General Electric Co PLC
Current assignee: General Electric Co PLC
Priority date: 1953-12-17
Filing date: 1954-12-17
Publication date: 1958-07-24
Also published as: US2898561A; BE534162A; GB775452A; FR1116033A

Description

DEUTSCHESGERMAN

Die Erfindung betrifft elektrische Dämpfungsglieder, die aus einem Hohlleiter mit einem Längsschlitz in einer Wandung und einem Organ bestehen, das in dem Hohlleiter durch den Schlitz vortritt und eine Widerstandsschicht trägt, wobei dieses Organ derart bewegbar ist, daß das Ausmaß der innerhalb des Hohlleiters liegenden Widerstandsschicht geändert wird, um die Dämpfung des Hohlleiters zu ändern, und wobei der Leitwert der Widerstandsschichtpro Flächeneinheit in den Kantenbereichen des Organs, die quer zu dem Hohlleiter liegen·, kleiner als zwischen diesen Bereichen ist.The invention relates to electrical attenuators consisting of a waveguide with a longitudinal slot consist in a wall and an organ that protrudes through the slot in the waveguide and carries a resistive layer, this organ being movable in such a way that the extent of the inside of the waveguide lying resistive layer is changed in order to reduce the attenuation of the waveguide change, and the conductance of the resistive layer per unit area in the edge areas of the Organs that are transverse to the waveguide · is smaller than between these areas.

Um jedoch die Sicherheit zu haben, daß das Amplitudenverhältnis der stehenden Wellen innerhalb des Hohlleiters nicht wesentlich von der Einheit abweicht, ist es erforderlich, daß das Organ eine nicht zu große Impedanzungleichmäßigkeit innerhalb des Hohlleiters mit sich bringt. Um den Erfordernissen einer veränderbaren Dämpfung und ImpedanzungJeichmäßigkeit zu genügen, hat das Organ gewöhnlich eine komplizierte Form, so daß es nicht leicht in größerer Stückzahl herstellbar ist.However, in order to be sure that the amplitude ratio of the standing waves is within the Waveguide does not deviate significantly from the unit, it is necessary that the organ is not too large Impedance unevenness within the waveguide brings with it. To meet the requirements of a changeable Attenuation and Impedance To satisfy uniformity, the organ usually has a complicated one Shape, so that it is not easy to manufacture in large numbers.

In einer bekannten Anordnung hat die Widerstandsschicht einen gleichmäßigen Widerstandswert pro Flächeneinheit über einen mittleren Bereich und über Bereiche auf jeder Seite dieses mittleren Bereiches, die einen unterschiedlichen Widerstands wert haben, wobei plötzliche Änderungen des Widerstandes pro Flächeneinheit an den Grenzen dieser Bereiche auftreten. Jedoch ist keine Änderung in dem Widerstand pro Flächeneinheit der Widerstandsschicht in der rechtwinklig zur Längsachse des Hohlleiters verlaufenden Richtung vorhanden.In a known arrangement, the resistive layer has a uniform resistance value per Area unit over a central area and over areas on each side of this central area, which have a different resistance value, with sudden changes in resistance per Area unit occur at the boundaries of these areas. However, there is no change in resistance per unit area of the resistance layer in the one running at right angles to the longitudinal axis of the waveguide Direction present.

Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung eines verbesserten Dämpfungsgliedes der zuerst angegebenen Art. bei dem die Widerstandsschicht eine geringere Impedanzungleichmäßigkeit in dem Hohlleiter für alle Dämpfungswerte liefert und das Organ mit größerer Toleranz hergestellt werden kann.The object of the invention is to provide an improved attenuator of the first specified Art. In which the resistive layer has a lower impedance unevenness in the waveguide for all Provides damping values and the organ can be manufactured with greater tolerance.

Dies wird erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß sich der Leitwert der Widerstandsschicht pro Flächeneinheit über das Organ in Richtung parallel zu der Längsachse des Hohlleiters und in Richtung rechtwinklig zu dieser Achse ohne plötzliche Wertänderung ändert, wobei sich der Leitwert der Schicht pro Flächeneinheit in der rechtwinklig zu der Längsachse des Hohlleiters liegenden Richtung von der im Hohlleiter befindlichen Außenkante des Organs aus allmählich von einem verhältnismäßig kleinen Wert auf einen verhältnismäßig großen Wert erhöht. Das Organ ist vorzugsweise nur für eine geradlinige Bewegung in einer zu der Hohlleiterachse senkrechten Richtung angeordnet. Die Widerstandsschicht kann mit einem photographischen Verfahren hergestelltThis is achieved according to the invention in that the conductance of the resistance layer per unit area across the organ in the direction parallel to the longitudinal axis of the waveguide and in the direction at right angles changes to this axis without a sudden change in value, whereby the conductance of the shift per Area unit in the direction perpendicular to the longitudinal axis of the waveguide from that in the waveguide located outer edge of the organ gradually from a relatively small value increased a relatively large value. The organ is preferably only for rectilinear movement arranged in a direction perpendicular to the waveguide axis. The resistive layer can produced by a photographic process

Elektrisches Dämpfungsglied
für einen HohlleiterElectric attenuator
for a waveguide

Anmelder:Applicant:

The General Electric Company Limited,
Wembley, Middlesex (Großbritannien)The General Electric Company Limited,
Wembley, Middlesex (Great Britain)

Vertreter:
Dipl.-Ing. W. Schmitzdorff, Dr.-Ing. H. Ruschke,Representative:
Dipl.-Ing. W. Schmitzdorff, Dr.-Ing. H. Ruschke,

Berlin-Friedenau, Lauterstr. 37,Berlin-Friedenau, Lauterstr. 37,

und Dipl.-Ing. K. Grentzenberg, München 27,and Dipl.-Ing. K. Grentzenberg, Munich 27,

PatentanwältePatent attorneys

Beanspruchte Priorität:
Großbritannien vom 17. Dezember 1953Claimed priority:
Great Britain 17 December 1953

Alfred George Hayes, Wembley, MiddlesexAlfred George Hayes, Wembley, Middlesex

(Großbritannien),
ist als Erfinder genannt worden(Great Britain),
has been named as the inventor

werden, und das Organ besteht vorzugsweise aus Glas oder Glimmer.and the organ is preferably made of glass or mica.

Eine Ausführungsform des Dämpfungsgliedes nach der Erfindung ist als Beispiel in einer Ansicht dargestellt. An embodiment of the attenuator according to the invention is shown as an example in a view.

Das Dämpfungsglied besteht aus einem Hohlleiter 1 mit rechteckigem Querschnitt, in dessen Wandung 2 sich ein Längsschlitz befindet. Eine Glimmer- oder Glasplatte 3 ist zwischen einem Paar Führungsteilen 4 und 5 so angebracht, daß sie sich durch den Schlitz erstreckt und teilweise innerhalb des Hohlleiters 1 liegt. Die Führungsteile 4 und 5 befinden sich außerhalb des Hohlleiters, und die Platte 3 kann in einer zu der Wandung 2 senkrechten.Richtung bewegt werden. Die Platte 3 kann auch aus keramischem Material, Kunststoff oder einem anderen geeigneten Isolier stoff, bestehen.The attenuator consists of a waveguide 1 with a rectangular cross section, in the wall 2 there is a longitudinal slot. A mica or glass plate 3 is between a pair of guide parts 4 and 5 mounted so that it extends through the slot and partially within the waveguide 1 lies. The guide parts 4 and 5 are located outside of the waveguide, and the plate 3 can be in a to the wall 2 perpendicular. Direction are moved. The plate 3 can also be made of ceramic material, Plastic or other suitable insulating material exist.

Die Platte 3 wird relativ zu dem Hohlleiter 1 bewegt, um die Dämpfung zu ändern, die von einer Widerstandsschicht auf der Oberfläche 6 der Platte 3 auf durch den Hohlleiter 1 strömende elektromagnetische Energie ausgeübt wird. Die Widerstandsschicht auf der Oberfläche 6 hat einen ungleichmäßigen Widetstand pro Flächeneinheit, und die Änderung ist derart, daß in allen Stellungen der Platte 3 ihr sich innerhalb des Hohlleiters 1 befindlicher Teil imThe plate 3 is moved relative to the waveguide 1 in order to change the attenuation caused by a resistive layer on the surface 6 of the plate 3 on through the waveguide 1 flowing electromagnetic Energy is exerted. The resistance layer on the surface 6 has an uneven resistance per unit area, and the change is such that in all positions of the plate 3 you are part located within the waveguide 1 in

809 578/324809 578/324

wesentlichen keine Impedanzungleichmäßigkeit auf die durch den Hohlleiter strömende elektromagnetische Energie ausübt. Zu diesem Zweck verändert sich der Widerstand pro Flächeneinheit auf der Oberfläche 6 sowohl in der Bewegungsrichtung der Platte 3, um das erforderliche Verhältnis und die gewünschte Dämpfung bei jeder Plattenstellung zu erzielen, als auch in Längsrichtung des Hohlleiters 1 zur Erzielung der Impedanzanpassung. In der ersten genannten Richtung ist der Leitwert, d. h. der reziproke Wert des Widerstandes, entlang der Kante 7 am kleinsten und steigt in Richtung der gegenüberliegenden Kante der Platte 3 an, während sie in der zweiten Richtung in der Mitte der Platte 3 am größten ist und zu den Kanten 8 und 9 hin abnimmt.essentially no impedance irregularity on the electromagnetic flowing through the waveguide Exercise energy. For this purpose, the resistance per unit area on the surface changes 6 both in the direction of movement of the plate 3 to the required ratio and the desired To achieve damping in each plate position, as well as in the longitudinal direction of the waveguide 1 to achieve the impedance matching. In the first direction mentioned, the conductance, i.e. H. the reciprocal value of the resistance, is smallest along the edge 7 and increases in the direction of the opposite edge of the plate 3, while it is largest in the second direction in the middle of the plate 3 and to the Edges 8 and 9 decreases.

Das vorstehend beschriebene Dämpfungsglied kann durch Anordnung eines zweiten Schlitzes in der Hohlleiterwandung 10 gegenüber dem vorerwähnten Schlitz abgeändert werden, so daß die Platte 3 von beiden Seiten des Hohlleiters 1 eingeführt werden kann. In diesem Fall kann die Platte 3 wesentlich größer sein und größere Unterschiede in den Widerständen pro Flächeneinheit in ihrer Bewegungsrichtung aufweisen.The attenuator described above can be achieved by arranging a second slot in the waveguide wall 10 can be modified from the aforementioned slot, so that the plate 3 of both Sides of the waveguide 1 can be introduced. In this case, the plate 3 can be much larger and have greater differences in resistances per unit area in their direction of movement.

Die Widerstandsschicht auf der Oberfläche 6 der Platte 3 kann aus einem gleichmäßigen Film des Widerstandsmaterials bestehen, wie Nickelchrom oder Kohle. Sie kann aber auch entweder aus einem Mosaik kleiner, voneinander isolierter Stückchen von Widerstandsmaterial oder leitendem Material oder einem Gitter aus Widerstandsmaterial bestehen. Im letztgenannten Fall kann z. B. die erforderliche Abstufung des Widerstandes durch eine Änderung der Größe der Löcher in dem Gitter erzielt werden, wobei das Gitter durch ein photographisches Verfahren hergestellt wird. Ein anderes Verfahren zur Herstellung des Gitters aus Widerstandsmaterial auf der Platte 3 besteht in der Verwendung von ammonium- oder kaliumbichromathaltigem Fischleim, das im Zusammenhang mit der Herstellung eines Schirmüberzuges einer Kathodenstrahlröhre bekanntgeworden ist. In jedem Verfahren erfolgt der Abdruck von einem Original, das negativ oder positiv sein kann, je nachdem, welches Verfahren zur Anwendung gelangt. Nachdem das Original einmal vorliegt, ist es möglich, eine Widerstandsschicht auf eine Anzahl Platten mit der erforderlichen Änderung des Widerstandes pro Flächeneinheit zu drucken.The resistive layer on the surface 6 of the plate 3 can consist of a uniform film of the resistive material exist, such as nickel chrome or carbon. But it can also be made from a mosaic small, isolated bits of resistive material or conductive material, or some Grids consist of resistance material. In the latter case, for. B. the required gradation of resistance can be achieved by changing the size of the holes in the grid, the grid is produced by a photographic process. Another method of making the Lattice of resistance material on the plate 3 consists in the use of ammonium or potassium dichromate Isinglass, used in connection with the manufacture of a screen cover for a cathode ray tube has become known. In each process, the imprint is made from an original, the can be negative or positive, depending on which method is used. After the original Once present, it is possible to apply a resistive layer to a number of boards with the required Change in resistance per unit area to print.

Claims

Patent claims:

1. Electrical attenuator, consisting of a waveguide with a longitudinal slot in one Wall and an organ that protrudes through the slot in the waveguide and a resistance layer carries, this organ being movable in such a way that the extent of the inside of the waveguide lying resistive layer is changed to change the attenuation of the waveguide, and where the conductance of the resistive layer per unit area in the edge areas of the organ which are transverse to the waveguide, is smaller than between these areas, characterized in that The conductance of this layer per unit of area extends over the organ in a direction parallel to the longitudinal axis of the waveguide and in the direction perpendicular to this axis without a sudden change in value changes, the conductance of the layer per unit area changing at right angles to the longitudinal axis of the waveguide lying direction from the outer edge of the organ located in the waveguide gradually from a relatively small value to a relatively large value elevated.

2. Electrical attenuator according to claim 1, characterized in that the organ is arranged only for rectilinear movement in the direction perpendicular to the waveguide axis.

3. Electrical attenuator according to claim 1 or 2, characterized in that the "Resistive layer is produced by a photographic process.

4. Electrical attenuator according to claim 1, 2 or 3, characterized in that the organ is made of glass or mica.

Considered publications:
British Patent Nos. 617,919,645,883;
French patent specification No. 1012 670.

1 sheet of drawings