DE10332862A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Gewinnung von Krypton und/oder Xenon durch Tieftemperaturzerlegung - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Gewinnung von Krypton und/oder Xenon durch Tieftemperaturzerlegung Download PDFInfo
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Abstract
Das Verfahren und die Vorrichtung dienen zur Gewinnung von Krypton und/oder Xenon durch Tieftemperaturzerlegung. Eine flüssige krypton- und xenonhaltige Fraktion (121) wird einer Methan-Ausschleussäule (24) unterhalb des Kopfes zugeleitet. Auf den Kopf der Methan-Ausschleussäule (24) wird eine flüssige Sauerstofffraktion (23) aufgegeben, die eine sehr geringe Krypton- und Xenon-Konzentration aufweist. Aus dem unteren Bereich der Methan-Ausschleussäule (24) wird ein Krypton-Xenon-Konzentrat (125) entnommen. Aus dem oberen Bereich der Methan-Ausschleussäule (24) wird ein methanhaltiger Dampf (30) abgeführt. Die krypton- und xenonhaltige Fraktion (121) wird mindestens zum Teil und mindestens zeitweise an einer Zwischenstelle in die Methan-Ausschleussäule (24) eingeleitet (201), die mindestens einen theoretischen oder praktischen Boden oberhalb des Sumpfs angeordnet ist.
Description
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
- Krypton und Xenon werden im Allgemeinen im Anschluss an eine Tieftemperaturzerlegung von Luft in einem Rektifiziersystem zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung gewonnen.
- Die Grundlagen der Tieftemperaturzerlegung von Luft im Allgemeinen sowie der Aufbau von Rektifiziersystemen zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung im Speziellen sind in der Monografie "Tieftemperaturtechnik" von Hausen/Linde (2. Auflage, 1985) und in einem Aufsatz von Latimer in Chemical Engineering Progress (Vol. 63, No. 2, 1967, Seite 35) beschrieben. Die Erfindung kann im Zusammenhang mit einem Einzelsäulen-Verfahren oder einem Zwei- oder Mehr-Säulen-Verfahren zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung eingesetzt werden. Bei einem Zwei-Säulen-Verfahren wird beispielsweise eine Hochdrucksäule unter einem höheren Druck als eine Niederdrucksäule betrieben; die beiden Säulen stehen vorzugsweise in Wärmeaustauschbeziehung zueinander, beispielsweise über einen Hauptkondensator, in dem Kopfgas der Hochdrucksäule gegen verdampfende Sumpfflüssigkeit der Niederdrucksäule verflüssigt wird. Das Rektifiziersystem zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung kann als klassisches Doppelsäulensystem ausgebildet sein, aber auch als Drei- oder Mehr-Säulensystem. Zusätzlich zu den Kolonnen zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung können weitere Vorrichtungen zur Gewinnung anderer Luftkomponenten, insbesondere von Edelgasen aufweisen, beispielsweise eine Argongewinnung. Grundsätzlich kann die erfindungsgemäße Krypton-/Xenon-Gewinnung auch unabhängig von einer Luftzerlegungsanlage betrieben werden.
- Bei den bisher bekannten Methoden zur Krypton-/Xenon-Gewinnung wird zum Beispiel eine Sumpffraktion der Niederdrucksäule oder der Hochdrucksäule eines Zwei-Säulen-Systems zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung – gegebenenfalls nach Durchlaufen von Zwischenschritten – in eine Methan-Ausschleussäule eingeleitet, auf deren Kopf Krypton-/Xenon-armer Flüssigsauerstoff aufgegeben wird. Damit kann das Methan, das sich im Sumpf der Niederdrucksäule ansammelt mit dem gasförmigen Kopfprodukt der Methan-Ausschleussäule aus dem Verfahren entfernt werden. Das Sumpfprodukt der Methan-Ausschleussäule enthält nur noch äußerst geringe Mengen an Methan und ist an Krypton und Xenon angereichert. Es kann entweder direkt aus der Methan-Ausschleussäule als Krypton-/Xenon-Vorkonzentrat abgezogen oder in die Niederdrucksäule zurückgeleitet und von dort als Vorkonzentrat abgezogen werden. Diese Verfahrensweise ist an sich bekannt und beispielsweise in Hausen/Linde, Tieftemperaturtechnik, 2. Auflage, 1985, Seiten 337 ff., in
DE 4332870 A1 ,EP 1006326 A1 (=US 6301929 B1 ) undEP 1308680 A1 (=US 2003110795 A1 ) beschrieben. Die Methan-Ausschleussäule bewirkt immer auch eine Aufkonzentrierung von Krypton und Xenon im Sumpfprodukt und wird deshalb auch häufig als Krypton-Xenon-Anreicherungssäule bezeichnet. - Das erzeugte Krypton-Xenon-Konzentrat kann an Ort und Stelle in weiteren Verfahrensschritten zu reinem Krypton und/oder Xenon getrennt werden. Alternativ wird es gespeichert, zum Beispiel in einem Flüssigtank, und an einem anderen Ort weiterverarbeitet.
- Die bekannte Verfahrensweise ist für streng stationären Betrieb optimal, kann aber bei Störungen oder Schwankungen der Betriebsbedingungen Probleme aufwerfen. Insbesondere können Krypton und Xenon gelegentlich zum Kopf der Methan-Ausschleussäule durchbrechen und gehen dann für die Produktion verloren.
- Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art anzugeben, welches eine konstant hohe Ausbeute an Krypton und/oder Xenon ermöglicht.
- Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, dass die krypton- und xenonhaltige Fraktion mindestens zum Teil und mindestens zeitweise an einer Zwischenstelle in die Methan-Ausschleussäule eingeleitet wird, die mindestens einen theoretischen oder praktischen Boden oberhalb des Sumpfs angeordnet ist.
- Es befindet sich also auch unterhalb der Zuspeisung der Einsatzfraktion ein Stoffaustauschabschnitt. Dieser weist ein erheblich höheres Rücklaufverhältnis als der obere Bereich der Methan-Ausschleussäule auf. Krypton, Xenon und andere schwerer als Sauerstoff flüchtige Komponenten werden dadurch höchst wirksam im Sumpf der Methan-Ausschleussäule zurückgehalten, insbesondere auch bei leicht schwankenden Betriebsbedingungen.
- Für den Fall, dass in dem betreffenden Abschnitt ausschließlich praktische Böden als Stoffaustauschelemente verwendet werden, gelten oben und im Folgenden die Angaben in praktischen Bodenzahlen; falls Packung, Füllkörper oder Kombinationen verschiedener Typen von Stoffaustauschelementen eingesetzt werden, sind die Angaben in theoretischen Bodenzahlen anzuwenden.
- Es ist günstig, wenn die Zwischenstelle 1 bis 5 theoretische beziehungsweise praktische Böden, insbesondere 2 bis 3 theoretische beziehungsweise praktische Böden oberhalb des Sumpfs der Methan-Ausschleussäule angeordnet ist. Im Allgemeinen genügen 2 bis 3 praktische Böden.
- Im Normalbetrieb wird vorzugsweise die gesamte krypton- und xenonhaltige Fraktion an der Zwischenstelle der Methan-Ausschleussäule eingespeist. Falls zeitweise ein relativ hoher Gehalt an Schwererflüchtigen an der Quelle der krypton- und xenonhaltigen Fraktion auftritt (insbesondere im Hauptkondensator eines Rektifiziersystems zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung), ist es jedoch günstig, wenn die krypton- und xenonhaltige Fraktion mindestens zum Teil und mindestens zeitweise an einer Stelle in die Methan-Ausschleussäule eingeleitet wird, die mindestens einen theoretischen oder praktischen Boden unterhalb der Zwischenstelle, insbesondere unmittelbar am Sumpf der Methan-Ausschleussäule angeordnet ist. Für die Zeit der Einspeisung in den Sumpf muss man zwar eine geringfügig verringerte Ausbeute an Krypton und/oder Xenon in Kauf nehmen; dafür wird die erhöhte Konzentration an Schwererflüchtigen besonders schnell abgebaut, was den Betrieb der Anlage besonders sicher macht. Die Anlage weist dazu eine entsprechende Regeleinrichtung auf, welche die Einspeisung bei Bedarf zwischen den beiden Möglichkeiten umschaltet beziehungsweise aufteilt.
- Die Erfindung betrifft außerdem eine Vorrichtung zur Gewinnung von Krypton und/oder Xenon durch Tieftemperaturzerlegung gemäß den Patentansprüchen 4 bis 7.
- Die Erfindung sowie weitere Einzelheiten der Erfindung werden im Folgenden anhand von in den Zeichnungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert. Hierbei zeigen:
-
1 ein Rektifiziersystem zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung mit angeschlossener Argongewinnung und mit einer Krypton-Xenon-Gewinnung gemäß der Erfindung und -
2 eine Methan-Ausschleussäule im Detail. - Über Leitung
101 von1 strömt verdichtete und gereinigte Luft (AIR) ein und wird in den drei Blöcken105a ,105b ,105c des Hauptwärmetauscher-Systems auf etwa Taupunkt abgekühlt. Die kalte Luft102 strömt schließlich zu einem ersten Teil1 gasförmig in die Hochdrucksäule2 eines Rektifiziersystems zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung ein, das außerdem eine Niederdrucksäule3 und einen Hauptkondensator ("zweiter Kondensator-Verdampfer")4 aufweist, der in dem Beispiel als Fallfilmverdampfer ausgebildet ist. Gasförmiger Stickstoff5 vom Kopf der Hochdrucksäule wird zu einem ersten Teil6 dem Kondensationsraum des Hauptkondensators4 zugeleitet. Das dort gebildete Kondensat7 wird zu einem ersten Teil8 der Hochdrucksäule als Rücklauf aufgegeben. Ein zweiter Teil9 wird in einem Unterkühlungs-Gegenströmer10 unterkühlt und über Leitung107 und Drosselventil108 in einen Abscheider (Phasentrenner)109 eingespeist. Mindestens ein Teil der Flüssigphase des Abscheiders109 wird über Leitung11 und Ventil12 der Niederdrucksäule3 am Kopf zugeführt. Ein anderer Teil dieser Flüssigkeit kann über Leitung92 als flüssiges Stickstoffprodukt (LIN) gewonnen werden. Ein weiterer Teil164 des gasförmigen Stickstoffs5 wird zum Hauptwärmetauscher105a geführt und dort teilweise auf etwa Umgebungstemperatur angewärmt. Ein Teil des warmen Druckstickstoffs139 kann unmittelbar als Druckprodukt (PGAN) abgezogen werden. Ein Zweigstrom153 wird bei einer Zwischentemperatur aus dem Hauptwärmetauscher105a entnommen und in einer ersten Stickstoff-Turbine154 arbeitsleistend auf etwa Niederdrucksäulen-Druck entspannt. Der entspannte Stickstoff155 wird gemeinsam mit dem Kopfstickstoff32 der Niederdrucksäule3 im Hauptwärmetauscher-Block105c angewärmt. - Die sauerstoffangereicherte Sumpfflüssigkeit
13 der Hochdrucksäule2 wird ebenfalls im Unterkühlungs-Gegenströmer10 und weiter (Leitung14 ) in einem Reinargon- Verdampfer63 abgekühlt. Die unterkühlte sauerstoffangereicherte Flüssigkeit15 wird in zwei Teilströmen weitergeführt. Der erste Teilstrom16 wird in den Verdampfungsraum eines "ersten Kondensator-Verdampfers"17 eingeleitet, der den Kopfkondensator einer Rohargonrektifikation18 /19 darstellt. Ein zweiter Teilstrom20 wird in den Verdampfungsraum eines Kopfkondensators21 einer Reinargonsäule22 eingespeist. - Der erste Kondensator-Verdampfer
17 ist als Umlaufverdampfer ausgebildet, das heißt der Verdampfungsraum enthält ein Flüssigkeitsbad, in das ein Wärmetauscherblock zum Beispiel teilweise eingetaucht ist. (Vorzugsweise ist der Wärmetauscherblock – abweichend von der zeichnerischen Darstellung – vollständig in das Flüssigkeitsbad eingetaucht.) Flüssigkeit wird durch den Thermosiphon-Effekt am unteren Ende der Verdampfungspassagen angesaugt. An deren oberem Ende tritt ein Gemisch aus Dampf und unverdampfter Flüssigkeit aus, wobei letztere in das Flüssigkeitsbad zurückströmt. Im ersten Kondensator-Verdampfer17 wird die krypton- und xenonhaltige Fraktion16 partiell verdampft; beispielsweise 0,01 bis 10 mol-%, vorzugsweise 0,1 bis 0,5 mol-% der eingeführten Flüssigkeit16 werden flüssig als Spülflüssigkeit26 aus dem Verdampfungsraum des ersten Kondensator-Verdampfers17 abgezogen. Durch diese partielle Verdampfung wird die Konzentration von schwererflüchtigen Komponenten, insbesondere von Krypton und Xenon, in der Flüssigkeit erhöht und im Dampf vermindert (jeweils im Vergleich zur Zusammensetzung der krypton- und xenonhaltigen Fraktion16 ). Der bei der partiellen Verdampfung erzeugte Dampf wird als gasförmiger Strom25 aus dem Verdampfungsraum des ersten Kondensator-Verdampfers17 abgezogen. - Verbleibende Flüssigkeit wird als "Spülflüssigkeit"
26 aus dem Flüssigkeitsbad abgeführt und einer Zusatzsäule120 zugeleitet, die in dem Beispiel fünf praktische Böden (Siebböden) aufweist. In der Zusatzsäule120 wird der Stickstoffgehalt der Spülflüssigkeit beispielsweise von 30 mol-% auf 0,1 mol-% reduziert. Die gereinigte Spülflüssigkeit121 wird als "krypton- und xenonhaltige Fraktion" einer Krypton-Xenon-Anreicherungssäule (Methan-Ausschleussäule)24 einige Böden oberhalb des Sumpfs zugeleitet. In dem Beispiel befinden sich zwischen Sumpf und Einspeisung zwei bis drei praktische Böden (Siebböden). Vom Kopf der Zusatzsäule120 wird ein stickstoffhaltiges Gas165 abgezogen und über Leitung166 an geeigneter Stelle der Niederdrucksäule3 zugeführt. - Die Krypton-Xenon-Anreicherungssäule
24 weist einen Sumpfverdampfer27 auf, der mit jeder geeigneten Fraktion beheizt werden kann. In dem Ausführungsbeispiel wird ein Teil28 der kalten Einsatzluft102 als Heizmittel verwendet. (Alternativ dazu könnte jede andere Fraktion aus der Hochdrucksäule, zum Beispiel Druckstickstoff vom Kopf der Hochdrucksäule2 eingesetzt werden.) Die in dem Sumpfverdampfer27 verflüssigte Luft29 wird einige Böden oberhalb der gasförmigen Luft1 in die Hochdrucksäule eingeleitet. Als Rücklaufflüssigkeit wird ein Teilstrom23 flüssigen Sauerstoffs135 von einer einige Böden oberhalb des Sumpfs angeordneten Zwischenstelle der Niederdrucksäule3 eingesetzt, der mittels einer Pumpe136 auf Druck gebracht wurde. Der aus dem Sumpfverdampfer27 aufsteigende Dampf tritt in der Krypton-Xenon-Anreicherungssäule in Gegenstrom-Stoffaustausch mit der Flüssigkeit23 , die ärmer an Krypton und Xenon ist. Dadurch werden diese Komponenten in den Sumpf gewaschen, wogegen Methan zum größten Teil mit dem Kopfgas30 ausgeschleust wird. Letzteres wird in dem Ausführungsbeispiel der Niederdrucksäule3 zu einem ersten Teil123 am Sumpf zugespeist. Dies ist möglich, weil es praktisch stickstofffrei ist. Ein zweiter Teil124 des Kopfgases30 der Krypton-Xenon-Anreicherungssäule24 wird als "stickstoffarmes Gas" in die Zusatzsäule120 geleitet und treibt den in der ungereinigten Spülflüssigkeit enthaltenen Stickstoff zum Kopf der Zusatzsäule. - Vom Sumpf der Krypton-Xenon-Anreicherungssäule
24 wird ein Krypton-Xenon-Konzentrat125 in flüssiger Form entnommen (Roh-Kr-Xe), das beispielsweise einen Krypton-Gehalt von etwa 4000 ppm und einen Xenon-Gehalt von etwa 400 ppm enthält: Im Übrigen besteht das Konzentrat125 hauptsächlich aus Sauerstoff und enthält weniger als 1 ppm Stickstoff. Das Konzentrat125 kann in einem Flüssigtank gespeichert oder direkt einer Weiterverarbeitung zur Gewinnung von reinem Krypton und/oder Xenon zugeführt werden. - Von der Niederdrucksäule
3 werden reiner gasförmiger Stickstoff32 am Kopf, Unreinstickstoff33 ebenfalls in Gasform sowie Sauerstoff135 in flüssiger Form (oberhalb dreier Sperrböden) mindestens teilweise als Produkte abgezogen. Die gasförmigen Produkte32 ,33 werden im Unterkühlungs-Gegenströmer10 und weiter im Hauptwärmetauscher-System105a ,105b ,105c angewärmt. Der warme Reinstickstoff156 kann zu einem ersten Teil157 in einem Verdunstungskühler zur Abkühlung von Kühlwasser für die nicht dargestellte Vorkühlung der Einsatzluft101 verwendet werden. Ein weiterer Teil158 kann mittels eines Stickstoff-Verdichters159 mit Nachkühler160 auf Druck gebracht und als Druckprodukt (GAN) abgeführt werden. Der angewärmte Unreinstickstoff161 kann als Regeneriergas in der ebenfalls nicht dargestellten Einrichtung zur Reinigung der Einsatzluft eingesetzt werden. - Der flüssige Sauerstoff
135 wird mittels einer Pumpe136 über Leitung137 – gegebenenfalls nach Unterkühlung10 – in einen nicht dargestellten Flüssigspeicher (LOX zum Tank) gefördert, soweit er nicht als Rücklaufflüssigkeit23 in die Krypton-Xenon-Anreicherungssäule24 strömt. Der in den Flüssigtank geführte Sauerstoff kann als Flüssigprodukt oder mittels der unten beschriebenen Innenverdichtung als gasförmiges Druckprodukt aus dem Verfahren abgeführt werden. Eine weitere flüssige Sauerstofffraktion35 wird vom am Sumpf der Niederdrucksäule3 abgezogen und mittels einer weiteren Pumpe36 über Leitung37 zum Verdampfungsraum des Hauptkondensators4 gefördert und dort teilweise verdampft. Das dabei gebildete Dampf-Flüssigkeitsgemisch38 fließt teilweise zum Sumpf der Niederdrucksäule3 zurück. Ein anderer Teil wird über Leitung138 als zusätzlicher Einsatz in die Krypton-Xenon-Anreicherungssäule24 geleitet und transportiert in dem Beispiel etwas weniger als die Hälfte des dort verarbeiteten Kryptons und Xenons in die Krypton-Xenon-Anreicherungssäule. - Mindestens ein Teil
139 des flüssigen Sauerstoffs aus dem Flüssigspeicher wird über Leitung34 einer Innenverdichtung (internal compression) unterzogen, indem er in einer Pumpe42 auf den gewünschten Produktdruck gebracht und über Leitung43 (GOX – IC) einem oder mehreren Wärmetauschern zugeführt wird – hier dem Block105a des Hauptwärmetauscher-Systems –, in dem oder denen er verdampft (beziehungsweise – bei überkritischem Produktdruck – pseudo-verdampft) und auf etwa Umgebungstemperatur angewärmt wird. - Verdampfung und Anwärmung können beispielsweise in indirektem Wärmeaustausch mit einem Hochdruckluftstrom durchgeführt werden. Im Ausführungsbeispiel wird dazu jedoch ein Stickstoff-Kreislauf eingesetzt, der gleichzeitig zur Erzeugung von Verfahrenskälte zum Ausgleich von Austausch- und Isolationsverlusten sowie zur Produktverflüssigung dient. Hierbei ist das Linde-VARIPOX®-Verfahren realisiert, das die Erzeugung variabler Mengen an Drucksauerstoff bei stationärem Betrieb des Rektifiziersystems erlaubt. Dieser Prozess ist in
EP 842385 B1 162 beziehungsweise163 über die Leitungen137 beziehungsweise92 in die Niederdrucksäule3 eingeführt. - Der Kreislauf wird durch einen Teil
140 des gasförmigen Stickstoffs138 –139 aus der Hochdrucksäule2 beschickt. Dieser wird in einem Kreislaufverdichter141 mit Nachkühler142 auf deutlich über Hochdrucksäulen-Druck gebracht und über Leitung143 zum warmen Ende des Hauptwärmetauscher-Blocks105a geleitet. Dort tritt er in indirekten Wärmeaustausch mit dem Drucksauerstoffprodukt. Ein Teil des Hochdruckstickstoffs strömt bis zum kalten Ende des Hauptwärmetauscher-Systems und wird dabei verflüssigt (beziehungsweise – im Falle überkritischen Drucks – pseudo-verflüssigt). Der kalte Hochdruckstickstoff144 wird in einem Drosselventil145 auf Hochdrucksäulen-Druck entspannt und der Hochdrucksäule2 am Kopf zugeführt (Leitung146 ). - Ein zweiter Teil
147 des Hochdruckstickstoffs143 wird bei einer Zwischentemperatur aus dem Hauptwärmetauscher105a abgezogen und in einer zweiten Stickstoff-Turbine148 arbeitsleistend auf etwa Hochdrucksäulen-Druck entspannt. Der entspannte Stickstoff149 ,150 wird nach Drosselung151 dem Kopf der Niederdrucksäule3 zugeleitet beziehungsweise über Leitung152 zum Kreislaufverdichter141 zurückgeführt. - Über eine Argonübergangs-Leitung
48 wird eine argonhaltige Fraktion aus der Niederdrucksäule3 in eine Rohargonrektifikation geleitet, die in dem Beispiel in zwei seriell verbundenen Rohargonsäulen18 und19 durchgeführt wird. Die argonhaltige Fraktion48 wird der ersten Rohargonsäule18 ummittelbar über dem Sumpf gasförmig zugeleitet. Der aufsteigende Dampf reichert sich an Argon an. Das Kopfgas der ersten Rohargonsäule18 strömt über Leitung49 weiter zum Sumpf der zweiten Rohargonsäule19 . - Am Kopf der zweiten Rohargonsäule
19 wird argonangereicherter Dampf (Rohargon)50 erzeugt und in dem ersten Kondensator-Verdampfer17 zum großen Teil kondensiert. Die dabei erzeugte Flüssigkeit51 wird als Rücklaufflüssigkeit auf die zweite Rohargonsäule19 aufgegeben. Die im Sumpf der zweiten Rohargonsäule19 anfallende Flüssigkeit52 wird mittels einer Pumpe53 über Leitung54 zum Kopf der ersten Rohargonsäule18 gefördert. Sumpfflüssigkeit55 der ersten Rohargonsäule18 strömt über ein weitere Pumpe56 und Leitung57 in die Niederdrucksäule3 zurück. - Gasförmig verbliebenen Rohargon
58 aus dem Verflüssigungsraum des ersten Kondensator-Verdampfers17 wird in der Reinargonsäule22 weiter zerlegt, insbesondere von leichterflüchtigen Bestandteilen wie Stickstoff befreit. Reinargonprodukt (LAR) wird über die Leitungen59 und60 in flüssiger Form abgezogen. Ein anderer Teil61 der Sumpfflüssigkeit wird in einem Reinargon-Verdampfer63 und über Leitung64 als aufsteigender Dampf in die Reinargonsäule22 zurückgeleitet. Der Reinargon-Verdampfer63 wird durch indirekten Wärmeaustausch mit mindestens einem Teil der Sumpfflüssigkeit14 der Hochdrucksäule2 beheizt, die bei dem Wärmeaustausch unterkühlt wird. Der Kopfkondensator21 der Reinargonsäule wird wie bereits beschrieben mit einem Teil20 dieser unterkühlten Flüssigkeit gekühlt. Aus dem Verdampfungsraum des Kopfkondensators21 werden Dampf66 und verbliebene Flüssigkeit23 abgezogen und an geeigneten Zwischenstellen in die Niederdrucksäule3 eingespeist. Im Verflüssigungsraum kondensiert Kopfgas67 der Reinargonsäule22 partiell. Dabei erzeugte Rücklaufflüssigkeit68 wird auf die Reinargonsäule aufgegeben. Restdampf69 wird in die Atmosphäre abgeblasen. - Zwischen den Blöcken
105a ,105b ,105c des Hauptwärmetauscher-Systems sind Ausgleichsströme167 ,168 vorgesehen. - In
2 ist eine Methan-Ausschleussäule24 dargestellt, welche eine Umschaltung beziehungsweise Aufteilung der Einspeisung der Einsatzfraktion121 erlaubt. Diese Methan-Ausschleussäule kann ohne Weiteres in das in1 dargestellte Verfahren integriert werden. Alternativ kann die krypton- und xenonhaltige Fraktion121 aus jeder anderen möglichen Quelle stammen, zum Beispiel direkt aus dem Verdampfungsraum eine Kopfkondensators einer Rohargonfraktion (wie zum Beispiel inEP 1308680 A1 ) und/oder direkt aus dem Sumpf der Niederdrucksäule oder Hochdrucksäule eines Zwei- oder Mehr-Säulen-Systems zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung. - Über Leitung
121 wird eine krypton- und xenonhaltige Fraktion in flüssigem Zustand herangeführt und über eine oder beide der Leitungen201 ,202 in die Methan-Ausschleussäule24 eingespeist. Auf den Kopf der Methan-Ausschleussäule24 wird eine flüssige Sauerstofffraktion23 aufgegeben, die eine sehr geringe Krypton- und Xenon-Konzentration aufweist, insbesondere einen geringeren Gehalt an diesen Komponenten als die Einsatzfraktion121 . Am Sumpf der Methan-Ausschleussäule24 wird ein Krypton-Xenon-Konzentrat125 abgezogen, am Kopf eine gasförmige Fraktion30 . Der Kopfdampf30 besteht im Wesentlichen aus Sauerstoff und schleust außerdem praktisch das gesamte Methan aus, das mit der Fraktion121 in die Methan-Ausschleussäule eingeleitet wird. Er kann beispielsweise direkt als gasförmiges Sauerstoffprodukt (GOX) gewonnen werden. - Im Sumpfverdampfer
27 wird durch indirekten Wärmeaustausch mit einem gasförmigen Heizmedium28 aufsteigender Dampf erzeugt. Das Heizmedium kondensiert dabei mindestens teilweise und wird über Leitung29 abgeführt. Als Heizmedium kann beispielsweise ein Teilstrom der Einsatzluft eines Rektifiziersystems zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung oder gasförmiger Stickstoff aus einer der Säulen eines Rektifiziersystems zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung, insbesondere aus der Hochdrucksäule eines Zwei- oder Mehr-Säulen-Systems eingesetzt werden. Die kondensierte Flüssigkeit kann in das Rektifiziersystems zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung zurückgeleitet werden. - Die erste Einsatzleitung
201 mündet einige Böden oberhalb des Sumpfs der Methan-Ausschleussäule24 . In dem Beispiel sind drei Siebböden unterhalb der Einsatzleitung201 angeordnet. Die zweite Einsatzleitung202 führt dagegen unmittelbar in den Sumpf der Methan-Ausschleussäule24 . Die beiden Ventile203 ,204 erlauben, zwischen den beiden Einspeisestellen umzuschalten beziehungsweise die Einsatzfraktion121 in jedem gewünschten Verhältnis auf die beiden Einsatzleitungen201 ,202 aufzuteilen. - In dem folgenden beispielhaften Szenario bildet der Verdampfungsraum des Hauptkondensators eines Rektifiziersystem zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung die Quelle der Einsatzfraktion
121 . Im Normalbetrieb der Anlage wird die gesamte Einsatzfraktion über die erste Einsatzleitung201 geführt, das Ventil204 ist geschlossen. Für den Fall. dass im Hauptkondensator eine unerwünscht hohe Konzentration an schwererflüchtigen Komponenten gemessen wird, führt man mindestens einen Teil der Einsatzfraktion121 über die zweite Einsatzleitung202 direkt in den Sumpf der Methan-Ausschleussäule24 . Dadurch werden die Schwererflüchtigen besonders schnell mit der Krypton-Xenon-Konzentrat125 herausgeführt. Dieser Effekt wirkt auf Kosten der Krypton-Xenon-Ausbeute und ist am stärksten, wenn die gesamte Fraktion121 über die zweite Einsatzleitung202 geführt wird, das Ventil203 also geschlossen ist.
Claims (7)
- Verfahren zur Gewinnung von Krypton und/oder Xenon durch Tieftemperaturzerlegung, bei dem – eine flüssige krypton- und xenonhaltige Fraktion (
13 ,14 ,15 ,16 ,26 ,121 ) einer Methan-Ausschleussäule (24 ) unterhalb des Kopfes zugeleitet wird, – auf den Kopf der Methan-Ausschleussäule (24 ) eine flüssige Sauerstofffraktion (23 ) aufgegeben wird, die eine sehr geringe Krypton- und Xenon-Konzentration aufweist, und – aus dem unteren Bereich der Methan-Ausschleussäule (24 ) ein Krypton-Xenon-Konzentrat (125 ) und – aus dem oberen Bereich der Methan-Ausschleussäule (24 ) ein methanhaltiger Dampf (30 ) entnommen werden, dadurch gekennzeichnet, dass – die krypton- und xenonhaltige Fraktion (13 ,14 ,15 ,16 ,26 ,121 ) mindestens zum Teil und mindestens zeitweise an einer Zwischenstelle in die Methan-Ausschleussäule (24 ) eingeleitet (201 ) wird, die mindestens einen theoretischen oder praktischen Boden oberhalb des Sumpfs angeordnet ist. - Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Zwischenstelle 1 bis 5 theoretische beziehungsweise praktische Böden, insbesondere 2 bis 3 theoretische beziehungsweise praktische Böden oberhalb des Sumpfs der Methan-Ausschleussäule (
24 ) angeordnet ist. - Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die krypton- und xenonhaltige Fraktion (
13 ,14 ,15 ,16 ,26 ,121 ) mindestens zum Teil und mindestens zeitweise an einer Stelle in die Methan-Ausschleussäule (24 ) eingeleitet (202 ) wird, die mindestens einen theoretischen oder praktischen Boden unterhalb der Zwischenstelle, insbesondere unmittelbar am Sumpf der Methan-Ausschleussäule (24 ) angeordnet ist. - Vorrichtung zur Gewinnung von Krypton und/oder Xenon durch Tieftemperaturzerlegung, mit – einer ersten Einsatzleitung (
201 ) zum Einleiten einer krypton- und xenonhaltigen Fraktion (13 ,14 ,15 ,16 ,26 ,121 ) in eine Methan-Ausschleussäule (24 ) unterhalb des Kopfes, – einer Rücklaufleitung (23 ) zum Aufgeben einer flüssige Sauerstofffraktion, die eine sehr geringe Krypton- und Xenon-Konzentration aufweist, auf den Kopf der Methan-Ausschleussäule (24 ), – einer Produktleitung (125 ) zum Entnehmen eines Krypton-Xenon-Konzentrats aus dem unteren Bereich der Methan-Ausschleussäule (24 ) und – einer Kopfgasleitung (30 ) zum Entnehmen eines methanhaltigen Dampfes aus dem oberen Bereich der Methan-Ausschleussäule (24 ), dadurch gekennzeichnet, dass – die erste Einsatzleitung (201 ) mit einer Zwischenstelle der Methan-Ausschleussäule (24 ) verbunden ist, die mindestens einen theoretischen oder praktischen Boden oberhalb des Sumpfs angeordnet ist. - Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass dadurch gekennzeichnet, dass die Zwischenstelle 1 bis 10 theoretische beziehungsweise praktische Böden, insbesondere 2 bis 5 theoretische beziehungsweise praktische Böden oberhalb des Sumpfs der Methan-Ausschleussäule (
24 ) angeordnet ist. - Vorrichtung nach Anspruch 4 oder 5, gekennzeichnet durch eine zweite Einsatzleitung (
202 ) zum Einleiten der krypton- und xenonhaltigen Fraktion (13 ,14 ,15 ,16 ,26 ,121 ) in die Methan-Ausschleussäule (24 ), wobei die zweite Einsatzleitung (202 ) mindestens einen theoretischen oder praktischen Boden unterhalb der Zwischenstelle, insbesondere unmittelbar am Sumpf, mit der Methan-Ausschleussäule (24 ) verbunden ist. - Vorrichtung nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch eine Regelvorrichtung, welche zwischen der ersten und der zweiten Einsatzleitung umschaltet beziehungsweise die Aufteilung zwischen der ersten und der zweiten Einsatzleitung krypton- und xenonhaltigen Fraktion (
13 ,14 ,15 ,16 ,26 ,121 ) einstellt.
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