DE10321640B4 - Infrared sensor with improved radiation efficiency - Google Patents

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Abstract

Strahlungssensor, z. B. für die berührungslose Temperaturmessung oder die Infrarot-Gasspektroskopie, der einen Detektorchip (2) bestehend aus einem Tragkörper (17) mit einer Ausnehmung (18) und einem Absorberelement (19), das Strahlung absorbiert und sich dadurch erwärmt, aufweist, wobei das Absorberelement (19) über der Ausnehmung (18) angeordnet ist, so daß zumindest ein Abschnitt des Absorberelements (19) den Tragkörper (17) nicht berührt und der Tragkörper auf einem Trägersubstrat (1) montiert ist, wobei zumindest der Grund bzw. die Bodenfläche der Ausnehmung (18) zumindest teilweise aus einem Material (7) besteht, das die zu detektierende Strahlung reflektiert und unter dem sich das Trägersubstrat (1) befindet, wobei ein Gehäuse (1, 9) bestehend aus einem Trägersubstrat (1) und einer Kappe (9) mit einer Öffnung (21), die derart ausgebildet ist, daß die zu detektierende Strahlung durch die Öffnung (21) treten kann, vorgesehen ist, wobei der Detektor (2) derart in dem Gehäuse (1, 9) angeordnet ist, daß die durch die Öffnung (21) tretende Strahlung zumindest teilweise auf das Absorberelement (19) trifft und wobei das Trägersubstrat (1) aus einem Basismaterial besteht, daß nicht elektrisch leitend ist, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägersubstrat (1) eine metallische Leitung oder Schicht (11) aufweist, die sich über das Trägersubstrat (1) zumindest bis zu dem Abschnitt (17), auf dem die Kappe (9) mit dem Trägersubstrat (1) in Verbindung tritt, erstreckt und wobei das Trägersubstrat (1) aus einem keramischen Grundwerkstoff, oder einem organischen Material besteht und die Metalleitung oder Metallschicht (11) durch aufgedruckte Leit- und Isolationsbahnen, vorzugsweise aus Silber-Palladium oder Silber-Platin gebildet wird, wobei Anschlußkontakte (14) für die Übertragung des Detektorsignals aus dem Gehäuse (2, 9) an der Unterseite des Trägersubstrats (1) vorgesehen sind.Radiation sensor, z. B. for non-contact temperature measurement or infrared gas spectroscopy, a detector chip (2) consisting of a support body (17) having a recess (18) and an absorber element (19) which absorbs radiation and thereby heated, wherein the Absorber element (19) is arranged above the recess (18), so that at least a portion of the absorber element (19) does not touch the support body (17) and the support body is mounted on a carrier substrate (1), wherein at least the base or the bottom surface the recess (18) consists at least partially of a material (7) which reflects the radiation to be detected and under which the carrier substrate (1) is located, wherein a housing (1, 9) consisting of a carrier substrate (1) and a cap (9) having an opening (21) which is formed such that the radiation to be detected can pass through the opening (21) is provided, wherein the detector (2) in such a manner in the housing (1, 9) is ordered that the through the opening (21) passing radiation at least partially on the absorber element (19) and wherein the carrier substrate (1) consists of a base material that is not electrically conductive, characterized in that the carrier substrate (1) a metallic line or layer (11) extending over the carrier substrate (1) at least to the portion (17) on which the cap (9) contacts the carrier substrate (1), and wherein the carrier substrate (1 ) consists of a ceramic base material, or an organic material and the metal line or metal layer (11) by printed conductive and insulating tracks, preferably of silver-palladium or silver-platinum is formed, wherein terminal contacts (14) for the transmission of the detector signal from the Housing (2, 9) on the underside of the carrier substrate (1) are provided.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Strahlungssensor, zum Beispiel für die berührungslose Temperaturmessung oder die Infrarot-Gasspektroskopie.The present invention relates to a radiation sensor, for example for non-contact temperature measurement or infrared gas spectroscopy.

Es sind eine Vielzahl von Techniken zur Messung von Temperaturen bekannt, die eine große Zahl von Effekten meßtechnisch ausnutzen, bei denen physikalische oder chemische Stoffeigenschaften eine Temperaturabhängigkeit zeigen. Dabei beruhen nahezu alle Verfahren auf einem Wärmetransport zum Meßfühler bzw. Sensor. Bei sogenannten Berührungsthermometern erfolgt dieser Wärmetransport durch Wärmeleitung und Konvektion, bei den berührungslosen Thermometern (Strahlungsthermometern) durch Wärmestrahlung.There are a variety of techniques for measuring temperatures known that exploit a large number of effects metrologically, in which physical or chemical properties show a temperature dependence. Almost all methods rely on a heat transfer to the sensor or sensor. In so-called contact thermometers, this heat transfer occurs by heat conduction and convection, in the non-contact thermometers (radiation thermometers) by thermal radiation.

Auch wenn die Berührungsthermometer im allgemeinen sehr zuverlässig arbeiten und meist einfach und kostengünstig herzustellen sind, ist ihr Einsatzgebiet dennoch eingeschränkt. So gibt es beispielsweise bedingt durch die Materialeigenschaften des Meßfühlers eine obere Temperaturgrenze, oberhalb derer der Meßfühler nicht mehr betrieben werden kann. Darüber hinaus sind die Berührungsthermometer ungeeignet, die Temperatur von schnell bewegten oder schwer zugänglichen Objekten zu messen.Although the touch thermometers generally work very reliable and are usually easy and inexpensive to manufacture, their application is still limited. For example, due to the material properties of the sensor, there is an upper temperature limit above which the sensor can no longer be operated. In addition, the contact thermometers are unsuitable to measure the temperature of fast moving or hard to reach objects.

Daher kommen in vielen Anwendungsgebieten berührungslose Meßverfahren zum Einsatz, die auf der Temperaturstrahlung beruhen. Jede Oberfläche mit einer Temperatur T > 0 K sendet elektromagnetische Strahlung aus, die sogenannte Temperaturstrahlung. Trifft eine von einer Oberfläche ausgehende Strahlung auf eine andere Oberfläche, so wird sie teilweise reflektiert, absorbiere oder durchgelassen. Daher werden bei Strahlungsthermometern Absorptionselemente eingesetzt, die Idealerweise eine von der Wellenlänge unabhängige Absorptionsfähigkeit aufweisen und die sich beim Auftreffen der Strahlung (Infrarotstrahlung) erwärmen, so daß die Erwärmung des Adsorptionselements als Nachweis für die emittierte Infrarotstrahlung dienen kann.Therefore, non-contact measuring methods based on the temperature radiation are used in many fields of application. Each surface with a temperature T> 0 K emits electromagnetic radiation, the so-called temperature radiation. If a radiation emanating from one surface strikes another surface, it is partially reflected, absorbed or transmitted. Therefore, in radiation thermometers absorption elements are used which ideally have a non-wavelength-independent absorption capacity and which heat when the radiation (infrared radiation), so that the heating of the adsorption element can serve as evidence of the emitted infrared radiation.

Strahlungsthermometer oder sogenannte Strahlungspyrometer weisen im allgemeinen eine Optik, einen Detektor mit einem Absorptionselement sowie ein Gehäuse auf, das Optik und Detektor mechanisch und thermisch schützt. Bei diesen Sensoren wird die von dem Meßobjekt ausgesandte Infrarotstrahlung durch geeignete Fenster oder optische Komponenten auf einer absorbierenden Fläche abgebildet, wobei diese Fläche aufgrund der Absorption eine Temperaturerhöhung erfährt Es versteht sich, daß prinzipiell mit diesem Verfahren auch Temperaturen gemessen werden können, die unterhalb der Temperatur des Detektors liegen. In diesem Fall ist jedoch die Temperaturerniedrigung, aufgrund der Eigenabstrahlung des Absorptionselements größer als die Temperaturerhöhung aufgrund der Absorption der erfaßten Strahlung, so daß insgesamt eine Temperaturerniedrigung des Absorberelements auftritt.Radiation thermometers or so-called radiation pyrometers generally have an optical system, a detector with an absorption element and a housing which protects the optics and detector mechanically and thermally. In these sensors, the infrared radiation emitted by the test object is imaged on an absorbing surface by suitable windows or optical components, this surface undergoing an increase in temperature due to the absorption. It will be understood that, in principle, temperatures lower than the temperature can also be measured with this method of the detector. In this case, however, the temperature reduction, due to the self-emission of the absorption element is greater than the temperature increase due to the absorption of the detected radiation, so that overall a temperature decrease of the absorber element occurs.

Die Temperaturerhöhung bzw. Temperaturdifferenz kann anschließend auf unterschiedliche Weise gemessen werden. Bei den Thermistor-Bolometern mißt man die Änderung des elektrischen Widerstands, bei den Thermoelementen die Spannung an der Kontaktstelle zweier Metalldrähte, bei den pyroelektrischen Detektoren eine Ladungsverschiebung, die bei einer Temperaturänderung spezieller isolatorkristalle entsteht.The temperature increase or temperature difference can then be measured in different ways. In the case of the thermistor bolometers, the change in the electrical resistance, in the case of the thermocouples, the voltage at the point of contact between two metal wires, and in the pyroelectric detectors, a charge shift, which results from a temperature change of special isolator crystals.

Die Thermoelemente nutzen die sogenannten Seebeck-Effekt zum Nachweis der erhöhten Temperatur aus. Dabei wird der Verbindungspunkt eines Thermopaares aus zwei verschiedenen thermoeleketrischen Materialien in Kontakt mit dem Absorberbereich gebracht, während sich der Referenzkontakt im allgemeinen auf der Temperatur des Sensorgehäuses befindet. Da die Sensorausgangsspannungen solcher Thermoelemente sehr gering sind, werden häufig viele solcher Thermoelemente in Reihe geschaltet Eine solche Reihenschaltung einer Vielzahl von Thermoelementen wird auch als Thermosäule bzw. Thermopile bezeichnet. The thermocouples use the so-called Seebeck effect to detect the elevated temperature. In this case, the connection point of a thermocouple made of two different thermoeleketrischen materials is brought into contact with the absorber region, while the reference contact is generally at the temperature of the sensor housing. Since the sensor output voltages of such thermocouples are very low, many such thermocouples are often connected in series. Such a series connection of a plurality of thermocouples is also referred to as a thermopile or thermopile.

In den letzten Jahren wurden auf vielen technologischen Gebieten große Anstrengungen unternommen, elektrische und elektronische Bauteile zu miniaturisieren, wobei sie möglichst mit bekannten standardisierbaren Prozessen kostengünstig herzustellen sein sollen. Die zunehmende Miniaturisierung führt bei den Strahlungssensoren zu einer kleineren Absorberfläche und damit zu einer geringeren Temperaturerhöhung, was wiederum zu einem geringeren Signal und damit zu einer reduzierten Auflösung führt.In recent years, great efforts have been made in many technological fields to miniaturize electrical and electronic components, where possible to be produced inexpensively with known standardizable processes. The increasing miniaturization leads to a smaller absorber surface in the radiation sensors and thus to a lower temperature increase, which in turn leads to a lower signal and thus to a reduced resolution.

Daher ist es gerade bei den miniaturisierten Strahlungssensoren wichtig, eine möglichst hohe Absorption der Infrarotstrahlung im Absorbersystem zu erzielen und die Absorberfläche möglichst gut thermisch von der Umgebung zu isolieren, um eine möglichst große Temperaturerhöhung und damit ein großes Sensorausgangssignal zu erzeugen.Therefore, it is particularly important in miniaturized radiation sensors to achieve the highest possible absorption of the infrared radiation in the absorber system and to isolate the absorber surface thermally as well as possible from the environment in order to produce the largest possible increase in temperature and thus a large sensor output signal.

Bekannt sind daher bereits Strahlungssensoren mit einem als Chip ausgebildeten Detektor, der aus einem Tragkörper mit einer Ausnehmung und einem Absorberelement besteht, das Strahlung absorbiert und sich dadurch erwärmt, wobei das Absorberelement über der Ausnehmung angeordnet ist, so daß zumindest ein Äbschnitt des Absorberelements den Tragkörper nicht berührt. Zu diesem Zweck ist häufig eine Membran mit sehr geringer thermischer Leitfähigkeit, die Ausnehmung im wesentlichen verdeckend, angeordnet und das Absorberelement auf der Membran positioniert. Dadurch ist sichergestellt, daß das Absorberelement von dem Tragkörper weitestgehend thermisch entkoppelt ist.Radiation sensors are therefore already known having a detector formed as a chip, which consists of a support body with a recess and an absorber element which absorbs radiation and thereby heated, wherein the absorber element is disposed above the recess, so that at least one section of the absorber element, the support body not touched. For this purpose is often a membrane with very low thermal conductivity, the recess substantially concealing, arranged and the absorber element positioned on the membrane. This ensures that the absorber element is largely thermally decoupled from the support body.

Die bekannten infrarotsensoren werden hauptsächlich mittels Silizium-Mikromechanik hergestellt und in Standardgehäusen der Elektrotechnik montiert. So ist beispielsweise in der EP 0 699 364 ein Infrarot-Strahlungsdetektor beschrieben, bei dem die verschiedenen Chips, zum Beispiel ein Thermopile-Array mit einem ASIC (anwendungsspezifischer Schaltkreis) zur Signalvorverarbeitung und ein Speicher-IC auf der Bodenplatte eines TO(Transistor Outline)-Gehäusebodens montiert sind. Die bekannten TO-Gehäuse haben jedoch eingeglaste Stifte zur Kontaktierung und lassen sich deshalb nur in Durchsteckkontaktierung auf Leiterplatten montieren. Eine moderne SMD(Surface Mounted Device)-Montagetechnik ist hiermit nicht möglich.The known infrared sensors are mainly produced by means of silicon micromechanics and mounted in standard housings of electrical engineering. For example, in the EP 0 699 364 An infrared radiation detector is described, in which the various chips, for example a thermopile array with an ASIC (application-specific circuit) for signal preprocessing and a memory IC are mounted on the bottom plate of a TO (transistor outline) housing floor. The known TO housing, however, have cast pins for contacting and can therefore be mounted only in Durchsteckkontaktierung on printed circuit boards. A modern SMD (Surface Mounted Device) assembly technology is not possible.

Auch der in der US-5,693,942 beschriebene Infrarotdetektor ist in einem TO-Gehäuse angeordnet, das mittels Durchsteckkontaktierung auf Leiterplatten montiert werden muß. Die hier gezeigte Ausführungsform besetzt in der Gehäussebodenplatte eine zusätzliche Aussparung unterhalb der empfindlichen Fläche des Sensorchips. Die Aussparung, die auch reflektierend ausgeführt sein kann, dient dazu, den Abstand zwischen Absorberelement und Trägersubstrat zu erhöhen, um die Empfindlichkeit des Infrarotsensors zu erhöhen.Also in the US 5,693,942 described infrared detector is arranged in a TO-housing, which must be mounted by means of Durchsteckkontaktierung on printed circuit boards. The embodiment shown here occupies an additional recess below the sensitive surface of the sensor chip in the housing bottom plate. The recess, which may also be designed to be reflective, serves to increase the distance between absorber element and carrier substrate in order to increase the sensitivity of the infrared sensor.

Die auf dem Markt erhältlichen Thermopile-Sensoren verwenden jeweils ein Metallstiftgehäuse mit metallischer Kappe. Dabei ist in der Kappe ein optisches Element, zum Beispiel ein Infrarotfilter, vorgesehen. Ein Teil der Infrarotstrahlung fällt durch das Infrarotfilter in der Kappe auf den Bereich neben dem Sensorelement, der üblicherweise aus einer metallischen und damit auch reflektierenden TO-Bodenplatte besteht. Diese Strahlungsanteile werden über Mehrfachreflexion an der Gehäusewandung oder der metallischen Kappe wieder zum Absorber zurückgeworfen. Diese Mehrfachreflexionen führen zu einer Meßfleckvergrößerung, die bei denjenigen Meßanordnungen, welche die Strahlungs- bzw. Temperaturmessung eines räumlich begrenzten Meßobjekts zum Ziel haben, unerwünscht ist. Dies ist der Normalfall bei der berührungslosen Temperaturmessung. Die bekannten Lösungen mit Metallstiftgehäuse sind nur mittels einer Durchsteckkontaktierung auf der nächsten Verdrahtungsebene kontaktierbar. Dies kann beispielsweise durch Weichlöten erfolgen. Bei den bekannten Lösungen lassen sich SMD-Montagetechniken nicht umsetzen.The thermopile sensors available on the market each use a metal pin housing with a metallic cap. In this case, an optical element, for example an infrared filter, is provided in the cap. Part of the infrared radiation falls through the infrared filter in the cap on the area next to the sensor element, which usually consists of a metallic and thus also reflective TO bottom plate. These radiation components are reflected back to the absorber via multiple reflection on the housing wall or the metallic cap. These multiple reflections lead to a Meßfleckvergrößerung, which is undesirable in those measuring arrangements, which have the radiation or temperature measurement of a spatially limited object to be measured. This is the normal case with non-contact temperature measurement. The known solutions with metal pin housing can only be contacted by means of a through-hole contact on the next wiring level. This can be done for example by soldering. In the known solutions, SMD mounting techniques can not be implemented.

Die DE 42 44 607 , die US 5,693,942 , die WO 95/18961 und die EP 0 599 364 zeigen ebenfalls Infrarotsensoren.The DE 42 44 607 , the US 5,693,942 , the WO 95/18961 and the EP 0 599 364 also show infrared sensors.

Gegenüber diesem Stand der Technik ist es Aufgabe der Erfindung, einen Strahlungssensor zur Verfügung zu stellen, der grundsätzlich für die SMD-Montagetechnik geeignet ist, der eine hohe Empfindlichkeit gegenüber Infrarotstrahlung aufweist und dennoch kostengünstig herzustellen ist.Compared to this prior art, it is an object of the invention to provide a radiation sensor is available, which is basically suitable for the SMD mounting technology, which has a high sensitivity to infrared radiation and yet is inexpensive to manufacture.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch einen Strahlungssensor mit allen Merkmalen von Anspruch 1 gelöst.According to the invention, this object is achieved by a radiation sensor having all the features of claim 1.

Dieses Material, das vorzugsweise derart ausgewählt wird, daß es praktisch keine Eigenabsorption und nahezu keine Transmission aufweist, reflektiert denjenigen Strahlungsanteil, der das Absorberelement durchquert hat, zu diesem zurück, um sicherzustellen, daß der reflektierte, durch das Absorberelement transmittierte Strahlungsanteil ebenfalls zur Temperaturerhöhung des Absorberelements beiträgt. In mehreren Versuchen hat sich überraschenderweise gezeigt, daß es nicht notwendig ist, in der Bodenplatte bzw. dem Trägersubstrat eine zusätzliche Aussparung vorzusehen. Die reflektierende Schicht bzw. das reflektierende Material kann statt dessen direkt auf bzw. am Grund bzw. der Bodenfläche der Ausnehmung angeordnet sein. Mit Vorteil ist die Ausnehmung im Tragkörper durchgehend ausgeführt, so daß das Absorberelement direkt oberhalb des unter dem Tragkörper angeordneten Materials angeordnet ist.This material, which is preferably selected so that it has virtually no inherent absorption and almost no transmission, reflects the portion of the radiation that has passed through the absorber element back to it, to ensure that the reflected radiation transmitted through the absorber element is also used to increase the temperature of the Absorber element contributes. In several experiments, it has surprisingly been found that it is not necessary to provide an additional recess in the bottom plate or the carrier substrate. The reflective layer or the reflective material may instead be arranged directly on or at the base or the bottom surface of the recess. Advantageously, the recess in the support body is designed to be continuous, so that the absorber element is arranged directly above the material arranged under the support body.

Mit Vorteil ist die die zu detektierende Strahlung reflektierende Schicht als Schicht ausgebildet und weist eine Dicke von weniger als 2 μm auf.The layer reflecting the radiation to be detected is advantageously designed as a layer and has a thickness of less than 2 μm.

In einer besonders zweckmäßigen Ausführungsform weist der Strahlungssensor ein Gehäuse auf, das aus einem Trägersubstrat und einer Kappe mit einer Öffnung besteht, die derart ausgebildet ist, daß die zu detektierende Strahlung durch die Öffnung treten kann, wobei der Detektorchip derart in dem Gehäuse angeordnet ist, daß die durch die Öffnung tretende Strahlung zumindest teilweise auf das Absorberelement trifft.In a particularly expedient embodiment, the radiation sensor has a housing which consists of a carrier substrate and a cap with an opening which is designed such that the radiation to be detected can pass through the opening, wherein the detector chip is arranged in the housing, that the radiation passing through the opening at least partially meets the absorber element.

Dies erlaubt eine einfache Verwirklichung des Strahlungssensor.This allows a simple realization of the radiation sensor.

Des Trägersubstrat besteht in einer besonders bevorzugten Ausführungsform aus einem Basismaterial, das elektrisch nicht leitend ist. Insbesondere dieses Merkmal erlaubt es, den Strahlungssensor als SMD (Surface Mounted Device) auszuführen.In a particularly preferred embodiment, the carrier substrate consists of a base material which is not electrically conductive. In particular, this feature makes it possible to perform the radiation sensor as an SMD (Surface Mounted Device).

Um eine möglichst gleichmäßige Temperaturverteilung in dem Trägersubstrat zu ermöglichen, weist dieses in einer weiteren besonders bevorzugten Ausführungsform eine metallische Schicht auf, die sich über bzw. in dem Trägersubstrat, zumindest bis zu dem Abschnitt auf dem die Kappe mit dem Trägersubstrat in Verbindung tritt, erstreckt und wobei die metallische Schicht den größten Teil der innerhalb der Kappe angeordneten Trägersubstratfläche bedeckt. Durch diese Maßnahme ist zusätzlich eine gute thermische Ankopplung der Kappe mit dem Trägersubstrat möglich.In order to allow the most uniform possible temperature distribution in the carrier substrate, this has in a further particularly preferred embodiment, a metallic layer which extends over or in the carrier substrate, at least up to the portion on which the cap with the Carrier substrate connects, and wherein the metallic layer covers most of the carrier substrate surface disposed within the cap. By this measure, a good thermal coupling of the cap with the carrier substrate is also possible.

Es hat sich gezeigt, daß des Trägersubstrat mit Vorteil aus einem keramischen Grundwerkstoff, vorzugsweise aus Oxidkeramik oder AIN-Keramik besteht. Die Metallschicht kann dann mit Vorteil durch aufgedruckte Leit- und Isolationsbahnen, vorzugsweise aus Silber-Palladium oder Silber-Platin, gebildet werden.It has been shown that the carrier substrate advantageously consists of a ceramic base material, preferably of oxide ceramic or AIN ceramic. The metal layer can then be advantageously formed by printed conductive and insulating tracks, preferably of silver-palladium or silver-platinum.

Alternativ dazu kann des Trägersubstrat auch aus einem organischen Material, beispielsweise aus Epoxyd, Pertinax oder Polyimid, vorzugsweise aus FR2, FR3 oder FR4, bestehen. In diesem Fall besteht die Metallschicht zweckmäßigerweise aus einer auflaminierten oder additiv aufgebrachten Metallschicht mit einer Dicke von vorzugsweise zwischen etwa 20 und 150 μm, wobei die Metallschicht vorzugsweise aus Kupfer besteht.Alternatively, the carrier substrate can also consist of an organic material, for example of epoxide, pertinax or polyimide, preferably of FR2, FR3 or FR4. In this case, the metal layer is expediently composed of a laminated or additively applied metal layer having a thickness of preferably between about 20 and 150 μm, wherein the metal layer is preferably made of copper.

Weiterhin hat es sich gezeigt, daß es besonders zweckmäßig ist, wenn des Trägersubstrat als oberste Schicht um den Tragkörper herum eine strahlungsabsorbierende Schicht aufweist, wobei die strahlungsabsorbierende Schicht beispielsweise ein organischer Lack, ein Photoresist oder ein Lotstoplack sein kann. Durch diese Maßnahme werden Strahlungsanteile, die nicht auf des Absorberrelement fallen, nicht reflektiert, so daß der Meßfleck nicht vergrößert wird. Alternativ dazu kann die metallische Schicht auch aufgerauht werden, um die Absorption zu erhöhen.Furthermore, it has been shown that it is particularly expedient if the carrier substrate has a radiation-absorbing layer as the topmost layer around the carrier body, wherein the radiation-absorbing layer can be, for example, an organic lacquer, a photoresist or a solder stopper. By this measure, radiation components that do not fall on the Absorberrelement not reflected, so that the measurement spot is not increased. Alternatively, the metallic layer may also be roughened to increase absorption.

Um eine automatische Montierung des Strahlungssensors zu ermöglichen, ist in einer weiteren besonders bevorzugten Ausführungsform vorgesehen, daß das Trägersubstrat eine Markierung aufweist, die außerhalb der Kappe angeordnet ist, wobei die Markierung derart ausgelegt ist, daß automatische Positionierungssysteme anhand der Markierung eine Orientierung und/oder Positionierung des Sensors durchführen können.In order to enable automatic mounting of the radiation sensor, it is provided in a further particularly preferred embodiment that the carrier substrate has a marking which is arranged outside the cap, wherein the marking is designed such that automatic positioning systems based on the marking an orientation and / or Positioning of the sensor can perform.

Es hat sich gezeigt, daß die Markierung mit Vorteil in der metallischen Schicht angeordnet ist. Mit anderen Worten reicht die strahlungsabsorbierende Schicht, sofern sie vorhanden ist, nicht über das gesamte Trägersubstrat, sondern läßt außerhalb der Kappe die metallische Schicht zumindest teilweise unbedeckt, so daß die Markierung in der metallischen Schicht angeordnet werden kann.It has been found that the marking is advantageously arranged in the metallic layer. In other words, the radiation-absorbing layer, if present, does not extend over the entire carrier substrate, but leaves the metallic layer at least partially uncovered outside the cap, so that the marking can be arranged in the metallic layer.

Um eine SMD-Montage des erfindungsgemäßen Strahlungssensors zu ermöglichen, sind die Anschlußkontakte für die Übertragung des Detektorsignals aus dem Gehäuse an der Unterseite des Trägersubstrats, d. h. an der der Kappe abgewandten Seite, vorgesehen. Die Verbindung des Detektorelements mit den Anschlußkontakten erfolgt dann mit Vorteil über metallisierte Durchgangslöcher, sogenannte VIAs, durch das Trägersubstrat, wobei die Anschlußkontakte dann vorzugsweise als Lothügel ausgebildet sind. Somit ist eine automatische Bestückung des Strahlungssensors mit bekannten SMD-Techniken möglich.In order to enable an SMD mounting of the radiation sensor according to the invention, the connection contacts for the transmission of the detector signal from the housing at the bottom of the carrier substrate, d. H. on the side facing away from the cap, provided. The connection of the detector element with the terminal contacts is then advantageously via metallized through holes, so-called VIAs, through the carrier substrate, wherein the terminal contacts are then preferably formed as a solder bump. Thus, an automatic assembly of the radiation sensor with known SMD techniques is possible.

Weiterhin hat es sich gezeigt, daß mit Vorteil die metallische Schicht und/oder die strahlungsabsorbierende Schicht, sofern diese vorhanden sind, in unmittelbarer Umgebung der Durchgangslöcher unterbrochen ist. Dies stellt einen definierten Kontakt zwischen Detektorchip und Anschlußkontakt her.Furthermore, it has been shown that advantageously the metallic layer and / or the radiation-absorbing layer, if present, is interrupted in the immediate vicinity of the through-holes. This establishes a defined contact between the detector chip and the terminal contact.

Mit Vorteil werden die Durchgangslöcher gasdicht verschlossen und vorzugsweise mit einem Dichtmittel gefüllt.Advantageously, the through holes are sealed gas-tight and preferably filled with a sealant.

Weitere Vorteile, Merkmale und Anwendungsmöglichkeiten der vorliegenden Erfindung werden deutlich anhand der folgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen sowie der zugehörigen Figuren. Es zeigen:Further advantages, features and possible applications of the present invention will become apparent from the following description of preferred embodiments and the accompanying figures. Show it:

1 einen erfindungsgemäßen Strahlungssensor in einer Draufsicht von oben mit abgenommener Kappe, 1 a radiation sensor according to the invention in a plan view from above with the cap removed,

2 eine Schnittansicht durch den Strahlungssensor von 1, 2 a sectional view through the radiation sensor of 1 .

3 eine alternative Ausführungsform des efindungsgemäßen Strahlungssensors, bei dem das Trägersubstrat als Direktsteckverbinder ausgebildet ist, 3 an alternative embodiment of the inventive radiation sensor, in which the carrier substrate is designed as a direct connector,

4 eine weitere alternative Ausführungsform des erfindungsgemäßen Strahlungssensors, bei der ein Steckverbinder auf der Oberseite des Trägersubstrates angeordnet ist, und 4 a further alternative embodiment of the radiation sensor according to the invention, in which a connector is arranged on the upper side of the carrier substrate, and

5 eine weitere alternative Ausführungsform des erfindungsgemäßen Strahlungssensors, bei der das Trägersubstrat als Flex- oder Starr-Flex-Leiterplatte ausgeführt ist und das Ende der Leiterplatte als Direktsteckverbinder mit Direktsteckverbinderkontakten ausgebildet ist. 5 a further alternative embodiment of the radiation sensor according to the invention, in which the carrier substrate is designed as a flex or rigid-flex circuit board and the end of the circuit board is designed as a direct connector with direct connector contacts.

Der prinzipielle Aufbau des erfindungsgemäßen Temperatursensors ist in den 1 und 2 gezeigt. Ein Detektorchip 2, der hier ein Thermopile-Element aufweist, ein Siliziumschaltkreis 3 und eine Temperaturreferenz 4 zur Messung der Umgebungstemperatur sind mit gutem thermischen Kontakt auf einem Trägersubstrat 1 befestigt, das entweder aus einem organischen Leiterplattenmaterial oder einer Keramik, wie zum Beispiel Oxidkeramik oder AIN-Keramik, besteht. Es versteht sich, daß die Temperaturreferenz 4 gegebenenfalls auch in dem Siliziumschaltkreis 3, der zum Beispiel als applikationsspezifischer integrierter Schaltkreis mit Verstärker- und Kompensationsschaltung, als sogenannter ASIC, ausgebildet sein kann, integriert sein kann. Dieser Schallkreis stellt die erste Stufe zur Signalkonditionierung dar. Darüber hinaus versteht es sich, daß der Detektorchip auch mehrere Elements, die z. B. in Form einer Zelle oder Matrix angeordnet sind, enthalten kann.The basic structure of the temperature sensor according to the invention is in the 1 and 2 shown. A detector chip 2 having a thermopile element here, a silicon circuit 3 and a temperature reference 4 for measuring the ambient temperature are with good thermal contact on a carrier substrate 1 attached, either from an organic circuit board material or a ceramic, such as oxide ceramic or AIN ceramic. It is understood that the temperature reference 4 optionally also in the silicon circuit 3 , which may be formed, for example, as an application-specific integrated circuit with amplifier and compensation circuit, as a so-called ASIC, integrated. This sound circuit represents the first stage for signal conditioning. In addition, it is understood that the detector chip also several elements, the z. B. in the form of a cell or matrix may contain.

Die Montage der einzeinen Komponenten 2, 3 und 4 auf dem Trägersubstrtrat 1 erfolgt vorzugsweise mit Hilfe eines leitfähigen Klebers, zum Beispiel einem silbergefüllten Epoxidkleber. Alternativ ist jedoch auch ein Auflöten der Chipkomponenten mit einem Zinn-Blei-Lot oder mit einem bleifreien Lot möglich.Assembly of individual components 2 . 3 and 4 on the carrier substrate 1 is preferably carried out with the aid of a conductive adhesive, for example a silver-filled epoxy adhesive. Alternatively, however, a soldering of the chip components with a tin-lead solder or with a lead-free solder is possible.

Der Detektorchip 2, das Temperaturreferenzelement 4 und der Siliziumschaltkreis 3 sind durch dünne Bonddrähte 5 mit den Anschlußkontaktflächen 6 des Trägersubstrats 1 elektrisch leitend verbunden.The detector chip 2 , the temperature reference element 4 and the silicon circuit 3 are through thin bonding wires 5 with the terminal contact surfaces 6 of the carrier substrate 1 electrically connected.

Das Trägersubstrat 1 weist eine Metallisierung 11 auf. Der Detektorchip 2 ist auf einem Tragkörper 17 montiert, der eine Ausnehmung 18 aufweist. Das Absorberelement 19 des Detektorchips 2 ist derart über der Ausnehmung 18 des Tragkörpers 17 angeordnet, daß das Absorberelement 19 zumindest bereichsweise keinen Kontakt zu dem Tragkörper 17 hat. Unterhalb des Absorberelements 19 ist die Metallisierung 11 mit einer sehr gut reflektierenden Beschichtung 7 ausgestattet, die zum Beispiel als dünne, galvanisch oder chemisch aufgebrachte Goldschicht ausgeführt sein kann. Solch eine Beschichtung ist kostengünstig realisierbar, da sie bei der Herstellung von Leiterplatten zu den Standardprozessen gehört. Falls das Trägersubstrat 1 aus einem organischen Trägersubstratmaterial, wie zum Beispiel FR2, FR3, FR4 oder Polyimid, besteht, wird eine auflaminierte oder additiv aufgebrachte Metallschicht 11 von vorzugsweise zwischen circa 20 und 150 μm Dicke unter dem Detektorchip 2, unter der Temperaturreferenz 4 bzw. unter dem Siliziumschaltkreis 3 bis hin zur Kappenauflagefläche angeordnet Als Metallschicht kann beispielsweise die üblicherweise bei Leiterplatten vorhandene Kupferschicht verwendet werden.The carrier substrate 1 has a metallization 11 on. The detector chip 2 is on a support body 17 mounted, a recess 18 having. The absorber element 19 of the detector chip 2 is so over the recess 18 of the supporting body 17 arranged that the absorber element 19 at least in some areas no contact with the support body 17 Has. Below the absorber element 19 is the metallization 11 with a very good reflective coating 7 equipped, for example, can be designed as a thin, galvanically or chemically applied gold layer. Such a coating is inexpensive to implement because it is one of the standard processes in the manufacture of printed circuit boards. If the carrier substrate 1 of an organic carrier substrate material, such as FR2, FR3, FR4 or polyimide, becomes a laminated or additively deposited metal layer 11 preferably between about 20 and 150 microns thick under the detector chip 2 , below the temperature reference 4 or under the silicon circuit 3 arranged as far as the cap support surface The metal layer which can be used, for example, is the copper layer which is usually present in printed circuit boards.

Wird als Trägersubstrat 1 ein Keramiksubstrat verwendet, dann besteht die Metallschicht 11 mit Vorteil aus einer gedruckten Leiterbahn, zum Beispiel aus Silber-Palladium oder Silber-Platin.Is used as a carrier substrate 1 uses a ceramic substrate, then there is the metal layer 11 with advantage of a printed conductor, for example of silver-palladium or silver-platinum.

Die Metallschicht 11 ist um die Chipelemente 2, 3 und 4 sowie um die Kontaktflächen 6 und der Kreissegmentfläche für die Kappenmontage mit einer absorbierenden Schicht 8 überzogen. Die absorbierende Schicht 8 kann beispielsweise aus einem Lötstoplack, vorzugsweise bei organischem Substratmaterial oder einer gedruckten Isolationsschicht, vorzugsweise bei Keramiksubstraten, bestehen. Dadurch wird sichergestellt, daß unerwünschte Strahlungsanteile, die neben dem Absorberelement 19 auf die Substratoberfläche fallen, nicht reflektiert werden, sondern durch die Absorptionsschicht 8 absorbiert werden. Durch diese Maßnahme wird einer Erhöhung der Meßfleckgröße entgegengewirkt.The metal layer 11 is about the chip elements 2 . 3 and 4 as well as the contact surfaces 6 and the circular segment area for cap mounting with an absorbent layer 8th overdrawn. The absorbing layer 8th may for example consist of a Lötstoplack, preferably in organic substrate material or a printed insulating layer, preferably in ceramic substrates. This ensures that unwanted radiation components, in addition to the absorber element 19 fall on the substrate surface, are not reflected, but through the absorption layer 8th be absorbed. By this measure, an increase in the Meßfleckgröße is counteracted.

Wie in 2 zu sehen ist, wird eine metallische Kappe 9, die beispielsweise aus Stahl, Nickel, Messing oder Kupfer besteht, auf dem Trägersubstrat 1 in einer gasdichten Art und Weise montiert Die metallische Kappe 9 weist eine Öffnung 21 auf, die mit einem Infrarot durchlässigen Filter 10 bedeckt wird, der vorzugsweise optisch vergütet ist. Die Montage des Filters 10 in die Kappe 9 kann beispielsweise durch Kleben, Weichlöten oder Diffusionsschweißen erfolgen. Die Verbindung 12 zwischen der Kappe 9 einerseits und dem Trägersubstrat 1 andererseits kann mit Vorteil durch Weichlöten oder durch Kleben erfolgen. Des Verbindungsmedium 12 zwischen Kappe 9 und Trägersubstrat 1 wird vorzugsweise je nach Anwendungsfall derart ausgewählt, daß entweder ein elektrischer Kontakt und damit eine gute thermische Verbindung zwischen der Kappe 9 und der Metallschicht 11 oder aber eine elektrisch isolierte Montage verwirklicht wird. Im ersten Fall kommt mit Vorteil metallisches Weichlot und im zweiten Fall mit Vorteil dielektrisch gefüllter Epoxidharzkleber zum Einsatz.As in 2 is seen, a metallic cap 9 , which consists for example of steel, nickel, brass or copper, on the carrier substrate 1 mounted in a gas-tight manner The metallic cap 9 has an opening 21 on top of that with an infrared transparent filter 10 is covered, which is preferably optically tempered. The installation of the filter 10 in the cap 9 can be done for example by gluing, soldering or diffusion bonding. The connection 12 between the cap 9 on the one hand and the carrier substrate 1 On the other hand, can be done with advantage by soft soldering or by gluing. The connection medium 12 between cap 9 and carrier substrate 1 is preferably selected depending on the application such that either an electrical contact and thus a good thermal connection between the cap 9 and the metal layer 11 or an electrically insulated mounting is realized. In the first case, metallic soft solder is advantageously used, and in the second case advantageously dielectrically filled epoxy resin adhesive is used.

Die Anschlußkontaktflächen 6 sind, wie in 2 deutlich zu erkennen ist, über Durchführungslöcher 13, die auch als Vias bezeichnet werden, im Trägersubstrat 1 mit den Anschlußkontakten 14, die hier als Lothügel ausgebildet sind, verbinden. Die Durchführungslöcher 13 sind an den Wänden metallisiert und werden, zum Beispiel mit Hilfe eines Klebertropfens 15 oder eines Lotverschlusses mit Lotkugel von der Unterseite her nach Abschluß der Montage gasdicht verschlossen. Dieser Verschluß sorgt dafür, daß der Sensor und damit des Detektorelement 2 gegen Umwelteinflüsse, wie zum Beispiel Feuchtigkeit, aggressive Gase, usw. geschützt ist.The connection pads 6 are, as in 2 can be clearly seen through implementation holes 13 , which are also referred to as vias, in the carrier substrate 1 with the connection contacts 14 , which are designed here as a soldering hole, connect. The passage holes 13 are metallised on the walls and become, for example, with the help of a drop of glue 15 or a Lotverschlusses with solder ball sealed from the bottom after completion of installation gas-tight. This closure ensures that the sensor and thus the detector element 2 against environmental influences, such as moisture, aggressive gases, etc. is protected.

In einer besonders bevorzugten Ausführungsform erfolgt das Verschließen unter einer definierten Gasatmosphäre, zum Beispiel bei trockener Stickstoffatmosphäre oder Edelgasatmosphäre, um ein definiertes Gas- und Feuchteverhältnis im Innenraum sicherzustellen.In a particularly preferred embodiment, the closure takes place under a defined gas atmosphere, for example in a dry nitrogen atmosphere or inert gas atmosphere, in order to ensure a defined gas and moisture ratio in the interior.

Durch die auf der Unterseite des Trägersubstrats 1 angeordneten Lotkugeln 14 ist eine leichte Kontaktierung des Sensorelements mit der nächsten Verdrahtungsebene oder mit einem Steckverbinder oder mit einer flexiblen Leiterplatte, die als Zwischenverdrahtung wirkt, möglich.By on the underside of the carrier substrate 1 arranged solder balls 14 is easy contact of the sensor element with the next wiring level or with a connector or with a flexible circuit board, which acts as an intermediate wiring possible.

Zu diesem Zweck werden die Metallisierungen der Durchführngslöcher 13 zu den aufgedruckten Lothügeln 14 geführt.For this purpose, the metallizations of the Durchführngslöcher 13 to the printed soldering holes 14 guided.

Im Ergebnis ist damit eine oberflächenmontierbares Bauelement (SMD) verwirklicht worden. Ein solches wird auch als Ball Grid Array (BGA) bezeichnet. Bei der Verwendung von Leiterplattenmaterial, zum Beispiel FR4, FR3, FR2 oder Polyamid als Trägersubstrat wird ein solches Bauelement auch als Plastik Ball Grid Array (PBGA) bezeichnet.As a result, a surface mountable device (SMD) has been realized. This is also known as Ball Grid Array (BGA). When using printed circuit board material, for example FR4, FR3, FR2 or polyamide as a carrier substrate, such a component is also referred to as a plastic ball grid array (PBGA).

Die möglichst dauerhafte Kontaktierung des Sensorelements mit der nächsten Verdrahtungsebene, die in den meisten Anwendungsfällen aus einer Leiterplatte besteht kann nach der automatischen Bestückung der Leiterplatte mit dem BGA durch das erneute Aufschmelzen der Lothügel, d. h. durch das sogenannte Reflow-Löten erfolgen. Selbstverständlich könnten auch Ball Grid Array Sockel für die Kontaktierung für den Sensortest oder sogar für die Endmontage verwendet werden.The most permanent contacting of the sensor element with the next wiring level, which consists in most cases of a printed circuit board can after the automatic assembly of the circuit board with the BGA by the remelting of the solder bumps, d. H. done by the so-called reflow soldering. Of course, Ball Grid Array sockets could be used for contacting for the sensor test or even for final assembly.

Deutlich zu erkennen ist in 1 die asymmetrische Markierung 16, die beispielsweise unter Nutzung der Metallisierung 11 hergestellt wird. Durch diese asymmetrische Markierung 16 ist ein automatisches Erkennen und Positionieren des Sensors durch handelsübliche Bestückungs- und Testautomaten möglich. Prinzipiell kann die Markierung sowohl oberseitig, d. h. auf der Kappenseite des Trägersubstrats, als auch unterseitig auf dem Trägersubstrat 1 ausgeführt sein, wobei die Anordnung der Markierung auf der Oberseite des Trägersubstrats 1 besonders bevorzugt ist Insgesamt erfüllt das erfindungsgemäße Sensorelement alle Anforderungen, die an ein SMD-Bauelement gesteht werden.Clearly visible in 1 the asymmetric marker 16 for example, using metallization 11 will be produced. By this asymmetric marking 16 is an automatic detection and positioning of the sensor by standard assembly and testing machines possible. In principle, the marking may be on the upper side, ie on the cap side of the carrier substrate, as well as on the underside on the carrier substrate 1 be executed, wherein the arrangement of the marking on the upper side of the carrier substrate 1 On the whole, the sensor element according to the invention fulfills all requirements which are admits to an SMD component.

Insbesondere dann, wenn als Trägersubstrat 1 eine standardisierte Leiterplatte gewählt wird, können beispielsweise auch weitere, externe Bauelemente auf der Vorderseite oder der Rückseite des Trägersubstrats 1 aufgebracht werden. Dies kann insbesondere dann von Vorteil sein, wenn die zusätzlichen Komponenten eine hohe elektrische Verlustleistung aufweisen, die zur thermischen Beeinflussung des Infrarot-Sensorchips führen können.In particular, when as a carrier substrate 1 a standardized printed circuit board is selected, for example, other external components on the front or the back of the carrier substrate 1 be applied. This can be particularly advantageous if the additional components have a high electrical power loss, which can lead to the thermal influence of the infrared sensor chip.

Alternativ kann das als Leiterplatte ausgeführte Trägersubstrat 1 auch so ausgeführt sein, daß andere Kontaktierungen zur nächsten Verdrahtungsebene möglich sind. Das können folgende Ausführungsformen sein:

  • Das Trägersubstrat 1 kann als Leiterplatte mit Kontakten 23 für Direktsteckverbinder 22 ausgestattet sein (siehe 3),
  • das Trägersubstrat 1 kann als Leiterplatte mit einem Steckverbinder 24, der sich auf der Trägersubstratober- oder -unterseite befinden kann, ausgestattet sein (siehe 4),
  • das Trägersubstrat 1 kann als Leiterplatte, die als Flex- oder Starr-Flex-Leiterplatte ausgeführt ist und wobei das Ende der Leiterplatte als Direktsteckverbinder 22 mit Direktsteckverbinderkontakten 23 ausgeführt ist, ausgebildet sein (siehe 5).
Alternatively, the carrier substrate embodied as a printed circuit board 1 be designed so that other contacts to the next wiring level are possible. These can be the following embodiments:
  • - The carrier substrate 1 can be used as a printed circuit board with contacts 23 for direct connectors 22 be equipped (see 3 )
  • - The carrier substrate 1 can be used as a printed circuit board with a connector 24 , which may be located on the carrier substrate top or bottom, be equipped (see 4 )
  • - The carrier substrate 1 can be used as a printed circuit board, which is designed as a flex or rigid-flex circuit board and wherein the end of the circuit board as a direct connector 22 with direct connector contacts 23 is executed, be formed (see 5 ).

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
Trägersubstratcarrier substrate
22
Detektorchipdetector chip
33
Silizium-SchaltkreisSilicon circuit
44
Temperaturreferenztemperature reference
55
BonddrähteBond wires
66
AnschlußkontaktflächeTerminal contact surface
77
reflektierendes Materialreflective material
88th
strahlungsabsorbierende Schichtradiation-absorbing layer
99
Kappecap
1010
Filterfilter
1111
metallische Leitung/Schichtmetallic pipe / layer
1212
Verbindung zwischen Kappe und TrägersubstratConnection between cap and carrier substrate
1313
DurchgangslöcherThrough holes
1414
Anschlußkontakte/LotkugelnConnecting contacts / solder balls
1515
Dichtmittelsealant
1616
Markierungmark
1717
Tragkörpersupporting body
1818
Ausnehmungrecess
1919
Absorberelementabsorber element
2020
KappenauflageflächeCap bearing surface
2121
Kappenöffnungcap opening
2222
DirektsteckverbinderBackplane
2323
DirektsteckverbinderkontaktBackplane Contact
2424
SteckverbinderConnectors
2525
SteckverbinderkontaktstiftConnector pin

Claims (16)

Strahlungssensor, z. B. für die berührungslose Temperaturmessung oder die Infrarot-Gasspektroskopie, der einen Detektorchip (2) bestehend aus einem Tragkörper (17) mit einer Ausnehmung (18) und einem Absorberelement (19), das Strahlung absorbiert und sich dadurch erwärmt, aufweist, wobei das Absorberelement (19) über der Ausnehmung (18) angeordnet ist, so daß zumindest ein Abschnitt des Absorberelements (19) den Tragkörper (17) nicht berührt und der Tragkörper auf einem Trägersubstrat (1) montiert ist, wobei zumindest der Grund bzw. die Bodenfläche der Ausnehmung (18) zumindest teilweise aus einem Material (7) besteht, das die zu detektierende Strahlung reflektiert und unter dem sich das Trägersubstrat (1) befindet, wobei ein Gehäuse (1, 9) bestehend aus einem Trägersubstrat (1) und einer Kappe (9) mit einer Öffnung (21), die derart ausgebildet ist, daß die zu detektierende Strahlung durch die Öffnung (21) treten kann, vorgesehen ist, wobei der Detektor (2) derart in dem Gehäuse (1, 9) angeordnet ist, daß die durch die Öffnung (21) tretende Strahlung zumindest teilweise auf das Absorberelement (19) trifft und wobei das Trägersubstrat (1) aus einem Basismaterial besteht, daß nicht elektrisch leitend ist, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägersubstrat (1) eine metallische Leitung oder Schicht (11) aufweist, die sich über das Trägersubstrat (1) zumindest bis zu dem Abschnitt (17), auf dem die Kappe (9) mit dem Trägersubstrat (1) in Verbindung tritt, erstreckt und wobei das Trägersubstrat (1) aus einem keramischen Grundwerkstoff, oder einem organischen Material besteht und die Metalleitung oder Metallschicht (11) durch aufgedruckte Leit- und Isolationsbahnen, vorzugsweise aus Silber-Palladium oder Silber-Platin gebildet wird, wobei Anschlußkontakte (14) für die Übertragung des Detektorsignals aus dem Gehäuse (2, 9) an der Unterseite des Trägersubstrats (1) vorgesehen sind.Radiation sensor, z. B. for non-contact temperature measurement or infrared gas spectroscopy, a detector chip ( 2 ) consisting of a supporting body ( 17 ) with a recess ( 18 ) and an absorber element ( 19 ), which absorbs radiation and thereby heats up, wherein the absorber element ( 19 ) over the recess ( 18 ) is arranged so that at least a portion of the absorber element ( 19 ) the supporting body ( 17 ) and the supporting body on a carrier substrate ( 1 ), wherein at least the base or the bottom surface of the recess ( 18 ) at least partially made of a material ( 7 ), which reflects the radiation to be detected and under which the carrier substrate ( 1 ), wherein a housing ( 1 . 9 ) consisting of a carrier substrate ( 1 ) and a cap ( 9 ) with an opening ( 21 ), which is designed such that the radiation to be detected through the opening ( 21 ) is provided, the detector ( 2 ) in the housing ( 1 . 9 ) is arranged, that through the opening ( 21 ) passing radiation at least partially on the absorber element ( 19 ) and wherein the carrier substrate ( 1 ) consists of a base material that is not electrically conductive, characterized in that the carrier substrate ( 1 ) a metallic line or layer ( 11 ) which extends over the carrier substrate ( 1 ) at least up to the section ( 17 ) on which the cap ( 9 ) with the carrier substrate ( 1 ), and wherein the carrier substrate ( 1 ) consists of a ceramic base material, or an organic material and the metal line or metal layer ( 11 ) is formed by printed conductive and insulating tracks, preferably of silver-palladium or silver-platinum, wherein terminal contacts ( 14 ) for the transmission of the detector signal from the housing ( 2 . 9 ) on the underside of the carrier substrate ( 1 ) are provided. Strahlungssensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest der Grund bzw. die Bodenfläche der Ausnehmung (18) zumindest teilweise aus einem metallischen Material (7), vorzugsweise aus Gold besteht, wobei das Material vorzugsweise als Schicht ausgebildet ist und vorzugsweise eine Dicke von weniger als 1 μm hat.Radiation sensor according to claim 1, characterized in that at least the base or the bottom surface of the recess ( 18 ) at least partially made of a metallic material ( 7 ), preferably made of gold, wherein the material is preferably formed as a layer and preferably has a thickness of less than 1 micron. Strahlungssensor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägersubstrat (1) aus aus Epoxyd, Pertinax oder Polyimid und besonders bevorzugt aus FR2, FR3 oder FR4 besteht.Radiation sensor according to Claim 1 or 2, characterized in that the carrier substrate ( 1 ) of epoxy, pertinax or polyimide, and more preferably FR2, FR3 or FR4. Strahlungssensor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Trägersubstrat aus Oxidkeramik oder AIN-Keramik besteht.Radiation sensor according to claim 1 or 2, characterized in that the carrier substrate consists of oxide ceramic or AIN ceramic. Strahlungssensor nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägersubstrat (1) als oberste Schicht um den Tragkörper (17) herum eine strahlungs absorbierende Schicht (8) aufweist, wobei die strahlungsabsorbierende Schicht (8) ein organischer Lack, ein Photoresist oder ein Lötstopplack ist.Radiation sensor according to one of Claims 1 to 4, characterized in that the carrier substrate ( 1 ) as the uppermost layer around the supporting body ( 17 ) a radiation-absorbing layer ( 8th ), wherein the radiation-absorbing layer ( 8th ) is an organic paint, a photoresist or a solder resist. Strahlungssensor nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägersubstrat (1) mindestens eine Markierung (16) aufweist, die außerhalb der Kappe (9) angeordnet ist, wobei die Markierung (16) derart ausgelegt ist, daß automatische Positionierungssysteme anhand der Markierung (16) eine Orientierung und/oder Positionierung des Sensors durchführen können.Radiation sensor according to one of Claims 1 to 5, characterized in that the carrier substrate ( 1 ) at least one mark ( 16 ), which outside the cap ( 9 ), the marking ( 16 ) is designed so that automatic positioning systems based on the marking ( 16 ) can perform an orientation and / or positioning of the sensor. Strahlungssensor nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Markierung (16) in der metallischen Schicht (11) angeordnet ist.Radiation sensor according to Claim 6, characterized in that the marking ( 16 ) in the metallic layer ( 11 ) is arranged. Strahlungssensor nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine Temperaturreferenz (4) vorgesehen ist, die von dem Detektor (2) getrennt ist.Radiation sensor according to one of Claims 1 to 7, characterized in that a temperature reference ( 4 ) provided by the detector ( 2 ) is disconnected. Strahlungssensor nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß ein Schaltkreis (8), vorzugsweise ein Silizium-Schaltkreis zur Verarbeitung des Detektorsignals vorgesehen ist.Radiation sensor according to one of Claims 1 to 8, characterized in that a circuit ( 8th ), preferably a silicon circuit for processing the detector signal is provided. Strahlungssensor nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Detektorelement über metallisierte Durchgangslöcher (13) durch das Trägersubstrat (1) mit den Anschlußkontakten (14) verbunden ist, wobei die Anschlußkontakte (14) vorzugsweise als Lothügel ausgebildet sind.Radiation sensor according to Claim 9, characterized in that the detector element has metallized through holes ( 13 ) through the carrier substrate ( 1 ) with the connection contacts ( 14 ), the terminal contacts ( 14 ) are preferably formed as solder bumps. Strahlungssensor nach Anspruch 9 oder 10, soweit auf Anspruch 5 rückbezogen, dadurch gekennzeichnet, daß die metallische Schicht (11) in unmittelbarer Umgebung der Durchgangslöcher (13) unterbrochen ist.Radiation sensor according to Claim 9 or 10, as far as dependent on Claim 5, characterized in that the metallic layer ( 11 ) in the immediate vicinity of the through holes ( 13 ) is interrupted. Strahlungssensor nach einem der Ansprüche 9 bis 11, soweit auf Anspruch 10 rückbezogen, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsabsorbierende Schicht (8) in unmittelbarer Umgebung der Durchgangslöcher (13) unterbrochen ist.Radiation sensor according to one of Claims 9 to 11, as far as dependent on Claim 10, characterized in that the radiation-absorbing layer ( 8th ) in the immediate vicinity of the through holes ( 13 ) is interrupted. Strahlungssensor nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Durchgangslöcher (13) gasdicht verschlossen sind und vorzugsweise mit einem Dichtmittel (15) gefüllt sind.Radiation sensor according to one of Claims 9 to 12, characterized in that the through-holes ( 13 ) are sealed gas-tight and preferably with a sealant ( 15 ) are filled. Strahlungssensor nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägersubstrat (1) als direkter Steckverbinder (22) ausgebildet ist.Radiation sensor according to one of Claims 1 to 13, characterized in that the carrier substrate ( 1 ) as a direct connector ( 22 ) is trained. Strahlungssensor nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß an der Ober- oder Unterseite des Trägersubstrats (1) ein Steckverbinder (24) vorzugsweise durch Löten oder Kleben befestigt ist.Radiation sensor according to one of claims 1 to 13, characterized in that on the upper or lower side of the carrier substrate ( 1 ) a connector ( 24 ) is preferably fixed by soldering or gluing. Strahlungssensor nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägersubstrat (1) als flexible Leiterplatte oder als Starr-Flex-Leiterplatte ausgeführt ist und diese an einem Ende als Direktsteckverbinderstruktur (22) ausgebildet ist.Radiation sensor according to one of Claims 1 to 13, characterized in that the carrier substrate ( 1 ) is designed as a flexible printed circuit board or as a rigid-flex printed circuit board and this at one end as a direct connector structure ( 22 ) is trained.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE202018100322U1 (en) 2018-01-20 2018-01-31 LOEWE Technologies GmbH Device for detecting at least the CO2 concentration in the ambient air
WO2018122148A1 (en) 2016-12-30 2018-07-05 Heimann Sensor Gmbh Smd-enabled infrared thermopile sensor

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1907807B1 (en) * 2005-06-27 2020-09-16 TE Connectivity Sensors Germany GmbH Device for the detection of electromagnetic waves and method for producing such a device
DE102009048988A1 (en) * 2009-10-09 2011-04-14 Volkswagen Ag Thermoelectric partial unit for thermoelectric unit of thermoelectric element, has partial element made of metallic material, thermoelectric pellet made of thermoelectric material and connecting layer
US8806743B2 (en) 2012-08-07 2014-08-19 Excelitas Technologies Singapore Pte. Ltd Panelized process for SMT sensor devices
JP6194799B2 (en) * 2014-01-15 2017-09-13 オムロン株式会社 Infrared sensor
JP6857019B2 (en) * 2016-12-20 2021-04-14 セイコーNpc株式会社 How to manufacture the sensor module
JP6820789B2 (en) * 2017-04-07 2021-01-27 セイコーNpc株式会社 Infrared sensor device
DE102019206407A1 (en) * 2019-05-03 2020-11-05 Siemens Aktiengesellschaft Measurement method and measurement arrangement

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0599364A2 (en) * 1992-10-27 1994-06-01 Matsushita Electric Works, Ltd. Infrared detecting device and infrared detecting element for use in the device
DE4244607A1 (en) * 1992-12-31 1994-07-07 Hl Planartechnik Gmbh Thermoelectric radiation sensor, esp. for IR and visible light
WO1995018961A1 (en) * 1994-01-10 1995-07-13 Thermoscan, Inc. Noncontact active temperature sensor
US5693942A (en) * 1995-04-07 1997-12-02 Ishizuka Electronics Corporation Infrared detector
WO2000075616A1 (en) * 1999-06-07 2000-12-14 The Boeing Company Pixel structure having a bolometer with spaced apart absorber and transducer layers and an associated fabrication method

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE68923589T2 (en) * 1988-08-12 1996-01-18 Texas Instruments Inc Infrared detector.
DE3927735A1 (en) * 1989-08-23 1991-02-28 Asea Brown Boveri Radiation thermometer with meandering thin film resistor - mounted on coated plastics foil tensioned across cavity of substrate material and fixed by adhesive
JPH04268773A (en) * 1991-02-25 1992-09-24 Matsushita Electric Works Ltd Infrared sensor and manufacture thereof
JPH11132857A (en) * 1997-10-28 1999-05-21 Matsushita Electric Works Ltd Infrared detector
JP3289677B2 (en) * 1998-05-25 2002-06-10 株式会社村田製作所 Infrared sensor
DE19962938A1 (en) * 1999-12-24 2001-07-19 Perkinelmer Optoelectronics Method for correcting the output of a multi-element infrared radiation sensor, multi-element infrared radiation sensor and multi-element infrared radiation sensor system
JP2001272271A (en) * 2000-01-17 2001-10-05 Mitsubishi Electric Corp Infrared sensor

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0599364A2 (en) * 1992-10-27 1994-06-01 Matsushita Electric Works, Ltd. Infrared detecting device and infrared detecting element for use in the device
DE4244607A1 (en) * 1992-12-31 1994-07-07 Hl Planartechnik Gmbh Thermoelectric radiation sensor, esp. for IR and visible light
WO1995018961A1 (en) * 1994-01-10 1995-07-13 Thermoscan, Inc. Noncontact active temperature sensor
US5693942A (en) * 1995-04-07 1997-12-02 Ishizuka Electronics Corporation Infrared detector
WO2000075616A1 (en) * 1999-06-07 2000-12-14 The Boeing Company Pixel structure having a bolometer with spaced apart absorber and transducer layers and an associated fabrication method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018122148A1 (en) 2016-12-30 2018-07-05 Heimann Sensor Gmbh Smd-enabled infrared thermopile sensor
DE102017131049A1 (en) 2016-12-30 2018-07-05 Heimann Sensor Gmbh SMD-compatible Thermopile infrared sensor
EP4191215A1 (en) 2016-12-30 2023-06-07 Heimann Sensor GmbH Smd-enabled infrared thermopile sensor
DE202018100322U1 (en) 2018-01-20 2018-01-31 LOEWE Technologies GmbH Device for detecting at least the CO2 concentration in the ambient air

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