DE10321640B4 - Infrared sensor with improved radiation efficiency - Google Patents
Infrared sensor with improved radiation efficiency Download PDFInfo
- Publication number
- DE10321640B4 DE10321640B4 DE10321640.5A DE10321640A DE10321640B4 DE 10321640 B4 DE10321640 B4 DE 10321640B4 DE 10321640 A DE10321640 A DE 10321640A DE 10321640 B4 DE10321640 B4 DE 10321640B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- carrier substrate
- radiation
- sensor according
- radiation sensor
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 70
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 74
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 claims abstract description 5
- IHWJXGQYRBHUIF-UHFFFAOYSA-N [Ag].[Pt] Chemical compound [Ag].[Pt] IHWJXGQYRBHUIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 4
- SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N palladium silver Chemical compound [Pd].[Ag] SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 claims abstract description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 3
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 claims description 3
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000000565 sealant Substances 0.000 claims description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 230000005678 Seebeck effect Effects 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004870 electrical engineering Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/04—Casings
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/04—Casings
- G01J5/041—Mountings in enclosures or in a particular environment
- G01J5/045—Sealings; Vacuum enclosures; Encapsulated packages; Wafer bonding structures; Getter arrangements
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/04—Casings
- G01J5/046—Materials; Selection of thermal materials
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/08—Optical arrangements
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/08—Optical arrangements
- G01J5/0808—Convex mirrors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/08—Optical arrangements
- G01J5/0814—Particular reflectors, e.g. faceted or dichroic mirrors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/08—Optical arrangements
- G01J5/0853—Optical arrangements having infrared absorbers other than the usual absorber layers deposited on infrared detectors like bolometers, wherein the heat propagation between the absorber and the detecting element occurs within a solid
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/48137—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/4847—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
- H01L2224/48472—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond the other connecting portion not on the bonding area also being a wedge bond, i.e. wedge-to-wedge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Radiation Pyrometers (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
Strahlungssensor, z. B. für die berührungslose Temperaturmessung oder die Infrarot-Gasspektroskopie, der einen Detektorchip (2) bestehend aus einem Tragkörper (17) mit einer Ausnehmung (18) und einem Absorberelement (19), das Strahlung absorbiert und sich dadurch erwärmt, aufweist, wobei das Absorberelement (19) über der Ausnehmung (18) angeordnet ist, so daß zumindest ein Abschnitt des Absorberelements (19) den Tragkörper (17) nicht berührt und der Tragkörper auf einem Trägersubstrat (1) montiert ist, wobei zumindest der Grund bzw. die Bodenfläche der Ausnehmung (18) zumindest teilweise aus einem Material (7) besteht, das die zu detektierende Strahlung reflektiert und unter dem sich das Trägersubstrat (1) befindet, wobei ein Gehäuse (1, 9) bestehend aus einem Trägersubstrat (1) und einer Kappe (9) mit einer Öffnung (21), die derart ausgebildet ist, daß die zu detektierende Strahlung durch die Öffnung (21) treten kann, vorgesehen ist, wobei der Detektor (2) derart in dem Gehäuse (1, 9) angeordnet ist, daß die durch die Öffnung (21) tretende Strahlung zumindest teilweise auf das Absorberelement (19) trifft und wobei das Trägersubstrat (1) aus einem Basismaterial besteht, daß nicht elektrisch leitend ist, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägersubstrat (1) eine metallische Leitung oder Schicht (11) aufweist, die sich über das Trägersubstrat (1) zumindest bis zu dem Abschnitt (17), auf dem die Kappe (9) mit dem Trägersubstrat (1) in Verbindung tritt, erstreckt und wobei das Trägersubstrat (1) aus einem keramischen Grundwerkstoff, oder einem organischen Material besteht und die Metalleitung oder Metallschicht (11) durch aufgedruckte Leit- und Isolationsbahnen, vorzugsweise aus Silber-Palladium oder Silber-Platin gebildet wird, wobei Anschlußkontakte (14) für die Übertragung des Detektorsignals aus dem Gehäuse (2, 9) an der Unterseite des Trägersubstrats (1) vorgesehen sind.Radiation sensor, z. B. for non-contact temperature measurement or infrared gas spectroscopy, a detector chip (2) consisting of a support body (17) having a recess (18) and an absorber element (19) which absorbs radiation and thereby heated, wherein the Absorber element (19) is arranged above the recess (18), so that at least a portion of the absorber element (19) does not touch the support body (17) and the support body is mounted on a carrier substrate (1), wherein at least the base or the bottom surface the recess (18) consists at least partially of a material (7) which reflects the radiation to be detected and under which the carrier substrate (1) is located, wherein a housing (1, 9) consisting of a carrier substrate (1) and a cap (9) having an opening (21) which is formed such that the radiation to be detected can pass through the opening (21) is provided, wherein the detector (2) in such a manner in the housing (1, 9) is ordered that the through the opening (21) passing radiation at least partially on the absorber element (19) and wherein the carrier substrate (1) consists of a base material that is not electrically conductive, characterized in that the carrier substrate (1) a metallic line or layer (11) extending over the carrier substrate (1) at least to the portion (17) on which the cap (9) contacts the carrier substrate (1), and wherein the carrier substrate (1 ) consists of a ceramic base material, or an organic material and the metal line or metal layer (11) by printed conductive and insulating tracks, preferably of silver-palladium or silver-platinum is formed, wherein terminal contacts (14) for the transmission of the detector signal from the Housing (2, 9) on the underside of the carrier substrate (1) are provided.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Strahlungssensor, zum Beispiel für die berührungslose Temperaturmessung oder die Infrarot-Gasspektroskopie.The present invention relates to a radiation sensor, for example for non-contact temperature measurement or infrared gas spectroscopy.
Es sind eine Vielzahl von Techniken zur Messung von Temperaturen bekannt, die eine große Zahl von Effekten meßtechnisch ausnutzen, bei denen physikalische oder chemische Stoffeigenschaften eine Temperaturabhängigkeit zeigen. Dabei beruhen nahezu alle Verfahren auf einem Wärmetransport zum Meßfühler bzw. Sensor. Bei sogenannten Berührungsthermometern erfolgt dieser Wärmetransport durch Wärmeleitung und Konvektion, bei den berührungslosen Thermometern (Strahlungsthermometern) durch Wärmestrahlung.There are a variety of techniques for measuring temperatures known that exploit a large number of effects metrologically, in which physical or chemical properties show a temperature dependence. Almost all methods rely on a heat transfer to the sensor or sensor. In so-called contact thermometers, this heat transfer occurs by heat conduction and convection, in the non-contact thermometers (radiation thermometers) by thermal radiation.
Auch wenn die Berührungsthermometer im allgemeinen sehr zuverlässig arbeiten und meist einfach und kostengünstig herzustellen sind, ist ihr Einsatzgebiet dennoch eingeschränkt. So gibt es beispielsweise bedingt durch die Materialeigenschaften des Meßfühlers eine obere Temperaturgrenze, oberhalb derer der Meßfühler nicht mehr betrieben werden kann. Darüber hinaus sind die Berührungsthermometer ungeeignet, die Temperatur von schnell bewegten oder schwer zugänglichen Objekten zu messen.Although the touch thermometers generally work very reliable and are usually easy and inexpensive to manufacture, their application is still limited. For example, due to the material properties of the sensor, there is an upper temperature limit above which the sensor can no longer be operated. In addition, the contact thermometers are unsuitable to measure the temperature of fast moving or hard to reach objects.
Daher kommen in vielen Anwendungsgebieten berührungslose Meßverfahren zum Einsatz, die auf der Temperaturstrahlung beruhen. Jede Oberfläche mit einer Temperatur T > 0 K sendet elektromagnetische Strahlung aus, die sogenannte Temperaturstrahlung. Trifft eine von einer Oberfläche ausgehende Strahlung auf eine andere Oberfläche, so wird sie teilweise reflektiert, absorbiere oder durchgelassen. Daher werden bei Strahlungsthermometern Absorptionselemente eingesetzt, die Idealerweise eine von der Wellenlänge unabhängige Absorptionsfähigkeit aufweisen und die sich beim Auftreffen der Strahlung (Infrarotstrahlung) erwärmen, so daß die Erwärmung des Adsorptionselements als Nachweis für die emittierte Infrarotstrahlung dienen kann.Therefore, non-contact measuring methods based on the temperature radiation are used in many fields of application. Each surface with a temperature T> 0 K emits electromagnetic radiation, the so-called temperature radiation. If a radiation emanating from one surface strikes another surface, it is partially reflected, absorbed or transmitted. Therefore, in radiation thermometers absorption elements are used which ideally have a non-wavelength-independent absorption capacity and which heat when the radiation (infrared radiation), so that the heating of the adsorption element can serve as evidence of the emitted infrared radiation.
Strahlungsthermometer oder sogenannte Strahlungspyrometer weisen im allgemeinen eine Optik, einen Detektor mit einem Absorptionselement sowie ein Gehäuse auf, das Optik und Detektor mechanisch und thermisch schützt. Bei diesen Sensoren wird die von dem Meßobjekt ausgesandte Infrarotstrahlung durch geeignete Fenster oder optische Komponenten auf einer absorbierenden Fläche abgebildet, wobei diese Fläche aufgrund der Absorption eine Temperaturerhöhung erfährt Es versteht sich, daß prinzipiell mit diesem Verfahren auch Temperaturen gemessen werden können, die unterhalb der Temperatur des Detektors liegen. In diesem Fall ist jedoch die Temperaturerniedrigung, aufgrund der Eigenabstrahlung des Absorptionselements größer als die Temperaturerhöhung aufgrund der Absorption der erfaßten Strahlung, so daß insgesamt eine Temperaturerniedrigung des Absorberelements auftritt.Radiation thermometers or so-called radiation pyrometers generally have an optical system, a detector with an absorption element and a housing which protects the optics and detector mechanically and thermally. In these sensors, the infrared radiation emitted by the test object is imaged on an absorbing surface by suitable windows or optical components, this surface undergoing an increase in temperature due to the absorption. It will be understood that, in principle, temperatures lower than the temperature can also be measured with this method of the detector. In this case, however, the temperature reduction, due to the self-emission of the absorption element is greater than the temperature increase due to the absorption of the detected radiation, so that overall a temperature decrease of the absorber element occurs.
Die Temperaturerhöhung bzw. Temperaturdifferenz kann anschließend auf unterschiedliche Weise gemessen werden. Bei den Thermistor-Bolometern mißt man die Änderung des elektrischen Widerstands, bei den Thermoelementen die Spannung an der Kontaktstelle zweier Metalldrähte, bei den pyroelektrischen Detektoren eine Ladungsverschiebung, die bei einer Temperaturänderung spezieller isolatorkristalle entsteht.The temperature increase or temperature difference can then be measured in different ways. In the case of the thermistor bolometers, the change in the electrical resistance, in the case of the thermocouples, the voltage at the point of contact between two metal wires, and in the pyroelectric detectors, a charge shift, which results from a temperature change of special isolator crystals.
Die Thermoelemente nutzen die sogenannten Seebeck-Effekt zum Nachweis der erhöhten Temperatur aus. Dabei wird der Verbindungspunkt eines Thermopaares aus zwei verschiedenen thermoeleketrischen Materialien in Kontakt mit dem Absorberbereich gebracht, während sich der Referenzkontakt im allgemeinen auf der Temperatur des Sensorgehäuses befindet. Da die Sensorausgangsspannungen solcher Thermoelemente sehr gering sind, werden häufig viele solcher Thermoelemente in Reihe geschaltet Eine solche Reihenschaltung einer Vielzahl von Thermoelementen wird auch als Thermosäule bzw. Thermopile bezeichnet. The thermocouples use the so-called Seebeck effect to detect the elevated temperature. In this case, the connection point of a thermocouple made of two different thermoeleketrischen materials is brought into contact with the absorber region, while the reference contact is generally at the temperature of the sensor housing. Since the sensor output voltages of such thermocouples are very low, many such thermocouples are often connected in series. Such a series connection of a plurality of thermocouples is also referred to as a thermopile or thermopile.
In den letzten Jahren wurden auf vielen technologischen Gebieten große Anstrengungen unternommen, elektrische und elektronische Bauteile zu miniaturisieren, wobei sie möglichst mit bekannten standardisierbaren Prozessen kostengünstig herzustellen sein sollen. Die zunehmende Miniaturisierung führt bei den Strahlungssensoren zu einer kleineren Absorberfläche und damit zu einer geringeren Temperaturerhöhung, was wiederum zu einem geringeren Signal und damit zu einer reduzierten Auflösung führt.In recent years, great efforts have been made in many technological fields to miniaturize electrical and electronic components, where possible to be produced inexpensively with known standardizable processes. The increasing miniaturization leads to a smaller absorber surface in the radiation sensors and thus to a lower temperature increase, which in turn leads to a lower signal and thus to a reduced resolution.
Daher ist es gerade bei den miniaturisierten Strahlungssensoren wichtig, eine möglichst hohe Absorption der Infrarotstrahlung im Absorbersystem zu erzielen und die Absorberfläche möglichst gut thermisch von der Umgebung zu isolieren, um eine möglichst große Temperaturerhöhung und damit ein großes Sensorausgangssignal zu erzeugen.Therefore, it is particularly important in miniaturized radiation sensors to achieve the highest possible absorption of the infrared radiation in the absorber system and to isolate the absorber surface thermally as well as possible from the environment in order to produce the largest possible increase in temperature and thus a large sensor output signal.
Bekannt sind daher bereits Strahlungssensoren mit einem als Chip ausgebildeten Detektor, der aus einem Tragkörper mit einer Ausnehmung und einem Absorberelement besteht, das Strahlung absorbiert und sich dadurch erwärmt, wobei das Absorberelement über der Ausnehmung angeordnet ist, so daß zumindest ein Äbschnitt des Absorberelements den Tragkörper nicht berührt. Zu diesem Zweck ist häufig eine Membran mit sehr geringer thermischer Leitfähigkeit, die Ausnehmung im wesentlichen verdeckend, angeordnet und das Absorberelement auf der Membran positioniert. Dadurch ist sichergestellt, daß das Absorberelement von dem Tragkörper weitestgehend thermisch entkoppelt ist.Radiation sensors are therefore already known having a detector formed as a chip, which consists of a support body with a recess and an absorber element which absorbs radiation and thereby heated, wherein the absorber element is disposed above the recess, so that at least one section of the absorber element, the support body not touched. For this purpose is often a membrane with very low thermal conductivity, the recess substantially concealing, arranged and the absorber element positioned on the membrane. This ensures that the absorber element is largely thermally decoupled from the support body.
Die bekannten infrarotsensoren werden hauptsächlich mittels Silizium-Mikromechanik hergestellt und in Standardgehäusen der Elektrotechnik montiert. So ist beispielsweise in der
Auch der in der
Die auf dem Markt erhältlichen Thermopile-Sensoren verwenden jeweils ein Metallstiftgehäuse mit metallischer Kappe. Dabei ist in der Kappe ein optisches Element, zum Beispiel ein Infrarotfilter, vorgesehen. Ein Teil der Infrarotstrahlung fällt durch das Infrarotfilter in der Kappe auf den Bereich neben dem Sensorelement, der üblicherweise aus einer metallischen und damit auch reflektierenden TO-Bodenplatte besteht. Diese Strahlungsanteile werden über Mehrfachreflexion an der Gehäusewandung oder der metallischen Kappe wieder zum Absorber zurückgeworfen. Diese Mehrfachreflexionen führen zu einer Meßfleckvergrößerung, die bei denjenigen Meßanordnungen, welche die Strahlungs- bzw. Temperaturmessung eines räumlich begrenzten Meßobjekts zum Ziel haben, unerwünscht ist. Dies ist der Normalfall bei der berührungslosen Temperaturmessung. Die bekannten Lösungen mit Metallstiftgehäuse sind nur mittels einer Durchsteckkontaktierung auf der nächsten Verdrahtungsebene kontaktierbar. Dies kann beispielsweise durch Weichlöten erfolgen. Bei den bekannten Lösungen lassen sich SMD-Montagetechniken nicht umsetzen.The thermopile sensors available on the market each use a metal pin housing with a metallic cap. In this case, an optical element, for example an infrared filter, is provided in the cap. Part of the infrared radiation falls through the infrared filter in the cap on the area next to the sensor element, which usually consists of a metallic and thus also reflective TO bottom plate. These radiation components are reflected back to the absorber via multiple reflection on the housing wall or the metallic cap. These multiple reflections lead to a Meßfleckvergrößerung, which is undesirable in those measuring arrangements, which have the radiation or temperature measurement of a spatially limited object to be measured. This is the normal case with non-contact temperature measurement. The known solutions with metal pin housing can only be contacted by means of a through-hole contact on the next wiring level. This can be done for example by soldering. In the known solutions, SMD mounting techniques can not be implemented.
Die
Gegenüber diesem Stand der Technik ist es Aufgabe der Erfindung, einen Strahlungssensor zur Verfügung zu stellen, der grundsätzlich für die SMD-Montagetechnik geeignet ist, der eine hohe Empfindlichkeit gegenüber Infrarotstrahlung aufweist und dennoch kostengünstig herzustellen ist.Compared to this prior art, it is an object of the invention to provide a radiation sensor is available, which is basically suitable for the SMD mounting technology, which has a high sensitivity to infrared radiation and yet is inexpensive to manufacture.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch einen Strahlungssensor mit allen Merkmalen von Anspruch 1 gelöst.According to the invention, this object is achieved by a radiation sensor having all the features of
Dieses Material, das vorzugsweise derart ausgewählt wird, daß es praktisch keine Eigenabsorption und nahezu keine Transmission aufweist, reflektiert denjenigen Strahlungsanteil, der das Absorberelement durchquert hat, zu diesem zurück, um sicherzustellen, daß der reflektierte, durch das Absorberelement transmittierte Strahlungsanteil ebenfalls zur Temperaturerhöhung des Absorberelements beiträgt. In mehreren Versuchen hat sich überraschenderweise gezeigt, daß es nicht notwendig ist, in der Bodenplatte bzw. dem Trägersubstrat eine zusätzliche Aussparung vorzusehen. Die reflektierende Schicht bzw. das reflektierende Material kann statt dessen direkt auf bzw. am Grund bzw. der Bodenfläche der Ausnehmung angeordnet sein. Mit Vorteil ist die Ausnehmung im Tragkörper durchgehend ausgeführt, so daß das Absorberelement direkt oberhalb des unter dem Tragkörper angeordneten Materials angeordnet ist.This material, which is preferably selected so that it has virtually no inherent absorption and almost no transmission, reflects the portion of the radiation that has passed through the absorber element back to it, to ensure that the reflected radiation transmitted through the absorber element is also used to increase the temperature of the Absorber element contributes. In several experiments, it has surprisingly been found that it is not necessary to provide an additional recess in the bottom plate or the carrier substrate. The reflective layer or the reflective material may instead be arranged directly on or at the base or the bottom surface of the recess. Advantageously, the recess in the support body is designed to be continuous, so that the absorber element is arranged directly above the material arranged under the support body.
Mit Vorteil ist die die zu detektierende Strahlung reflektierende Schicht als Schicht ausgebildet und weist eine Dicke von weniger als 2 μm auf.The layer reflecting the radiation to be detected is advantageously designed as a layer and has a thickness of less than 2 μm.
In einer besonders zweckmäßigen Ausführungsform weist der Strahlungssensor ein Gehäuse auf, das aus einem Trägersubstrat und einer Kappe mit einer Öffnung besteht, die derart ausgebildet ist, daß die zu detektierende Strahlung durch die Öffnung treten kann, wobei der Detektorchip derart in dem Gehäuse angeordnet ist, daß die durch die Öffnung tretende Strahlung zumindest teilweise auf das Absorberelement trifft.In a particularly expedient embodiment, the radiation sensor has a housing which consists of a carrier substrate and a cap with an opening which is designed such that the radiation to be detected can pass through the opening, wherein the detector chip is arranged in the housing, that the radiation passing through the opening at least partially meets the absorber element.
Dies erlaubt eine einfache Verwirklichung des Strahlungssensor.This allows a simple realization of the radiation sensor.
Des Trägersubstrat besteht in einer besonders bevorzugten Ausführungsform aus einem Basismaterial, das elektrisch nicht leitend ist. Insbesondere dieses Merkmal erlaubt es, den Strahlungssensor als SMD (Surface Mounted Device) auszuführen.In a particularly preferred embodiment, the carrier substrate consists of a base material which is not electrically conductive. In particular, this feature makes it possible to perform the radiation sensor as an SMD (Surface Mounted Device).
Um eine möglichst gleichmäßige Temperaturverteilung in dem Trägersubstrat zu ermöglichen, weist dieses in einer weiteren besonders bevorzugten Ausführungsform eine metallische Schicht auf, die sich über bzw. in dem Trägersubstrat, zumindest bis zu dem Abschnitt auf dem die Kappe mit dem Trägersubstrat in Verbindung tritt, erstreckt und wobei die metallische Schicht den größten Teil der innerhalb der Kappe angeordneten Trägersubstratfläche bedeckt. Durch diese Maßnahme ist zusätzlich eine gute thermische Ankopplung der Kappe mit dem Trägersubstrat möglich.In order to allow the most uniform possible temperature distribution in the carrier substrate, this has in a further particularly preferred embodiment, a metallic layer which extends over or in the carrier substrate, at least up to the portion on which the cap with the Carrier substrate connects, and wherein the metallic layer covers most of the carrier substrate surface disposed within the cap. By this measure, a good thermal coupling of the cap with the carrier substrate is also possible.
Es hat sich gezeigt, daß des Trägersubstrat mit Vorteil aus einem keramischen Grundwerkstoff, vorzugsweise aus Oxidkeramik oder AIN-Keramik besteht. Die Metallschicht kann dann mit Vorteil durch aufgedruckte Leit- und Isolationsbahnen, vorzugsweise aus Silber-Palladium oder Silber-Platin, gebildet werden.It has been shown that the carrier substrate advantageously consists of a ceramic base material, preferably of oxide ceramic or AIN ceramic. The metal layer can then be advantageously formed by printed conductive and insulating tracks, preferably of silver-palladium or silver-platinum.
Alternativ dazu kann des Trägersubstrat auch aus einem organischen Material, beispielsweise aus Epoxyd, Pertinax oder Polyimid, vorzugsweise aus FR2, FR3 oder FR4, bestehen. In diesem Fall besteht die Metallschicht zweckmäßigerweise aus einer auflaminierten oder additiv aufgebrachten Metallschicht mit einer Dicke von vorzugsweise zwischen etwa 20 und 150 μm, wobei die Metallschicht vorzugsweise aus Kupfer besteht.Alternatively, the carrier substrate can also consist of an organic material, for example of epoxide, pertinax or polyimide, preferably of FR2, FR3 or FR4. In this case, the metal layer is expediently composed of a laminated or additively applied metal layer having a thickness of preferably between about 20 and 150 μm, wherein the metal layer is preferably made of copper.
Weiterhin hat es sich gezeigt, daß es besonders zweckmäßig ist, wenn des Trägersubstrat als oberste Schicht um den Tragkörper herum eine strahlungsabsorbierende Schicht aufweist, wobei die strahlungsabsorbierende Schicht beispielsweise ein organischer Lack, ein Photoresist oder ein Lotstoplack sein kann. Durch diese Maßnahme werden Strahlungsanteile, die nicht auf des Absorberrelement fallen, nicht reflektiert, so daß der Meßfleck nicht vergrößert wird. Alternativ dazu kann die metallische Schicht auch aufgerauht werden, um die Absorption zu erhöhen.Furthermore, it has been shown that it is particularly expedient if the carrier substrate has a radiation-absorbing layer as the topmost layer around the carrier body, wherein the radiation-absorbing layer can be, for example, an organic lacquer, a photoresist or a solder stopper. By this measure, radiation components that do not fall on the Absorberrelement not reflected, so that the measurement spot is not increased. Alternatively, the metallic layer may also be roughened to increase absorption.
Um eine automatische Montierung des Strahlungssensors zu ermöglichen, ist in einer weiteren besonders bevorzugten Ausführungsform vorgesehen, daß das Trägersubstrat eine Markierung aufweist, die außerhalb der Kappe angeordnet ist, wobei die Markierung derart ausgelegt ist, daß automatische Positionierungssysteme anhand der Markierung eine Orientierung und/oder Positionierung des Sensors durchführen können.In order to enable automatic mounting of the radiation sensor, it is provided in a further particularly preferred embodiment that the carrier substrate has a marking which is arranged outside the cap, wherein the marking is designed such that automatic positioning systems based on the marking an orientation and / or Positioning of the sensor can perform.
Es hat sich gezeigt, daß die Markierung mit Vorteil in der metallischen Schicht angeordnet ist. Mit anderen Worten reicht die strahlungsabsorbierende Schicht, sofern sie vorhanden ist, nicht über das gesamte Trägersubstrat, sondern läßt außerhalb der Kappe die metallische Schicht zumindest teilweise unbedeckt, so daß die Markierung in der metallischen Schicht angeordnet werden kann.It has been found that the marking is advantageously arranged in the metallic layer. In other words, the radiation-absorbing layer, if present, does not extend over the entire carrier substrate, but leaves the metallic layer at least partially uncovered outside the cap, so that the marking can be arranged in the metallic layer.
Um eine SMD-Montage des erfindungsgemäßen Strahlungssensors zu ermöglichen, sind die Anschlußkontakte für die Übertragung des Detektorsignals aus dem Gehäuse an der Unterseite des Trägersubstrats, d. h. an der der Kappe abgewandten Seite, vorgesehen. Die Verbindung des Detektorelements mit den Anschlußkontakten erfolgt dann mit Vorteil über metallisierte Durchgangslöcher, sogenannte VIAs, durch das Trägersubstrat, wobei die Anschlußkontakte dann vorzugsweise als Lothügel ausgebildet sind. Somit ist eine automatische Bestückung des Strahlungssensors mit bekannten SMD-Techniken möglich.In order to enable an SMD mounting of the radiation sensor according to the invention, the connection contacts for the transmission of the detector signal from the housing at the bottom of the carrier substrate, d. H. on the side facing away from the cap, provided. The connection of the detector element with the terminal contacts is then advantageously via metallized through holes, so-called VIAs, through the carrier substrate, wherein the terminal contacts are then preferably formed as a solder bump. Thus, an automatic assembly of the radiation sensor with known SMD techniques is possible.
Weiterhin hat es sich gezeigt, daß mit Vorteil die metallische Schicht und/oder die strahlungsabsorbierende Schicht, sofern diese vorhanden sind, in unmittelbarer Umgebung der Durchgangslöcher unterbrochen ist. Dies stellt einen definierten Kontakt zwischen Detektorchip und Anschlußkontakt her.Furthermore, it has been shown that advantageously the metallic layer and / or the radiation-absorbing layer, if present, is interrupted in the immediate vicinity of the through-holes. This establishes a defined contact between the detector chip and the terminal contact.
Mit Vorteil werden die Durchgangslöcher gasdicht verschlossen und vorzugsweise mit einem Dichtmittel gefüllt.Advantageously, the through holes are sealed gas-tight and preferably filled with a sealant.
Weitere Vorteile, Merkmale und Anwendungsmöglichkeiten der vorliegenden Erfindung werden deutlich anhand der folgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen sowie der zugehörigen Figuren. Es zeigen:Further advantages, features and possible applications of the present invention will become apparent from the following description of preferred embodiments and the accompanying figures. Show it:
Der prinzipielle Aufbau des erfindungsgemäßen Temperatursensors ist in den
Die Montage der einzeinen Komponenten
Der Detektorchip
Das Trägersubstrat
Wird als Trägersubstrat
Die Metallschicht
Wie in
Die Anschlußkontaktflächen
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform erfolgt das Verschließen unter einer definierten Gasatmosphäre, zum Beispiel bei trockener Stickstoffatmosphäre oder Edelgasatmosphäre, um ein definiertes Gas- und Feuchteverhältnis im Innenraum sicherzustellen.In a particularly preferred embodiment, the closure takes place under a defined gas atmosphere, for example in a dry nitrogen atmosphere or inert gas atmosphere, in order to ensure a defined gas and moisture ratio in the interior.
Durch die auf der Unterseite des Trägersubstrats
Zu diesem Zweck werden die Metallisierungen der Durchführngslöcher
Im Ergebnis ist damit eine oberflächenmontierbares Bauelement (SMD) verwirklicht worden. Ein solches wird auch als Ball Grid Array (BGA) bezeichnet. Bei der Verwendung von Leiterplattenmaterial, zum Beispiel FR4, FR3, FR2 oder Polyamid als Trägersubstrat wird ein solches Bauelement auch als Plastik Ball Grid Array (PBGA) bezeichnet.As a result, a surface mountable device (SMD) has been realized. This is also known as Ball Grid Array (BGA). When using printed circuit board material, for example FR4, FR3, FR2 or polyamide as a carrier substrate, such a component is also referred to as a plastic ball grid array (PBGA).
Die möglichst dauerhafte Kontaktierung des Sensorelements mit der nächsten Verdrahtungsebene, die in den meisten Anwendungsfällen aus einer Leiterplatte besteht kann nach der automatischen Bestückung der Leiterplatte mit dem BGA durch das erneute Aufschmelzen der Lothügel, d. h. durch das sogenannte Reflow-Löten erfolgen. Selbstverständlich könnten auch Ball Grid Array Sockel für die Kontaktierung für den Sensortest oder sogar für die Endmontage verwendet werden.The most permanent contacting of the sensor element with the next wiring level, which consists in most cases of a printed circuit board can after the automatic assembly of the circuit board with the BGA by the remelting of the solder bumps, d. H. done by the so-called reflow soldering. Of course, Ball Grid Array sockets could be used for contacting for the sensor test or even for final assembly.
Deutlich zu erkennen ist in
Insbesondere dann, wenn als Trägersubstrat
Alternativ kann das als Leiterplatte ausgeführte Trägersubstrat
- –
Das Trägersubstrat 1 kann alsLeiterplatte mit Kontakten 23 für Direktsteckverbinder 22 ausgestattet sein (siehe3 ), - –
das Trägersubstrat 1 kann als Leiterplattemit einem Steckverbinder 24 , der sich auf der Trägersubstratober- oder -unterseite befinden kann, ausgestattet sein (siehe4 ), - –
das Trägersubstrat 1 kann als Leiterplatte, die als Flex- oder Starr-Flex-Leiterplatte ausgeführt ist und wobei das Ende derLeiterplatte als Direktsteckverbinder 22 mit Direktsteckverbinderkontakten 23 ausgeführt ist, ausgebildet sein (siehe5 ).
- - The
carrier substrate 1 can be used as a printed circuit board withcontacts 23 fordirect connectors 22 be equipped (see3 ) - - The
carrier substrate 1 can be used as a printed circuit board with aconnector 24 , which may be located on the carrier substrate top or bottom, be equipped (see4 ) - - The
carrier substrate 1 can be used as a printed circuit board, which is designed as a flex or rigid-flex circuit board and wherein the end of the circuit board as adirect connector 22 withdirect connector contacts 23 is executed, be formed (see5 ).
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 11
- Trägersubstratcarrier substrate
- 22
- Detektorchipdetector chip
- 33
- Silizium-SchaltkreisSilicon circuit
- 44
- Temperaturreferenztemperature reference
- 55
- BonddrähteBond wires
- 66
- AnschlußkontaktflächeTerminal contact surface
- 77
- reflektierendes Materialreflective material
- 88th
- strahlungsabsorbierende Schichtradiation-absorbing layer
- 99
- Kappecap
- 1010
- Filterfilter
- 1111
- metallische Leitung/Schichtmetallic pipe / layer
- 1212
- Verbindung zwischen Kappe und TrägersubstratConnection between cap and carrier substrate
- 1313
- DurchgangslöcherThrough holes
- 1414
- Anschlußkontakte/LotkugelnConnecting contacts / solder balls
- 1515
- Dichtmittelsealant
- 1616
- Markierungmark
- 1717
- Tragkörpersupporting body
- 1818
- Ausnehmungrecess
- 1919
- Absorberelementabsorber element
- 2020
- KappenauflageflächeCap bearing surface
- 2121
- Kappenöffnungcap opening
- 2222
- DirektsteckverbinderBackplane
- 2323
- DirektsteckverbinderkontaktBackplane Contact
- 2424
- SteckverbinderConnectors
- 2525
- SteckverbinderkontaktstiftConnector pin
Claims (16)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10321640.5A DE10321640B4 (en) | 2003-05-13 | 2003-05-13 | Infrared sensor with improved radiation efficiency |
JP2006529594A JP4685019B2 (en) | 2003-05-13 | 2004-05-10 | Infrared sensor with improved radiation utilization |
PCT/DE2004/000971 WO2004102139A1 (en) | 2003-05-13 | 2004-05-10 | Infrared sensor with improved radiant yield |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10321640.5A DE10321640B4 (en) | 2003-05-13 | 2003-05-13 | Infrared sensor with improved radiation efficiency |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10321640A1 DE10321640A1 (en) | 2004-12-02 |
DE10321640B4 true DE10321640B4 (en) | 2016-12-22 |
Family
ID=33394572
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10321640.5A Expired - Fee Related DE10321640B4 (en) | 2003-05-13 | 2003-05-13 | Infrared sensor with improved radiation efficiency |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4685019B2 (en) |
DE (1) | DE10321640B4 (en) |
WO (1) | WO2004102139A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE202018100322U1 (en) | 2018-01-20 | 2018-01-31 | LOEWE Technologies GmbH | Device for detecting at least the CO2 concentration in the ambient air |
WO2018122148A1 (en) | 2016-12-30 | 2018-07-05 | Heimann Sensor Gmbh | Smd-enabled infrared thermopile sensor |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1907807B1 (en) * | 2005-06-27 | 2020-09-16 | TE Connectivity Sensors Germany GmbH | Device for the detection of electromagnetic waves and method for producing such a device |
DE102009048988A1 (en) * | 2009-10-09 | 2011-04-14 | Volkswagen Ag | Thermoelectric partial unit for thermoelectric unit of thermoelectric element, has partial element made of metallic material, thermoelectric pellet made of thermoelectric material and connecting layer |
US8806743B2 (en) | 2012-08-07 | 2014-08-19 | Excelitas Technologies Singapore Pte. Ltd | Panelized process for SMT sensor devices |
JP6194799B2 (en) * | 2014-01-15 | 2017-09-13 | オムロン株式会社 | Infrared sensor |
JP6857019B2 (en) * | 2016-12-20 | 2021-04-14 | セイコーNpc株式会社 | How to manufacture the sensor module |
JP6820789B2 (en) * | 2017-04-07 | 2021-01-27 | セイコーNpc株式会社 | Infrared sensor device |
DE102019206407A1 (en) * | 2019-05-03 | 2020-11-05 | Siemens Aktiengesellschaft | Measurement method and measurement arrangement |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0599364A2 (en) * | 1992-10-27 | 1994-06-01 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Infrared detecting device and infrared detecting element for use in the device |
DE4244607A1 (en) * | 1992-12-31 | 1994-07-07 | Hl Planartechnik Gmbh | Thermoelectric radiation sensor, esp. for IR and visible light |
WO1995018961A1 (en) * | 1994-01-10 | 1995-07-13 | Thermoscan, Inc. | Noncontact active temperature sensor |
US5693942A (en) * | 1995-04-07 | 1997-12-02 | Ishizuka Electronics Corporation | Infrared detector |
WO2000075616A1 (en) * | 1999-06-07 | 2000-12-14 | The Boeing Company | Pixel structure having a bolometer with spaced apart absorber and transducer layers and an associated fabrication method |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE68923589T2 (en) * | 1988-08-12 | 1996-01-18 | Texas Instruments Inc | Infrared detector. |
DE3927735A1 (en) * | 1989-08-23 | 1991-02-28 | Asea Brown Boveri | Radiation thermometer with meandering thin film resistor - mounted on coated plastics foil tensioned across cavity of substrate material and fixed by adhesive |
JPH04268773A (en) * | 1991-02-25 | 1992-09-24 | Matsushita Electric Works Ltd | Infrared sensor and manufacture thereof |
JPH11132857A (en) * | 1997-10-28 | 1999-05-21 | Matsushita Electric Works Ltd | Infrared detector |
JP3289677B2 (en) * | 1998-05-25 | 2002-06-10 | 株式会社村田製作所 | Infrared sensor |
DE19962938A1 (en) * | 1999-12-24 | 2001-07-19 | Perkinelmer Optoelectronics | Method for correcting the output of a multi-element infrared radiation sensor, multi-element infrared radiation sensor and multi-element infrared radiation sensor system |
JP2001272271A (en) * | 2000-01-17 | 2001-10-05 | Mitsubishi Electric Corp | Infrared sensor |
-
2003
- 2003-05-13 DE DE10321640.5A patent/DE10321640B4/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-05-10 JP JP2006529594A patent/JP4685019B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-05-10 WO PCT/DE2004/000971 patent/WO2004102139A1/en active Application Filing
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0599364A2 (en) * | 1992-10-27 | 1994-06-01 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Infrared detecting device and infrared detecting element for use in the device |
DE4244607A1 (en) * | 1992-12-31 | 1994-07-07 | Hl Planartechnik Gmbh | Thermoelectric radiation sensor, esp. for IR and visible light |
WO1995018961A1 (en) * | 1994-01-10 | 1995-07-13 | Thermoscan, Inc. | Noncontact active temperature sensor |
US5693942A (en) * | 1995-04-07 | 1997-12-02 | Ishizuka Electronics Corporation | Infrared detector |
WO2000075616A1 (en) * | 1999-06-07 | 2000-12-14 | The Boeing Company | Pixel structure having a bolometer with spaced apart absorber and transducer layers and an associated fabrication method |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018122148A1 (en) | 2016-12-30 | 2018-07-05 | Heimann Sensor Gmbh | Smd-enabled infrared thermopile sensor |
DE102017131049A1 (en) | 2016-12-30 | 2018-07-05 | Heimann Sensor Gmbh | SMD-compatible Thermopile infrared sensor |
EP4191215A1 (en) | 2016-12-30 | 2023-06-07 | Heimann Sensor GmbH | Smd-enabled infrared thermopile sensor |
DE202018100322U1 (en) | 2018-01-20 | 2018-01-31 | LOEWE Technologies GmbH | Device for detecting at least the CO2 concentration in the ambient air |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2004102139A1 (en) | 2004-11-25 |
JP2007503586A (en) | 2007-02-22 |
DE10321640A1 (en) | 2004-12-02 |
JP4685019B2 (en) | 2011-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60132460T2 (en) | Sensor unit, in particular for fingerprint sensors | |
EP1046030B1 (en) | System for measuring humidity | |
DE10054013A1 (en) | Pressure sensor module | |
DE10321640B4 (en) | Infrared sensor with improved radiation efficiency | |
DE102008027999A1 (en) | Semiconductor sensor | |
DE19923960C2 (en) | infrared sensor | |
DE102004031316B3 (en) | Gas sensor module for the spectroscopic measurement of a gas concentration | |
WO2004102140A1 (en) | Infrared sensor with optimised surface utilisation | |
DE60226240T2 (en) | ACCELEROMETER | |
EP1328796A1 (en) | Sensor unit comprising an air humidity sensor and an air temperature sensor | |
DE4440078A1 (en) | Piezoelectric accelerometer | |
DE10335690A1 (en) | Deformation sensor used for e.g. force, pressure, torque and acceleration measurements in vehicle, is mounted with signal processor circuit on flexible insulation film substrate | |
EP1568978B1 (en) | Temperature sensor | |
DE19708053B4 (en) | Method and sensor arrangement for the detection of condensation on surfaces | |
WO2006072492A1 (en) | Gas sensor module | |
EP2464953B1 (en) | Compact infrared light detector and method for producing the same, and an infrared light detector system comprising the infrared light detector | |
DE102005021494A1 (en) | Component module and method of using the same | |
EP1103808A2 (en) | Gas sensor and method for its manufacturing | |
EP1141662B1 (en) | Three-dimensional measuring module | |
DE102009060217B3 (en) | Method for producing an infrared light detector | |
DE10125694A1 (en) | Semiconductor module with temperature sensor e.g. for thermal overload protection, has thermal bridge provided between first and second carriers | |
DE19917438A1 (en) | Circuit arrangement for e.g. image sensor comprises carrier plate with contacts connected to image sensor via flip-chip mounting | |
EP2778119B1 (en) | Sensor and method for the production of a flexible soldered joint between a sensor and a printed circuit board | |
DE102008034033B4 (en) | Microelectronic sensor component | |
DE102005023377A1 (en) | Flow sensor arrangement for measuring temperature of liquid media, has temperature sensor and heating unit integrated in diaphragm, where diaphragm exhibits reinforcement by backfill within cavern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |