DE10253162A1 - Verfahren zum Spülen einer optischen Linse - Google Patents

Abstract

Mittels eines Gerätes (60) zur Bestimmung von Anteilen einer Substanz in einem Gas oder Gasgemisch werden Messungen an dem Gas oder Gasgemisch zum Spülen einer Linse (10) in einem Projektionsapparat (41) für die Projektion von Strukturen auf ein Substrat (100) durchgeführt. Dabei werden die Resultate einer ersten Messung an dem der Linse (10) zugeführten Gas mit den Resultaten einer Messung des von der Linse (10) abgeführten Gases miteinander verglichen. Handelt es sich insbesondere um eine kontaminierende Substanz, die zu einer Abscheidung auf der Linse (10) unter dem Einfluß hochenergetischer Strahlung durch eine Beleuchtungsquelle (14) führt, so kann aus der Differenz auf nachteilhaft zu der Abscheidung führende photochemische Reaktionen an der Oberfläche der Linse (10) geschlossen werden. Ein Signal wird infolge des Vergleiches generiert, mit dem vorbeugende Maßnahmen gegen eine Degradation der Linse (10) getroffen werden können. Als Meßgeräte (60) können Massenspektrometer, elektrische oder optische Sensoren sowie weitere bekannte Verfahren zur Substanzanalyse eingesetzt werden.

Description

• Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Spülen einer optischen Linse in einem Projektionsapparat zur Belichtung eines mit einem photoempfindlichen Lack beschichten Substrates mittels eines Gases oder Gasgemisches zur Vermeidung von Ablagerungen auf der Linse.
• Zur Projektion von Strukturen auf ein mit einem photoempfindlichen Lack beschichtetes Substrat bei der Halbleiterherstellung werden üblicherweise Linsensysteme verwendet, die aus einer Vielzahl von Einzellinsen zusammengesetzt sind. Diese dienen dazu, die mit Licht durchstrahlten Strukturen einer Maske mit hohem Kontrast in den photoempfindlichen Lack abzubilden. Zur Vermeidung von Kontaminationen sind diese Linsensysteme in eigens dafür eingerichteten Gehäusen luftdicht abgeschlossen und werden beispielsweise mit hochreiner, getrockneter Luft oder mit Stickstoff umspült. Diese Gase oder Gasgemische weisen eine besonders geringe Wechselwirkung mit dem Linsenmaterial auf, so daß ungewünschte Abscheidungen auf der Linsenoberfläche vermieden werden können.
• Nach einem längeren Gebrauch der Linsen etwa in Form von Belichtungen von Halbleiterwafern mittels Projektion von Strukturen bei Wellenlängen von z.B. 365 nm und weniger treten jedoch immer häufiger Linsendegradationen auf. Ursachen hierfür können in internen oder externen Quellen der Kontamination liegen. Interne Quellen von kontaminierenden Gas oder Gasgemischen sind beispielsweise Öle oder Dichtungsringe, die beim Zusammenbau der Linsensysteme in den Gehäusen verwendet werden und allmählich ausgasen.
• Externe Quellen werden beispielsweise durch die nicht immer ganz kontaminationsfreie Reinraumluft in der Umgebung der Projektionsapparate, beispielsweise Waferstepper oder Scan ner, verursacht. Einerseits kann die Dichtigkeit der Linsengehäuse sowie der Zuleitungen mit der Zeit nachlassen, andererseits können die Substanzen aus der Umgebung auch in die für die Spülung vorgesehen Gas- oder Gasgemischquellen gelangen.
• Durch den Übergang der für die Belichtung eingesetzten Wellenlängen von 365 nm (i-line) in der Vergangenheit auf 248 nm (KrF), 193 nm (ArF), 157 nm (F2) und weiter zu noch kleineren Wellenlängen hin steigt auch der Energiedurchsatz durch die Linsen. Insbesondere die durch Energie induzierten Wechselwirkungen der Linsenoberfläche mit den umgebenden Gasen nimmt in weiterer Zukunft deutlich zu mit der Folge, daß verstärkt mit Abscheidungen und daher mit Trübungs- und Degradationseffekten der Linse zu rechnen ist. Die Wirkung von degradierten Linsen kann in dem Verschwinden oder dem Umfallen von Bahnen in den Lackschichten oder in den Rückständen von Lackresten bestehen. Die sich in Linsenaberrationen niederschlagenden Effekte sind schwer zu qualifizieren und führen damit bis zur Erkennung der Probleme zu einem hohen Grad an Produktausfällen (Ausbeute- oder Yield-verlust).
• Die Öle werden beispielsweise durch hochenergetische Strahlung als ausgedehnte Flecke auf den Linsenoberflächen eingebrannt. Bei CaF-Linsen für die Verwendung von Wellenlängen bei 193 nm sind Trübungseffekte bekannt, die durch photochemische Reaktionen des Gasgemisches zur Bildung schwefel- oder phosphorhaltiger Salze auf der Linsenoberfläche führen.
• Zur frühzeitigen Erkennung dieser Probleme wurden bisher sogenannte Inline-Tests durchgeführt, bei denen Probebelichtungen von mit einem photoempfindlichen Lack beschichteten Halbleiterwafer mit Hilfe eines oder mehrerer Testretikel bzw. -masken durchgeführt wurden. Das Feststellen einer Fokusdrift möglicherweise in Abhängigkeit von den Strukturgrößen galt hierbei als Hinweis für eine zunehmende Degradation der Linse aufgrund von Kontaminationen in den zugeführten Gasen oder Gasgemischen für die Spülung der Linsen. Wie eingangs beschrieben wurde, benötigen diese Tests jedoch wertvolle Gerätezeit und ermöglichen zudem nur eine Erkennung der Fehler im Nachhinein.
• Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Mittel bereitzustellen, mit dem Linsendegradationen frühzeitig erkannt sowie vorgebeugt werden können. Es ist desweiteren eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung die Ausbeute bei der Halbleiterherstellung zu erhöhen und die Produktivität eines Projektionsapparates zur Belichtung von Substraten zu verbessern.
• Die Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zum Spülen einer optischen Linse in einem Projektionsapparat zur Belichtung eines mit einem photoempfindlichen Lack beschichteten Substrates mittels eines Gases oder Gasgemisches zur Vermeidung von Ablagerungen auf der Linse, umfassend die Schritte: Bereitstellen einer Quelle für das Gas oder Gasgemisch, Befördern des Gases oder Gasgemisches zu der Linse in dem Projektionsapparat, erstes Messen wenigstens eines ersten Anteiles einer Substanz an dem Gas oder Gasgemisch, Spülen der Linse, Entfernen des Gases oder Gasgemisches von der Linse, zweites Messen wenigstens eines zweiten Anteiles einer Substanz an dem Gas oder Gasgemisch, Vergleich des ersten Anteiles mit dem zweiten Anteil, Erzeugen eine Signals in Abhängigkeit von dem Vergleichsergebnis.
• Die Aufgabe wird außerdem gelöst durch eine Anordnung zur Projektion einer Struktur auf ein mit einem photoempfindlichen Lack beschichtetes Substrat, umfassend wenigstens eine Linse, welche innerhalb im wesentlichen luftdicht abgeschlossenen Gehäuses angeordnet ist, eine Beleuchtungsquelle, eine Quelle für ein Gas oder Gasgemisch zum Spülen der Linse, eine erste Leitung zum Zuführen des Gases oder Gasgemisches zu der Linse, durch welche die Quelle und das Innere des Gehäuses verbunden sind, eine zweite Leitung zum Abführen des Gases oder Gasgemisches von der Linse, durch welche das Innere des Gehäuses und einer Umgebung der Anordnung miteinander verbunden sind, eine Kontrolleinheit zum Regeln des Flusses des Gases oder Gasgemisches in das Innere des Gehäuses, ein Gerät zur Messung des Anteiles einer Substanz an dem Gas oder Gasgemisch, welches mit der zweiten Leitung verbunden ist.
• Gemäß der vorliegenden Erfindung wird das beim Spülvorgang aus dem Gehäuse umfassend des Linsensystems mit einer Vielzahl von Einzellinsen abfließende Gas oder Gasgemisch auf Anteile von Substanzen hin untersucht, so daß Rückschlüsse auf die im Innern des Gehäuses, d.h. an der Linsenoberfläche, vorgehenden Gasreaktionen bzw. photochemischen Umwandlungsreaktionen gezogen werden können. Bei dieser Untersuchung können bestimmte Substanzen in dem Gas oder Gasgemisch auf ihren Mengen- oder Volumen- oder Molanteil hin untersucht werden, es ist aber auch möglich eine komplette Aufschlüsselung, d.h. Messung, aller Substanzen in dem Gas oder Gasgemisch vorzunehmen. Anstelle eines genauen Anteilswertes kann die Messung auch in einer Kontrolle bestehen, ob ein bestimmter Schwellwert für den Anteil überschritten wurde oder nicht.
• Bei den Substanzen handelt es sich um unter dem Verdacht der Kontamination stehendes Material wie beispielsweise Öle, Wasser, Ausgasungen von Kunststoffen oder üblicherweise in Reinräumen verwendete Materialien zur Durchführung chemischer Prozesse. Sie können als Gase, Gasgemische, Aerosole, Dampf, Schwebeteilchen etc. in dem spülenden Gas oder Gasgemisch etc. vorliegen.
• Als Bezugs- oder Referenzwert für eine Messung wird ebenfalls der Anteil der Substanz bzw. der Substanzen in dem zufließenden Gas oder Gasgemisch gemessen. Dieser Referenzwert wird mit dem gemessenen Wert in dem abfließenden Gas verglichen. Ergibt sich in dem Vergleich ein Unterschied, so wird klar, daß in dem Gehäuse umfassend die Linsen chemische, insbesondere photochemische Reaktionen stattgefunden haben müssen.
• Die erste Messung des Anteiles in dem zufließenden Gas kann erfindungsgemäß auch in größeren Abständen oder auch nur einmalig für ein System-Setup durchgeführt werden. Dies ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn nur ein Meßgerät für die Messung des Anteiles der Substanz an dem Gas oder Gasgemisch zur Verfügung steht, so daß nicht für jeden Durchlauf des erfindungsgemäßen Verfahrens ständig die Verbindung der Zu- bzw. Ableitungen umgeschaltet werden müssen.
• Zudem ist anzunehmen, daß, wenn eine konkreter Gas- oder Gasgemischbehälter als Quelle für das zufließende Gas zum Spülen der Linsen bereitgestellt ist, sich die Zusammensetzung in dem Behälter nicht ändert, so daß die erste Messung nur einmalig durchgeführt zu werden braucht.
• Übertrifft die Differenz des Substanzanteiles in dem zu- beziehungsweise abfließenden Gas einen bestimmten Schwellwert, welcher aus der Erfahrung gewonnen werden kann, so wird ein Signal generiert, das gemäß weiteren Ausgestaltungen der vorliegenden Erfindung dazu genutzt wird Aktionen einzuleiten, mit dem die Degradation der Linse vermieden werden kann. Dazu gehören beispielsweise die Unterbrechung der aktuellen Produktion im Projektionsapparat zur Untersuchung der Ursache, mit welcher die kontaminierende Substanz in das Innere des Spülsystems gelangen konnte. Das Signal kann auch dazu verwendet werden, den Austausch der Linse bzw. des gesamten Gehäuses einzuleiten. Dies trifft insbesondere dann zu, wenn feststeht, daß interne Quellen wie ausgasende Dichtungsringe oder Öle die Ursache der Kontamination sind.
• Das erfindungsgemäßen Verfahren kann insbesondere auch dann vorteilhaft verwendet werden, wenn das Gehäuse mit dem Linsensystem gerade geöffnet wurde, um Systemarbeiten wie etwa den Austausch einer Linse vorzunehmen, so daß kurz nach diesem Vorgang noch externe Gase oder Gasgemische innerhalb des Gehäuses vorhanden sind. Um festzustellen, wie lange gespült werden muß bis diese Reste aus dem Gehäuse entfernt sind, ist es vorteilhaft, das abfließende Gas mit dem zufließenden Gas vergleichen zu können. Im Falle von hochreiner, getrockneter Luft als Spülgasgemisch besteht nämlich die Gefahr, daß kurz nach der Öffnung noch vorhandenes Luftgemisch aus der Reinraumumgebung mit hohem Wasseranteil in dem Linsensystem verbleibt. Spuren von Feuchtigkeit in dem Luftgemisch gelten jedoch als ursächlich für die Bildung der Salze auf den Linsenoberflächen. Erfindungsgemäß kann somit eine Messung der Substanzanteile von Sauerstoff und Wasser (H₂O) in dem zu- bzw. abfließenden Gas oder Gasgemisch verglichen werden. Gemäß dem Stand der Technik bestand hier nur die Möglichkeit aufgrund von Erfahrungswerten den Zeitpunkt der Wiederaufnahme der Produktion, d.h. der Belichtung von Wafern, zu bestimmen.
• Die Erfindung soll nun anhand eines Ausführungsbeispiels mit Hilfe einer Zeichnung näher erläutert werden. Darin zeigt
• 1 eine schematische Darstellung einer Anordnung zum Spülen einer Linse eines Projektionsapparates gemäß eines Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung.
• In der in 1 gezeigten schematischen Darstellung einer Anordnung zum Spülen einer Linse in einem Linsensystem eines Projektionsapparates 41 zur Belichtung von Halbleiterwafern 100 ist ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung skizziert. Die elementaren Bestandteile des Projektionsapparates 41 sind auf der rechten Seite der 1 zu sehen. Eine Beleuchtungsquelle 14 emittiert Licht der Wellenlänge 193 nm (ArF-Laser), welches durch ein System von Linsen 10 in einem photoempfindlichen Lack, welcher auf dem Halbleitersubstrat 100 aufgebracht ist, fokussiert wird. Nicht dargestellt ist eine Maske mit Strukturen sowie weitere Linsen, welche zwischen der Beleuchtungsquelle 14 und den Linsen 10 angeordnet sind, wobei die transparent ausgebildeten Strukturen auf der Maske von einem mit Hilfe der weiteren Linse generierten parallelen Lichtbündels durchstrahlt werden.
• Die vorliegende Erfindung umfaßt auch Belichtungs- bzw. Projektionsanordnungen, bei denen scharf gebündelte Laserstrahlen ohne Durchleuchtung einer Maske über das Linsensystem umfassen die Einzellinsen unmittelbar auf das Substrat projiziert werden. Die ist beispielsweise bei der Belichtung von photoempfindlichen Lacken auf Masken oder Retikeln der Fall. Auch bei dieser Anordnung kann die erfindungsgemäße Kontrolle eines Spülvorganges vorteilhaft angewendet werden.
• Die das Linsensystem zusammensetzenden Einzellinsen 10 sind in einem im wesentlichen luftdichten Gehäuse 12 angeordnet. Ein mit Stickstoff gefüllter Gasbehälter 20 wird als Quelle für das Spülgas verwendet. Das Stickstoffgas bzw. – gasgemisch, soweit weitere Gaszusätze verwendet werden, wird über Zuleitungen 30 in das Gehäuse 12 mit den Linsen 10 geleitete. Dieser Vorgang wird mittels einer Steuereinheit 50 für den Gasdurchfluß kontrolliert. Die Steuereinheit 50 ist mit einem Manometer 52 und einem Barometer 54 verbunden, mit welchem u.a. der Gasdruck, die Temperatur etc. innerhalb des Gehäuses 12 gemessen werden können. Durch diese Anordnung wird ein Regekreislauf definiert, wodurch im wesentlichen konstante physikalische Bedingungen innerhalb des Gehäuses 12 gewährleistet werden. Das Stickstoffgas umspült die Linsen 10 und verläßt das Gehäuse 12 über eine zweite Leitung (Ableitung) 40. Dabei wird es durch ein Karbon-Filter 45 gereinigt. Der Abfluß des Gases oder Gasgemisches wird ebenfalls durch die Steuereinheit 50 kontrolliert. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel wird das Gas oder Gasgemisch über die zweite Leitung 40 aus dem Projektionsapparat 41 in den umgebenden Reinraum 42 des Projektionsapparates 41 herausgeführt.
• Die im folgenden zu beschreibenden Konstruktionsmerkmale bzw. Bestandteile der Anordnung können als integraler Bestandteil des Projektionsapparates oder auch als ankoppelbares Zusatzmodul realisiert werden. Besonders im zweiten Fall besteht der Vorteil einen mobilen Einsatz in einer eine Vielzahl von Projektionsapparaten umfassenden Halbleiterfertigung zu ermöglichen. Hierzu wird erfindungsgemäß eine standardisierte Schnittstelle für jeden Projektionsapparat zur Verfügung gestellt, an welcher das Zusatzmodul angekoppelt werden kann.
• Die das Gas abführende zweite Leitung 40 ist über eine Leitung 66 mit einer Detektionskammer 68 verbunden. Der Zustrom von abzuführendem Gas aus der zweiten Leitung 40 in die Detektionskammer 68 wird mit Hilfe eines ersten Ventils 67 gesteuert. Die Detektionskammer 68 umfaßt mehrere Probenkammern, in welcher jeweils nacheinander zeitlich gesteuert Gasprobeentnahmen aus der zweiten Leitung 40 eingebracht werden. Die Entnahme der Gasproben wird durch eine mit der Detektionskammer 68 verbundene Vakuumpumpe 64 ermöglicht. Über ein zweites Ventil 62 werden die einzelnen, zwischengespeicherten Gasproben einem Massenspektrometer 60 zur Messung der Massenanteil einzelner Substanzen wie hier etwa der Wasseranteil zugeführt. Die Steuerung der Ventile 67, 62 sowie der Vakuumpumpe 64, der einzelnen Probenkammern in der Detektionskammer 68 sowie der Messung in dem Massenspektrometer 60 werden mit Hilfe einer in 1 nicht gezeigten weiteren Steuereinheit koordiniert. Diese weitere Steuereinheit ist vorzugsweise mit einer Datenbank gekoppelt, in welcher die gemessenen Substanzanteile gespeichert und den Entnahmezeiten aus der zweiten Leitung 40 zugeordnet werden.
• Auf die derart bestimmten Zeitreihen können Analysen angewendet werden, mit denen einerseits zeitlich lokalisierte Ereignisse bestimmt, andererseits aber auch Trends und damit zukünftige Schwellwertüberschreitungen vorhergesagt werden können.
• Über eine weitere Leitung 69 ist die Detektionskammer 68 auch mit der ersten Leitung 30 für die Zuführung von Stickstoff aus dem Gasbehälter 20 in das Gehäuse 12 mit den Linsen 10 verbunden. Für die Durchführung der ersten Referenzmessung des anzunehmender Weise noch nicht kontaminierten Gases wird dieses in größeren Abständen gleichfalls in einen der Probenkammern angebracht und sofort oder später über das Ventil 62 dem Massenspektrometer 60 zur Bestimmung der Anteile der gleichen Substanzen, hier dem Wasseranteil, zugeführt.
• Es können parallel zu dem Massenspektrometer 60 mit dem Ventil 62 weitere elektrische oder optische Sensoren zur Bestimmung der Substanzanteile mit weiteren Ventilen an Detektionskammer 68 angeschlossen werden, wobei auch weitere bekannte Verfahren zur Substanzanalyse von der Erfindung eingeschlossen sind. Es ist desweiteren auch möglich, das den genannten Sensoren zugeführte Gas anschließend wieder in die ersten Leitungen 30 bzw. zweiten Leitungen 40 zur weiteren Verwendung während der Spülung zurückzuführen.
• Die in 1 dargestellten strickpunktierten Linien trennen die Module Projektionsapparat 41, das Zusatzmodul 43 zur Durchführung der Vergleichsmessung, welches an den Projektionsapparat 41 angekoppelt werden kann, sowie den umgebenden Reinraum 42 voneinander.

10

Linse

12

Gehäuse für Linsensystem

14

Beleuchtungsquelle, Laser

20

Gasbehälter für Spülgas

30

erste Leitung, Zuleitung für Spülgas zur Linse

40

zweite Leitung, Ableitung von Spülgas von Linse

41

Projektionsapparat

42

Reinraumumgebung des Projektionsapparatese

43

Zusatzmodul zur Messung von Substanzanteilen im Spülgas

oder Gasgemische

45

Karbonfilter

50

Steuereinheit für Gasdurchfluß

52

Nanometer

54

Varometer

60

Massensprektrometer, elektrische oder optische Sensoren

62

zweites Ventil

64

Vakuumpumpe

66

Verbindungsleitung für Gasentnahme

67

erstes Ventil

68

Detektionskammer

69

Verbindungsleitung für Gasentnahme

100

mit photoempfindlichem Lack beschichtetes Substrat, Wa

fer, Flat-Panel, Maske

Claims (16)

1. Verfahren zum Spülen einer optischen Linse (10) in einem Projektionsapparat (41) zur Belichtung eines mit einem photoempfindlichen Lack beschichteten Substrates (100) mittels eines Gases oder Gasgemisches zur Vermeidung von Ablagerungen auf der Linse (10), umfassend die Schritte: – Bereitstellen einer Quelle (20) für das Gas oder Gasgemisch, – Befördern des Gases oder Gasgemischs zu der Linse (10) in dem Projektionsapparat (41), – erstes Messen wenigstens eines ersten Anteiles einer Substanz an dem Gas oder Gasgemisch, – Spülen der Linse (10), – Entfernen des Gases oder Gasgemisches von der Linse (10), – zweites Messen wenigstens eines zweiten Anteiles einer Substanz an dem Gas oder Gasgemisch, – Vergleich des ersten Anteiles mit dem zweiten Anteil, – Erzeugen eines Signals in Abhängigkeit von dem Vergleichsergebnis.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Projektionsapparat (41) eine Beleuchtungsquelle (14) umfaßt, aus welcher Licht mit einer Wellenlänge von 193 Nanometer oder weniger durch die Linse (10) auf das Substrat (100) gestrahlt wird.
3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß infolge des erzeugten Signals die Linse (10) gegen eine weitere Linse ausgetauscht wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das erste und/oder zweite Messen mit einem oder mehreren optischen Detektoren durchgeführt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das erste und/oder zweite Messen mit einem oder mehreren elektrischen Sensoren durchgeführt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das erste und/oder zweite Messen mit einem Massenspektrometer (60) durchgeführt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß – in regelmäßigen Zeitabständen Proben aus dem von der Linse (10) entfernten Gas oder Gasgemisch entnommen werden, – die Proben in separaten Kammern zwischengespeichert werden, – die Proben zur Durchführung der zweiten Messung nacheinander dem Massenspektrometer (60) zugeführt werden.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Schritte unmittelbar nach einem Austausch oder einem Reinigungsvorgang der Linse (10) ausgeführt werden.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß eine Belichtung eines Substrates (100) in Abhängigkeit von der Erzeugung des Signals durchgeführt wird.
10. Anordnung zur Projektion einer Struktur auf ein mit einem photoempfindlichen Lack beschichtetes Substrat (100), umfassend: – wenigstens eine Linse (10), welche innerhalb eines im wesentlichen luftdicht abgeschlossenen Gehäuses (12) angeordnet ist, – eine Beleuchtungsquelle (14), – eine Quelle (20) für ein Gas oder Gasgemisch zum Spülen der Linse (10), – eine erste Leitung (30) zum Zuführen des Gases oder Gasgemischs zu der Linse (10), durch welche die Quelle (20) und das Innere des Gehäuses (12) verbunden sind, – eine zweite Leitung (40) zum Abführen des Gases oder Gasgemischs von der Linse (10), durch welche das Innere des Gehäuses (12) und eine Umgebung (42) der Anordnung miteinander verbunden sind, – eine Kontrolleinheit (50) zum Regeln des Flusses des Gases oder Gasgemischs in das Innere des Gehäuses (12), – ein Gerät (60) zur Messung des Anteiles einer Substanz an dem Gas oder Gasgemisch, welches mit der zweiten Leitung (40) verbunden ist.
11. Anordnung nach Anspruch 10, gekennzeichnet durch eine Detektionskammer (68) zur Aufnahme des Gases oder Gasgemischs für eine Messung, welche zwischen dem Meßgerät (60) und der zweiten Leitung (40) angeordnet ist.
12. Anordnung nach einem der Ansprüche 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Gerät (60) zur Messung des Anteiles ein Massenspektrometer ist.
13. Anordnung nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Meßgerät (60) mit der ersten Leitung (30) verbunden ist.
14. Anordnung nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Detektionskammer (68) zwischen dem Meßgerät (60) und der ersten Leitung (30) angeordnet ist.
15. Anordnung nach einem der Ansprüche 10 bis 14, gekennzeichnet durch – ein in wenigstens einer der ersten (30) oder zweiten Leitung (40) angeordnetes Ventil (67), durch welches die Detektionskammer (68) entweder mit der Linse (10) zuzuführendem oder von der Linse (10) abzuführendem Gas oder Gasgemisch versorgt werden kann, – ein Pumpensystem (64) zur Zuführung von Gas oder Gasgemisch in die Detektionskammer (68).
16. Anordnung nach einem der Ansprüche 10 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Detektionskammer (68) eine Anzahl von Probenkammern aufweist, in denen jeweils unterschiedliche Gas- oder Gasgemischproben zur Durchführung einer Messung in dem Gerät (60) zur Messung des Anteiles zwischengespeichert werden können.