DE10236491B4 - Cleaning with CO2 and N2O - Google Patents

Cleaning with CO2 and N2O Download PDF

Info

Publication number
DE10236491B4
DE10236491B4 DE10236491A DE10236491A DE10236491B4 DE 10236491 B4 DE10236491 B4 DE 10236491B4 DE 10236491 A DE10236491 A DE 10236491A DE 10236491 A DE10236491 A DE 10236491A DE 10236491 B4 DE10236491 B4 DE 10236491B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
cleaning
carbon dioxide
cleaning agent
nitrous oxide
mixture
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE10236491A
Other languages
German (de)
Other versions
DE10236491A1 (en
Inventor
Dr. Donnerhack Andreas
Wolfgang Volker
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Air Liquide Deutschland GmbH
Original Assignee
Air Liquide Deutschland GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Air Liquide Deutschland GmbH filed Critical Air Liquide Deutschland GmbH
Priority to DE10236491A priority Critical patent/DE10236491B4/en
Priority to EP03018106A priority patent/EP1388376A3/en
Publication of DE10236491A1 publication Critical patent/DE10236491A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE10236491B4 publication Critical patent/DE10236491B4/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041Cleaning
    • H01L21/02043Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
    • H01L21/02052Wet cleaning only
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B7/00Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • B08B7/0021Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by liquid gases or supercritical fluids
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F43/00Dry-cleaning apparatus or methods using volatile solvents
    • D06F43/007Dry cleaning methods
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06LDRY-CLEANING, WASHING OR BLEACHING FIBRES, FILAMENTS, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR MADE-UP FIBROUS GOODS; BLEACHING LEATHER OR FURS
    • D06L1/00Dry-cleaning or washing fibres, filaments, threads, yarns, fabrics, feathers or made-up fibrous goods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

Reinigungsverfahren, dadurch gekennzeichnet, daß Kohlendioxid, das zumindest zeitweise Distickstoffmonoxid enthält, als Reinigungsmittel mit dem Reinigungsgut in Kontakt gebracht wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Reinigungsmittel aus 5 bis 20 Vol.-% Distickstoffmonoxid (N2O), Rest Kohlendioxid (CO2) besteht und in gasförmiger Phase vorliegt.Cleaning process, characterized in that carbon dioxide, which at least temporarily contains nitrous oxide, is brought into contact with the items to be cleaned as a cleaning agent, characterized in that the cleaning agent consists of 5 to 20 vol .-% nitrous oxide (N2O), the remainder carbon dioxide (CO2) and is in the gaseous phase.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reinigung mit Kohlendioxid.The invention relates to a process for purification with carbon dioxide.

Bekannt ist die Trockenreinigung mit überkritischem Kohlendioxid (CO2). Solche Reinigungsverfahren sind beispielsweise in US 6280481 A , US 6299652 A , US 2001013148 A1 und WO 0187505 A1 beschrieben.Dry cleaning with supercritical carbon dioxide (CO 2 ) is known. Such cleaning methods are for example in US Pat. No. 6,280,481 A . US 6299652 A . US 2001013148 A1 and WO 0187505 A1 described.

Dem verdichteten Kohlendioxid werden üblicherweise Zusätze wie Tenside, Lösemittel oder andere Hilfsstoffe beigefügt. Diese zum Teil nicht flüchtigen Zusätze müssen von dem Reinigungsgut wieder entfernt werden, was in der Regel einen zusätzlichen Aufwand bedeutet.The compressed carbon dioxide is usually added with additives such as surfactants, solvents or other auxiliaries. These partly non-volatile additives must be removed from the cleaning material again, which usually means an additional expense.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein alternatives Reinigungsverfahren bereit zu stellen.The invention has for its object to provide an alternative purification process.

Gelöst wurde die Aufgabe durch ein Verfahren mit den in Anspruch 1 beschriebenen Merkmalen.The object has been achieved by a method having the features described in claim 1.

Bei dem Reinigungsverfahren werden Kohlendioxid und Distickstoffmonoxid mit dem Reinigungsgut in Kontakt gebracht. Vorzugsweise wird ein Gemisch von Kohlendioxid und Distickstoffmonoxid zum Reinigen eingesetzt.In the cleaning process, carbon dioxide and nitrous oxide are brought into contact with the items to be cleaned. Preferably, a mixture of carbon dioxide and nitrous oxide is used for cleaning.

Das Reinigungsverfahren dient beispielsweise zur Reinigung oder Behandlung von Textilien, textilartigen Stoffen (z. B. Non-wovens, Vlies, Filz), Folien, Kunststoffteilen, Metallteilen, Teilen aus Keramik, Verbundstoffen, Kunststofffaser, Naturfaser, Glasteilen oder Glasoberflächen, insbesondere zur Reinigung von strukturierten Oberflächen von Materialien wie Textilien oder ähnlichen Materialien und Formteilen.The cleaning method is used, for example, for cleaning or treating textiles, textile-like materials (for example non-wovens, fleece, felt), films, plastic parts, metal parts, parts made of ceramic, composite materials, plastic fiber, natural fiber, glass parts or glass surfaces, in particular for cleaning of structured surfaces of materials such as textiles or similar materials and molded parts.

Die Behandlung des Reinigungsgutes erfolgt vorzugsweise in geschlossenen Systemen unter Verwendung eines Gemisches von Kohlendioxid (CO2) und Distickstoffmonoxid (N2O) in gasförmiger Phase.The treatment of the cleaning material is preferably carried out in closed systems using a mixture of carbon dioxide (CO 2 ) and nitrous oxide (N 2 O) in the gaseous phase.

In dem Verfahren werden Kohlendioxid und Distickstoffmonoxid als Reinigungsmittel, insbesondere als Kombinationsreinigungsmittel zur gleichzeitigen, getrennten oder zeitlich abgestuften Anwendung eingesetzt.In the process carbon dioxide and dinitrogen monoxide are used as cleaning agents, in particular as combination cleaning agents for simultaneous, separate or graduated use.

Das Reinigungsmittel enthält Kohlendioxid (CO2) und Distickstoffmonoxid (N2O), das auch als Lachgas bezeichnet wird. Das Stoffgemisch aus Kohlendioxid (CO2) und Distickstoffmonoxid, hat einen N2O-Anteil von 5 bis 20 Vol.-%, Rest CO2 (zusammen 100 Vol.-%). Die Konzentrationsangaben (Vol.-%) beziehen sich auf die Konzentrationen der Komponenten des Stoffgemisches bei Normalbedingungen (1 bar absolut, 0°C).The cleaning agent contains carbon dioxide (CO 2 ) and nitrous oxide (N 2 O), which is also called nitrous oxide. The mixture of carbon dioxide (CO 2 ) and nitrous oxide, has an N 2 O content of 5 to 20 vol .-%, balance CO 2 (together 100 vol .-%). The concentration data (% by volume) refer to the concentrations of the components of the substance mixture under normal conditions (1 bar absolute, 0 ° C).

Das Reinigungsmittel wird als Gasgemisch, vorzugsweise als verdichtetes Gasgemisch, eingesetzt. Das Reinigungsmittel wird vorzugsweise wie übliche Kohlendioxid-Phasen bei der Trockenreinigung eingesetzt. Der Einsatz des Reinigungsmittels in überkritischem Zustand erfolgt beispielsweise wie in der US 6280481 A , US 6299652 A , US 2001013148 A1 und WO 0187505 A1 beschrieben, worauf hiermit Bezug genommen wird.The cleaning agent is used as a gas mixture, preferably as a compressed gas mixture. The cleaning agent is preferably used as usual carbon dioxide phases in the dry cleaning. The use of the detergent in supercritical state, for example, as in the US Pat. No. 6,280,481 A . US 6299652 A . US 2001013148 A1 and WO 0187505 A1 described, to which reference is hereby made.

Das Reinigungsmittel kann ein oder mehrere Zusatzstoffe enthalten. In diesen Fällen sind die Zusatzstoffe in der Regel in sehr geringer Konzentration enthalten. Zusatzstoffe sind z. B. Tenside, oberflächenaktive Stoffe. Auch der Zusatz von anorganischen Lösemitteln wie Wasser oder organischen Lösemitteln wie Alkohole (z. B. Methanol, Ethanol, Propanol, Isopropanol) oder lineare oder verzweigte Kohlenwasserstoffe (z. B. Methan, Ethan, Propan, Isopropan, Butan, Hexan, Heptan) kann je nach Anwendungsfall in größerer (z. B. Prozentbereich wie 1 bis 10 Gewichtsprozent) oder kleinerer Menge (z. B. Spurenbereich oder ppm-Bereich wie 10 bis 1000 ppm; 1 ppm = 10–6 g pro g) vorteilhaft sein.The cleaning agent may contain one or more additives. In these cases, the additives are usually contained in very low concentration. Additives are z. As surfactants, surfactants. Also the addition of inorganic solvents such as water or organic solvents such as alcohols (eg methanol, ethanol, propanol, isopropanol) or linear or branched hydrocarbons (eg methane, ethane, propane, isopropane, butane, hexane, heptane) may be advantageous depending on the application in larger (eg percentage range such as 1 to 10 weight percent) or smaller amount (eg trace level or ppm range such as 10 to 1000 ppm, 1 ppm = 10 -6 g per g).

Bevorzugt werden Reinigungsmittel, die aus Kohlendioxid und Distickstoffmonoxid oder Kohlendioxid, Distickstoffmonoxid und einem oder mehreren Lösemitteln bestehen. Diese Reinigungsmittel hinterlassen keine Rückstände am Reinigungsgut. Die Zumischung von Distickstoffmonoxid zu Kohlendioxid verbessert die Reinigungsfähigkeit von Kohlendioxid, insbesondere überkritischem Kohlendioxid, außerordentlich.Preference is given to detergents which consist of carbon dioxide and dinitrogen monoxide or carbon dioxide, dinitrogen monoxide and one or more solvents. These detergents leave no residue on the items to be cleaned. The addition of nitrous oxide to carbon dioxide greatly improves the cleanability of carbon dioxide, particularly supercritical carbon dioxide.

Besonders vorteilhaft ist die Verwendung von Distickstoffmonoxid (N2O) bei der Trockenreinigung mit Kohlendioxid. Insbesondere wird die Trockenreinigung mit Kohlendioxid durch die Zudosierung von Distickstoffmonoxid verbessert.Particularly advantageous is the use of nitrous oxide (N 2 O) in the dry cleaning with carbon dioxide. In particular, the dry cleaning with carbon dioxide is improved by the metered addition of nitrous oxide.

Das Stoffgemisch für das Reinigungsmittel wird in der Regel als druckverflüssigte Phase in einem Druckgasbehälter bereit gestellt. Druckgasbehälter sind beispielsweise Druckgasflaschen, Druckgaspatronen (Kleinpatronen) oder Druckdosen.The mixture of substances for the cleaning agent is usually provided as a pressure-liquefied phase in a pressurized gas container. Compressed gas containers are for example compressed gas cylinders, compressed gas cartridges (small cartridges) or pressure cans.

Die Komponenten des Reinigungsmittels sind ungiftig, unbrennbar und physiologisch unbedenklich. Sie sind bereits im Medizin- und/oder Lebensmittelbereich etabliert.The components of the cleaning agent are non-toxic, incombustible and physiologically harmless. They are already established in the medical and / or food sector.

Vorteilhaft wird das Verfahren mit einer Verfahrensstufe zur Abtrennung von Verunreinigungen aus dem Reinigungsmittel während der Reinigung des Reinigungsgutes oder in einem vorangehenden oder nachfolgenden Verfahrensschritt kombiniert. Besonders vorteilhaft ist ein Kreislaufsystem, bei dem das Reinigungsmittel zwischen einer Reinigungseinrichtung für das Reinigungsgut und einer Reinigungseinrichtung für das Reinigungsmittel geführt wird. Beispielsweise wird das Reinigungsmittel zwischen den Einrichtungen kontinuierlich oder diskontinuierlich umgepumpt. Das Kreislaufsystem arbeitet z. B. mit flüssigem oder überkritischem Reinigungsmittel.Advantageously, the process is combined with a process stage for separating impurities from the cleaning agent during the cleaning of the cleaning material or in a preceding or subsequent process step. Particularly advantageous is a circulation system in which the cleaning agent is passed between a cleaning device for the cleaning material and a cleaning device for the cleaning agent. For example, the cleaning agent is circulated continuously or discontinuously between the devices. The circulatory system works z. B. with liquid or supercritical cleaning agent.

Die Reinigungseinrichtung für das Reinigungsmittel ist z. B. ein Filter, Adsorber oder Absorber, insbesondere eine oder mehrere Durchflußpatronen mit mindestens einem Reinigungsmaterial wie einem Filtermaterial, Adsorbermaterial oder Absorbermaterial. Das Reinigungsmaterial dient insbesondere zur Abtrennung von Verunreinigungen wie in dem Reinigungsmittel löslichen Stoffen, insbesondere Fett oder fettartigen Stoffen. Adsorbermaterial oder Absorbermaterial, auch Adsorptionsmittel oder Absorptionsmittel genannt, sind z. B. Aktivkohlen oder Polymerstoffe Kunststoffe, z. B. makroretikuläre Styrol-Copolymere). Geeignete Adsorptionsmittel oder Absorptionsmittel zur Bindung von Verunreinigungen wie Fett sind dem Fachmann bekannt. Die Regenerierung des Reinigungsmittels durch Abtrennung von Verunreinigungen mittels einer Reinigungseinrichtung bietet sich insbesondere an bei dem Einsatz von Reinigungsmitteln, die keine Additive wie Tenside oder andere nichtflüchtige Additive enthalten. Die Regenerierung des Reinigungsmittels z. B. in einem Kreislaufsystem ist vorteilhaft insbesondere bei Reinigungsmitteln, die aus Kohlendioxid und Distickstoffmonoxid bestehen.The cleaning device for the cleaning agent is z. As a filter, adsorber or absorber, in particular one or more Durchflußpatronen with at least one cleaning material such as a filter material, adsorber or absorber material. The cleaning material is used in particular for the separation of impurities such as substances soluble in the cleaning agent, in particular fat or fat-like substances. Adsorber or absorber material, also called adsorbents or absorbents are, for. B. activated carbons or polymer plastics, z. B. macroreticular styrene copolymers). Suitable adsorbents or absorbents for binding impurities such as fat are known to the person skilled in the art. The regeneration of the cleaning agent by separation of impurities by means of a cleaning device is particularly useful when using cleaning agents that contain no additives such as surfactants or other non-volatile additives. The regeneration of the detergent z. B. in a circulatory system is particularly advantageous for cleaning agents that consist of carbon dioxide and nitrous oxide.

Als Reinigungsmittel dienen z. B. vorgefertigte Gemische, insbesondere in Druckgasbehältern bereitgestellte Gasgemische, die z. B. aus Kohlendioxid und Distickstoffmonoxid bestehen, oder Gemische von Kohlendioxid und Distickstoffmonoxid, die vorort (in situ), in der Regel in dem Reinigungssystem (z. B. in oder an der Reinigungseinrichtung für das Reinigungsgut) erzeugt werden. Beispielsweise wird einem Kohlendioxidstrom kontinuierlich oder diskontinuierlich Distickstoffmonoxid zugemischt. Vorbestimmte Mengen von Distickstoffmonoxid werden z. B. über Steuereinrichtungen und Regeleinrichtungen und insbesondere steuerbare Ventile dem Kohlendioxid zudosiert. Die Dosierung von Distickstoffmonoxid erfolgt beispielsweise in einer oder mehreren Reinigungsphasen (Verfahrensschritten) des Reinigungsverfahrens.As a cleaning agent serve z. B. prefabricated mixtures, in particular provided in compressed gas tanks gas mixtures z. Example of carbon dioxide and nitrous oxide, or mixtures of carbon dioxide and nitrous oxide, the on-site (in situ), usually in the cleaning system (eg., In or on the cleaning device for the cleaning) are generated. For example, a carbon dioxide stream is added continuously or discontinuously dinitrogen monoxide. Predetermined amounts of nitrous oxide are z. B. via control devices and control devices and in particular controllable valves added to the carbon dioxide. The dosing of nitrous oxide takes place, for example, in one or more purification phases (process steps) of the purification process.

Überkritischem oder flüssigem Kohlendioxid wird z. B. mittels einer gesteuerten Dosiereinrichtung Distickstoffmonoxid zugeführt. Druck und Temperatur in dem System sind entsprechend zu wählen.Supercritical or liquid carbon dioxide is z. B. supplied by means of a controlled metering dinitrogen monoxide. Pressure and temperature in the system should be selected accordingly.

Claims (6)

Reinigungsverfahren, dadurch gekennzeichnet, daß Kohlendioxid, das zumindest zeitweise Distickstoffmonoxid enthält, als Reinigungsmittel mit dem Reinigungsgut in Kontakt gebracht wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Reinigungsmittel aus 5 bis 20 Vol.-% Distickstoffmonoxid (N2O), Rest Kohlendioxid (CO2) besteht und in gasförmiger Phase vorliegt.A cleaning process, characterized in that carbon dioxide, which at least temporarily dinitrogen monoxide is brought as a cleaning agent with the cleaning material in contact, characterized in that the cleaning agent from 5 to 20 vol .-% nitrous oxide (N 2 O), balance carbon dioxide (CO 2 ) and is in gaseous phase. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Reinigungsmittel verdichtet vorliegt.A method according to claim 1, characterized in that the cleaning agent is present compressed. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Reinigungsmittel ein oder mehrere Zusatzstoffe enthält.A method according to claim 2, characterized in that the cleaning agent contains one or more additives. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Reinigungsmittel in einem Kreislaufsystem eingesetzt und das Reinigungsmittel einer Reinigungseinrichtung für das Reinigungsmittel zugeführt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the cleaning agent is used in a circulation system and the cleaning agent is supplied to a cleaning device for the cleaning agent. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Reinigungseinrichtung für das Reinigungsmittel eine Filtermasse und/oder eine Adsorptionsmasse oder Absorptionsmasse aufweist.A method according to claim 4, characterized in that the cleaning device for the cleaning agent has a filter mass and / or an adsorption mass or absorption mass. Verwendung eines Stoffgemisches aus Kohlendioxid (CO2) und Distickstoffmonoxid (N2O) zum Reinigen, dadurch gekennzeichnet, daß das Stoffgemisch aus 5 bis 20 Vol.-% Distickstoffmonoxid (N2O), Rest Kohlendioxid (CO2) besteht und gasförmig verwendet wird.Use of a mixture of carbon dioxide (CO 2 ) and nitrous oxide (N 2 O) for cleaning, characterized in that the mixture of 5 to 20 Vol .-% dinitrogen monoxide (N 2 O), balance carbon dioxide (CO 2 ) is and used in gaseous form becomes.
DE10236491A 2002-08-09 2002-08-09 Cleaning with CO2 and N2O Expired - Fee Related DE10236491B4 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10236491A DE10236491B4 (en) 2002-08-09 2002-08-09 Cleaning with CO2 and N2O
EP03018106A EP1388376A3 (en) 2002-08-09 2003-08-08 Cleaning using CO2 and N2O

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10236491A DE10236491B4 (en) 2002-08-09 2002-08-09 Cleaning with CO2 and N2O

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE10236491A1 DE10236491A1 (en) 2004-02-19
DE10236491B4 true DE10236491B4 (en) 2012-05-03

Family

ID=30469620

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10236491A Expired - Fee Related DE10236491B4 (en) 2002-08-09 2002-08-09 Cleaning with CO2 and N2O

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE10236491B4 (en)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989004858A1 (en) * 1987-11-27 1989-06-01 Battelle Memorial Institute Supercritical fluid reverse micelle separation
WO1994001512A1 (en) * 1992-07-10 1994-01-20 E.I. Du Pont De Nemours And Company Azeotropic compositions of perfluoroethane, and trifluoromethane, or oxide, or nitrous oxide, or carbon dioxide, or fluoromethane
DE4306645A1 (en) * 1993-03-03 1994-09-08 David Jackson Method for cleaning, sterilising and implanting substrates by means of a high-energy compressed fluid
DE4309734A1 (en) * 1993-03-25 1994-09-29 Akzo Nobel Nv Process for cleaning hollow fibers
DE4333221A1 (en) * 1993-09-30 1995-04-06 Deutsches Textilforschzentrum Process for decolouring substrates made from plastic, in particular synthetic fibres
WO1997016264A1 (en) * 1995-11-03 1997-05-09 The University Of North Carolina At Chapel Hill Novel cleaning process using carbon dioxide as a solvent and employing molecularly engineered surfactants
EP0828021A2 (en) * 1996-09-09 1998-03-11 Air Liquide America Corporation Continuous cleaning apparatus and method
EP0836895A2 (en) * 1996-10-16 1998-04-22 International Business Machines Corporation Residue removal by supercritical fluids
WO1999056892A1 (en) * 1998-05-06 1999-11-11 Steris Corporation Sub-critical fluid cleaning and antimicrobial decontamination sysstem and process
DE19903243A1 (en) * 1999-01-28 2000-08-03 Linde Tech Gase Gmbh Process for the purification of materials and/or surfaces is carried out using a liquefied and/or super critical gas as cleaning agent
WO2002032593A1 (en) * 2000-10-20 2002-04-25 Commissariat A L'energie Atomique Method, device and installation for cleaning contaminated parts, with a dense pressurised fluid

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989004858A1 (en) * 1987-11-27 1989-06-01 Battelle Memorial Institute Supercritical fluid reverse micelle separation
WO1994001512A1 (en) * 1992-07-10 1994-01-20 E.I. Du Pont De Nemours And Company Azeotropic compositions of perfluoroethane, and trifluoromethane, or oxide, or nitrous oxide, or carbon dioxide, or fluoromethane
DE4306645A1 (en) * 1993-03-03 1994-09-08 David Jackson Method for cleaning, sterilising and implanting substrates by means of a high-energy compressed fluid
DE4309734A1 (en) * 1993-03-25 1994-09-29 Akzo Nobel Nv Process for cleaning hollow fibers
DE4333221A1 (en) * 1993-09-30 1995-04-06 Deutsches Textilforschzentrum Process for decolouring substrates made from plastic, in particular synthetic fibres
WO1997016264A1 (en) * 1995-11-03 1997-05-09 The University Of North Carolina At Chapel Hill Novel cleaning process using carbon dioxide as a solvent and employing molecularly engineered surfactants
EP0828021A2 (en) * 1996-09-09 1998-03-11 Air Liquide America Corporation Continuous cleaning apparatus and method
EP0836895A2 (en) * 1996-10-16 1998-04-22 International Business Machines Corporation Residue removal by supercritical fluids
WO1999056892A1 (en) * 1998-05-06 1999-11-11 Steris Corporation Sub-critical fluid cleaning and antimicrobial decontamination sysstem and process
DE19903243A1 (en) * 1999-01-28 2000-08-03 Linde Tech Gase Gmbh Process for the purification of materials and/or surfaces is carried out using a liquefied and/or super critical gas as cleaning agent
WO2002032593A1 (en) * 2000-10-20 2002-04-25 Commissariat A L'energie Atomique Method, device and installation for cleaning contaminated parts, with a dense pressurised fluid

Also Published As

Publication number Publication date
DE10236491A1 (en) 2004-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2066796B1 (en) Method and device for separating methane and carbon dioxide from biogas
DE69534710T2 (en) VSA adsorption process with continuous operation
DE102007007581A1 (en) Carbon dioxide product producing method for gas analysis process, involves producing two-phase material-mixture by releasing fluid phase by throttle element, and vaporizing and heating fluid phase against application gas
EP3539641B1 (en) Method for after-treatment of regeneration waste gas
EP0092695B1 (en) Process for the recovery of rare gases having small atomic diameters, especially helium from gas mixtures containing oxygen and/or nitrogen
DE2729558C3 (en) Adsorption / desorption process for the production of hydrogen
WO2003013699A1 (en) Method and absorption agent for extracting acidic gases from fluids
DE10236491B4 (en) Cleaning with CO2 and N2O
DE102011108530A1 (en) Process and apparatus for detergent regeneration in gas scrubbers
DE102009015368A1 (en) Method for cleaning synthesis raw gas containing hydrogen, carbon monoxide, and carbon dioxide, involves utilizing generated gas as stripping gas for removing co-absorbed materials from loaded washing agents
DE1939701B2 (en) Process for isothermal adsorption separation of a gas mixture
DE10236485B4 (en) Cleaning substrate surfaces using CO2 and N2O
WO2015043707A1 (en) Method and device for sour gas scrubbing
EP1388376A2 (en) Cleaning using CO2 and N2O
DE3017222A1 (en) METHOD FOR REMOVING GASEOUS COMPOUNDS FROM GAS BY EXTRACTION WITH A STATIONARY SOLVENT
DE3200910C2 (en)
DE2337754A1 (en) Fractionating gas by preferential adsorption - using alternating pressures in adsorption bed
DE2703929A1 (en) PROCESS FOR PROCESSING TECHNICAL GASES
DE102009034980A1 (en) Method for separating mixture of e.g. hydrogen, carbon dioxide and carbon monoxide in washing device, involves subjecting stream to treatment to remove problematic materials and/or convert problematic materials into unproblematic materials
DE3539554A1 (en) METHOD FOR DETERMINING C (DOWN ARROW) 2 (DOWN ARROW) (DOWN ARROW) + (DOWN ARROW) OR C (DOWN ARROW) 3 (DOWN ARROW) (DOWN ARROW) + (DOWN ARROW) CARBON WASTE
DE2440456C3 (en) Process for the purification of a methane-rich gas contaminated with carbon dioxide
DE1794353A1 (en) THE WASHING OF WATER VAPOR FROM A NATURAL GAS STREAM
DE2943434A1 (en) METHOD FOR THE SELECTIVE EXTRACTION OF H TIEF 2 S FROM GAS MIXTURES CONTAINING C0 DEEP 2
DE19755213A1 (en) Process and assembly for cleansing carbon di:oxide from e.g., industrial fermentation
DE2643756C2 (en) A method of purifying a hydrocarbon feedstock containing gaseous oxygen and impurities

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: AIR LIQUIDE DEUTSCHLAND GMBH, 47805 KREFELD, DE

R016 Response to examination communication
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final

Effective date: 20120804

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee