DE1021964B

DE1021964B - Electron diffraction apparatus

Info

Publication number: DE1021964B
Application number: DES39965A
Authority: DE
Inventors: Dipl-Phys Dieter Riecke
Original assignee: Siemens AG
Current assignee: Siemens AG
Priority date: 1954-07-10
Filing date: 1954-07-10
Publication date: 1958-01-02

Description

DEUTSCHESGERMAN

Die Erfindung betrifft einen Elektronenbeugungsapparat, mit dem es möglich ist, Präparate nach, der Reflexions- und/oder nach der Durchstrahlungsmet'hode auf Temperaturen über 1000° zu erhitzen, wobei der ElektronenbeugungSivorgang· praktisch nicht gestört wird. Das wird erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß das Objekt zur Erhitzung während des BeugungsvO'rganges mit einer hochschmelzenden metallischen Wärmeleitbrüake, vorzugsweise mit einem Blechhalter, in wärmeleitender Berührung steht, der an einer dem Objekt benachbarten Stelle aus einer zusätzlichen Strahlenquelle mit Elektronen beschossen wird, die ihre kinetische Energie beim Auftreffen auf die Brücke im wesentlichen in thermische Energie umsetzen. Auf diese Weise hat man eine Möglichkeit, eine örtliche Erhitzung am Objekthalter vorzunehmen in der Weise, daß dieser Halter in unmittelbarer Umgebung des Objektes selbst gut wärmeisoliert werden kann. Ein besonderer Vorteil der neuen Anordnung liegt ferner darin, daß die gerade bei Beugungsuntersuchungen notwendigen verschiedenen Objektverstelltriebe in ihrem konstruktiven Aufbau von der Erhitzungseinrichtung weitgehend unabhängig sein können. In dieser Hinsicht unterscheidet sich die vorliegende Anordnung vorteilhaft von solchen bekannten Einrichtungen, die mit direkter Erwärmung des Objektes mit Hilfe eines strom leiten den Objektträgers arbeiten. Hier müssen nämlich die Zuführungsleitungen für den Heizstrom noch zusätzlich am Objektträger angebracht werden. Da es bei Objekthaltern für übermikroskopische und Beugungsuntersuchungen darauf ankommt, alle notwendigen Antriebs- und sonstigen Einzelteile auf kleinstem Bauraum unterzubringen, bringt die Einrichtung der vorliegenden Bauart eine wesentliche Verbesserung, weil dabei, abgesehen von der notwendigen Wärmeisolierung des Objektes, die zur Erhitzung notwendigen Einzelteile konstruktiv völlig vom Objekthalter getrennt ausgeführt werden können.The invention relates to an electron diffraction apparatus with which it is possible to prepare preparations according to the To heat reflection and / or according to the radiation method to temperatures above 1000 °, the electron diffraction siv process · practically not is disturbed. This is achieved according to the invention in that the object for heating during the Diffraction process with a refractory metallic Wärmeleitbrüake, preferably with one Sheet metal holder, is in thermally conductive contact, which at a point adjacent to the object consists of an additional Radiation source is bombarded with electrons, which absorb their kinetic energy when they strike convert the bridge essentially into thermal energy. In this way one has a possibility make a local heating on the object holder in such a way that this holder in the immediate vicinity of the property itself can be well insulated. A particular advantage of the new arrangement also lies in the fact that the various object adjustment drives that are necessary for diffraction studies be largely independent of the heating device in terms of their structural design can. In this respect, the present arrangement differs advantageously from known ones Facilities that direct the object with direct heating with the help of a current guide the object slide work. This is because the supply lines for the heating current also have to be attached to the slide be attached. As it is used for specimen holders for microscopic and diffraction examinations it is important to accommodate all necessary drive and other individual parts in the smallest of spaces, brings the device of the present type a significant improvement because it, apart from the necessary thermal insulation of the object, the structural components necessary for heating can be carried out completely separately from the specimen holder.

Bei Einrichtungen zur Bedampfung von Objekten, die im Elektronenmikroskop untersucht werden sollen, ist es bekannt, vor dieser mikroskopischen Untersuchung in einem besonderen Bedampfungsgerät Masseteilchen durch Einwirkung von. Elektronen-Strahlen zum Verdampfen zu bringen, um sie auf die Objektoberfläche aufzubringen. Hier handelt es sich nicht darum, ein Objekt während der Beugungsuntersuchung zu beheizen und den Einfluß der hohen Temperaturen auf das Beugungsbild zu studieren.For devices for the vapor deposition of objects that are to be examined in the electron microscope, it is known before this microscopic examination in a special steaming device Mass particles due to the action of. Electron beams to evaporate in order to affect them Apply object surface. This is not about an object during the diffraction study to heat and to study the influence of high temperatures on the diffraction pattern.

Bei der Anwendung der Erfindung wird man das Objekt vorzugsweise auf einem dünnen hochschmelzenden Blech anbringen;, dessen Schmelzpunkt höher liegt, als die für die Präparaterhitzung gewünschte Endtemperatur beträgt. Man wird die als Präparat-Elektronenbeugungsapparat When practicing the invention, the object will preferably be placed on a thin, high-melting point Attach a sheet with a melting point higher than that required for heating the specimen Final temperature is. One is called the specimen electron diffraction apparatus

Anmelder:Applicant:

Siemens & Halske Aktiengesellschaft,Siemens & Halske Aktiengesellschaft,

Berlin und München,
München 2, Witteisbacherplatz 2Berlin and Munich,
Munich 2, Witteisbacherplatz 2

Dipl.-Phys. Dieter Riecke, Berlin-Steglitz,
ist als Erfinder genannt wordenDipl.-Phys. Dieter Riecke, Berlin-Steglitz,
has been named as the inventor

halter dienende Wärmeleitbrücke mit einer Bewegungseinrichtung starr verbinden, die dazu dient, das Objekt relativ zum Strahl einzustellen. Die starre Verbindung wird man für diesen Zweck vorzugsweise so ausführen, daß die Wärmeleitung von der Wärmelei tbrücke zu der auf niedriger Temperatur befindlichen Bewegungseinrichtung möglichst schlecht wird, um so die beim Erhitzen der Wärmeleitbrücke und des Präparates durch Leitung verlorengehende Wärmeenergie möglichst gering zu halten und Tetnperaturinhomogeni täten auf dem Präparat zu vermeiden, die bei starkem Wärmestrom auftreten können.Rigidly connect the holder serving the heat conducting bridge with a movement device, which serves to adjust the object relative to the beam. The rigid connection is preferred for this purpose run so that the heat conduction from the Wärmelei tbrücke to the one located at a low temperature Movement device is as bad as possible, so as to reduce the heating of the thermal bridge and the To keep the heat energy lost by conduction as low as possible and to keep the temperature homogeneous to avoid actions on the preparation that can occur with a strong heat flow.

Die Erhitzung der Wärmeleitbrücke und damit des Präparats erfolgt in der Weise, daß man auf die dem Präparat abgewandte Seite des Blechs Elektronen aus einem geeigneten Elektronenstrahler schießt. Da die abgegebene Wärmeleistung dem Produkt aus Stromstärke und Spannung, das von den Strahlelektronen erzeugte, den Beugungsvorgang eventuell störende Magnetfeld allein der Stromstärke proportional ist, wird man zur Vermeidung störender Magnetfelder den Strom möglichst niedrig und dafür die Strahlspannung hoch wählen. Benutzt man eine Beschleunigungsspannung von beispielsweise 5000 Volt, so· kommt man mit Strahlströnien von wenigen mA aus, deren Einfluß auf das Beugungsbild praktisch unmerklich ist.The heating of the thermal bridge and thus the preparation takes place in such a way that one on the The side of the sheet metal facing away from the specimen shoots electrons from a suitable electron gun. Since the The heat output given off is the product of current and voltage generated by the beam electrons generated magnetic field that may interfere with the diffraction process is proportional to the current strength alone, To avoid interfering magnetic fields, the current is as low as possible and the beam voltage is instead choose high. If an acceleration voltage of, for example, 5000 volts is used, then one gets by with beam currents of a few mA, whose influence on the diffraction pattern is practically imperceptible.

Weitere für die vorliegende Anordnung wesentliche Merkmale werden in den folgenden Ausführungsbeispielen behandelt. In den Fig. 1 und 2 sind zwei grundsätzlich verschiedene technische Ausführungsformen des Erfindungsprinzips angegeben. Beide Figuren stellen Schnitte in Höhe des Präparathalters senkrecht zur geometrischen. Achse, welche hier .mit der Strahlachse der Beugungselektronen übereinstimmt, dar. . ...Further features essential for the present arrangement are shown in the following exemplary embodiments treated. In FIGS. 1 and 2, two fundamentally different technical embodiments of the principle of the invention are indicated. Both Figures represent cuts at the level of the specimen holder, perpendicular to the geometrical one. Axis, which here .with the beam axis of the diffraction electrons coincides. ...

709 847/281709 847/281

In Fig. 1 ist mit 1 die Vakuumwand eines Elektronenbeugungsgerätes bezeichnet. In diese Wand ist van der rechten Seite her der Präparathalter und von der linken Seite her der Heizelektronenstrahler als zwei voneinander vollkommen getrennte Aggregate unter Zwischenschaltung von Gummidichtungen 2 eingesetzt. Der Heizelektronenstrahler ist hier in Form des Drei-Elektroden-Systems mit einer Kathode 3, einem Wehneltzylinder 4 und einer Anode 5 ausge-In Fig. 1, 1 is the vacuum wall of an electron diffraction device designated. The specimen holder is in this wall from the right side and from the left side of the heating electron heater as two Completely separate units with the interposition of rubber seals 2 are used. The electron heater is here in the form of the three-electrode system with a cathode 3, a Wehnelt cylinder 4 and an anode 5

Ausführungsfo-rmen für Bk-ndenanordnungen, die zur Abschirmung von Streuelektronen für den heizbaren Präparathalter dienen können, sind in den Fig'. 3 und 4 schematisch angedeutet. In beiden Fällen ist an heizbare Präparathalter in offener Anordnung gedacht, wie ein solcher in Fig. i schematisch dargestellt ist. Bei den Fig. 3 und 4 ist ein Teilschnitt in einer Ebene senkrecht zu der in Fig. 1 dargestellten gezeichnet. Soweit die Einzelteile mit denen in Fig. 'Execution forms for back-end arrangements that can serve to shield stray electrons for the heated specimen holder are in the Fig '. 3 and 4 indicated schematically. In both cases, the heated specimen holder is in an open arrangement thought, as such is shown schematically in Fig. i. 3 and 4 is a partial section in drawn a plane perpendicular to that shown in FIG. As far as the individual parts with those in Fig. '

führt. Die Emissionselektronen, welche durch diesen io übereinstimmen, sind die gleichen ßezugszeichen verleads. The emission electrons which coincide by this io are the same reference symbols ver

Strahler auf das Präparat gelenkt werden, sind mit 6 bezeichnet. Das Heizblech 7 wird von zwei Trägern 8, 9, die zur besseren thermischen Isolation vorteilhaft aus Keramik hergestellt werden, mit der Bewendet. Um die vom Heizblech reflektierten Streuelektronen 15 abzublenden, ist im Falle der Fig. 3 an die Anode 16 eine Streuelektronenblende 17 angesetzt. Im Falle der Fig. 4 ist eine besondere StreuelektroEmitters are directed onto the specimen are denoted by 6. The heating plate 7 is supported by two carriers 8, 9, which are advantageously made of ceramic for better thermal insulation, with the Bewendet. In order to mask the scattered electrons 15 reflected by the heating plate, is on in the case of FIG. 3 the anode 16 has a scattering electron screen 17 attached. In the case of FIG. 4, there is a special scattered electric

wegungseinrichtung 10 für das Präparat verbunden. 15 nenblende 41 in die Wand des Beugungsapparates ein-Das Präparat 11 selbst kann auf dem Blech 7 durch gesetzt. Diese Blende fängt gleichzeitig den größten zwei Federn 12, 13 festgehalten werden. Die Elektro- Teil der von dem bei hoher Temperatur glühenden nen 6 durchfliegen den offenen Raum zwischen dem Präparat ausgehenden sichtbaren Strahlung ab, die Strahler 3, 4,, 5 und dem Heizblech 7. Damit die hier- andernfalls auch auf die Platte gelangen würde und zu bei durch Streuungen an Gasmolekülen und durch Re- 20 störender Belichtung führen müßte. Im tellerförmigen flexionen am Heizblech 7 auftretenden Streuelektro- Teil der Streuelektronenblende 41 sind Pumpöffnunnen nicht auf den Endbildschirm oder die Fotoplatte gen 42 vorgesehen. Die Blende selbst ist an einem in gelangen und die Erkennbarkeit des Elektronenbeu- die Yakuumwand eingeschraubten Halter 43 befestigt, gungsbildes beeinträchtigen, empfiehlt es sich, die Mit 3 ist der Winkel des Beugungshalbkegels bezeich-Streuelektronen durch Anordnung geeigneter Blenden 25 net. Die übrigen Einzelteile der Fig·. 4 sind mit denmotion device 10 connected for the preparation. 15 aperture 41 in the wall of the diffraction apparatus a-Das Preparation 11 itself can be placed on the sheet 7 through. This aperture catches the largest one at the same time two springs 12, 13 are held. The electrical part of which is glowing at high temperature nen 6 fly through the open space between the visible radiation emanating from the preparation Radiators 3, 4, 5 and the heating plate 7. So that they would otherwise reach the plate and close would have to result from scattering of gas molecules and from negative exposure. In the plate-shaped Flexions on the heating plate 7 occurring scattered electron part of the scattered electron screen 41 are pump openings not provided on the end screen or photo plate 42. The bezel itself is on an in reach and the recognizability of the electron bump- the Yakuumwand screwed-in holder 43 is attached, It is advisable to use 3 to denote the angle of the diffraction hemisphere - scattered electrons by arranging suitable diaphragms 25 net. The remaining individual parts of FIG. 4 are with the

abzufangen. Ausführungsbeispiele bier für sind später behandelt. Die das Beugungsbild hervorbringenden Elektronen treffen senkrecht zur Zeichenebene gerichtet auf das Präparat auf. Mit 14 ist das diese Beugung bewirkende Elektronenstrahlbündel zeichnet.intercept. Embodiments here for are later treated. The electrons producing the diffraction pattern hit directed perpendicular to the plane of the drawing on the preparation. At 14 is the electron beam causing this diffraction draws.

In Fig. 2 ist ein anderer heizbarer Präparathalter im Schnitt senkrecht zur Strahlachse des Beugungsgerätes in einer geschlossenen Anordnung schematisch dargestellt. In diesem Fall wird das Auftreten von Streuelektronen dadurch verhindert, daß der Heizstrahl 21 von vornherein in einem praktisch geschlossenen, nur mit zwei Pumpöffnungen 22 versehenen Rohr 23 geführt wird, das am Ende mit dem Heiz-In Fig. 2 is another heatable specimen holder in section perpendicular to the beam axis of the diffraction device in a closed arrangement schematically shown. In this case, the occurrence of stray electrons is prevented by the heating beam 21 from the outset in a practically closed, only provided with two pump openings 22 Pipe 23 is guided, which at the end with the heating

der Fig. 1 entsprechenden Bezugszeichen versehen.provided with reference numerals corresponding to FIG. 1.

Die elektrische Prinzipsohaltung der dargestellten Einrichtung ist in den Fig. 5 und 6 wiedergegeben. Fig. 5 zeigt die Heizungsregelung beim Drei-Elektrobe-30 den-System der Fig. 1. Mit 44 ist der isolierte Regelwiderstand für die Wehneltzylindervorspannung, mit 45 der Regelwiderstand für die Kathodenheizung bezeichnet. Die Hochspannung selbst wird mit Hilfe des Widerstandes 46 geregelt und dem Netzgleichrichter 47 entnommen. Mit 48 ist ein Meßinstrument für die Messung des Strahlstromes bezeichnet. Der Heizstrom wird der Kathode über den Isolier wandler 49 zugeführt. In der Figur sind mehrere Regelmöglichkeiten angedeutet. Bei der praktischen AuswirkungThe electrical principle of the device shown is shown in FIGS. FIG. 5 shows the heating control in the three-electrode system of FIG. 1. With 44 is the isolated control resistor for the Wehnelt cylinder preload, with 45 the control resistor for the cathode heating. The high voltage itself is regulated with the aid of the resistor 46 and the mains rectifier 47 taken. With a measuring instrument for measuring the beam current is designated. The heating current is the cathode via the isolating converter 49 fed. Several control options are indicated in the figure. With the practical impact

blech 24 verschlossen ist. Die Einschaltung eines 40 wird nur eine Regelung benötigt. Keramikzwischenstücks 25 sorgt bei dieser Anord- Fig. 6 zeigt die Heizleistungsregelung für das insheet 24 is closed. Switching on a 40 only requires one control. Ceramic intermediate piece 25 provides in this arrangement. Fig. 6 shows the heating power control for the in

nung für thermische Isolierung. Das andere Ende des Fig. 2 dargestellte Zwei-Elektroden-System. In diesem Rohres ist als Anode 26 für das Strahlrohr gestaltet,
das hier als Zwei-Elektronen-System mit einer Ka-for thermal insulation. The other end of the two-electrode system shown in FIG. In this tube is designed as an anode 26 for the jet pipe,
that here as a two-electron system with a

FaIl ist wieder mit 44 der Regelwiderstand für die Kathodenheizung, mit 46 der Regelwiderstand für dieIn case it is again with 44 the rheostat for the cathode heating, with 46 the rheostat for the

thode 27 und einer Kathodenelektrode 28 ausgebildet 45 Hochspannung und mit 47 der Netzgleichrichter für ist. Zur Vakuumdichtung dient eine in eine Scheibe 29 die Hochspannung bezeichnet. Die Temperaturregeeingesetzte Nutringmanschette 30, die das azimutale
Drehen des Präparates 24 gestattet. Die Scheibe 29 istmethod 27 and a cathode electrode 28 formed 45 high voltage and with 47 the power rectifier for is. A vacuum seal in a disk 29 is used to denote the high voltage. The temperature-regulated U-ring collar 30, which is the azimuthal
Rotation of the specimen 24 is permitted. The disk 29 is

mit der Wand 31 der Beugungsapparatur durch einenwith the wall 31 of the diffraction apparatus through a

lung erfolgt entweder durch Änderung der Hochspannung der Heizquelle oder des Heizstromes. Die Stromänderung erreicht man besonders bequem, in-Development takes place either by changing the high voltage of the heating source or the heating current. the A change in current is particularly easy to achieve,

Tombaikschlauch 32 verbunden, der leichte Transver- 50 dem man den Heizstrom der Kathode verändert oder sal- und Kippbewegungen gestattet. Diese Konstruk- dadurch, daß man die Wehneltvorspannung bei der tion ergibt den weiteren Vorteil, daß man die gesamte Anordnung der Fig. 1 regelt.Tombaikschlauch 32 connected, the light Transver- 50 by changing the heating current of the cathode or Sal and tilting movements permitted. This construct by the fact that the Wehnelt preload in the tion gives the further advantage that the entire arrangement of FIG. 1 is regulated.

Bewegungseinrichtung 33 aus dem Vakuum und den Während die bisher dargestellten AnordnungenMoving device 33 from the vacuum and the While the arrangements shown so far

beengten Verhältnissen der Beugungskamera heraus- Beugungsapparaturen betrafen, bei denen das Prä-restricted space of the diffraction camera concerned diffraction apparatuses in which the pre-

55 parat durch streifende Elektronen einfach beleuchtet wird, zeigen die folgenden Ausfühirungsbeispiele Anordnungen für die Erhitzung von solchen Präparaten, die im Durchstrahlungsverfahren beobachtet werden. Fig. 7 zeigt einen Blendenhalter für eine heizbare blech hin und her. Auf diese Weise können Tempera- 60 Objektträgerblende, wie sie in einem Elektronenturschwankungen vermieden werden, die sonst mög- mikroskop für Durchstrahlungszwecke zur Amwen-Mch sind, wenn eine Relativbewegung zwischen Heiz- dung kommen können. Das Heizblech wird hier durch blech und Heizstrahl während deir Untersuchung statt- ein Heizrohr 51 aus hochschmelzendem Material erfinden kann. Um eine Aufladung der Keramikteile zu setzt, das an seinem unteren Ende in einer Platinverhindern, wird man sie mit einer dünn aufgedampf- 65 fassung 52 die Objektträgerblende 53 aufnimmt. Die55 is easily illuminated by grazing electrons, the following exemplary embodiments show arrangements for the heating of preparations that are observed using the radiographic method. Fig. 7 shows a panel holder for a heatable sheet to and fro. In this way, the temperature of the slide can fluctuate as it does in an electron door Avoid using the microscope for radiographic purposes for Amwen-Mch are when a relative movement can occur between the heating. The heating plate will go through here Sheet metal and radiant heat instead of inventing a heating tube 51 made of high-melting material during the investigation can. In order to prevent the ceramic parts from being charged, which is at its lower end in a platinum If you hold it with a thinly vapor-deposited 65 mount 52 the slide aperture 53. the

nehmen kann.can take.

Da bei dieser Konstruktion das Strahlrohr für die Erzeugung der Heizelektronen und der Präparathalter eine starre Einheit sind, wandert der Heizstrahl 21 während der Präparatbewegung nicht auf dem Heizten Metallschicht überziehen, die die Ladungen ableitet. Das gilt auch für die in Fig. 1 dargestellte Anordnung. Mit 34 sind bei Fig. 2 die Beugungselektronen bezeichnet, welche ungefähr senkrecht zur Zeichenebene auf das Präparat auftreffen.As in this construction the beam tube for the generation of the heating electrons and the specimen holder are a rigid unit, the heating beam 21 does not migrate on the heated surface during the movement of the preparation Cover a metal layer that dissipates the charges. This also applies to the arrangement shown in FIG. With 34, the diffraction electrons are designated in Fig. 2, which are approximately perpendicular to the The drawing plane hit the specimen.

gesamte durch das Rohr 51 gebildete Patrone wird in den üblichen Verscbiebetisch für Durchstrahlungspräparate eingesetzt, der relativ zum Objektivpolschuh quer zum Strahl eingestellt werden kann. Der Heizelektronenstrahler wird seitlich in das Mikro-The entire cartridge formed by the tube 51 is placed in the usual displacement table for radiographic specimens used, which can be adjusted transversely to the beam relative to the lens pole piece. Of the The heating electron heater is inserted into the side of the micro

skoprohr eingesetzt und schließt die Elektronen 54 auf das Heizrohr 51 auf. Da das Präparat 53 nur um geringe Beträge verschoben zu werden braucht, trifft der Heizstrahl stets auf das Heizrohr auf. Mit 55 ist das konische untere Ende der Patrone bezeichnet. In diese ist ein Keramikring 56 zur Wärmeisolierung eingesetzt. Mit 57 sind Bohrungen für den Durchtritt der Elektronen 54 bezeichnet. Mit Hilfe der keramischen Druckstücke 58 und der Konterschrauben 59 wird das Heizrohr mit den übrigen Teilen in der Patrone 55 gehalten. Bei 60 ist der Objektverschiebetisch angedeutet. Scope tube is used and closes the electrons 54 on the heating tube 51. Since the preparation 53 is only slightly If amounts need to be shifted, the radiant heater always hits the heating pipe. At 55 that is called conical lower end of the cartridge. In this a ceramic ring 56 is used for thermal insulation. With 57 bores for the passage of the electrons 54 are designated. With the help of the ceramic The pressure pieces 58 and the counter screws 59 are the heating pipe with the remaining parts in the cartridge 55 held. The object shifting table is indicated at 60.

Zur Temperaturkontrolle kann man in üblicher Weise ein Thermoelement vorsehen, das dicht am Präparat 53 angebracht wird. Dies kann vor allem dann von Bedeutung sein, wenn es sich darum handelt, für die Mikroskopie die Temperatur des Präparats um einen bestimmten Betrag zu erhöhen, um die Verschmutzung des Präparats zu verringern. Damit sich das obere Polstück der Objektivlinse nicht durch Strahlung zu stark erhitzt, wird man es mit einer reflektierenden, polierten Schicht, z. B. aus Chrom, überziehen. Eine andere Möglichkeit für einen Strahlungsschutz ist in Fig. 8 schematisch dargestellt. Hier ist das untere Ende der Heizpatrone mit einer Strahlungshlende 61 versehen. Durch diese Konstruktion kann gleichzeitig verhindert werden, daß bei eventuellen mechanischen Fehlern das Heizrohr 51 selbst auf den Polschuh 62 aufgesetzt werden könnte.To control the temperature, a thermocouple can be provided in the usual way, which is close to the preparation 53 is attached. This can be of particular importance when it comes to for the microscopy to raise the temperature of the specimen by a certain amount to avoid pollution of the preparation. So that the upper pole piece of the objective lens does not penetrate If radiation is heated too much, it is covered with a reflective, polished layer, e.g. B. made of chrome, overlay. Another possibility for radiation protection is shown schematically in FIG. here is the lower end of the heating cartridge with a radiant end 61 provided. This construction can be prevented at the same time that with eventual mechanical errors, the heating tube 51 itself could be placed on the pole piece 62.

Claims

30 PATENT APPROACH:

1. Electron diffraction apparatus, characterized in that that the object is heated during the diffraction process with a high melting point metallic heat conducting bridge is in thermally conductive contact and that an additional Beam source the guide bridge on one of the objects The neighboring point is bombarded with electrons, which absorb their kinetic energy when they hit the Substantially convert the bridge into thermal energy.

2. Arrangement according to claim 1, characterized in that the heat conducting bridge as a sheet metal holder is executed.

3. Arrangement according to claim 1 or 2, characterized in that the heat conducting bridge with a movement device is rigidly connected, which is used to adjust the object relative to the beam.

4. Arrangement according to claim 3, characterized in that that the heat flow from the heat conduction bridge to the movement drives through interposition is reduced by building materials that do not conduct heat well.

5. Arrangement according to claim 1, 2, 3 or 4, characterized in that the additional beam source with a beam current of the order of a few mA and a high one. Beam voltage from Z. B. 5000 volts to operate.

6. Arrangement according to claim 1 or one of the following, characterized by the application an additional electron gun designed as a three-electrode system.

7. Arrangement according to one or more of claims 1 to 5, characterized by the application an additional electron gun designed as a two-electrode system.

8. Arrangement according to claim 1 or one of the following, characterized in that as an object holder a sheet is used, which is attached to the motion drive with two ceramic supports.

9. Arrangement according to claim 1 or one of the following, characterized in that the additional The electron gun and the specimen holder are inserted through the vacuum wall at separate locations are.

10. Arrangement according to claim 1 or one of the following, characterized in that one Aperture is provided for collecting the scattered electrons occurring on the heating plate.

11. The arrangement according to claim 1 or one of the following, characterized in that the heating electrons hit the carrier plate on the side ¹ facing away from the object.

12. The arrangement according to claim 1, characterized in that the beam generator for the heating electrons forms a common component with the object holder.

13. Arrangement according to claim 12, characterized in that the additional jet generator and the object holder has a common movement direction.

14. Arrangement according to claim 12 or 13, characterized characterized in that the radiant heat runs in a tube that is closed except for the pump openings, which is closed at the end by a sheet metal holding the object.

15. Application of the arrangement according to claim 1 or one of the following for the production of diffraction images which are produced by reflection of the rays on the object.

16. Application of the arrangement according to claim 1 or one of the following for the production of Objects through which the electron beam passes.

17. The arrangement according to claim 16, characterized in that the object at the end of a Tube made of refractory material is arranged and that the heating rays transverse to the main beam fall on the wall of the pipe.

18. Arrangement according to claim 16 or 17 in connection with the objective lens of an electron microscope, characterized in that the surfaces of the objective facing the object with a heat radiation reflective polished layer, e.g. B. a chiromite layer coated are.

19. Arrangement according to claim 10 or 17 in connection with the objective lens of an electron microscope, characterized in that the heating tube carrying the object to the objective side is shielded with a radiation protection screen.

Considered publications:
German patent specifications No. 888 896, 875 249:
Swiss patent specification No. 240 304.

For this purpose 2 sheets of drawings