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Die Erfindung betrifft eine Haltevorrichtung für eine optische Komponente mit polygonal berandeter optischer Fläche und einem zylindrischen Substratkörper. Ferner betrifft die Erfindung eine optische Baugruppe mit einer derartigen Haltevorrichtung, ein Verfahren zur Positionsbestimmung einer optischen Komponente in einer derartigen Haltevorrichtung, eine Beleuchtungsoptik mit einer derartigen optischen Baugruppe, ein optisches System mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, ein Beleuchtungssystem mit einem derartigen optischen System und eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem.
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Eine Haltevorrichtung für eine optische Komponente in Form eines Stabes einer Beleuchtungseinrichtung ist bekannt aus der
DE 10 2007 050 456 A1 .
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Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Haltevorrichtung zu schaffen, die optische Komponenten mit polygonal berandeter optischer Fläche und zylindrischem Substratkörper sicher haltert und eine positionsgenaue Halterung ermöglicht.
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Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch eine Haltevorrichtung mit den in Anspruch 1 angegebenen Merkmalen.
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Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass die Halterung in Funktionsgruppen unterteilt werden kann, nämlich zum einen in Lagerkörper zur Vorgabe eines Lagers für die Mantelwand des Substratkörpers, sowie in mindestens einen Druckkörper über den ein Substratkörper der optischen Komponente gegen die Lagerkörper gedrückt wird. Hierüber wird eine definierte und insbesondere positionsgenaue Halterung der optischen Komponente ermöglicht. Bei der optischen Komponente kann es sich um einen optischen Stab handeln, der insbesondere zur Lichtmischung bei einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie zum Einsatz kommen kann. Bei dem Polygon zur Vorgabe der polygonal berandeten optischen Fläche der optischen Komponente handelt es sich um ein n-Eck mit n Ecken, wobei n größer ist als 4, zum Beispiel um ein Fünfeck, um ein Sechseck oder um ein Achteck. n ist üblicherweise kleiner als 100. Eine Lage des Halterahmens der Haltevorrichtung kann durch eine Lage einer Haltefassung der Haltevorrichtung vorgegeben sein.
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Über die Haltevorrichtung kann eine gesteuerte oder auch eine geregelte Positionsvorgabe der optischen Komponente ermöglicht werden. Hierzu kann die Haltevorrichtung mindestens einen Verlagerungsaktor für mindestens einen der Lagerkörper und gegebenenfalls mindestens einen Positionssensor aufweisen.
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Eine Ausführung der Haltevorrichtung nach Anspruch 2 mit mindestens zwei Druckkörpern hat sich in der Praxis bewährt.
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Dies gilt insbesondere für Druckkörper mit Lagerdruckkräften entsprechend den der Ansprüche 3 und 4.
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Eine Ausführung der Haltevorrichtung nach Anspruch 5 ermöglicht eine gesteuerte oder gegebenenfalls auch geregelte Positionsvorgabe für die optische Komponente. Der Lagerkörper kann bei einer Manipulation dann in Richtung auf den Lagerabschnitt zu und/oder von diesem weg verstellt werden. Eine derartige Verstellung kann motorisch erfolgen. Der Lagerkörper kann dann einen Verstellaktor aufweisen.
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Eine Ausführung mit drei Lagerkörpern nach Anspruch 6 ermöglicht eine definierte Lagegeometrie.
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Dies gilt in besonderer Weise für eine Auflagegeometrie nach Anspruch 7.
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Die Vorteile einer optischen Baugruppe nach Anspruch 8 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die Haltevorrichtung bereits erläutert wurden.
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Bei einer Ausführung der Druckkörper nach Anspruch 9 können die Lagerkörper zur Lagedefinition der optischen Komponente relativ zur Haltevorrichtung genutzt werden.
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Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, ein Positionsbestimmungsverfahren für die optische Komponente bei Nutzung der Haltevorrichtung anzugeben.
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Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch ein Positionsbestimmungsverfahren mit den im Anspruch 10 angegebenen Schritten.
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Durch Bestimmung eines Winkels und mindestens zweier Relativpositionen von Lagerkörper-Auflagepunkten ist eine Bestimmung einer relativen Lage des Querschnitts der Zylinder-Mantelwand der optischen Komponente in der Haltevorrichtung möglich.
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Die Vorteile einer Beleuchtungsoptik nach Anspruch 11, eines optischen Systems nach Anspruch 12, eines Beleuchtungssystems nach Anspruch 13 sowie einer Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 14 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die Haltevorrichtung, die optische Baugruppe und das Positionsbestimmungsverfahren bereits erläutert wurden.
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Das Beleuchtungssystem kann eine DUV(deep ultraviolet, tiefes Ultraviolett)-Lichtquelle aufweisen.
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Mit der Projektionsbelichtungsanlage kann insbesondere ein mikro- beziehungsweise nanostrukturiertes Bauteil, besonders ein Halbleiterchip, beispielsweise ein Speicherchip, hergestellt werden.
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Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In dieser zeigen:
- 1 eine schematische Übersicht einer Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage in einem Meridionalschnitt, aufweisend einen optischen Stab zur Mischung von Beleuchtungslicht;
- 2 im Querschnitt eine Ausführung des optischen Stabes in einer Haltevorrichtung, die in der 1 nicht dargestellt ist;
- 3 eine weitere Ausführung des optischen Stabes in einer weiteren Ausführung der Haltevorrichtung in einer zu 2 ähnlichen Darstellung;
- 4 schematisch Parameter, die bei einer Positionsbestimmung des Stabes in der Haltevorrichtung und 3 eine Rolle spielen.
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Zur Verdeutlichung von Lagebeziehungen ist in der Zeichnung ein kartesisches xyz-Koordinatensystem angegeben. In der 1 verläuft die x-Achse senkrecht zur Zeichenebene aus dieser heraus. Die y-Achse verläuft in der 1 nach oben. Die z-Achse verläuft in der 1 nach links.
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Eine Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage 1 hat ein Beleuchtungssystem mit einer Beleuchtungsoptik 2 zur Ausleuchtung eines definierten Beleuchtungs- beziehungsweise Objektfelds 3 am Ort eines Objekts beziehungsweise Retikels 4, welches eine für die Produktion mikrostrukturierter beziehungsweise mikroelektronischer Halbleiterbauelemente zu projizierende Vorlage darstellt. Das Retikel 4 wird von einem nicht dargestellten Retikelhalter gehalten.
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Als Lichtquelle 5 für Beleuchtungslicht des Beleuchtungssystems dient ein Laser im tiefen Ultraviolett (DUV). Hierbei kann es sich um einen ArF-Excimer-Laser handeln. Auch andere DUV-Quellen sind möglich.
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Ein Strahlaufweiter 6, beispielsweise eine aus der
DE-A 41 24 311 bekannte Spiegelanordnung, dient zur Kohärenzreduktion und zur Erzeugung eines aufgeweiteten, kolimierten, rechteckigen Querschnitts eines Strahls des Beleuchtungslichts 7.
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Ein erstes diffraktives optisches Rasterelement (DOE) 8 ist in einer Objektebene eines Kondensors 9 angeordnet. Dieses DOE 8 wird nachfolgend auch als Intensitäts-Vorgabelelement bezeichnet. Der Kondensor 9 hat ein Axicon-Paar 10 und eine Linse 11 mit positiver Brennweite. Der Abstand der Axicon-Elemente des Axicon-Paars 10 zueinander sowie die Position der Linse 11 sind längs einer optischen Achse 12 der Beleuchtungsoptik 2 verstellbar, wie in der 1 durch Doppelpfeile 13, 14 angedeutet. Der Kondensor 9 stellt daher eine Zoom-Optik dar.
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In einer Austritts-Pupillenebene 15 des Kondensors 9 ist ein weiteres diffraktives und/oder refraktives optisches Rasterelement (ROE) 16 angeordnet. Soweit das Rasterelement 16 diffraktiv ausgeführt ist, kann es beispielsweise als computergeneriertes Hologramm (CGH) ausgeführt sein. Alternativ oder zusätzlich zur Ausgestaltung als diffraktives optisches Element kann das ROE 16 refraktiv ausgeführt sein, beispielsweise als refraktives optisches Rasterelement, insbesondere als Mikrolinsen-Array. Obwohl auch eine diffraktive Ausführung möglich ist, wird das Rasterelement 16 nachfolgend als ROE bezeichnet.
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Mit dem ersten DOE 8 wird am Ort des ROE 16 eine definierte Intensitätsverteilung in der Pupillenebene 15 eingestellt. Hierdurch wird ein vorgegebenes sogenanntes Beleuchtungssetting, also eine definierte Verteilung von Beleuchtungswinkeln über das Objektfeld 3, erzeugt. Das erste DOE 8 stellt daher ein Beleuchtungswinkel-Vorgabeelement zur Vorgabe einer Beleuchtungswinkelverteilung über das Objektfeld 3 dar.
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Eine dem ROE 16 nachgeordnete Einkoppeloptik 17 überträgt das Beleuchtungslicht auf eine stirnseitige Eintrittsfläche 18 eines transparenten optischen Stabes in Form eines Glasstabes 19. Varianten für den optischen Stab 19 sowie Varianten von Haltevorrichtungen für den optischen Stab 19 werden nachfolgend noch beschrieben.
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Der optische Stab 19 hat einen Querschnitt, der sich von einem quadratischen oder rechteckigen Querschnitt unterscheidet. Dieser Stab-Querschnitt ist im Allgemeinen polygonal und kann beispielsweise hexagonal sein. Andere Querschnittbeispiele werden nachfolgend anhand der 2 und 3 noch beschrieben.
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Der Stab 19 mischt und homogenisiert das Beleuchtungslicht durch mehrfache innere Reflexion an den Mantelwänden des Stabs 19. Unmittelbar an einer der Eintrittsfläche 18 gegenüberliegenden, stirnseitigen Austrittsfläche 20 des Stabs 19 liegt eine Zwischenfeldebene, in der ein Retikel-Masking-System (REMA) 21, eine verstellbare Feldblende, angeordnet ist.
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Mit dem ROE 16 wird unter anderem die Querschnittsform des Beleuchtungsstrahls 7 an die Rechteckform der Eintrittsfläche 18 des Stabs 19 angepasst.
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Das ROE 16 wird nachfolgend auch als optisches Stabausleuchtungs-Vorgabeelement bezeichnet. Das ROE 16 dient zur Vorgabe einer Ausleuchtung der Eintrittsfläche 18 des Stabes 19 mit dem Beleuchtungslicht 7. Diese Vorgabe der Ausleuchtung der Eintrittsfläche 18 ist so, dass hierüber eine Verteilung der Beleuchtungsintensität und gleichzeitig der Beleuchtungswinkelverteilung über die Eintrittsfläche 18 vorgegeben wird. Die vorgegebene Beleuchtungsintensitäts-Verteilung über die Eintrittsfläche 18 weicht von einer homogenen Verteilung ab, was nachfolgend noch näher erläutert wird.
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Das DOE 8, also das Intensitäts-Vorgabeelement, dient zur Vorgabe einer Beleuchtungsintensitäts-Verteilung auf dem ROE 16, also auf dem optischen Stabausleuchtungs-Vorgabeelement.
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Dem REMA 21 nachgeordnet ist ein Kondensor 22. In einer Austritts-Pupillenebene 23 des Kondensors 22 kann ein Blenden-Wechselhalter 24 mit einer Mehrzahl von Blenden beziehungsweise Filtern angeordnet sein, von denen in der 1 zwei Blenden 25, 26 dargestellt sind. Der Blenden-Wechselhalter 24 trägt die verschiedenen Blenden nach Art eines Blendenkarussells. Zum Blendenwechsel wird das Karussell um eine Antriebswelle 27 eines Antriebsmotors 28 angetrieben, der mit einer zentralen Steuereinrichtung 28a der Projektionsbelichtungsanlage 1 in Signalverbindung steht. Die Blenden des Blenden-Wechselhalters 24 sind in eine gerade Anzahl von separaten Blendenabschnitten unterteilt. Bei den Blendenabschnitten kann es sich um das Beleuchtungslicht vollständig blockende Blenden, um das Beleuchtungslicht um einen vorgegebenen Anteil schwächende Graufilter oder um das Beleuchtungslicht linear polarisierende Polarisationsfilter handeln.
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Der dem Stab 19 nachgeordneten Pupillenebene 23 ist ein weiterer Kondensor mit Linsengruppen 29, 30 nachgeordnet. Zwischen den beiden Linsengruppen 29, 30 ist ein 90°-Umlenkspiegel 31 für das Beleuchtungslicht angeordnet. Der Kondensor 22 sowie der weitere Kondensor mit den beiden Linsengruppen 29, 30 bilden ein Objektiv 31a, das die Zwischenfeldebene des REMA 21 auf das Retikel 4 abbildet. Die Pupillenebene 23 stellt eine interne Pupillenebene dieses Objektivs 31a dar.
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Ein Projektionsobjektiv 32 bildet das Objektfeld 3, das in einer Objektebene 33 liegt, in ein Bildfeld 34 in einer Bildebene 35 ab. Das Bildfeld 34 ist Teil der Oberfläche eines zu belichtenden Wafers 36, der mit einer für das Beleuchtungslicht empfindlichen Beschichtung versehen ist. Der Wafer 36 wird von einem nicht dargestellten Waferhalter gehalten. Bei der Projektionsbelichtung werden das Retikel 4 und der Wafer 36 synchron zueinander gescannt. Auch eine intermittierende Verlagerung der Halter des Retikels 4 und des Wafers 36, ein sogenannter Stepper-Betrieb, ist möglich.
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Die verschiedenen bündelführenden beziehungsweise bündelformenden Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage 1 sind mit Ausnahme des Umlenkspiegels 31 als refraktive Komponenten angedeutet. Genauso kann es sich auch um katadioptrische oder um reflektive Komponenten handeln.
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2 zeigt eine Variante eines optischen Stabes 37, die anstelle des optischen Stabes 19 bei der Projektionsbelichtungsanlage 1 zum Einsatz kommen kann, im Querschnitt. Der optische Stab 37 ist eine optische Komponente mit polygonal berandeter optischer Fläche, also polygonal berandeter Eintrittsfläche 18 und Austrittsfläche 20 (vgl. auch die 1). Der optische Stab 37 hat einen zylindrischen Substrat- oder Grundkörper 38 mit einer Zylinder-Mantelwand 39 mit zur Berandung der optischen Flächen 18, 20 korrespondierendem polygonalen Querschnitt.
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Insgesamt sind die optischen Flächen 18, 20 des Stabes 37 achteckig polygonal berandet, wobei entsprechende Ecken 40 dieses Querschnitts-Polygons, beginnend mit der in der 2 linken oberen Ecke im Uhrzeigersinn durchnummeriert und mit 401 bis 408 indiziert sind. Sieben der acht Ecken 40i sind konvexe Ecken des Substratkörpers 38. Lediglich eine der acht Ecken, die Ecke 404, stellt eine konkave Ecke des Substratkörpers 38 dar. Im Bereich der Ecke 404 ist ein Polygon-Innenwinkel des Substratkörpers 38 also größer als 180°. Alle anderen Polygon-Innenwinkel sind kleiner als 180°.
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Zwischen den Ecken 40i, die senkrecht zur Zeichenebene der 2 parallel zueinander zwischen der Eintrittsfläche 18 und der Austrittsfläche 20 des Stabes 37 verlaufen, liegen plane Abschnitte der Mantelwand 39 vor.
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Der optische Stab 37 wird von einer Haltevorrichtung 41 gehalten und definiert in seiner räumlichen Lage positioniert. Die Haltevorrichtung 41 hat einen Halterahmen 42 mit zwei Fassungskörpern 43, 44. Die Fassungskörper 43, 44 stellen Druckkörper zur Druck-Kontaktierung des Halterahmens 41 mit der Mantelwand 39 des Substratkörpers 38 über Druckabschnitte 45, 46 der Mantelwand 39 dar. Der Druckabschnitt 45 liegt zwischen den Ecken 401 und 402. Der Druckabschnitt 46 liegt zwischen den Ecken 405 und 406. Die Druckabschnitte 45, 46 sind parallel zueinander verlaufende Wandabschnitte der Mantelwand 39.
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Die Druckkörper 43, 44 üben Lagerdruckkräfte FD1, FD2 auf die Druckabschnitte 45, 46 aus. Diese Lagerdruckkräfte FD1, FD2 sind in der 2 durch Pfeile verdeutlicht.
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Die Lagerdruckkräfte FD1, FD2 sind einander entgegengesetzt gerichtet. Die Lagerdruckkräfte FD1, FD2 verlaufen senkrecht zu den Druckabschnitten 45 und 46.
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Die Haltevorrichtung 41 hat einen weiteren Druckkörper 47, der als Druckstück ausgeführt ist. Der Druckkörper 47 liegt an einem Druckabschnitt 48 der Mantelwand 39 zwischen den Ecken 407 und 408 an (Auflagepunkt A47). Diese Anlage erfolgt über einen balligen Druckkörper-Endabschnitt 49. Eine Anlage des Druckkörper-Endabschnitts 49 am Druckabschnitt 48 der Mantelwand 39 kann angenähert eine Punktberührung darstellen oder, je nach Ausführung des Druckkörper-Endabschnitts 49, auch eine linienhafte Berührung, wobei eine Linie dieser linienhaften Berührung senkrecht zur Zeichenebene der 2, also parallel zu den Ecklinien der Ecken 40i verläuft. Der Druckkörper-Endabschnitt 49 kann nach Art eines konvexen, balligen Zylinderabschnitts ausgeführt sein.
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Eine Lagerdruckkraft, die der Druckkörper 47 längs dessen Längsachse auf den Druckabschnitt 48 ausübt, ist in der 2 durch einen Pfeil FD3 verdeutlicht.
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Die Lagerdruckkräfte FD1, FD2 und FD3 verlaufen alle in der Zeichenebene der 2, also parallel zur xy-Ebene. Die Lagerdruckkraft FD3 verläuft unter einem spitzen Winkel zur xz-Ebene. Die Druckkraft FD1 verläuft in negativer x-Richtung. Die Druckkraft FD2 verläuft in positiver y-Richtung.
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Die drei Druckkörper 43, 44, 47 der Haltevorrichtung 41 dienen zur Ausübung eines Lagerdrucks, über den der Substratkörper 38 des Stabs 37 gegen ein Lager der Haltevorrichtung 41 gedrückt wird, welches durch zwei Lagerkörper 50, 51 der Haltevorrichtung 41 gebildet ist.
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Die Lagerkörper 50, 51 sind als Manipulatoren bzw. Positionierelemente ausgeführt. Die Lagerkörper 50, 51 üben über Lagerkörper-Endabschnitte 52, 53 eine Lager-Kontaktierung auf die Mantelwand 39 des Substratkörpers 38 über Lagerabschnitte 54, 55 der Mantelwand 39 aus. Die Lagerkörper-Endabschnitte 52, 53 können ausgeführt sein wie der Druckkörper-Endabschnitt 49 des Druckkörpers 47.
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Der Lagerabschnitt 54 liegt zwischen den Ecken 402 und 403 der Mantelwand 39. Der Lagerabschnitt 55 liegt zwischen den Ecken 403 und 404 der Mantelwand 39.
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Die Lagerkörper 50, 51 sind als Manipulatoren ausgeführt. Die Lagerkörper 50, 51 können als Stellschrauben ausgeführt sein. Die Lagerkörper 50, 51 können, wie in der 2 durch Doppelpfeile 56, 57 angedeutet, in Richtung auf die Lagerabschnitte 54, 55 zu und von diesen weg definiert positioniert verstellt werden. Die Verstellrichtung erstreckt sich jeweils längs Längsachsen L50, L51 der Lagerkörper 50, 51. Diese Verstellung erfolgt über Verstellaktoren 58, 59, die in der 2 schematisch angedeutet sind.
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Die Verstellrichtung 56 des Lagerkörpers 50 verläuft unter etwa 45° zur xz- und zur yz-Ebene. Die Verstellrichtung 57 verläuft etwa unter 60° zur xz-Ebene und unter 30° zur yz-Ebene. Auch andere Winkel der Verstellrichtungen 56, 57 zu diesen Ebenen xz, yz im Bereich zwischen 10° und 80° sind möglich.
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Zusammen mit dem optischen Stab 37 bildet die Haltevorrichtung 41 eine optische Baugruppe der Projektionsbelichtungsanlage 1.
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Zur Positionsbestimmung der optischen Komponente 37, also des Stabs, in Koordinaten des Halterahmens 42 wird folgendermaßen vorgegangen:
- Ein Winkel α zwischen zwei Polygon-Flächen der Zylinder-Mantelwand 39 wird bestimmt, beispielsweise der Winkel zwischen den Lagerabschnitten 54 und 55.
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Relativpositionen zwischen Auflagepunkten A50, A51, über die die Lagerkörper 50, 51 mit der Mantelwand 39 in Kontakt stehen, zueinander und zu zwei Rahmenpunkten A, B des Halterahmens 42 werden bestimmt.
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Aus diesen Daten α, A50, A51, A, B, kann dann die relative Lage des polygonalen Querschnitts der Zylinder-Mantelwand 39 zur Haltevorrichtung 41 bestimmt werden. Zusätzlich kann zur Bestimmung der relativen Lage des polygonalen Querschnitts der Zylinder-Mantelwand 39 zur Haltevorrichtung 41 noch die Kenntnis der Lage eines weiteren Punktes der Zylinder-Mantelwand 39 herangezogen werden, beispielsweise die Position eines Auflagepunktes A47 des Druckkörpers 47 am Druckabschnitt 48 der Mantelwand 39 oder die Position eines weiteren Punktes beispielsweise im Bereich der Lagerabschnitte 54 oder 55 der Zylinder-Mantelwand 39. Auch Auflagepunkte, über die die Druckkörper 43, 44 der Haltevorrichtung 47 an den Druckabschnitten 45, 46 der Zylinder-Mantelwand anliegen, können eine derartige zusätzliche Relativposition darstellen, mit deren Kenntnis die relative Lage des polygonalen Querschnitts der Zylinder-Mantelwand 39 zur Haltevorrichtung 41 bestimmt werden kann.
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Anhand der 3 wird nachfolgend eine weitere Ausführung einer Haltevorrichtung 61 zur definiert positionierten Halterung einer weiteren Ausführung einer optischen Komponente mit polygonal berandeter optischer Fläche in Form eines optischen Stabes 62 beschrieben. Komponenten und Funktionen, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 und 2 bereits erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
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Die Haltevorrichtung 61 hat einen Druckkörper 63, der einen Fassungskörper einer Fassung eines Halterahmens 64 der Haltevorrichtung 61 darstellt.
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Der optische Stab 62 ist wiederum mit einem Substratkörper 38 mit polygonalem Querschnitt ausgeführt, der im Falle des optischen Stabs 62 konvex fünfeckig (Ecken 401 bis 405) gestaltet ist.
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Der Druckkörper 63 übt auf einen Druckabschnitt 65 der Mantelwand 39 des Stabes 62 eine Druckkraft FD aus. Gedrückt wird der Stab 62 hierüber in ein Lager, welches durch drei Lagerkörper 66, 67, 68 gebildet wird, die eine konkave Lager-Auflagegeometrie vorgeben. In diese konkave Auflagegeometrie der Lagerkörper 66 bis 68 wird ein konvexer Querschnittsbereich des optischen Stabes 62, gebildet durch Lagerabschnitte 69, 70, 71, zwischen den Ecken 403, 404, den Ecken 404 und 405 und den Ecken 405 und 401, gedrückt. Die Lagerkörper 66 bis 68 sind wiederum durch Lagerkörper-Endabschnitte nach Art der Lagerkörper-Endabschnitte 52, 53 der Ausführung nach 2 gestaltet und können eine Punktberührung oder auch eine linienhafte Berührung mit den Lagerabschnitten 69 bis 71 der Mantelwand 39 gewährleisten.
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Anhand der 4 wird nachfolgend die Durchführung der Positionsbestimmung des optischen Stabes 62 bei Einsatz der Haltevorrichtung 61 beschrieben.
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Zunächst wird wiederum ein Winkel α zwischen zwei Polygon-Flächen der Mantelwand 39, in diesem Fall zwischen den Lagerabschnitten 69 und 71, bestimmt. Anschließend wird eine Relativposition von Auflagepunkten A66, A67, A68, über die die Lagerkörper 66 bis 68 an den Lagerabschnitten 69 bis 71 der Mantelwand 39 anliegen, relativ zu zwei Rahmenpunkten A und B des Druckkörpers 63 des Halterahmens 61 bestimmt. Aus diesen Parametern α, A66 bis A68, A und B wird dann die relative Lage des Querschnitts der Zylinder-Mantelwand 39 und damit die relative Lage des Stabs 62 zur Haltevorrichtung 61 bestimmt.
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Zur Positionsbestimmung der optischen Komponente 37, 62 in der jeweiligen Haltevorrichtung 41, 61 kann alternativ oder zusätzlich auch mindestens ein Positionssensor zum Einsatz kommen, insbesondere ein Abstandssensor. Ein derartiger Positionssensor kann die jeweilige Position, insbesondere eines der Lagerkörper 50, 51 (2) oder 66 bis 68 (3) bestimmen. Auch der Druckkörper 47 der Ausführung nach 2 kann über einen derartigen Positionssensor verfügen.
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Mithilfe eines entsprechenden Positionssensors kann eine geregelte Positionierung der Lagerkörper 50, 51 erfolgen. Hierzu stehen die Aktoren 58, 59 und der mindestens eine Positionssensor mit der dann auch als Regeleinrichtung ausgeführten Steuereinrichtung 28a der Projektionsbelichtungsanlage 1 in Signalverbindung.
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Die Fassung der Haltevorrichtung 41 oder 61 kann insgesamt zylindrisch ausgeführt sein, was in der Zeichnung nicht dargestellt ist.
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Bei der mikrolithografischen Herstellung eines mikro- beziehungsweise nanostrukturierten Bauelements wird zunächst der Wafer 36 zumindest abschnittsweise mit einer lichtempfindlichen Schicht beschichtet. Dann wird eine Struktur auf dem Retikel 4 mit der Projektionsbelichtungsanlage 1 auf den Wafer 36 projiziert. Sodann wird der belichtete Wafer 36 zur Ausbildung des mikrostrukturierten Bauelements bearbeitet.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- DE 102007050456 A1 [0002]
- DE 4124311 A [0024]
