DE102022201463A1

DE102022201463A1 - Messvorrichtung, Messverfahren und Verwendung einer Messvorrichtung

Info

Publication number: DE102022201463A1
Application number: DE102022201463.4A
Authority: DE
Inventors: Anton Haase; Thomas Schicketanz
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2021-03-22
Filing date: 2022-02-11
Publication date: 2022-09-22

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Messvorrichtung (1) zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Prüffläche (2) eines Prüfgegenstands (3). Die Messvorrichtung (1) weist eine Bestrahlungsbaugruppe (4) zur Bereitstellung einer auf die Prüffläche (2) ausgerichteten elektromagnetischen Messstrahlung (5) und einen Detektor (6) zur Erfassung einer von der Prüffläche (2) reflektierten Strahlung (7) auf. Die Bestrahlungsbaugruppe (4) ist eingerichtet, um eine Einfallspose (PO) der Messstrahlung (5) auf der Prüffläche (2) im Rahmen der Messung zu verändern. Gemäß einer ersten Variante der Erfindung ist vorgesehen, dass die Bestrahlungsbaugruppe (4) eingerichtet ist, um die Einfallspose (PO) während der Messung kontinuierlich zu verändern, wobei der Detektor (6) eingerichtet ist, um die reflektierte Strahlung (7) währenddessen zu erfassen. Gemäß einer zweiten Variante der Erfindung ist vorgesehen, dass die Bestrahlungsbaugruppe (4) eingerichtet ist, um eine polychromatische Messstrahlung (5) bereitzustellen, wobei der Detektor (6) einen Spektrografen (22) aufweist, um die Reflexionseigenschaften der Prüffläche (2) für mehrere Wellenlängen (λ1, λ2, λ3) simultan zu erfassen.

Description

Die Erfindung betrifft eine Messvorrichtung zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Prüffläche eines Prüfgegenstands, aufweisend eine Bestrahlungsbaugruppe zur Bereitstellung einer auf die Prüffläche ausgerichteten elektromagnetischen Messstrahlung und einen Detektor zur Erfassung einer von der Prüffläche reflektierten Strahlung.
Die Erfindung betrifft ferner ein Messverfahren zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Prüffläche eines Prüfgegenstands, wobei eine elektromagnetische Messstrahlung auf die Prüffläche ausgerichtet und eine von der Prüffläche reflektierte Strahlung erfasst wird.
Die Erfindung betrifft außerdem eine Verwendung einer Messvorrichtung zur Messung von Reflexionseigenschaften eines optischen Elements einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie.
Bei der Messung von Reflexionseigenschaften einer Prüffläche eines Prüfgegenstands, beispielsweise einer Spiegelfläche eines Spiegels, wird der Reflexionsgrad häufig in Abhängigkeit der Einfallsposition der elektromagnetischen Strahlung auf der Prüffläche, des Einfallswinkels der Strahlung sowie deren Wellenlänge ermittelt. Aufgrund der hohen Dimensionalität der Messung müssen entsprechend viele einzelne Messwerte seriell hintereinander erfasst werden, um eine ausreichend vollständige Beschreibung der Reflexionseigenschaften der Prüffläche zu erhalten.
In der Regel werden zunächst die Einfallsposition der Strahlung auf der Prüffläche und/oder der Einfallswinkel der Strahlung eingestellt. Die eingestellte Einfallsposition und/oder der eingestellte Einfallswinkel definieren eine Einfallspose der Strahlung auf der Prüffläche. Anschließend kann die Wellenlänge der Messstrahlung in der erforderlichen Messpunktdichte für die eingestellte Einfallspose (abhängig von der Einfallsposition und/oder dem Einfallswinkel) variiert werden. Anschließend wird eine nächste Einfallspose eingestellt, indem beispielsweise der Einfallswinkel in der vorgesehenen Messpunktezahl für die eingestellte Einfallsposition verändert wird, wonach für jeden neuen Einfallswinkel wiederum bei verschiedenen Wellenlängen Messungen durchgeführt werden. Dies wird schließlich für jede zu vermessende Einfallspose, beispielsweise bei veränderter Einfallsposition, wiederholt.
Mit der hohen Dimensionalität der Messung geht damit eine vergleichsweise lange Messdauer einher, weshalb in der Praxis häufig Kompromisse hinsichtlich der Genauigkeit bei der Abrasterung der Prüffläche erforderlich sind.
Mitunter ist jedoch eine möglichst exakte Charakterisierung der Prüffläche unumgänglich, was mit den bekannten Verfahren, insbesondere für den Fall einer vergleichsweise großen Prüfflächen, nur schwer zu erreichen ist. Nicht zuletzt gilt es auch bei einer Massenfertigung des zu prüfenden Gegenstands die Prüfdauer möglichst zu minimieren.
Messvorrichtungen zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Prüffläche eines Prüfgegenstands sind im Stand der Technik grundsätzlich bekannt. Beispielhaft wird auf die DE 10 2018 205 163 A1 verwiesen.
Um die verfahrenskritische Messdauer zu reduzieren, ist es bekannt, die Messung der Wellenlänge kontinuierlich anstatt in vielen Einzelschritten durchzuführen. Die Wellenlänge der Messstrahlung wird dabei während der Abrasterung der Prüffläche mit verschiedenen Einfallsposen kontinuierlich verändert. Wenn die Wellenlänge der einfallenden elektromagnetischen Messstrahlung ausreichend bekannt ist, können auf der Grundlage einer entsprechenden Systemmodellierung fehlende Zwischenwerte ausgeglättet werden.
Eine genaue funktionstechnische Erfassung der Reflexionseigenschaften einer Prüffläche ist allerdings selbst mit der Maßnahme einer kontinuierlichen Wellenlängenmessung nach wie vor äußerst langwierig und es besteht Bedarf, die bekannten Messvorrichtungen und Messverfahren weiter zu verbessern.
In Anbetracht des bekannten Stands der Technik besteht die Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, eine Messvorrichtung bereitzustellen, mittels der die Reflexionseigenschaften einer Prüffläche eines Prüfgegenstands mit hoher Genauigkeit bei vorzugsweise nur kurzer Messdauer ermittelt werden können.
Der vorliegenden Erfindung liegt auch die Aufgabe zugrunde, ein Messverfahren bereitzustellen, mittels dem die Reflexionseigenschaften einer Prüffläche eines Prüfgegenstands mit hoher Genauigkeit bei vorzugsweise nur kurzer Messdauer ermittelt werden können.
Schließlich ist es auch Aufgabe der Erfindung, eine vorteilhafte Verwendung einer Messvorrichtung bereitzustellen.
Die Aufgabe wird für die Messvorrichtung, das Messverfahren und die Verwendung der Messvorrichtung mit den jeweiligen unabhängigen Ansprüchen gelöst. Die abhängigen Ansprüche und die nachfolgend beschriebenen Merkmale betreffen vorteilhafte Ausführungsformen und Varianten der Erfindung.
Erfindungsgemäß ist eine Messvorrichtung zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Prüffläche eines Prüfgegenstands vorgesehen.
Die Messvorrichtung kann insbesondere verwendet werden, um den Reflexionsgrad in Abhängigkeit von Einfallsposition, Einfallswinkel (auch unter dem Begriff „Inzidenzwinkel“ bekannt) und/oder Wellenlänge einer elektromagnetischen Messstrahlung zu erfassen. Als Reflexionsgrad bzw. Reflektivität wird dabei bekanntermaßen das Verhältnis zwischen der Intensität der reflektierten elektromagnetischen Strahlung und der Intensität der einfallenden elektromagnetischen Strahlung bezeichnet.
Durch die Messungen bei verschiedenen Wellenlängen in einem anwendungsbedingt relevanten Wellenlängenbereich können Reflexionsspektren ermittelt werden, welche unter anderem zur Charakterisierung der an der Reflexion beteiligten Materialien und deren Struktur dienen können. Insbesondere kann es damit vorteilhaft möglich sein, Schichtprofile der Prüffläche zu vermessen.
Die erfindungsgemäße Messvorrichtung weist ein Bestrahlungssystem beziehungsweise eine Bestrahlungsbaugruppe („Bestrahlungsbaugruppe“ wird vorliegend als Synonym zu „Bestrahlungssystem“ verwendet) zur Bereitstellung einer auf die Prüffläche ausgerichteten elektromagnetischen Messstrahlung auf. Die Bestrahlungsbaugruppe ist eingerichtet, um eine Einfallspose (d. h. die Einfallsposition der Messstrahlung auf der Prüffläche und/oder den Einfallswinkel, unter dem die Messstrahlung auf die Prüffläche auftrifft) der Messstrahlung auf der Prüffläche im Rahmen der Messung zu verändern. Die Messvorrichtung weist ferner einen Detektor zur Erfassung einer von der Prüffläche reflektierten Strahlung auf.
Die Veränderung der Einfallspose, also die Veränderung der Einfallsposition und/oder des Einfallswinkels, kann initial vor Beginn der Messung, vorzugsweise während der Messung (in einzelnen, diskreten Schritten oder kontinuierlich, wie nachfolgend insbesondere bezüglich der ersten Variante der Erfindung beschrieben) und/oder nach der Messung erfolgen.
Der Detektor und/oder der nachfolgend noch genannte Referenzdetektor können beispielsweise eine oder mehrere Silizium- oder Germanium-Fotodioden aufweisen.
Gemäß einer ersten Variante der Erfindung ist die Bestrahlungsbaugruppe eingerichtet, um die Einfallspose der Messstrahlung während der Messung kontinuierlich zu verändern. Der Detektor ist eingerichtet, um die reflektierte Strahlung währenddessen zu erfassen.
Die Erfinder haben festgestellt, dass zur Reduzierung der Messdauer eine kontinuierliche Messung der Einfallspose vorteilhaft sein kann. Überraschend wurde erkannt, dass die Messgenauigkeit trotz der kontinuierlichen Messung in der Regel nicht verringert wird.
Es kann vorgesehen sein, dass der Detektor eingerichtet ist, die reflektierte Strahlung kontinuierlich zu erfassen, während die Einfallspose der Messstrahlung verändert wird. Unter einer „kontinuierlichen“ Erfassung der Messstrahlung durch den Detektor kann auch die Erfassung der Messstrahlung einer gepulsten Strahlungsquelle verstanden werden, wobei die Erfassung dann in der Regel nur in den Beleuchtungszeiten der Einzelpulse erfolgt, bezogen auf die kontinuierliche Veränderung der Messstrahlung aber dennoch kontinuierlich ist.
Insbesondere wenn die Einfallsposition und/oder der Einfallswinkel während der Messung der reflektierten Strahlung bekannt sind, kann durch ein geeignetes Modellfitting ein hochgenaues Modell der Reflexionseigenschaften der Prüffläche generiert werden, ohne dass eine hohe Anzahl einzelner Messpunkte erfasst werden muss. Die Messung kann auf diese Weise erheblich beschleunigt werden.
Im Rahmen der ersten Variante der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe eine monochromatische oder eine polychromatische Messstrahlung bereitstellt.
Gemäß einer zweiten Variante der Erfindung, die alternativ oder zusätzlich zu der ersten Variante umgesetzt werden kann, ist die die Bestrahlungsbaugruppe eingerichtet, um eine polychromatische Messstrahlung bereitzustellen. Der Detektor weist einen Spektrografen bzw. Spektralanalysator auf, um die Reflexionseigenschaften der Prüffläche für mehrere Wellenlängen simultan zu erfassen.
Auf diese Weise ist es möglich, durch jeden Puls der Strahlungsquelle einen kompletten Wellenlängenscan zu erfassen. Neben der damit einhergehenden Beschleunigung des Messverfahrens kann sich hierdurch auch der Aufbau der Messvorrichtung, insbesondere der Bestrahlungsbaugruppe, vereinfachen. Dies kann aus Kostengründen und zur Verringerung des Bauraums vorteilhaft sein.
Der Spektrograf kann insbesondere als Spektralgasanalysator ausgebildet sein.
Der Spektrograf kann ein Gitter und eine dem Gitter nachgeordnete Zeilenkamera aufweisen. Aufbau und Funktionsweise von Spektrografen sind hinlänglich bekannt, weshalb auf eine detailliertere Beschreibung vorliegend verzichtet wird.
Die Erfinder haben erkannt, dass eine hochgenaue Messung mit verkürzter Messdauer durch Verringern der Dimensionalität der Messung erreicht werden kann, also beispielsweise von vier Dimensionen (zweidimensionale Einfallsposition, Einfallswinkel und Wellenlänge) auf nur noch drei Dimensionen (zweidimensionale Einfallsposition und Einfallswinkel). Auf das Scannen der Messdimension „Wellenlänge“ kann verzichtet und alle relevanten Wellenlängen durch nur eine Einzelmessung simultan erfasst werden, wenn eine polychromatische Messstrahlung zum Einsatz kommt.
Die beiden Varianten der Erfindung stellen im Rahmen des erfinderischen Gesamtkonzepts Alternativlösungen für die einheitliche erfindungsgemäße Aufgabe dar, die unabhängig voneinander, insbesondere jedoch auch in Kombination miteinander, vorteilhaft sein können. Die Varianten stehen dahingehend miteinander in Beziehung, dass die gesamte Messdauer durch eine effektivere Erfassung einzelner Messdimensionen verringert wird, insbesondere durch eine kontinuierliche und/oder simultane Erfassung einzelner Messdimensionen.
Insofern nachfolgend keine explizite Angabe erfolgt, sind alle Weiterbildungen, Ausgestaltungen und Ausführungsbeispiele auf beide Varianten der Erfindung bezogen zu verstehen, wenn dies technisch nicht ausgeschlossen ist.
In einer Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe eine Strahlungsquelle zur Erzeugung der Messstrahlung aufweist.
Vorzugsweise ist die Strahlungsquelle ausgebildet, die Messstrahlung im extremen ultravioletten Spektralbereich zu erzeugen. Hierzu kann die Strahlungsquelle beispielsweise als Plasmastrahlungsquelle ausgebildet sein oder eine Plasmastrahlungsquelle aufweisen. Die Strahlungsquelle kann beispielsweise einen Laser umfassen, insbesondere einen gepulsten Laser, dessen Strahl auf ein Zielmaterial fokussiert ist, wobei an der Oberfläche des Zielmaterials ein Plasma generiert wird. Das Zielmaterial kann vorzugsweise in einem Vakuum angeordnet und beispielsweise als Goldzylinder ausgebildet sein. Der Laserstrahl kann somit beispielsweise ein Goldplasma erzeugen.
Grundsätzlich kann allerdings auch eine beliebige andersartige Strahlungsquelle mit einem diskreten oder quasi-kontinuierlichen Spektrum elektromagnetischer Strahlung vorgesehen sein.
Vorzugsweise wird die Messstrahlung von der Bestrahlungsbaugruppe bzw. der Strahlungsquelle im extremen ultravioletten Wellenlängenbereich bereitgestellt bzw. erzeugt. Auch eine Messstrahlung im tiefen ultravioletten Spektralbereich, im sichtbaren Spektralbereich oder in einem sonstigen Wellenlängenbereich kann allerdings im Rahmen der Erfindung zum Einsatz kommen. Der zu verwendende Wellenlängenbereich kann insbesondere im Hinblick auf den späteren Anwendungsfall des Prüfgegenstands definiert werden, da in der Regel insbesondere ein Bedarf besteht, die Reflexionseigenschaften von Prüfflächen von Prüfgegenständen in Bezug zu den späteren Arbeitswellenlängen zu erfassen.
Die Wellenlänge der Messstrahlung bzw. der vorgesehene Wellenlängenbereich der Messstrahlung kann insbesondere 1 nm bis 120 nm betragen, vorzugsweise 2 nm bis 50 nm betragen, besonders bevorzugt 6 nm bis 20 nm betragen, und ganz besonders bevorzugt 8 nm bis 16 nm betragen.
Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe eine optische Baugruppe aufweist, insbesondere eine im Strahlengang der Messstrahlung zwischen der Strahlungsquelle und der Prüffläche angeordnete optische Baugruppe.
Die optische Baugruppe kann eines oder mehrere optische Einheiten aufweisen, insbesondere Spiegel, Linsen, Blenden, Gitter, Spalte, Strahlteiler, Monochromatoren oder sonstige optische Einheiten.
Eine oder mehrere der optischen Einheiten der optischen Baugruppe können optional in Position, Drehrichtung und/oder Ausrichtung einstellbar sein, vorzugsweise aktiv steuerbar sein. Eine oder mehrere der optischen Einheiten der optischen Baugruppe können außerdem in Position, Drehrichtung und/oder Ausrichtung messtechnisch erfassbar sein.
Es kann insbesondere vorgesehen sein, dass die optische Baugruppe eingerichtet ist, um den Strahlengang der Messstrahlung zu verändern (vorzugsweise aktiv während der Messung - kontinuierlich oder in diskreten Stufen) und/oder um die elektromagnetischen Eigenschaften der Messstrahlung zu verändern (vorzugsweise aktiv während der Messung - kontinuierlich oder in diskreten Stufen). Durch die Veränderung des Strahlengangs der Messstrahlung mittels der dazu eingerichteten optischen Baugruppe erfolgt insbesondere eine Veränderung der Einfallspose auf der Prüffläche.
Bei den zu verändernden elektromagnetischen Eigenschaften der Messstrahlung kann es sich insbesondere um eine Intensität der Messstrahlung und/oder um die Wellenlänge der Messstrahlung handeln.
Der Strahlengang der Messstrahlung und/oder die elektromagnetischen Eigenschaften der Messstrahlung können somit vor Auftreffen der Messstrahlung auf der Prüffläche vorteilhaft und definiert im Rahmen der Messung beeinflusst werden.
Unter einer Veränderung des Strahlengangs der Messstrahlung ist insbesondere die Beeinflussung des Verlaufs der Messstrahlung zu verstehen, um die Einfallspose der Messstrahlung auf der Prüffläche zu beeinflussen. Insbesondere kann vorgesehen sein, dass der Strahlengang von der Bestrahlungsbaugruppe aktiv gelenkt bzw. geleitet wird.
Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe eine Halteeinrichtung aufweist, an der der Prüfgegenstand für die Messung befestigbar ist.
Vorzugsweise kann der Prüfgegenstand mittels der Halteeinrichtung oder in der Halteeinrichtung definiert ausrichtbar, rotierbar und/oder positionierbar sein (insbesondere aktiv während der Messung - kontinuierlich oder in diskreten Stufen). Die Halteeinrichtung kann beispielsweise ein Goniometer aufweisen, um den Prüfgegenstand möglichst flexibel zu positionieren bzw. auszurichten.
Es kann grundsätzlich aber auch vorgesehen sein, dass der Prüfgegenstand von der Halteeinrichtung statisch, also unbeweglich, gehalten wird.
Insbesondere kann vorgesehen sein, dass die Halteeinrichtung zusammen mit dem statisch in der Halteeinrichtung befestigten Prüfgegenstand positionierbar, rotierbar und/oder ausrichtbar ist, beispielsweise um die Einfallsposition und/oder den Einfallswinkel, also die Einfallspose, der elektromagnetischen Messstrahlung auf der Prüffläche zu verändern. Mit anderen Worten: Die Bestrahlungsbaugruppe kann eine Halteeinrichtung aufweisen, durch welche die Einfallspose während einer Messung kontinuierlich veränderbar ist, insbesondere durch Positionieren, Rotieren und/oder Ausrichten des Prüfgegenstandes. Insbesondere ist durch das Positionieren, Rotieren und/oder Ausrichten des Prüfgegenstandes eine Einfallsposition und/oder ein Einfallswinkel der Messtrahlung auf der Prüffläche einstellbar oder veränderbar. Es kann zusätzlich oder alternativ aber auch vorgesehen sein, dass die Halteeinrichtung eingerichtet ist, den Prüfgegenstand innerhalb der Halteeinrichtung zu positionieren, zu rotieren und/oder auszurichten.
Es kann vorgesehen sein, dass die Position, der Drehwinkel und/oder die Ausrichtung der Halteeinrichtung und/oder des Prüfgegenstands innerhalb der Halteeinrichtung sensorisch erfassbar oder auf andere Weise bekannt sind, um die Genauigkeit der Messung zu verbessern.
Vorzugsweise ist die Messvorrichtung so ausgebildet, dass der gesamte Strahlengang der Messstrahlung und vorzugsweise auch der reflektierten Strahlung innerhalb eines Vakuums verläuft. Die Messvorrichtung kann hierfür beispielsweise eine entsprechend ausgebildete Vakuumkammer und Vakuumpumpen aufweisen. Die Messvorrichtung kann auch vollständig im Vakuum angeordnet sein, gegebenenfalls können aber auch nur die Bestrahlungsbaugruppe, die Strahlungsquelle, die Halteeinrichtung, der Prüfgegenstand, der Detektor und/oder der nachfolgend noch genannte Referenzdetektor im Vakuum angeordnet sein. Eine Anordnung der Messvorrichtung oder deren Komponenten in einem Vakuum ist außerdem auch nicht unbedingt erforderlich, insbesondere aber bei Verwendung einer Messstrahlung mit Wellenlängen im EUV-Bereich („Extreme Ultra Violet“) oder VUV-Bereich („Vakuumultraviolettstrahlung“) vorteilhaft.
In einer Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe wenigstens ein aktorisches Mittel aufweist das eingerichtet ist, um die Einfallspose auf der Prüffläche zu verändern, insbesondere um den Strahlengang der Messstrahlung zu verändern.
Bei dem aktorischen Mittel (und/oder bei der nachfolgend noch genannten Aktuatoreinheit) kann es sich beispielsweise um einen Linearaktuator und/oder um eine rotierende elektrische Maschine handeln. Grundsätzlich kann es sich um ein beliebiges aktorisches Mittel handeln, beispielsweise auch auf Grundlage der Mikrosystemtechnik (z. B. ein piezoelektrisches und/oder elektrostatisches aktorisches Mittel).
In einer Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe eingerichtet ist, den Strahlengang der Messstrahlung zu verändern, um die Messstrahlung entlang eines ersten Translationsfreiheitsgrades und/oder entlang eines zweiten Translationsfreiheitsgrades während der Messung über die Prüffläche zu führen. Die Einfallsposition der Messstrahlung kann somit in einem oder vorzugsweise in zwei Translationsfreiheitsgraden veränderbar sein.
Es kann insbesondere vorgesehen sein, den Strahlengang der Messstrahlung bzw. die Einfallspose der Messstrahlung auf der Prüffläche während der Messung der Intensität der reflektierten Strahlung kontinuierlich zu beeinflussen, um eine kontinuierliche Änderung der Einfallsposition der Messstrahlung auf der Prüffläche zu verursachen. Insbesondere wenn der Detektor entsprechend synchron bewegt wird, um dem sich ändernden Auftreffpunkt auf der Prüffläche gerecht zu werden, kann bei bekannter Position und Ausrichtung des Prüfgegenstands eine hochgenaue Messung erfolgen.
In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann insbesondere vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe eingerichtet ist, die Einfallsposition der Messstrahlung in dem ersten Translationsfreiheitsgrad und in dem zweiten Translationsfreiheitsgrad entlang einer definierten Trajektorie kontinuierlich über die Prüffläche zu führen.
Vorzugsweise kann die Trajektorie Bereiche an den Rändern der Prüffläche einschließen bzw. sich über einen möglichst großen Abschnitt der Prüffläche erstrecken.
Bei der Trajektorie kann es sich beispielsweise um eine regelmäßige auf der Prüffläche verlaufende Kurve (z. B. eine spiralförmige Kurve oder eine oszillierende Kurve), gegebenenfalls aber auch um eine unregelmäßig auf der Prüffläche verlaufende Kurve handeln.
Der optimale Verlauf und/oder die Mindestlänge der Trajektorie kann für einen bestimmten Prüfgegenstand bzw. Prüfflächentyp durch Simulationen, Berechnungen oder Kalibrierungsmessungen ermittelt werden. Grundsätzlich kann eine lange Trajektorie die Genauigkeit der Messung erhöhen; im Hinblick auf die Messdauer ist allerdings eine kurze Trajektorie bevorzugt. Vorzugsweise gilt es, anwendungsabhängig eine Trajektorie einzusetzen, die ein Optimum zwischen Messgenauigkeit und Messdauer ermöglicht.
In einer Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe eingerichtet ist, den Strahlengang der Messstrahlung zu verändern, um einen Einfallswinkel der Messstrahlung auf der Prüffläche während der Messung kontinuierlich zu variieren.
Alternativ oder zusätzlich zu einer kontinuierlichen Messung der Einfallsposition kann also auch eine kontinuierliche Messung des Einfallswinkels von Vorteil sein.
Beispielsweise kann bei einer kontinuierlichen Messung des Einfallswinkels vorgesehen sein, die Einfallsposition währenddessen konstant zu halten. Vorzugsweise wird somit nur hinsichtlich des Einfallswinkels gescannt. Die Aktorik, beispielsweise der Halteeinrichtung, kann entsprechend ausgebildet sein. Beispielsweise kann die Halteeinrichtung ein Goniometer aufweisen, wobei der Einfallswinkel durch den untersten Antrieb des Goniometers einstellbar sein kann. Bei einer korrekten Vorpositionierung des Prüfgegenstands durch die höheren Achsen kann schließlich die unterste Achse frei bewegt werden, ohne dass die Einfallswinkelebene oder die Positionierung der Prüffläche und des gewünschten Messpunktes im Fokus der Messstrahlung beeinträchtigt wird. Hierbei spielt es keine Rolle, ob und inwiefern die Prüffläche eine Krümmung aufweist.
Vorzugsweise wird der Einfallswinkel konstant gehalten, während die Einfallsposition kontinuierlich verändert wird.
Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung kann insbesondere vorgesehen sein, die Einfallsposition der Messstrahlung in dem ersten Translationsfreiheitsgrad und in dem zweiten Translationsfreiheitsgrad entlang einer definierten Trajektorie kontinuierlich über die Prüffläche zu führen, und währenddessen außerdem den Strahlengang der Messstrahlung zu verändern, um den Einfallswinkel der Messstrahlung auf der Prüffläche während der Messung kontinuierlich zu variieren.
In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe eingerichtet ist, um die Wellenlänge der Messstrahlung zu verändern, vorzugsweise kontinuierlich während der Messung zu verändern.
Auch die Veränderung der Wellenlänge der Messstrahlung, insbesondere kontinuierlich während der Messung, kann Messdauer und Messgenauigkeit verbessern. Insbesondere kann eine kontinuierliche Veränderung der Wellenlänge der Messstrahlung in Kombination mit einer kontinuierlichen Veränderung der Einfallspose der Messstrahlung (vorzugsweise eine Veränderung des ersten Translationsfreiheitsgrades, des zweiten Translationsfreiheitsgrades und des Einfallswinkels) vorteilhaft sein.
Insbesondere kann vorgesehen sein, die Wellenlänge einer monochromatischen Messstrahlung während der Messung punktweise oder vorzugsweise kontinuierlich zu verändern.
In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe einen Monochromator aufweist, um die Wellenlänge der Messstrahlung zu verändern. Vorzugsweise ist der Monochromator zum Einstellen der Wellenlänge der Messstrahlung während einer Messung ausgebildet, um die Wellenlänge der Messstrahlung in diskreten Schritten oder kontinuierlich während der Messung zu verändern.
Der Monochromator kann vorzugsweise ein Reflexionsgitter umfassen, insbesondere ein konkaves, kreiszylindrisches Reflexionsgitter. Das Reflexionsgitter des Monochromators kann derart konfiguriert und angeordnet sein, dass der Messstrahl auf einen Austrittsspalt des Monochromators fokussiert wird. In einer alternativen Ausgestaltung kann auch vorgesehen sein, dass anstelle des konkaven, kreiszylindrischen Reflexionsgitters mit geraden Gitterlinien ein Plangitter mit gekrümmten Linien im Monochromator angeordnet ist.
Grundsätzlich können allerdings beliebige Mittel vorgesehen sein, um die Wellenlänge der Messstrahlung in diskreten Werten oder kontinuierlich zu verändern.
In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe einen Strahlteiler aufweist der eingerichtet ist, um die von der Strahlungsquelle erzeugte elektromagnetische Strahlung in die Messstrahlung und in eine Referenzstrahlung aufzuteilen, wobei ein Referenzdetektor im Strahlengang der Referenzstrahlung angeordnet ist.
Vorzugsweise weist der Referenzdetektor einen funktional identischen Aufbau auf wie der Detektor. Der Referenzdetektor kann somit ebenso wie der Detektor zum Erfassen der Intensität der elektromagnetischen Strahlung konfiguriert sein. Ein Referenzdetektor bzw. die Referenzierung der Messstrahlung kann bei allen Ausführungsbeispielen und Variationen der Erfindung vorgesehen sein.
Durch Vergleich der von Detektor und Referenzdetektor jeweils erfassten Intensitäten kann auf besonders einfache Weise der Reflexionsgrad der Prüffläche bezüglich Einfallspose und/oder Wellenlänge bzw. in Abhängigkeit der Einfallsposition, des Einfallswinkels und/oder der Wellenlänge erfasst werden.
Der Strahlteiler kann im Strahlengang der Messstrahlung als letztes optisches Element vor der Prüffläche angeordnet sein. Der Strahlteiler ist eingerichtet, einen Anteil der von der Strahlungsquelle erzeugten elektromagnetischen Strahlung, insbesondere einen bekannten Anteil, vorzugsweise ungefähr 50 % der Intensität der einfallenden Strahlung, auf den Referenzdetektor zu richten und den verbleibenden Anteil in Form der Messstrahlung in Richtung der Prüffläche zu leiten. Auf den genauen Anteil bzw. auf das Teilungsverhältnis der Aufteilung der Strahlung zwischen Detektor und Referenzdetektor kommt es dabei in der Regel nicht unbedingt an, insofern das Teilungsverhältnis ausreichend bekannt ist.
Vorzugsweise ist die Messvorrichtung ausgebildet, um hinsichtlich der erfassten Intensität der reflektierten Strahlung bzw. der Reflexionseigenschaften Absolutmessungen durchzuführen. Hierzu kann es von Vorteil sein, wenn das Teilungsverhältnis des Strahlteilers und die Ursprungsintensität der erzeugten Messstrahlung bekannt sind. Beispielsweise kann das Verhältnis des Strahlteilers und die Intensität der ursprünglichen Messstrahlung durch eine Direkt- bzw. Referenzmessung im Rahmen einer der Messung vorhergehenden Kalibrierung bestimmt werden.
In einer Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass der Detektor eine Aktuatoreinheit aufweist, um den Detektor der Messstrahlung bedarfsweise nachzuführen. Alternativ oder zusätzlich kann vorgesehen sein, dass der Referenzdetektor eine Aktuatoreinheit aufweist, um den Referenzdetektor der Referenzstrahlung bedarfsweise nachzuführen. Insbesondere kann somit vorgesehen sein, den Detektor relativ zu der Messstrahlung zu positionieren, beispielsweise um verschiedene Einfallswinkel zu erfassen.
Gegebenenfalls kann sogar vorgesehen sein, dass Detektor und Referenzdetektor dieselbe Aktuatoreinheit aufweisen. Vorzugsweise weisen allerdings Detektor und Referenzdetektor jeweils eine eigene Aktuatoreinheit auf.
Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass das wenigstens eine aktorische Mittel und die Aktuatoreinheit eingerichtet sind, um den Detektor und/oder den Referenzdetektor synchronisiert zur der während der Messung variierten Einfallspose der Messstrahlung zu bewegen.
Gegebenenfalls kann alternativ zu einer synchronisierten Bewegung auch eine mechanisch gekoppelte Bewegung, beispielsweise durch mechanische Kopplung der aktorischen Mittel und der Aktuatoreinheit(en) vorgesehen sein.
In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass der Detektor und/oder der Referenzdetektor eine Sensorfläche mit mehreren Bildpunkten aufweist, um die Messstrahlung zu erfassen.
Grundsätzlich kann der Detektor und/oder der Referenzdetektor allerdings auch lediglich zur Erfassung eines einzelnen Bildpunkts ausgebildet sein. Eine Sensorfläche mit mehreren Bildpunkten, beispielsweise in der Art eines Pixelarrays einer Kamera, kann allerdings besonders vorteilhaft sein, um die Genauigkeit der Messvorrichtung bzw. die Erfassung der Reflexionseigenschaften zu verbessern.
In einer Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Messvorrichtung eine Steuereinrichtung aufweist, die zur Verarbeitung von mittels des Detektors und/oder des Referenzdetektors erfassten Messdaten eingerichtet ist.
Die Steuereinrichtung kann eingerichtet sein, die einzelnen Komponenten der Messvorrichtung zu steuern bzw. zu regeln. Die Steuereinrichtung kann beispielsweise mit einzelnen oder mit mehreren Sensoren der Messvorrichtung, mit einzelnen oder mit mehreren Steuereinheiten und/oder mit einzelnen oder mit mehreren Aktuatoren der Messvorrichtung, beispielsweise den aktorischen Mitteln und/oder den Aktuatoreinheiten, signal- bzw. kommunikationsverbunden sein.
Es kann vorgesehen sein, dass die Steuereinrichtung als einzelne, zentrale Steuereinrichtung ausgebildet ist. Grundsätzlich kann die Steuereinrichtung allerdings auch aus mehreren, dezentral innerhalb der Messvorrichtung angeordneten Steuereinheiten ausgebildet sein, die insgesamt, also in Verschaltung miteinander, die Steuereinrichtung ausbilden.
Die Steuereinrichtung kann als Mikroprozessor ausgebildet sein. Anstelle eines Mikroprozessors kann auch eine beliebige weitere Einrichtung zur Implementierung der Steuereinrichtung vorgesehen sein, beispielsweise eine oder mehrere Anordnungen diskreter elektrischer Bauteile auf einer Leiterplatte, eine speicherprogrammierbare Steuerung (SPS), eine anwendungsspezifische integrierte Schaltung (ASIC) oder eine sonstige programmierbare Schaltung, beispielsweise auch ein Field Programmable Gate Array (FPGA), eine programmierbare logische Anordnung (PLA) und/oder ein handelsüblicher Computer.
In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Steuereinrichtung eingerichtet ist, um anhand der Messdaten ein Systemmodell zur näherungsweisen Ausgabe der Reflexionseigenschaften der Prüffläche des Prüfgegenstands in Abhängigkeit einer Einfallspose einer elektromagnetischen Strahlung und/oder einer Wellenlänge einer elektromagnetischen Strahlung zu bestimmen.
Das Systemmodell kann beispielsweise anschließend, im Rahmen der späteren Verwendung des Prüfgegenstands, zur Dokumentation und/oder zur Qualitätssicherung bei der Herstellung des Prüfgegenstands verwendbar sein.
Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Steuereinrichtung zur Bereitstellung von Steuersignalen eingerichtet ist, um den Detektor und/oder den Referenzdetektor der reflektierten Strahlung nachzuführen.
Vorzugsweise ist die Steuereinrichtung eingerichtet, den Detektor und/oder den Referenzdetektor der reflektierten Strahlung derart nachzuführen, dass das Maximum der reflektierten Strahlung auf dem Detektor bzw. auf der Sensorfläche des Detektors zentriert wird.
Für die Zentrierung der reflektierten Strahlung auf dem Detektor bzw. auf dem Referenzdetektor kann sich insbesondere ein Detektor bzw. Referenzdetektor mit einer Sensorfläche mit mehreren Bildpunkten eignen. Es kann dann der Bildpunkt oder die Bildpunkte ermittelt werden, an dem bzw. an denen sich das Intensitätsmaximum befindet. Anschließend kann die Zentrierung des Intensitätsmaximums durch eine entsprechende Nachführung bzw. Regelung der Aktorik von Detektor und/oder Referenzdetektor erfolgen.
Bei der Helligkeitsverteilung der reflektierten elektromagnetischen Strahlung kann insbesondere von einer Gauss-Verteilung ausgegangen werden. Dies kann vorteilhaft bei der Nachführung des Detektors bzw. des Referenzdetektors und/oder bei der nachfolgend noch beschriebenen Ermittlung des Einfallswinkels berücksichtigt werden.
In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Steuereinrichtung eingerichtet ist, um auf Grundlage einer Helligkeitsverteilung auf der Sensorfläche den Einfallswinkel der Messstrahlung auf der Prüffläche zu bestimmen.
Die Erfinder haben erkannt, dass sich anhand der Helligkeitsverteilung auf der Sensorfläche, insbesondere einer Sensorfläche mit mehreren Bildpunkten, bei bekannter Position von Detektor, Referenzdetektor und/oder Strahlungsquelle bzw. bei bekanntem Strahlengang, der Einfallswinkel der Messstrahlung auf der Prüffläche vorteilhaft bestimmen lassen kann. Dies kann beispielsweise durch einen Versatz einer bei einem Einfallswinkel von 0° zu erwartenden Position des Intensitätsmaximums oder unter Berücksichtigung einer spezifischen Gestalt der Helligkeitsverteilung (z. B. Verzerrung der Gauss-Verteilung) oder auf einer sonstigen Grundlage erfolgen.
In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Steuereinrichtung eingerichtet ist, um die charakteristischen Emissionslinien in der polychromatischen Messstrahlung der Bestrahlungsbaugruppe bei der Auswertung der Messdaten und/oder bei der Nachführung des Detektors bzw. des Referenzdetektors zu berücksichtigen.
Die Genauigkeit bei der Nachführung und bei der Auswertung der Messdaten, beispielsweise auch bei der Bestimmung des Einfallswinkels der Messstrahlung auf der Prüffläche, kann durch Berücksichtigung der charakteristischen Emissionslinien der Bestrahlungsbaugruppe bzw. der Strahlungsquelle verbessert sein.
In einer Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass es sich bei der Prüffläche um eine optisch aktive Oberfläche eines optischen Elements handelt. Beispielsweise kann es sich bei der Prüffläche um eine Spiegelfläche eines Spiegels handeln.
Grundsätzlich kann ein beliebiges optisches Element bzw. ein beliebiger Prüfgegenstand vorgesehen sein. Bei dem Prüfgegenstand kann es sich beispielsweise auch um eine Linse und bei der Prüffläche entsprechend um eine Linsenoberfläche handeln. Die Erfindung ist grundsätzlich nicht auf die Verwendung mit einem bestimmten Prüfgegenstand oder mit einer bestimmten Prüffläche beschränkt zu verstehen.
Besonders vorteilhaft eignet sich die erfindungsgemäße Messvorrichtung zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Prüffläche eines optischen Elements einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie.
Die Erfindung betrifft auch ein Messverfahren zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Prüffläche eines Prüfgegenstands, wobei eine elektromagnetische Messstrahlung auf die Prüffläche ausgerichtet und eine von der Prüffläche reflektierte Strahlung erfasst wird, und wobei eine Einfallspose der Messstrahlung auf der Prüffläche im Rahmen der Messung beeinflusst wird.
Gemäß einer ersten Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die Einfallspose der Messstrahlung während der Messung kontinuierlich verändert, während die reflektierte Strahlung erfasst wird.
Gemäß einer zweiten Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens, die alternativ oder zusätzlich zu der ersten Variante durchgeführt werden kann, wird eine polychromatische Messstrahlung verwendet, wobei die Reflexionseigenschaften der Prüffläche für mehrere Wellenlängen simultan erfasst werden.
Durch das vorgeschlagene Messverfahren können Prüfflächen mit hoher Präzision und kurzer Messdauer vermessen werden. Das erfindungsgemäße Messverfahren ist insbesondere zur Vermessung der Reflexionseigenschaften und somit auch der Material- und Struktureigenschaften von optischen Elementen von Projektionsbelichtungsanlagen vorteilhaft.
Die Erfindung betrifft auch eine Verwendung einer Messvorrichtung oder eines Messverfahrens gemäß den vorstehenden und nachfolgenden Ausführungen zur Messung von Reflexionseigenschaften eines optischen Elements einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie.
Projektionsbelichtungsanlagen bzw. Lithographieanlagen werden verwendet, um integrierte Schaltungen mit hoher Präzision herzustellen. Hierbei wird das Licht einer Strahlungsquelle über optische Elemente, wie Spiegel und/oder Linsen, zu einem zu belichteten Wafer gelenkt. Aufgrund der fortschreitenden Miniaturisierung von Halbleiterschaltungen erhöhen sich die Anforderung an die Auflösung und die Genauigkeit der Projektionsbelichtungsanlagen gleichermaßen. Entsprechend hohe Anforderungen werden insbesondere an deren optische Elemente und die Aktuierung der optischen Elemente gestellt.
Die Fertigungsqualität der optischen Elemente und die Kenntnis über die optischen Eigenschaften der optischen Elemente während des Betriebs, insbesondere betreffend Reflexionseigenschaften einer optisch aktiven Fläche des optischen Elements, tragen entscheidend zur Qualität der Belichtung bei.
Die Messvorrichtung bzw. das Messverfahren können in diesem Rahmen insbesondere vorteilhaft zur Prozessführung während der Halbleiterlithografie und/oder zur Qualitätssicherung oder Dokumentation im Rahmen der Fertigung des optischen Elements eingesetzt werden.
Die Erfindung eignet sich unter anderem zur Messung von Reflexionseigenschaften optischer Elemente einer mikrolithographischen DUV („Deep Ultra Violet“) Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere jedoch zur Verwendung mit einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage. Eine mögliche Verwendung der Erfindung betrifft auch die Messung von Reflexionseigenschaften optischer Elemente der Immersionslithographie.
Merkmale, die im Zusammenhang mit einem der Gegenstände der Erfindung, namentlich gegeben durch die Messvorrichtung, das Messverfahren und die Verwendung beschrieben wurden, sind auch für die anderen Gegenstände der Erfindung vorteilhaft umsetzbar. Ebenso können Vorteile, die im Zusammenhang mit einem der Gegenstände der Erfindung genannt wurden, auch auf die anderen Gegenstände der Erfindung bezogen verstanden werden.
Ergänzend sei darauf hingewiesen, dass Begriffe wie „umfassend“, „aufweisend“ oder „mit“ keine anderen Merkmale oder Schritte ausschließen. Ferner schließen Begriffe wie „ein“ oder „das“, die auf eine Einzahl von Schritten oder Merkmalen hinweisen, keine Mehrzahl von Merkmalen oder Schritten aus - und umgekehrt.
In einer puristischen Ausführungsform der Erfindung kann allerdings auch vorgesehen sein, dass die in der Erfindung mit den Begriffen „umfassend“, „aufweisend“ oder „mit“ eingeführten Merkmale abschließend aufgezählt sind. Dementsprechend kann eine oder können mehrere Aufzählungen von Merkmalen im Rahmen der Erfindung als abgeschlossen betrachtet werden, beispielsweise jeweils für jeden Anspruch betrachtet. Die Erfindung kann beispielsweise ausschließlich aus den in Anspruch 1 genannten Merkmalen bestehen.
Es sei erwähnt, dass Bezeichnungen wie „erstes“ oder „zweites“ etc. vornehmlich aus Gründen der Unterscheidbarkeit von jeweiligen Vorrichtungs- oder Verfahrensmerkmalen verwendet werden und nicht unbedingt andeuten sollen, dass sich Merkmale gegenseitig bedingen oder miteinander in Beziehung stehen.
Ferner sei betont, dass die vorliegend beschriebenen Werte und Parameter Abweichungen oder Schwankungen von ±10% oder weniger, vorzugsweise ±5% oder weniger, weiter bevorzugt ±1 % oder weniger, und ganz besonders bevorzugt ±0,1 % oder weniger des jeweils benannten Wertes bzw. Parameters mit einschließen, sofern diese Abweichungen bei der Umsetzung der Erfindung in der Praxis nicht ausgeschlossen sind. Die Angabe von Bereichen durch Anfangs- und Endwerte umfasst auch all diejenigen Werte und Bruchteile, die von dem jeweils benannten Bereich eingeschlossen sind, insbesondere die Anfangs- und Endwerte und einen jeweiligen Mittelwert.
Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher beschrieben.
Die Figuren zeigen jeweils bevorzugte Ausführungsbeispiele, in denen einzelne Merkmale der vorliegenden Erfindung in Kombination miteinander dargestellt sind. Merkmale eines Ausführungsbeispiels sind auch losgelöst von den anderen Merkmalen des gleichen Ausführungsbeispiels umsetzbar und können dementsprechend von einem Fachmann ohne Weiteres zu weiteren sinnvollen Kombinationen und Unterkombinationen mit Merkmalen anderer Ausführungsbeispiele verbunden werden.
In den Figuren sind funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen.
Es zeigen schematisch:

1 eine erfindungsgemäße Messvorrichtung zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Prüffläche eines Prüfgegenstands;
2 eine Ausschnittsvergrößerung der auf die Prüffläche einfallenden elektromagnetischen Messstrahlung und eines Detektors zur Erfassung einer von der Prüffläche reflektierten elektromagnetischen Strahlung;
3 eine beispielhafte Trajektorie für die Messstrahlung entlang der Prüffläche;
4 eine weitere beispielhafte Trajektorie für die Messstrahlung entlang der Prüffläche;
5 eine mögliche Helligkeitsverteilung der reflektierten Strahlung auf einer mehrere Bildpunkte aufweisenden Sensorfläche des Detektors;
6 ein beispielhafter Aufbau eines Spektrografen, um mehrere Wellenlängen simultan zu erfassen;
7 eine mögliche Verteilung mehrerer Wellenlängen auf einem Detektor zur simultanen Erfassung; und
8 eine beispielhafte Reflektivitätskurve bei der simultanen Erfassung mehrerer Wellenlängen.

In 1 ist beispielhaft und stark schematisiert eine Messvorrichtung 1 zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Prüffläche 2 eines Prüfgegenstands 3 dargestellt. Bei der Prüffläche 2 kann es sich beispielsweise um eine optische aktive Oberfläche eines optischen Elements handeln, insbesondere um eine Spiegelfläche eines Spiegels oder um eine Linsenfläche einer Linse.
Die Messvorrichtung 1 kann sich insbesondere vorteilhaft zur Messung von Reflexionseigenschaften eines optischen Elements einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie eignen.
Die Messvorrichtung 1 weist eine Bestrahlungsbaugruppe 4 zur Bereitstellung einer auf die Prüffläche 2 ausgerichteten elektromagnetischen Messstrahlung 5 und einen Detektor 6 zur Erfassung einer von der Prüffläche 2 reflektierten Strahlung 7 auf.
Zur Erzeugung der Messstrahlung 5 weist die Bestrahlungsbaugruppe 4 eine Strahlungsquelle 8 auf, beispielsweise eine Plasmastrahlungsquelle zur Erzeugung der Messstrahlung 5 im extremen ultravioletten Spektralbereich. Grundsätzlich kann sich allerdings eine beliebige Strahlungsquelle 8 zur Erzeugung einer beliebigen Messstrahlung 5 im Rahmen der Erfindung eignen.
Ferner weist die Bestrahlungsbaugruppe 4 eine im Strahlengang zwischen der Strahlungsquelle 8 und der Prüffläche 2 angeordnete optische Baugruppe 9 auf, die eingerichtet ist, um den Strahlengang der Messstrahlung 5 zu verändern und/oder um die elektromagnetischen Eigenschaften der Messstrahlung 5 zu verändern. Die optische Baugruppe 9 kann hierzu verschiedene optische Einheiten aufweisen.
Die in den Figuren dargestellten und nachfolgend beschriebenen optischen Einheiten der optischen Baugruppe 9 sowie deren Kombination und Anordnung sind lediglich beispielhaft zu verstehen.
So ist in 1 eine Eingangsblende 10 dargestellt, die die elektromagnetische Strahlung ausgehend von der Strahlungsquelle 8 zunächst durchtritt. Gegebenenfalls kann auf die Eingangsblende 10 aber auch verzichtet werden. Ferner können im Strahlengang auch noch weitere Blenden vorgesehen sein.
Im Strahlengang der Eingangsblende 10 nachfolgend kann ein planelliptischer oder elliptischer Spiegel 11 mit einer zur Reflexion der elektromagnetischen Strahlung geeigneten Beschichtung vorgesehen sein, wobei der Spiegel 11 vorzugsweise in eine oder in beiden Dimensionen zu fokussieren vermag.
Die Bestrahlungsbaugruppe 4 bzw. die optische Baugruppe 9 kann außerdem einen Monochromator 12 aufweisen, um die Wellenlänge der Messstrahlung 5 definiert zu verändern, vorzugsweise kontinuierlich während der Messung zu verändern. Dies ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn von der Strahlungsquelle 8 eine monochromatische elektromagnetische Strahlung erzeugt wird.
Der Monochromator 12 kann beispielsweise ein Reflexionsgitter mit einem Gitterträger mit konkaver kreiszylindrischer Oberfläche aufweisen. Die Oberfläche kann vorzugsweise in einer Richtung eben und in einer dazu im Wesentlichen orthogonalen Richtung in Form eines Kreisbogens verlaufen. An den Gitterträgern können Gitterlinien mit einer konstanten Liniendichte vorgesehen sein. Bei einer Beugung der elektromagnetischen Strahlung kann schließlich eine Fokussierung entlang einer Brennlinie erfolgen, welche parallel zur ebenen Richtung bzw. zur Zylinderachse des Reflexionsgitters ausgerichtet ist. Alternativ kann auch ein Plangitter mit entsprechend gekrümmten Gitterlinien verwendet werden. Das Reflexionsgitter vermag die Messstrahlung wellenlängenabhängig derart zu beugen, dass im Strahlengang nachfolgend ein Zwischenfokus entsteht, in dem optional ein Austrittsspalt angeordnet werden kann, der nur einen sehr kleinen definierten Wellenlängenbereich der elektromagnetischen Strahlung passieren lässt. Insofern die Spaltbreite des Austrittsspalts einstellbar ist, können Messfleckgröße auf der Prüffläche 2 und spektrale Auflösung vorteilhaft einstellbar sein.
Schließlich weist die Bestrahlungsbaugruppe 4 bzw. die optische Baugruppe 9 außerdem einen Strahlteiler 13 auf, der eingerichtet ist, um die von der Strahlungsquelle 8 erzeugte elektromagnetische Strahlung in die Messstrahlung 5 und in eine Referenzstrahlung 14 aufzuteilen. Im Strahlengang der Referenzstrahlung 14 ist schließlich ein Referenzdetektor 15 angeordnet. Auf diese Weise kann, gegebenenfalls nach einer entsprechenden Kalibrierung und bei Kenntnis des Teilerverhältnisses des Strahlteilers 13, auch eine Messung von Absolutwerten möglich sein.
Schließlich weist die Bestrahlungsbaugruppe 4 außerdem eine Halteeinrichtung 16 auf, an der der Prüfgegenstand 3 für die Messung befestigt ist. Vorzugsweise sind der Prüfgegenstand 3 und/oder die Halteeinrichtung 16 im Rahmen der Messung definiert ausrichtbar, rotierbar und/oder positionierbar.
Es kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe 4 eingerichtet ist, um den Strahlengang der Messstrahlung 5 kontinuierlich zu verändern, um eine Einfallspose PO (vgl. insbesondere 2) der Messstrahlung 5 auf der Prüffläche 2 während der Messung zu verändern, wobei der Detektor 6 und der Referenzdetektor 15 eingerichtet sind, um die reflektierte Strahlung 7 bzw. die Referenzstrahlung 14 währenddessen zu erfassen, vorzugsweise kontinuierlich zu erfassen. „Einfallspose“ wird vorliegend definiert durch eine eingestellte oder einstellbare Einfallsposition und/oder einen eingestellten oder einstellbaren Einfallswinkel der Messstrahlung 5 auf der Prüffläche 2. Die Einfallspose kann alternativ auch als Einfallsparameterraum bezeichnet werden, wobei die Parameter des Einfallsparameterraumes die einstellbare oder veränderbare Einfallsposition und/oder der einstellbare oder veränderbare Einfallswinkel ist/sind. Die Einfallsposition ist die Position der Messtrahlung 5 bezogen auf eine zweidimensionale Oberflächenebene (beispielsweise die x-y-Ebene, wie in 3 dargestellt) der Prüffläche 2. Der Einfallswinkel ist der Winkel der Messstrahlung 5 bezogen auf eine Oberflächennormale der Oberflächenebene der Prüffläche 2 (die Oberflächennormale ist in 2 dargestellt).
Zur Veränderung des Strahlengangs der Messstrahlung 5 beziehungsweise zur Veränderung der Einfallspose, also der Einfallsposition und/oder des Einfallswinkels der Messtrahlung auf der Prüffläche 2, kann beispielsweise die Bestrahlungsbaugruppe 4, insbesondere zumindest eine der optischen Einheiten der optischen Baugruppe 9, beispielsweise der planelliptische Spiegel 11, wenigstens ein aktorisches Mittel aufweisen (nicht dargestellt). Das aktorische Mittel gewährleistet beispielsweise eine Positionsänderung und/oder eine Verkippung der zumindest einen optischen Einheit der optischen Baugruppe 9, beispielsweise des planelliptischen Spiegels 11. „Positionsänderung“ bedeutet eine Bewegung entlang zumindest einer der drei Raumrichtungen, in einem kartesischen Koordinatensystem also einer Bewegung entlang der x-, y- und/oder z-Richtung. „Verkippung“ bedeutet eine Rotation des Reflexionselements um zumindest eine vorgebbare Rotationsachse, wobei die Rotationsachse entlang der x-, y- und/oder z-Richtung ausgerichtet ist oder sein kann. Optional weist die optische Baugruppe 9 mehrere optische Einheiten beziehungsweise Elemente auf, insbesondere Spiegel, wobei zumindest eine, insbesondere jede der optischen Einheiten, ein aktorisches Mittel aufweist. Alternativ oder zusätzlich zur Veränderung der Einfallspose mittels Ansteuerung der optischen Baugruppe 9 durch aktorische Mittel kann zur Veränderung des Strahlengangs der Messstrahlung 5 beziehungsweise zur Veränderung der Einfallspose, also der Einfallsposition und/oder des Einfallswinkels der Messstrahlung 5 auf der Prüffläche 2, der Prüfgegenstand 3 mittels der Halteeinrichtung 16 oder in der Halteeinrichtung 16 definiert ausgerichtet, rotiert und/oder positioniert werden. Eine Ausrichtung, Rotation und/oder Positionierung erfolgt vorzugsweise durch eine entsprechende Ansteuerung von mit der Halteeinrichtung 16 wirkverbundenen Aktoren beziehungsweise aktorischen Mitteln.
Der Detektor 6 und/oder der Referenzdetektor 15 können eine Aktuatoreinheit aufweisen, um den Detektor 6 der reflektierten Strahlung 7 bzw. um den Referenzdetektor 15 der Referenzstrahlung 14 bedarfsweise nachzuführen. Insbesondere kann die Nachführung synchronisiert zu der während der Messung variierenden Einfallspose PO der Messstrahlung 5 erfolgen.
Insbesondere kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe 4 eingerichtet ist, den Strahlengang der Messstrahlung 5 zu verändern, um die Messstrahlung 5 bzw. deren Einfallsposition Pxy entlang eines ersten Translationsfreiheitsgrads x und entlang eines zweiten Translationsfreiheitsgrads y während der Messung über die Prüffläche 2 zu führen. Dies kann insbesondere entlang einer definierten Trajektorie 17 kontinuierlich während der Messung erfolgen. Beispielhaft zeigen die 3 und 4 zwei mögliche Trajektorien 17. 3 zeigt eine spiralförmige Trajektorie 17 und 4 eine oszillierende Trajektorie 17. Grundsätzlich kann allerdings auch eine ungeordnete Trajektorie 17 oder eine sonstige Trajektorie 17 vorgesehen sein.
Die Bestrahlungsbaugruppe 4 kann außerdem eingerichtet sein, den Strahlengang der Messstrahlung 5 derart zu verändern, dass der Einfallswinkel α der Messstrahlung 5 auf der Prüffläche 2 während der Messung variiert wird, vorzugsweise kontinuierlich variiert wird.
Die Messvorrichtung 1 kann vorzugsweise eine Steuereinrichtung 18 aufweisen, die zur Verarbeitung von mittels des Detektors 6 und/oder des Referenzdetektors 15 erfassten Messdaten eingerichtet ist. Die Steuereinrichtung 18 ist schematisch und beispielhaft in 1 angedeutet.
Die Steuereinrichtung 18 kann insbesondere eingerichtet sein, um anhand der Messdaten ein Systemmodell bzw. Funktionsmodell f(x,y,α,λ) zur näherungsweisen Angabe der Reflexionseigenschaften der Prüffläche 2 des Prüfgegenstands 3 in Abhängigkeit einer Einfallspose PO einer elektromagnetischen Strahlung und/oder einer Wellenlänge λ einer elektromagnetischen Strahlung zu bestimmen. Die Steuereinrichtung 18 kann insbesondere auch eingerichtet sein, um das erfindungsgemäße Messverfahren durchzuführen und beispielsweise den Strahlengang der Messstrahlung 5 durch die Ansteuerung der aktorischen Mittel der Bestrahlungsbaugruppe 4 zu steuern, die Wellenlänge λ der Messstrahlung 5 zu verändern, den Detektor 6 und/oder den Referenzdetektor 15 durch Ansteuern deren Aktuatoreinheiten der Einfallspose PO nachzuführen, etc.
Anhand des von der Steuereinrichtung 18 bestimmten Systemmodells kann schließlich beispielsweise eine Prozessführung während einer Halbleiterlithografie erfolgen. Das Systemmodell kann außerdem zur Qualitätssicherung und/oder Dokumentation im Rahmen der Fertigung des Prüfgegenstands 3, beispielsweise des optischen Elements, herangezogen werden.
Der Detektor 6 und/oder der Referenzdetektor 15 können eine Fotodiode aufweisen, um die Intensität der reflektierten Strahlung 7 bzw. der Referenzstrahlung 14 zu erfassen. Vorzugsweise sind der Detektor 6 und/oder der Referenzdetektor 15 allerdings in der Art einer Kamera ausgebildet und weisen eine Sensorfläche 19 mit mehreren Bildpunkten 20 auf, um die Messstrahlung 5 zu erfassen, wie dies ist in 5 angedeutet ist.
Anhand der charakteristischen Helligkeitsverteilung 21 bzw. der Position des Helligkeitsmaximums der auf der Sensorfläche 19 abgebildeten, von der Prüffläche 2 reflektierten Strahlung 7 kann die Steuereinrichtung 18 beispielsweise Steuersignale an die Aktuatoreinheiten ausgeben, um den Detektor 6 und/oder den Referenzdetektor 15 der reflektierten Strahlung 7 bzw. der Referenzstrahlung 14 nachzuführen, vorzugsweise dergestalt, dass das Intensitätsmaximum der reflektierten Strahlung 7 bzw. der Referenzstrahlung 14 auf dem Detektor 6 bzw. Referenzdetektor 15 zentriert wird. Die Nachführung ist in 5 durch einen Pfeil angedeutet.
Ein besonderer Vorteil der Verwendung eines Detektors 6 bzw. Referenzdetektors 15 mit einer Sensorfläche 19 mit mehreren Bildpunkten 20 kann allerdings insbesondere die Möglichkeit der Bestimmung des Einfallswinkels α der Messstrahlung 5 auf der Prüffläche 2 sein, wenn Strahlengang und/oder Einfallsposition Pxy der Messstrahlung 5 auf der Prüffläche 2 bekannt sind. Somit kann auf Grundlage der Helligkeitsverteilung 21 auf der Sensorfläche 19 auf den Einfallswinkel α zurückgeschlossen werden. Auf diese Weise kann es im Rahmen der Messung bereits ausreichend sein, nur die Einfallsposition Pxy der Messstrahlung 5 zu variieren. Eine zusätzliche Veränderung des Einfallswinkels α erfolgt vorzugsweise automatisch aufgrund des Oberflächenverlaufs der Prüffläche 2.
Analog kann auch nur der Einfallswinkel α verändert werden, während die Einfallsposition Pxy konstant gehalten wird. Auch eine Kombination aus beiden Versionen ist natürlich möglich.
Gemäß einer zweiten Variante der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Bestrahlungsbaugruppe 4 eingerichtet ist, um eine polychromatische Messstrahlung 5 bereitzustellen. Der Detektor 6 kann dann einen Spektrografen 22 aufweisen (beispielhaft in 6 dargestellt), um die Reflexionseigenschaften der Prüffläche 2 für mehrere Wellenlängen λ₁, λ₂, λ₃ simultan zu erfassen. Der Spektrograf 22 bzw. der Spektralanalysator umfasst vorzugsweise ein Gitter 23 und eine Zeilenkamera 24. Durch das Gitter 23 kann die einfallende, breitbandige Messstrahlung 5 in einzelne Wellenlängen λ₁, λ₂, λ₃ aufgespaltet werden, wie in 6 angedeutet. Schließlich kann sich eine Intensitätsverteilung ergeben, wie in den 7 und 8 beispielhaft wiedergegeben.
Auch eine Kombination einer kontinuierlichen Veränderung des Strahlengangs mit einer polychromatischen Messstrahlung 5 kann vorgesehen sein, um die Messdauer weiter zu reduzieren. In diesem Fall kann allerdings die Nachführung des Detektors 6 bzw. Referenzdetektors 15, wie in 5 für den Fall einer monochromatischen Messstrahlung 5 dargestellt, erschwert sein. Der „Messfleck“ kann in diesem Fall nicht mehr ohne weiteres zentral auf der Sensorfläche 19 gehalten werden, da dieser durch das Gitter 23 im Spektrografen 22 in einer Dimension nicht mehr begrenzt ist. Der Messfleck verschmiert somit in dieser Dimension.
Eine Verbesserung kann ein Spektralfilter im Strahlengang sein, wodurch der Messfleck nach der entsprechenden Beugung wieder begrenzt ist. Beispielsweise können Absorptionskanten ausgenutzt werden oder ein Gitter bereitgestellt werden, wonach eine Blende folgt und die Strahlen wieder zusammengeführt werden.
Eine einfachere Möglichkeit zur Kalibrierung der Wellenlängenrichtung bzw. Dispersionsrichtung des Gitters kann allerdings durch einen Abgleich mit den charakteristischen Spektrallinien der Strahlungsquelle 8 erfolgen. Beispielsweise kann die Steuereinrichtung 18 eingerichtet sein, um die charakteristischen Emissionslinien in der polychromatischen Messstrahlung 5 der Bestrahlungsbaugruppe 4 bei der Auswertung der Messdaten und/oder bei der Nachführung des Detektors 6 bzw. des Referenzdetektors 15 entsprechend zu berücksichtigen. Die Emissionslinien der Strahlungsquelle 8 sind gefaltet mit der Reflexionskurve des Prüfgegenstands 3 in dem Referenzsignal enthalten. Durch eine Korrelationsfunktion können die Wellenlängenkanäle bzw. die Peaks entsprechend zugeordnet werden. Auf diese Weise kann auch entlang der Wellenlängenrichtung eine Nachführung des Detektors 6 bzw. des Referenzdetektors 15 möglich sein, beispielsweise durch einen entsprechenden Regelkreis. Hierbei kann ausgenutzt werden, dass die Reflexionskurve des Prüfgegenstands 3 niederfrequentere Peaks enthält als die vergleichsweise hochfrequenten Peaks der Strahlungsquelle 8.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

DE 102018205163 A1 [0008]

Claims

Messvorrichtung (1) zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Prüffläche (2) eines Prüfgegenstands (3), aufweisend eine Bestrahlungsbaugruppe (4) zur Bereitstellung einer auf die Prüffläche (2) ausgerichteten elektromagnetischen Messstrahlung (5) und einen Detektor (6) zur Erfassung einer von der Prüffläche (2) reflektierten Strahlung (7), wobei die Bestrahlungsbaugruppe (4) eingerichtet ist, um eine Einfallspose (PO) der Messstrahlung (5) auf der Prüffläche (2) im Rahmen der Messung zu verändern, und wobei a) die Bestrahlungsbaugruppe (4) eingerichtet ist, um die Einfallspose (PO) während der Messung kontinuierlich zu verändern, wobei der Detektor (6) eingerichtet ist, um die reflektierte Strahlung (7) währenddessen zu erfassen; und/oder b) die Bestrahlungsbaugruppe (4) eingerichtet ist, um eine polychromatische Messstrahlung (5) bereitzustellen, wobei der Detektor (6) einen Spektrografen (22) aufweist, um die Reflexionseigenschaften der Prüffläche (2) für mehrere Wellenlängen (λ₁, λ₂, λ₃) simultan zu erfassen.
Messvorrichtung (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlungsbaugruppe (4) eine Strahlungsquelle (8) aufweist, vorzugsweise eine Plasmastrahlungsquelle zur Erzeugung der Messstrahlung (5) im extremen ultravioletten Spektralbereich.
Messvorrichtung (1) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlungsbaugruppe (4) eine im Strahlengang der Messstrahlung (5) zwischen der Strahlungsquelle (8) und der Prüffläche (2) angeordnete optische Baugruppe (9) aufweist, die eingerichtet ist, um den Strahlengang der Messstrahlung (5) zu verändern und/oder um die elektromagnetischen Eigenschaften der Messstrahlung (5) zu verändern.
Messvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlungsbaugruppe (4) eine Halteeinrichtung (16) aufweist, an der der Prüfgegenstand (3) für die Messung befestigbar ist, vorzugsweise definiert ausrichtbar, rotierbar und/oder positionierbar.
Messvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlungsbaugruppe (4) wenigstens ein aktorisches Mittel aufweist das eingerichtet ist, um den Strahlengang der Messstrahlung (5) zu verändern.
Messvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlungsbaugruppe (4) eingerichtet ist, den Strahlengang der Messstrahlung (5) zu verändern, um die Messstrahlung (5) entlang eines ersten Translationsfreiheitsgrades (x) und/oder entlang eines zweiten Translationsfreiheitsgrades (y) während der Messung über die Prüffläche (2) zu führen.
Messvorrichtung (1) nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlungsbaugruppe (4) eingerichtet ist, die Messstrahlung (5) in dem ersten Translationsfreiheitsgrad (x) und in dem zweiten Translationsfreiheitsgrad (y) entlang einer definierten Trajektorie (17) kontinuierlich über die Prüffläche (2) zu führen.
Messvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlungsbaugruppe (4) eingerichtet ist, den Strahlengang der Messstrahlung (5) zu verändern, um einen Einfallswinkel (a) der Messstrahlung (5) auf der Prüffläche (2) während der Messung kontinuierlich zu variieren.
Messvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlungsbaugruppe (4) eingerichtet ist, um die Wellenlänge (λ) der Messstrahlung (5) zu verändern, vorzugsweise kontinuierlich während der Messung zu verändern.
Messvorrichtung (1) nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlungsbaugruppe (4) einen Monochromator (12) aufweist, um die Wellenlänge (λ) der Messstrahlung (5) zu verändern.
Messvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 2 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlungsbaugruppe (4) einen Strahlteiler (13) aufweist der eingerichtet ist, um die von der Strahlungsquelle (8) erzeugte elektromagnetische Strahlung in die Messstrahlung (5) und in eine Referenzstrahlung (14) aufzuteilen, wobei ein Referenzdetektor (15) im Strahlengang der Referenzstrahlung (14) angeordnet ist.
Messvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass der Detektor (6) und/oder der Referenzdetektor (15) eine Aktuatoreinheit aufweist, um den Detektor (6) der Messstrahlung (5) bzw. um den Referenzdetektor (15) der Referenzstrahlung (14) bedarfsweise nachzuführen.
Messvorrichtung (1) nach Anspruch 5 und 12, dadurch gekennzeichnet, dass das wenigstens eine aktorische Mittel und die Aktuatoreinheit eingerichtet sind, um den Detektor (6) und/oder den Referenzdetektor (15) synchronisiert zur der während der Messung variierten Einfallspose (PO) der Messstrahlung (5) zu bewegen.
Messvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass der Detektor (6) und/oder der Referenzdetektor (15) eine Sensorfläche (19) mit mehreren Bildpunkten (20) aufweist, um die Messstrahlung (5) zu erfassen.
Messvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 14, gekennzeichnet durch eine Steuereinrichtung (18), die zur Verarbeitung von mittels des Detektors (6) erfassten Messdaten eingerichtet ist.
Messvorrichtung (1) nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinrichtung (18) eingerichtet ist, um anhand der Messdaten ein Systemmodell (f(x,y,α,λ,)) zur näherungsweisen Ausgabe der Reflexionseigenschaften der Prüffläche (2) des Prüfgegenstands (3) in Abhängigkeit einer Einfallspose (PO) einer elektromagnetischen Strahlung und/oder einer Wellenlänge einer elektromagnetischen Strahlung zu bestimmen.
Messvorrichtung (1) nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinrichtung (18) zur Bereitstellung von Steuersignalen eingerichtet ist, um den Detektor (6) und/oder den Referenzdetektor (15) der reflektierten Strahlung (7) bzw. der Referenzstrahlung (14) nachzuführen, vorzugsweise dergestalt, dass das Intensitätsmaximum auf den Detektor (6) bzw. Referenzdetektor (15) zentriert wird.
Messvorrichtung (1) nach Anspruch 14 und einem der Ansprüche 15 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinrichtung (18) eingerichtet ist, um auf Grundlage einer Helligkeitsverteilung (21) auf der Sensorfläche (19) den Einfallswinkel (a) der Messstrahlung (5) auf der Prüffläche (2) zu bestimmen.
Messvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 15 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinrichtung (18) eingerichtet ist, um die charakteristischen Emissionslinien in der polychromatischen Messstrahlung (5) der Bestrahlungsbaugruppe (4) bei der Auswertung der Messdaten und/oder bei der Nachführung des Detektors (6) bzw. des Referenzdetektors (15) zu berücksichtigen.
Messvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei der Prüffläche (2) um eine optisch aktive Oberfläche eines optischen Elements handelt, vorzugsweise um eine Spiegelfläche eines Spiegels.
Messverfahren zur Messung von Reflexionseigenschaften einer Prüffläche (2) eines Prüfgegenstands (3), wobei eine elektromagnetische Messstrahlung (5) auf die Prüffläche (2) ausgerichtet und eine von der Prüffläche (2) reflektierte Strahlung (7) erfasst wird, wobei eine Einfallspose (PO) der Messstrahlung (5) auf der Prüffläche (2) im Rahmen der Messung beeinflusst wird, und wobei a) die Einfallspose (PO) während der Messung kontinuierlich verändert wird, während die reflektierte Strahlung (7) erfasst wird; und/oder b) eine polychromatische Messstrahlung (5) verwendet wird, wobei die Reflexionseigenschaften der Prüffläche (2) für mehrere Wellenlängen (λ₁, λ₂, λ₃) simultan erfasst werden.
Verwendung einer Messvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 20 zur Messung von Reflexionseigenschaften eines optischen Elements einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie, insbesondere zur Prozessführung während der Halbleiterlithografie und/oder zur Qualitätssicherung im Rahmen der Fertigung des optischen Elements.