DE102022201411A1 - Process for manufacturing an electronic circuit by selective diffusion soldering using directed diffusion - Google Patents
Process for manufacturing an electronic circuit by selective diffusion soldering using directed diffusion Download PDFInfo
- Publication number
- DE102022201411A1 DE102022201411A1 DE102022201411.1A DE102022201411A DE102022201411A1 DE 102022201411 A1 DE102022201411 A1 DE 102022201411A1 DE 102022201411 A DE102022201411 A DE 102022201411A DE 102022201411 A1 DE102022201411 A1 DE 102022201411A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- solder
- contact element
- circuit board
- printed circuit
- depot
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 10
- 238000005476 soldering Methods 0.000 title description 9
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims abstract description 86
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 16
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 5
- VRUVRQYVUDCDMT-UHFFFAOYSA-N [Sn].[Ni].[Cu] Chemical compound [Sn].[Ni].[Cu] VRUVRQYVUDCDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 229910017482 Cu 6 Sn 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/341—Surface mounted components
- H05K3/3421—Leaded components
- H05K3/3426—Leaded components characterised by the leads
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0201—Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
- H05K1/0212—Printed circuits or mounted components having integral heating means
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/11—Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
- H05K2203/1194—Thermal treatment leading to a different chemical state of a material, e.g. annealing for stress-relief, aging
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3494—Heating methods for reflowing of solder
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
Ein Verfahren (100) zum Herstellen einer elektronischen Schaltung umfasst ein Bereitstellen (105) einer Leiterplatte mit einer Kontaktfläche, eines Bauteils mit einem Kontaktelement und eines Lotdepots zum Herstellen einer Lötverbindung zwischen der Kontaktfläche und dem Kontaktelement, sowie ein Anordnen (110) des Lotdepots und des Kontaktelements auf der Kontaktfläche, wobei das Lotdepot zwischen der Kontaktfläche und dem Kontaktelement angeordnet wird, und ein Bewirken (115) einer gerichteten Diffusion zwischen dem Lotdepot und dem Kontaktelement, um das Kontaktelement mit der Leiterplatte zu verbinden.A method (100) for producing an electronic circuit comprises providing (105) a printed circuit board with a contact surface, a component with a contact element and a solder depot for producing a soldered connection between the contact surface and the contact element, and arranging (110) the solder depot and of the contact element on the contact surface, wherein the solder deposit is arranged between the contact surface and the contact element, and effecting (115) a directed diffusion between the solder deposit and the contact element in order to connect the contact element to the circuit board.
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen einer elektronischen Schaltung und eine Schaltung.The present invention relates to a method of manufacturing an electronic circuit and a circuit.
Zur Fertigung elektronischer Systeme sind oft nachträgliche Verbindungen zur bestückten und gelöteten Leiterplatte (PCB) zu realisieren, um zum Beispiel Sensoren oder Leistungsbauelemente anzusteuern. Die Temperaturbeständigkeit der Leiterplatte und der Lötverbindung bestimmt dabei bei gelöteten Schnittstellen die Gesamtbeständigkeit der Verbindung.For the production of electronic systems, subsequent connections to the assembled and soldered printed circuit board (PCB) often have to be implemented in order to control sensors or power components, for example. In the case of soldered interfaces, the temperature resistance of the printed circuit board and the soldered connection determines the overall resistance of the connection.
Vor diesem Hintergrund schafft die vorliegende Erfindung ein verbessertes Verfahren zum Herstellen einer elektronischen Schaltung und eine verbesserte Schaltung gemäß den Hauptansprüchen. Vorteilhafte Ausgestaltungen ergeben sich aus den Unteransprüchen und der nachfolgenden Beschreibung.Against this background the present invention provides an improved method for manufacturing an electronic circuit and an improved circuit according to the independent claims. Advantageous configurations result from the dependent claims and the following description.
Mit dem hier beschriebenen Verfahren können hochtemperaturfeste Verbindungen in einer elektronischen Schaltung hergestellt werden, ohne bereits geschaffene Lötstellen zu beeinflussen. Dadurch können Lebensdauer und Zuverlässigkeit der Schaltung optimiert werden.With the method described here, high-temperature-resistant connections can be made in an electronic circuit without affecting soldering points that have already been created. This allows the service life and reliability of the circuit to be optimized.
Es wird ein Verfahren zum Herstellen einer elektronischen Schaltung vorgestellt, wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst:
- Bereitstellen einer Leiterplatte mit einer Kontaktfläche, eines Bauteils mit einem Kontaktelement und eines Lotdepots zum Herstellen einer Lötverbindung zwischen der Kontaktfläche und dem Kontaktelement,
- Anordnen des Lotdepots und des Kontaktelements auf der Kontaktfläche, wobei das Lotdepot zwischen der Kontaktfläche und dem Kontaktelement angeordnet wird, und Bewirken einer intermetallischen Phasenverbindung mittels gerichteter Diffusion zwischen dem Lotdepot und dem Kontaktelement, um das Kontaktelement mit der Leiterplatte zu verbinden.
- Providing a printed circuit board with a contact surface, a component with a contact element and a solder depot for producing a soldered connection between the contact surface and the contact element,
- arranging the solder deposit and the contact element on the contact surface, the solder deposit being arranged between the contact surface and the contact element, and effecting an intermetallic phase connection by means of directed diffusion between the solder deposit and the contact element in order to connect the contact element to the circuit board.
Beispielsweise kann die bereitgestellte Leiterplatte ein Netz aus signalübertragungsfähigen, beispielsweise aus Kupfer ausgebildeten, Leiterbahnen umfassen und bereits mit einer Mehrzahl an elektronischen Elementen bestückt sein. Dabei kann die Kontaktfläche, oder auch mehrere ähnliche Kontaktflächen, ausgebildet sein, um nachträglich zu einer solchen Bestückung ein zusätzliches Bauteil aufzunehmen und mittels einer Lötverbindung damit verbunden zu werden. Dabei kann für die Lötverbindung beispielsweise ein Sn-Basislot eingesetzt werden. Der niedrige Schmelzpunkt und damit verbunden die relativ hohe Kriechneigung von Sn-Basisloten lässt kaum Toleranzausgleich und mechanische Beanspruchung zu, weil dies die Langlebigkeit der Verbindung negativ beeinflussen würde. Nicht gelötete Lösungen, wie zum Beispiel eine Einpresstechnik, erfordern zumeist eine spezielle Geometrie von Anschlusspins erfordern, welche bei Standardbauelementen zumeist nicht realisiert ist. Durch die Schaffung einer Diffusionslötung mittels gerichteter Diffusion wird mit dem hier vorgestellten Verfahren eine hochtemperaturfeste Verbindung geschaffen, welche mechanisch stabiler als eine konventionelle Lötverbindung ist. Zudem kann eine thermische Überlastung der Leiterplatte während des Herstellungsprozesses vermieden werden, ebenso wie ein wieder Aufschmelzen bereits geschaffene Lötstellen. Damit kann die Lebensdauer und Zuverlässigkeit der gesamten Schaltung optimiert werden. Dies gilt insbesondere für eventuell bereits getätigte Vakuumlötungen gelten, wie zum Beispiel bei Leistungsmodulen auf Kühlkörpern.For example, the printed circuit board provided can comprise a network of signal-transmitting conductor tracks, for example made of copper, and already be equipped with a plurality of electronic elements. In this case, the contact surface, or also several similar contact surfaces, can be designed in order to receive an additional component subsequently to such an assembly and to be connected to it by means of a soldered connection. In this case, for example, an Sn base solder can be used for the soldered connection. The low melting point and the associated relatively high tendency to creep of Sn-based solders hardly allows any tolerance compensation and mechanical stress, because this would have a negative impact on the longevity of the connection. Solutions that are not soldered, such as press-in technology, usually require a special geometry of connection pins, which is usually not implemented with standard components. By creating a diffusion soldering by means of directed diffusion, a high-temperature-resistant connection is created with the method presented here, which is mechanically more stable than a conventional soldered connection. In addition, a thermal overload of the printed circuit board during the manufacturing process can be avoided, as well as a re-melting of solder joints that have already been created. The service life and reliability of the entire circuit can thus be optimized. This applies in particular to any vacuum soldering that may have already been carried out, such as with power modules on heat sinks.
Gemäß einer Ausführungsform kann im Schritt des Bewirkens die gerichtete Diffusion mittels lokalen einseitigen Erhitzens des Lotdepots seitens des Kontaktelements bewirkt werden. Somit kann das Lotdepot durch das Kontaktelement hindurch erhitzt werden. Beispielsweise kann die Verbindung zwischen der Kontaktfläche der Leiterplatter und dem Kontaktelement des Bauteils mittels gerichteter Diffusion durch einen lokal eng begrenzten einseitigen Wärmeeintrag realisiert werden. Durch die sehr lokale Wärmeeinbringung kann vorteilhafterweise die Beeinflussung realisierter Aufbau- und Verbindungstechnik vermindert werden.According to one embodiment, in the effecting step, the directed diffusion can be effected by means of local one-sided heating of the solder depot on the part of the contact element. The solder depot can thus be heated through the contact element. For example, the connection between the contact surface of the printed circuit board and the contact element of the component can be realized by means of directed diffusion through a locally narrowly limited one-sided heat input. Due to the very local introduction of heat, the effect on the construction and connection technology that has been implemented can advantageously be reduced.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann im Schritt des Bewirkens das Lotdepot in eine intermetallische Phase überführt werden. Beispielsweise kann ein Sn-Basislotdepot in eine KupferNickelZinn-intermetallische Phase überführt werden. Hierzu kann der Wärmeeintrag zum Beispiel einseitig von der Seite des Bauteils mit dem Kontaktelement erfolgen, wobei diese Seite auch als Anschlusspinoberseite bezeichnet werden kann. Dadurch kann sich eine gerichtete Diffusion einstellen und die intermetallische Phase wächst von der kalten zur warmen Seite des Lotdepots hin. Die intermetallische Verbindung weist vorteilhafterweise einen höheren Schmelzpunkt auf als das Basislotdepot. Beispielsweise kann der Schmelzpunkt der intermetallischen Phase größer als 400°C sein. Auch ist die Kriechneigung dieser Mischbindung gegenüber einer reinen Metallbindung deutlich geringer, was vorteilhafterweise die mechanische Stabilität erhöhen kann.According to a further embodiment, the solder depot can be converted into an intermetallic phase in the effecting step. For example, a Sn base solder depot can be converted into a copper-nickel-tin intermetallic phase. For this purpose, the heat can be introduced, for example, on one side from the side of the component with the contact element, and this side can also be referred to as the top side of the connection pin. As a result, a directed diffusion can set in and the intermetallic phase grows from the cold to the warm side of the solder depot. The intermetallic compound advantageously has a higher melting point than the base solder depot. For example, the melting point of the intermetallic phase can be greater than 400°C. The tendency of this mixed bond to creep is also significantly lower compared to a pure metal bond, which can advantageously increase the mechanical stability.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann im Schritt des Bewirkens eine Hochstromverbindung zwischen der Leiterplatte und dem Bauteil hergestellt werden. Beispielsweise kann mittels der lokalen Diffusionslötung eine hochtemperaturfeste Verbindung mit einem Schmelzpunkt von über 400°C und nur geringer Kriechneigung hergestellt werden. Vorteilhafterweise kann durch die Herstellung einer hochtemperaturfesten Verbindung eine Hochstromschnittstelle ermöglicht werden. Somit können auch Leistungsbauelemente mechanisch und elektrisch leitfähig kontaktiert werden. Beispielsweise kann die hochtemperaturfeste Verbindung zur Durchleitung von Strömen von mehr als 1 A geeignet sein.According to a further embodiment, a high-current connection can be established between the printed circuit board and the component in the effecting step. For example, using the local diffusion soldering, a high-temperature-resistant connection with a melting point of over 400°C and only a low tendency to creep can be produced. Advantageously, a high-current interface can be made possible by producing a high-temperature-resistant connection. This means that power components can also be contacted in a mechanically and electrically conductive manner. For example, the high-temperature-resistant connection can be suitable for conducting currents of more than 1 A.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann im Schritt des Bereitstellens das Bauteil als Sensor oder Leistungsbauelement ausgebildet sein. Beispielsweise kann die Leiterplatte mittels der Diffusionslötung mit einem Sensor, einem Transistor oder einem IGBT-Modul verbunden werden. Vorteilhafterweise kann durch die Diffusionslötung eine hochtemperaturfeste Verbindung zwischen der Leiterplatte und einem solchen Bauelement hergestellt werden. Die Verbindung kann zudem mechanisch belastbarer als eine Lötverbindung sein, um auch dauerhaft einen gewissen Toleranzausgleich und mechanische Entkopplung zu ermöglichen.According to a further embodiment, the component can be designed as a sensor or power component in the step of providing. For example, the printed circuit board can be connected to a sensor, a transistor or an IGBT module by means of diffusion soldering. Advantageously, a high-temperature-resistant connection between the printed circuit board and such a component can be produced by the diffusion soldering. The connection can also be mechanically more resilient than a soldered connection, in order to allow a certain degree of tolerance compensation and mechanical decoupling over the long term.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform können im Schritt des Bewirkens Kontakte einer Widerstandsheizung an das Kontaktelement angelegt werden, um einen Stromfluss durch das Kontaktelement zu bewirken. Der Wärmeeintrag kann durch die Widerstandsbeheizung vorteilhafterweise lokal konzentriert erfolgen und gut steuerbar sein.According to a further embodiment, contacts of a resistance heater can be applied to the contact element in the step of bringing about a current flow through the contact element. The heat input can advantageously be locally concentrated due to the resistance heating and be easily controllable.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann im Schritt des Bewirkens eine Wärmezufuhr in einem Zeitraum von wenigen Millisekunden stattfinden. Beispielsweise kann das Lotdepot für eine geringe Zeitspanne erhitzt werden, um eine gerichtete Diffusion zu bewirken. Wenn das Lotdepot nur lokal begrenzt und nur im Millisekundenbereich beheizt wird, kann vorteilhafterweise eine thermische Interaktion mit der Leiterplatte sowie eine damit verbundene thermische Schädigung der Leiterplatte vermieden werden.According to a further embodiment, heat can be supplied in a period of a few milliseconds in the effecting step. For example, the solder deposit can be heated for a short period of time to cause directional diffusion. If the solder depot is only locally limited and only heated in the millisecond range, thermal interaction with the printed circuit board and thermal damage to the printed circuit board associated therewith can advantageously be avoided.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann im Schritt des Bewirkens eine Wärmezufuhr über Mehrstufenimpulse gesteuert werden. Beispielsweise können Mehrstufenimpulse eingesetzt werden, sofern eine einmalige Heizung zur Schaffung der Verbindung nicht ausreicht. In einem solchen Fall kann eine geeignete Wärmezufuhr über Mehrstufenimpulse gesteuert werden und somit die Diffusionslotverbindung realisiert werden. Vorteilhafterweise kann bei einer Verwendung von Mehrstufenimpulsen eine thermische Überlastung der Leiterplatte vermieden werden.According to a further embodiment, in the effecting step, a supply of heat can be controlled via multi-stage pulses. For example, multi-level impulses can be used if a single heating is not sufficient to create the connection. In such a case, a suitable supply of heat can be controlled via multi-stage pulses and the diffusion solder connection can thus be implemented. Advantageously, thermal overloading of the printed circuit board can be avoided when using multi-level pulses.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann im Schritt des Anordnens das Lotdepot auf die Leiterplatte aufgedruckt werden. Das Lotdepot kann zum Beispiel vor dem Schritt des Bereitstellens im Zuge der Bestückung der Leiterplatte bereits aufgedruckt worden sein. Das hat den Vorteil, dass das Lotdepot materialschonend und kostengünstig aufgebracht werden kann.According to a further embodiment, the solder depot can be printed onto the printed circuit board in the arranging step. The solder depot can, for example, have already been printed on before the step of providing in the course of the assembly of the printed circuit board. This has the advantage that the solder depot can be applied in a material-friendly and cost-effective manner.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann im Schritt des Anordnens das Lotdepot auf die Leiterplatte aufgebracht werden. Beispielsweise kann das Lotdepot nach dem Bestücken der Leiterplatte zum Beispiel durch dispensen oder jetten aufgebracht werden. Vorteilhafterweise kann das Lotdepot dadurch kostengünstig und stoffschlüssig mit der Leiterplatte verbunden werden.According to a further embodiment, the solder depot can be applied to the printed circuit board in the arranging step. For example, the solder depot can be applied by dispensing or jetting after the printed circuit board has been populated. Advantageously, the solder depot can be connected to the printed circuit board in a cost-effective and cohesive manner.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann im Schritt des Bereitstellens das Lotdepot als Lotpreform bereitgestellt werden. Beispielsweise kann für eine Mehrzahl gleicher Leiterplatten auch eine Mehrzahl entsprechender Lotpreformen bereitgestellt werden. Das hat den Vorteil, dass ein passendes Lotdepot kostengünstig hergestellt werden kann.According to a further embodiment, the solder depot can be provided as a solder preform in the providing step. For example, a plurality of corresponding solder preforms can also be provided for a plurality of identical printed circuit boards. This has the advantage that a suitable solder depot can be produced inexpensively.
Der Schritt des Bewirkens kann so ausgeführt werden, dass zumindest eine bereits bestehende Lotverbindung zwischen der Leiterplatte und einem weiteren elektronischen Element nicht erhitzt wird. Nicht erhitzt kann dabei bedeuteten, dass eine Temperatur der Lotverbindung sicher unterhalb eines Schmelzpunkts der Lotverbindung bleibt, sodass die Lotverbindung nicht wieder aufgeschmolzen wird.The effecting step can be carried out in such a way that at least one already existing solder connection between the printed circuit board and a further electronic element is not heated. In this case, not heated can mean that a temperature of the soldered joint remains safely below a melting point of the soldered joint, so that the soldered joint is not melted again.
Zudem wird eine Schaltung vorgestellt mit einer Leiterplatte mit einer Kontaktfläche, einem Bauteil mit einem Kontaktelement und einem Lotdepot zum Herstellen einer Lötverbindung zwischen der Kontaktfläche und dem Kontaktelement. Dabei ist das Lotdepot mittels lokalen einseitigen Erhitzens in eine intermetallische Phase überführbar. Beispielsweise kann es sich bei dem verwendeten Lotdepot um ein Sn-Basislot handeln, das mittels lokalen Erhitzens in eine KupferNickelZinn-intermetallische Phase überführbar sein kann. Vorteilhafterweise ist die hier vorgestellte Schaltung ausgebildet, um hochtemperaturfeste Verbindungen herzustellen, um Hochstromschnittstellen zu ermöglichen.In addition, a circuit is presented with a printed circuit board with a contact surface, a component with a contact element and a solder depot for producing a soldered connection between the contact surface and the contact element. The solder depot can be converted into an intermetallic phase by means of local one-sided heating. For example, the solder depot used can be an Sn base solder which can be converted into a copper-nickel-tin intermetallic phase by means of local heating. The circuit presented here is advantageously designed to produce high-temperature-resistant connections in order to enable high-current interfaces.
Gemäß einer Ausführungsform können die Leiterplatte und das Bauteil unter Verwendung des Lotdepots verbunden sein und das Lotdepot kann die intermetallische Phase aufweisen. Beispielsweise kann es sich bei der intermetallischen Phase um eine Verbindung von Kupfer, Nickel und Zinn handeln. Vorteilhafterweise ermöglicht die intermetallische Phase das Nutzen der Lötverbindung als Hochstromschnittstelle. Zudem kann die Verbindung eine höhere mechanische Belastbarkeit aufweisen als beispielsweise ein Sn-Basislot und kann dadurch einen dauerhaften Toleranzausgleich und eine mechanische Entkopplung ermöglichen, beziehungsweise die Kriechneigung gegenüber einem Sn-Basislot reduzieren.According to an embodiment, the circuit board and the component can be connected using the solder deposit and the solder deposit can have the intermetallic phase. For example, the intermetallic phase can be a compound of copper, nickel and tin. Advantageously, the intermetallic phase allows the solder joint to be used as a high current interface. In addition, the connection can have a higher mechanical load-bearing capacity than, for example, an Sn base solder and can thus enable permanent tolerance compensation and mechanical decoupling, or reduce the tendency to creep compared to an Sn base solder.
Die Erfindung wird anhand der beigefügten Zeichnungen beispielhaft näher erläutert. Es zeigen:
-
1 ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen einer elektronischen Schaltung gemäß einem Ausführungsbeispiel; -
2 eine schematische Querschnittsdarstellung eines Ausführungsbeispiels eines Lotdepots während einer gerichteten Diffusion; -
3 eine schematische Querschnittsdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer Schaltung; und -
4 eine schematische Querschnittsdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer Schaltung mit einem Lotdepot.
-
1 a flowchart of a method for producing an electronic circuit according to an embodiment; -
2 a schematic cross-sectional view of an embodiment of a solder depot during a directed diffusion; -
3 a schematic cross-sectional representation of an embodiment of a circuit; and -
4 a schematic cross-sectional view of an embodiment of a circuit with a solder depot.
In der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden für die in den verschiedenen Figuren dargestellten und ähnlich wirkenden Elemente gleiche oder ähnliche Bezugszeichen verwendet, wobei auf eine wiederholte Beschreibung dieser Elemente verzichtet wird.In the following description of preferred exemplary embodiments of the present invention, the same or similar reference symbols are used for the elements which are shown in the various figures and have a similar effect, with a repeated description of these elements being dispensed with.
Das Verfahren 100 umfasst einen Schritt 105 des Bereitstellens einer Leiterplatte mit einer Kontaktfläche, eines Bauteils mit einem Kontaktelement und eines Lotdepots zum Herstellen einer Lötverbindung zwischen der Kontaktfläche und dem Kontaktelement. In diesem Ausführungsbeispiel wird im Schritt 105 des Bereitstellens das Lotdepot lediglich beispielhaft als Lotpreform eines Sn-Basislots bereitgestellt.The
Auf den Schritt 105 des Bereitstellens folgt er Schritt 110 des Anordnens des Lotdepots und des Kontaktelements auf der Kontaktfläche, wobei das Lotdepot zwischen der Kontaktfläche und dem Kontaktelement angeordnet wird. Dabei wird lediglich beispielhaft das Lotdepot durch dispensen auf die Leiterplatte aufgebracht. In einem anderen Ausführungsbeispiel kann das Lotdepot auch auf die Leiterplatte aufgedruckt werden.Step 105 of providing is followed by
Das Verfahren 100 umfasst weiterhin einen Schritt 115 des Bewirkens einer gerichteten Diffusion zwischen dem Lotdepot und dem Kontaktelement, um das Kontaktelement mit der Leiterplatte zu verbinden.The
In diesem Ausführungsbeispiel wird hierfür das Sn-Basislotdepot seitens des Kontaktelements lokal erhitzt und in eine KupferNickelZinn-intermetallische Phase überführt. Die intermetallische Verbindung weist dann einen höheren Schmelzpunkt (>400°C) als das Basislotdepot auf. Dadurch wird lediglich beispielhaft eine Hochstromverbindung zwischen der Leiterplatte und dem Bauteil hergestellt. Auch ist die Kriechneigung dieser Mischbindung gegenüber einer reinen Metallbindung deutlich geringer, was die mechanische Stabilität erhöht. Der Wärmeeintrag erfolgt in diesem Ausführungsbeispiel einseitig von der Seite des Kontaktelements, die auch als Anschlusspinoberseite bezeichnet werden kann. Dadurch stellt sich eine gerichtete Diffusion ein und die intermetallische Phase wächst von der kalten zur warmen Seite hin.In this exemplary embodiment, the Sn base solder depot is locally heated by the contact element and converted into a copper-nickel-tin intermetallic phase. The intermetallic compound then has a higher melting point (>400°C) than the base solder depot. As a result, a high-current connection between the printed circuit board and the component is produced merely by way of example. The tendency of this mixed bond to creep is also significantly lower than that of a pure metal bond, which increases the mechanical stability. In this exemplary embodiment, the heat is introduced on one side from the side of the contact element that can also be referred to as the top side of the connection pin. This sets up a directed diffusion and the intermetallic phase grows from the cold to the warm side.
Mit anderen Worten wird durch die Schaffung einer Diffusionslötung mittels gerichteter Diffusion in einem Ausführungsbeispiel eine hochtemperaturfeste Verbindung für Hochstromanwendungen geschaffen, welche mechanisch stabiler als eine konventionelle Lötverbindung ist. Durch den lokalen einseitigen Wärmeeintrag ist die Beeinflussung bereits realisierter Aufbau- und Verbindungstechnik weitgehend ausgeschlossen.In other words, the creation of a diffusion soldering by means of directed diffusion in one exemplary embodiment creates a high-temperature-resistant connection for high-current applications, which is mechanically more stable than a conventional soldered connection. Due to the local, one-sided heat input, it is largely impossible to affect the assembly and connection technology that has already been implemented.
Gemäß einem Ausführungsbeispiel weist die Kontaktfläche 205 und/oder das Kontaktelement 210 neben Kupfer auch einen Anteil zumindest eines weiteren Elements, beispielsweise von Nickel auf. Dies ermöglicht die Bildung der intermetallische Phase 215 mit einer homogenen Verbindung der drei Metalle Kupfer, Zinn und Nickel.According to one exemplary embodiment, the
Gemäß einem Ausführungsbeispiel wird die Leiterplatte 310 erst mit dem Bauteil 315 bestückt, nachdem bereits zumindest ein weiteres der elektronischen Elemente 305 über zumindest eine geeignete Lotverbindung mit der Leiterplatte 310 verlötet wurde. Vorteilhafterweise wird eine solche Lotverbindung durch die Bildung der metallischen Phase zum Verbinden des Bauteils 315 mit der Leiterplatte 310 nicht negativ beeinflusst.According to one exemplary embodiment, the printed
Zur Fertigung elektronischer Systeme, wie der gezeigten Schaltung 300 sind nachträgliche Verbindungen zur bestückten und gelöteten Leiterplatte 310 zu realisieren, um zum Beispiel Sensoren oder Leistungsbauelemente anzusteuern. Die Temperaturbeständigkeit der Leiterplatte 310 und der Lötverbindung bestimmt dabei bei gelöteten Schnittstellen die Gesamtbeständigkeit der Verbindung. Der niedrige Schmelzpunkt und damit verbunden die relativ hohe Kriechneigung von Sn-Basisloten lassen kaum Toleranzausgleich und mechanische Beanspruchung zu, weil dies die Langlebigkeit der Verbindung negativ beeinflussen würde. Nicht gelötete Lösungen, zum Beispiel Einpresstechnik, erfordern zumeist eine spezielle Geometrie der Anschlusspins, welche bei Standardbauelementen häufig nicht realisiert ist.For the manufacture of electronic systems, such as the
Zum Durchführen einer gerichteten Diffusion und damit Überführen des Lotdepots 200 in die intermetallische Phase sind in diesem Ausführungsbeispiel Elektroden einer Widerstandsschweißanlage 400 an den Heizstab angelegt und auf beispielhaft 70-80°C erwärmt. Dadurch ist ein Stromfluss mit entsprechender Wärmeleistung durch das Kontaktelement 210 erzeugbar, was ein Aufheizen des Kontaktelements und damit verbunden des Lotdepots bewirkt. Durch Stromsteuerung, insbesondere durch Mehrstufenimpulse, ist eine gezielte Energieübertragung möglich, was ein Steuern des intermetallischen Phasenwachstums ermöglicht. In diesem Ausführungsbeispiel erfolgt die Wärmezufuhr in einem Zeitraum von 500 bis 600 ms. In einem anderen Ausführungsbeispiel kann die Wärmezufuhr in einem Zeitraum von weniger als 50 ms stattfinden und zusätzlich oder alternativ über Mehrstufenimpulse steuerbar sein.In this exemplary embodiment, electrodes of a
In diesem Ausführungsbeispiel ist durch den beschriebenen Aufbau eine lokale Diffusionslötstelle geschaffen, an der eine Verbindung zwischen der Kontaktfläche 205 und dem Kontaktelement 210 unter Verwendung des Lotdepots 200 mittels gerichteter Diffusion durch einen lokal eng begrenzten einseitigen Wärmeeintrag realisierbar ist. Hierzu ist das Sn-Basislotdepot lediglich beispielhaft in eine KupferNickelZinn-intermetallische Phase überführbar. Die intermetallische Verbindung weist dann einen höheren Schmelzpunkt (>400°C) als das Basislotdepot auf. Auch ist die Kriechneigung dieser Mischbindung gegenüber einer reinen Metallbindung deutlich geringer, was die mechanische Stabilität erhöht. Aufgrund des einseitigen Wärmeeintrags von der Anschlusspinoberseite ist eine gerichtete Diffusion und ein Wachsen der intermetallischen Phase von der kalten zur warmen Seite hin möglich. Eine thermische Schädigung der Leiterplatte 310 ist ausgeschlossen, da nur im Millisekundenbereich beheizt wird, was zu keiner thermischen Interaktion mit der PCB führt. Durch die sehr lokale Wärmeeinbringung ist auch die Beeinflussung bereits geschaffener Aufbau- und Verbindungstechnik ausgeschlossen. Somit werden Lotverbindungen zwischen der Leiterplatte 310 und den beispielsweise in
BezugszeichenlisteReference List
- 100100
- Verfahren zum Herstellen einer elektronischen SchaltungProcess for manufacturing an electronic circuit
- 105105
- Schritt des Bereitstellensstep of providing
- 110110
- Schritt des Anordnensarranging step
- 115115
- Schritt des Bewirkens step of effecting
- 200200
- Lotdepotsolder depot
- 205205
- Kontaktflächecontact surface
- 210210
- Kontaktelementcontact element
- 215215
- Intermetallische Phase intermetallic phase
- 300300
- Schaltungcircuit
- 305305
- Elektronisches Elementelectronic item
- 310310
- Leiterplattecircuit board
- 315315
- Bauteil component
- 400400
- Widerstandsschweißequipmentresistance welding equipment
Claims (14)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102022201411.1A DE102022201411A1 (en) | 2022-02-11 | 2022-02-11 | Process for manufacturing an electronic circuit by selective diffusion soldering using directed diffusion |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102022201411.1A DE102022201411A1 (en) | 2022-02-11 | 2022-02-11 | Process for manufacturing an electronic circuit by selective diffusion soldering using directed diffusion |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102022201411A1 true DE102022201411A1 (en) | 2023-08-17 |
Family
ID=87430565
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102022201411.1A Pending DE102022201411A1 (en) | 2022-02-11 | 2022-02-11 | Process for manufacturing an electronic circuit by selective diffusion soldering using directed diffusion |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102022201411A1 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4303790A1 (en) | 1993-02-10 | 1994-08-11 | Daimler Benz Ag | Method for producing a positively engaging connection between semiconductor components and metallic surface of carrier elements |
DE102016110413A1 (en) | 2015-06-08 | 2016-12-08 | Infineon Technologies Ag | Diffusion solder bonding using solder preforms |
DE102017104886A1 (en) | 2017-03-08 | 2018-09-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for producing an optoelectronic component and optoelectronic component |
DE102018116410A1 (en) | 2018-07-06 | 2020-01-09 | Endress+Hauser SE+Co. KG | Process for producing a high-temperature-resistant lead-free solder connection and high-temperature-resistant lead-free solder connection |
-
2022
- 2022-02-11 DE DE102022201411.1A patent/DE102022201411A1/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4303790A1 (en) | 1993-02-10 | 1994-08-11 | Daimler Benz Ag | Method for producing a positively engaging connection between semiconductor components and metallic surface of carrier elements |
DE102016110413A1 (en) | 2015-06-08 | 2016-12-08 | Infineon Technologies Ag | Diffusion solder bonding using solder preforms |
DE102017104886A1 (en) | 2017-03-08 | 2018-09-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for producing an optoelectronic component and optoelectronic component |
DE102018116410A1 (en) | 2018-07-06 | 2020-01-09 | Endress+Hauser SE+Co. KG | Process for producing a high-temperature-resistant lead-free solder connection and high-temperature-resistant lead-free solder connection |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69434160T2 (en) | Provided with solder balls connecting method so | |
DE19536260A1 (en) | Solder alloy connection establishment and method of connection | |
DE102005001713A1 (en) | Method of making a connection structure | |
WO2002020211A1 (en) | Soldering flux for use in diffusion soldering process and method for producing soldered connections using said soldering flux | |
DE10238320A1 (en) | Ceramic circuit board and process for its manufacture | |
WO2003072288A1 (en) | Connection comprising a diffusion soldered junction, and method for the production thereof | |
DE3414065A1 (en) | Configuration comprising at least one electronic component fixed on a substrate, and process for fabricating a configuration of this type | |
EP2774461B1 (en) | Circuit board made of ain with copper structures | |
WO2009140709A2 (en) | Method for producing a printed circuit board and use and printed circuit board | |
DE102006056363A1 (en) | Semiconductor module with at least two substrates | |
EP0741504A2 (en) | Metal core circuit board and method of making | |
EP3794640B1 (en) | Composite assembly of three stacked joining partners | |
DE102018116410A1 (en) | Process for producing a high-temperature-resistant lead-free solder connection and high-temperature-resistant lead-free solder connection | |
DE4303790A1 (en) | Method for producing a positively engaging connection between semiconductor components and metallic surface of carrier elements | |
DE102022201411A1 (en) | Process for manufacturing an electronic circuit by selective diffusion soldering using directed diffusion | |
DE10001180B4 (en) | A double-sided pattern connection component, printed circuit board, and method of connecting connection patterns formed on both sides of a printed circuit board | |
DE102014206606A1 (en) | Method for mounting an electrical component on a substrate | |
DE102017211336B4 (en) | Power module with surface-mounted electrical contacting elements | |
DE3137570A1 (en) | Method of directly bonding copper parts to oxide-ceramic substrates | |
EP1796217B1 (en) | Method for producing electrical connections between circuit boards | |
DE3826999A1 (en) | Cable link and a method for its production | |
DE102017207329A1 (en) | Electronic assembly with a built between two substrates component and method for its preparation | |
AT404207B (en) | METHOD FOR PRODUCING ELECTRICAL CIRCUITS | |
DE3115856A1 (en) | Electrical circuit configuration | |
DE10021217C1 (en) | Central electrical system for a motor vehicle |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication |