DE102022200614A1 - Vorrichtung zur Untersuchung eines transparenten Werkstückes sowie die Verwendung einer solchen Vorrichtung als telezentrisches Messystem in Transmission - Google Patents

Vorrichtung zur Untersuchung eines transparenten Werkstückes sowie die Verwendung einer solchen Vorrichtung als telezentrisches Messystem in Transmission Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Untersuchung eines transparenten Werkstückes (B) auf Partikel oder Defekte an der Oberfläche des transparenten Werkstücks, im Substrat des transparenten Werkstücks, oder soweit vorhanden in einer Lackschicht des transparenten Werkstücks oder soweit vorhanden auf einer Beschichtung des transparenten Werkstücks, aufweisend• eine Testmustererzeugungseinrichtung (TE), wobei die Testmustererzeugungseinrichtung (TE) eingerichtet ist Testmuster von einer Fläche von zumindest der Größe eines zu untersuchenden Bereiches des transparenten Werkstücks (B) vor dem zu untersuchenden transparente Werkstück zu erzeugen, wobei die Fläche des Testmusters mindestens jedoch 30 mm in der Diagonale aufweist,• ein Abbildungssystem (O),• eine digitale Kamera (K),• wobei die Testmustererzeugungseinrichtung (TE) so angeordnet ist, dass sie im Betrieb ein zu untersuchendes transparentes Werkstücks von einer ersten Seite mit einem Testmuster bestrahlt,• wobei das Abbildungssystem so angeordnet ist, dass das durch das zu untersuchendes transparente Werkstück tretendes Licht des jeweiligen Testmusters mittels des Abbildungssystems auf die Kamera zugeführt wird,• wobei unter Steuerung einer Steuereinrichtung (CPU) zumindest drei Testmuster mittels der Testmustererzeugungseinrichtung erzeugt werden können, wobei jedes dieser Testmuster mittels der Kamera als Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene erfasst werden kann,• wobei mittels einer Auswerteeinrichtung die von der Kamera für jedes der Testmuster erhaltenen Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene verarbeitet werden kann,• wobei aus den verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene Rückschlüsse auf Partikel oder Defekte von einer Größe von 3mm oder weniger ermöglicht werden.Die Erfindung betrifft weiterhin die Verwendung einer solchen Vorrichtung.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Untersuchung eines transparenten Werkstückes auf Partikel oder Defekte an der Oberfläche des transparenten Werkstücks, im Substrat des transparenten Werkstücks, oder soweit vorhanden in einer Lackschicht des transparenten Werkstücks oder soweit vorhanden in einer Beschichtung des transparenten Werkstücks, sowie die Verwendung einer solchen Vorrichtung als telezentrisches Messystem in Transmission zur Partikelbeobachtung auf optisch transparenten Materialien.
  • Hintergrund
  • Nachfolgend wird an Hand von optischen Gläsern, insbesondere Brillengläsern, als Beispiele von transparenten Werkstücken ein Problem mit der optischen Kontrolle beschrieben werden.
  • So ist es bekannt, dass bei der Herstellung von Brillengläsern, sowohl Werkstofffehler, d.h. Fehler im Substrat, als auch Fehler in Beschichtungen (Lackschichten, Antireflexbeschichtungen, etc.) oder auf der Oberfläche auftreten.
  • Bisher wird hier eine visuelle Kontrolle durch einen geschulten Beobachter H wie in 1 skizziert durchgeführt. Dabei wird ein (gereinigtes) Werkstück an einer Hell-Dunkel-Kante in Auflicht begutachtet. Hierzu wird typischerweise ein Aufbau wie in 1 verwendet, bei dem eine sogenannte Sternleuchte LS vor einem schwarzen matten Hintergrund BG in einem Abstand dLS (z.B. dLS ~ 30 cm) platziert wird. Die Sternleuchte LS stellt in aller Regel einen n Lichtstrom von 400 Im und mehr zur Verfügung. Vor der Lichtquelle LS ist in Richtung des Betrachters H ein opake Leuchtfläche LF und eine Blende C angeordnet, die an der optischen Verbindungsachse vom Betrachter H zur Lichtquelle LS aneinanderstoßen, sodass sich eine (gerade) Kante ergibt. Im Kontrollabstand dc befindet sich das zu vermessende Werkstück B, welches dort beliebig verschieb-, verdreh- und verkippbar angeordnet ist. Der Beobachter H befindet sich dann im Abstand für scharfes Sehen dH hinter dem Werkstück B.
  • Durch Drehen, Kippen, Verschieben ist es dann möglich mittels der Hell-Dunkel-Kante Fehler an verschiedenen Orten auf dem Werkstück B bis zu einer gewissen Größe zu erkennen.
  • Wird ein Fehler, z.B. Partikel, festgestellt, so wird dann ein entsprechender Fehlercode durch den Beobachter H ohne weitere Angabe von Ort, Größe, Fehlerzahl vergeben.
    • D.h., das Prüfverfahren ist höchst subjektiv und hängt nicht nur von der Erfahrung des jeweiligen Betrachters H, sondern auch von dessen aktueller Tagesform ab.
  • Es ist zwar bekannt, dass in anderen Industriezweigen Oberflächen optisch begutachtet werden, jedoch sind diese reflektiven Verfahren nicht für optisch transparente Materialien, insbesondere solche mit gebogenen Oberflächen, geeignet. Zudem sind die Fehlergrößen, die in anderen Industriezweigen, wie z.B. der Belackung von Fahrzeugteilen auftreten, deutlich größer als jene, die für optische Werkstücke noch von Relevanz sind.
  • Vor diesem Hintergrund ist es eine Aufgabe der Erfindung eine Objektivierung bereitzustellen.
  • Kurzdarstellung der Erfindung
  • Die Aufgabe wird gelöst durch eine Vorrichtung zur Untersuchung eines transparenten Werkstückes auf Partikel oder Defekte an der Oberfläche des transparenten Werkstücks, im Substrat des transparenten Werkstücks, oder soweit vorhanden in einer Lackschicht des transparenten Werkstücks oder soweit vorhanden auf einer Beschichtung des transparenten Werkstücks. Die Vorrichtung weist eine Testmustererzeugungseinrichtung auf, wobei die Testmustererzeugungseinrichtung eingerichtet ist Testmuster von einer Fläche von zumindest der Größe eines zu untersuchenden Bereiches des transparenten Werkstücks vor dem zu untersuchenden transparenten Werkstück zu erzeugen, wobei die Fläche des Testmusters mindestens jedoch 30 mm in der Diagonale aufweist. Weiterhin weist die Vorrichtung ein Abbildungssystem und eine digitale Kamera auf, wobei die Testmustererzeugungseinrichtung so angeordnet ist, dass sie im Betrieb ein zu untersuchendes transparentes Werkstücks von einer ersten Seite mit einem Testmuster bestrahlt, wobei das Abbildungssystem so angeordnet ist, dass das durch das zu untersuchende transparente Werkstück tretende Licht des jeweiligen Testmusters mittels des Abbildungssystems auf die Kamera zugeführt wird, wobei unter Steuerung einer Steuereinrichtung (CPU) zumindest drei Testmuster mittels der Testmustererzeugungseinrichtung erzeugt werden können, wobei jedes dieser Testmuster mittels der Kamera als Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene erfasst werden kann, wobei mittels einer Auswerteeinrichtung die von der Kamera für jedes der Testmuster erhaltenen Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene verarbeitet werden können, wobei aus den verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene Rückschlüsse auf Partikel oder Defekte von einer Größe von 3mm oder weniger ermöglicht werden.
  • Mittels der Erfindung ist es möglich eine Objektivierung bereitzustellen.
  • In einer Ausführungsform der Erfindung sind die Testmuster im Wesentlichen gleichartig.
  • Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung sind die Testmuster im Wesentlichen als sinusförmiges Wellen- oder Streifenmuster ausgebildet wobei mindestens 3 Testmuster zueinander phasenverschoben sind.
  • In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung werden die verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten auf einer Anzeigeeinrichtung dargestellt.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung werden mittels automatischer oder halb-automatischer Bildverarbeitung in den verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten Partikel oder Defekte erkannt.
  • In noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist die Testmustererzeugungseinrichtung ein Monitor.
  • Gemäß noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist die Testmustererzeugungseinrichtung ein Monitor, wobei der Monitor eine Auflösung von mindestens 80 DPI aufweist und wobei der Monitor eine Fläche von zumindest der Größe eines zu untersuchenden transparenten Werkstücks aufweist, mindestens jedoch 30 mm in der Diagonale aufweist.
  • In noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist die Testmustererzeugungseinrichtung ein Monitor, welcher am Rand oder außerhalb des Arbeitsabstandes des Abbildungssystems positioniert ist, so dass die Bildpixel des Monitors von der Kamera nur unscharf abgebildet werden und damit in den Intensitätsinformationsdaten ebenfalls unscharf sind.
  • Gemäß noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist das Abbildungssystem telezentrisch.
  • In noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung werden aus den verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene Rückschlüsse auf Partikel oder Defekte von einer Größe von 15 µm oder weniger ermöglicht.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist das transparente Werkstück ein Brillenglas.
  • Eine weitere Ausgestaltung der Erfindung betrifft die Verwendung einer erfindungsgemäßen Vorrichtung als telezentrisches Messystem in Transmission zur Partikelbeobachtung auf optisch transparenten Materialien.
  • In einer Ausführungsform der Erfindung betrifft die Verwendung die Partikelbeobachtung auf einem Brillenglas oder auch an Halbfertigprodukten sowie Gießformen.
  • Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung betrifft die Verwendung die Partikelbeobachtung auf einem Flachglas.
  • Weitere vorteilhafte Ausführungsformen sind Gegenstand der Beschreibung und der beigefügten Figuren.
  • Figurenliste
  • Im Folgenden wird sich auf die Figuren bezogen. Darin zeigt:
    • 1 schematisch eine Vorrichtung, wie sie im Stand der Technik verwendet wurde, und
    • 2 schematische Ausführungsformen der Erfindung
  • Ausführliche Beschreibung
  • Die vorliegende Offenbarung beschreibt bevorzugte Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die Figuren, in denen gleiche Referenzzeichen die gleichen oder ähnliche Elemente repräsentieren.
  • Bezugnahmen in dieser Spezifikation auf „eine Ausführungsform“ oder in ähnlicher Sprache bedeuten, dass ein/e bestimmte/s Merkmal, Struktur oder Eigenschaft, die in Verbindung mit der Ausführungsform beschrieben wird, in mindestens einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung enthalten ist. Somit kann sich die Formulierung „in einer Ausführungsform“ und ähnliche Sprache in dieser Spezifikation stets auf die gleiche Ausführungsform beziehen, muss dies aber nicht.
  • Die beschriebenen Merkmale, Strukturen oder Charakteristika der Erfindung können auf jedwede geeignete Weise in einer oder mehreren Ausführungsformen kombiniert werden. In der Beschreibung werden zahlreiche spezifische Einzelheiten angeführt, um ein genaues Verständnis der Ausführungsformen der Erfindung zu ermöglichen. Das heißt, sofern nur als Alternative angegeben, kann ein Merkmal einer Ausführungsform auch in einer anderen Ausführungsform verwendet werden.
  • Auch wenn in manchen Fällen bestimmte Merkmale in Bezug auf eine einzelne Entität beschrieben werden, dient solch eine Beschreibung darüber hinaus nur zu veranschaulichenden Zwecken und tatsächliche Implementierungen der Erfindung können auch eine oder mehrere dieser Entitäten umfassen. Das heißt, Verwendung des Singulars schließt auch plurale Entitäten mit ein, sofern nicht anders angegeben.
  • Bei der Beschichtung von Brillengläsern treten häufig Partikel auf, die visuell erkannt werden müssen. Die Anzahl der Partikel soll dokumentiert werden sowie die Größenverteilung und die Verteilung auf dem Glas. Die Partikel sollen wirkungsunabhängig erkannt werden. Partikel ab einer Größe von 15µm müssen im Durchlicht erkannt werden.
  • In 2 sind Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Vorrichtung 1 zur Untersuchung eines transparenten Werkstückes B auf Partikel oder Defekte an der Oberfläche des transparenten Werkstücks, im Substrat des transparenten Werkstücks, oder soweit vorhanden in einer Lackschicht des transparenten Werkstücks oder soweit vorhanden auf einer Beschichtung des transparenten Werkstücks gezeigt.
  • Die Vorrichtung 1 weist eine Testmustererzeugungseinrichtung TE auf, wobei die Testmustererzeugungseinrichtung T) eingerichtet ist Testmuster von einer Fläche von zumindest der Größe eines zu untersuchenden Bereiches des transparenten Werkstücks B vor dem zu untersuchenden transparenten Werkstück zu erzeugen, wobei die Fläche des Testmusters mindestens jedoch 30 mm in der Diagonale aufweist. Die Größe des Testmusters ist nach oben hin nicht beschränkt, sondern es kann aus praktischen Erwägungen die Größe der Fläche auf in etwa die Größe des zu untersuchenden Werkstückes B beschränkt sein. Die Größe des Testmusters ist nach unten im Wesentlichen dadurch beschränkt, dass ein vernünftiges zu untersuchendes Gebiet bereitgestellt werden muss.
  • Weiterhin weist die Vorrichtung 1 ein Abbildungssystem O und eine digitale Kamera K auf. Die technischen Parameter der Kamera K können geeignet gewählt werden. Beispielhaft kann eine Kamera K eine Auflösung von 18 Megapixel und mehr, insbesondere 25 Megapixel, insbesondere aber 29 Megapixel und mehr bereitstellen. Dabei kann eine Auflösung von 18 Megapixel ausreichend sein für kleinere zu untersuchende Gebiete eines Werkstückes B (z.B. eines Brillenglases) oder insgesamt kleinere Werkstücke B. Allgemein kann man sagen, dass die Auflösung auch abhängig ist vom Abstand und der aufzulösenden Fehlstellen.
  • Die Testmustererzeugungseinrichtung TE ist dabei so angeordnet, dass sie im Betrieb ein zu untersuchendes transparentes Werkstücks von einer ersten Seite mit einem Testmuster bestrahlt.
  • Das Abbildungssystem wiederum ist so angeordnet, dass das durch das zu untersuchende transparente Werkstück tretende Licht des jeweiligen Testmusters mittels des Abbildungssystems auf die Kamera zugeführt wird.
  • Unter Steuerung einer Steuereinrichtung CPU können dann zumindest drei Testmuster mittels der Testmustererzeugungseinrichtung TE erzeugt werdenwobei jedes dieser Testmuster mittels der Kamera K als Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene erfasst werden kann.
  • Mittels einer Auswerteeinrichtung, die Teil der Steuereinrichtung CPU sein kann, können die von der Kamera K für jedes der Testmuster erhaltenen Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene verarbeitet werden, wobei aus den verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene Rückschlüsse auf Partikel oder Defekte von einer Größe von 3 mm oder weniger, insbesondere auch 15 µm oder weniger, insbesondere aber 150 µm bis 20 µm ermöglicht werden.
  • D.h. in der erfindungsgemäßen Vorrichtung 1 werden mehrere Testmuster, bevorzugt mit sinusförmigem Streifenmuster phasenverschoben und in unterschiedlicher Ausrichtung in Transmission mittels eines Kamerasystems K und entsprechender Beleuchtung aufgenommen. Das Werkstück B, z.B. ein Brillenglas liegt dabei typischerweise innerhalb der Schärfentiefe des Abbildungssystems O (Objektiv). Durch Partikel/Defekte im Glas werden die Lichtstrahlen abgelenkt und/oder absorbiert. Aus dem daraus errechenbaren Pixeldaten (aus Aufnahmen der unterschiedlichen Testmuster) werden Defekte als Kontrastunterschied erkennbar und können per Bilderkennungsalgorithmen automatisch detektiert werden. Typische Verarbeitungsverfahren können z.B. aus dem Artikel „Phase shifting algorithms for fringe projection profilometry: A review“ der Autoren C. Zuo, L. Huang, veröfffentlicht in Optics and Lasers in Engineering, Volume 109, October 2018, Pages 23-59 entnommen werden
  • In einer Ausführungsform der Erfindung sind die Testmuster im Wesentlichen gleichartig. Beispielhaft sind in 2 vier Streifenmuster gezeigt. Offensichtlich können auch andere Testmuster verwendet werden. Zudem kann es vorteilhaft sein, mehrere Zyklen mit unterschiedlichen Testmustern zu verwenden, z.B. drei oder mehr horizontal leicht verschiedene Streifenmuster und drei oder mehr vertikal leicht verschiedene Streifenmuster.
  • In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung sind die Testmuster im Wesentlichen als sinusförmiges Wellen- oder Streifenmuster ausgebildet, wobei mindestens 3 Testmuster zueinander phasenverschoben sind. Beispielsweise können die Testmuster um jeweils 90° zueinander phasenverschoben sein. Es kann jedoch auch vorgesehen sein, dass die Testmuster um einen anderen Betrag jeweils zueinander phasenverschoben sind. Bevorzugt ist dann, dass die Testmuster den Phasenraum (möglichst gleichförmig) überdecken. Die Ausgestaltung mit drei phasenverschobenen Testmustern erweist sich als mathematisch vorteilhaft, da eine besonders einfache Berechnung damit ermöglicht wird.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung werden die verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten auf einer Anzeigeeinrichtung M, z.B. einem Monitor, dargestellt.
  • In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung werden mittels automatischer oder halb-automatischer Bildverarbeitung in den verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten Partikel oder Defekte erkannt.
  • In noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist die Testmustererzeugungseinrichtung TE ein Monitor. Der Monitor kann z.B. ein geeignetes Computerdisplay sein.
  • Insbesondere ist die Testmustererzeugungseinrichtung TE ein Monitor, wobei der Monitor eine Auflösung von mindestens 80 DPI (dots per inch), z.B. 100 DPI oder mehr, aufweist und wobei der Monitor eine Fläche von zumindest der Größe eines zu untersuchenden transparenten Werkstücks aufweist, mindestens jedoch 30 mm in der Diagonale aufweist.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist die Testmustererzeugungseinrichtung TE ein Monitor, welcher am Rand oder außerhalb des Arbeitsabstandes des Abbildungssystems positioniert ist, so dass die Bildpixel des Monitors von der Kamera K nur unscharf abgebildet werden und damit in den Intensitätsinformationsdaten ebenfalls unscharf sind.
  • Eine solche Unschärfe ist vorteilhaft, um Artefakte in den Pixeldaten klein zu halten.
  • In noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist das Abbildungssystem telezentrisch. Telezentrische Abbildungssysteme O haben den Vorteil, dass die Dimensionen messbar werden und das Bild skaliert.
  • Gemäß noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung werden aus den verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene Rückschlüsse auf Partikel oder Defekte von einer Größe von bis zu 15 µm oder weniger ermöglicht.
  • Insbesondere kann in Ausführungsformen der Erfindung vorgesehen sein, dass das transparente Werkstück B ein Brillenglas ist.
  • Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung kann die erfindungsgemäße Vorrichtung als telezentrisches Messystem in Transmission zur Partikelbeobachtung auf optisch transparenten Materialien verwendet werden.
  • Insbesondere kann die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Partikelbeobachtung auf einem Brillenglas oder auch an Halbfertigprodukten sowie Gießformen verwendet werden.
  • Ebenso kann die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Partikelbeobachtung auf einem Flachglas verwendet werden.
  • Es sei angemerkt, dass wenn das zu untersuchende Werkstück B eine optische Wirkung aufweist oder eine lichtabsorbierende Färbung besitzt, es sinnvoll sein kann die Belichtungszeiten oder Helligkeitsintensitäten des Testmusters oder die Mustergrößen (Testmuster) anzupassen.
  • Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung 1 ist es z.B. möglich Partikel ab einer Größe von 15µm vollflächig auf einem Brillenglas mit einem Durchmesser von bis zu 80mm zu detektieren. Dafür kann beispielsweise eine hochauflösende Kamera (mit 29 Megapixel oder mehr) in Kombination mit dem Phasenshiftverfahren in Transmission verwendet werden. Damit kann das Verfahren auch für kleinere Partikel verwendet werden.
  • In einem Arbeitsverfahren für die erfindungsgemäße Vorrichtung 1 kann in einem (optionalen) ersten Schritt zunächst die Außenkontur des Werkstückes B (automatisch) erfasst werden.
  • In einem für die Erfindung wesentlichen Schritt werden nunmehr durch das Werkstück B hindurch mittels der Kamera K jeweils Aufnahmen der verschiedenen Testmuster auf der Testmustererzeugungseinrichtung TE aufgenommen.
  • Anschließend kann aus diesen Aufnahmen der Kamera K die Auswerteeinrichtung Intensitätsinformationen auf Pixelbasis verarbeiten.
  • Beispielsweise (unter der Annahme, dass die Testmuster jeweils 90° zueinander phasenverschoben sind, womit das erste Testmuster identisch mit dem vierten Testmuster wäre), können die Pixelweise die einzelnen Intensitäten I1..4 (z.B. bei 90° Phasenverschiebung mit I1=I4) ϕ = 1 2 ( I 1 − I 3 ) 2 + ( I 0 − I 2 ) 2
    Figure DE102022200614A1_0001
    verrechnet werden, um ein Phasenbild zu erhalten.
  • Dabei können die erkannten Fehler nicht nur auf einer Anzeigeeinrichtung M visualisiert werden, sondern auch die Koordinaten und Eigenschaften der erkannten Defekte, wie z.B. Größe, Form, Anzahl... in einer Datenbank DB für die weitere Nachbearbeitung, Fehlerdokumentation gespeichert werden. Beispielhaft können Partik / Defekte mittels dynamischer Threshold-Verfahren erkannt werden.
  • Liegen z.B. Fehler außerhalb eines für eine mögliche Nachbearbeitung (z.B. Formrandung) interessierenden Bereiches, so könnte das Werkstück trotzdem verarbeitet werden, während es zuvor als Ausschuss möglicherweise aussortiert worden wäre. Damit steigt die Ausbeute und die Produktionskosten können gesenkt werden.
  • Die Erfindung erlaubt somit eine automatische und objektive Erkennung von Partikeln/Defekten in oder auf transparenten Materialien in Transmission.
  • Bezugszeichenliste
    • 1
    Vorrichtung zur Untersuchung eines transparenten Werkstückes B
    B
    transparentes Werkstück
    TE
    Testmustererzeugungseinrichtung
    O
    Abbildungssystem
    K
    digitale Kamera
    LS
    Sternlichtquelle
    C
    Blende
    BG
    Hintergrund
    LF
    Leuchtfläche
    H
    Beobachter
    DB
    Speichereinrichtung
    M
    Anzeigeeinrichtung
    CPU
    Steuereinrichtung

Claims (14)

  1. Vorrichtung (1) zur Untersuchung von eines transparenten Werkstückes (B) auf Partikel oder Defekte an der Oberfläche des transparenten Werkstücks, im Substrat des transparenten Werkstücks, oder soweit vorhanden in einer Lackschicht des transparenten Werkstücks oder soweit vorhanden in auf einer Beschichtung des transparenten Werkstücks, aufweisend • eine Testmustererzeugungseinrichtung (TE), wobei die Testmustererzeugungseinrichtung (TE) eingerichtet ist Testmuster von einer Fläche von zumindest der Größe eines zu untersuchenden transparenten Werkstücks (B) vor dem zu untersuchenden transparente Werkstück zu erzeugen, wobei die Fläche des Testmusters mindestens jedoch 30 mm in der Diagonale aufweist, • ein Abbildungssystem (O), • eine digitale Kamera (K), • wobei die Testmustererzeugungseinrichtung (TE) so angeordnet ist, dass im Betrieb ein zu untersuchendes transparentes Werkstück von einer ersten Seite mit einem Testmuster bestrahlt werden kann, • wobei das telezentrisches Abbildungssystem so angeordnet ist, dass das durch das zu untersuchendes transparente Werkstück tretendes Licht des jeweiligen Testmusters mittels des telezentrischen Abbildungssystems auf die Kamera zugeführt wird, • wobei unter Steuerung einer Steuereinrichtung zumindest vier drei Testmuster mittels der Testmustererzeugungseinrichtung erzeugt werden können, wobei jedes dieser Testmuster mittels der Kamera als Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene erfasst werden kann, • wobei mittels einer Auswerteeinrichtung die von der Kamera für jedes der Testmuster erhaltenen Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene verarbeitet werden kann, • wobei aus den verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene Rückschlüsse auf Partikel oder Defekte von einer Größe von 3mm oder weniger ermöglicht werden.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Testmuster im Wesentlichen gleichartig sind.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Testmuster im Wesentlichen als sinusförmiges Wellen- oder Streifenmuster ausgebildet sind, wobei die mindestens 3 Testmuster zueinander phasenverschoben sind.
  4. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten auf einer Anzeigeeinrichtung dargestellt werden.
  5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mittels automatischer oder halb-automatischer Bildverarbeitung in den verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten Partikel oder Defekte erkannt werden.
  6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Testmustererzeugungseinrichtung ein Monitor ist.
  7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Testmustererzeugungseinrichtung ein Monitor ist, wobei der Monitor eine Auflösung von weniger mindestens als 80 DPI aufweist und wobei der Monitor eine Fläche von zumindest der Größe eines zu untersuchenden transparenten Werkstücks s aufweist, mindestens jedoch 30 mm in der Diagonale aufweist.
  8. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Testmustererzeugungseinrichtung ein Monitor ist, welcher am Rand oder außerhalb des Arbeitsabstandes des Telezentrischen Abbildungssystem Objektivs positioniert ist, so dass die Bildpixel des Monitors von der Kamera nur unscharf abgebildet werden und damit in den Intensitätsinformationsdaten ebenfalls unscharf sind.
  9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Abbildungssystem telezentrisch ist.
  10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass aus den verarbeiteten Intensitätsinformationsdaten auf Pixelebene Rückschlüsse auf Partikel oder Defekte von einer Größe von 15 µm oder weniger ermöglicht werden.
  11. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das transparente Werkstück ein Brillenglas ist.
  12. Verwendung einer Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche als telezentrischen Messystems in Transmission zur Partikelbeobachtung auf optisch transparenten Materialien.
  13. Verwendung nach Anspruch 12, zur Partikelbeobachtung auf einem Linsenglas oder auch an Halbfertigprodukten sowie Gießformen.
  14. Verwendung nach Anspruch 12, zur Partikelbeobachtung auf einem Flachglas.
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