-
Die Erfindung betrifft eine Folienanlage zum Herstellen einer Kunststoff-Folienbahn, insbesondere Gießfolien-, Glättwerks- oder Blasfolienanlage, eine Reinigungseinrichtung für eine Folienanlage sowie ein Verfahren zum Reinigen von Bestandteilen von Folienanlagen zum Herstellen einer Folienbahn, insbesondere Gießfolien-, Glättwerks- oder Blasfolienanlage.
-
In Folienanlagen sorgen Ausscheidungen aus der Kunststoffschmelze („Plate-out“) für Verschmutzungen auf der Walzenoberfläche, wobei die Verschmutzungen aus Kondensaten oder sonstigen Absonderungen von Substanzen aus dem Extrusionsprodukt gebildet werden. Dies hat negative Auswirkungen auf die produzierte Folie, beispielsweise Glanzunterschiede oder Mattstellen, Flecken oder Schlieren sowie Einschlüsse. Dadurch sinkt die Folienqualität und die Folie wird schlimmstenfalls unbrauchbar. Ab einem bestimmten Verschmutzungsgrad muss dementsprechend eine Reinigung und/oder Politur erfolgen.
-
Im Stand der Technik ist bekannt, dass die Walze/Walzen der Folienanlage in regelmäßigen Abständen gereinigt werden muss/müssen. Eine vollständige Reinigung ist allerdings nur bei stehendem Betrieb möglich. Dadurch entsteht einerseits ein Produktionsausfall durch Ab- und Anfahren sowie den Anlagenstillstand und andererseits besteht Personalbedarf für die Reinigung.
-
Der hier vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, dem Stand der Technik eine Verbesserung oder eine Alternative zur Seite zu stellen. Insbesondere ist es Aufgabe der Erfindung, eine Reinigungslösung ohne manuelle Eingriffe und möglichst während eines Betriebes der Folienanlage zu ermöglichen.
-
Nach einem ersten Aspekt löst die gestellte Aufgabe eine Folienanlage zum Herstellen einer Kunststoff-Folienbahn, insbesondere Gießfolien-, Glättwerks- oder Blasfolienanlage, mit den folgenden Merkmalen: eine Maschinenrichtung, entlang welcher die Folienbahn durch die Folienanlage transportiert wird, eine Folienmaterial verarbeitende oder leitende Walzeneinrichtung und wenigstens eine mit der Folienbahn in Kontakt stehende Folienwalze. Ferner verfügt die Folienanlage über eine Reinigungseinrichtung, mittels der eine Oberfläche von mindestens einer mit der Folienbahn in Kontakt stehenden Folienwalze der Walzeneinrichtung in einem Betriebszustand reinigbar ist.
-
Begrifflich sei hierzu folgendes erläutert:
- Es sei ausdrücklich darauf hingewiesen, dass im Rahmen der hier vorliegenden Patentanmeldung unbestimmte Artikel und unbestimmte Zahlenangaben wie „ein...“, „zwei...“ usw. im Regelfall als mindestens-Angaben zu verstehen sein sollen, also als „mindestens ein...“, „mindestens zwei...“ usw., sofern sich nicht etwa aus dem Kontext oder dem konkreten Text einer bestimmten Stelle ergibt, dass etwa dort nur „genau ein...“, „genau zwei...“ usw. gemeint sein soll. Weiterhin sind alle Zahlenangaben sowie Angaben zu Verfahrensparametern und/oder Vorrichtungsparametern im technischen Sinne zu verstehen, d.h. als mit den üblichen Toleranzen versehen zu verstehen. Auch aus der expliziten Angabe der Einschränkung „wenigstens“ oder „mindestens“ o.ä. darf nicht geschlossen werden, dass bei der einfachen Verwendung von „ein“, also ohne die Angabe von „wenigstens“ o.ä., ein „genau ein“ gemeint ist.
-
Unter der Maschinenrichtung ist in anderen Worten insbesondere eine Richtung zu verstehen, entlang welcher ein Rohmaterial zu einer Folienbahn verarbeitet wird. Eine Walzeneinrichtung bezeichnet im Rahmen der vorliegenden Erfindung vorzugsweise eine mechanische Anordnung von wenigstens einer Folienwalze, welche wiederum dazu ausgebildet ist, formgebend auf die Folienbahn einzuwirken. Die Walzeneinrichtung kann ferner eine entsprechende elektronische Steuervorrichtung und einen Antrieb, wie beispielsweise einen Motor, aufweisen. Der Ausdruck „Betriebszustand“ kann im Rahmen der vorliegenden Erfindung einen Zustand beschreiben, in dem die Folienanlage die Folienbahn produziert, also aktiv ist. Einfach ausgedrückt ist der Betriebszustand somit insbesondere der Zustand, in dem die Folienanlage läuft, anfährt, abfährt, oder insbesondere auch wenn ein Rollenwechsel durchgeführt wird. Die Reinigungseinrichtung ist im Rahmen der vorliegenden Erfindung insbesondere als ein System zu verstehen, welches ausgebildet ist, um Verschmutzungen von der Walzenoberfläche zu entfernen. Zudem kann die Reinigungseinrichtung ausgebildet sein, in regelmäßigen Abständen oder kontinuierlich eine Reinigung der Folienwalze durchzuführen.
-
In einer Ausführungsform des ersten Aspekts der Erfindung ist die Reinigungseinrichtung insbesondere dazu ausgebildet eine Beschichtung auf der Oberfläche der mit der Folienbahn in Kontakt stehenden Folienwalze zumindest teilweise abzutragen. Unter dem Begriff „abtragen“ kann im Rahmen der vorliegenden Erfindung vorzugsweise verstanden werden, dass Verschmutzungen beispielsweise durch Schaben, Kratzen, Bürsten, Reiben oder vergleichbare Verfahren von der Folienwalze entfernt werden. Ferner kann das „abtragen“ auch als ein berührungsfreies Entfernen der Verschmutzungen von der Folienwalze, beispielsweise durch Verdampfen, Verbrennen oder dergleichen durchgeführt werden, sodass in diesem Fall kein direkter Kontakt eines Elements der Reinigungseinrichtung mit der Folienwalze vorliegt. Die Folienwalze kann eine gewollte Beschichtung, die sogenannte Arbeitsbeschichtung, oder keine Arbeitsbeschichtung aufweisen. Die Beschichtung kann demnach die optionale Arbeitsbeschichtung der Folienwalze mit umfassen. Die ungewollte Beschichtung kann in anderen Worten auch als Anhaftung oder Belag auf der Oberfläche oder auf der optionalen Arbeitsbeschichtung der Folienwalze verstanden werden.
-
Beispielsweise ist die Reinigungseinrichtung zudem dazu ausgebildet die Beschichtung zumindest teilweise an die Folienbahn abzugeben. Dafür kann die Beschichtung zunächst gesammelt oder alternativ direkt in Richtung der Folienbahn geleitet werden. Mit „Beschichtung“ sei dabei insbesondere die auf der Folienwalze befindliche Verschmutzung zu verstehen und optional, wie voranstehend bereits erwähnt, zusätzlich die Arbeitsbeschichtung der Folienwalze. Die Arbeitsbeschichtung wird vorzugsweise auf der Folienwalze belassen, während die Verschmutzung abgetragen und gegebenenfalls zumindest teilweise an die Folienbahn abgegeben wird.
-
Es ist denkbar, dass die Reinigungseinrichtung über ein Reinigungselement zum berührungsfreien Abtragen der Beschichtung verfügt. Damit ist insbesondere ausgedrückt, dass kein Element der Reinigungseinrichtung in Kontakt mit der Folienwalze steht.
-
Es kann vorgesehen sein, dass die Reinigungseinrichtung über ein Reinigungselement zum abrasiven Abtragen der Beschichtung verfügt. Unter abrasiv sei im Rahmen der vorliegenden Erfindung insbesondere zu verstehen, dass eine reibende, schleifende Wirkung vorliegt, welche zu einer Glättung, Reinigung oder Abnutzung führt. Dafür kann die Reinigungsvorrichtung in unmittelbarer Nähe der Folienwalze angeordnet sein und vorzugsweise das Reinigungselement aufweisen, welches zumindest in zeitlichen Abständen oder kontinuierlich in Kontakt mit der Folienwalze steht, um das abrasive Abtragen der Beschichtung auf der Folienwalze durchzuführen. Das Reinigungselement kann dafür beispielsweise wenigstens ein Polierelement, ein Tuch oder dergleichen aufweisen.
-
Ferner umfasst das Reinigungselement optional einen Laser, der dazu ausgebildet ist, die Beschichtung abzutragen. Der Laser ist insbesondere als Lasersystem zu verstehen, welches ferner zumindest eine Steuerung und eine Absaugvorrichtung umfasst. Das Lasersystem kann zudem einen Strahlexpander, einen Spiegel und eine Fokussierlinse aufweisen. Der Laser sorgt insbesondere für ein Verdampfen, Verbrennen oder Schmelzen der Beschichtung, wobei diese im letzteren Fall zumindest teilweise wieder der Folienbahn zugeführt werden kann.
-
Es ist möglich, dass der Laser als ein Pulslaser mit einer Frequenz in einem Bereich zwischen 50 kHz und 300 kHz, bevorzugt zwischen 150 kHz und 200 kHz, ausgebildet ist. Zudem weist der Laser insbesondere eine Leistung auf, wobei die Leistung bevorzugt zwischen 2 W und 30 W liegt. Alternativ kann ein leistungsstärkerer Laser vorgesehen sein, dessen Leistung zwischen 30 W und 100 W liegen kann. In einer bevorzugten Ausführungsform kann der Laser eine Laserleistung von 6 W bis 10 W aufweisen. Der Laser kann in einer bevorzugten Ausführungsform dazu ausgebildet sein, die Leistung des Lasers in einem Regelbereich zwischen 10 % und 100 % der Leistung einzustellen. Dafür kann der Laser ein entsprechendes Regelsystem aufweisen. Bei einer Frequenz von 50 kHz weist der Laser in einer spezifischen Ausführungsform eine Pulsenergie von 1 mJ auf. Die Pulsenergie ist insbesondere direkt proportional zur mittleren Leistung und umgekehrt proportional zur Wiederholungsrate des Lasers. Ferner hat der Laser bevorzugt eine Wellenlänge im Bereich zwischen 400 nm und 1200 nm, insbesondere zwischen 1055 nm und 1070 nm. Alternativ ist auch vorstellbar, dass der Laser als ein kontinuierlicher Laser, d.h. als ein Dauerstrichlaser, ausgebildet ist. Ferner kann die Frequenz und/oder die Anzahl und Stärke der Leistungsstufen sowie auch die Wellenlänge des gewählten Lasers je nach spezifischer Anwendung abweichen, um eine Reinigung der Folienwalze ohne eine Zerstörung derselben zu gewährleisten. Unter einem Pulslaser wird im Rahmen der Erfindung insbesondere ein Laser verstanden, der das Licht nicht kontinuierlich emittiert, sondern gepulst betrieben wird, d. h. das Licht in zeitlich begrenzten Portionen emittiert. Die Wellenlänge des Lasers beschreibt insbesondere die Raumfrequenz der emittierten Lichtwelle. Die optimale Wellenlänge für einen bestimmten Anwendungsfall hängt wesentlich von der jeweiligen Anwendung ab. Unter der Leistung des Lasers, d.h. der jeweils gewählten Leistungsstufe des Lasers, wird im Rahmen der vorliegenden Erfindung insbesondere eine optische Ausgangsleistung eines Dauerstrichlasers (CW) bzw. eine mittlere Leistung eines Pulslasers verstanden. Ein Pulslaser weist eine spezifische Pulsdauer auf, welche als Halbwertsbreite der optischen Leistung des Lasers über der Zeit definiert. Die Pulsdauer beträgt im Rahmen der vorliegenden Erfindung vorzugsweise zwischen 100 ns und 140 ns. So kann der Laser alternativ auch als Ultrakurzpulslaser ausgebildet sein, welcher Pulsdauern in der Größenordnung von Picosekunden bis Attosekunden aufweist. Unter der Frequenz ist im Rahmen der vorliegenden Erfindung bevorzugt die Pulswiederholfrequenz des Pulslasers zu verstehen, welche die Anzahl der emittierten Pulse pro Sekunde oder den Kehrwert des zeitlichen Pulsabstands beschreibt. Das Licht des Lasers ist vorzugsweise zufällig polarisiert, sodass emittierte elektrische Felder in zufällige Richtungen zeigen. Alternativ kann das Licht des Lasers auch linear polarisiert sein, sodass die emittierten elektrischen Felder durchweg in die gleiche Richtung zeigen. Ferner weist der Laser einen bestimmten Strahldurchmesser auf, welcher insbesondere die Querausdehnung des Strahls oder die physische Größe des Strahls senkrecht zur Ausbreitungsrichtung kennzeichnet. Der Strahldurchmesser bestimmt eine Leistungs-/Energiedichte oder eine optische Leistung/Energie pro Flächeneinheit eines Laserstrahls. Je größer der Strahldurchmesser ist, desto kleiner ist die Leistungs-/Energiedichte eines Strahls mit konstanter Leistung oder Energie. Ferner weist der Laser ein Strahlprofil auf, welches die Intensitätsverteilung in einem Querschnitt des Strahls beschreibt. Gebräuchliche Strahlprofile umfassen beispielsweise gaußsche und Flat-Top-Strahlen, deren Strahlprofile gaußförmig bzw. rechteckförmig verlaufen. Zudem hat der Laser die Eigenschaft einer Divergenz, welche eine Verbreiterung eines Strahls mit zunehmender Entfernung in Bezug auf eine Strahltaille des Lasers durch Beugung beschreibt und über einen Halbwinkel des Lasers definiert ist. Eine weitere kennzeichnende Eigenschaft des Lasers ist eine Spotgröße, welche einen Strahldurchmesser am Brennpunkt eines Fokussierlinsensystems beschreibt. Um die Leistungsdichte zu maximieren, sollte die Spotgröße bevorzugt möglichst klein gewählt werden. So können beispielsweise anstelle von konventionellen sphärischen Linsen asphärische Linsen verwendet werden, um sphärische Aberrationen zu reduzieren und kleinere Spotgrößen zu erzeugen. Zwischen dem Laser, beziehungsweise zwischen dem letzten optischen Element des Lasers, und dem Objekt, beispielsweise der Beschichtung auf der Oberfläche der Folienwalze, ein sogenannter Arbeitsabstand vor.
-
In einer weiteren möglichen Ausführungsform nach dem ersten Aspekt der Erfindung umfasst das Reinigungselement einen Dampfapplikator, der dazu ausgebildet ist, die Beschichtung mit einem Dampf abzutragen. Der Dampfapplikator ist beispielsweise als elektrischer Dampferzeuger ausgebildet, welcher den Dampf mit einstellbaren Temperaturen und bei einem einstellbaren Druck bereitstellen kann. Dafür kann der Dampfapplikator ferner eine entsprechende Steuervorrichtung aufweisen.
-
Zudem kann es sich bei dem Dampf um Wasserdampf handeln. Alternativ kann es sich bei dem Dampf um ein Lösungsmittel aus der Gruppe mit aprotischen Lösungsmitteln, protischen Lösungsmitteln und indifferenten Lösungsmitteln handeln. Die Verwendung eines Lösungsmittels kann das Abtragen der Beschichtung begünstigen. Als Lösungsmittel kann beispielsweise ein organisches Lösungsmittel wie Aceton vorgesehen sein, wobei die Wahl des Lösungsmittels von dem Material der Folienbahn abhängig ist.
-
In einer weiteren Möglichkeit umfasst das Reinigungselement einen Plasmastrahler, der dazu ausgebildet ist, die Beschichtung abzutragen. Mit dem Begriff Plasma ist insbesondere ein Gas bezeichnet, das teilweise oder vollständig aus freien Ladungsträgern, also Ionen oder Elektronen, besteht. Mit dem Plasmastrahler wird dementsprechend bevorzugt besagtes Gas auf die Folienwalze gestrahlt, um die Beschichtung zumindest teilweise abzutragen.
-
Außerdem kann vorgesehen sein, dass die Reinigungseinrichtung über einen Applikator für Reinigungsmittel zur Aufbringung auf der Oberfläche und/oder der Beschichtung auf der Oberfläche der mindestens einen mit der Folienbahn in Kontakt stehenden Folienwalze verfügt. Als Reinigungsmittel ist im Rahmen der vorliegenden Erfindung beispielsweise ein Lösungsmittel wie Aceton, eine Politurpaste und/oder Wasser vorgesehen. Der Applikator kann ferner eine Steuerung aufweisen, um das Reinigungsmittel in zeitlichen Abständen oder zu bestimmten Zeitpunkten auf der Oberfläche oder der Beschichtung auf der Oberfläche der mindestens einen mit der Folienbahn in Kontakt stehenden Folienwalze aufzubringen. Alternativ kann der Applikator das Reinigungsmittel kontinuierlich auf der Oberfläche oder der Beschichtung auf der Oberfläche der mindestens einen mit der Folienbahn in Kontakt stehenden Folienwalze aufbringen.
-
Beispielsweise ist die Reinigungseinrichtung als Reinigungseinheit ausgebildet, die ein Gehäuse aufweist, und die Reinigungseinheit bildet eine mobile Einheit, welche zur Reinigung von Oberflächen von einer Vielzahl von mit der Folienbahn in Kontakt stehenden Folienwalzen der Walzeneinrichtung verfahrbar ist. Dafür kann die Reinigungseinheit ein Schienen- und/oder ein Halterungssystem sowie eine Steuerung aufweisen, um die Reinigungseinheit zwischen den mit der Folienbahn in Kontakt stehenden Folienwalzen der Walzeneinrichtung zu verfahren. Es ist im Rahmen der vorliegenden Erfindung denkbar, dass die Reinigungseinrichtung oder die Reinigungseinheit mehrere Reinigungselemente aufweist, welche jeweils an oder in der Nähe von einer der Vielzahl von mit der Folienbahn in Kontakt stehenden Folienwalzen der Walzeneinrichtung angeordnet sind, um eine gleichzeitige, alternierende oder zeitlich beliebig durchgeführte Reinigung an den Folienwalzen zu ermöglichen. Es ist auch möglich, dass mehrere Reinigungselemente für die Reinigung einer einzelnen Folienwalze vorgesehen sind. Bei den mehreren Reinigungselementen kann es sich um dieselbe Art von Reinigungselementen, d.h. beispielsweise abrasive oder berührungslose, oder eine Kombination verschiedener Arten von Reinigungselementen handeln.
-
Nach einem zweiten Aspekt der Erfindung löst die gestellte Aufgabe eine Reinigungseinrichtung für die erfindungsgemäße Folienanlage.
-
Nach einem dritten Aspekt der Erfindung löst die gestellte Aufgabe ein Verfahren zum Reinigen von Bestandteilen von Folienanlagen zum Herstellen einer Folienbahn, insbesondere Gießfolien-, Glättwerks- oder Blasfolienanlage mit den folgenden Schritten: Bereitstellen einer Folienanlage, Bereitstellen einer eine Folienmaterial verarbeitende oder leitende Walzeneinrichtung, welche über wenigstens eine mit der Folienbahn in Kontakt stehende Folienwalze verfügt sowie Bereitstellen einer Reinigungseinrichtung, mittels der eine Oberfläche von mindestens einer mit der Folienbahn in Kontakt stehenden Folienwalze der Walzeneinrichtung in einem Betriebszustand reinigbar ist. Ferner wird eine Reinigung der mindestens einen mit der Folienbahn in Kontakt stehenden Folienwalze der Walzeneinrichtung in einem Betriebszustand durch wenigstens teilweises Abtragen einer Beschichtung auf der mindestens einen Folienwalze durchgeführt. Dies wird mit dem Reinigungselement durchgeführt, welches als abrasives oder als berührungsfreies Reinigungselement ausgebildet sein. Für die Reinigung kann eine Applikationszeit des Reinigungselementes variiert werden. Sollte für die Reinigung die Verwendung eines Lasers vorgesehen sein, kann die Applikationszeit des Lasers zwischen 30 und 90 Sekunden, insbesondere zwischen 50 und 70 Sekunden, betragen. Optional wird zusätzlich eine teilweise oder eine vollständige Rückführung der abgetragenen Beschichtung durchgeführt. Das Abtragen kann dabei bis zu der optionalen Arbeitsbeschichtung der mindestens einen Folienwalze durchgeführt werden, oder die Arbeitsbeschichtung kann teilweise oder vollständig mit abgetragen werden. Ohne Vorliegen einer Arbeitsbeschichtung kann das Abtragen die Beschichtung zum Teil oder insbesondere vollständig entfernen.
-
Zudem ist möglich, dass die Reinigung als eine traversierende Bewegung oder als eine vollflächige Reinigung durchgeführt wird. Unter der traversierenden Bewegung ist in anderen Worten insbesondere zu verstehen, dass das Reinigungselement die Oberfläche der Folienwalze axial nur zum Teil abdeckt und die Oberfläche demnach durch ein Hin- und Herfahren gereinigt wird. Bei der vollflächigen Reinigung bedeckt das Reinigungselement die gesamte axiale Breite der Oberfläche der Folienwalze komplett und muss demnach nicht verfahren werden, um die Oberfläche der Folienwalze vollständig zu reinigen.
-
Die Erfindung sei nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert. Dort zeigen
- 1 in schematischer Darstellung die Walzeneinrichtung mit einem abrasiven Reinigungselement
- 2 in schematischer Darstellung die Walzeneinrichtung mit einem Laser als Reinigungselement
- 3 in schematischer Darstellung die Walzeneinrichtung mit einem Dampfapplikator als Reinigungselement
- 4 in schematischer Darstellung die Walzeneinrichtung mit einem Plasmastrahler als Reinigungselement
- 5 in schematischer Darstellung die Walzeneinrichtung mit einem Laser als Reinigungselement sowie zusätzlich mit einem Applikator
-
1 zeigt in schematischer Darstellung eine erfindungsgemäße Walzeneinrichtung 3, welche Teil einer Folienanlage 1 ist (nicht dargestellt) und welche in dieser beispielhaften Ausführungsform drei Folienwalzen 31 aufweist. Die Folienwalzen 31 wiederum weisen eine Oberfläche 311 auf, auf welcher sich im Betrieb der Folienanlage 1 eine Beschichtung 5 ansammelt. Zwischen den Folienwalzen 31 wird formgebend auf die Folienbahn 2 eingewirkt. Ferner dargestellt ist die Maschinenrichtung MD, welche jene Richtung in der Folienanlage 1 von einem Rohmaterial zu einer fertiggestellten Folienbahn repräsentiert. Hier beispielhaft an der ersten Folienwalze 31 ist ferner eine Reinigungseinrichtung 4 angeordnet. Denkbar ist im Rahmen der Erfindung auch, dass die Reinigungseinrichtung 4 an der zweiten oder dritten oder jeweils an allen vorliegenden Folienwalzen 31 angeordnet ist. Ferner umfasst die Reinigungseinrichtung 4 ein Reinigungselement 7, welches in dieser Ausführungsform als ein abrasives Reinigungselement 7 ausgebildet ist.
-
2 unterscheidet sich von der Anordnung in 1 nur insofern, als dass das Reinigungselement 7 hierbei als ein Laser 71 und somit als ein berührungsfreies Reinigungselement 7 ausgebildet ist. Gestrichelt sind dabei skizzenhaft die Laserstrahlen eingezeichnet, welche auf die Beschichtung 5 auf der Oberfläche 311 der Folienwalze 31 einwirken. Bei dem Laser 71 handelt es sich um einen Pulslaser mit einer Frequenz in einem Bereich zwischen 150 kHz und 200 kHz. Der Laser 71 weist ferner zwei Leistungsstufen auf, wobei die erste Leistungsstufe zwischen 10 W und 30 W, und die zweite Leistungsstufe zwischen 30 W und 100 W liegt. Zudem hat der Laser 71 hat eine Wellenlänge im Bereich zwischen 400 und 1200, insbesondere 1064 nm.
-
3 weist im Gegensatz zu 1 und 2 einen Dampfapplikator 72 als Reinigungselement 7 auf, welcher, mit gestrichelten Linien dargestellt, einen Dampf 721 in Form von Wasserdampf auf die Beschichtung 5 auf der Oberfläche 311 der Folienwalze 31 appliziert. Denkbar wäre hierbei alternativ auch eine Applikation eines Lösungsmittels.
-
In 4 ist wiederum die Anordnung der Walzeneinrichtung 3 von 1 dargestellt, nur dass in dieser Ausführungsform ein Plasmastrahler 73 als berührungsfreies Reinigungselement 7 Anwendung findet.
-
5 zeigt schematisch eine weitere erfindungsgemäße Ausführungsform. Hierbei ist die Reinigungseinrichtung 4 als Reinigungseinheit ausgebildet und weist ein Gehäuse 41 auf. Zudem umfasst die Reinigungseinheit ein Reinigungselement 7 in Form eines Lasers 71 sowie einen Applikator 8 zur Applikation von Reinigungsmittel 81 auf der Oberfläche 311 der Folienwalze 31. Die Reinigungseinheit liegt in dieser beispielhaften Ausführungsform auf einer Schiene 9 vor, sodass die Reinigungseinheit für eine Reinigung der dritten Folienwalze 31 zu dieser verfahren werden kann. Die Schiene 9 soll hierbei nur skizzenhaft die erfindungsgemäße Idee darstellen, dass die Reinigungseinheit in einer Ausführungsform mobil sein und zwischen den Folienwalzen 31 verfahrbar sein kann.
-
Die hier gezeigten Ausführungsformen stellen nur Beispiele für die vorliegende Erfindung dar und dürfen daher nicht einschränkend verstanden werden. Alternative durch den Fachmann in Erwägung gezogene Ausführungsformen sind gleichermaßen vom Schutzbereich der vorliegenden Erfindung umfasst.
-
Liste der verwendeten Bezugszeichen
-
- 1
- Folienanlage
- 2
- Folienbahn
- 3
- Walzeneinrichtung
- 31
- Folienwalze
- 311
- Oberfläche
- 4
- Reinigungseinrichtung
- 41
- Gehäuse
- 5
- Beschichtung
- 7
- Reinigungselement
- 71
- Laser
- 72
- Dampfapplikator
- 721
- Dampf
- 73
- Plasmastrahler
- 8
- Applikator
- 81
- Reinigungsmittel
- 9
- Schiene
- MD
- Maschinenrichtung
