-
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Halterung zur schwingungsentkoppelten Befestigung eines Interferometers, eine Prüfvorrichtung für eine Lithographieanlage mit einer derartigen Halterung und eine Lithographieanlage mit einer derartigen Halterung.
-
Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
-
In einer Lithographieanlage werden optische Elemente, insbesondere Spiegel eingesetzt, die mittels Aktoren in bis zu sechs Freiheitsgraden hochgenau positionierbar sind. Damit können beispielsweise im Betrieb der Lithographieanlage auftretende Änderungen der optischen Eigenschaften, z. B. infolge von thermischen Einflüssen, kompensiert werden. Die Erfassung einer momentanen Position eines optischen Elements (z. B. Spiegels) der Lithographieanlage während des Betriebs der Lithographieanlage erfolgt beispielsweise mit Hilfe von Interferometern. Die Aktoren können dann über einen Regelkreis basierend auf der erfassten Position geregelt werden. Zur Überprüfung einer Funktionsfähigkeit des Spiegelmoduls mit den Aktoren und eines Regelkreises zum Regeln der Aktoren vor Inbetriebnahme einer Lithographieanlage werden beispielsweise auch Interferometer eingesetzt. Durch die Bewegung der Aktoren und damit des optischen Elements können Schwingungen verursacht werden und sich auf die Interferometer übertragen. Dies kann eine Genauigkeit bei der Überprüfung der Funktionsfähigkeit des Spiegelmoduls mittels der Interferometer in einem Prüfverfahren vor Inbetriebnahme der Lithographieanlage beeinträchtigen. Weiterhin können auch in einem Betrieb der Lithographieanlage auf das Interferometer übertragene Schwingungen die Funktionsfähigkeit eines Spiegelmoduls beeinträchtigen. Somit kann es erforderlich sein, optische Elemente der Lithographieanlage schwingungsentkoppelt zu lagern bzw. Interferometer schwingungsentkoppelt von zu vermessenden optischen Elementen zu lagern. Herkömmlich werden Interferometer zur Schwingungsdämpfung fest auf relativ schweren Trägern montiert.
-
Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, eine verbesserte Halterung zur schwingungsentkoppelten Befestigung eines Interferometers, eine Prüfvorrichtung für eine Lithographieanlage mit einer derartigen Halterung und eine Lithographieanlage mit einer derartigen Halterung bereitzustellen.
-
Demgemäß wird eine Halterung zur schwingungsentkoppelten Befestigung eines Interferometers vorgeschlagen. Die Halterung weist auf:
- eine Bodenplatte, welche dazu eingerichtet ist, auf einem Träger befestigt zu werden, und
- zwei Dachplatten, welche ein Giebeldach über der Bodenplatte bilden und sich über Seitenwände an der Bodenplatte abstützen,
- wobei jede der Dachplatten einen ersten Bereich aufweist, der an einer der Seitenwände befestigt ist, und einen von dem ersten Bereich umrahmten zweiten Bereich, der dazu eingerichtet ist, das Interferometer daran hängend zu befestigen, und
- wobei jede der Dachplatten mindestens zwei Blattfedern aufweist und der erste Bereich und der zweite Bereich ausschließlich über die mindestens zwei Blattfedern miteinander verbunden sind.
-
Die vorgeschlagene Halterung mit den Blattfedern ermöglicht eine verbesserte schwingungsentkoppelte Anbringung des Interferometers. Insbesondere ermöglichen die Blattfedern ein Interferometer auch bei niedriger Frequenz zu entkoppeln. Außerdem kann sich das Interferometer durch die hängende Befestigung reibungsfrei bewegen. Mit dem solchermaßen schwingungsentkoppelten Interferometer kann eine genauere interferometrische Messung durchgeführt werden. Beispielsweise kann eine Positionsveränderung eines optischen Elements, z. B. eines Spiegels, einer Lithographieanlage mittels eines derart gelagerten Interferometers besser ermittelt werden.
-
Das Interferometer ist insbesondere ein Interferometer zur Längenmessung. Das Interferometer ist beispielsweise ein Einstrahl-Laserinterferometer, bei dem für eine interferometrische Längenmessung lediglich ein Messstrahl verwendet wird, der von einem Messreflektor in sich selbst zurückreflektiert wird. Der Messreflektor ist beispielsweise auf einem Spiegel (z. B. am Rand eines Spiegels) einer Lithographieanlage angebracht zur Vermessung der Position des Spiegels. Beispielsweise kommen zur Überprüfung der Funktionsfähigkeit eines Spiegelmoduls der Lithographieanlage sechs jeweils in einer Halterung schwingungsentkoppelt befestigte Interferometer zum Einsatz.
-
Das Interferometer arbeitet beispielsweise mit Laserlicht eines He-Ne-Lasers. Das Interferometer arbeitet beispielsweise mit Laserlicht mit einer Wellenlänge von 632 nm.
-
Die Lichtquelle, d. h. der Laser, befindet sich beispielsweise außerhalb des schwingungsentkoppelt gelagerten Interferometers in einer externen Einheit.
-
Das Interferometer ist beispielsweise über einen Lichtleiter mit einem Laser in einer Auswerteelektronik-Einheit verbunden. Dadurch kann das schwingungsentkoppelt gelagerte Interferometer sehr kompakt gestaltet werden.
-
Das Interferometer kann beispielsweise Längen mit einer Messgenauigkeit im Sub-Nanometerbereich messen.
-
Der Träger, auf dem die Bodenplatte der Halterung befestigt ist, ist beispielsweise über dem zu vermessenden Spiegel (d. h. über einer optisch aktiven Fläche des zu vermessenden Spiegels) angeordnet. Der Träger kann aber auch unter dem zu vermessenden Spiegel angeordnet sein. Die Bodenplatte ist beispielsweise an dem Träger angeschraubt. Das Interferometer und die Halterung sind insbesondere derart angeordnet, dass ein Messstrahl des Interferometers in Richtung auf den Spiegel gerichtet werden kann. Die Halterung ist beispielsweise derart an dem Träger befestigt, dass die Bodenplatte der Halterung gegenüber einer optischen Fläche des Spiegels geneigt ist. Der Träger ist beispielsweise ein Träger einer Lithographieanlage oder ein Träger einer Prüfvorrichtung einer Lithographieanlage.
-
Die zwei Dachplatten sind insbesondere Schwingungsentkopplungs-Platten. Der erste Bereich der Dachplatten schwingt insbesondere mit der Bodenplatte und dem Träger mit. Der zweite Bereich der Dachplatten ist insbesondere gegenüber dem ersten Bereich, und damit gegenüber dem Träger, schwingungsentkoppelt.
-
Die zwei Dachplatten sind insbesondere entgegengesetzt geneigt und stehen beispielsweise in einem spitzen Winkel (z. B. von 60 Grad) zueinander. Die zwei Dachplatten treffen insbesondere in einem Dachfirst direkt oder mit Abstand aufeinander.
-
Das Interferometer ist beispielweise mittels Schrauben (z. B. mittelbar über eine Tragevorrichtung) hängend an den zweiten Bereichen der Dachplatten befestigt.
-
Der erste Bereich, der zweite Bereich und die mindestens zwei Blattfedern jeder Dachplatte sind insbesondere in einer Ebene angeordnet.
-
In Ausführungsformen weist die Halterung neben den zwei Dachplatten eine dritte Schwingungsentkopplungs-Platte auf. In diesem Fall sind die zwei Dachplatten und die dritte Schwingungsentkopplungs-Platte beispielsweise in Form eines gleichschenkligen Dreiecks zueinander angeordnet. Beispielsweise beträgt ein Winkel zwischen den zwei Dachplatten sowie zwischen jeweils einer der Dachplatten und der dritten Platte jeweils 60 Grad. Beispielsweise ist die dritte Platte parallel zu der Bodenplatte angeordnet. Die dritte Schwingungsentkopplungs-Platte ist insbesondere ähnlich wie jede der beiden Dachplatten ausgestaltet. Insbesondere weist die dritte Platte auch einen ersten Bereich, einen zweiten Bereich und mindestens zwei Blattfedern auf. Insbesondere umrahmt der erste Bereich der dritten Platte den zweiten Bereich. Insbesondere sind der erste Bereich und der zweite Bereich ausschließlich über die mindestens zwei Blattfedern miteinander verbunden. Insbesondere ist der erste Bereich der dritten Schwingungsentkopplungs-Platte (mittelbar oder unmittelbar) an der Bodenplatte befestigt.
-
Gemäß einer Ausführungsform ist die Halterung dazu eingerichtet, das Interferometer derart an dem zweiten Bereich hängend zu befestigen, dass ein Strahl des Interferometers aus einem Giebel des Giebeldaches austritt. Außerdem sind zwei erste der mindestens zwei Blattfedern jeder Dachplatte an ihrem ersten Ende an dem ersten Bereich und an ihrem zweiten Ende an dem zweiten Bereich eingespannt. Zudem erstrecken sich die zwei ersten Blattfedern jeder Dachplatte von ihrem ersten Ende zu ihrem zweiten Ende in einer Richtung, die senkrecht zu einer Richtung eines Dachfirsts des Giebeldaches ist.
-
Dadurch können die zwei ersten Blattfedern senkrecht zu einer Strahlrichtung des Interferometers angeordnet werden. Folglich ist eine Schwingungsentkopplung in Strahlrichtung des Interferometers möglich.
-
Eine Richtung des Dachfirsts des Daches ist insbesondere eine Längsrichtung des Giebeldaches und der Halterung.
-
In einer Ausführungsform, in der die Halterung eine dritte Schwingungsentkopplungs-Platte aufweist, kann auch die dritte Schwingungsentkopplungs-Platte zwei erste Blattfedern ähnlich der zwei ersten Blattfedern der Dachplatten aufweisen.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform beträgt eine Entkopplungsfrequenz der Halterung in der Richtung ihres Dachfirsts 20 Hz oder kleiner, 10 Hz oder kleiner, 7 Hz oder kleiner, 5 Hz oder kleiner und/oder 3 Hz oder kleiner.
-
Damit erfolgt die Schwingungsentkopplung in Strahlrichtung des Interferometers (insbesondere durch die zwei ersten Blattfedern) mit einer sehr kleinen Entkopplungsfrequenz. Insbesondere werden Schwingungen mit einer Frequenz, die größer als die Entkopplungsfrequenz ist, nicht und/oder kaum über die Halterung übertragen und somit abgedämpft. Folglich können Schwingungen in einem großen Frequenzbereich mittels der Halterung von dem Interferometer entkoppelt werden. Damit können Positionsveränderungen zum Beispiel eines Spiegelmoduls für eine / einer Lithographieanlage in einem Frequenzbereich (weit) oberhalb der Entkopplungsfrequenz besser ermittelt werden.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weisen die mindestens zwei Blattfedern jeder Dachplatte zwei zweite Blattfedern auf. Die zwei zweiten Blattfedern sind senkrecht zu den zwei ersten Blattfedern angeordnet. Die zwei zweiten Blattfedern sind jeweils an ihrem ersten Ende und ihrem zweiten Ende an dem ersten Bereich eingespannt. Außerdem sind die zwei ersten Blattfedern jeweils an ihrem ersten Ende an einer der zwei zweiten Blattfedern eingespannt und sind an ihrem zweiten Ende direkt an dem zweiten Bereich eingespannt.
-
Durch die in der jeweiligen Dachplatte senkrecht zu den ersten Blattfedern angeordneten zweiten Blattfedern, ermöglicht die Halterung zusätzlich zu einer Schwingungsentkopplung in Richtung des Dachfirsts der Halterung (z. B. einer Schwingungsentkopplung in einer Strahlrichtung des Interferometers) auch eine Schwingungsentkopplung des Interferometers in den zwei dazu senkrechten Raumrichtungen. Insbesondere ist somit eine Schwingungsentkopplung in drei Raumrichtungen und drei Drehrichtungen, also in sechs Freiheitsgraden, möglich. Beispielsweise ist die Schwingungsentkopplung in den drei Raumrichtungen und den drei Drehrichtungen mit unterschiedlichen Entkopplungsfrequenzen möglich, da die Blattfedern unterschiedliche Steifigkeiten aufweisen können.
-
Insbesondere sind die zwei ersten Blattfedern an ihrem ersten Ende nicht direkt an dem ersten Bereich eingespannt, sondern an einer der zwei zweiten Blattfedern und können damit auch entlang der Dachplatte nach unten oder oben (d. h. in Breiten-Richtung der Dachplatte) schwingen. Insbesondere bilden jeweils eine erste Blattfeder und eine daran befestigte zweite Blattfeder bei einer Draufsicht auf eine Dachplatte eine T-Form.
-
Insbesondere ist der zweite Bereich dazu eingerichtet, das Interferometer derart daran hängend zu befestigen, dass eine Strahlrichtung des Interferometers parallel zu den zwei zweiten Blattfedern verläuft.
-
In einer Ausführungsform, in der die Halterung eine dritte Schwingungsentkopplungs-Platte aufweist, kann auch die dritte Schwingungsentkopplungs-Platte zwei zweite Blattfedern ähnlich der zwei zweiten Blattfedern der Dachplatten aufweisen.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform beträgt eine Entkopplungsfrequenz der Halterung in beiden zur Richtung des Dachfirsts senkrechten Raumrichtungen einen Faktor 10 oder weniger, einen Faktor 20 oder weniger und/oder einen Faktor 30 oder weniger der Entkopplungsfrequenz in der Richtung des Dachfirsts.
-
Mit anderen Worten ist eine Entkopplungsfrequenz der Halterung in beiden zur Richtung des Dachfirsts senkrechten Raumrichtungen um einen Faktor ≤ 10 größer als die Entkopplungsfrequenz in der Richtung des Dachfirsts, um einen Faktor ≤ 20 größer als die Entkopplungsfrequenz in der Richtung des Dachfirsts und/oder um einen Faktor ≤ 30 größer als die Entkopplungsfrequenz in der Richtung des Dachfirsts.
-
Beispielsweise ist die Entkopplungsfrequenz in der Richtung des Dachfirsts kleiner als 6 Hz, und liegen die Entkopplungsfrequenzen in den beiden dazu senkrechten Raumrichtungen im Bereich von 30 bis 90 Hz.
-
Dadurch kann eine Schwingungsentkopplung eines Interferometers auch in Richtungen senkrecht zur Richtung des Dachfirsts der Halterung (z. B. senkrecht zur Strahlrichtung des Interferometers) bei relativ niedriger Frequenz erfolgen, d.h. ein relativ großer Frequenzbereich abgedämpft werden.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Halterung eine Tragevorrichtung auf zur hängenden Befestigung des Interferometers an dem zweiten Bereich. Die Tragevorrichtung ist an dem zweiten Bereich hängend befestigt und dazu eingerichtet, das Interferometer zu tragen.
-
Dadurch kann das Interferometer einfacher hängend an der Halterung (insbesondere hängend an dem zweiten Bereich der Dachplatten) angebracht werden. Außerdem kann ein Eigengewicht der Tragevorrichtung derart gewählt werden, dass es groß gegenüber dem üblichen Gewicht eines Interferometers ist, für das die Halterung verwendet wird. Damit kann erreicht werden, dass der Schwerpunkt des Gesamtsystems aus Halterung und Interferometer räumlich nahe bei und/oder in einem Interferometerstrahl liegt, und zwar auch für verschiedene Interferometer mit unterschiedlichen Gewichten.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Halterung einen Gewichtskraftkompensator zur Aufnahme zumindest eines Teils einer Gewichtskraft des Interferometers auf. Der Gewichtskraftkompensator weist einen an dem ersten Bereich der beiden Dachplatten befestigten ersten Magneten auf und einen zweiten Magneten, der dazu eingerichtet ist, das Interferometer daran hängend zu befestigen. Der erste Magnet ist von dem zweiten Magneten beabstandet und hält den zweiten Magneten durch magnetische Kraft.
-
Der Gewichtskraftkompensator kann auch dazu dienen, einen Teil der Gewichtskraft der Tragevorrichtung aufzunehmen.
-
Durch den Gewichtskraftkompensator kann die Halterung (insbesondere die Bodenplatte der Halterung) auch in einer nicht-waagrechten Position eingesetzt werden. Insbesondere kann der Gewichtskraftkompensator auf eine entsprechende Position justiert sein.
-
Durch die Befestigung des Interferometers (mittelbar oder unmittelbar) hängend an dem zweiten Bereich der Dachplatten, die über die Blattfedern mit dem ersten Bereich der Dachplatten verbunden sind, kann das Interferometer schwingungsentkoppelt und reibungslos gelagert werden. Durch die zusätzliche Befestigung des Interferometers (mittelbar oder unmittelbar) an dem zweiten Magneten des Gewichtskraftkompensator kann ein Teil der Gewichtskraft des Interferometer über den ersten und zweiten Magneten des Gewichtskraftkompensators von der Halterung (insbesondere dem ersten Bereich der Dachplatten und der Bodenplatte) getragen werden.
-
Als Material für den ersten Magneten und den zweiten Magneten kommt grundsätzlich jedes dauermagnetisierbare Material, insbesondere ferromagnetisches oder ferrimagnetisches Material, in Betracht.
-
Insbesondere ist der erste Magnet und der zweite Magnet ein Ringmagnet. Insbesondere ist der erste Magnet des Gewichtskraftkompensators an dem ersten Bereich der beiden Dachplatten über ein Verbindungsmittel, z. B. einen stabförmigen Kern, befestigt. Insbesondere ist der zweite Magnet dazu eingerichtet, das Interferometer daran über ein Verbindungsmittel, z. B. eine Muffe, hängend zu befestigen.
-
Beispielsweise wird das Interferometer mittels einer vorstehend beschriebenen Tragevorrichtung hängend an dem zweiten Bereich befestigt. In diesem Fall ist der zweite Magnet des Gewichtskraftkompensators, insbesondere das damit verbundene Verbindungsmittel, z. B. die Muffe, an der Tragevorrichtung befestigt.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Halterung mindestens ein Kabel auf zur Übertragung von Licht und/oder Daten an das oder von dem Interferometer. Das mindestens eine Kabel weist einen ersten Anschluss auf zur Verbindung mit einer externen Einheit und einen zweiten Anschluss zur Verbindung mit dem Interferometer. Das mindestens eine Kabel ist an der Bodenplatte und/oder dem ersten Bereich der Dachplatten in mindestens einem halterungsseitigen Anbringungspunkt befestigt. Zudem weist das mindestens eine Kabel zwischen dem halterungsseitigen Anbringungspunkt und dem zweiten Anschluss eine U-förmige Schlaufe auf.
-
Dadurch, dass das mindestens eine Kabel zur Übertragung von Licht und/oder Daten an das oder von dem Interferometer die U-förmige Schlaufe aufweist, kann erreicht werden, dass das mindestens eine Kabel die Schwingungsentkopplung durch die Blattfedern nicht beeinträchtigt.
-
Weiterhin hat das mindestens eine Kabel mit der U-förmigen Schlaufe beispielsweise eine geringere Steifigkeit als die mindestens zwei Blattfedern. Beispielsweise ist das mindestens eine Kabel leichter biegbar als die mindestens zwei Blattfedern.
-
Die externe Einheit ist beispielsweise eine externe Einheit einer Lithographieanlage oder einer Prüfvorrichtung für eine Lithographieanlage. Die externe Einheit weist beispielsweise einen Laser, eine Auswerteelektronik und/oder eine Stromversorgung für das Interferometer auf.
-
Das mindestens eine Kabel weist beispielsweise einen elektrischen Leiter, ein Datenkabel, Stromkabel und/oder einen Lichtleiter auf.
-
Gemäß einem zweiten Aspekt wird eine Prüfvorrichtung für eine Lithographieanlage vorgeschlagen. Die Prüfvorrichtung weist einen Träger und eine wie vorstehend beschriebene Halterung auf. Die Bodenplatte der Halterung ist auf dem Träger befestigt ist. Außerdem weist die Prüfvorrichtung ein Interferometer auf, das an dem zweiten Bereich der Halterung befestigt ist.
-
Insbesondere können mit der Prüfvorrichtung Spiegelmodule der Lithographieanlage geprüft werden.
-
Beispielsweise kann mittels des schwingungsentkoppelt gelagerten Interferometers eine Positionsveränderung eines Spiegels (Spiegelmoduls) der Lithographieanlage besser ermittelt werden. Insbesondere kann eine Positionsveränderung des Spiegels (Spiegelmoduls) im Frequenzbereich oberhalb der Entkopplungsfrequenz besser ermittelt werden. Dadurch kann beispielsweise eine stabile Regelung des Spiegelmoduls (zur Regelung von Aktoren des Spiegelmoduls) mit hoher Regelungsbandbreite erreicht werden.
-
Gemäß einem dritten Aspekt wird eine Lithographieanlage vorgeschlagen. Die Lithographieanlage weist einen Träger und eine wie vorstehend beschriebene Halterung auf. Die Bodenplatte der Halterung ist auf dem Träger befestigt. Außerdem weist die Lithographieanlage ein Interferometer auf, das an dem zweiten Bereich der Halterung befestigt ist.
-
Beispielsweise kann mittels des schwingungsentkoppelt gelagerten Interferometers eine Positionsveränderung eines Spiegels der Lithographieanlage während eines Betriebs der Lithographieanlage besser ermittelt werden. Dadurch kann beispielsweise eine stabile Regelung des Spiegelmoduls (zur Regelung von Aktoren des Spiegelmoduls) mit hoher Regelungsbandbreite in einem Betrieb der Lithographieanlage erreicht werden.
-
Die Lithographieanlage ist zum Beispiel eine DUV- oder eine EUV-Lithographieanlage. Dabei steht EUV für „extremes Ultraviolett“ (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Weiterhin steht DUV für „tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm.
-
Die DUV- oder EUV-Lithographieanlage umfasst ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem. Insbesondere wird mit der DUV- oder EUV-Lithographieanlage das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
-
Gemäß einer Ausführungsform des zweiten und/oder dritten Aspekts weist die Halterung einen Gewichtskraftkompensator auf zur Aufnahme zumindest eines Teils einer Gewichtskraft des Interferometers. Der Gewichtskraftkompensator weist einen an dem ersten Bereich der beiden Dachplatten befestigten ersten Magneten auf und einen zweiten Magneten, an dem das Interferometer hängend befestigt ist. Weiterhin ist der erste Magnet von dem zweiten Magneten beabstandet und hält der erste Magnet den zweiten Magneten durch magnetische Kraft.
-
Der Gewichtskraftkompensator kann auch zur Aufnahme zumindest eines Teils einer Gewichtskraft der Tragevorrichtung dienen.
-
„Ein“ ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.
-
Die für die Halterung beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für die vorgeschlagene Prüfvorrichtung und Lithographieanlage entsprechend und umgekehrt.
-
Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.
-
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.
- 1A zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer EUV-Lithographieanlage;
- 1B zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer DUV-Lithographieanlage;
- 2 zeigt eine Spiegelmodulprüfvorrichtung zum Testen eines Spiegels der EUV- oder DUV-Lithographieanlage aus 1A, 1B;
- 3 zeigt eine vergrößerte Ansicht einer Interferometer-Halterung der Spiegelmodulprüfvorrichtung aus 2;
- 4 zeigt eine Ansicht ähnlich 3, jedoch ohne eine Abdeckung der Interferometer-Halterung und ohne Interferometer;
- 5 zeigt eine Draufsicht auf eine Dachplatte bzw. eine dritte Platte der Interferometer-Halterung aus 4;
- 6 zeigt eine Tragevorrichtung der Interferometer-Halterung aus 4;
- 7 zeigt einen Gewichtskraftkompensator der Interferometer-Halterung aus 4 im Querschnitt;
- 8 zeigt den Gewichtskraftkompensator aus 7 in einer teilweise perspektivischen und teilweisen Querschnitts-Ansicht;
- 9 zeigt eine perspektivische Ansicht eines ersten Magneten und eines stabförmigen Kerns des Gewichtskraftkompensators aus 7 und 8;
- 10 zeigt eine perspektivische Ansicht eines zweiten Magneten und einer Muffe des Gewichtskraftkompensators aus 7 und 8; und
- 11 zeigt die Interferometer-Halterung aus 3 und 4 mit mindestens einem Kabel.
-
In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.
-
1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht EUV für „extremes Ultraviolett“ (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind jeweils in einem nicht gezeigten Vakuum-Gehäuse vorgesehen, wobei jedes Vakuum-Gehäuse mit Hilfe einer nicht dargestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum-Gehäuse sind von einem nicht dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren beziehungsweise Einstellen von optischen Elementen vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein.
-
Die EUV-Lithographieanlage 100A weist eine EUV-Lichtquelle 106A auf. Als EUV-Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle (oder ein Synchrotron) vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV-Bereich (extrem ultravioletter Bereich), also beispielsweise im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 20 nm, aussendet. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebündelt und die gewünschte Betriebswellenlänge aus der EUV-Strahlung 108A herausgefiltert. Die von der EUV-Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und im Projektionssystem 104 evakuiert sind.
-
Das in 1A dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf eine Photomaske (Engl.: reticle) 120 geleitet. Die Photomaske 120 ist ebenfalls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 122 auf die Photomaske 120 gelenkt werden. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.
-
Das Projektionssystem 104 (auch als Projektionsobjektiv bezeichnet) weist sechs Spiegel M1 bis M6 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Spiegel M1 bis M6 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein, oder sie können auch ohne Bezug auf eine optische Achse angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel M1 bis M6 der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel M1 bis M6 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel M1 bis M6 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
-
1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 100B, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht DUV für „tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 können - wie bereits mit Bezug zu 1A beschrieben - in einem Vakuumgehäuse angeordnet und/oder von einem Maschinenraum mit entsprechenden Antriebsvorrichtungen umgeben sein.
-
Die DUV-Lithographieanlage 100B weist eine DUV-Lichtquelle 106B auf. Als DUV-Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emittiert.
-
Das in 1B dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 leitet die DUV-Strahlung 108B auf eine Photomaske 120. Die Photomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.
-
Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 128 und/oder Spiegel 130 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Linsen 128 und/oder Spiegel 130 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen 128 und Spiegel 130 der DUV-Lithographieanlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen 128 und/oder Spiegel 130 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel 130 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
-
Ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 128 und dem Wafer 124 kann durch ein flüssiges Medium 132 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 aufweist. Das flüssige Medium 132 kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf. Das Medium 132 kann auch als Immersionsflüssigkeit bezeichnet werden.
-
Es kann erforderlich sein, Spiegel der Lithographieanlage 100A, 100B exakt zu positionieren, wie beispielsweise die in den 1A und 1B gezeigten Spiegel 110 bis 118, 122, 130 und M1 bis M6. Dazu werden die jeweiligen Spiegel mit Hilfe von Aktoren (nicht gezeigt) bewegt. Beispielsweise wird die Position eines jeweiligen Spiegels während des Betriebs der Lithographieanlage 100A, 100B überprüft und über einen Regelkreis geregelt. Um die momentane Position eines jeweiligen Spiegels vor Inbetriebnahme oder während des Betriebs der Lithographieanlage 100A, 100B zu erfassen werden Interferometer eingesetzt. Diese können auch dazu dienen, vor der ersten Inbetriebnahme und/oder vor dem Zusammenbau der Lithographieanlage 100A, 100B die Funktionsfähigkeit der Aktoren und des Regelkreises in einer Prüfvorrichtung zu überprüfen.
-
2 zeigt eine Spiegelmodulprüfvorrichtung 200 mit einem Spiegelmodul 202. Das Spiegelmodul 202 umfasst einen Spiegel 204; dies kann jeder der Spiegel 110 bis 118, 122, 130 und M1 bis M6 der Lithographieanlagen 100A, 100B sein. Der Spiegel 204 weist eine in 2 nach oben zeigende optisch aktive Fläche 206 auf.
-
2 zeigt einen Aufbau zur Überprüfung des Spiegelmoduls 202 vor dem Zusammenbau der Lithographieanlage 100A, 100B und der ersten Inbetriebnahme der Lithographieanlage 100A, 100B. Beispielsweise wird dabei die Funktionsfähigkeit von Aktoren zum Bewegen des Spiegelmoduls 202 und eines Regelkreises zum Regeln der Position des Spiegels 204 überprüft. Dazu ist über dem Spiegelmodul 202, insbesondere über der optisch aktiven Fläche 206 des Spiegels 204, ein Träger 208 angeordnet, an dem sechs Interferometer (3) jeweils mit Hilfe einer Halterung 210 befestigt sind. In der perspektivischen Darstellung von 2 sind lediglich vier der sechs Interferometer-Halterungen 210 sichtbar.
-
3 zeigt eine vergrößerte Ansicht einer der Halterungen 210, in der ein Interferometer 212 befestigt ist. Die in den Halterungen 210 aufgenommenen Interferometer 212 sind beispielsweise Einstrahl-Interferometer, bei denen für eine interferometrische Messung lediglich ein Messstrahl 214 verwendet wird, der von einem Messreflektor 216 (2) in sich selbst zurückreflektiert wird.
-
In 2 ist einer der auf dem Spiegel 204 angebrachten Messreflektoren (Target-Spiegel) 216 mit einem Bezugszeichen versehen. Die Messreflektoren 216 sind beispielsweise am Rand der optisch aktiven Fläche 206 oder neben der optisch aktiven Fläche 206 des Spiegels 204 angebracht (z. B. aufgeklebt).
-
Mit Hilfe von sechs Interferometern 212 und sechs Messreflektoren 216 kann die Position des Spiegels 204 in Hinblick auf sechs Freiheitsgrade (drei translatorische und drei rotatorische) bestimmt werden.
-
Wird das Spiegelmodul 202 (2) mit Hilfe der Aktoren (nicht gezeigt) bewegt, so können Schwingungen des Spiegelmoduls 202 entstehen. Ohne eine Schwingungsentkopplung zwischen dem Spiegelmodul 202 und den in den Halterungen 210 aufgenommenen Interferometern 212 (3), würden sich die Schwingungen auf die Interferometer 212 übertragen und eine Positionsvermessung des Spiegels 204 des Spiegelmoduls 202 mit Hilfe der Interferometer 212 beeinträchtigen. Insbesondere führen Schwingungen der Interferometer 212 zu Messfehlern, da sie zu Weglängenunterschieden zwischen dem jeweiligen Messstrahl 214 (3) und dem von dem entsprechenden Messreflektor 216 (2) zurückreflektierten Strahl führen, die ihre Ursache nicht in einer Bewegung des zu vermessenden Zielobjekts (hier der Spiegel 204) sondern in einer Bewegung des Interferometers 212 selbst haben.
-
Wie in 2 gezeigt, kann eine Schwingungsentkopplung zwischen dem Spiegelmodul 202 und den in den Halterungen 210 aufgenommenen Interferometern 212 über mehrere Stufen erfolgen. Zunächst ist das Spiegelmodul 202 auf einer Adapterplatte 218 befestigt. Die Adapterplatte 218 ist auf einem schweren Granitblock 220 gelagert, beispielsweise über Säulen 222. Die Lagerung der Adapterplatte 218 auf dem Granitblock 220 über die Säulen 222 kann beispielsweise schwingungsentkoppelt (nicht gezeigt) ausgeführt werden. Des Weiteren stellt der Granitblock 220 selbst aufgrund seiner physikalischen Eigenschaften (Masse und hohe erste Eigenfrequenz) einen wichtigen Teil des Schwingungsisolationskonzeptes des gesamten Prüfstands dar. Der Granitblock 220 ist wiederum über (z. B. vier) Luftdämpfer 224 (Engl.: air mounts) auf einem Boden (z. B. einer Werkhalle) gelagert und so von Schwingungen des Bodens entkoppelt.
-
Der Träger 208 ist über (z. B. drei) Säulen 226 auf dem Granitblock 220 gelagert. Diese Lagerung kann auch schwingungsentkoppelt (Bezugszeichen 228) ausgeführt werden. Die Interferometer-Halterungen 210 sind an dem Träger 208 befestigt, z. B. mittels Schrauben. In einer letzten Schwingungsentkopplungsstufe sind die Interferometer 212 schwingungsentkoppelt in der jeweiligen Halterung 210 befestigt, wie im Folgenden beschrieben.
-
Die in den 3 und 4 als vergrößerte Ansicht gezeigte Halterung 210 weist eine Bodenplatte 230 auf, welche an dem Träger 208 (2) befestigt ist. Beispielsweise weist die Bodenplatte 230 mehrere Durchgangsöffnungen 232 auf für eine Schraubverbindung 234 mit dem Träger 208. Weiterhin weist die Halterung 210 zwei Dachplatten 236 auf, welche geneigt zueinander angeordnet sind, so dass sie ein Giebeldach 238 über der Bodenplatte 230 bilden. Über dem Giebeldach 238 ist eine Abdeckung 239 angeordnet, wie in 3 zu sehen ist. 3 zeigt außerdem einen Teil des Interferometers 212, das derart angeordnet ist, dass sein Strahl 214 aus einem Giebel G des Giebeldaches 238 austritt. Zur Veranschaulichung zeigt 4 die Halterung 210 ohne der Abdeckung 239 und ohne das Interferometer 212.
-
Wie in 4 gezeigt, weist jede der beiden Dachplatten 236 einen ersten Bereich 240 und einen zweiten Bereich 242 auf. Der erste Bereich 240 jeder Dachplatte 236 ist über Seitenplatten 244 an der Bodenplatte 230 befestigt. Die Befestigung des ersten Bereichs 240 jeder Dachplatte 236 an der Seitenplatte 244 erfolgt beispielsweise mittels Schrauben 246 und entsprechender Durchgangsöffnungen 248 des ersten Bereichs 240.
-
Der zweite Bereich 242 jeder Dachplatte 236 wird insbesondere von dem ersten Bereich 236 umrahmt. An den beiden zweiten Bereichen 242 der beiden Dachplatten 236 ist das Interferometer 212 (3) hängend befestigt. Beispielsweise weist jeder der zweiten Bereiche 242 (z. B. zwei) Durchgangsöffnungen 250 auf für eine Schraubverbindung 252 mit dem Interferometer 212.
-
Zur Schwingungsentkopplung zwischen der an dem Träger 208 (2) befestigten Bodenplatte 230 der Halterung 210 und dem in der Halterung 210 aufgenommenen Interferometer 212 (3) sind der erste Bereich 240 und der zweite Bereich 242 jeder der Dachplatten 236 ausschließlich über mindestens zwei Blattfedern 254, 256 (beispielsweise zwei erste Blattfedern 254 und zwei zweite Blattfedern 256) miteinander verbunden.
-
5 zeigt eine Draufsicht auf eine der Dachplatten 236. Der zweite Bereich 242 der Dachplatte 236 ist lediglich an zwei mit P gekennzeichneten Punkten über die Blattfedern 254, 256 mit dem ersten Bereich 240 verbunden. Außer dieser Verbindung besteht zwischen einem Außenrand 258 des zweiten Bereichs 242 und einem Innenrand 260 des ersten Bereichs 240 eine Lücke 262, 264, 268. Die Lücke 262 (5) zwischen dem Außenrand 258 und dem Innenrand 260 beträgt beispielsweise 1,2 mm. Die Lücke 264 zwischen dem Außenrand 258 und dem Innenrand 260 beträgt beispielsweise 1,0 mm. Der zweite Bereich 242 weißt beispielsweise (z. B. vier) Abstandshalter 266 auf. Die Lücke 268 zwischen dem Außenrand 258 und dem Innenrand 260 bei einem der Abstandshalter 266 beträgt beispielsweise 0,3 mm. Die Abstandshalter 266 dienen beispielsweise dazu, eine bei der Schwingungsentkopplung über die Blattfedern 254, 256 auftretende Bewegung des ersten Bereichs 240 relativ zum zweiten Bereich 242 zu begrenzen (Engl.: end of stroke).
-
Die zwei ersten Blattfedern 254 der Dachplatte 236 sind jeweils an ihrem ersten Ende 270 an einer der zweiten Blattfedern 256 eingespannt, d. h. befestigt. Weiterhin sind die zwei ersten Blattfedern 254 jeweils an ihrem zweiten Ende 272 an dem zweiten Bereich 242 eingespannt, d. h. befestigt. Außerdem sind die zwei zweiten Blattfedern 256 jeweils an ihrem ersten Ende 276 und ihrem zweiten Ende 278 an dem ersten Bereich 240 befestigt. Folglich sind die zwei ersten Blattfedern 254 jeweils an ihrem ersten Ende 270 über eine der zweiten Blattfedern 256 an dem ersten Bereich 240 befestigt.
-
Die zwei zweiten Blattfedern 256 sind insbesondere jeweils senkrecht zu den zwei ersten Blattfedern 254 angeordnet. Weiterhin bilden eine jeweilige erste Blattfeder 254 und eine jeweilige zweite Blattfeder 265 gemeinsam eine T-Form (5).
-
Die ersten Blattfedern 254 erstrecken sich von ihrem ersten Ende 270 zu ihrem zweiten Ende 272 entlang einer Breiten-Richtung B der Dachplatte 236. Die ersten Blattfedern 254 erstrecken sich insbesondere senkrecht zu einer Z-Richtung der Halterung 210. Die Z-Richtung der Halterung 210 entspricht insbesondere einer Längen-Richtung der Dachplatte 236 (5) und einer Erstreckungsrichtung eines Dachfirsts 274 des Giebeldaches 238 (4). Die Z-Richtung der Halterung 210 kann außerdem einer Strahlrichtung S eines Laserstrahls 214 des Interferometers 212 entsprechen (3).
-
Eine Schwingung der ersten Blattfedern 254 ermöglicht eine Schwingungsentkopplung des zweiten Bereichs 242 von dem ersten Bereich 240 in Z-Richtung der Halterung 210 und somit beispielsweise in Strahlrichtung S des Interferometers 212. Durch eine geringe Federsteifigkeit der Blattfedern 254 kann insbesondere eine geringe Entkopplungsfrequenz in Z-Richtung erreicht werden. Die Entkopplungsfrequenz in Z-Richtung beträgt beispielsweise 5 Hz, so dass Schwingungen in Z-Richtung mit einer Frequenz größer als 5 Hz abgedämpft werden können.
-
Zudem ist durch die zweiten Blattfedern 256 eine Schwingungsentkopplung des zweiten Bereichs 242 von dem ersten Bereich 240 in X-Richtung und Y-Richtung der Halterung 210 (4) möglich. Beispielsweise beträgt eine Entkopplungsfrequenz in X- und Y-Richtung - 30 - 90 Hz, so dass Schwingungen in X- und Y-Richtung mit einer Frequenz größer als - 30 - 90 Hz abgedämpft werden können.
-
Die zwei ersten Blattfedern 254 können jeweils in ihrer Längsrichtung (Breiten-Richtung B der Dachplatte 236, 5) einen ersten Abschnitt 280, einen verdickten und/oder verstärkten zweiten Abschnitt 282 und einen dritten Abschnitt 284 aufweisen. Insbesondere ist ein Querschnitt in Z-Richtung des zweiten Abschnitts 282 größer als ein Querschnitt in Z-Richtung des ersten und des dritten Abschnitts 280, 284. Beispielsweise beträgt ein Querschnitt in Z-Richtung des ersten und dritten Abschnitts 0,3 mm x 3 mm. Beispielsweise beträgt ein Querschnitt in Z-Richtung des zweiten Abschnitts 282 1,5 mm x 3 mm. Durch den verstärkten zweiten Abschnitt 282 ist die Blattfeder 254 stabiler. Des Weiteren vereinfacht er eine Handhabung und/oder eine Fertigung der Blattfeder 254.
-
6 zeigt eine Tragevorrichtung 602 der Halterung 210 zur hängenden Befestigung des Interferometers 212 an dem zweiten Bereich 242 der Dachplatten 236. Von der Halterung 210 sind in 6 nur die beiden Dachplatten 236, eine dritte Platte 236' und die Tragevorrichtung 602 gezeigt, während der Rest der Halterung 210 aus Gründen der Übersicht weggelassen wurde.
-
Wie in 6 gezeigt, kann die Halterung 210 in Ausführungsformen zusätzlich zu den beiden Dachplatten 236 mit den Blattfedern 254, 256 auch eine dritte Schwingungsentkopplungs-Platte 236' aufweisen, die oberhalb der Bodenplatte 230 angeordnet ist. Die dritte Platte 236' ist ähnlich wie jede der beiden Dachplatten 236 ausgestaltet. Insbesondere weist die dritte Platte 236' auch einen ersten Bereich 240, einen zweiten Bereich 242 und Blattfedern 254, 256 auf, wie in 5 gezeigt.
-
Die Tragevorrichtung 602 ist an den zweiten Bereichen 242 der Dachplatten 236 und ggf. der dritten Platte 236' befestigt. Außerdem wird das Interferometer 212 (nicht gezeigt in 6) in einem Raum 604 der Tragevorrichtung 602 aufgenommen und von der Tragevorrichtung 602 getragen. Das Interferometer 212 kann beispielsweise auf einem Boden 606 der Tragevorrichtung 602 montiert sein (z. B. verschraubt).
-
Ein Eigengewicht der Tragevorrichtung 602 kann beispielsweise derart gewählt werden, dass es gegenüber dem üblichen Gewicht eines Interferometers 212, für das die Halterung 210 verwendet wird, groß ist. Damit kann erreicht werden, dass der Schwerpunkt des Gesamtsystems aus Halterung 210 und Interferometer 212 nahe bei und/oder in dem Interferometerstrahl 214 liegt, und zwar auch für verschiedene Interferometer 212 mit unterschiedlichen Gewichten. Die Tragevorrichtung 602 hat beispielsweise ein Gewicht von 1 kg.
-
Durch die Befestigung des Interferometers 212 an dem zweiten Bereich 242 der Dachplatten 236 und ggf. dem zweiten Bereich 242 der dritten Platte 236' (z. B. über die Tragevorrichtung 602), kann das Interferometer 212 schwingungsentkoppelt und reibungslos gelagert werden, weil der jeweilige zweite Bereich 242 nur über die Blattfedern 254, 256 mit dem ersten Bereich 240 physisch verbunden ist. Jedoch sind die Blattfedern 254, 256 relativ fein ausgestaltet und können nur eine begrenzte Gewichtskraft tragen. Deshalb weist die Halterung 210 in Ausführungsformen einen Gewichtskraftkompensator 702 (7-10) auf zur Aufnahme zumindest eines Teils einer Gewichtskraft des Interferometers 212 und ggf. der Tragevorrichtung 602. Der Gewichtskraftkompensator 702 kann auch zumindest einen Teil einer Gewichtskraft eines Kabels (11) aufnehmen.
-
7 zeigt den Gewichtskraftkompensator 702 im Querschnitt und 8 in einer teilweise perspektivischen Ansicht und einer teilweisen Querschnittsansicht.
-
Der Gewichtskraftkompensator 702 weist einen ersten Magneten 704 und einen zweiten Magneten 706 auf. Der erste und zweite Magnet 704, 706 sind beispielsweise Permanentmagnete. Der erste und zweite Magnet 704, 706 sind insbesondere Ringmagnete. Der erste Magnet 704 ist insbesondere ein um einen Kern 708 herum angeordneter Magnet mit einer zylindrischen Form. Der erste Magnet 704 weist beispielsweise zwei Abschnitte 710, 712 auf, zwischen welchen in Z-Richtung, ein Abstandshalter 714 angeordnet ist. Der Kern 708 hat beispielsweise eine Stabform und ist an seinen beiden Enden 716, 718 an dem ersten Bereich 240 der Dachplatten 236 (4) befestigt. 9 zeigt eine perspektivische Ansicht des ersten Magneten 704 und des stabförmigen Kerns 708.
-
Der zweite Magnet 706 ist insbesondere ein innerhalb einer Muffe 720 angeordneter zylinderförmiger Magnet (8). Insbesondere ist der zweite Magnet 706 innerhalb einer Öffnung 722 der Muffe 720 angeordnet. 10 zeigt eine perspektivische Ansicht der Muffe 720 und des zweiten Magneten 706. Wie in den 7, 8 und 10 zu sehen, weist der zweite Magnet 706 eine Öffnung 724 auf, innerhalb der der erste Magnet 704 derart angeordnet ist, dass er von dem zweiten Magneten 706 beabstandet ist. Insbesondere gibt es keine mechanische Verbindung zwischen dem ersten Magneten 704 und dem zweiten Magneten 706.
-
Die Muffe 720 ist mit dem zweiten Bereich 242 der Dachplatten 236 (4), beispielsweise über die Tragevorrichtung 602 (6), mechanisch verbunden. Beispielsweise ist die Muffe 720 an der Tragevorrichtung 602 festgeschraubt. Die Muffe 720 hat keinen physischen Kontakt zu dem ersten Bereich 240 der Dachplatten 236, so dass über den Gewichtskraftkompensator 702 keine Schwingung von dem ersten Bereich 240 auf den zweiten Bereich 242 übertragen wird.
-
Da die Muffe 720 mit dem Interferometer 212, beispielsweise über die Tragevorrichtung 602 (6), mechanisch verbunden ist, kann sie einen Teil der Gewichtskraft des Interferometers 212 und ggf. der Tragevorrichtung 602 aufnehmen. Die Muffe 720 wird mittels einer magnetischen Kraft zwischen dem ersten Magnet 704 und dem zweiten Magneten 706 an dem stabförmigen Kern 708 gehalten, ohne mit diesem mechanisch verbunden zu sein. Folglich kann der Gewichtskraftkompensator 702 eine Gewichtskraft des Interferometers 212 und ggf. der Tragevorrichtung 602 zumindest teilweise aufnehmen. Dadurch müssen die Blattfedern 254, 256 nicht die gesamte Stützlast des Interferometers 212 und ggf. der Tragevorrichtung 602 tragen.
-
Bei dem Abstandshalter 714 handelt es sich um einen auswechselbaren Abstandshalter. Insbesondere können Abstandshalter 714 mit unterschiedlichen Längen in Z-Richtung zum Einsatz kommen, so dass der Gewichtskraftkompensator 702 eine an die Gewichtskraft des Interferometers 212 anpassbare Kraft bereitstellen kann.
-
Wenn die Bodenplatte 230 der Halterung 210 waagerecht („im Wasser“) in Bezug auf den Träger 220 (2) angeordnet ist, ist insbesondere keine Gewichtskraftkompensation erforderlich. Die gesamte Gewichtskraft der Halterung 210 mit dem Interferometer 212 zeigt dann in Richtung des Trägers 220 und wird von den Blattfedern 254, 256 getragen. Ist die Bodenplatte 230 jedoch in einem Winkel relativ zu dem Träger 220 angeordnet, so wirkt die Gewichtskraft - abhängig vom Winkel - nicht nur in Richtung des Trägers 220, sondern auch in einer Richtung senkrecht zu dieser Richtung. Mittels des Gewichtskraftkompensators 702 kann die Gewichtskraft dann kompensiert werden. Damit kann vermieden werden, dass die Gewichtskraft den zweiten Bereich 242 der Dachplatten 236 in den Anschlag (bei P in 5) drückt. Die Länge des Abstandshalters 714 kann abhängig von dem Winkel zwischen der Bodenplatte 230 und dem Träger 220 gewählt werden. Je größer der Winkel, desto größer die zu kompensierende Gewichtskraft, desto kürzer der Abstandshalter 714.
-
Wie in 11 gezeigt, kann die Halterung 210 mindestens ein Kabel 1102, 1104 aufweisen zur Übertragung von Licht und/oder Daten an das oder von dem Interferometer 212. In 11 sind zwei Kabel 1102, 1104 gezeigt. Jedes der Kabel 1102, 1104 weist einen ersten Anschluss 1106 auf zur Verbindung mit einer externen Einheit 1108 (wie beispielsweise einer Auswerteelektronik-Einheit und/oder eines Lasers). Die externe Einheit ist beispielsweise eine Einheit der Lithographieanlage 100A, 100B (1A, 1B) oder der Prüfvorrichtung 200 (2). Außerdem weist jedes Kabel 1102, 1104 einen zweiten Anschluss 1110 auf zur Verbindung mit dem Interferometer 212. Die Kabel 1102, 1104 sind an der Bodenplatte 230 (Anbringungspunkt / Befestigungsmittel 1112) und dem ersten Bereich 240 der Dachplatten 236 (Anbringungspunkte / Befestigungsmittel 1114, 1116) befestigt.
-
Zwischen den halterungsseitigen Anbringungspunkten 1112, 1114, 1116, insbesondere dem halterungsseitigen Anbringungspunkt 1116, und dem zweiten Anschluss 1110 weist jedes der Kabel 1102, 1104 eine U-förmige Schlaufe 1118 auf. Die U-förmige Schlaufe 1118 stellt sicher, dass die Kabel 1102, 1104 die Schwingungsentkopplung durch die Blattfedern 254, 256 (4) nicht beeinträchtigen.
-
Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar.
-
Bezugszeichenliste
-
- 100A
- EUV-Lithographieanlage
- 100B
- DUV-Lithographieanlage
- 102
- Strahlformungs- und Beleuchtungssystem
- 104
- Projektionssystem
- 106A
- EUV-Lichtquelle
- 106B
- DUV-Lichtquelle
- 108A
- EUV-Strahlung
- 108B
- DUV-Strahlung
- 110
- Spiegel
- 112
- Spiegel
- 114
- Spiegel
- 116
- Spiegel
- 118
- Spiegel
- 120
- Photomaske
- 122
- Spiegel
- 124
- Wafer
- 126
- optische Achse
- 128
- Linse
- 130
- Spiegel
- 132
- Medium
- 200
- Spiegelmodulprüfvorrichtung
- 202
- Spiegelmodul
- 204
- Spiegel
- 206
- optisch aktiven Fläche
- 208
- Träger
- 210
- Halterung
- 212
- Interferometer
- 214
- Messstrahl
- 216
- Messreflektor
- 218
- Adapterplatte
- 220
- Granitblock
- 222
- Säulen
- 224
- Luftdämpfer
- 226
- Säulen
- 228
- Schwingungsentkopplung
- 230
- Bodenplatte
- 232
- Durchgangsöffnungen
- 234
- Schraubverbindung
- 236
- Dachplatte
- 238
- Giebeldach
- 239
- Abdeckung
- 240
- erster Bereich
- 242
- zweiter Bereich
- 244
- Seitenplatte
- 246
- Schraube
- 248
- Durchgangsöffnung
- 250
- Durchgangsöffnung
- 252
- Schraubverbindung
- 254
- erste Blattfeder
- 256
- zweite Blattfeder
- 258
- Außenrand
- 260
- Innenrand
- 262
- Lücke
- 264
- Lücke
- 266
- Abstandshalter
- 268
- Lücke
- 270
- erstes Ende
- 272
- zweites Ende
- 274
- Dachfirst
- 276
- erstes Ende
- 278
- zweites Ende
- 280
- erster Abschnitt
- 282
- zweiter Abschnitt
- 284
- dritter Abschnitt
- 602
- Tragevorrichtung
- 604
- Raum
- 606
- Boden
- 702
- Gewichtskraftkompensator
- 704
- erster Magnet
- 706
- zweiter Magnet
- 708
- Kern
- 710
- Abschnitt
- 712
- Abschnitt
- 714
- Abstandshalter
- 716
- Ende
- 718
- Ende
- 720
- Muffe
- 722
- Öffnung
- 724
- Öffnung
- 1102
- Kabel
- 1104
- Kabel
- 1106
- erster Anschluss
- 1108
- Einheit
- 1110
- zweiter Anschluss
- 1112
- Anbringungspunkt
- 1114
- Anbringungspunkt
- 1116
- Anbringungspunkt
- 1118
- U-förmige Schlaufe
- B
- Richtung
- G
- Giebel
- M1
- Spiegel
- M2
- Spiegel
- M3
- Spiegel
- M4
- Spiegel
- M5
- Spiegel
- M6
- Spiegel
- P
- Punkt
- S
- Richtung
- X
- Richtung
- Y
- Richtung
- Z
- Richtung
