DE102021210671A1

DE102021210671A1 - INTENSITY ADJUSTING FILTER FOR AN OPTICAL ASSEMBLY AND OPTICAL ASSEMBLY WITH A RESPECTIVE INTENSITY ADJUSTING FILTER AND METHOD OF MANUFACTURE THEREOF

Info

Publication number: DE102021210671A1
Application number: DE102021210671.4A
Authority: DE
Inventors: Mario Längle; Matthias Cumme
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2021-09-24
Filing date: 2021-09-24
Publication date: 2022-12-01

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Intensitätsanpassungsfilter für eine optische Anordnung, mit welchem die Intensität von einfallendem Licht (6), die den Intensitätsanpassungsfilter (1) durchläuft, angepasst wird, sodass den Intensitätsanpassungsfilter verlassendes Licht (8) eine angepasste Intensität aufweist, wobei der Intensitätsanpassungsfilter mindestens ein Filterelement (2) mit einem Substrat (3) und einer Filterfläche (4) aufweist, auf die das einfallende Licht (6) auftrifft und die an dem Substrat (3) angeordnet ist, wobei am Substrat (3) strahlablenkende Strukturen angeordnet sind, sodass zumindest ein Teil des einfallenden Lichts (6) aus dem den Intensitätsanpassungsfilter verlassenden Licht ausgelenkt ist.The present invention relates to an intensity adjustment filter for an optical arrangement, with which the intensity of incident light (6) that passes through the intensity adjustment filter (1) is adjusted so that the light (8) leaving the intensity adjustment filter has an adjusted intensity, the intensity adjustment filter being at least has a filter element (2) with a substrate (3) and a filter surface (4) onto which the incident light (6) impinges and which is arranged on the substrate (3), beam-deflecting structures being arranged on the substrate (3), so that at least part of the incident light (6) is deflected from the light leaving the intensity adjustment filter.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Intensitätsanpassungsfilter für eine optische Anordnung, mit welchem die Intensität von einfallendem Licht, die den Intensitätsanpassungsfilter durchläuft, angepasst wird, sodass den Intensitätsanpassungsfilter verlassendes Licht eine angepasste Intensität aufweist, wobei der Intensitätsanpassungsfilter mindestens ein Filterelement mit einem Substrat und einer Filterfläche aufweist, auf die das einfallende Licht auftrifft und die an dem Substrat angeordnet ist. Außerdem betrifft die Erfindung eine optische Anordnung mit einem Intensitätsanpassungsfilter und ein Verfahren zur Herstellung eines Intensitätsanpassungsfilters.The present invention relates to an intensity adjustment filter for an optical arrangement, with which the intensity of incident light passing through the intensity adjustment filter is adjusted, so that the light leaving the intensity adjustment filter has an adjusted intensity, the intensity adjustment filter having at least one filter element with a substrate and a filter surface , on which the incident light impinges and which is arranged on the substrate. The invention also relates to an optical arrangement with an intensity adjustment filter and a method for producing an intensity adjustment filter.

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

Um bei optischen Anordnungen eine gewünschte Aus - bzw. Beleuchtung zu erreichen, ist es notwendig die Beleuchtungsintensität variabel einzustellen. Beispielsweise ist in der DE 10 2009 041 405 A1 ein Maskeninspektionsmikroskop mit variabler Beleuchtungseinstellungen offenbart, bei welchem ein Abschwächer zur Variation der Beleuchtungsintensität verwendet wird. Der Abschwächer besteht bei dieser optischen Anordnung aus einer Platte aus Quarzglas, die mit Chrom beschichtet ist. Die Dicke der Chromschicht nimmt längs einer Richtung zu, sodass die elektromagnetische Strahlung in Form des Arbeitslichts des Maskeninspektionsmikroskops stärker in der entsprechenden Richtung mit zunehmender Chromschichtdicke geschwächt wird. Allerdings besteht bei derartigen Abschwächern mit einer Metallbeschichtung in optischen Anlagen, wie Maskeninspektionsmikroskopen, die mit energiereichem Arbeitslicht betrieben werden, die Problematik, dass ein derartiger Abschwächer bzw. ein Intensitätsanpassungsfilter durch die hohen Energiedichten, die beispielsweise bei der Laserbestrahlung in Maskeninspektionsmikroskopen auftreten, nur eine eingeschränkte Lebensdauer aufweist.In order to achieve a desired off or illumination in optical arrangements, it is necessary to adjust the illumination intensity variably. For example, in the DE 10 2009 041 405 A1 discloses a mask inspection microscope with variable illumination settings using an attenuator to vary the illumination intensity. In this optical arrangement, the attenuator consists of a quartz glass plate coated with chrome. The thickness of the chromium layer increases along one direction, so that the electromagnetic radiation in the form of the working light of the mask inspection microscope is weakened more in the corresponding direction as the chromium layer thickness increases. However, with such attenuators with a metal coating in optical systems, such as mask inspection microscopes that are operated with high-energy working light, there is the problem that such an attenuator or an intensity adjustment filter only has a limited effect due to the high energy densities that occur, for example, during laser irradiation in mask inspection microscopes has lifetime.

OFFENBARUNG DER ERFINDUNGDISCLOSURE OF THE INVENTION

AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION

Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung einen Intensitätsanpassungsfilter bereitzustellen, der eine möglichst variable Einstellung der Beleuchtungsintensität für eine optische Anordnung ermöglich bzw. eine möglichst variable Intensitätsanpassung des den Intensitätsanpassungsfilter passierenden Lichts ermöglicht und gleichzeitig bei energiereicher Bestrahlung insbesondere mit Licht im ultravioletten oder extrem ultravioletten Wellenlängenspektrum eine ausreichend hohe Lebensdauer aufweist bzw. auf möglichst lange Betriebsdauer keine unerwünschten Veränderungen zu Lasten der Funktionsfähigkeit zeigt.It is therefore the object of the present invention to provide an intensity adjustment filter which enables the illumination intensity for an optical arrangement to be adjusted as variably as possible or which enables the intensity adjustment of the light passing through the intensity adjustment filter to be adjusted as variably as possible and at the same time in the case of high-energy irradiation, in particular with light in the ultraviolet or extreme ultraviolet wavelength spectrum has a sufficiently long service life or shows no undesirable changes to the detriment of functionality over the longest possible service life.

TECHNISCHE LÖSUNGTECHNICAL SOLUTION

Diese Aufgabe wird gelöst durch einen Intensitätsanpassungsfilter mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie einer optischen Anordnung mit den Merkmalen des Anspruchs 9 und einem Verfahren zur Herstellung eines Intensitätsanpassungsfilter mit den Merkmalen des Anspruchs 10. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.This object is achieved by an intensity adjustment filter having the features of claim 1 and an optical arrangement having the features of claim 9 and a method for producing an intensity adjustment filter having the features of claim 10. Advantageous configurations are the subject matter of the dependent claims.

Gemäß der Erfindung wird vorgeschlagen einen Intensitätsanpassungsfilter für eine optische Anordnung, mit welchem die Intensität des Lichts, das in einer optischen Anordnung verwendet wird (Arbeitslicht), angepasst werden kann, dadurch zu realisieren, dass mindestens ein Filterelement mit einem Substrat und einer Filterfläche vorgesehen wird, auf die das auf den Intensitätsanpassungsfilter einfallende Licht auftrifft und die an dem Substrat angeordnet ist, wobei das Substrat strahlablenkende Strukturen aufweist, sodass zumindest ein Teil des einfallenden Lichts abgelenkt wird. Durch das abgelenkte Licht wird ein Teil des ohne Ablenkung den Filter passierenden Lichts um den Anteil des abgelenkten Lichts reduziert, wodurch die ohne Ablenkung den Filter passierende Lichtintensität entsprechend angepasst werden kann.According to the invention, it is proposed to realize an intensity adjustment filter for an optical arrangement with which the intensity of the light used in an optical arrangement (work light) can be adjusted by providing at least one filter element with a substrate and a filter surface , on which the light incident on the intensity adjustment filter impinges and which is arranged on the substrate, wherein the substrate has beam-deflecting structures, so that at least part of the incident light is deflected. The deflected light reduces part of the light that passes through the filter without deflection by the proportion of the deflected light, as a result of which the light intensity that passes through the filter without deflection can be adjusted accordingly.

Der Intensitätsanpassungsfilter kann mindestens eine Blende umfassen, mit welchen die aus dem einfallenden Licht durch die strahlablenkenden Strukturen abgelenkten Lichtanteile zuverlässig ausgeblendet werden.The intensity adjustment filter can include at least one diaphragm with which the light components deflected from the incident light by the beam-deflecting structures are reliably masked out.

Die strahlablenkenden Strukturen des Intensitätsanpassungsfilters können so ausgebildet sein, dass die Intensität des Lichts, welches den Intensitätsanpassungsfilter verlässt, eindimensional oder zweidimensional über den Strahlquerschnitt variiert werden kann.The beam-deflecting structures of the intensity adjustment filter can be designed in such a way that the intensity of the light that leaves the intensity adjustment filter can be varied one-dimensionally or two-dimensionally over the beam cross section.

Die strahlablenkenden Strukturen des Intensitätsanpassungsfilters können auf dem Substrat angeordnet sein und / oder in dem Substrat enthalten sein. Beispielsweise können die strahlablenkenden Strukturen durch diffraktive oder refraktive Strukturen sowie Amplitudenstrukturen oder Phasenstrukturen gebildet werden.The beam-deflecting structures of the intensity adjustment filter can be arranged on the substrate and/or contained in the substrate. For example, the beam-deflecting structures can be formed by diffractive or refractive structures as well as amplitude structures or phase structures.

Für die Beugung oder Diffraktion kommen Strukturelemente wie Lochblenden oder Spaltanordnungen oder optische Gitter und dergleichen infrage. Für die Brechung oder Refraktion können Strukturelemente wie Prismen, Mikroprismen oder Mikrolinsen eingesetzt werden. Für die Amplitudenstrukturen kommen Strukturelemente in Betracht, die die Amplitude des Lichts beeinflussen können, während für Phasenstrukturen Strukturelemente eingesetzt werden können, die eine Phasendifferenz des hindurchtretenden oder reflektierten Lichts bewirken können. Die entsprechenden Strukturelemente können auch kombiniert eingesetzt werden.Structural elements such as pinhole diaphragms or slit arrangements or optical gratings and the like come into consideration for diffraction. Structural elements such as prisms, microprisms or microlenses can be used for refraction or refraction. Structural elements that can influence the amplitude of the light come into consideration for the amplitude structures, while structural elements that can bring about a phase difference in the light that passes through or is reflected can be used for phase structures. The corresponding structural elements can also be used in combination.

Das Substrat des Intensitätsanpassungsfilters, an welchem die strahlablenkenden Strukturen angeordnet sind, kann transparent für das zu filternde Licht sein oder kann reflektiv für das zu filternde Licht sein, sodass der Intensitätsanpassungsfilter als Transmissionsfilter oder Reflexionsfilter betrieben werden kann. Entsprechend wird der Begriff der Transmission bei der vorliegenden Beschreibung auch in dem Sinn verwendet, dass das Licht den Intensitätsanpassungsfilter durchlaufen hat, also zumindest ein Teil des einfallenden Lichts den Intensitätsanpassungsfilter wieder verlässt, auch wenn das Licht dabei an dem Intensitätsanpassungsfilter reflektiert wird.The substrate of the intensity adjustment filter, on which the beam-deflecting structures are arranged, can be transparent for the light to be filtered or can be reflective for the light to be filtered, so that the intensity adjustment filter can be operated as a transmission filter or reflection filter. Accordingly, the term transmission is also used in the present description in the sense that the light has passed through the intensity adjustment filter, i.e. at least part of the incident light leaves the intensity adjustment filter again, even if the light is reflected at the intensity adjustment filter.

Die Dimensionen der strahlablenkenden Strukturen hängen von der Wellenlänge des zu filternden bzw. in seiner Intensität anzupassenden Lichts ab, damit eine wirksame Strahlablenkung möglich ist. Insbesondere kann die Dimension der strahlablenkenden Strukturen im Bereich der Wellenlänge des zu filternden bzw. des einfallenden Lichts liegen und einen Bruchteil oder ein Vielfaches der Wellenlänge des einfallenden Lichts betragen. Beispielsweise können die Dimensionen der strahlablenkendden Strukturen im Bereich von (1/N)* λ bis N*A liegen, wobei λ die Wellenlänge des einfallenden Lichts und N eine reelle Zahl zwischen 0 und 10 sein kann. Insbesondere kann es sich bei Arbeitslicht im ultravioletten oder extrem ultravioletten Arbeitslicht um Mikro - und / oder Nanostrukturen handeln. Allerdings sind neben Dimensionen im Bereich von einigen Nanometern oder Mikrometern auch Dimensionen im Bereich von einigen Millimetern, insbesondere kleiner oder gleich 10 mm, vorzugsweise kleiner oder gleich 5 mm denkbar. Unter Dimensionen der strahlablenkenden Strukturen kann hierbei die minimale oder maximale Dimension eines entsprechenden Strukturelements verstanden werden.The dimensions of the beam-deflecting structures depend on the wavelength of the light to be filtered or whose intensity is to be adjusted, so that effective beam deflection is possible. In particular, the dimensions of the beam-deflecting structures can be in the range of the wavelength of the light to be filtered or of the incident light and can be a fraction or a multiple of the wavelength of the incident light. For example, the dimensions of the beam-deflecting structures can range from (1/N)*λ to N*λ, where λ is the wavelength of the incident light and N can be a real number between 0 and 10. In particular, working light in the ultraviolet or extreme ultraviolet working light can be micro- and/or nanostructures. However, in addition to dimensions in the range of a few nanometers or micrometers, dimensions in the range of a few millimeters, in particular less than or equal to 10 mm, preferably less than or equal to 5 mm, are also conceivable. In this case, dimensions of the beam-deflecting structures can be understood to mean the minimum or maximum dimension of a corresponding structural element.

Die strahlablenkenden Strukturen können durch mindestens einen Strukturparameter definiert sein, der aus der Gruppe ausgewählt ist, die Strukturformen, Strukturgrößen, Strukturanordnungen und Strukturverhältnisse umfasst. Beispielsweise kann, wie nachfolgend in den Ausführungsbeispielen gezeigt ist, ein Intensitätsanpassungsfilter durch Strukturelemente gebildet sein, die durch Furchen, also Vertiefungen, in einem Substrat eines Filterelements ausgebildet sind, um so ein optisches Gitter zu bilden, bei welchem das Licht, welches das Filterelement durchläuft, im Bereich der Furchen eine kürzere Weglänge durch das Substratmaterial durchläuft und somit eine Phasendifferenz zu dem anderen Licht aufweist, welches außerhalb der Furchen durch das Filterelement läuft. Entsprechend sind die strahlablenkenden Strukturen in Form der Furchen durch die Strukturform, also beispielsweise die rechteckige Querschnittsform der Furchen und die längliche Erstreckung der Furchen sowie die Strukturgrößen, also die Dimensionen der Furchen hinsichtlich der Tiefe und der Breite der Furchen definiert. Darüber hinaus wird die Wirksamkeit der strahlablenkend Strukturen, also der Anteil des den Intensitätsanpassungsfilter durchlaufenden Lichts bzw. der Grad der Transmission, beispielsweise bei einer Anordnung einer Vielzahl von parallel verlaufenden Furchen in einem Substrat des Filterelements durch die Strukturanordnung bzw. Strukturverhältnisse definiert, nämlich beispielsweise durch die Abstände der Furchen zueinander, also die Breite der dazwischen vorliegenden Stege, und / oder das Verhältnis der Furchenbreite zur Breite der dazwischen angeordneten Stege, wobei die Breite der Furchen oder Stege durch die Richtung quer zur Längserstreckung der Furchen und quer zur Tiefe der Furchen bzw. der Strahlrichtung des Lichts definiert ist.The beam-deflecting structures can be defined by at least one structure parameter selected from the group comprising structure shapes, structure sizes, structure arrangements and structure ratios. For example, as shown below in the exemplary embodiments, an intensity adjustment filter can be formed by structural elements that are formed by furrows, i.e. depressions, in a substrate of a filter element in order to form an optical grating in which the light that passes through the filter element , in the region of the furrows a shorter path length passes through the substrate material and thus has a phase difference to the other light which runs through the filter element outside of the furrows. Correspondingly, the beam-deflecting structures in the form of the furrows are defined by the structural shape, for example the rectangular cross-sectional shape of the furrows and the elongation of the furrows, and the structure sizes, i.e. the dimensions of the furrows with regard to the depth and width of the furrows. In addition, the effectiveness of the beam-deflecting structures, i.e. the proportion of the light passing through the intensity adjustment filter or the degree of transmission, for example in the case of an arrangement of a large number of parallel grooves in a substrate of the filter element, is defined by the structural arrangement or structural relationships, namely, for example by the distances between the furrows, i.e. the width of the webs in between, and/or the ratio of the furrow width to the width of the webs arranged in between, the width of the furrows or webs being determined by the direction transverse to the longitudinal extension of the furrows and transverse to the depth of the furrows or The beam direction of the light is defined.

Durch Variation von mindestens einem Strukturparameter in mindestens einer Richtung über die Filterfläche kann die Transmission über die Filterfläche variiert werden, sodass über den Strahlquerschnitt des den Intensitätsanpassungsfilter verlassenden Lichts in mindestens einer Richtung eine Variation der Intensität des Lichts eingestellt werden kann. Vorzugsweise kann durch Einstellung von mindestens einem Strukturparameter der strahlablenkenden Strukturen des Intensitätsanpassungsfilters für jeden Ort im Strahlquerschnitt des den Intensitätsanpassungsfilter verlassenden Lichts die gewünschte Intensität eingestellt werden.By varying at least one structural parameter in at least one direction across the filter surface, the transmission can be varied across the filter surface, so that a variation in the intensity of the light can be set in at least one direction across the beam cross section of the light leaving the intensity adjustment filter. The desired intensity can preferably be set for each location in the beam cross section of the light leaving the intensity adjustment filter by adjusting at least one structural parameter of the beam-deflecting structures of the intensity adjustment filter.

Entsprechend kann zur Herstellung eines Intensitätsanpassungsfilters gemäß der vorliegenden Erfindung definiert werden, wie die Intensität des den Intensitätsanpassungsfilter verlassenden Lichts über den Strahlquerschnitt des den Intensitätsanpassungsfilter verlassenden Lichts verteilt sein soll. Dies kann durch Definition einer Transmissionsfunktion erfolgen, wobei diese eindimensional oder zweidimensional die Intensität des den Intensitätsanpassungsfilter verlassenden Lichts über dem Strahlquerschnitt definieren kann. Danach können entsprechende Strukturparameter der strahlablenkenden Strukturen bestimmt werden, sodass die Transmissionsfunktion erfüllt wird. Beispielsweise kann die Art und Form der strahlablenkenden Strukturen sowie deren Strukturgrößen, also die Dimensionen der einzelnen Strukturelemente sowie die Anordnung der einzelnen Strukturelemente und die Verhältnisse der Strukturelemente bzw. deren Dimensionen zueinander bestimmt werden, sodass die gewünschte Transmissionsfunktion realisiert werden kann. Danach können die entsprechenden strahlablenkenden Strukturen an einem Substrat eines Filterelements gemäß den festgelegten Strukturparametern erzeugt werden.Correspondingly, in order to manufacture an intensity adjustment filter according to the present invention, it can be defined how the intensity of the light leaving the intensity adjustment filter should be distributed over the beam cross-section of the light leaving the intensity adjustment filter. This can be done by defining a transmission function, which can define the intensity of the light leaving the intensity adjustment filter over the beam cross-section in one or two dimensions. Corresponding structural parameters of the beam-deflecting structures can then be determined so that the transmission function is fulfilled. For example, the type and shape of the beam-deflecting structures and their structure sizes, ie the dimensions of the individual structural elements and the arrangement of the individual structural elements and the ratios of the structural elements or their dimensions to one another are determined so that the desired transmission function can be implemented. After that, the corresponding beam-deflecting structures can be produced on a substrate of a filter element in accordance with the defined structure parameters.

Figurenlistecharacter list

Die beigefügten Zeichnungen zeigen in rein schematischer Weise in

1 eine Darstellung einer eindimensionalen Transmissionsfunktion eines Intensitätsanpassungsfilters,
2 eine Darstellung des Wirkungsprinzips eines erfindungsgemäßen Intensitätsanpassungsfilters mit strahlablenkenden Strukturen,
3 eine Draufsicht auf eine Anordnung von Mikro - und / oder Nanostrukturen zur Ausbildung eines erfindungsgemäßen Intensitätsanpassungsfilters,
4 einen Querschnitt durch die Anordnung von Mikro - und / oder Nano - Strukturen aus 3,
5 eine Darstellung der Intensitätsverteilung von Licht nach dem Durchlaufen eines erfindungsgemäßen Intensitätsanpassungsfilters,
6 eine Darstellung eines Intensitätsanpassungsfilters, welcher die Intensitätsverteilung in 5 erzeugt,
7 einen Ausschnitt der mikro - und / oder nano - dimensionierten Gitterstruktur gemäß dem Ausschnitt a) aus 6,
8 eine vergrößerte Darstellung des Ausschnitts b) aus 7,
9 eine Darstellung einer einzelnen Struktur c) der Gitterstruktur gemäß der 8 und in
10 eine Darstellung einer optischen Anordnung mit einem Intensitätsanpassungsfilter.

The accompanying drawings show, purely diagrammatically,

1 a representation of a one-dimensional transmission function of an intensity adjustment filter,
2 a representation of the principle of operation of an intensity adjustment filter according to the invention with beam-deflecting structures,
3 a top view of an arrangement of micro - and / or nanostructures for forming an intensity adjustment filter according to the invention,
4 a cross-section through the arrangement of micro - and / or nano - structures 3 ,
5 a representation of the intensity distribution of light after passing through an intensity adjustment filter according to the invention,
6 a representation of an intensity adjustment filter, which the intensity distribution in 5 generated,
7 a section of the micro - and / or nano - dimensioned lattice structure according to section a). 6 ,
8th an enlarged view of section b). 7 ,
9 a representation of a single structure c) the lattice structure according to 8th and in
10 a representation of an optical arrangement with an intensity adjustment filter.

AUSFÜHRUNGSBEISPIELEEXEMPLARY EMBODIMENTS

Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung der Ausführungsbeispiele ersichtlich. Allerdings ist die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt.Further advantages, characteristics and features of the present invention become apparent in the following detailed description of the exemplary embodiments. However, the invention is not limited to these exemplary embodiments.

Die 1 zeigt eine eindimensionale, lineare Transmissionsfunktion, welche die Transmission in Abhängigkeit von einer Position im Strahlquerschnitt des Lichts angibt, welches den Intensitätsanpassungsfilter passiert hat. Die Transmissionsfunktion der 1 gibt an, dass die Transmission in Abhängigkeit vom Ort des Strahlquerschnitts linear ansteigt, also die Intensität des den Intensitätsanpassungsfilter passierenden Lichts linear zunimmt. Bei einem Lichtstrahl, der beispielsweise in ein Beleuchtungssystem einer Projektionsbelichtungsanlage oder in ein Maskeninspektionsmikroskop eintritt, wird durch den Intensitätsanpassungsfilter somit die Intensität des Lichts, welches den Intensitätsanpassungsfilter passiert, in Abhängigkeit vom Ort linear ansteigen. Neben der zur Erläuterung in 1 dargestellten einfachen, eindimensionalen und linearen Transmissionsfunktion sind für die Anwendung selbstverständlich komplexe Transmissionsfunktionen realisierbar, die insbesondere auch zweidimensional sein können, sodass die Intensität des Lichts, welches den Intensitätsanpassungsfilter passiert hat, im Strahlquerschnitt beliebig einstellbar ist, um so eine gewünschte Beleuchtung zu erzielen.the 1 shows a one-dimensional, linear transmission function, which indicates the transmission as a function of a position in the beam cross section of the light that has passed the intensity adjustment filter. The transmission function of 1 indicates that the transmission increases linearly depending on the location of the beam cross section, i.e. the intensity of the light passing through the intensity adjustment filter increases linearly. In the case of a light beam that enters, for example, an illumination system of a projection exposure system or a mask inspection microscope, the intensity of the light that passes through the intensity adjustment filter will increase linearly as a function of location due to the intensity adjustment filter. In addition to the explanation in 1 In addition to the simple, one-dimensional and linear transmission function shown, complex transmission functions can of course be realized for the application, which can also be two-dimensional in particular, so that the intensity of the light that has passed the intensity adjustment filter can be adjusted as desired in the beam cross-section in order to achieve a desired illumination.

Die 2 zeigt in rein schematischer Weise vereinfacht die Wirkungsweise eines erfindungsgemäßen Intensitätsanpassungsfilters 1, bei welchem durch ein Filterelement 2, welches strahlablenkende Strukturen (nicht gezeigt) aufweist, ein einfallender Lichtstrahl 6 gezielt abgelenkt wird, sodass nur ein Teil des einfallenden Lichtstrahls 6 eine im Strahlengang dahinter angeordnete Blende 5 unabgelenkt (0. Beugungsordnung) passiert und für die Nutzung in einer nachfolgen optischen Anordnung zur Verfügung steht. Die strahlablenkenden Strukturen sind am Filterelement 2 entweder an einer Filterfläche 4, auf die der einfallende Strahl 6 trifft, oder im Substrat 3 des Filterelements 2, an dem die Filterfläche 4 vorgesehen ist, angeordnet. Darüber hinaus ist es auch denkbar strahlablenkende Strukturen an der Oberfläche des Substrats 3 anzuordnen, die von der Filterfläche 4, auf die der einfallende Strahl trifft, abgewandt ist.the 2 shows in a purely schematic manner the mode of operation of an intensity adjustment filter 1 according to the invention, in which an incident light beam 6 is specifically deflected by a filter element 2, which has beam-deflecting structures (not shown), so that only part of the incident light beam 6 is arranged behind it in the beam path Aperture 5 passes undeflected (0th order of diffraction) and is available for use in a subsequent optical arrangement. The beam-deflecting structures are arranged on the filter element 2 either on a filter surface 4 on which the incident beam 6 impinges, or in the substrate 3 of the filter element 2 on which the filter surface 4 is provided. In addition, it is also conceivable to arrange beam-deflecting structures on the surface of the substrate 3 that faces away from the filter surface 4 on which the incident beam strikes.

Die strahlablenkenden Strukturen sind durch mikro - und / oder nanodimensionierte Strukturen gebildet, also Strukturen, die Dimensionen im Bereich von wenigen Nanometern bis Mikrometern aufweisen und die entsprechend auf die Wellenlänge des zu filternden Lichts abgestimmt sind, also beispielsweise auf Licht, das im Bereich der optischen Anordnungen für mikrolithographische Prozesse zur Herstellung von mikro - und / oder nanostrukturierten Bauteilen eingesetzt wird, z.B. Licht im Wellenlängenbereich von ultraviolettem Licht (UV - Licht) oder extrem ultraviolettem Licht (EUV - Licht) oder Laserlicht in diesen Wellenlängenbereichen oder im sichtbaren oder infraroten Wellenlängenbereich.The beam-deflecting structures are formed by micro- and / or nano-sized structures, i.e. structures that have dimensions in the range from a few nanometers to micrometers and that are matched to the wavelength of the light to be filtered, for example to light that is in the optical range Arrangements for microlithographic processes for the production of micro - and / or nanostructured components is used, e.g. light in the wavelength range of ultraviolet light (UV - light) or extreme ultraviolet light (EUV - light) or laser light in these wavelength ranges or in the visible or infrared wavelength range.

Die 2 zeigt deutlich, wie durch das Filterelement 2 der einfallende Lichtstrahl 6 in mehrere Lichtstrahlen 7, 8 aufgespalten wird, wobei abgelenkte Lichtstrahlen 7 erster und zweiter Beugungsordnung sowie ein unabgelenkter, durchgehender Lichtstrahl 8 der nullten Beugungsordnung gezeigt sind, wobei letzterer durch die Blende 5 hindurch geht und für die weitere Nutzung in einer nachgeschalteten optischen Anordnung verwendet werden kann. Der durchgehende Lichtstrahl 8 weist entsprechend die gewünschte Intensität über seinen Strahlquerschnitt auf, die gemäß einer Transmissionsfunktion, wie sie beispielhaft in 1 dargestellt ist, für die Verwendung in der nachgeschalteten optischen Anordnung gewünscht ist.the 2 shows clearly how the filter element 2 splits the incident light beam 6 into a plurality of light beams 7, 8, with deflected light beams 7 of the first and second diffraction order and an undeflected, continuous light beam 8 of the zeroth diffraction order are shown, the latter going through the aperture 5 and can be used for further use in a downstream optical arrangement. The light beam 8 that passes through accordingly has the desired intensity over its beam cross section, which is determined according to a transmission function, such as is shown in an example in 1 shown, is desired for use in the downstream optical assembly.

Die 3 und 4 zeigen ein erstes Ausführungsbeispiel für strahlablenkend Strukturen eines erfindungsgemäßen Intensitätsanpassungsfilters, die entsprechend mikro - und / oder nanostrukturiert an einem Filterelement 2, das in 2 dargestellt worden ist, angeordnet sein können. Bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel der 3 und 4 sind die strahlablenkenden Strukturen dadurch gebildet, dass in das Substrat 3 des Filterelements 2 Furchen 10,12,13,14,15 bzw. Furchensegmente 16,17,18,19,20 eingebracht sind, sodass das Licht, das das Filterelement 2 passiert, in den Bereichen der Furchen gegenüber den dazwischen angeordneten Stegen 11 des Substratmaterials eine geringere Wegstrecke im Substratmaterial zurücklegt und somit beim Durchlaufen des Filterelements 2 eine Phasendifferenz erfährt. Die Tiefe der Furchen 10,12,13,14,15 bzw. Furchensegmente 16,17,18,19,20 ist dabei so gewählt, dass die Phasendifferenz zwischen dem Licht, welches im Bereich der Furchen 10,12,13,14,15 das Filterelement 2 durchläuft, und dem Licht, welches im Bereich der Stege 11 das Filterelement 2 durchläuft, aufgrund der unterschiedlich zurückgelegten Weglänge im Substratmaterial π beträgt. Durch die entsprechende Ausbildung der Furchen 10,12,13,14,15 bzw. Furchensegmente 16,17,18,19,20 und Stege 11 und deren Dimensionierung in der in den 3 und 4 angegebenen X - Richtung kann die in 1 gezeigte eindimensionale, lineare Transmissionsfunktion realisiert werden. Alternativ könnte die Strukturierung auch invertiert sein, d.h. die Furchen könnten auch Stege sein.the 3 and 4 show a first exemplary embodiment for beam-deflecting structures of an intensity adjustment filter according to the invention, which are correspondingly micro- and/or nano-structured on a filter element 2, which is shown in 2 has been shown, can be arranged. In the embodiment shown 3 and 4 the beam-deflecting structures are formed by furrows 10, 12, 13, 14, 15 or furrow segments 16, 17, 18, 19, 20 being introduced into the substrate 3 of the filter element 2, so that the light that passes through the filter element 2 travels a shorter distance in the substrate material in the regions of the furrows compared to the webs 11 of the substrate material arranged between them and thus experiences a phase difference when passing through the filter element 2 . The depth of the furrows 10, 12, 13, 14, 15 or furrow segments 16, 17, 18, 19, 20 is selected in such a way that the phase difference between the light which is in the area of the furrows 10, 12, 13, 14, 15 passes through the filter element 2, and the light, which passes through the filter element 2 in the region of the webs 11, is π due to the different path lengths covered in the substrate material. By the appropriate design of the furrows 10,12,13,14,15 or furrow segments 16,17,18,19,20 and webs 11 and their dimensioning in the 3 and 4 specified X direction can be the in 1 shown one-dimensional, linear transmission function can be realized. Alternatively, the structuring could also be inverted, ie the furrows could also be ridges.

Wie sich aus den 3 und 4 weiterhin ergibt, weisen die zwischen den Furchen 10,12,13,14,15 bzw. Furchensegmenten 16,17,18,19,20 angeordneten Stege 11 eine gleichbleibende Dimension in X - Richtung auf, während die dazwischen angeordneten Furchen 10,12,13,14,15 bzw. Furchensegmente 16,17,18,19,20 eine immer kleiner werdende Dimension in X - Richtung besitzen, sodass die Transmission in der X - Richtung zunimmt. Somit ist die erste Furche 10 in X - Richtung größer dimensioniert als die zweite Furche 12 und die zweite Furche 12 ist in X - Richtung größer dimensioniert als die dritte Furche 13 und so weiter. Die veränderte Transmission wird somit durch das veränderte Verhältnis der Dimension der Furchen 10,12,13,14,15 bzw. Furchensegmente 16,17,18,19,20 in X - Richtung zu der Dimension der Stege 11 bestimmt, was auch als Tastverhältnis oder Tastgrad zwischen den Furchen 10,12,13,14,15 bzw. Furchensegmenten 16,17,18,19,20 und Stegen 11 bezeichnet werden kann.As can be seen from the 3 and 4 Furthermore, the webs 11 arranged between the grooves 10,12,13,14,15 or groove segments 16,17,18,19,20 have a constant dimension in the X direction, while the grooves 10,12, 13,14,15 or furrow segments 16,17,18,19,20 have an ever smaller dimension in the X direction, so that the transmission in the X direction increases. Thus, the first furrow 10 is dimensioned larger in the X direction than the second furrow 12 and the second furrow 12 is dimensioned larger in the X direction than the third furrow 13 and so on. The changed transmission is thus determined by the changed ratio of the dimension of the furrows 10,12,13,14,15 or furrow segments 16,17,18,19,20 in the X direction to the dimension of the webs 11, which is also called the duty cycle or duty cycle between the furrows 10,12,13,14,15 or furrow segments 16,17,18,19,20 and webs 11 can be referred to.

Entsprechend ist bei einem Tastverhältnis von 1, wie an der linken Seite der in den 3 und 4 gezeigten strahlablenkenden Strukturen aus Furchen 10,12,13,14,15 bzw. Furchensegmente 16,17,18,19,20 und Stegen 11, die Transmission nahe 0, während bei einem Tastverhältnis von 0 zwischen Furchen 10,12,13,14,15 bzw. Furchensegmente 16,17,18,19,20 und Stegen 11 an der rechten Seite der 3 und 4 die Transmission maximal ist. Für die Realisierung eines Intensitätsanpassungsfilters 1, bei dem die Transmission gemäß der Transmissionsfunktion aus 1 kontinuierlich bis zur maximal möglichen Transmission ansteigen soll, erfordert dies jedoch die Herstellung von Furchen mit unendlicher kleiner Dimension in X - Richtung, was jedoch nicht durchführbar ist bzw. an physikalische Grenzen stößt. Entsprechend ist bei den dargestellten, strahlablenkenden Strukturen der Ausführungsform der 3 und 4 bei der minimal erzeugbaren Furchendimension in X - Richtung eine weitere kontinuierliche Steigerung der Transmission dadurch realisiert, dass keine in Y - Richtung quer zur X - Richtung durchgehenden Furchen mehr vorgesehen werden, wie bei den Furchen 10,12,13,14,15, sondern lediglich Furchensegmente 16,17,18,19,20. Folglich sind zwischen den Furchensegmenten weitere Zwischenstege 21 ausgebildet.Correspondingly, with a pulse duty factor of 1, as on the left-hand side of the 3 and 4 shown beam-deflecting structures of furrows 10,12,13,14,15 or furrow segments 16,17,18,19,20 and webs 11, the transmission close to 0, while at a duty cycle of 0 between furrows 10,12,13,14 ,15 or furrow segments 16,17,18,19,20 and webs 11 on the right side of the 3 and 4 the transmission is maximum. For the realization of an intensity adjustment filter 1, in which the transmission according to the transmission function 1 is to increase continuously up to the maximum possible transmission, however, this requires the production of furrows with infinitely small dimensions in the X direction, which, however, is not feasible or comes up against physical limits. Accordingly, in the illustrated, beam-deflecting structures of the embodiment 3 and 4 with the minimum furrow dimension that can be generated in the X direction, a further continuous increase in transmission is realized in that no more continuous furrows are provided in the Y direction transverse to the X direction, as in the case of the furrows 10,12,13,14,15, but only furrow segments 16,17,18,19,20. Consequently, further intermediate webs 21 are formed between the furrow segments.

Weiterhin kann bei einer Ausführungsform eines Intensitätsanpassungsfilters der durch die Furchen 10,12,13,14,15 bzw. Furchensegmente 16,17,18,19,20 und Stege 11 erzeugte Phasensprung nicht π, sondern π/ A betragen, wobei A beispielsweise zwischen 1 und 10 gewählt werden kann oder über die Fläche des Intensitätsanpassungsfilters beispielsweise zwischen 1 und 10 variieren kann, wobei A einer Verteilungsfunktion A=f(x,y) gehorcht, welche entsprechend der zu realisierenden Transmissionsfunktion ausgebildet ist.Furthermore, in one embodiment of an intensity adjustment filter, the phase jump generated by the furrows 10,12,13,14,15 or furrow segments 16,17,18,19,20 and webs 11 is not π, but π/A, where A is, for example, between 1 and 10 can be selected or can vary over the area of the intensity adjustment filter, for example between 1 and 10, where A obeys a distribution function A=f(x,y) which is formed in accordance with the transmission function to be implemented.

Eine weitere Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Intensitätsanpassungsfilters ist in den 6 bis 9 gezeigt, wobei die 5 die Intensitätsverteilung des Lichts nach dem Passieren des Intensitätsanpassungsfilters, wie er in den 6 bis 9 dargestellt ist, zeigt.Another embodiment of an intensity adjustment filter according to the invention is in the 6 until 9 shown where the 5 the intensity distribution of the light after passing through the intensity adjustment filter as shown in FIGS 6 until 9 shown shows.

Die 6 zeigt eine Abbildung des Intensitätsanpassungsfilters, wobei jedoch aufgrund der kleinen Dimensionen der strahlablenkenden Strukturen diese nicht mehr aufgelöst gezeigt werden können. Allerdings bezeichnet die 6 einen Ausschnitt a), der vergrößert in 7 dargestellt ist, wobei die 8 wiederum einen vergrößerten Ausschnitt b) der 7 zeigt, während die 9 ein einzelnes Strukturelement 22, welches auch in den 7 und 8 dargestellt ist, vergrößert zeigt.the 6 shows an image of the intensity adjustment filter, but due to the small dimensions of the beam-deflecting structures, these can no longer be shown in a resolved manner. However, the 6 a section a), which is enlarged in 7 is shown, with the 8th turn an enlarged section b) of 7 shows while the 9 a single structural element 22, which is also in the 7 and 8th is shown, enlarged shows.

Die 9 zeigt zudem ein Gitter mit der Gitterkonstante d, welche angibt, bis zu welchen minimalen Dimensionen entsprechende mikro - und / oder nanostrukturierten Elemente als strahlablenkende Strukturen auf einem Substrat 3 zur Bildung eines Filterelements 2 gefertigt werden können. Ein entsprechendes Segment mit der Kantenlänge der Gitterkonstante d kann ferner auch als Pixel bezeichnet werden, sodass das nahezu quadratische einzelne Strukturelement 22, welches in der 9 gezeigt ist, eine Größe von ca. 10 mal 10 Pixeln aufweist. Das einzelne Strukturelement 22 kann wiederum als Vertiefung in einem für das zu filternde Licht transparenten Substrat 3 eines Filterelements 2 mit einer Tiefe ausgebildet sein, welche gegenüber dem Substrat 3 ohne ausgebildete Vertiefung eine Phasendifferenz π des hindurchtretenden Lichts bewirken kann, wie bei der vorangegangenen Ausführungsform.the 9 FIG. 12 also shows a lattice with the lattice constant d, which indicates the minimum dimensions up to which corresponding microstructured and/or nanostructured elements can be manufactured as beam-deflecting structures on a substrate 3 to form a filter element 2. A corresponding segment with the edge length of the lattice constant d can also be referred to as a pixel, so that the almost square individual structural element 22, which is in the 9 shown is approximately 10 by 10 pixels in size. The individual structural element 22 can in turn be formed as a depression in a substrate 3 of a filter element 2, which is transparent to the light to be filtered, with a depth which can bring about a phase difference π of the light passing through compared to the substrate 3 without a formed depression, as in the previous embodiment.

Aus den 7 und 8 ist zu erkennen, dass der entsprechende Intensitätsanpassungsfilter durch ein Filterelement 2 aus einer zweidimensionalen Gitterstruktur mit einer Vielzahl entsprechender einzelner Strukturelemente 22 in Rechteckform bzw. nahezu quadratisch geformten Strukturelementen 22 gebildet ist, wobei eine Variation der Transmission dadurch erreicht wird, dass die Strukturdichte der Strukturelemente 22 angepasst wird und die Strukturdichte dadurch variiert wird, dass die Größe der einzelnen Strukturelemente 22 variiert wird. Mit zunehmender Strukturdichte bzw. zunehmendem Tastverhältnis, wie beispielsweise im rechten Teil des Ausschnitts der 7, ist die Transmission geringer als in Bereichen mit geringerer Strukturdichte und entsprechend kleinerem Tastverhältnis, wie im rechten Teil des Ausschnitts der 7. Zusätzlich lässt sich auch die Form der einzelnen Strukturelemente 22 variieren.From the 7 and 8th It can be seen that the corresponding intensity adjustment filter is formed by a filter element 2 made of a two-dimensional lattice structure with a large number of corresponding individual structural elements 22 in a rectangular shape or almost square-shaped structural elements 22, with a variation in the transmission being achieved in that the structural density of the structural elements 22 is adjusted and the structural density is varied in that the size of the individual structural elements 22 is varied. With increasing structural density or increasing duty cycle, such as in the right part of the section of the 7 , the transmission is lower than in areas with a lower structure density and a correspondingly smaller duty cycle, as in the right part of the excerpt of the 7 . In addition, the shape of the individual structural elements 22 can also be varied.

Anstelle der quadratischen Grundformen der einzelnen Strukturelemente 22 lassen sich auch andere Grundformen für die einzelnen Strukturelemente 22 verwenden, wie beispielsweise Kreise, Ellipsen, Dreiecke und dergleichen.Instead of the square basic shapes of the individual structural elements 22, other basic shapes can also be used for the individual structural elements 22, such as circles, ellipses, triangles and the like.

Die 10 zeigt eine optische Anordnung 27, beispielsweise in Form eines Maskeninspektionsmikroskops, welches einen erfindungsgemäßen Intensitätsanpassungsfilter 1 umfasst. Die optische Anordnung 27 weist eine Lichtquelle 23, beispielsweise in Form eines Lasers, sowie ein Beleuchtungssystem 24 auf, mit deren Hilfe eine Maske 25 in geeigneter Weise beleuchtet werden kann, um die Maske mit einem Objektiv 26 zur Inspektion abzubilden. Mithilfe des Intensitätsanpassungsfilters 1 kann die Beleuchtungsintensität der Maske 25 in der gewünschten Weise eingestellt werden.the 10 shows an optical arrangement 27, for example in the form of a mask inspection microscope, which includes an intensity adjustment filter 1 according to the invention. The optical arrangement 27 has a light source 23, for example in the form of a laser, and an illumination system 24, with the aid of which a mask 25 can be illuminated in a suitable manner in order to image the mask with a lens 26 for inspection. The illumination intensity of the mask 25 can be adjusted in the desired manner with the aid of the intensity adjustment filter 1 .

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand der Ausführungsbeispiele detailliert beschrieben worden ist, ist für den Fachmann selbstverständlich, dass die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne Merkmale weggelassen oder andersartige Kombinationen von Merkmalen verwirklicht werden können, ohne dass der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche verlassen wird. Insbesondere schließt die vorliegende Offenbarung sämtliche Kombinationen der in den verschiedenen Ausführungsbeispielen gezeigten Einzelmerkmale mit ein, sodass einzelne Merkmale, die nur in Zusammenhang mit einem Ausführungsbeispiel beschrieben sind, auch bei anderen Ausführungsbeispielen oder nicht explizit dargestellten Kombinationen von Einzelmerkmalen eingesetzt werden können.Although the present invention has been described in detail on the basis of the exemplary embodiments, it is self-evident for the person skilled in the art that the invention is not limited to these exemplary embodiments, but rather that modifications are possible in such a way that individual features are omitted or other types of combinations of features can be implemented without departing from the scope of the appended claims. In particular, the present disclosure includes all combinations of the individual features shown in the various exemplary embodiments, so that individual features that are only described in connection with one exemplary embodiment can also be used in other exemplary embodiments or combinations of individual features that are not explicitly shown.

BezugszeichenlisteReference List

11: IntensitätsanpassungsfilterIntensity Adjustment Filter
22: Filterelementfilter element
33: Substratsubstrate
44: Filterflächefilter surface
55: Blendecover
66: einfallenden Strahlincident beam
77: abgelenkten Strahlendeflected rays
88th: durchgehender Strahlcontinuous beam
1010: 1. Furche1st furrow
1111: Stegweb
1212: 2. Furche2nd furrow
1313: 3. Furche3. Furrow
1414: 4. Furche4th furrow
1515: 5. Furche5. Furrow
1616: Furchensegmentfurrow segment
1717: Furchensegmentfurrow segment
1818: Furchensegmentfurrow segment
1919: Furchensegmentfurrow segment
2020: Furchensegmentfurrow segment
2121: Zwischenstegegutters
2222: einzelnes Strukturelementsingle structural element
2323: Lichtquellelight source
2424: Beleuchtungssystemlighting system
2525: Maskemask
2626: Objektivlens
2727: optische Anordnungoptical arrangement

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturPatent Literature Cited

DE 102009041405 A1 [0002]

Claims

Intensity adjustment filter for an optical arrangement with which the intensity of incident light (6) passing through the intensity adjustment filter (1) is adjusted so that the light (8) leaving the intensity adjustment filter has an adjusted intensity, the intensity adjustment filter having at least one filter element (2) having a substrate (3) and a filter surface (4) onto which the incident light (6) impinges and which is arranged on the substrate (3), characterized in that beam-deflecting structures (10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20; 22) are arranged so that at least part of the incident light (6) is deflected from the light leaving the intensity adjustment filter.

Intensity adjustment filter after claim 1 , characterized in that the intensity adjustment filter (1) comprises at least one diaphragm (5) which blocks at least part of the light from the incident light through the beam-deflecting structures (10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20; 22) deflected light fades out.

Intensity adjustment filter according to one of the preceding claims, characterized in that the beam-deflecting structures (10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20; 22) produce a one-dimensional or two-dimensional beam cross-section of the light ( 8) cause varying intensity adjustment.

Intensity adjustment filter according to one of the preceding claims, characterized in that the beam-deflecting structures (10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20; 22) are arranged on the substrate and/or contained in the substrate

Intensity adjustment filter according to one of the preceding claims, characterized in that the beam-deflecting structures (10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20; 22) are selected from the group consisting of diffractive structures, refractive structures, Includes amplitude structures and phase structures.

Intensity adjustment filter according to one of the preceding claims, characterized in that the substrate (3) is transparent or reflective for the incident light.

Intensity adjustment filter according to one of the preceding claims, characterized in that the beam-deflecting structures (10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20; 22) have dimensions in the range of a few millimeters, in particular less than or equal to 10 mm , preferably less than or equal to 5 mm or in the range of the wavelength of the incident light, in particular in the range of a fraction and / or a multiple of the wavelength of the incident light, the dimensions of the beam-deflecting structures in the range of (1/N) * λ to N*λ, where A is the wavelength of the incident light and N is a real number between 0 and 10.

Intensity adjustment filter according to one of the preceding claims, characterized in that the beam-deflecting structures (10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20; 22) are defined by at least one structure parameter which is selected from the group , which includes structure shapes, structure sizes, structure arrangements and structure ratios.

Optical arrangement for microlithography, in particular projection exposure system or mask inspection device (27) with an intensity adjustment filter (1) according to one of the preceding claims.

Method for producing an intensity adjustment filter (1) for an optical arrangement (27), in particular for an intensity adjustment filter according to one of Claims 1 until 8th , wherein the intensity adjustment filter adjusts the intensity of incident light passing through the intensity adjustment filter for the optical arrangement, so that the intensity adjustment filter leaving light has an adjusted intensity, and wherein the intensity adjustment filter (1) has at least one filter element (2) with a substrate (3) and a filter surface (4) on which the incident light impinges, wherein in the method a transmission function is defined over the beam cross section of the light leaving the intensity adjustment filter (1) and wherein structural parameters of the beam-deflecting structures (10, 12, 13, 14, 15 , 16, 17, 18, 19, 20; 22) are determined so that the transmission function is fulfilled and the determined beam-deflecting structures (10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20; 22) are generated on a substrate (3).