DE102008017947A1 - Homogenizing system for partially coherent laser light comprises lens array splitting light into several beams and lens in Fourier configuration which focuses them so that they interfere to produce diffraction patterns - Google Patents
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Abstract
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Homogenisierung zumindest teilweise kohärenten Laserlichts gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1, eine Anordnung zur Homogenisierung zumindest teilweise kohärenten Laserlichts gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 21 sowie ein Verfahren zur Homogenisierung zumindest teilweise kohärenten Laserlichts gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 24.The The present invention relates to a device for homogenization at least partially coherent laser light according to The preamble of claim 1, an arrangement for homogenizing at least partially coherent laser light according to The preamble of claim 21 and a method for homogenization at least partially coherent laser light according to The preamble of claim 24.
Definitionen: In Ausbreitungsrichtung des zu beeinflussenden Lichts meint die mittlere Ausbreitungsrichtung des Lichts, insbesondere wenn dieses keine ebene Welle ist oder zumindest teilweise divergent ist. Mit Lichtstrahl, Teilstrahl oder Strahl ist, wenn nicht ausdrücklich anderes angegeben ist, kein idealisierter Strahl der geometrischen Optik gemeint, sondern ein realer Lichtstrahl, wie beispielsweise ein Laserstrahl mit einem Gauß-Profil, der keinen infinitesimal kleinen, sondern einen ausgedehnten Strahlquerschnitt aufweist. Mittenabstand (Pitch) meint den Abstand der Mitten der Linsen eines Arrays zueinander in der Richtung, in der die Linsen in dem Array nebeneinander angeordnet sind.definitions: In propagation direction of the light to be influenced means the mean propagation direction of the light, especially if this no plane wave is or at least partially divergent. With light beam, Partial beam or beam is, if not expressly different is not an idealized ray of geometric optics meant, but a real light beam, such as a laser beam with a Gaussian profile that does not have infinitesimal small, but has an extended beam cross-section. center distance (Pitch) means the distance of the centers of the lenses of an array to each other in the direction in which the lenses in the array are juxtaposed are.
Aus
der
Das der vorliegenden Erfindung zugrunde liegende Problem ist die Schaffung einer Vorrichtung und einer Anordnung der eingangs genannten Art sowie die Angabe eines Verfahren der eingangs genannten Art, die eine homogenere Intensitätsverteilung bewirken können.The The problem underlying the present invention is the creation a device and an arrangement of the type mentioned and the indication of a method of the type mentioned, which can cause a more homogeneous intensity distribution.
Dies wird erfindungsgemäß hinsichtlich der Vorrichtung durch eine Vorrichtung der eingangs genannten Art mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 1, hinsichtlich der Anordnung durch eine Anordnung der eingangs genannten Art mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 21 sowie hinsichtlich des Verfahrens durch ein Verfahren der eingangs genannten Art mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 24 erreicht. Die Unteransprüche betreffen bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung.This is according to the invention in terms of the device by a device of the type mentioned above with the characterizing Characteristics of claim 1, with regard to the arrangement by a Arrangement of the type mentioned above with the characterizing features of claim 21 and with respect to the method by a method of initially mentioned type with the characterizing features of the claim 24 reached. The dependent claims relate to preferred embodiments of Invention.
Anspruch 1 sieht vor, dass die Vorrichtung Ablenkmittel umfasst, die das Laserlicht vor, nach oder während des Hindurchtritts durch das mindestens eine Linsenarray derart ablenken können, dass in dem Arbeitsbereich zumindest überwiegend Beugungsordnungen überlappen, für die gilt: wobei N die Nummer der Beugungsordnung, λ die Wellenlänge des zu homogenisierenden Laserlichts und Δλ die spektrale Breite des zu homogenisierenden Laserlichts ist. Durch die Überlappung höherer Beugungsordnungen wird die Intensitätsverteilung in dem Arbeitsbereich homogener.Claim 1 provides that the device comprises deflection means which can deflect the laser light before, after or during the passage through the at least one lens array in such a way that at least predominantly diffraction orders overlap in the working area, for which the following applies: where N is the number of the diffraction order, λ is the wavelength of the laser light to be homogenized and Δλ is the spectral width of the laser light to be homogenized. The overlap of higher orders of diffraction makes the intensity distribution in the working area more homogeneous.
Dabei kann vorgesehen sein, dass die Ablenkmittel derart gestaltet und/oder in der Vorrichtung angeordnet sind, dass die Ausbreitungsrichtung der nullten Beugungsordnung der Mehrzahl von Teilstrahlen nach der Ablenkung durch die Ablenkmittel mit der Einfallsrichtung des Laserlichts auf das Linsenarray einen Winkel α einschließt, für den gilt: wobei λ die Wellenlänge des zu homogenisierenden Laserlichts, Δλ die spektrale Breite des zu homogenisierenden Laserlichts und d der Mittenabstand der Linsen des mindestens einen Linsenarrays ist. Durch eine Ablenkung um einen derartigen Winkel kann erreicht werden, dass in dem Arbeitsbereich überwiegend hohe Beugungsordnungen auftreffen, so dass die erzielte Intensitätsverteilung sehr homogen ist.It can be provided that the deflection means are designed and / or arranged in the device such that the propagation direction of the zeroth diffraction order of the plurality of partial beams after deflection by the deflection means with the direction of incidence of the laser light on the lens array includes an angle α, for the applies: where λ is the wavelength of the laser light to be homogenized, Δλ is the spectral width of the laser light to be homogenized and d is the center distance of the lenses of the at least one lens array. By means of a deflection at such an angle, it is possible to achieve predominantly high diffraction orders in the work area, so that the intensity distribution achieved is very homogeneous.
Weiterhin kann vorgesehen sein, dass die Ablenkmittel eine Mehrzahl von Ablenkelementen umfassen, wobei dabei insbesondere die Ablenkmittel derart gestaltet und/oder angeordnet sein können, dass jeweils eines der Ablenkelemente einen der Teilstrahlen ablenkt bevor die Teilstrahlen überlappen. Die Maßnahme trägt dazu bei, dass in den Arbeitsbereich lediglich die vorgenannten höheren Beugungsordnungen gelangen, nicht jedoch die niedrigeren Beugungsordnungen, die zu einer inhomogeneren Verteilung führen würden.Farther it can be provided that the deflection means comprise a plurality of deflection elements, wherein in particular the deflection means designed and / or can be arranged, that in each case one of the deflection elements deflects one of the sub-beams before the sub-beams overlap. The measure contributes to the work area only reach the aforementioned higher diffraction orders, not, however, the lower orders of diffraction leading to a more inhomogeneous one Distribution would lead.
Es besteht weiterhin die Möglichkeit, dass die Ablenkelemente in das mindestens eine Linsenarray integriert sind. Auf diese Weise kann eine erfindungsgemäße Vorrichtung sehr kostengünstig gefertigt werden, wobei gleichzeitig die Anzahl der optisch funktionalen Flächen und damit die Verluste minimiert werden.It There is still the possibility that the baffles are integrated in the at least one lens array. In this way a device according to the invention can be manufactured very inexpensively, where at the same time the number of optically functional surfaces and thus the losses are minimized.
Beispielsweise können dabei die Ablenkelemente durch einen Versatz der Linsen des ersten Linsenarrays in einer Richtung senkrecht zur Ausbreitungsrichtung des Laserlichts gegenüber den Linsen des zweiten Linsenarrays realisiert werden.For example, in this case, the deflection elements can be offset by an offset of the lenses of the first lens array in a direction perpendicular to the propagation direction of the laser light with respect to the lenses of the second lens array can be realized.
Gemäß Anspruch 21 umfasst die Anordnung zur Homogenisierung zumindest teilweise kohärenten Laserlichts neben einer Laserlichtquelle eine erfindungsgemäße Vorrichtung.According to claim 21 comprises the arrangement for homogenization at least partially coherent laser light adjacent to a laser light source inventive device.
Dabei kann vorgesehen sein, dass die Laserlichtquelle Laserlicht mit einer Beugungsmaßzahl M2 größer 1, insbesondere größer 10 ausgeben kann.It can be provided that the laser light source can output laser light with a diffraction factor M 2 greater than 1, in particular greater than 10.
Weiterhin besteht die Möglichkeit, dass das Laserlicht der Laserlichtquelle eine spektrale Breite aufweist, für die gilt: wobei Δλ die spektrale Breite des zu homogenisierenden Laserlichts, λ die Wellenlänge des zu homogenisierenden Laserlichts und d der Mittenabstand der Linsen des mindestens einen Linsenarrays ist. Sowohl durch die Vergrößerung der Beugungsmaßzahl M2 beziehungsweise die Erhöhung der Anzahl der transversalen Moden, als auch durch Vergrößerung der spektralen Breite des Laserlichts wird durch die Überlagerung in dem Arbeitsbereich eine homogenere Intensitätsverteilung erzielt.Furthermore, there is the possibility that the laser light of the laser light source has a spectral width, for which the following applies: where Δλ is the spectral width of the laser light to be homogenized, λ is the wavelength of the laser light to be homogenized and d is the center distance of the lenses of the at least one lens array. Both by increasing the diffraction index M 2 or increasing the number of transverse modes, as well as by increasing the spectral width of the laser light is achieved by the superposition in the work area a more homogeneous intensity distribution.
Das Verfahren gemäß Anspruch 24 sieht vor, dass die Mehrzahl von Teilstrahlen vor der Überlagerung in dem Arbeitsbereich derart abgelenkt werden, dass in dem Arbeitsbereich zumindest überwiegend Beugungsordnungen überlappen, für die gilt: wobei N die Nummer der Beugungsordnung, λ die Wellenlänge des zu homogenisierenden Laserlichts und Δλ die spektrale Breite des zu homogenisierenden Laserlichts ist.The method according to claim 24 provides that the plurality of partial beams are deflected before superimposition in the working area in such a way that at least predominantly diffraction orders in the working area overlap, for which the following applies: where N is the number of the diffraction order, λ is the wavelength of the laser light to be homogenized and Δλ is the spectral width of the laser light to be homogenized.
Weitere Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden deutlich anhand der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die beiliegenden Abbildungen. Darin zeigenFurther Features and advantages of the present invention will become apparent with reference to the following description of preferred embodiments with reference to the attached figures. Show in it
In einigen der Figuren ist zur besseren Übersichtlichkeit ein kartesisches Koordinatensystem eingezeichnet.In Some of the figures are for clarity a Cartesian coordinate system drawn.
Aus
Auf
die Vorrichtung soll in positiver Z-Richtung beziehungsweise von
links in
Durch
die Linsenarrays
In
Damit
finden sich mit F = 400 mm, d = 2 mm und λ = 500 nm bei
X = –0,1 mm die minus erste Beugungsordnung
Unter
Berücksichtigung dieser Gleichung wird weiterhin ein Abschnitt
der Fernfeldverteilung im Bereich höherer Beugungsordnungen
(N >> 1) betrachtet. Dabei
wird angenommen, dass die spektrale Breite des Laserstrahles Δλ =
0,25 nm ist. Wie aus der obigen Gleichung folgt, beginnen die Beugungsmaxima
mit der Steigerung der Ordnung N auseinanderzulaufen, und das Profil
jedes Maximums wiederholt immer mehr das Profil des Spektrums der
Laserstrahlung. In
Der
Erfindung liegt die Idee zu Grunde, das Linsenarray
Zur
Verdeutlichung der Effektivität der Erfindung, soll der
nachfolgende Vergleich für die oben beschriebene Anordnung
durchgeführt werden:
Es wird angenommen, dass das
auf das Linsenarray
It is believed that on the lens array
Falls
das Laserlicht monochromatisch ist, ergibt sich im Fernfeld beziehungsweise
im Arbeitsbereich
Der
Ausdruck Richtdiagramm der Linsenarrays wird synonym zum Ausdruck
Richtcharakteristik des Linsenarrays gebraucht und beschreibt die
Abstrahlcharakteristik des aus dem zweiten Linsenarray
Die
Vorrichtung gemäß
Anstelle
eines Prismas
Die
Linsenarrays
Die
Linsen
Das
Richtdiagramm am Ausgang des zweiten Linsenarrays
In
Die
Vorrichtung gemäß
In
der in
Das
Prismenarray
Diese
Ausführungsform gemäß
Die
Vorrichtung gemäß
Die
Integration der Ablenkfunktion der Prismenelemente in das zweite
Linsenarray
Bei
diesem Ausführungsbeispiel erscheint das Winkel α nicht
am Eingang des ersten Linsenarrays
Die
Linsen
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturCited patent literature
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