DE102021128964B3 - Process and device for generating plasmas with increased pulse energy by means of dielectrically impeded electrical discharges - Google Patents
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Abstract
Bei einem Verfahren zur Erzeugung von Plasmen durch dielektrisch behinderte elektrische Entladungen (12) wird ein Ladungssammelelement aus elektrisch leitfähigem Material (15) auf einer ebenen Außenoberfläche (5) einer dielektrischen Abschirmung (3) einer Elektrode (2) angeordnet. Das Ladungssammelelement (14) weist längs der Außenoberfläche (5) eine elektrisch leitfähige Sammelfläche (20) von mindestens 1 mm2, ein kleines Streckungsverhältnis und einen maximalen Durchmesser von 10 mm auf. Die Sammelfläche (20) ist viel kleiner als eine dahinter liegende Elektrodenfläche (19) der Elektrode (2). Über die Außenoberfläche (5) steht das Ladungssammelelement (14) allenfalls wenig über. Die Außenoberfläche (5) wird in einem minimalen freien Abstand (6) zwischen 0,5 mm und 20 mm parallel zu einer zu behandelnden Objektoberfläche (7) angeordnet. An die Elektrode (2) wird eine sich ändernde Spannung angelegt, um dielektrisch behinderte elektrische Entladungen (12) in einem Arbeitsgas zwischen der Außenoberfläche (5) und der Objektoberfläche (7) hervorzurufen, wobei von dem Ladungssammelelement (14) ein Entladungsfilament (13) mit erhöhter Pulsenergie ausgeht. In a method for generating plasmas through dielectric barrier electrical discharges (12), a charge collecting element made of electrically conductive material (15) is arranged on a flat outer surface (5) of a dielectric shielding (3) of an electrode (2). The charge collecting element (14) has an electrically conductive collecting area (20) of at least 1 mm 2 along the outer surface (5), a small aspect ratio and a maximum diameter of 10 mm. The collection surface (20) is much smaller than an electrode surface (19) of the electrode (2) lying behind it. At most, the charge collecting element (14) protrudes slightly beyond the outer surface (5). The outer surface (5) is arranged parallel to an object surface (7) to be treated at a minimum free distance (6) between 0.5 mm and 20 mm. A changing voltage is applied to the electrode (2) in order to produce dielectrically impeded electrical discharges (12) in a working gas between the outer surface (5) and the object surface (7), a discharge filament (13) being emitted from the charge-collecting element (14). with increased pulse energy.
Description
TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNGTECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Erzeugung von Plasmen durch dielektrisch behinderte elektrische Entladungen und auch eine Vorrichtung zur Durchführung eines solchen Verfahrens.The invention relates to a method for generating plasmas by means of dielectric barrier electrical discharges and also to a device for carrying out such a method.
Dielektrisch behinderte elektrische Entladungen sind elektrische Gasentladungen, bei der ein resultierender Entladungsstrom durch eine dielektrische Abschirmung mindestens einer Elektrode, an der eine die Entladungen hervorrufende Spannung anliegt, begrenzt wird. Daher werden dielektrisch behinderte elektrische Entladungen nur bei einer sich ändernden Spannung aufrechterhalten, nicht aber bei einer an der Elektrode anliegenden Gleichspannung.Dielectrically impeded electrical discharges are electrical gas discharges in which a resulting discharge current is limited by a dielectric shielding of at least one electrode to which a voltage causing the discharges is applied. Therefore, dielectric barrier electrical discharges are only maintained with a changing voltage, but not with a DC voltage applied to the electrode.
STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART
Aus der
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AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Erzeugung von Plasmen durch dielektrisch behinderte elektrische Entladungen aufzuzeigen, bei denen Pulsenergien des Plasmas, d. h. Dauern und/oder Stromstärken der in einzelnen räumlichen Bereichen mit jedem schnellen Anstieg der Spannung fließenden Entladungsströme, gegenüber bekannten Verfahren und Vorrichtungen erhöht sind.The invention is based on the object of demonstrating a method and a device for generating plasmas by means of dielectrically impeded electrical discharges in which pulse energies of the plasma, i. H. Duration and/or current intensities of the discharge currents flowing in individual spatial areas with each rapid increase in the voltage are increased compared to known methods and devices.
LÖSUNGSOLUTION
Die Aufgabe der Erfindung wird durch ein Verfahren mit den Merkmalen des unabhängigen Patentanspruchs 1 und durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des unabhängigen Patentanspruchs 10 gelöst. Bevorzugte Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens und der erfindungsgemäßen Vorrichtung sind in den abhängigen Patentansprüchen definiert.The object of the invention is achieved by a method having the features of
BESCHREIBUNG DER ERFINDUNGDESCRIPTION OF THE INVENTION
Bei einem erfindungsgemäßen Verfahren zur Erzeugung von Plasmen durch dielektrisch behinderte elektrische Entladungen wird mindestens ein Ladungssammelelement aus einem elektrisch leitfähigen Material in und/oder auf einer ebenen Außenoberfläche einer dielektrischen Abschirmung einer Elektrode angeordnet. Dabei weist das Ladungssammelelement längs der Außenoberfläche eine elektrisch leitfähige Sammelfläche von mindestens 1 mm2 auf. Zugleich weist ein virtuelles Rechteck kleinster Fläche, dass das Ladungssammelelement längs der Außenkante umschließt, ein Kantenlängenverhältnis seiner größeren Kantenlänge zu seiner kleineren Kantenlänge von nicht mehr als 2,5:1 auf. Weiterhin ist die größere Kantenlänge des virtuellen Rechtecks kleinster Fläche nicht größer als 10 mm; die Fläche des virtuellen Rechtecks kleinster Fläche ist nicht größer als 20 % einer sich längs der Außenoberfläche erstreckenden Elektrodenfläche der Elektrode; und das Ladungssammelelement steht normal zu der Außenoberfläche um nicht mehr als die kleinere Kantenlänge der Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung der Elektrode über. Die Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung wird parallel zu einer zu behandelnden Objektoberfläche angeordnet. Dabei beträgt ein minimaler freier Abstand zwischen der Oberfläche oder dem Ladungssammelelement und der Objektoberfläche mindestens 0,5 mm und maximal 20 mm. Wenn dann eine sich ändernde Spannung an die Elektrode angelegt wird, die ausreichend ist, um dielektrisch behinderte elektrische Entladungen in einem Arbeitsgas zwischen der Außenoberfläche und der Objektoberfläche hervorzurufen, geht von dem Ladungssammelelement ein Entladungsfilament mit gegenüber nicht vorhandenem Ladungssammelelement deutlich erhöhter Pulsenergie aus.In a method according to the invention for generating plasmas by means of dielectrically impeded electrical discharges, at least one charge-collecting element made of an electrically conductive material is arranged in and/or on a flat outer surface of a dielectric shielding of an electrode. In this case, the charge collecting element has an electrically conductive collecting area of at least 1 mm 2 along the outer surface. At the same time, a virtual rectangle of the smallest area, which encloses the charge accumulation element along the outer edge, has an edge length ratio of its larger edge length to its smaller edge length of no more than 2.5:1. Furthermore, the larger edge length of the virtual rectangle with the smallest area is not greater than 10 mm; the area of the minimum area virtual rectangle is not more than 20% of an electrode area of the electrode extending along the outer surface; and the charge collecting element projects normal to the outer surface by no more than the minor edge length of the outer surface of the electrode dielectric shield. The outer surface of the dielectric shield is placed parallel to an object surface to be treated. In this case, a minimum free distance between the surface or the charge-collecting element and the object surface is at least 0.5 mm and at most 20 mm. If a changing voltage is then applied to the electrode, which is sufficient to cause dielectrically impeded electrical discharges in a working gas between the outer surface and the object surface, a discharge filament emanates from the charge-collecting element with significantly increased pulse energy compared to a charge-collecting element that is not present.
Die elektrische Leitfähigkeit des Ladungssammelelements an seiner dem Arbeitsgas zugewandten Sammelfläche führt dazu, dass der über das Entladungsfilament fließende Strom stärker ist und/oder länger fließt als ohne das Ladungssammelelement. Dieser Effekt ist visuell beobachtbar, wenn die dielektrisch behinderten elektrischen Entladungen gegenüber einer transparenten Gegenelektrode hervorgerufen werden, durch die die Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung betrachtet werden kann. Von dem Ladungselement geht dann ein deutlich helleres Entladungsfilament, d. h. ein Entladungsfilament mit deutlich höherer Pulsenergie aus, wobei der Vergleichsmaßstab solche Entladungsfilamente sind, die von der dielektrisch behinderten Abschirmung neben dem Ladungssammelelement ausgehen. Bei diesem Vergleichsmaßstab beträgt die Steigerung der Pulsenergie des Entladungsfilaments durch das erfindungsgemäße Verfahren mindestens 100 %, häufig mindestens 300 % und oft mindestens 700 %.The electrical conductivity of the charge-collecting element on its collecting surface facing the working gas means that the current flowing through the discharge filament is stronger and/or flows longer than without the charge-collecting element. This effect is visually observable when the dielectric barrier electric discharges are caused to a transparent counter-electrode through which the outer surface surface of the dielectric shielding can be observed. A significantly brighter discharge filament then emanates from the charging element, ie a discharge filament with significantly higher pulse energy, the standard of comparison being those discharge filaments which emanate from the dielectric barrier shielding next to the charge collecting element. By this standard of comparison, the increase in pulse energy of the discharge filament by the method of the invention is at least 100%, often at least 300% and often at least 700%.
Dabei können von dem Ladungssammelelement auch mehrere parallel zueinander verlaufende Entladungsfilamente gleichzeitig ausgehen. Dann weist typischerweise jedes dieser Entladungsfilamente eine erhöhte Pulsenergie auf. Zugleich ist die Anzahl der pro Flächeneinheit von dem Ladungssammelelement ausgehenden Entladungsfilamente deutlich kleiner als diejenige solcher Entladungsfilamente, die ohne oder auch neben dem Ladungssammelelement von der Außenoberfläche der der dielektrischen Abschirmung der Elektrode ausgehen. Die Summe der über die Gesamtheit der Entladungsfilamente fließenden Entladungsströme wird durch das Ladungssammelelement daher allenfalls wenig beeinflusst.In this case, a plurality of discharge filaments running parallel to one another can also emanate from the charge-collecting element at the same time. Then each of these discharge filaments typically has an increased pulse energy. At the same time, the number of discharge filaments per unit area emanating from the charge collecting element is significantly smaller than that of such discharge filaments which emanate from the outer surface of the dielectric shielding of the electrode without or also next to the charge collecting element. The sum of the discharge currents flowing over the entirety of the discharge filaments is therefore at most only slightly influenced by the charge collecting element.
Die zu dem Ladungssammelelement gemachten geometrischen Angaben bedeuten, dass das Ladungssammelelement auf der Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung eine lokalisierte Form mit geringem Streckungsfaktor aufweist, die im Wesentlichen punktfleckförmig ist. Dabei ist es jedoch nicht entscheidend, dass das Ladungssammelelement eine bestimmte Form, beispielsweise eine Kreisform aufweist. Das Ladungssammelelement kann auch dreieckig, viereckig, quadratisch, vieleckig, sternförmig, #-förmig oder allgemein gitterförmig sein. Es ist demnach auch nicht entscheidend, dass das Ladungssammelelement eine lückenlose elektrisch leitfähige Sammelfläche aufweist. Das Ladungssammelelement ist jedoch deutlich kleiner als die Elektrodenfläche der auf der dem Ladungssammelelement abgekehrten Rückseite in der dielektrischen Abschirmung angeordneten Elektrode. Diese kompakten Abmessungen sind dabei etwa von derselben Größenordnung wie der minimale freie Abstand zwischen der Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung oder dem Ladungssammelelement und der zu behandelnden Objektoberfläche.The geometric references made to the charge accumulating element mean that the charge accumulating element has a localized shape with low aspect ratio on the outer surface of the dielectric shield, which is essentially spot-shaped. In this case, however, it is not crucial that the charge-collecting element has a specific shape, for example a circular shape. The charge collecting element can also be triangular, square, square, polygonal, star-shaped, #-shaped or generally grid-shaped. Accordingly, it is also not crucial that the charge collecting element has an uninterrupted electrically conductive collecting surface. However, the charge-collecting element is significantly smaller than the electrode area of the electrode arranged on the rear side facing away from the charge-collecting element in the dielectric shielding. These compact dimensions are of approximately the same order of magnitude as the minimum free distance between the outer surface of the dielectric shield or the charge collecting element and the object surface to be treated.
Die zum Hervorrufen der dielektrisch behinderten elektrischen Entladungen in dem Arbeitsgas zwischen der Außenoberfläche und der Objektoberfläche anzulegende sich ändernde Spannung entspricht dem, was zum Erzeugen von Plasmen durch dielektrisch behinderte elektrische Entladungen üblich ist. Bei jeder Änderung der Spannung sollte ein steiler Anstieg der Spannung gegeben sein, und die Änderungen der Spannung sollten schnell genug aufeinander folgen, um das Plasma wie gewünscht zu zünden und aufrechtzuerhalten.The varying voltage to be applied to create the dielectric barrier electrical discharges in the working gas between the outer surface and the object surface corresponds to what is usual for generating plasmas from dielectric barrier electrical discharges. There should be a steep rise in voltage with each change in voltage, and the voltage changes should follow each other quickly enough to ignite and sustain the plasma as desired.
Die elektrisch leitfähige Sammelfläche des Ladungssammelelements bestimmt die Fläche längs der Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung, über die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren Ladungsträger mit Hilfe der elektrischen Leitfähigkeit des Ladungssammelelements eingesammelt und zur Erhöhung dessen Pulsenergie in das Entladungsfilament eingespeist werden können. Ab einer elektrisch leitfähigen Sammelfläche von 1 mm2 tritt auf diese Weise eine erhebliche Steigerung der Pulsenergie des von dem Ladungssammelelement ausgehenden Entladungsfilaments auf. Vorzugsweise weist das Ladungssammelelement längs der Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung eine geschlossene elektrisch leitfähige Sammelfläche von mindestens 3 mm2 und noch mehr bevorzugt von mindestens 6 mm2 auf. Mit größer werdender Sammelfläche steigt die mögliche Pulsenergie des Entladungsfilaments an. Zugleich steigt aber auch die Wahrscheinlichkeit an, dass von dem Ladungssammelelement mehr als ein Entladungsfilament ausgeht. Eine maximale Steigerung der Pulsenergie wird dann erreicht, wenn die Sammelfläche nicht nur geschlossen, d. h. lückenlos ist, sondern auch besonders kompakt ist, d. h. ein kleines Kantenlängenverhältnis von vorzugsweise nicht mehr 2:1 und noch mehr bevorzugt nicht mehr als 1,5:1 aufweist. Kantenlängenverhältnisse bei 1:1, wie sie Kreise und Quadrate aufweisen, sind am meisten bevorzugt.The electrically conductive collecting surface of the charge collecting element determines the area along the outer surface of the dielectric shielding via which charge carriers can be collected with the aid of the electrical conductivity of the charge collecting element and fed into the discharge filament to increase its pulse energy. From an electrically conductive collecting area of 1 mm 2 , a considerable increase in the pulse energy of the discharge filament emanating from the charge collecting element occurs in this way. Preferably, the charge collecting element has a closed electrically conductive collection area of at least 3 mm 2 and more preferably at least 6 mm 2 along the outer surface of the dielectric shield. The possible pulse energy of the discharge filament increases with increasing collection area. At the same time, however, the probability that more than one discharge filament emanates from the charge-collecting element also increases. A maximum increase in pulse energy is achieved when the collecting surface is not only closed, ie without gaps, but is also particularly compact, ie has a small edge length ratio of preferably no more than 2:1 and even more preferably no more than 1.5:1 . Aspect ratios at 1:1, such as circles and squares, are most preferred.
Die größere Kantenlänge des virtuellen Dreiecks kleinster Fläche, dass das Ladungssammelelement längs der Außenoberfläche umschließt, ist vorzugsweise nicht größer als 8 mm und noch mehr bevorzugt nicht größer als 6 mm. Beim Einhalten dieser Obergrenze kann die gesamte mit dem Ladungssammelelement gesammelte Ladung in das Entladungsfilament fließen, so dass dessen Pulsenergie maximal gesteigert wird. Bei größeren Ladungssammelelementen besteht hingegen, wie bereits ausgeführt, die Neigung, dass mehrere Entladungsfilamente von dem Ladungssammelelement ausgehen, die dann aber ebenfalls höhere Pulsenergien als ohne das Ladungssammelelement aufweisen.The larger edge length of the virtual triangle with the smallest area, which encloses the charge-collecting element along the outer surface, is preferably no greater than 8 mm and even more preferably no greater than 6 mm. If this upper limit is observed, the entire charge collected with the charge-collecting element can flow into the discharge filament, so that its pulse energy is increased to the maximum. In the case of larger charge-collecting elements, on the other hand, as already explained, there is a tendency for a plurality of discharge filaments to emanate from the charge-collecting element, which then also have higher pulse energies than without the charge-collecting element.
In aller Regel steht das Ladungssammelelement normal zu der Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung um nicht mehr als 50 % der kleineren Kantenlänge des virtuellen Rechtecks über. Vorzugsweise schließt das Ladungssammelelement plan mit der Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung ab. Dadurch wird die Neigung reduziert, dass sich Ladungsfilamente an der Außenkante des Ladungssammelelements ausbilden, was zu Lasten eines zentralen Entladungsfilaments mit maximaler Pulsenergie gehen kann.As a rule, the charge collecting element does not protrude by more than 50% of the smaller edge length of the virtual rectangle normal to the outer surface of the dielectric shielding. Preferably, the charge collecting element is flush with the outer surface of the dielectric shield. This reduces the inclination ed that charge filaments form at the outer edge of the charge-collecting element, which can be at the expense of a central discharge filament with maximum pulse energy.
Der minimale freie Abstand zwischen der Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung oder dem Ladungssammelelement und der Objektoberfläche beträgt vorzugsweise mindestens 1 mm und maximal 10 mm, noch mehr bevorzugt mindestens 2 mm und höchstens 5 mm. Dabei kann das Arbeitsgas Atmosphärendruck aufweisen. Konkret kann das Arbeitsgas ein Edelgas, Luft oder auch reiner Stickstoff sein.The minimum free distance between the outer surface of the dielectric shield or the charge collecting element and the object surface is preferably at least 1 mm and at most 10 mm, more preferably at least 2 mm and at most 5 mm. The working gas can have atmospheric pressure. Specifically, the working gas can be an inert gas, air or pure nitrogen.
Ein Abstand des Ladungssammelelements zu einem Rand der ebenen Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung der Elektrode beträgt vorzugsweise mindestens 50 % des minimalen freien Abstands zwischen der Außenoberfläche oder dem Ladungssammelelement und der Objektoberfläche. Noch mehr bevorzugt ist der Abstand des Ladungssammelelements zu dem Rand der ebenen Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung mindestens genauso groß wie dieser minimale freie Abstand. Anders gesagt befindet sich das Ladungssammelelement in einem Zentralbereich der Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung der Elektrode. Regelmäßig überlappt das Ladungssammelelement dabei in einer Projektion normal zu der Außenoberfläche vollständig mit der Elektrodenoberfläche der Elektrode. Anders gesagt liegt das Ladungssammelelement vollständig vor und nicht teilweise auch neben der Elektrode.A distance of the charge collecting element to an edge of the planar outer surface of the dielectric shielding of the electrode is preferably at least 50% of the minimum free distance between the outer surface or the charge collecting element and the object surface. Even more preferably, the distance from the charge collecting element to the edge of the planar outer surface of the dielectric shield is at least as great as this minimum free distance. Stated another way, the charge collecting element is located in a central area of the outer surface of the dielectric shield of the electrode. In this case, the charge collecting element regularly overlaps completely with the electrode surface of the electrode in a projection normal to the outer surface. In other words, the charge-collecting element is entirely present and not also partially adjacent to the electrode.
Eine elektrische Leitfähigkeit des elektrisch leitfähigen Materials des Ladungssammelelements beträgt längs der Außenoberfläche mindestens 3×102A/Vm. Eine elektrische Leitfähigkeit in dieser Höhe wird beispielsweise auch von Halbleitern oder Halbmetallen erreicht. Bevorzugt ist eine elektrische Leitfähigkeit des elektrisch leitfähigen Materials längs der Außenoberfläche von mindestens 1×106A/Vm, wie sie von den meisten Metallen erreicht und von Edelmetallen wie Kupfer oder Silber deutlich überschritten wird. Die elektrische Leitfähigkeit des elektrisch leitfähigen Materials bestimmt die Effektivität des Sammelns von Ladungsträgern durch das Ladungssammelelement und damit auch die maximale Fläche, aus der mit Hilfe des Ladungssammelelements Ladungsträger in ein Entladungsfilament eingeleitet werden können. Das elektrisch leitfähige Material ist darüber hinaus so auszuwählen, dass es den Einwirkungen der von ihm ausgehenden Entladungsfilamente erhöhter Pulsenergie in ausreichendem Maße standhält. Auch aus diesem Grund kann die Verwendung eines Edelmetalls wie Kupfer oder Silber oder einer kupfer- oder silberbasierten Legierung bevorzugt sein.An electrical conductivity of the electrically conductive material of the charge collecting element is at least 3×10 2 A/Vm along the outer surface. An electrical conductivity of this level is also achieved, for example, by semiconductors or semi-metals. An electrical conductivity of the electrically conductive material along the outer surface of at least 1×10 6 A/Vm is preferred, as is achieved by most metals and is clearly exceeded by noble metals such as copper or silver. The electrical conductivity of the electrically conductive material determines the effectiveness of the collection of charge carriers by the charge collecting element and thus also the maximum area from which charge carriers can be introduced into a discharge filament with the aid of the charge collecting element. In addition, the electrically conductive material is to be selected in such a way that it sufficiently withstands the effects of the increased pulse energy from the discharge filaments emanating from it. For this reason too, the use of a noble metal such as copper or silver or a copper- or silver-based alloy may be preferred.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren kann nicht nur ein einziges, sondern können auch mehrere Ladungssammelelemente aus dem elektrisch leitfähigen Material in und/oder auf der ebenen Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung der Elektrode angeordnet werden. Dabei betragen Abstände der mehreren Ladungssammelelemente untereinander mindestens 75 % und vorzugsweise mindestens 150 % des minimalen freien Abstands zwischen der Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung oder dem Ladungssammelelement und der Objektoberfläche. Weiterhin überdecken die elektrisch leitfähigen Sammelflächen der mehreren Ladungssammelelemente zusammen nicht mehr als 50 % der sich längs der Außenoberfläche erstreckenden Elektrodenfläche der Elektrode. Anders gesagt sind über mindestens 50 % der Elektrodenfläche keine Ladungssammelelemente angeordnet.In the method according to the invention, not only a single but also a plurality of charge collecting elements made of the electrically conductive material can be arranged in and/or on the planar outer surface of the dielectric shielding of the electrode. The distances between the multiple charge collecting elements are at least 75% and preferably at least 150% of the minimum free distance between the outer surface of the dielectric shielding or the charge collecting element and the object surface. Furthermore, the electrically conductive collecting surfaces of the plurality of charge collecting elements together cover no more than 50% of the electrode area of the electrode extending along the outer surface. In other words, no charge collecting elements are arranged over at least 50% of the electrode area.
Eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens weist eine Elektrode auf, die mit einer dielektrischen Abschirmung versehen ist. Mindestens ein Ladungssammelelement aus einem elektrisch leitfähigen Material ist in und/oder auf einer ebenen Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung angeordnet. Dabei gelten für das Ladungssammelelement dieselben geometrischen Anforderungen wie bei dem erfindungsgemäßen Verfahren. Eine Spannungsquelle der erfindungsgemäßen Vorrichtung stellt eine sich ändernde Spannung zum Anlegen an die Elektrode bereit, um dielektrisch behinderte elektrische Entladungen in einem Arbeitsgas zwischen der Außenoberfläche und einer zu behandelnden Objektoberfläche hervorzurufen.A device according to the invention for carrying out the method according to the invention has an electrode which is provided with a dielectric shield. At least one charge collecting element made of an electrically conductive material is arranged in and/or on an outer planar surface of the dielectric shield. In this case, the same geometric requirements apply to the charge-collecting element as to the method according to the invention. A voltage source of the inventive apparatus provides a varying voltage for application to the electrode to cause dielectric barrier electrical discharges in a working gas between the outer surface and an object surface to be treated.
Ausrichtelemente der Vorrichtung können dazu ausgebildet sein, die Außenoberfläche parallel zu der Objektoberfläche auszurichten, wobei ein minimaler freier Abstand zwischen der Außenoberfläche oder dem Ladungssammelelement und der Objektoberfläche mindestens 0,5 mm und maximal 20 mm, vorzugsweise mindestens 1 mm und maximal 10 mm und noch mehr bevorzugt mindestens 2 mm und maximal 5 mm beträgt.Alignment elements of the device can be designed to align the outer surface parallel to the object surface, with a minimum free distance between the outer surface or the charge-collecting element and the object surface of at least 0.5 mm and a maximum of 20 mm, preferably at least 1 mm and a maximum of 10 mm and more more preferably at least 2 mm and at most 5 mm.
In und/oder auf der ebenen Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung der Elektrode können auch mehrere Ladungssammelelemente aus dem elektrisch leitfähigen Material angeordnet sein, wobei Abstände der Ladungssammelelemente untereinander mindestens so groß sind wie die kleinere Kantenlänge der virtuellen Rechtecke und wobei die Ladungssammelelemente vorzugsweise jeweils gleich ausgebildet und/oder längs der Außenoberfläche in einer oder beiden Haupterstreckungsrichtungen der Außenoberfläche gleichmäßig verteilt sind.Several charge collecting elements made of the electrically conductive material can also be arranged in and/or on the flat outer surface of the dielectric shielding of the electrode, with the distances between the charge collecting elements being at least as large as the smaller edge length of the virtual rectangles and with the charge collecting elements preferably being of the same design and /or are distributed uniformly along the outer surface in one or both main directions of extension of the outer surface.
Konkret können die Ladungssammelelemente in einem zweidimensionalen Array über die Objektoberfläche verteilt sein und so ihre Funktion der Steigerung der Pulsenergie von Entladungsfilamenten über die gesamte Objektoberfläche verteilt erfüllen. In der Regel sind die Abstände der Ladungssammelelemente untereinander bezogen auf den freien Abstand zwischen der Außenoberfläche und der dielektrischen Abschirmung oder den Ladungssammelelementen und der Objektoberfläche mindestens 0,7 mal so groß und vorzugsweise mindestens 1,5 mal so groß wie dieser freie Abstand. Je geringer der Abstand der Vorrichtung zu der zu behandelnden Objektoberfläche ist, desto dichter liegen die Entladungsfilamente nebeneinander, ganz unabhängig davon, ob Ladungssammelelemente vorhanden sind oder nicht. Entsprechend können Ladungssammelelemente bei geringerem Abstand zu der Objektoberfläche auch dichter beieinander angeordnet sein, ohne dass es zu einer unerwünschten Gleitentladung zwischen benachbarten Ladungssammelelementen kommt.In concrete terms, the charge-collecting elements can be distributed over the object surface in a two-dimensional array and thus fulfill their function of increasing the pulse energy of discharge filaments distributed over the entire object surface. Typically, the distances between the charge collecting elements relative to the free distance between the outer surface and the dielectric shield or the charge collecting elements and the object surface are at least 0.7 times and preferably at least 1.5 times this free distance. The smaller the distance between the device and the surface of the object to be treated, the closer together the discharge filaments lie, regardless of whether charge-collecting elements are present or not. Accordingly, charge-collecting elements can also be arranged closer together if the distance from the object surface is smaller, without an undesired creeping discharge occurring between adjacent charge-collecting elements.
Jedes Ladungssammelelement weist vorzugsweise eine maximale Dicke normal zu der Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung von nicht mehr als der kleineren Kantenlänge des virtuellen Rechtecks, vorzugsweise von nicht mehr als 50 % der kleineren Kantenlänge und noch mehr bevorzugt von nicht mehr als 25 % der kleineren Kantenlänge auf. Anders gesagt können die Ladungssammelelemente vergleichsweise dünn sein und die Ausbildung des elektrischen Felds zwischen der dielektrischen Abschirmung und einer zu behandelnden Oberfläche im Wesentlichen durch ihre elektrische Leitfähigkeit und weniger durch eine Reduzierung des minimalen Abstands zu der Objektoberfläche oder einer Reduzierung der dielektrischen Abschirmung vor der Elektrode beeinflussen.Each charge collecting element preferably has a maximum thickness normal to the outer surface of the dielectric shield of no more than the minor edge length of the virtual rectangle, preferably no more than 50% the minor edge length, and even more preferably no more than 25% the minor edge length. In other words, the charge collecting elements can be comparatively thin and influence the formation of the electric field between the dielectric shielding and a surface to be treated essentially through their electrical conductivity and less through a reduction in the minimum distance to the object surface or a reduction in the dielectric shielding in front of the electrode .
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Patentansprüchen, der Beschreibung und den Zeichnungen.Advantageous developments of the invention result from the patent claims, the description and the drawings.
Die in der Beschreibung genannten Vorteile von Merkmalen und von Kombinationen mehrerer Merkmale sind lediglich beispielhaft und können alternativ oder kumulativ zur Wirkung kommen, ohne dass die Vorteile zwingend von erfindungsgemäßen Ausführungsformen erzielt werden müssen.The advantages of features and combinations of several features mentioned in the description are merely exemplary and can have an effect alternatively or cumulatively without the advantages necessarily having to be achieved by embodiments according to the invention.
Hinsichtlich des Offenbarungsgehalts - nicht des Schutzbereichs - der ursprünglichen Anmeldungsunterlagen und des Patents gilt Folgendes: Weitere Merkmale sind den Zeichnungen - insbesondere den dargestellten Geometrien und den relativen Abmessungen mehrerer Bauteile zueinander sowie deren relativer Anordnung und Wirkverbindung - zu entnehmen. Die Kombination von Merkmalen unterschiedlicher Ausführungsformen der Erfindung oder von Merkmalen unterschiedlicher Patentansprüche ist ebenfalls abweichend von den gewählten Rückbeziehungen der Patentansprüche möglich und wird hiermit angeregt. Dies betrifft auch solche Merkmale, die in separaten Zeichnungen dargestellt sind oder bei deren Beschreibung genannt werden. Diese Merkmale können auch mit Merkmalen unterschiedlicher Patentansprüche kombiniert werden. Ebenso können in den Patentansprüchen aufgeführte Merkmale für weitere Ausführungsformen der Erfindung entfallen, was aber nicht für die unabhängigen Patentansprüche des erteilten Patents gilt.The following applies to the disclosure content - not the scope of protection - of the original application documents and the patent: Further features can be found in the drawings - in particular the illustrated geometries and the relative dimensions of several components to one another as well as their relative arrangement and operative connection. The combination of features of different embodiments of the invention or of features of different patent claims is also possible, deviating from the selected dependencies of the patent claims and is hereby suggested. This also applies to those features that are shown in separate drawings or are mentioned in their description. These features can also be combined with features of different patent claims. Likewise, features listed in the patent claims can be omitted for further embodiments of the invention, but this does not apply to the independent patent claims of the granted patent.
Die in den Patentansprüchen und der Beschreibung genannten Merkmale sind bezüglich ihrer Anzahl so zu verstehen, dass genau diese Anzahl oder eine größere Anzahl als die genannte Anzahl vorhanden ist, ohne dass es einer expliziten Verwendung des Adverbs „mindestens“ bedarf. Wenn also beispielsweise von einem Entladungsfilament die Rede ist, ist dies so zu verstehen, dass genau ein Entladungsfilament, zwei Entladungsfilamente oder mehr Entladungsfilamente auftreten vorhanden sind. Die in den Patentansprüchen angeführten Merkmale können durch weitere Merkmale ergänzt werden oder die einzigen Merkmale sein, die der Gegenstand des jeweiligen Patentanspruchs aufweist.The features mentioned in the patent claims and the description are to be understood with regard to their number in such a way that exactly this number or a larger number than the number mentioned is present without the need for an explicit use of the adverb “at least”. So if, for example, a discharge filament is mentioned, this is to be understood in such a way that exactly one discharge filament, two discharge filaments or more discharge filaments occur. The features listed in the patent claims can be supplemented by further features or can be the only features that the subject matter of the respective patent claim has.
Die in den Patentansprüchen enthaltenen Bezugszeichen stellen keine Beschränkung des Umfangs der durch die Patentansprüche geschützten Gegenstände dar. Sie dienen lediglich dem Zweck, die Patentansprüche leichter verständlich zu machen.The reference signs contained in the claims do not limit the scope of the subject-matter protected by the claims. They only serve the purpose of making the claims easier to understand.
Figurenlistecharacter list
Im Folgenden wird die Erfindung anhand in den Figuren dargestellter bevorzugter Ausführungsbeispiele weiter erläutert und beschrieben.
-
1 zeigt schematisch eine erfindungsgemäße Vorrichtung in einer Seitenansicht beim Behandeln einer Objektoberfläche. -
2 zeigt ein Detail einer gegenüber1 abgewandelten Ausführungsform der Vorrichtung. -
3 zeigt das Detail gemäß2 einer weiteren gegenüber1 abgewandelten Ausführungsform der Vorrichtung. -
4 ist eine Ansicht einer Außenoberfläche einer dielektrischen Abschirmung einer Elektrode der Vorrichtung gemäß1 mit einem kreisrunden Ladungssammelelement. -
5 zeigt eine Verteilung von Entladungsfilamenten über die Fläche des Ladungssammelelements gemäß4 . -
6 zeigt die Außenoberfläche mit dielektrischer Abschirmung einer anderen Ausführungsform der Vorrichtung mit einem dreieckigen Ladungssammelelement. -
7 zeigt die Verteilung von Entladungsfilamenten über die Fläche des Ladungssammelelements gemäß6 . -
8 zeigt die Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung einer anderen Ausführungsform der Vorrichtung mit einem quadratischen Ladungssammelelement. -
9 zeigt eine Verteilung von Entladungsfilamenten über die Fläche des Ladungssammelelements gemäß8 . -
10 zeigt die Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung einer anderen Ausführungsform der Vorrichtung mit mehreren kreisförmigen Ladungssammelelementen. -
11 zeigt die Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung einer anderen Ausführungsform der Vorrichtung mit mehreren dreieckigen Ladungssammelelementen; und -
12 zeigt die Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung einer anderen Ausführungsform der Vorrichtung mit mehreren quadratischen Ladungssammelelementen.
-
1 shows schematically a device according to the invention in a side view when treating an object surface. -
2 shows a detail of an opposite1 modified embodiment of the device. -
3 shows the detail according to2 another opposite1 modified embodiment of the device. -
4 12 is a view of an outer surface of a dielectric shield of an electrode of the device according to FIG1 with a circular charge collecting element. -
5 FIG. 12 shows a distribution of discharge filaments over the surface of the charge collecting element according to FIG4 . -
6 Figure 12 shows the outer surface with dielectric shielding of another embodiment of the device with a triangular charge collecting element. -
7 FIG. 12 shows the distribution of discharge filaments over the surface of the charge collecting element according to FIG6 . -
8th Figure 12 shows the outer surface of the dielectric shield of another embodiment of the device with a square charge collecting element. -
9 FIG. 12 shows a distribution of discharge filaments over the surface of the charge collecting element according to FIG8th . -
10 Figure 12 shows the outer surface of the dielectric shield of another embodiment of the device having multiple circular charge collecting elements. -
11 Figure 12 shows the outer surface of the dielectric shield of another embodiment of the device having a plurality of triangular charge collecting elements; and -
12 Fig. 13 shows the outer surface of the dielectric shield of another embodiment of the device with multiple square charge collecting elements.
FIGURENBESCHREIBUNGFIGURE DESCRIPTION
Die in
Als Bezugsmaßstab u. a. für eine Obergrenze des Überstands des jeweiligen Ladungssammelelements über der Außenoberfläche 5 dient ein virtuelles Rechteck kleinster Fläche 16, wie es in
Bei der Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit dem dreieckigen Ladungssammelelement 14 gemäß
Solche abgerundeten quadratischen Abmessungen weist auch die Außenoberfläche 5 gemäß
Konkret können die einzelnen Ladungssammelelemente aus Kupferfolie ausgebildet sein, die auf das Dielektrikum 4 aus Aluminiumdioxydkeramik aufgeklebt ist, wobei sie in die Außenoberfläche 5 eingebettet sein kann.In concrete terms, the individual charge-collecting elements can be formed from copper foil which is bonded to the dielectric 4 made from alumina ceramics, and it can be embedded in the
BezugszeichenlisteReference List
- 11
- Vorrichtungcontraption
- 22
- Elektrodeelectrode
- 33
- dielektrische Abschirmungdielectric shielding
- 44
- Dielektrikumdielectric
- 55
-
Außenoberfläche der dielektrischen Abschirmung 3Outer surface of the
dielectric shield 3 - 66
- freier Abstandfree distance
- 77
- zu behandelnde Objektoberflächeobject surface to be treated
- 88th
- Objektobject
- 99
- Spannungsquellevoltage source
- 1010
- Gegenelektrodecounter electrode
- 1111
- Arbeitsgasworking gas
- 1212
- dielektrische Entladungdielectric discharge
- 1313
- Entladungsfilamentdischarge filament
- 1414
- Ladungssammelelementcharge collecting element
- 1515
- elektrisch leitfähiges Materialelectrically conductive material
- 1616
- virtuelles Rechteckvirtual rectangle
- 1717
- Kantenlängeedge length
- 1818
- Kantenlängeedge length
- 1919
- Elektrodenoberflächeelectrode surface
- 2020
- Sammelflächequilt
- 2121
- Ausrichtelementalignment element
Claims (15)
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006011312A1 (en) | 2006-03-11 | 2007-10-04 | Fachhochschule Hildesheim/Holzminden/Göttingen | Apparatus for plasma treatment under atmospheric pressure |
DE102011050631A1 (en) | 2011-05-25 | 2012-11-29 | Hochschule für Angewandte Wissenschaft und Kunst - Hildesheim/Holzminden/Göttingen | Devices for generating electrical discharges of low energy, in particular for combating hairless lice |
DE102013112316A1 (en) | 2013-11-08 | 2015-05-13 | Epcos Ag | Piezoelectric transformer and counter electrode |
DE102015108884A1 (en) | 2015-06-04 | 2016-12-08 | Hochschule für Angewandte Wissenschaft und Kunst - Hildesheim/Holzminden/Göttingen | Apparatus for the plasma treatment of in particular band-shaped objects |
DE212018000015U1 (en) | 2017-03-14 | 2018-10-02 | Epcos Ag | Apparatus for generating a non-thermal atmospheric pressure plasma and effective space |
DE102019122930A1 (en) | 2019-08-27 | 2021-03-04 | Relyon Plasma Gmbh | Device for generating a gas discharge |
DE102020109400A1 (en) | 2020-04-03 | 2021-10-07 | Relyon Plasma Gmbh | Device for generating a gas discharge |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1507281B1 (en) * | 2003-08-14 | 2007-05-16 | Fuji Film Manufacturing Europe B.V. | Arrangement, method and electrode for generating a plasma |
DE102008030913B4 (en) * | 2008-07-02 | 2013-03-07 | Reinhausen Plasma Gmbh | Wundschnellverband |
DE102010011131A1 (en) * | 2010-03-11 | 2011-09-15 | Reinhausen Plasma Gmbh | A generator |
SG11201505669TA (en) * | 2013-02-04 | 2015-09-29 | Creative Tech Corp | Plasma generator |
KR101921819B1 (en) * | 2017-03-09 | 2018-11-23 | 광운대학교 산학협력단 | Plasma Skincare Device with Floating Electrodes |
JP2019057363A (en) * | 2017-09-19 | 2019-04-11 | 国立大学法人名古屋大学 | Discharge reactor, and manufacturing method thereof |
-
2021
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-
2022
- 2022-11-01 WO PCT/EP2022/080455 patent/WO2023078872A1/en unknown
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006011312A1 (en) | 2006-03-11 | 2007-10-04 | Fachhochschule Hildesheim/Holzminden/Göttingen | Apparatus for plasma treatment under atmospheric pressure |
DE102011050631A1 (en) | 2011-05-25 | 2012-11-29 | Hochschule für Angewandte Wissenschaft und Kunst - Hildesheim/Holzminden/Göttingen | Devices for generating electrical discharges of low energy, in particular for combating hairless lice |
DE102013112316A1 (en) | 2013-11-08 | 2015-05-13 | Epcos Ag | Piezoelectric transformer and counter electrode |
DE102015108884A1 (en) | 2015-06-04 | 2016-12-08 | Hochschule für Angewandte Wissenschaft und Kunst - Hildesheim/Holzminden/Göttingen | Apparatus for the plasma treatment of in particular band-shaped objects |
DE212018000015U1 (en) | 2017-03-14 | 2018-10-02 | Epcos Ag | Apparatus for generating a non-thermal atmospheric pressure plasma and effective space |
DE102019122930A1 (en) | 2019-08-27 | 2021-03-04 | Relyon Plasma Gmbh | Device for generating a gas discharge |
DE102020109400A1 (en) | 2020-04-03 | 2021-10-07 | Relyon Plasma Gmbh | Device for generating a gas discharge |
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