DE102020213471A1 - Processing device for processing a sample liquid, method for producing a processing device and method for operating a processing device - Google Patents

Processing device for processing a sample liquid, method for producing a processing device and method for operating a processing device Download PDF

Info

Publication number
DE102020213471A1
DE102020213471A1 DE102020213471.5A DE102020213471A DE102020213471A1 DE 102020213471 A1 DE102020213471 A1 DE 102020213471A1 DE 102020213471 A DE102020213471 A DE 102020213471A DE 102020213471 A1 DE102020213471 A1 DE 102020213471A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
processing device
gap
processing
recess
sample liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE102020213471.5A
Other languages
German (de)
Inventor
Daniel Sebastian Podbiel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Robert Bosch GmbH
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Robert Bosch GmbH filed Critical Robert Bosch GmbH
Priority to DE102020213471.5A priority Critical patent/DE102020213471A1/en
Publication of DE102020213471A1 publication Critical patent/DE102020213471A1/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01LCHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L3/00Containers or dishes for laboratory use, e.g. laboratory glassware; Droppers
    • B01L3/50Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes
    • B01L3/502Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures
    • B01L3/5027Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip
    • B01L3/502715Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip characterised by interfacing components, e.g. fluidic, electrical, optical or mechanical interfaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01LCHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L3/00Containers or dishes for laboratory use, e.g. laboratory glassware; Droppers
    • B01L3/50Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes
    • B01L3/502Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures
    • B01L3/5027Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip
    • B01L3/502707Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip characterised by the manufacture of the container or its components
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01LCHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L3/00Containers or dishes for laboratory use, e.g. laboratory glassware; Droppers
    • B01L3/50Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes
    • B01L3/502Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures
    • B01L3/5027Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip
    • B01L3/502746Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip characterised by the means for controlling flow resistance, e.g. flow controllers, baffles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01LCHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L2200/00Solutions for specific problems relating to chemical or physical laboratory apparatus
    • B01L2200/02Adapting objects or devices to another
    • B01L2200/025Align devices or objects to ensure defined positions relative to each other
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01LCHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L2200/00Solutions for specific problems relating to chemical or physical laboratory apparatus
    • B01L2200/12Specific details about manufacturing devices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01LCHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L2300/00Additional constructional details
    • B01L2300/08Geometry, shape and general structure
    • B01L2300/0861Configuration of multiple channels and/or chambers in a single devices
    • B01L2300/0877Flow chambers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01LCHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L2300/00Additional constructional details
    • B01L2300/08Geometry, shape and general structure
    • B01L2300/0887Laminated structure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01LCHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L2300/00Additional constructional details
    • B01L2300/16Surface properties and coatings
    • B01L2300/161Control and use of surface tension forces, e.g. hydrophobic, hydrophilic

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Prozessierungseinrichtung (10) zum Prozessieren einer Probenflüssigkeit, wobei die Prozessierungseinrichtung (10) ein Trägerelement (11) zum Tragen der Probenflüssigkeit aufweist. Das Trägerelement (11) weist zumindest eine Ausnehmung (110) auf. Weiterhin weist die Prozessierungseinrichtung (10) ein in der Ausnehmung (110) des Trägerelements (11) angeordnetes Prozessierungselement (12), das eine hydrophile Oberflächenbeschaffenheit aufweist, und ein Begrenzungselement (100) auf, das ausgebildet ist, um das Prozessierungselement (12) in der Ausnehmung (110) des Trägerelements (11) zu positionieren, um die Probenflüssigkeit zu prozessieren.The invention relates to a processing device (10) for processing a sample liquid, the processing device (10) having a carrier element (11) for carrying the sample liquid. The carrier element (11) has at least one recess (110). Furthermore, the processing device (10) has a processing element (12) which is arranged in the recess (110) of the carrier element (11) and has a hydrophilic surface finish, and a delimiting element (100) which is designed to surround the processing element (12) in to position the recess (110) of the carrier element (11) in order to process the sample liquid.

Description

Stand der TechnikState of the art

Die Erfindung geht von einer Prozessierungseinrichtung zum Prozessieren einer Probenflüssigkeit, einem Verfahren zum Herstellen einer Prozessierungseinrichtung und einem Verfahren zum Betreiben einer Prozessierungseinrichtung nach Gattung der unabhängigen Ansprüche aus. Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist auch ein Computerprogramm.The invention is based on a processing device for processing a sample liquid, a method for producing a processing device and a method for operating a processing device according to the species of the independent claims. The subject matter of the present invention is also a computer program.

Mikrofluidische Analysesysteme, sogenannte Lab-on-Chips (LoCs), erlauben ein automatisiertes, zuverlässiges, schnelles, kompaktes und kostengünstiges Prozessieren von Patientenproben für die medizinische Diagnostik. Durch die Kombination einer Vielzahl von Operationen für die kontrollierte Manipulation von Fluiden können komplexe molekulardiagnostische Testabläufe auf einer Lab-on-Chip-Kartusche durchgeführt werden.Microfluidic analysis systems, so-called lab-on-chips (LoCs), allow automated, reliable, fast, compact and cost-effective processing of patient samples for medical diagnostics. By combining a multitude of operations for the controlled manipulation of fluids, complex molecular diagnostic test sequences can be performed on a lab-on-chip cartridge.

Offenbarung der ErfindungDisclosure of Invention

Vor diesem Hintergrund werden mit dem hier vorgestellten Ansatz eine verbesserte Prozessierungseinrichtung zum Prozessieren einer Probenflüssigkeit, ein verbessertes Verfahren zum Herstellen einer Prozessierungseinrichtung und ein verbessertes Verfahren zum Betreiben einer Prozessierungseinrichtung, weiterhin eine verbesserte Vorrichtung, die dieses Verfahren verwendet, sowie schließlich ein entsprechendes Computerprogramm gemäß den Hauptansprüchen vorgestellt. Durch die in den abhängigen Ansprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vorteilhafte Weiterbildungen und Verbesserungen der im unabhängigen Anspruch angegebenen Vorrichtung möglich.Against this background, with the approach presented here, an improved processing device for processing a sample liquid, an improved method for producing a processing device and an improved method for operating a processing device, an improved device that uses this method, and finally a corresponding computer program according to main claims presented. Advantageous developments and improvements of the device specified in the independent claim are possible as a result of the measures listed in the dependent claims.

Durch den hier vorgestellten Ansatz wird eine Möglichkeit geschaffen, um bei einer Prozessierungseinrichtung einen wirkenden Kapillareffekt weitestgehend zu verringern.The approach presented here creates a possibility of largely reducing an active capillary effect in a processing device.

Es wird eine Prozessierungseinrichtung zum Prozessieren einer Probenflüssigkeit vorgestellt, wobei die Aufnahmeeinrichtung ein Trägerelement zum Tragen der Probenflüssigkeit aufweist. Das Trägerelement weist dabei zumindest eine Ausnehmung auf. Weiterhin weist die Prozessierungseinrichtung ein in der Ausnehmung des Trägerelements angeordnetes Prozessierungselement, das beispielsweise eine hydrophile Oberflächenbeschaffenheit aufweist, und zumindest ein Begrenzungselement auf, das ausgebildet ist, um das Prozessierungselement in der Ausnehmung des Trägerelements zu positionieren, um die Probenflüssigkeit beispielsweise zu prozessieren.A processing device for processing a sample liquid is presented, the receiving device having a carrier element for carrying the sample liquid. The carrier element has at least one recess. Furthermore, the processing device has a processing element which is arranged in the recess of the carrier element and has a hydrophilic surface finish, for example, and at least one delimiting element which is designed to position the processing element in the recess of the carrier element in order to process the sample liquid, for example.

Die Prozessierungseinrichtung kann beispielsweise in Verbindung mit einem mikrofluidischen Analysesystem verwendet werden und ausgebildet sein, um die Probenflüssigkeit, wie beispielsweise eine Patientenprobe im medizinischen Bereich, zu prozessieren. Weiterhin kann die Prozessierungseinrichtung beispielsweise als eine Einmal-Kartusche, wie beispielsweise einer Lab-on-Chip (LoC)-Kartusche realisiert sein. Die Ausnehmung kann beispielsweise als eine Vertiefung realisiert sein. Das Prozessierungselement ist vorteilhafterweise derart ausgeformt, dass es in die Ausnehmung passt.The processing device can be used, for example, in connection with a microfluidic analysis system and can be designed to process the sample liquid, such as a patient sample in the medical field. Furthermore, the processing device can be implemented, for example, as a disposable cartridge, such as a lab-on-chip (LoC) cartridge. The recess can be implemented as a depression, for example. The processing element is advantageously shaped in such a way that it fits into the recess.

Gemäß einer Ausführungsform kann das Begrenzungselement in der Ausnehmung angeordnet sein und zusätzlich oder alternativ zumindest in die Ausnehmung hineinragen. Das bedeutet, dass das Begrenzungselement beispielsweise als ein einzelnes Bauteil ausgeformt sein kann, das in die Ausnehmung einsetzbar oder eingesetzt ist. Vorteilhafterweise kann dadurch eine genaue Positionierung des Prozessierungselements ermöglicht werden. According to one embodiment, the delimiting element can be arranged in the recess and additionally or alternatively at least protrude into the recess. This means that the delimiting element can be formed, for example, as a single component that can be inserted or inserted into the recess. This advantageously enables precise positioning of the processing element.

Gemäß einer Ausführungsform kann das Begrenzungselement als Teil des Trägerelements ausgeformt sein. Dabei kann das Begrenzungselement einstückig mit dem Trägerelement ausgebildet sein und somit einen Abschnitt des Trägerelementes bilden. Vorteilhafterweise kann dadurch eine minimal vorliegende Spaltbreite zwischen dem Trägerelement und dem Prozessierungselement ermöglicht werden.According to one embodiment, the delimiting element can be formed as part of the carrier element. In this case, the delimiting element can be formed in one piece with the carrier element and thus form a section of the carrier element. Advantageously, a minimal existing gap width between the carrier element and the processing element can thereby be made possible.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann ein Verbindungsmittel vorgesehen sein, das an einer Kontaktfläche zwischen dem Prozessierungselement und der Ausnehmung des Trägerelements anliegt. Vorteilhafterweise kann das Verbindungsmittel beispielsweise einen Klebstoff umfassen oder beispielsweise als Klebstoff ausgeformt sein. Ferner kann das Begrenzungselement in besonders vorteilhafter Weise ein „Schwimmen“ der Komponente/des Probenelements auf dem Bauteil/dem Trägerelement (welches zur Ausbildung von Kapillarspalten führen kann) verhindern, sofern das Verbindungsmittel noch nicht vollständig ausgehärtet ist.According to a further embodiment, a connecting means can be provided which bears against a contact surface between the processing element and the recess of the carrier element. The connecting means can advantageously comprise an adhesive, for example, or be in the form of an adhesive, for example. Furthermore, the limiting element can prevent the component/sample element from "floating" on the component/the carrier element (which can lead to the formation of capillary gaps) in a particularly advantageous manner if the connecting agent has not yet fully cured.

Gemäß einer Ausführungsform kann das Begrenzungselement derart ausgeformt sein, um in montiertem Zustand einen Spalt zwischen einer Außenwand des Prozessierungselements und einer der Außenwand zugewandten Seitenwand der Ausnehmung sicherzustellen. Zusätzlich oder alternativ kann das Begrenzungselement ausgeformt sein, um in montiertem Zustand zumindest einen weiteren Spalt zwischen einer weiteren Außenwand des Prozessierungselements und einer der weiteren Außenwand zugewandten weiteren Seitenwand der Ausnehmung sicherzustellen. Dabei können der Spalt und der weitere Spalt an einander gegenüberliegenden Seiten der Ausnehmung angeordnet sein und innerhalb eines Toleranzbereichs gleich groß sein. Vorteilhafterweise kann das Prozessierungselement zentral in der Ausnehmung angeordnet sein, um beispielsweise einen Kapillareffekt auf ein Minimum zu reduzieren.According to one embodiment, the delimiting element can be formed in such a way that, in the installed state, there is a gap between an outer wall of the processing element and a side wall of the recess facing the outer wall. Additionally or alternatively, the delimiting element can be formed in order to ensure at least one further gap between a further outer wall of the processing element and a further side wall of the recess facing the further outer wall in the assembled state. In doing so, the gap and the further gap can be arranged on opposite sides of the recess and be of the same size within a tolerance range. The processing element can advantageously be arranged centrally in the recess in order to reduce a capillary effect to a minimum, for example.

Ferner kann der Spalt eine erste Spaltbreite aufweisen, die durchgängig gleich bleibt, oder zusätzlich zu der ersten Spaltbreite in Teilbereichen des Spalts eine zweite Spaltbreite aufweisen, die von der ersten Spaltbreite abweicht. Zusätzlich oder alternativ kann dabei der weitere Spalt eine dritte Spaltbreite aufweisen, die durchgängig gleich bleibt, oder zusätzlich zu der dritten Spaltbreite in Teilbereichen des weiteren Spalts eine vierte Spaltbreite aufweisen, die von der dritten Spaltbreite abweicht. Vorteilhafterweise kann der Spalt und zusätzlich oder alternativ der weitere Spalt umlaufend um das Prozessierungselement angeordnet sein. Weiterhin kann der weitere Spalt zusätzlich oder optional als Erweiterung des Spaltes ausgeformt sein.Furthermore, the gap can have a first gap width that remains the same throughout, or in addition to the first gap width in partial areas of the gap can have a second gap width that differs from the first gap width. Additionally or alternatively, the further gap can have a third gap width that remains the same throughout, or in addition to the third gap width in partial areas of the further gap can have a fourth gap width that differs from the third gap width. Advantageously, the gap and additionally or alternatively the further gap can be arranged circumferentially around the processing element. Furthermore, the further gap can be formed additionally or optionally as an extension of the gap.

Gemäß einer Ausführungsform können eine Trägeroberfläche des Trägerelements und eine Oberfläche des Prozessierungselements auf einer Ebene liegen. Vorteilhafterweise liegen die Trägeroberfläche und die Oberfläche des Prozessierungselements innerhalb eines Toleranzbereichs auf der einen Ebene.According to one embodiment, a carrier surface of the carrier element and a surface of the processing element can lie on one plane. Advantageously, the carrier surface and the surface of the processing element are within a tolerance range on the one plane.

Die Prozessierungseinrichtung kann weiterhin ein Deckelelement mit zumindest einem Kanal und einer Flusszelle aufweisen, wobei der Kanal ausgebildet sein kann, um die Probenflüssigkeit in die Flusszelle oder aus der Flusszelle zu leiten und die Flusszelle ausgebildet sein kann, um die Probenflüssigkeit mit dem Prozessierungselement in Kontakt zu bringen. Vorteilhafterweise ist dabei eine Breite der Flusszelle größer als eine Breite des Kanals. Weiterhin kann die Flusszelle beispielsweise ausgebildet sein, um eine mikrofluidische Prozessierung zu bewirken.The processing device can also have a cover element with at least one channel and a flow cell, wherein the channel can be designed to direct the sample liquid into or out of the flow cell and the flow cell can be designed to bring the sample liquid into contact with the processing element bring. A width of the flow cell is advantageously greater than a width of the channel. Furthermore, the flow cell can be designed, for example, to effect microfluidic processing.

Gemäß einer Ausführungsform kann die Prozessierungseinrichtung zumindest ein weiteres Begrenzungselement aufweisen, das ausgebildet ist, um das Prozessierungselement in der Ausnehmung des Trägerelements zu positionieren. Das weitere Begrenzungselement kann beispielsweise benachbart zu dem Begrenzungselement oder an einer gegenüberliegenden Seite der Ausnehmung angeordnet sein.According to one embodiment, the processing device can have at least one further delimiting element, which is designed to position the processing element in the recess of the carrier element. The further delimiting element can be arranged, for example, adjacent to the delimiting element or on an opposite side of the recess.

Weiterhin wird ein Verfahren zum Herstellen einer Prozessierungseinrichtung in einer der zuvor genannten Varianten vorgestellt, wobei das Verfahren einen Schritt des Bereitstellens und einen Schritt des Positionierens umfasst. Im Schritt des Bereitstellens wird das Trägerelementes mit der Ausnehmung bereitgestellt, in der das Begrenzungselement angeordnet ist. Im Schritt des Positionierens wird das Prozessierungselement in der Ausnehmung positioniert.Furthermore, a method for producing a processing device in one of the aforementioned variants is presented, the method comprising a step of providing and a step of positioning. In the providing step, the carrier element is provided with the recess in which the delimiting element is arranged. In the positioning step, the processing element is positioned in the recess.

Durch das Verfahren kann beispielsweise eine Prozessierungseinrichtung in einer zuvor genannten Variante hergestellt werden. Beispielsweise kann das Verbindungsmittel in dem Verfahren weiterhin ausgehärtet werden.The method can be used, for example, to produce a processing device in an aforementioned variant. For example, the connecting means can be further cured in the method.

Gemäß einer Ausführungsform kann im Schritt des Bereitstellens ein Verbindungsmittel in das Trägerelement eingebracht werden, und zusätzlich oder alternativ kann im Schritt des Einbringens das zumindest eine Begrenzungselement in das Trägerelement eingesetzt werden. Vorteilhafterweise kann das Verbindungsmittel das Prozessierungselement sicher an einem gewünschten Ort fixieren.According to one embodiment, a connecting means can be introduced into the carrier element in the providing step, and additionally or alternatively the at least one delimiting element can be inserted into the carrier element in the introduction step. The connecting means can advantageously fix the processing element securely at a desired location.

Ferner wird ein Verfahren zum Betreiben einer Prozessierungseinrichtung in einer der zuvor genannten Varianten vorgestellt, wobei das Verfahren einen Schritt des Zuführens einer Probenflüssigkeit in die Prozessierungseinrichtung zum in Kontakttreten der Probenflüssigkeit mit dem Trägerelement und zusätzlich oder alternativ zum in Kontakttreten der Probenflüssigkeit mit dem Prozessierungselement umfasst.Furthermore, a method for operating a processing device in one of the aforementioned variants is presented, the method comprising a step of feeding a sample liquid into the processing device for the sample liquid to come into contact with the carrier element and additionally or alternatively for the sample liquid to come into contact with the processing element.

Vorteilhafterweise kann dadurch die Probenflüssigkeit analysiert werden.The sample liquid can advantageously be analyzed in this way.

Dieses Verfahren kann beispielsweise in Software oder Hardware oder in einer Mischform aus Software und Hardware beispielsweise in einem Steuergerät implementiert sein.This method can be implemented, for example, in software or hardware or in a mixed form of software and hardware, for example in a control unit.

Der hier vorgestellte Ansatz schafft ferner eine Vorrichtung, die ausgebildet ist, um die Schritte einer Variante eines der hier vorgestellten Verfahren in entsprechenden Einrichtungen durchzuführen, anzusteuern bzw. umzusetzen. Auch durch diese Ausführungsvariante der Erfindung in Form einer Vorrichtung kann die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe schnell und effizient gelöst werden.The approach presented here also creates a device that is designed to carry out, control or implement the steps of a variant of one of the methods presented here in corresponding devices. The object on which the invention is based can also be achieved quickly and efficiently by this embodiment variant of the invention in the form of a device.

Hierzu kann die Vorrichtung zumindest eine Recheneinheit zum Verarbeiten von Signalen oder Daten, zumindest eine Speichereinheit zum Speichern von Signalen oder Daten, zumindest eine Schnittstelle zu einem Sensor oder einem Aktor zum Einlesen von Sensorsignalen von dem Sensor oder zum Ausgeben von Daten- oder Steuersignalen an den Aktor und/oder zumindest eine Kommunikationsschnittstelle zum Einlesen oder Ausgeben von Daten aufweisen, die in ein Kommunikationsprotokoll eingebettet sind. Die Recheneinheit kann beispielsweise ein Signalprozessor, ein Mikrocontroller oder dergleichen sein, wobei die Speichereinheit ein Flash-Speicher, ein EEPROM oder eine magnetische Speichereinheit sein kann. Die Kommunikationsschnittstelle kann ausgebildet sein, um Daten drahtlos und/oder leitungsgebunden einzulesen oder auszugeben, wobei eine Kommunikationsschnittstelle, die leitungsgebundene Daten einlesen oder ausgeben kann, diese Daten beispielsweise elektrisch oder optisch aus einer entsprechenden Datenübertragungsleitung einlesen oder in eine entsprechende Datenübertragungsleitung ausgeben kann.For this purpose, the device can have at least one computing unit for processing signals or data, at least one memory unit for storing signals or data, at least one interface to a sensor or an actuator for reading in sensor signals from the sensor or for outputting data or control signals to the Have actuator and / or at least one communication interface for reading or outputting data that are embedded in a communication protocol. The computing unit can be, for example, a signal processor, a microcontroller or the like, with the memory unit a Flash memory, an EEPROM or a magnetic storage device. The communication interface can be designed to read in or output data wirelessly and/or by wire, wherein a communication interface that can read in or output wire-bound data can, for example, read this data electrically or optically from a corresponding data transmission line or can output it to a corresponding data transmission line.

Unter einer Vorrichtung kann vorliegend ein elektrisches Gerät verstanden werden, das Sensorsignale verarbeitet und in Abhängigkeit davon Steuer- und/oder Datensignale ausgibt. Die Vorrichtung kann eine Schnittstelle aufweisen, die hard- und/oder softwaremäßig ausgebildet sein kann. Bei einer hardwaremäßigen Ausbildung können die Schnittstellen beispielsweise Teil eines sogenannten System-ASICs sein, der verschiedenste Funktionen der Vorrichtung beinhaltet. Es ist jedoch auch möglich, dass die Schnittstellen eigene, integrierte Schaltkreise sind oder zumindest teilweise aus diskreten Bauelementen bestehen. Bei einer softwaremäßigen Ausbildung können die Schnittstellen Softwaremodule sein, die beispielsweise auf einem Mikrocontroller neben anderen Softwaremodulen vorhanden sind.In the present case, a device can be understood to mean an electrical device that processes sensor signals and, depending thereon, outputs control and/or data signals. The device can have an interface that can be configured as hardware and/or software. In the case of a hardware design, the interfaces can be part of a so-called system ASIC, for example, which contains a wide variety of functions of the device. However, it is also possible for the interfaces to be separate integrated circuits or to consist at least partially of discrete components. In the case of a software design, the interfaces can be software modules which are present, for example, on a microcontroller alongside other software modules.

Von Vorteil ist auch ein Computerprogrammprodukt oder Computerprogramm mit Programmcode, der auf einem maschinenlesbaren Träger oder Speichermedium wie einem Halbleiterspeicher, einem Festplattenspeicher oder einem optischen Speicher gespeichert sein kann und zur Durchführung, Umsetzung und/oder Ansteuerung der Schritte des Verfahrens nach einer der vorstehend beschriebenen Ausführungsformen verwendet wird, insbesondere wenn das Programmprodukt oder Programm auf einem Computer oder einer Vorrichtung ausgeführt wird.A computer program product or computer program with program code, which can be stored on a machine-readable carrier or storage medium such as a semiconductor memory, a hard disk memory or an optical memory and for carrying out, implementing and/or controlling the steps of the method according to one of the embodiments described above, is also advantageous used, especially when the program product or program is run on a computer or device.

Ausführungsbeispiele des hier vorgestellten Ansatzes sind in den Zeichnungen dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigt:

  • 1 eine schematische Darstellung einer Prozessierungseinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 2 eine schematische Querschnittsdarstellung einer Prozessierungseinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 3 eine schematische Darstellung einer Prozessierungseinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 4 eine schematische Querschnittsdarstellung einer Prozessierungseinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 5 eine schematische Darstellung einer Prozessierungseinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 6 ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen einer Prozessierungseinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 7 ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Betreiben einer Prozessierungseinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel; und
  • 8 ein Blockschaltbild einer Vorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel; und
  • 9 Blockschaltbild einer Vorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel.
Exemplary embodiments of the approach presented here are shown in the drawings and explained in more detail in the following description. It shows:
  • 1 a schematic representation of a processing device according to an embodiment;
  • 2 a schematic cross-sectional view of a processing device according to an embodiment;
  • 3 a schematic representation of a processing device according to an embodiment;
  • 4 a schematic cross-sectional view of a processing device according to an embodiment;
  • 5 a schematic representation of a processing device according to an embodiment;
  • 6 a flowchart of a method for producing a processing device according to an embodiment;
  • 7 a flowchart of a method for operating a processing device according to an embodiment; and
  • 8th a block diagram of a device according to an embodiment; and
  • 9 Block diagram of a device according to an embodiment.

In der nachfolgenden Beschreibung günstiger Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden für die in den verschiedenen Figuren dargestellten und ähnlich wirkenden Elemente gleiche oder ähnliche Bezugszeichen verwendet, wobei auf eine wiederholte Beschreibung dieser Elemente verzichtet wird.In the following description of favorable exemplary embodiments of the present invention, the same or similar reference symbols are used for the elements which are shown in the various figures and have a similar effect, with a repeated description of these elements being dispensed with.

1 zeigt eine schematische Darstellung einer Prozessierungseinrichtung 10 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Die Prozessierungseinrichtung 10 ist dabei ausgebildet, um beispielsweise eine mikrofluidische Analyse einer Probenflüssigkeit durchzuführen. Die Probenflüssigkeit ist beispielsweise als eine Patientenprobe realisiert. Dabei weist die Prozessierungseinrichtung 10 ein Trägerelement 11, ein Prozessierungselement 12 und zumindest ein Begrenzungselement 100 auf. Das Trägerelement 11 ist ausgebildet, um die Probenflüssigkeit zu tragen und weist zumindest eine Ausnehmung 110 auf. Die Ausnehmung 110 ist beispielsweise als eine Vertiefung in dem Trägerelement 11 realisiert, in deren Bereich das Trägerelement 11 beispielsweise eine dünnere Materialdicke aufweist als in den restlichen Bereichen des Trägerelements 11. Das Prozessierungselement 12 ist weiterhin in der Ausnehmung 110 angeordnet und weist insbesondere eine hydrophile Oberflächenbeschaffenheit auf. Das Begrenzungselement 100 ist ausgebildet, um das Prozessierungselement 12 in der Ausnehmung 110 des Trägerelements 11 zu positionieren. 1 shows a schematic representation of a processing device 10 according to an embodiment. The processing device 10 is designed to carry out a microfluidic analysis of a sample liquid, for example. The sample liquid is implemented as a patient sample, for example. In this case, the processing device 10 has a carrier element 11 , a processing element 12 and at least one delimiting element 100 . The carrier element 11 is designed to carry the sample liquid and has at least one recess 110 . The recess 110 is implemented, for example, as a depression in the carrier element 11, in the area of which the carrier element 11 has, for example, a thinner material thickness than in the remaining areas of the carrier element 11. The processing element 12 is also arranged in the recess 110 and in particular has a hydrophilic surface finish on. The delimiting element 100 is designed to position the processing element 12 in the recess 110 of the carrier element 11 .

Gemäß diesem Ausführungsbeispiel ist die Ausnehmung 110 viereckig, insbesondere quadratisch ausgeformt. Das Prozessierungselement 12 weist dabei gemäß diesem Ausführungsbeispiel verkleinert die gleiche Form auf wie die Ausnehmung 110, sodass ein Spalt 30 zwischen einer Außenwand 500 des Prozessierungselements 12 und einer der Außenwand 500 zugewandten Seitenwand 505 der Ausnehmung 110 ausgeformt ist. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel weist die Prozessierungseinrichtung 10 zumindest einen weiteren Spalt 510 auf, der dem Spalt 30 gegenüberliegt und demnach zwischen einer weiteren Außenwand 515 des Prozessierungselements 12 und einer der weiteren Außenwand 515 zugewandten weiteren Seitenwand 520 der Ausnehmung 110 angeordnet ist. Das bedeutet, dass gemäß diesem Ausführungsbeispiel die Spalte 30, 510 gleichartig ausgeformt sind, jedoch einander gegenüberliegend angeordnet sind.According to this exemplary embodiment, the recess 110 is quadrangular, in particular square in shape. According to this exemplary embodiment, the processing element 12 has the same reduced shape as the recess 110 , so that a gap 30 is formed between an outer wall 500 of the processing element 12 and a side wall 505 of the recess 110 facing the outer wall 500 . According to this In the exemplary embodiment, the processing device 10 has at least one further gap 510, which is opposite the gap 30 and is therefore arranged between a further outer wall 515 of the processing element 12 and a further side wall 520 of the recess 110 facing the further outer wall 515. This means that according to this exemplary embodiment, the gaps 30, 510 are formed in the same way, but are arranged opposite one another.

Das Begrenzungselement 100 ist gemäß diesem Ausführungsbeispiel in der Ausnehmung angeordnet und/oder ist gemäß einem alternativen Ausführungsbeispiel derart ausgeformt, dass es in die Ausnehmung hineinragt. Das Begrenzungselement 100 ist weiterhin derart ausgeformt, um den Spalt 30 mit einer vorgegebenen minimalen Breite 101 beispielsweise innerhalb eines Bereichs zwischen 200 µm bis 1000 µm, insbesondere von hier beispielsweise 500 µm und/oder um den zumindest einen weiteren Spalt 510 mit einer vorgegebenen minimalen Breite 101 beispielsweise innerhalb eines Bereichs zwischen 200 µm bis 1000 µm, insbesondere von hier beispielsweise 500 µm sicherzustellen. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel sind der Spalt 30 und der weitere Spalt 510 innerhalb eines Toleranzbereichs gleich groß ausgeformt. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel weist die Prozessierungseinrichtung 10 weiterhin optional zumindest ein weiteres Begrenzungselement 525 auf, das beispielsweise die gleichen Eigenschaften aufweist wie das Begrenzungselement 100. Die beiden Begrenzungselemente 100, 525 sind beispielsweise in den Spalten 30, 510 und/oder benachbart zueinander angeordnet oder anordbar. Insbesondere weist die Prozessierungseinrichtung 10 gemäß diesem Ausführungsbeispiel insgesamt acht Begrenzungselemente 100, 525 auf. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel weist die Prozessierungseinrichtung 10 also eine Mehrzahl von Begrenzungselementen 100, 525 auf. Wie auch das Begrenzungselement 100 ist auch das weitere Begrenzungselement 525 ausgebildet, um das Prozessierungselement 12 in der Ausnehmung 110 zu positionieren. Durch eine entsprechende Anordnung der Begrenzungselemente 100, 525 wird eine zentrale Positionierung des Prozessierungselements 12 in der Ausnehmung 110 ermöglicht. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel weisen die Begrenzungselemente 100, 525 eine vorgegebene minimale Breite 101 beispielsweise innerhalb eines Bereichs zwischen 200 µm bis 1000 µm, insbesondere von hier beispielsweise 500 µm auf, durch die eine nachteilige Kapillarwirkung in den Spalten 30, 510 vermieden oder zumindest reduziert wird.According to this exemplary embodiment, the delimiting element 100 is arranged in the recess and/or is shaped in accordance with an alternative exemplary embodiment in such a way that it protrudes into the recess. The delimiting element 100 is also shaped in such a way that it surrounds the gap 30 with a specified minimum width 101, for example within a range between 200 μm and 1000 μm, in particular from here for example 500 μm and/or around the at least one further gap 510 with a specified minimum width 101, for example, within a range between 200 μm and 1000 μm, in particular from here for example 500 μm. According to this exemplary embodiment, the gap 30 and the further gap 510 are of the same size within a tolerance range. According to this exemplary embodiment, processing device 10 also optionally has at least one further delimiting element 525, which, for example, has the same properties as delimiting element 100. The two delimiting elements 100, 525 are, for example, arranged or can be arranged in columns 30, 510 and/or adjacent to one another. In particular, the processing device 10 according to this exemplary embodiment has a total of eight delimiting elements 100, 525. According to this exemplary embodiment, the processing device 10 therefore has a plurality of delimiting elements 100, 525. Like the delimiting element 100 , the further delimiting element 525 is also designed to position the processing element 12 in the recess 110 . A central positioning of the processing element 12 in the recess 110 is made possible by a corresponding arrangement of the delimiting elements 100 , 525 . According to this exemplary embodiment, the delimiting elements 100, 525 have a predetermined minimum width 101, for example within a range between 200 μm and 1000 μm, in particular from here for example 500 μm, through which a disadvantageous capillary effect in the gaps 30, 510 is avoided or at least reduced.

Mikrofluidische Analysesysteme, sogenannte Lab-on-Chips (LoCs), erlauben im Allgemeinen ein automatisiertes, zuverlässiges, schnelles, kompaktes und kostengünstiges Prozessieren von beispielsweise Patientenproben für die medizinische Diagnostik. Durch eine Kombination einer Vielzahl von Operationen für die kontrollierte Manipulation von Fluiden werden molekulardiagnostische Testabläufe auf einer Lab-on-Chip-Kartusche durchgeführt. LoC-Kartuschen, die gemäß diesem Ausführungsbeispiel als Prozessierungseinrichtung 10 bezeichnet sind, werden beispielsweise kostengünstig aus Polymeren unter Verwendung von beispielsweise Hochdurchsatzverfahren wie Spritzgießen oder Laserdurchstrahlschweißen hergestellt. Um eine Leistungsfähigkeit von beispielsweise polymerbasierten Lab-on-Chip-Systemen beispielsweise hinsichtlich der untersuchbaren minimalen Reaktionsvolumina und/oder einer Anzahl von auf der Prozessierungseinrichtung 10 unabhängig voneinander durchführbaren Nachweisreaktionen zu steigern, bietet sich insbesondere eine Integration von mikrostrukturierten Komponenten, beispielsweise auf Grundlage von Silizium, in die Polymerumgebung zur Bildung einer vorteilhaften Prozessierungseinrichtung 10 an. Bei der Integration einer solchen Komponente, die hier als Prozessierungselement 12 bezeichnet ist, liegt insbesondere eine mikrofluidische Schnittstelle für einen Fluidtransfer zwischen der Polymerumgebung und dem Prozessierungselement 12 vor. Von besonderer Bedeutung für die mikrofluidische Funktionalität des Hybrid-Systems ist dabei insbesondere die Ausgestaltung der mikrofluidischen Schnittstelle.Microfluidic analysis systems, so-called lab-on-chips (LoCs), generally allow automated, reliable, fast, compact and cost-effective processing of, for example, patient samples for medical diagnostics. Through a combination of multiple operations for the controlled manipulation of fluids, molecular diagnostic test procedures are performed on a lab-on-chip cartridge. LoC cartridges, which are referred to as processing device 10 according to this exemplary embodiment, are, for example, produced inexpensively from polymers using, for example, high-throughput methods such as injection molding or laser transmission welding. In order to increase the performance of, for example, polymer-based lab-on-chip systems, for example with regard to the minimum reaction volumes that can be examined and/or a number of detection reactions that can be carried out independently of one another on the processing device 10, an integration of microstructured components, for example based on silicon, is particularly suitable , into the polymer environment to form an advantageous processing device 10 . With the integration of such a component, which is referred to here as a processing element 12 , there is in particular a microfluidic interface for a fluid transfer between the polymer environment and the processing element 12 . The design of the microfluidic interface is of particular importance for the microfluidic functionality of the hybrid system.

Für eine einfache Fertigbarkeit der Prozessierungseinrichtung 10 bietet sich eine Integration des Prozessierungselements 12 in die dafür vorgesehene Ausnehmung 110 in wenigstens einem Polymerbauteil an, das hier als Trägerelement 11 bezeichnet ist. Durch den hier vorgestellten Ansatz werden beispielsweise durch Fertigungstoleranzen bedingt räumlich inhomogen wirkende Kapillarkräfte bei der Befüllung des zumindest einen Spalts 30, 510 mit der Probenflüssigkeit vermieden. Insbesondere wird eine Ausbildung eines Kapillarspalts (sehr geringer Breite) mittels eines auch als Begrenzungselement 100, 525 bezeichneten Kapillarspaltbegrenzers vermieden, welcher zu einem unerwünschten räumlich inhomogenen Benetzen der mikrofluidischen Struktur führen kann.For easy manufacturability of the processing device 10, an integration of the processing element 12 into the recess 110 provided for this purpose in at least one polymer component, which is referred to here as the carrier element 11, is appropriate. The approach presented here avoids capillary forces that act spatially inhomogeneously as a result of manufacturing tolerances, for example, when the at least one gap 30, 510 is filled with the sample liquid. In particular, the formation of a capillary gap (very small width) is avoided by means of a capillary gap limiter, also referred to as a delimiting element 100, 525, which can lead to an undesirable spatially inhomogeneous wetting of the microfluidic structure.

Zusammenfassend wird die Prozessierungseinrichtung 10 vorgestellt, welche einerseits eine einfache Fertigbarkeit und Integration von Komponenten in eine aus einem Polymer kostengünstig gefertigte mikrofluidische Umgebung erlaubt und andererseits eine Ausbildung von - die mikrofluidische Funktionalität gegebenenfalls in nachteiliger Weise beeinträchtigenden - Kapillarspalten verhindert.In summary, the processing device 10 is presented, which on the one hand allows easy manufacture and integration of components in a microfluidic environment made inexpensively from a polymer and on the other hand prevents the formation of capillary gaps that may adversely affect the microfluidic functionality.

Der hier vorgestellte Ansatz verhindert weiterhin eine asymmetrische Platzierung des Prozessierungselements 12 in der Ausnehmung 110 und somit - bei einem in Kontakt bringen der Prozessierungseinrichtung 10 mit der Probenflüssigkeit - eine räumlich inhomogene Benetzung des Prozessierungselements 12, da die an einer Seite mit geringer Spaltbreite auftretenden Kapillarkräfte wesentlich höher sind als beispielsweise die an einer Seite mit größerer Spaltbreite auftretenden Kapillarkräfte. Durch den hier vorgestellten Ansatz wird daher die Prozessierungseinrichtung 10 vorgestellt, welche eine Ausbildung von unterschiedlichen Spaltbreiten bei der Implementierung des Prozessierungselements 12 in die Ausnehmung 110 des Trägerelements 11 begrenzt.The approach presented here also prevents asymmetrical placement of the processing element 12 in the recess 110 and thus - when the processing device 10 is brought into contact with the sample liquid - a spatially inhomogeneous wetting of the processing element 12, since the capillary forces occurring on a side with a small gap width are significantly higher than, for example, the capillary forces occurring on a side with a larger gap width. The approach presented here therefore presents the processing device 10 which limits the formation of different gap widths when implementing the processing element 12 in the recess 110 of the carrier element 11 .

Durch den hier vorgestellten Ansatz wird eine mikrofluidische Prozessierungseinrichtung 10 bereitgestellt, welche eine Ausbildung von Kapillarspalten bei der Integration eines mikrofluidischen Prozessierungselements 12 in das Trägerelement 11 verhindert. Insbesondere sind bei der Fertigung der Prozessierungseinrichtung 10 Toleranzen zulässig, ohne dass sich diese in kritischer Weise auf die mikrofluidische Funktionalität der Prozessierungseinrichtung 10 auswirken. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel weist die Prozessierungseinrichtung 10 zumindest ein Begrenzungselement 100, 525 auf, das auch als Kapillarspaltbegrenzer bezeichnet wird. Hierbei handelt es sich gemäß diesem Ausführungsbeispiel um ein strukturelles Element, welches die zwischen zwei Bauteilen der Prozessierungseinrichtung 10 vorliegenden Spalte 30, 510 auf ein Mindestmaß begrenzt, um die bei einer mikrofluidischen Prozessierung dort auftretenden Kapillarkräfte zu begrenzen. Der hier vorgestellte Ansatz basiert auf der Erkenntnis, dass eine Größe der auf eine in einem der Spalte 30, 510 befindliche oder der in einen Spalt 30, 510 eintretenden Flüssigkeit wirkenden Kapillarkräfte und die daraus möglicherweise resultierenden kapillar induzierten Flussgeschwindigkeiten mit der Spaltbreite korrelieren, wobei die Kapillarkräfte im Allgemeinen umso größer sind, je kleiner die Breite des Spaltes 30, 510 ist.The approach presented here provides a microfluidic processing device 10 which prevents the formation of capillary gaps when a microfluidic processing element 12 is integrated into the carrier element 11 . In particular, tolerances are permissible in the manufacture of the processing device 10 without these having a critical effect on the microfluidic functionality of the processing device 10 . According to this exemplary embodiment, the processing device 10 has at least one delimiting element 100, 525, which is also referred to as a capillary gap delimiter. According to this exemplary embodiment, this is a structural element which limits the gaps 30, 510 present between two components of the processing device 10 to a minimum in order to limit the capillary forces occurring there during microfluidic processing. The approach presented here is based on the finding that the size of the capillary forces acting on a liquid in one of the gaps 30, 510 or entering a gap 30, 510 and the capillary-induced flow velocities that may result therefrom correlate with the gap width, with the Capillary forces are generally greater, the smaller the width of the gap 30, 510 is.

Durch die Verwendung eines Begrenzungselements 100, 525 ist eine besonders einfache, effiziente und kostengünstige Fertigbarkeit der Prozessierungseinrichtung 10 gegeben. Insbesondere sind beispielsweise fertigungsbedingte Toleranzen bei einer Implementierung des Prozessierungselements 12 in die Ausnehmung 110 akzeptabel und zudem wird die mikrofluidische Funktionalität der Prozessierungseinrichtung 10 sichergestellt. The use of a delimiting element 100, 525 allows the processing device 10 to be manufactured in a particularly simple, efficient and cost-effective manner. In particular, for example, production-related tolerances are acceptable when implementing the processing element 12 in the recess 110 and, in addition, the microfluidic functionality of the processing device 10 is ensured.

Gemäß diesem Ausführungsbeispiel ist in 1 eine schematische Darstellung einer Draufsicht einer grundlegenden Ausführungsform der Prozessierungseinrichtung 10 mit Begrenzungselementen 100, 525 dargestellt. Die Prozessierungseinrichtung 10 besteht dabei aus dem Trägerelement 11 mit der Ausnehmung 110 sowie dem Prozessierungselement 12, welches in die Ausnehmung 110 eingebracht ist. Durch die Begrenzungselemente 100, 525 wird sichergestellt, dass die zwischen Prozessierungselement 12 und Trägerelement 11 vorliegenden Spalte 30, 510 eine minimale Spaltbreite, welche beispielsweise der Breite 101 der Begrenzungselemente 100, 525 entspricht oder sich ihr zumindest annähert, nicht unterschreiten. In dieser vorteilhaften Ausführungsform wird insbesondere durch eine Verwendung von insgesamt acht Begrenzungselementen 100, 525, welche möglichst nah an den Ecken der quadratisch ausgeformten Ausnehmung 110 im Trägerelement 11 angeordnet sind, erreicht, dass eine Verdrehung des Prozessierungselements 12 gegenüber dem Trägerelement 11 möglichst weit reduziert wird.According to this embodiment, in 1 a schematic representation of a top view of a basic embodiment of the processing device 10 with delimiting elements 100, 525 is shown. The processing device 10 consists of the carrier element 11 with the recess 110 and the processing element 12 which is introduced into the recess 110 . The delimiting elements 100, 525 ensure that the gaps 30, 510 present between the processing element 12 and the carrier element 11 do not fall below a minimum gap width which, for example, corresponds to the width 101 of the delimiting elements 100, 525 or at least approaches it. In this advantageous embodiment, the use of a total of eight delimiting elements 100, 525, which are arranged as close as possible to the corners of the square-shaped recess 110 in the carrier element 11, ensures that twisting of the processing element 12 relative to the carrier element 11 is reduced as far as possible .

Gemäß diesem Ausführungsbeispiel ist das Trägerelement 11 beispielsweise aus vornehmlich Polymeren, wie beispielsweise Polycarbonat (PC), Polypropylen (PP), Polyethylen (PE), Cycloolefin-Copolymer (COP, COC), Polymethylmethacrylat (PMMA), Polydimethylsiloxan (PDMS) oder thermoplastischen Elastomeren (TPE), wie Polyurethan (TPU) oder Styrol-Blockcopolymer (TPS), gefertigt. Das Trägerelement 11 ist beispielsweise mittels eines Hochdurchsatzverfahrens, wie beispielsweise Spritzgießen, Thermoformen, Stanzen und/oder Laserdurchstrahlschweißen, realisierbar. Das Prozessierungselement 12 ist beispielsweise aus Silizium, Glas, Metall oder einem Polymer, insbesondere mit einer hydrophilen Oberflächenbeschaffenheit, ausgeformt. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel handelt es sich bei der zu prozessierenden Flüssigkeit um beispielsweise eine wässrige Lösung. Optional kann die wässrige Lösung auch in Kombination beispielsweise mit einem Mineralöl, Silikonöl und/oder einem fluorierten Kohlenwasserstoff eingesetzt werden.According to this exemplary embodiment, the carrier element 11 is made, for example, primarily from polymers such as polycarbonate (PC), polypropylene (PP), polyethylene (PE), cycloolefin copolymer (COP, COC), polymethyl methacrylate (PMMA), polydimethylsiloxane (PDMS) or thermoplastic elastomers (TPE), such as polyurethane (TPU) or styrene block copolymer (TPS). The carrier element 11 can be realized, for example, by means of a high-throughput process, such as injection molding, thermoforming, stamping and/or laser transmission welding. The processing element 12 is formed, for example, from silicon, glass, metal or a polymer, in particular with a hydrophilic surface finish. According to this exemplary embodiment, the liquid to be processed is, for example, an aqueous solution. Optionally, the aqueous solution can also be used in combination with, for example, a mineral oil, silicone oil and/or a fluorinated hydrocarbon.

Die Ausnehmung 110 umfasst gemäß diesem Ausführungsbeispiel Maße von beispielsweise 3 × 3 × 0,1 mm3 bis 30 × 30 × 10 mm3, bevorzugt jedoch von 5 × 5 × 0,3 mm3 bis 10 × 10 × 3 mm3. Weiterhin optional weist das Prozessierungselement 12 Abmessungen von beispielsweise 3 × 3 × 0,1 mm3 bis 30 × 30 × 10 mm3, bevorzugt 5 × 5 × 0,3 mm3 bis 10 × 10 × 3 mm3 auf. Der Spalt 30, 510 weist gemäß einem Ausführungsbeispiel eine minimale Spaltbreite, insbesondere ohne Verwendung der Begrenzungselemente 100, 525, von < 10 µm auf. Bei einer Verwendung der Begrenzungselemente 100, 525 weist der Spalt 30, 510 eine minimale Abmessung von 200 µm bis 1000 µm auf.According to this exemplary embodiment, the recess 110 has dimensions of, for example, 3×3×0.1 mm 3 to 30×30×10 mm 3 , but preferably from 5×5×0.3 mm 3 to 10×10×3 mm 3 . Also optionally, the processing element 12 has dimensions of, for example, 3×3×0.1 mm 3 to 30×30×10 mm 3 , preferably 5×5×0.3 mm 3 to 10×10×3 mm 3 . According to one exemplary embodiment, the gap 30, 510 has a minimum gap width of <10 μm, in particular without the use of the delimiting elements 100, 525. When the delimiting elements 100, 525 are used, the gap 30, 510 has a minimum dimension of 200 μm to 1000 μm.

Beispielsweise setzt sich gemäß einem Ausführungsbeispiel eine Positionierungstoleranz des Prozessierungselements 12 in der Ausnehmung 110 des Trägerelements 11 ohne Verwendung von Begrenzungselementen 100, 525 wie folgt zusammen:

  • Eine mittlere Spaltbreite setzt sich dabei beispielsweise aus der Hälfte der Differenz von der Außenabmessung des Prozessierungselements 12 und der Abmessung der Ausnehmung 110 zusammen. Für ein Prozessierungselement 12 mit beispielsweise einer lateralen Abmessung von 9 mm × 9 mm und einer Ausnehmung 110 mit einer lateralen Abmessung von 10 × 10 mm ergibt sich beispielsweise eine beidseitige Positionierungstoleranz von 1 mm. Eine Positionierungstoleranz des Prozessierungselements 12 in der Ausnehmung 110 des Trägerelements 11 mit Verwendung von Begrenzungselementen 100, 525 setzt sich dagegen folgendermaßen zusammen:
    • Eine mittlere Spaltbreite setzt sich beispielsweise aus der Hälfte der Differenz von der Außenabmessung des Prozessierungselements 12 und der Abmessung der Ausnehmung 110 minus der Breite der Begrenzungselemente 100, 525 beispielsweise bei beidseitiger Ausführung zusammen. Für das Prozessierungselement 12 mit einer lateralen Abmessung von 9 mm × 9 mm und einer Ausnehmung 110 mit einer Abmessung von beispielsweise 10 mm × 10 mm und Begrenzungselementen 100, 525 mit einer lateralen Abmessung von 0,8 mm × 0,8 mm gemäß diesem Ausführungsbeispiel ergibt sich beispielsweise eine beidseitige Positionierungstoleranz von 0,2 mm.
For example, according to one embodiment, a positioning tolerance of the processing element 12 in the recess 110 of the carrier element 11 without using Limiting elements 100, 525 together as follows:
  • A mean gap width is composed here, for example, of half the difference between the external dimensions of the processing element 12 and the dimensions of the recess 110 . For example, a processing element 12 with a lateral dimension of 9 mm×9 mm and a recess 110 with a lateral dimension of 10×10 mm results in a positioning tolerance on both sides of 1 mm. In contrast, a positioning tolerance of the processing element 12 in the recess 110 of the carrier element 11 with the use of delimiting elements 100, 525 is made up as follows:
    • A mean gap width is made up, for example, of half the difference between the external dimensions of the processing element 12 and the dimensions of the recess 110 minus the width of the delimiting elements 100, 525, for example in the case of a two-sided design. For the processing element 12 with a lateral dimension of 9 mm×9 mm and a recess 110 with a dimension of for example 10 mm×10 mm and delimiting elements 100, 525 with a lateral dimension of 0.8 mm×0.8 mm according to this exemplary embodiment the result is, for example, a positioning tolerance on both sides of 0.2 mm.

Gemäß diesem Ausführungsbeispiel beträgt lediglich optional eine lateral räumliche Toleranz bei der Platzierung des Prozessierungselements 12 in der Ausnehmung 110 durch beispielsweise einen Bestückungsautomat 5 µm bis 50 µm.According to this exemplary embodiment, a lateral spatial tolerance when placing the processing element 12 in the recess 110 by, for example, an automatic placement machine is 5 μm to 50 μm, which is only optional.

2 zeigt eine schematische Querschnittsdarstellung einer Prozessierungseinrichtung 10 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Die hier abgebildete Prozessierungseinrichtung 10 kann der in 1 beschriebenen Prozessierungseinrichtung 10 entsprechen oder zumindest ähneln. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel liegen eine Trägeroberfläche 600 der Trägerelements 11 und eine Probenoberfläche 605 des Prozessierungselements 12 auf einer Ebene 610, beispielsweise innerhalb eines Toleranzbereichs. 2 FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a processing device 10 according to an embodiment. The processing device 10 shown here can be the 1 described processing device 10 correspond or at least resemble. According to this exemplary embodiment, a carrier surface 600 of the carrier element 11 and a sample surface 605 of the processing element 12 lie on a plane 610, for example within a tolerance range.

Die Spalte 30, 510 weisen ferner eine Spaltbreite auf, die größer ist als die Breite 101. Eine Höhe 102 der Begrenzungselemente 100, 525 fällt dabei kleiner aus als eine Dicke des Trägerelements 11 und/oder des Prozessierungselements 12, sodass die Ebene 610 oberhalb einer Oberkante zumindest eines Begrenzungselements 100, 525 liegt.The gaps 30, 510 also have a gap width that is greater than the width 101. A height 102 of the delimiting elements 100, 525 is smaller than a thickness of the carrier element 11 and / or the processing element 12, so that the level 610 above a Upper edge of at least one delimiting element 100, 525 is located.

In anderen Worten ausgedrückt sind gemäß diesem Ausführungsbeispiel durch die Verwendung eines Begrenzungselements 100, 525 Materialien mit unterschiedlichen Benetzungseigenschaften für eine Verwendung in einem mikrofluidischen System miteinander kombinierbar. Beispielsweise ist das Prozessierungselement 12 mit einer sehr hydrophilen Oberflächenbeschaffenheit in ein Polymerbauteil, das bedeutet in das Trägerelement 11, mit einer nur schwach hydrophilen oder hydrophoben Oberflächenbeschaffenheit integrierbar. Dabei unterbindet oder schwächt das Begrenzungselement 100, 525 eine Ausbildung von Kapillarspalten und damit ein durch die besonders hydrophile Oberflächenbeschaffenheit des Prozessierungselements 12 induziertes Benetzen der Spalte 30, 510 mit einer wässrigen Phase hinreichend ab, sodass die gewünschte mikrofluidische Funktionalität der Prozessierungseinrichtung 10 nicht oder möglichst wenig beeinträchtigt wird.In other words, according to this exemplary embodiment, through the use of a delimiting element 100, 525, materials with different wetting properties can be combined with one another for use in a microfluidic system. For example, the processing element 12 with a very hydrophilic surface finish can be integrated into a polymer component, that is to say into the carrier element 11, with an only weakly hydrophilic or hydrophobic surface finish. The delimiting element 100, 525 prevents or weakens the formation of capillary gaps and thus the wetting of the gaps 30, 510 with an aqueous phase induced by the particularly hydrophilic surface quality of the processing element 12, so that the desired microfluidic functionality of the processing device 10 is not achieved or is minimized as much as possible is affected.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel wird durch die Verwendung von Begrenzungselementen 100, 525 ein einfacheres Design von mikrofluidischen Strukturen ermöglicht, da die an den vorliegenden Spalten 30, 510 auftretenden Kapillarkräfte begrenzt werden und dadurch eine geringere Auswirkung auf die mikrofluidischen Funktionalität der Struktur haben. Weiterhin wird dadurch eine Sicherstellung der Funktionalität unter Berücksichtigung von fertigungsbedingten Toleranzen erlaubt. Insgesamt kann so eine besonders hohe Zuverlässigkeit der Systeme sichergestellt werden.According to one embodiment, the use of delimiting elements 100, 525 enables a simpler design of microfluidic structures, since the capillary forces occurring at the gaps 30, 510 present are limited and thus have less of an effect on the microfluidic functionality of the structure. Furthermore, this allows the functionality to be ensured, taking into account production-related tolerances. Overall, a particularly high level of reliability of the systems can be ensured in this way.

Zusammenfassend weisen die Begrenzungselemente 100, 525 eine möglichst geringe Höhe 102 auf, welche unterhalb der vertikalen Dimension der Ausnehmung 110, das bedeutet unterhalb der Ebene 610, liegt. Auf diese Weise liegt nur eine möglichst kleine Verringerung einer Querschnittsfläche des und/oder der Spalte 30, 510 aufgrund der Begrenzungselemente 100, 525 vor. Andererseits wird auch die Spaltfläche minimiert, welche zwischen dem Prozessierungselement 12 und den Begrenzungselementen 100, 525 vorliegt. Dadurch hat dieser Spaltbereich einen möglichst geringen Einfluss auf die mikrofluidische Prozessierung in der Prozessierungseinrichtung 10.In summary, the delimiting elements 100, 525 have the lowest possible height 102, which is below the vertical dimension of the recess 110, ie below the plane 610. In this way, there is only the smallest possible reduction in a cross-sectional area of and/or the gaps 30, 510 due to the delimiting elements 100, 525. On the other hand, the gap area present between the processing element 12 and the delimiting elements 100, 525 is also minimized. As a result, this gap area has the least possible influence on the microfluidic processing in the processing device 10.

3 zeigt eine schematische Darstellung einer Prozessierungseinrichtung 10 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Die hier dargestellte Prozessierungseinrichtung 10 kann beispielsweise der in einer der 1 oder 2 beschriebenen Prozessierungseinrichtung 10 entsprechen oder zumindest ähneln. Lediglich abweichend weist die hier dargestellte Prozessierungseinrichtung 10 zusätzlich ein Deckelelement 13 auf, das zumindest einen Kanal 130 und eine Flusszelle 131 aufweist. Der Kanal 130 ist dabei ausgebildet, um die Probenflüssigkeit in die Flusszelle 131 oder aus der Flusszelle 131 zu leiten. Die Flusszelle 131 ist weiterhin gemäß diesem Ausführungsbeispiel ausgebildet, um die Probenflüssigkeit mit dem Prozessierungselement 12 in Kontakt zu bringen. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel weist die Flusszelle 131 eine größere Breite auf als der Kanal 130 und ist ausgebildet, um beispielsweise eine mikrofluidische Prozessierung zu bewirken. Das Deckelelement 13 weist beispielsweise eine gleiche Breite und/oder Höhe auf wie das Trägerelement 11. 3 shows a schematic representation of a processing device 10 according to an embodiment. The processing device 10 shown here can, for example, in one of 1 or 2 described processing device 10 correspond or at least resemble. The only difference is that the processing device 10 shown here additionally has a cover element 13 which has at least one channel 130 and one flow cell 131 . The channel 130 is designed to contain the sample liquid into the flow cell 131 or out of the flow cell 131. The flow cell 131 is also designed according to this exemplary embodiment in order to bring the sample liquid into contact with the processing element 12 . According to this exemplary embodiment, the flow cell 131 has a greater width than the channel 130 and is designed to bring about microfluidic processing, for example. The cover element 13 has, for example, the same width and/or height as the carrier element 11.

Gemäß diesem Ausführungsbeispiel ist in anderen Worten ausgedrückt in 3 eine schematische Darstellung einer Draufsicht einer vorteilhaften Weiterführung der in 1 oder 2 beschriebenen Prozessierungseinrichtung 10 abgebildet. In dieser Weiterführung verfügt die Prozessierungseinrichtung 10 über ein weiteres Bauteil, das hier als Deckelelement 13 bezeichnet ist, das wenigstens den Kanal 130 und die Flusszelle 131 aufweist, welche zur mikrofluidischen Prozessierung des Prozessierungselements 12 eingesetzt werden.In other words, according to this embodiment, expressed in 3 a schematic representation of a plan view of an advantageous continuation of in 1 or 2 described processing device 10 shown. In this development, the processing device 10 has a further component, which is referred to here as the cover element 13 , which has at least the channel 130 and the flow cell 131 , which are used for the microfluidic processing of the processing element 12 .

Gemäß diesem Ausführungsbeispiel weisen das Trägerelement 11 und das Deckelelement 13 eine Größe auf, die zwischen 30 × 30 mm2 und 300 × 300 mm2, bevorzugt zwischen 50 × 50 mm2 und 200 × 100 mm2 liegt. Weiterhin weisen das Trägerelement 11 und das Deckelelement 13 eine Dicke auf, die zwischen 0,3 mm und 30 mm, bevorzugt zwischen 1 mm und 20 mm liegt. Der Kanal 130 weist beispielsweise einen Querschnitt von 100 × 100 µm2 bis 3 × 3 mm2, bevorzugt 300 × 300 µm2 bis 1 × 1 mm2 auf. Die Flusszelle 131, die auch als mikrofluidische Kammer bezeichnet wird, zur mikrofluidischen Prozessierung des Prozessierungselements 12 umfasst beispielsweise Maße von 3 × 3 × 0,1 mm3 bis 30 × 30 × 3 mm3, bevorzugt 3 × 3 × 0,3 mm3 bis 10 × 10 × 1 mm3. Die Flusszelle 131 weist weiterhin beispielsweise ein Volumen von ~1 µl bis ~3 ml, bevorzugt ~3 µl bis ~100 µl auf.According to this exemplary embodiment, the carrier element 11 and the cover element 13 have a size of between 30×30 mm 2 and 300×300 mm 2 , preferably between 50×50 mm 2 and 200×100 mm 2 . Furthermore, the carrier element 11 and the cover element 13 have a thickness of between 0.3 mm and 30 mm, preferably between 1 mm and 20 mm. The channel 130 has, for example, a cross section of 100×100 μm 2 to 3×3 mm 2 , preferably 300×300 μm 2 to 1×1 mm 2 . The flow cell 131, which is also referred to as a microfluidic chamber, for the microfluidic processing of the processing element 12, for example, has dimensions of 3 × 3 × 0.1 mm 3 to 30 × 30 × 3 mm 3 , preferably 3 × 3 × 0.3 mm 3 up to 10×10×1 mm 3 . The flow cell 131 also has, for example, a volume of ~1 μl to ~3 ml, preferably ~3 μl to ~100 μl.

4 zeigt eine schematische Querschnittsdarstellung einer Prozessierungseinrichtung 10 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Die hier abgebildete Prozessierungseinrichtung 10 kann dabei einen Querschnitt der in 3 beschriebenen Prozessierungseinrichtung 10 entsprechen oder zumindest ähneln. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel liegt das Deckelelement 13 mit einem Auflagenbereich 700, der den Kanal 130 und die Flusszelle 131 umfasst, auf dem Trägerelement 11 und dem Prozessierungselement 12 auf. 4 FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a processing device 10 according to an embodiment. The processing device 10 shown here can have a cross section of the 3 described processing device 10 correspond or at least resemble. According to this exemplary embodiment, the cover element 13 rests on the carrier element 11 and the processing element 12 with a contact area 700 which comprises the channel 130 and the flow cell 131 .

5 zeigt eine schematische Darstellung einer Prozessierungseinrichtung 10 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Dabei handelt es sich dabei um ein Ausführungsbeispiel der in einer der 3 und/oder 4 beschriebenen Prozessierungseinrichtung 10. Lediglich abweichend sind gemäß diesem Ausführungsbeispiel die Begrenzungselemente 100, 525 realisiert, da zumindest das Begrenzungselement 100 gemäß diesem Ausführungsbeispiel als Teil des Trägerelements 11 ausgeformt ist. Der Spalt 30 weist dabei eine erste Spaltbreite 800, die gleichbleibt, wie in einer der 1 bis 4 beschrieben, oder gemäß diesem Ausführungsbeispiel zusätzlich zu der ersten Spaltbreite 800 in Teilbereichen 805 des Spalts 30 eine zweite Spaltbreite 810 auf, die von der ersten Spaltbreite 800 abweicht. Wie in dem Ausführungsbeispiel gezeigt kann beispielsweise an den Ecken der Ausnehmung die Spaltbreite breiter als an den an die Ecken unmittelbar angrenzenden Seiten sein. Zusätzlich oder optional weist der weitere Spalt 510 eine dritte Spaltbreite 815 auf, die wie in den 1 bis 4 gleichbleibt. Der weitere Spalt 510 weist zusätzlich zu der dritten Spaltbreite 815 in Teilbereichen 805 des weiteren Spalts 510 eine vierte Spaltbreite 820 auf, die von der dritten Spaltbreite 815 abweicht. Das bedeutet, dass die erste Spaltbreite 800 und die dritte Spaltbreite 815 sowie zweite Spaltbreite 810 und die vierte Spaltbreite 820 jeweils gleichartig ausgeformt sind und die gleichen Abmessungen aufweisen. Dadurch wird beispielsweise in Teilbereichen eine minimale Spaltbreite ermöglicht. 5 shows a schematic representation of a processing device 10 according to an embodiment. This is an embodiment in one of 3 and/or 4 described processing device 10. According to this exemplary embodiment, the delimiting elements 100, 525 are realized only differently, since at least the delimiting element 100 according to this exemplary embodiment is formed as part of the carrier element 11. The gap 30 has a first gap width 800, which remains the same as in one of 1 until 4 described, or according to this embodiment, in addition to the first gap width 800 in partial areas 805 of the gap 30, a second gap width 810, which differs from the first gap width 800. As shown in the exemplary embodiment, the gap width can be wider at the corners of the recess, for example, than at the sides immediately adjacent to the corners. Additionally or optionally, the further gap 510 has a third gap width 815, as in FIGS 1 until 4 remains the same. In addition to the third gap width 815, the further gap 510 has a fourth gap width 820 in partial regions 805 of the further gap 510, which deviates from the third gap width 815. This means that the first gap width 800 and the third gap width 815 as well as the second gap width 810 and the fourth gap width 820 are each formed in the same way and have the same dimensions. As a result, a minimum gap width is made possible in some areas, for example.

In anderen Worten ausgedrückt wird eine Begrenzung von Kapillarspalten lokal durch die verschiedenartigen Spaltbreiten 800, 810, 815, 820 in dem Trägerelement 11 erreicht. Dementsprechend können die Begrenzungselemente 100, 525 optional neben einer Ausgestaltung in Form von Aufsätzen auf dem Trägerelement 11, wie sie in den 1 bis 4 beschrieben sind, auch durch zusätzliche Ausnehmungen oder die verschiedenen Spaltbreiten 800, 810, 815, 820 realisiert sein. Durch die mit den Spaltbreiten 800, 810, 815, 820 erzielte lokale Aufweitung der Spalte 30, 510 wird beispielsweise ein Kapillardruck, welcher mit der hydrophilen Oberflächenbeschaffenheit des Prozessierungselements 12 korrespondiert, lokal verringert und ein unerwünschtes Voranschreiten der Probenflüssigkeit in den Kapillarspalten vermindert oder sogar unterbunden. In vorteilhafter Weise ist auch ein so genanntes Pinning einer Phasengrenzfläche von einer in einem Spalt 30, 510 vorliegenden Probenflüssigkeit an den beispielsweise rechtwinklig ausgelegten Ausnehmungen der Begrenzungselemente 100, 525 ausnutzbar, um ein unerwünschtes Benetzen des Spaltes 30, 510 mit der Probenflüssigkeit zu verhindern.In other words, capillary gaps are limited locally by the different gap widths 800 , 810 , 815 , 820 in the carrier element 11 . Accordingly, the delimiting elements 100, 525 can optionally be configured in the form of attachments on the carrier element 11, as shown in FIGS 1 until 4 are described, also be realized by additional recesses or the different gap widths 800, 810, 815, 820. The local widening of the gaps 30, 510 achieved with the gap widths 800, 810, 815, 820 locally reduces a capillary pressure, which corresponds to the hydrophilic surface quality of the processing element 12, and reduces or even prevents an undesired progression of the sample liquid in the capillary gaps . So-called pinning of a phase interface of a sample liquid present in a gap 30, 510 at the recesses of the delimiting elements 100, 525, which are designed for example at right angles, can also be used in an advantageous manner in order to prevent unwanted wetting of the gap 30, 510 with the sample liquid.

Für eine Sicherstellung der minimalen Spaltbreite entlang des gesamten Spaltes 30, 510 eignen sich insbesondere Begrenzungselemente 100, 525, wie sie in 1 bis 4 beschrieben wurden. Für die Sicherstellung der minimalen Spaltbreite in lediglich Teilbereichen eignen sich insbesondere Begrenzungselemente 100, 525 gemäß diesem Ausführungsbeispiel. Je nach Anwendungsfall ist eine der beschriebenen Ausführungsformen vorteilhaft, beispielsweise um das Volumen des Spaltes zu minimieren oder um eine durchgängige Kapillarspaltbegrenzung zu erreichen.Limiting elements 100, 525, as shown in 1 until 4 have been described. Limiting elements 100, 525 according to this exemplary embodiment are particularly suitable for ensuring the minimum gap width in only partial areas. Depending on the application, one of the described embodiments advantageous, for example, to minimize the volume of the gap or to achieve a continuous capillary gap limitation.

6 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens 2000 zum Herstellen einer Prozessierungseinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel. Durch das Verfahren 2000 wird beispielsweise eine Prozessierungseinrichtung hergestellt, wie sie in einer der 1 bis 6 beschrieben wurde. Das Verfahren 2000 umfasst dazu einen Schritt 2001 des Bereitstellens und einen Schritt 2002 des Positionierens. Im Schritt 2001 des Bereitstellens wird das Trägerelement mit der Ausnehmung bereitgestellt, in der das Begrenzungselement angeordnet ist. Im Schritt 2002 des Positionierens wird das Prozessierungselement in der Ausnehmung positioniert. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel wird im Schritt 2001 des Bereitstellens zusätzlich ein Verbindungsmittel in das Trägerelement eingebracht, welches nach dem Schritt 2002 des Positionierens des Prozessierungselements in einem Schritt 2003 des Aushärtens des Verbindungsmittels ausgehärtet wird, um das Prozessierungselement mit dem Trägerelement zu verbinden 6 shows a flowchart of a method 2000 for producing a processing device according to an embodiment. The method 2000 produces a processing device, for example, as is shown in one of 1 until 6 was described. To this end, the method 2000 comprises a step 2001 of providing and a step 2002 of positioning. In step 2001 of providing, the carrier element is provided with the recess in which the delimiting element is arranged. In step 2002 of positioning, the processing element is positioned in the recess. According to this exemplary embodiment, in step 2001 of providing, a connecting means is additionally introduced into the carrier element, which after step 2002 of positioning the processing element is cured in a step 2003 of curing the connecting means in order to connect the processing element to the carrier element

Das bedeutet in anderen Worten ausgedrückt, dass gemäß diesem Ausführungsbeispiel zunächst ein vorzugsweise lichthärtender und flüssigkeitsresistenter Klebstoff in die Ausnehmung dispensiert wird, bevor das Prozessierungselement in der Ausnehmung platziert wird. Das Platzieren wird lediglich optional mittels eines Bestückungsautomaten, wie beispielsweise durch einen Pick-and-Place-Roboter, bewirkt. Durch eine geeignete Auslegung der Ausnehmung im Trägerelement, des Prozessierungselements sowie des zumindest einen Begrenzungselements werden fertigungsbedingte Toleranzen beispielsweise bezüglich der Abmessungen des Prozessierungselements oder der Ausnehmung in dem Trägerelement oder beispielsweise bei der Platzierung des Prozessierungselements mit dem Bestückungsautomaten berücksichtigt. Anschließend wird beispielsweise das als Klebstoff bezeichnete Verbindungselement ausgehärtet. Auf diese Weise wird das Prozessierungselement in der Ausnehmung fixiert. Durch das Fixieren kann das Trägerelement mit dem Prozessierungselement beispielsweise im Zusammenhang mit einem Durchführen weiterer Fertigungsschritte, wie beispielsweise einem Laserverschweißen des Trägerelements mit einem Deckelelement zur Realisierung einer Prozessierungseinrichtung, gedreht werden, ohne dass es zu einer unerwünschten Lageänderung des Prozessierungselements kommt.In other words, this means that according to this exemplary embodiment, a preferably light-curing and liquid-resistant adhesive is first dispensed into the recess before the processing element is placed in the recess. The placement is effected only optionally by means of an automatic placement machine, such as a pick-and-place robot. A suitable design of the recess in the carrier element, the processing element and the at least one delimiting element takes production-related tolerances into account, for example with regard to the dimensions of the processing element or the recess in the carrier element or, for example, when placing the processing element with the placement machine. Subsequently, for example, the connecting element referred to as an adhesive is cured. In this way, the processing element is fixed in the recess. By fixing, the carrier element can be rotated with the processing element, for example in connection with carrying out further manufacturing steps, such as laser welding the carrier element to a cover element to implement a processing device, without an undesirable change in position of the processing element occurring.

7 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens 1000 zum Betreiben einer Prozessierungseinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel. Durch das Verfahren 1000 wird beispielsweise eine Prozessierungseinrichtung betrieben, wie sie in einer der 1 bis 5 beschrieben und/oder in einem Verfahren hergestellt wurde, wie es in 6 beschrieben wurde. Das Verfahren 1000 umfasst dabei einen Schritt 1001 des Zuführens einer Probenflüssigkeit in die Prozessierungseinrichtung zum in Kontakttreten der Probenflüssigkeit mit dem Trägerelement und/oder zum in Kontakttreten der Probenflüssigkeit mit dem Prozessierungselement. Der Schritt 1001 des Zuführens wird beispielsweise durch ein Zuführsignal angesteuert. 7 shows a flowchart of a method 1000 for operating a processing device according to an embodiment. The method 1000 operates, for example, a processing device, as in one of 1 until 5 described and/or produced in a process as described in 6 was described. The method 1000 comprises a step 1001 of feeding a sample liquid into the processing device in order for the sample liquid to come into contact with the carrier element and/or for the sample liquid to come into contact with the processing element. The feeding step 1001 is controlled by a feeding signal, for example.

In anderen Worten ausgedrückt wird durch das Verfahren 1000 ein Einbringen der Probenflüssigkeit in die Prozessierungseinrichtung und ein in Kontakt treten der Probenflüssigkeit mit wenigstens einem der Bauteile ermöglicht. Weiterhin erfolgt ein in Kontakt treten der Probenflüssigkeit mit dem Prozessierungselement, wobei wenigstens ein Teilbereich des Spaltes zwischen dem Prozessierungselement und dem Trägerelement mit der Probenflüssigkeit benetzt wird.In other words, the method 1000 enables the sample liquid to be introduced into the processing device and the sample liquid to come into contact with at least one of the components. Furthermore, the sample liquid comes into contact with the processing element, with at least a partial area of the gap between the processing element and the carrier element being wetted with the sample liquid.

8 zeigt ein Blockschaltbild einer Vorrichtung 3000 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Die Vorrichtung 3000 ist beispielsweise ausgebildet, um ein Verfahren zum Herstellen einer Prozessierungseinrichtung anzusteuern oder durchzuführen, wie es in 6 beschrieben wurde. Die Vorrichtung 3000 weist dabei eine Einbringeinheit 3005 auf, die ausgebildet ist, um beispielsweise mittels eines Einbringsignals 3010 ein Einbringen eines Verbindungsmittels in die Ausnehmung des Trägerelements zu bewirken. Weiterhin weist die Vorrichtung 3000 eine Positioniereinheit 3015 auf, die ausgebildet ist, um beispielsweise mittels eines Positioniersignals 3020 ein Positionieren des Prozessierungselements in der Ausnehmung zu bewirken. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel ist die Vorrichtung 3000 als ein Steuergerät ausgeformt. 8th shows a block diagram of a device 3000 according to an embodiment. The device 3000 is designed, for example, to control or carry out a method for producing a processing device, as described in 6 was described. The device 3000 has an insertion unit 3005 which is designed to bring about an insertion of a connecting means into the recess of the carrier element, for example by means of an insertion signal 3010 . Furthermore, the device 3000 has a positioning unit 3015, which is designed to bring about a positioning of the processing element in the recess, for example by means of a positioning signal 3020. According to this exemplary embodiment, device 3000 is in the form of a control device.

Gemäß diesem Ausführungsbeispiel ist die Vorrichtung 3000 ausgebildet, um verschiedenartige Aufbau- und Fertigungsvarianten durchzuführen und/oder anzusteuern. Beispielsweise wird eine Fixierung des Prozessierungselements in der Ausnehmung unter Verwendung eines niedrigviskosen flüssigen Klebstoffs erzielt, der auch als Verbindungsmittel bezeichnet wird. Dabei wird beispielsweise der flüssige Klebstoff zunächst in die Ausnehmung dispensiert. Anschließend erfolgt eine Platzierung, das bedeutet das Positionieren des Prozessierungselements in die Ausnehmung des Trägerelements und daraufhin ein Aushärten des Klebstoffs. Durch das Begrenzungselement wird ein Verrutschen, das auch als „Schwimmen“ bezeichnet wird, des Prozessierungselements auf der Schicht aus flüssigem Klebstoff in hinreichendem Maße unterbunden, insbesondere in der Art und Weise, dass sich an keiner Seite des Prozessierungselements ein durchgängiger Spalt zu dem Trägerelement ausbildet.According to this exemplary embodiment, the device 3000 is designed to carry out and/or control various types of construction and production variants. For example, the processing element is fixed in the recess using a low-viscosity liquid adhesive, which is also referred to as a connecting agent. In this case, for example, the liquid adhesive is first dispensed into the recess. Placement then takes place, which means the positioning of the processing element in the recess of the carrier element and then the adhesive hardens. The limiting element sufficiently prevents the processing element from slipping, which is also referred to as “floating”, on the layer of liquid adhesive, in particular in such a way that a continuous gap to the carrier element is not formed on either side of the processing element.

9 zeigt ein Blockschaltbild einer Vorrichtung 3000 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Die Vorrichtung 3000 ist beispielsweise ausgebildet, um ein Verfahren zum Betreiben einer Prozessierungseinrichtung anzusteuern und/oder durchzuführen, wie es in 7 beschrieben wurde. Die Vorrichtung 3000 weist dazu eine Zuführeinheit 4000 auf, die ausgebildet ist, um beispielsweise mittels einem Zuführsignal 4005 ein Zuführen einer Probenflüssigkeit in die Prozessierungseinrichtung zum in Kontakt treten der Probenflüssigkeit mit dem Trägerelement und/oder zum in Kontakt treten der Probenflüssigkeit mit dem Prozessierungselement zu bewirken. 9 shows a block diagram of a device 3000 according to an embodiment. Device 3000 is designed, for example, to control and/or carry out a method for operating a processing device, as described in 7 was described. For this purpose, device 3000 has a feed unit 4000, which is designed to cause a sample liquid to be fed into the processing device, for example by means of a feed signal 4005, in order for the sample liquid to come into contact with the carrier element and/or for the sample liquid to come into contact with the processing element .

Umfasst ein Ausführungsbeispiel eine „und/oder“-Verknüpfung zwischen einem ersten Merkmal und einem zweiten Merkmal, so ist dies so zu lesen, dass das Ausführungsbeispiel gemäß einer Ausführungsform sowohl das erste Merkmal als auch das zweite Merkmal und gemäß einer weiteren Ausführungsform entweder nur das erste Merkmal oder nur das zweite Merkmal aufweist.If an embodiment includes an "and/or" link between a first feature and a second feature, this should be read in such a way that the embodiment according to one embodiment includes both the first feature and the second feature and according to a further embodiment either only that having the first feature or only the second feature.

Claims (15)

Prozessierungseinrichtung (10) zum Prozessieren einer Probenflüssigkeit, wobei die Prozessierungseinrichtung (10) die folgenden Merkmale aufweist: - ein Trägerelement (11) zum Tragen der Probenflüssigkeit, wobei das Trägerelement (11) zumindest eine Ausnehmung (110) aufweist; - ein in der Ausnehmung (110) des Trägerelements (11) angeordnetes Prozessierungselement (12), das insbesondere eine hydrophile Oberflächenbeschaffenheit aufweist; und - zumindest ein Begrenzungselement (100), das ausgebildet ist, um das Prozessierungselement (12) in der Ausnehmung (110) des Trägerelements (11) zu positionieren, um die Probenflüssigkeit zu prozessieren.Processing device (10) for processing a sample liquid, the processing device (10) having the following features: - A carrier element (11) for carrying the sample liquid, wherein the carrier element (11) has at least one recess (110); - A processing element (12) arranged in the recess (110) of the carrier element (11) and having in particular a hydrophilic surface finish; and - At least one delimiting element (100) which is designed to position the processing element (12) in the recess (110) of the carrier element (11) in order to process the sample liquid. Prozessierungseinrichtung (10) gemäß Anspruch 1, wobei das Begrenzungselement (100) in der Ausnehmung (110) angeordnet ist und/oder zumindest in die Ausnehmung (110) hineinragt.Processing device (10) according to claim 1 , The limiting element (100) being arranged in the recess (110) and/or at least protruding into the recess (110). Prozessierungseinrichtung (10) gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Begrenzungselement (100) als Teil des Trägerelements (11) ausgeformt ist.Processing device (10) according to one of the preceding claims, wherein the limiting element (100) is formed as part of the carrier element (11). Prozessierungseinrichtung (10) gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei ein Verbindungsmittel vorgesehen ist, das an einer Kontaktfläche zwischen dem Prozessierungselement (12) und der Ausnehmung (110) des Trägerelements (11) vorliegt.Processing device (10) according to one of the preceding claims, wherein a connecting means is provided which is present on a contact surface between the processing element (12) and the recess (110) of the carrier element (11). Prozessierungseinrichtung (10) gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Begrenzungselement (100) derart ausgeformt ist, um einen Spalt (30) mit einer vorgegebenen minimalen Breite (101) insbesondere in einem Bereich zwischen 200 µm und 1000 µm, insbesondere 500 µm zwischen einer Außenwand (500) des Prozessierungselements (12) und einer der Außenwand (500) zugewandten Seitenwand (505) der Ausnehmung (110) sicherzustellen, und/oder um zumindest einen weiteren Spalt (510) mit einer vorgegebenen minimalen Breite (101) zwischen einer weiteren Außenwand (515) des Prozessierungselements (12) und einer der weiteren Außenwand (515) zugewandten weiteren Seitenwand (520) der Ausnehmung (110) sicherzustellen, und wobei der Spalt (30) und der weitere Spalt (510) an einander gegenüberliegenden Seiten der Ausnehmung (110) angeordnet sind, insbesondere wobei der Spalt (30) und der weitere Spalt (510) innerhalb eines Toleranzbereichs gleich groß sind.Processing device (10) according to one of the preceding claims, wherein the delimiting element (100) is shaped in such a way that a gap (30) with a predetermined minimum width (101), in particular in a range between 200 µm and 1000 µm, in particular 500 µm, between a outer wall (500) of the processing element (12) and a side wall (505) of the recess (110) facing the outer wall (500), and/or to ensure at least one further gap (510) with a predetermined minimum width (101) between a further outer wall (515) of the processing element (12) and a further side wall (520) of the recess (110) facing the further outer wall (515), and wherein the gap (30) and the further gap (510) are on opposite sides of the recess (110) are arranged, in particular wherein the gap (30) and the further gap (510) are of the same size within a tolerance range. Prozessierungseinrichtung (10) gemäß Anspruch 5, wobei der Spalt (30) eine erste Spaltbreite (800) aufweist, die durchgängig eine vorgegebene minimale Breite nicht unterschreitet, oder wobei der Spalt (30) zusätzlich zu der ersten Spaltbreite (800) in Teilbereichen (805) des Spalts (30) eine zweite Spaltbreite (810) aufweist, die von der ersten Spaltbreite (800) abweicht, und/oder wobei der weitere Spalt (510) eine dritte Spaltbreite (815) aufweist, die durchgängig eine vorgegebene minimale Breite nicht unterschreitet, oder wobei der weitere Spalt (510) zusätzlich zu der dritten Spaltbreite (815) in Teilbereichen (805) des weiteren Spalts (510) eine vierte Spaltbreite (820) aufweist, die von der dritten Spaltbreite (815) abweicht.Processing device (10) according to claim 5 , wherein the gap (30) has a first gap width (800) which consistently does not fall below a predetermined minimum width, or wherein the gap (30) in addition to the first gap width (800) in partial areas (805) of the gap (30) a has a second gap width (810) which differs from the first gap width (800), and/or wherein the further gap (510) has a third gap width (815) which consistently does not fall below a predetermined minimum width, or wherein the further gap ( 510) in addition to the third gap width (815) in partial areas (805) of the further gap (510) has a fourth gap width (820) which differs from the third gap width (815). Prozessierungseinrichtung (10) gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei eine Trägeroberfläche (600) des Trägerelements (11) und eine Oberfläche (605) des Prozessierungselements (12) auf einer Ebene (610) liegen.Processing device (10) according to one of the preceding claims, wherein a carrier surface (600) of the carrier element (11) and a surface (605) of the processing element (12) lie on one plane (610). Prozessierungseinrichtung (10) gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, mit einem Deckelelement (13), das zumindest einen Kanal (130) und eine Flusszelle (131) aufweist, wobei der Kanal (130) ausgebildet ist, um die Probenflüssigkeit in die Flusszelle (131) oder aus der Flusszelle (131) zu leiten und die Flusszelle (131) ausgebildet ist, um die Probenflüssigkeit mit dem Prozessierungselement (12) in Kontakt zu bringen.Processing device (10) according to one of the preceding claims, with a cover element (13) which has at least one channel (130) and a flow cell (131), the channel (130) being designed to introduce the sample liquid into the flow cell (131) or from the flow cell (131) and the flow cell (131) is designed to bring the sample liquid into contact with the processing element (12). Prozessierungseinrichtung (10) gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, mit zumindest einem weiteren Begrenzungselement (525), das ausgebildet ist, um das Prozessierungselement (12) in der Ausnehmung des Trägerelements (11) zu positionieren.Processing device (10) according to any one of the preceding claims, having at least one further limiting element (525) that is designed to position the processing element (12) in the recess of the carrier element (11). Verfahren (2000) zum Herstellen einer Prozessierungseinrichtung (10) gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Verfahren (2000) die folgenden Schritte umfasst: - Bereitstellen (2001) des Trägerelementes (11) mit der Ausnehmung (110), in der das Begrenzungselement (100) angeordnet ist; und - Positionieren (2002) des Prozessierungselements (12) in der Ausnehmung (110).Method (2000) for producing a processing device (10) according to one of the preceding claims, wherein the method (2000) comprises the following steps: - Providing (2001) the carrier element (11) with the recess (110) in which the delimiting element (100) is arranged; and - Positioning (2002) of the processing element (12) in the recess (110). Verfahren (2000) gemäß Anspruch 10, wobei im Schritt (2001) des Bereitstellens ein Verbindungsmittel in das Trägerelement (11) eingebracht wird, und wobei im Schritt (2002) des Positionierens das Prozessierungselement (12) in der Ausnehmung (110) positioniert wird und wobei im Schritt (2003) des Aushärtens das Verbindungsmittel ausgehärtet wird, um eine Verbindung zwischen dem Trägerelement (11) und dem Prozessierungselement (12) herzustellen.Method (2000) according to claim 10 , wherein in step (2001) of providing a connecting means is introduced into the carrier element (11), and wherein in step (2002) of positioning the processing element (12) is positioned in the recess (110) and wherein in step (2003) of Curing the connecting means is cured to establish a connection between the carrier element (11) and the processing element (12). Verfahren (1000) zum Betreiben einer Prozessierungseinrichtung (10) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei das Verfahren (1000) den folgenden Schritt umfasst: - Zuführen (1001) einer Probenflüssigkeit in die Prozessierungseinrichtung (10) zum in Kontakt treten der Probenflüssigkeit mit dem Trägerelement (11) und/oder zum in Kontakt treten der Probenflüssigkeit mit dem Prozessierungselement (12).Method (1000) for operating a processing device (10) according to one of Claims 1 until 9 , wherein the method (1000) comprises the following step: - supplying (1001) a sample liquid into the processing device (10) for the sample liquid to come into contact with the carrier element (11) and/or for the sample liquid to come into contact with the processing element ( 12). Vorrichtung (3000), die eingerichtet ist, um die Schritte (2001, 2002; 1001) eines der Verfahren (2000; 1000) gemäß einem der Ansprüche 10 bis 11 oder 12 in entsprechenden Einheiten (3005, 3015; 4000) auszuführen und/oder anzusteuern.Device (3000) which is set up to carry out the steps (2001, 2002; 1001) of one of the methods (2000; 1000) according to one of Claims 10 until 11 or 12 to be executed and/or controlled in corresponding units (3005, 3015; 4000). Computerprogramm, das dazu eingerichtet ist, die Schritte (2001, 2002; 1001) eines der Verfahren (2000; 1000) gemäß einem der Ansprüche 10 bis 11 oder 12 auszuführen und/oder anzusteuern.Computer program that is set up to carry out the steps (2001, 2002; 1001) of one of the methods (2000; 1000) according to one of Claims 10 until 11 or 12 execute and/or control. Maschinenlesbares Speichermedium, auf dem das Computerprogramm nach Anspruch 14 gespeichert ist.Machine-readable storage medium on which the computer program Claim 14 is saved.
DE102020213471.5A 2020-10-27 2020-10-27 Processing device for processing a sample liquid, method for producing a processing device and method for operating a processing device Pending DE102020213471A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102020213471.5A DE102020213471A1 (en) 2020-10-27 2020-10-27 Processing device for processing a sample liquid, method for producing a processing device and method for operating a processing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102020213471.5A DE102020213471A1 (en) 2020-10-27 2020-10-27 Processing device for processing a sample liquid, method for producing a processing device and method for operating a processing device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102020213471A1 true DE102020213471A1 (en) 2022-04-28

Family

ID=81077148

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102020213471.5A Pending DE102020213471A1 (en) 2020-10-27 2020-10-27 Processing device for processing a sample liquid, method for producing a processing device and method for operating a processing device

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102020213471A1 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE29505351U1 (en) 1995-03-30 1995-06-08 Cms Mikrosysteme Gmbh Chemnitz Flowmeter
US5592289A (en) 1995-01-09 1997-01-07 Molecular Dynamics Self-aligning mechanism for positioning analyte receptacles
DE10026647A1 (en) 2000-05-29 2001-12-06 Merck Patent Gmbh Positioning device
DE69527585T2 (en) 1994-06-08 2003-04-03 Affymetrix Inc Method and device for packaging chips
WO2005016532A2 (en) 2003-06-13 2005-02-24 Corning Incorporated Automated reaction chamber system for biological assays
US20080145924A1 (en) 2006-12-15 2008-06-19 Hitachi, Ltd. Cell culture apparatus and control method thereof

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69527585T2 (en) 1994-06-08 2003-04-03 Affymetrix Inc Method and device for packaging chips
US5592289A (en) 1995-01-09 1997-01-07 Molecular Dynamics Self-aligning mechanism for positioning analyte receptacles
DE29505351U1 (en) 1995-03-30 1995-06-08 Cms Mikrosysteme Gmbh Chemnitz Flowmeter
DE10026647A1 (en) 2000-05-29 2001-12-06 Merck Patent Gmbh Positioning device
WO2005016532A2 (en) 2003-06-13 2005-02-24 Corning Incorporated Automated reaction chamber system for biological assays
US20080145924A1 (en) 2006-12-15 2008-06-19 Hitachi, Ltd. Cell culture apparatus and control method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60035111T2 (en) MICROFLUIDIC SYSTEMS WITH INDICATION COMPONENTS
DE10326607A1 (en) Microstructure, for minimal- and non-invasive diagnostics, analysis and therapy, has base plate whose surface is sub-divided into zones with different capillary characteristics
EP1160573A2 (en) Microtitre plate and coupled multiple pipettor
EP2072131A1 (en) Microfluid element for mixing a fluid into a reagent
DE202012001202U1 (en) valve plug
DE102018204624A1 (en) Method and microfluidic device for aliquoting a sample liquid using a sealing liquid, method for manufacturing a microfluidic device and microfluidic system
EP2931429B1 (en) Method for connecting components of a microfluidic flow cell
DE102019209746A1 (en) Microfluidic device for processing and aliquoting a sample liquid, method and control device for operating a microfluidic device and microfluidic system for performing an analysis of a sample liquid
DE102017117789A1 (en) Adapter for receiving a capillary and its use
DE112017004280B4 (en) Microfluidic chip with bead integration system
WO2021122980A1 (en) Receiving unit for receiving a fluid, method and apparatus for producing a receiving unit, method and apparatus for operating a receiving unit, and receiving device
DE102020213471A1 (en) Processing device for processing a sample liquid, method for producing a processing device and method for operating a processing device
EP2688670B1 (en) Fluidic system for bubbble-free filling of a microfluidic filter chamber
DE102017206489A1 (en) Apparatus and method for a microfluidic system for analyzing a sample
DE102011102071A1 (en) Apparatus and method for assaying the differentiation of cells upon contact with a gradient of at least one biologically active species
DE102020210219A1 (en) Flow cell for integrating a processing unit into a microfluidic device and method for processing a sample liquid
DE19652823A1 (en) Three dimension micro-system spacers
DE102022209416B3 (en) Microfluidic device
WO2022258702A1 (en) Microfluidic device, method for producing a microfluidic device, and method for operating a microfluidic device
WO2019137783A1 (en) Method for providing a solution of the substance in a microfluidic device
WO2021013595A1 (en) Lab-on-a-chip system comprising at least one functionalized section
DE102022202862A1 (en) Microfluidic receiving element, microfluidic device with receiving element, method for producing a microfluidic receiving element and method for using a microfluidic receiving element
DE102022202864A1 (en) Microfluidic device and method for operating a microfluidic device
WO2022218688A1 (en) Insertion chamber for the insertion of a sampling device into a microfluidic device, microfluidic device, method for operation and method for production of a microfluidic device
DE102022209346A1 (en) Microfluidic device and method for operating a microfluidic device

Legal Events

Date Code Title Description
R163 Identified publications notified