DE102020210567B3 - Steuerungsvorrichtung und -verfahren zur Steuerung von Manipulatoren für ein Projektionsobjektiv, Justieranlage, Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage - Google Patents

Steuerungsvorrichtung und -verfahren zur Steuerung von Manipulatoren für ein Projektionsobjektiv, Justieranlage, Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage Download PDF

Info

Publication number
DE102020210567B3
DE102020210567B3 DE102020210567.7A DE102020210567A DE102020210567B3 DE 102020210567 B3 DE102020210567 B3 DE 102020210567B3 DE 102020210567 A DE102020210567 A DE 102020210567A DE 102020210567 B3 DE102020210567 B3 DE 102020210567B3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
optimization algorithm
travel
projection lens
specifications
control device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE102020210567.7A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Maximilian Schlemmer
Stefan Rist
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE102020210567.7A priority Critical patent/DE102020210567B3/de
Priority to PCT/EP2021/072876 priority patent/WO2022038163A1/fr
Priority to TW110130653A priority patent/TWI785747B/zh
Application granted granted Critical
Publication of DE102020210567B3 publication Critical patent/DE102020210567B3/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70525Controlling normal operating mode, e.g. matching different apparatus, remote control or prediction of failure
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70258Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70258Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • G03F7/70266Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control, e.g. for aberration adjustment or correction
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70308Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70516Calibration of components of the microlithographic apparatus, e.g. light sources, addressable masks or detectors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
DE102020210567.7A 2020-08-20 2020-08-20 Steuerungsvorrichtung und -verfahren zur Steuerung von Manipulatoren für ein Projektionsobjektiv, Justieranlage, Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage Active DE102020210567B3 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102020210567.7A DE102020210567B3 (de) 2020-08-20 2020-08-20 Steuerungsvorrichtung und -verfahren zur Steuerung von Manipulatoren für ein Projektionsobjektiv, Justieranlage, Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage
PCT/EP2021/072876 WO2022038163A1 (fr) 2020-08-20 2021-08-18 Dispositif de commande pour commander des manipulateurs pour une lentille de projection
TW110130653A TWI785747B (zh) 2020-08-20 2021-08-19 用於控制投影透鏡之操縱器的控制器件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102020210567.7A DE102020210567B3 (de) 2020-08-20 2020-08-20 Steuerungsvorrichtung und -verfahren zur Steuerung von Manipulatoren für ein Projektionsobjektiv, Justieranlage, Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102020210567B3 true DE102020210567B3 (de) 2021-11-11

Family

ID=77595552

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102020210567.7A Active DE102020210567B3 (de) 2020-08-20 2020-08-20 Steuerungsvorrichtung und -verfahren zur Steuerung von Manipulatoren für ein Projektionsobjektiv, Justieranlage, Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage

Country Status (3)

Country Link
DE (1) DE102020210567B3 (fr)
TW (1) TWI785747B (fr)
WO (1) WO2022038163A1 (fr)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022211459A1 (de) 2022-10-28 2024-05-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit einem Manipulatorsystem

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010034674A1 (fr) 2008-09-25 2010-04-01 Carl Zeiss Smt Ag Appareil d’exposition par projection à fonction de réglage optimisée
US20130188246A1 (en) 2010-09-30 2013-07-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging Optical System for Microlithography
DE102015206448A1 (de) 2015-04-10 2016-10-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Steuerungsvorrichtung zur Steuerung mindestens eines Manipulators eines Projektionsobjektives
DE102019200218B3 (de) 2019-01-10 2020-06-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Steuerungsvorrichtung, Justieranordnung und Verfahren zur Steuerung eines Manipulators bezüglich einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015209051B4 (de) * 2015-05-18 2018-08-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator sowie Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010034674A1 (fr) 2008-09-25 2010-04-01 Carl Zeiss Smt Ag Appareil d’exposition par projection à fonction de réglage optimisée
US20130188246A1 (en) 2010-09-30 2013-07-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging Optical System for Microlithography
DE102015206448A1 (de) 2015-04-10 2016-10-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Steuerungsvorrichtung zur Steuerung mindestens eines Manipulators eines Projektionsobjektives
DE102019200218B3 (de) 2019-01-10 2020-06-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Steuerungsvorrichtung, Justieranordnung und Verfahren zur Steuerung eines Manipulators bezüglich einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022211459A1 (de) 2022-10-28 2024-05-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit einem Manipulatorsystem

Also Published As

Publication number Publication date
WO2022038163A1 (fr) 2022-02-24
TW202221422A (zh) 2022-06-01
TWI785747B (zh) 2022-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102015206448B4 (de) Steuerungsvorrichtung zur Steuerung mindestens eines Manipulators eines Projektionsobjektives, Justieranlage und Verfahren zum Steuern mindestens eines Manipulators
DE102012205096B3 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Manipulator
DE102019200218B3 (de) Steuerungsvorrichtung, Justieranordnung und Verfahren zur Steuerung eines Manipulators bezüglich einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
DE102004035595B4 (de) Verfahren zur Justage eines Projektionsobjektives
DE102011080437A1 (de) Abbildendes optisches System für die Mikrolithographie
DE102010029651A1 (de) Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit Korrektur von durch rigorose Effekte der Maske induzierten Abbildungsfehlern
DE102010029765A1 (de) Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie
DE102013204391B3 (de) Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator
DE102015220537A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Manipulator
DE102006039895A1 (de) Verfahren zur Korrektur von durch Intensitätsverteilungen in optischen Systemen erzeugten Abbildungsveränderungen sowie entsprechendes optisches System
EP1746463A2 (fr) Procédé pour corriger un objectif de projection lithographique et un tel objectif de projection
DE102010062763A1 (de) Verfahren zum Vermessen eines optischen Systems
DE102016203591A1 (de) Vorrichtung zum Verändern einer Oberflächenform eines optischen Elements mittels Elektronenbestrahlung
DE102014223750A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Manipulator
DE102015209051B4 (de) Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator sowie Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage
DE102017209440A1 (de) Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie
DE102020210567B3 (de) Steuerungsvorrichtung und -verfahren zur Steuerung von Manipulatoren für ein Projektionsobjektiv, Justieranlage, Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage
DE102012202536A1 (de) Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
DE102017210164B4 (de) Verfahren zur Justage eines Abbildungsverhaltens eines Projektionsobjektivs und Justageanlage
DE102015222377B4 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit einem Manipulatorsystem
DE102014114864B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Ermitteln eines lateralen Versatzes eines Musters auf einem Substrat relativ zu einer Sollposition
DE102014223326B4 (de) Verfahren zur Vorhersage mindestens eines Beleuchtungsparameters zur Bewertung eines Beleuchtungssettings und Verfahren zur Optimierung eines Beleuchtungssettings
DE102016205987B4 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Manipulator und Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage
DE102015222097B4 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Manipulator
DE102022200372A1 (de) Verfahren zum Nachbilden von Beleuchtungs- und Abbildungseigenschaften eines optischen Produktionssystems bei der Beleuchtung und Abbildung eines Objekts mittels eines optischen Messsystems

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final