DE102020210567B3 - Steuerungsvorrichtung und -verfahren zur Steuerung von Manipulatoren für ein Projektionsobjektiv, Justieranlage, Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage - Google Patents
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010034674A1 (fr) | 2008-09-25 | 2010-04-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Appareil d’exposition par projection à fonction de réglage optimisée |
US20130188246A1 (en) | 2010-09-30 | 2013-07-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging Optical System for Microlithography |
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Patent Citations (4)
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---|---|---|---|---|
WO2010034674A1 (fr) | 2008-09-25 | 2010-04-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Appareil d’exposition par projection à fonction de réglage optimisée |
US20130188246A1 (en) | 2010-09-30 | 2013-07-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging Optical System for Microlithography |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102022211459A1 (de) | 2022-10-28 | 2024-05-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage mit einem Manipulatorsystem |
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