DE102020203187A1

DE102020203187A1 - Switching arrangement and method for connecting capacitor banks

Info

Publication number: DE102020203187A1
Application number: DE102020203187.8A
Authority: DE
Inventors: Martin Eiselt
Original assignee: Siemens AG
Current assignee: Siemens AG
Priority date: 2020-03-12
Filing date: 2020-03-12
Publication date: 2021-09-16

Abstract

Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine Schaltanordnung, aufweisendeine Vakuumkammer mit zwei Kontakten, undeine Trennvorrichtung, die ausgebildet ist, zwischen den Kontakten beim Ausschalten eine Trennstrecke herzustellen,dadurch gekennzeichnet, dasseine Überwachungseinrichtung ausgebildet ist, einen Abnutzungswert der Kontakte im laufenden Betrieb zu ermitteln.Ferner ist Gegenstand der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zum Zuschalten von Kondensatorbatterien.The subject of the present invention is a switching arrangement, comprising a vacuum chamber with two contacts, and a separating device which is designed to produce an isolating distance between the contacts when switching off, characterized in that a monitoring device is designed to determine a wear value of the contacts during operation The present invention relates to a method for connecting capacitor banks.

Description

Die Erfindung betrifft eine Schaltanordnung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 sowie ein Verfahren zum Zuschalten von Kondensatorbatterien gemäß Anspruch 9.The invention relates to a switching arrangement according to the preamble of claim 1 and a method for connecting capacitor batteries according to claim 9.

Zur Blindleistungskompensation werden in Energienetzen häufig Kondensatorbatterien eingesetzt, die bei Bedarf sehr schnell zu- oder abgeschaltet werden können. Dafür werden Leistungsschalter genutzt, die insbesondere auf der Mittelspannungsebene und in jüngster Zeit auch vermehrt auf der Hochspannungsebene, Vakuumschaltröhren nutzen.For reactive power compensation, capacitor banks are often used in energy networks, which can be switched on or off very quickly if required. Circuit breakers are used for this, which use vacuum interrupters, especially at the medium voltage level and, more recently, increasingly at the high voltage level.

Vakuumschaltröhren bzw. Vakuum-Leistungsschalter sind beispielsweise aus der Produktbroschüre „Vakuum-Schalttechnik und Geräte für die Mittelspannung - Ihr Wegweiser“, Siemens AG 2016, Artikel-Nr. EMMS-K1511-A011-A2, von den Seiten 6 und 7 bekannt. Dabei liegen zwei elektrische Kontakte - ein Festkontakt und ein beweglicher Kontakt - in einer evakuierten Kammer vor. Gase sind innerhalb der Kammer nicht mehr oder nur noch mit sehr geringem Druck vorhanden. Wird nun der bewegliche Kontakt mittels einer Mechanik einige mm bis einige cm von dem Festkontakt wegbewegt, so bildet sich ein Lichtbogen aus. Dieser wird jedoch beim Nulldurchgang einer anliegenden Wechselspannung gelöscht, da es aufgrund des fehlenden Gases im Zwischenraum zwischen den Kontakten nur wenig ionisierbares Material als Ladungsträger gibt. Es liegen Metallionen in geringer Konzentration vor, die aus den Kontakten gelöst wurden. Die Kontakte sind dabei so beschaffen, dass ein Magnetfeld zwischen Ihnen beim Trennen den Lichtbogen lenkt, um eine vergleichsweise gleichmäßigere Abnutzung der Kontaktflächen der Kontakte zu erreichen. Es können als sogenannte Radialmagnetfeldkontakte z.B. Topfkontakte oder Spiralkontakte (s. Seite 7) eingesetzt werden, die mittels Schlitzen in den Kontakten eine Rotation des Lichtbogens begünstigen. Auch sogenannte Axialmagnetfeldkontakte, die einen diffusen Lichtbogen begünstigen, werden eingesetzt. Es kann die Vakuum-schalttechnik auch bei Schützen und Lastschaltern eingesetzt werden.Vacuum interrupters and vacuum circuit breakers are, for example, from the product brochure "Vacuum Switching Technology and Devices for Medium Voltage - Your Guide", Siemens AG 2016, Article No. EMMS-K1511-A011-A2, from pages 6 and 7 known. There are two electrical contacts - a fixed contact and a movable contact - in an evacuated chamber. Gases are no longer present within the chamber or are only present at very low pressure. If the movable contact is now moved a few mm to a few cm away from the fixed contact by means of a mechanism, an arc is formed. However, this is extinguished when an applied alternating voltage crosses zero, since there is only a small amount of ionizable material as charge carriers in the space between the contacts due to the lack of gas. There are low concentrations of metal ions that have been released from the contacts. The contacts are designed in such a way that a magnetic field between them directs the arc when they are separated in order to achieve a comparatively more even wear of the contact surfaces of the contacts. So-called radial magnetic field contacts, e.g. cup contacts or spiral contacts (see page 7) can be used, which encourage the arc to rotate by means of slots in the contacts. So-called axial magnetic field contacts, which promote a diffuse arc, are also used. The vacuum switching technology can also be used for contactors and load switches.

Wird nun ein solcher Vakuum-Leistungsschalter geschlossen und ist bereits eine Kondensatorbatterie verbunden, so kann beim Zuschalten einer weiteren, bisher geerdeten Kondensatorbatterie, in sogenannter „back-to-back“-Konfiguration ein Umladen zwischen beiden Kondensatorbänken erfolgen. Dies bringt hohe Ströme von z.B. 20 kA mit Frequenzen von z.B. 4 kHz bis 5 kHz mit sich. Es bildet sich beim Annähern der Kontakte für einige ms ein Vorlichtbogen, wobei bei 4 kHz Frequenz des Stromes vier Nulldurchgänge pro ms und entsprechend viermal die maximale Amplitude von 20 kA zu erwarten sind.If such a vacuum circuit breaker is now closed and a capacitor bank is already connected, charging can take place between the two capacitor banks in what is known as a "back-to-back" configuration when a further, previously grounded capacitor bank is switched on. This entails high currents of e.g. 20 kA with frequencies of e.g. 4 kHz to 5 kHz. When the contacts approach, a pre-arc forms for a few ms, with four zero crossings per ms and four times the maximum amplitude of 20 kA being expected at a current frequency of 4 kHz.

Durch solch hohe Ströme über die Kontakte kann ein temporäres Verkleben oder Verschweißen der Kontakte auftreten. Diese Verklebungen werden zwar beim nächsten Ausschalten bzw. Trennen der Kontakte z.B. durch einen sogenannten Trennschlag von 6 kN bis 10 kN Stärke mittels eines Federspeicherantriebs mechanisch aufgerissen, hinterlassen aber eine rauere Kontaktoberfläche als im fabrikneuen Zustand. Eine solche aufgeraute Kontaktoberfläche stellt einen wesentlichen Faktor für einen Verschleiß der Vakuumschaltröhre dar.Such high currents through the contacts can cause temporary sticking or welding of the contacts. These bonds are torn mechanically the next time the contacts are switched off or separated, e.g. by a so-called separating blow of 6 kN to 10 kN using a spring-loaded drive, but they leave a rougher contact surface than in the brand-new condition. Such a roughened contact surface is an essential factor for wear and tear on the vacuum interrupter.

Diese besonders bei „back-to-back“-Konfigurationen auftretende Abnutzung wird z.B. auch in der Broschüre „Mittelspannungsschaltanlagen - Schalten von Kondensatoren und Filterkreisen - Lösungen für die hohen Anforderungen an die Schalttechnik“, Siemens AG 2015, Seiten 6 und 7, thematisiert.This wear, which occurs particularly in "back-to-back" configurations, is also described in the brochure "Medium-voltage switchgear - switching capacitors and filter circuits - solutions for the high demands on switching technology", Siemens AG 2015 , Pages 6th and 7th , thematized.

Häufig bewirkt das Auseinanderreißen auch eine mechanische Verformung der Kontakte, die zu einem kürzeren Kontakthub führt. Mit anderen Worten werden die Kontakte etwas gestreckt, so dass der Isolationsabstand zwischen den Kontakten verringert wird. Beispielsweise werden die o.g. Schlitze in den Kontakten beim Auseinanderziehen geweitet, so dass sich der Kontakthub dauerhaft von z.B. 20 mm auf 16 mm bis 18 mm verringert.Often the tearing apart also causes a mechanical deformation of the contacts, which leads to a shorter contact stroke. In other words, the contacts are stretched somewhat so that the insulation distance between the contacts is reduced. For example, the above-mentioned slots in the contacts are widened when they are pulled apart, so that the contact stroke is permanently reduced from e.g. 20 mm to 16 mm to 18 mm.

Durch die genannten Effekten tritt folglich beim Schalten von Kondensatorbänken ein erhöhter Verscheiß der Vakuumschalttechnik auf, durch die die herstellerseitig typischerweise vorgesehenen 10000 Schaltspiele nicht erreichbar sind.As a result of the effects mentioned, increased wear of the vacuum switching technology occurs when capacitor banks are switched, which means that the 10000 switching cycles typically provided by the manufacturer cannot be achieved.

Bisher werden Vakuumschaltröhren z.B. nach Ausserbetriebsetzung durch Demontage oder mit Röntgenstrahlung untersucht, um eine Veränderung des Kontakthubs zu messen.So far, vacuum interrupters have been examined e.g. after being taken out of service by dismantling or with X-rays in order to measure a change in the contact stroke.

Ausgehend von bisherigen Vakuum-Leistungsschaltern stellt sich an die Erfindung die Aufgabe, eine Schaltanordnung mit Vakuum-Schalttechnik anzugeben, die bei Einsatz im Zusammenhang mit einer Blindleistungskompensation vergleichsweise lange im Betrieb verbleiben kann.Based on previous vacuum circuit breakers, the object of the invention is to specify a switching arrangement with vacuum switching technology which, when used in connection with reactive power compensation, can remain in operation for a comparatively long time.

Die Erfindung löst diese Aufgabe durch eine Schaltanordnung gemäß Anspruch 1.The invention solves this problem by means of a switching arrangement according to claim 1.

Eine Überwachungseinrichtung im Sinne der Erfindung ist für eine Zustandsermittlung der Schaltanordnung im laufenden Betrieb ausgebildet und weist beispielsweise Prozessormittel und Datenspeichermittel auf. Es können Softwarekomponenten zur Auswertung lokaler Messwerte vorgesehen sein. Bevorzugt weist die Überwachungseinrichtung eine Kommunikationseinrichtung auf, mit der lokal ausgewertete Daten wie z.B. ein Abnutzungswert einen zentralen Server eines Betreibers oder in eine Cloud übermittelt werden können. Die Überwachungseinrichtung kann jedoch auch entfernt angeordnet werden und beispielsweise mit einer Wartungsplanungseinrichtung an einem zentralen Ort kombiniert werden. Solchenfalls wird lokal bei der Schaltanordnung lediglich eine Kommunikationseinrichtung vorgesehen, um Rohdaten zur weiteren Auswertung zu übermitteln. Die Kommunikationseinrichtung kann beispielsweise über ein Mobilfunknetz wie long range radio, 2G (GPRS, EDGE), 3G (UMTS, HSDPA), 4G(LTE) oder 5G kommunizieren. Alternativ kann eine Internetverbindung über TCP/IP o.Ä. erfolgen.A monitoring device within the meaning of the invention is designed to determine the status of the switching arrangement during operation and has, for example, processor means and data storage means. Software components can be provided for evaluating local measured values. The monitoring device preferably has a communication device with which locally evaluated data, such as a wear value, is sent to a central server of an operator or to a cloud can be transmitted. However, the monitoring device can also be arranged remotely and, for example, combined with a maintenance planning device at a central location. In such a case, only one communication device is provided locally in the switching arrangement in order to transmit raw data for further evaluation. The communication device can communicate, for example, via a cellular network such as long range radio, 2G (GPRS, EDGE), 3G (UMTS, HSDPA), 4G (LTE) or 5G. Alternatively, an Internet connection can be established via TCP / IP or similar.

Ein Abnutzungswert im Sinne der Erfindung ist ein Parameter, der einen Verschleiß der Kontakte bzw. deren Oberflächen abschätzbar macht. Dabei kann es sich z.B. bei Messung eines Kontakthubs um eine Längenangabe und bei Messung einer elektrischen Größe z.B. um einen elektrischen Widerstand handeln.A wear value within the meaning of the invention is a parameter which makes it possible to estimate wear on the contacts or their surfaces. For example, when measuring a contact stroke, it can be a length specification and when measuring an electrical variable, for example, an electrical resistance.

Ziel ist es, ein Monitoring des Vakuumschalters im laufenden Betrieb vorzustellen, mit dem der Zustand des Schalters nach einer größeren Anzahl von „back-to-back“-Schaltvorgängen bewertbar wird. Dies hat den Vorteil, dass die Vakuumschalttechnik nicht mit vorher festgelegten Wartungsintervallen demontiert (und ggf. gewartet) und ersetzt werden müssen. Vielmehr kann mittels des Monitorings im laufenden Betrieb zustandsabhängig, d.h. in Abhängigkeit vom tatsächlichen Verschleiß des Schalters, eine Wartung ausgelöst werden. Mit dem Erreichen eines Grenzwerts für einen Verschleißparameter, wie z.B. einen minimalen Kontakthub, kann der Schalter außer Betrieb genommen werden, wodurch Fehler und Anlagenausfälle vermieden werden.The aim is to present monitoring of the vacuum switch during operation, with which the state of the switch can be assessed after a large number of "back-to-back" switching operations. This has the advantage that the vacuum switching technology does not have to be dismantled (and possibly serviced) and replaced at previously defined maintenance intervals. Rather, by means of monitoring during operation, maintenance can be triggered depending on the condition, i.e. depending on the actual wear and tear on the switch. When a limit value for a wear parameter, such as a minimum contact stroke, is reached, the switch can be taken out of service, thereby avoiding errors and system failures.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung ist eine Wartungsplanungseinrichtung ausgebildet, bei Verletzung eines Schwellenwerts für den Abnutzungswert eine Wartung auszulösen. Als Wartungsplanungseinrichtung kann z.B. eine Software eingesetzt werden, die betreiberseitig auf einem Server läuft. Ein Server im Sinne der Erfindung ist z.B. ein Computer mit Prozessor, Datenspeicher, Eingabe- und Anzeigemitteln. Es kann jedoch auch eine Cloud-Lösung eingesetzt werden, bei der eine Wartungsplanung als sogenannte „Software-as-a-Service“ (SAAS) Lösung angeboten wird. Eine Cloud ist dabei z.B. ein Netzwerk von Computerressourcen wie etwa Prozessoren und Datenspeichern, wobei als Netzwerk typischerweise das Internet dient.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, a maintenance planning device is designed to trigger maintenance when a threshold value for the wear value is violated. For example, software that runs on a server on the operator side can be used as a maintenance planning facility. A server within the meaning of the invention is, for example, a computer with a processor, data memory, input and display means. However, a cloud solution can also be used in which maintenance planning is offered as a so-called "Software-as-a-Service" (SAAS) solution. A cloud is, for example, a network of computer resources such as processors and data storage devices, with the Internet typically serving as the network.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung weist die Überwachungseinrichtung eine Kontakthubmesseinrichtung für ein Erfassen einer Position eines beweglichen Kontakts auf. Dies ist ein Vorteil, weil sich ein Verschleiß der Kontakte unkompliziert anhand einer physischen Deformation bzw. Längenänderung der Kontakte beurteilten lässt.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the monitoring device has a contact stroke measuring device for detecting a position of a movable contact. This is an advantage because wear on the contacts can be easily assessed on the basis of a physical deformation or change in length of the contacts.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung weist die Kontakthubmesseinrichtung eine Kamera auf. Der Einsatz einer Kamera als optisches Messsystem hat den Vorteil, dass der Kontakthub elektrisch isoliert gemessen werden kann. Es müssen keine Leiter in direkte Verbindung mit dem auszumessenden Kontakt gebracht werden, was die Sicherheit und Zuverlässigkeit erhöht. Es kann beispielsweise eine Skala mit mehreren Markierungen, z.B. als Striche, auf dem Kontakt bzw. dem beweglichen Bolzen der Vakuumröhre vorgesehen werden. Die Kamera kann Bildaufnahmen der Skala erstellen und beispielsweise mittels einer auf der Überwachungseinrichtung laufenden Mustererkennungssoftware erkennen, bei welcher Markierung der maximale Kontakthub vorliegt.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the contact stroke measuring device has a camera. The use of a camera as an optical measuring system has the advantage that the contact stroke can be measured in an electrically isolated manner. No conductors have to be brought into direct connection with the contact to be measured, which increases safety and reliability. For example, a scale with several markings, e.g. as lines, can be provided on the contact or the movable bolt of the vacuum tube. The camera can take pictures of the scale and, for example, by means of pattern recognition software running on the monitoring device, recognize the marking at which the maximum contact stroke is present.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung weist die Kontakthubmesseinrichtung einen optoelektronischen Sensor mit Lichtwellenleiteranbindung auf. Es ergeben sich sinngemäß die gleichen Vorteile wir für die vorhergehende Ausführungsform erläutert.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the contact stroke measuring device has an optoelectronic sensor with an optical waveguide connection. This results in the same advantages as explained for the previous embodiment.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung weist die Kontakthubmesseinrichtung eine Einrichtung für eine Laserabstandsmessung auf. Der Einsatz einer Laserabstandsmesseinrichtung als optisches Messsystem hat den Vorteil, dass der Kontakthub elektrisch isoliert gemessen werden kann. Es müssen keine Leiter in direkte Verbindung mit dem zu messenden Kontakt gebracht werden, was die Sicherheit und die Zuverlässigkeit erhöht. Eine Laserabstandsmessung kann beispielsweise mittels einer Laserstrahl erzeugenden Lichtquelle erfolgen, die auf koaxial entlang einer Längsachse des beweglichen Kontakts auf einen Reflektor ausgerichtet ist. Der Reflektor wirft das Laserlicht zurück, das dann mittels eines Detektors (teilweise) aufgefangen wird. Hieraus kann ein Abstand zwischen Reflektor und Detektor sehr genau bestimmt werden.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the contact stroke measuring device has a device for laser distance measurement. The use of a laser distance measuring device as an optical measuring system has the advantage that the contact stroke can be measured in an electrically isolated manner. There is no need to bring conductors into direct contact with the contact to be measured, which increases safety and reliability. A laser distance measurement can take place, for example, by means of a light source which generates a laser beam and which is oriented coaxially along a longitudinal axis of the movable contact onto a reflector. The reflector reflects the laser light, which is then (partially) captured by a detector. A distance between reflector and detector can be determined very precisely from this.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung weist die Kontakthubmesseinrichtung einen Seilzugwegsensor auf. Dies ist ein Vorteil, weil diese Art Sensor mechanisch einfach zu bauen und sehr zuverlässig ist. Beispielsweise kann der Kontakt beim Trennen ein nichtleitendes Seil, das z.B. zumindest teilweise aus Kunststoff besteht, aus einer Fassung ziehen. Die Länge des herausgezogenen Seils kann beispielsweise elektromechanisch gemessen werden.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the contact stroke measuring device has a cable travel sensor. This is an advantage because this type of sensor is mechanically simple to build and very reliable. For example, when separating, the contact can pull a non-conductive rope, e.g. at least partially made of plastic, out of a socket. The length of the pulled out rope can be measured electromechanically, for example.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung weist die Überwachungseinrichtung eine Widerstandsbestimmungseinrichtung auf, die ausgebildet ist, einen elektrischen Widerstand über die Kontakte mittels eines von einer Stromeinprägeeinrichtung kapazitiv eingeprägten Stroms zu ermitteln. Ist der Strom bekannt, so kann aus einer Spannungsmessung auf den elektrischen Widerstand geschlossen werden. Dies ist ein Vorteil, weil diese Bauform eine Abnutzungsmessung im geschlossenen Zustand des Schalters, d.h. wenn die Kontakte aneinander anliegen gestattet. Je höher der Widerstand im Vergleich zum fabrikneuen Zustand ist, desto schlechter kontaktieren die Kontakte und desto größer ist die Abnutzung.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the monitoring device has a Resistance determination device, which is designed to determine an electrical resistance across the contacts by means of a current impressed capacitively by a current impressing device. If the current is known, the electrical resistance can be deduced from a voltage measurement. This is an advantage because this design allows wear to be measured when the switch is closed, ie when the contacts are in contact with one another. The higher the resistance compared to the brand-new condition, the worse the contacts make and the greater the wear.

Beispielsweise kann gemäß der Norm IEC 62271-100, Abschnitt 6.4, bei 21°C Umgebungstemperatur ein Strom von 100 A und 50 kHz bis 500 kHz eingeprägt werden. Es ergeben sich z.B. für den fabrikneuen Zustand für die drei Phasen die drei Widerstände 6,8 µΩ, 6,3 µΩ, 6,0 µΩ. Ergibt sich eine signifikante Verschlechterung des elektrischen Widerstands, d.h. eine Erhöhung des Widerstandswerts, so bedeutet dieses eine Abnutzung der entsprechenden Phase. Beispielsweise kann eine Erhöhung von mehr als 3 µΩ im Vergleich zum fabrikneuen Zustand als beginnende Abnutzung und von mehr als 6 µΩ im Vergleich zum fabrikneuen Zustand als wartungspflichtiger Zustand erkannt werden. Der Abnutzungswert kann in diesem Beispiel also als Erhöhung des elektrischen Widerstands gegenüber einem Referenzwert (z.B. Neuzustand) definiert werden.For example, according to the standard IEC 62271-100, section 6.4, a current of 100 A and 50 kHz to 500 kHz can be impressed at an ambient temperature of 21 ° C. For example, for the brand-new condition for the three phases, the three resistances are 6.8 µΩ, 6.3 µΩ, and 6.0 µΩ. If there is a significant deterioration in the electrical resistance, i.e. an increase in the resistance value, this means that the corresponding phase is worn out. For example, an increase of more than 3 µΩ compared to the brand new condition can be recognized as beginning wear and tear and of more than 6 µΩ compared to the brand new condition as a condition requiring maintenance. In this example, the wear value can be defined as an increase in electrical resistance compared to a reference value (e.g. new condition).

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung ist die Schaltanordnung mehrphasig ausgebildet, wobei für jede Phase eine Vakuumkammer mit Kontakten vorgesehen ist, und wobei die Überwachungseinrichtung eine Gleichlaufbestimmungseinrichtung aufweist, die ausgebildet ist, für jede Phase einen zeitlichen Verlauf eines Spannungsabfalls über die jeweiligen Kontakte zu ermitteln, und anhand einer zeitlichen Verzögerung im Verlauf des Spannungsabfalls einer Phase gegenüber einem Spannungsverlauf mindestens einer anderen Phase eine Abnutzung der Kontakte zu erkennen.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the switching arrangement is multi-phase, a vacuum chamber with contacts being provided for each phase, and the monitoring device having a synchronization determination device which is designed to provide a time profile of a voltage drop across the respective contacts for each phase determine, and using a time delay in the course of the voltage drop of a phase compared to a voltage course of at least one other phase to recognize wear of the contacts.

Dies ist ein Vorteil, weil eine ungleichmäßige Abnutzung des Leistungsschalters in Bezug auf seine Phasen erkannt werden kann. Dabei gibt diejenige Vakuumkammer, die am meisten abgenutzt ist, den Ausschlag für eine Gesamtabnutzung des mehrphasigen Schalters.This is an advantage because uneven wear of the circuit breaker with respect to its phases can be detected. The vacuum chamber that is most worn is the decisive factor for overall wear of the multiphase switch.

Mit anderen Worten werden bei dieser Ausführungsform Laufzeitunterschiede der beweglichen Kontakte zwischen den z.B. drei Phasen bei der Kontakttrennung gemessen. Dies erfolgt beispielsweise durch eine Spannungsmessung mit kapazitiven oder ohmschen Teilern oder induktiven Wandlern vor und nach der Vakuumkammer. Anschließend erfolgt eine Differenzbildung zwischen den gemessenen Spannungen. Dabei gibt es z.B. im zeitlichen Verlauf jeweils drei mögliche Spannungswerte bzw. Plateaus:

1. Spannungsabfall über dem geschlossenen Kontakt,
2. Lichtbogenspannung über dem Kontakt unmittelbar nach Trennung,
3. Spannung über dem offenen Kontakt nach Lichtbogenlöschung.

In other words, in this embodiment, differences in transit time of the movable contacts between the three phases, for example, are measured when the contacts are separated. This is done, for example, by measuring the voltage with capacitive or ohmic dividers or inductive converters before and after the vacuum chamber. A difference is then formed between the measured voltages. There are, for example, three possible voltage values or plateaus over time:

1. Voltage drop across the closed contact,
2. arc voltage across the contact immediately after disconnection,
3. Voltage across the open contact after arc extinction.

Insbesondere der Statuswechsel zwischen 1. und 2. kann mit Vorteil für jede Phase ausgewertet werden und gibt Aufschluss, welche Phase Verklebeerscheinungen aufweist und welche Zeitverzögerung dadurch auftritt. Hieraus kann eine Abnutzung abgeschätzt werden.In particular, the status change between 1st and 2nd can advantageously be evaluated for each phase and provides information as to which phase shows signs of sticking and which time delay occurs as a result. Wear can be estimated from this.

Bevorzugt können aus den Messwerten bezüglich des Gleichlaufs der beweglichen Kontakte der Phasen (beim Trennen) Informationen gewonnen werden, die in einer Zusammenschau mit einer Widerstandsmessung pro Phase (in geschlossenem Zustand des Schalters) bewertet werden können. Beispielsweise kann eine Korrelation zwischen den mit beiden unterschiedlichen Ausführungsformen geschätzten Abnutzungswerten ermittelt werden. Auf diese Weise kann die Zuverlässigkeit der Abnutzungswerte erhöht werden.Information can preferably be obtained from the measured values with regard to the synchronism of the movable contacts of the phases (during separation), which information can be evaluated in a synopsis with a resistance measurement per phase (in the closed state of the switch). For example, a correlation between the wear values estimated with the two different embodiments can be determined. In this way, the reliability of the wear values can be increased.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung weist die Schaltanordnung einen Vakuum-Leistungsschalter auf.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the switching arrangement has a vacuum circuit breaker.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung weist die Schaltanordnung einen Vakuum-Schütz auf.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the switching arrangement has a vacuum contactor.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung weist die Schaltanordnung einen Vakuum-Lastschalter auf.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the switching arrangement has a vacuum load switch.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung ist die Schaltanordnung für Niederspannung unter 7 kV ausgebildet.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the switching arrangement is designed for low voltages below 7 kV.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung ist die Schaltanordnung für Mittelspannung zwischen 7 kV und 52 kV ausgebildet.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the switching arrangement is designed for medium voltage between 7 kV and 52 kV.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Schaltanordnung ist die Schaltanordnung für Hochspannung über 52 kV ausgebildet.In a further preferred embodiment of the switching arrangement according to the invention, the switching arrangement is designed for high voltages above 52 kV.

Ferner stellt sich an die Erfindung die Aufgabe, ein Verfahren zum Zuschalten von Kondensatorbatterien anzugeben, das bei Einsatz einer Blindleistungskompensation eine vergleichsweise lange Betriebsdauer einer Schaltanordnung mit Vakuum-schalttechnik gestattet.Another object of the invention is to provide a method for switching on Specify capacitor banks that allow a comparatively long operating time of a switching arrangement with vacuum switching technology when using reactive power compensation.

Die Erfindung löst diese Aufgabe durch ein Verfahren gemäß Anspruch 9. Bevorzugte Ausführungsformen ergeben sich aus den Ansprüchen 10 bis 15. Es ergeben sich dabei für das erfindungsgemäße Verfahren und seine Ausführungsformen jeweils sinngemäß die gleichen Vorteile wie eingangs für die erfindungsgemäße Schaltanordnung erläutert.The invention solves this problem by a method according to claim 9. Preferred embodiments result from claims 10 to 15. The same advantages arise for the method according to the invention and its embodiments as explained at the beginning for the switching arrangement according to the invention.

Zur besseren Erläuterung der Erfindung zeigen in schematischer Darstellung die

1 ein erstes Ausführungsbeispiel der Erfindung, und
2 ein zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung, und
3 ein drittes Ausführungsbeispiel der Erfindung, und
4 eine sogenannte „back-to-back“ Konfiguration.

For a better explanation of the invention show in a schematic representation

1 a first embodiment of the invention, and
2 a second embodiment of the invention, and
3 a third embodiment of the invention, and
4th a so-called "back-to-back" configuration.

Die 1 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Schaltanordnung 1. Eine Mittelspannungsleitung 2 ist mit einer Vakuumkammer 3 mit zwei Kontakten 4, 5, 7, 8 verbunden. Innerhalb der Vakuumkammer 3 liegen Gase 16 nicht mehr oder mit sehr geringem Druck vor. Ein Festkontakt 4, 7 weist einen ersten Stangenabschnitt 4 und einen ersten scheibenförmigen Kontaktabschnitt 7 auf. Ein beweglicher Kontakt 5, 8 weist einen zweiten Stangenabschnitt 5 und einen zweiten Kontaktabschnitt 8 auf. Der bewegliche Kontakt 5,8 ist im dargestellten Zustand mit einer Trennstrecke 6 vom Festkontakt 4,7 beabstandet. Das Gehäuse der Vakuumkammer 3 weist einen Metallfaltenbalg 10 auf, der mechanisch verschiebefest mit dem beweglichen Kontakt 5,8 bzw. dem zweiten Stangenabschnitt 5 verbunden ist. Bei den Kontaktabschnitten 7, 8 handelt es sich um Radialmagnetfeldkontakte, bei denen Schlitze 9 zur Lenkung eines Lichtbogens vorgesehen sind. Mit dem beweglichen Kontakt 5, 8 ist eine Abgangsleitung 11 verbunden. Eine Trennvorrichtung 12 ist in der Lage, den beweglichen Kontakt 5, 8 entlang einer Längsachse (durch die Schaltanordnung 1) um die Trennstrecke 6 zu bewegen.the 1 shows a first embodiment of a switching arrangement according to the invention 1 . A medium voltage line 2 is with a vacuum chamber 3 with two contacts 4th , 5 , 7th , 8th tied together. Inside the vacuum chamber 3 lie gases 16 no longer or with very little pressure. A permanent contact 4th , 7th has a first rod section 4th and a first disc-shaped contact portion 7th on. A moving contact 5 , 8th has a second rod section 5 and a second contact portion 8th on. The movable contact 5.8 is in the state shown with an isolating distance 6th spaced from the fixed contact 4.7. The housing of the vacuum chamber 3 has a metal bellows 10 on, the mechanically non-displaceable with the movable contact 5.8 or the second rod section 5 connected is. At the contact sections 7th , 8th are radial magnetic field contacts with slots 9 are provided for directing an arc. With the moving contact 5 , 8th is an outgoing line 11 tied together. A separator 12th is able to make the moving contact 5 , 8th along a longitudinal axis (through the switching arrangement 1 ) around the isolating distance 6th to move.

In dem dargestellten einfachen ersten Ausführungsbeispiel ist eine Überwachungseinrichtung 14, 15, 17 - 23 vorgesehen. Auf dem zweiten Stangenabschnitt 5 des beweglichen Kontakts 5, 8 sind Markierungen 70 vorgesehen. Anhand der Markierungen kann mittels einer Kamera 15 eine Bewegung des beweglichen Kontakts 5, 8 festgestellt werden. Die Überwachungseinrichtung 14 kann dabei Prozessormittel aufweisen, um lokal mittels Mustererkennungssoftware anhand der Markierungen festzustellen, wie groß der Kontakthub bzw. die Trennstrecke 6 maximal ist. Dieser Wert für den Kontakt in mm kann über eine Datenleitung 17 an eine Kommunikationseinrichtung 18 übermittelt werden, die z.B. per Mobilfunk 19 (oder alternativ das Internet) den gemessenen Kontakthub mit einem Zeitstempel in eine Cloud 20 übermittelt. In der Cloud 20 deutet das Diagramm 13 an, dass sich der Kontakthub über die Zeit durch Verkleben und Wiederaufreißen der Kontakte im Inneren der Vakuumkammer 3 verringert. Es kann sich dabei um Softwarekomponenten handeln, die diese Analyse auf verteilten Rechner- und Datenspeicherressourcen in der Cloud durchführen. Die Analyse über den zeitlichen Verlauf des Kontakthubs bzw. dessen Verschlechterung kann mittels einer Datenleitung 21, beispielsweise über das Internet, an einen Desktop-Rechner 22 mit einer Anzeige-Einrichtung 23, wie etwa einem Monitor, übertragen werden. Insbesondere kann durch die Analyse in der Cloud oder lokal auf dem Rechner 22 ermittelt werden, wenn ein Schwellenwert für den gerade noch zulässigen Kontakthub der Vakuumkammer 3 unterschritten wird. Dies deutet eine starke Abnutzung an, so dass eine Wartung betreiberseitig ausgelöst werden kann. Damit bildet die Cloud 20 mit den genannten Softwarekomponenten, der Kommunikationsverbindung 21 und dem Rechner 22, 23 eine Wartungsplanungs-Einrichtung 20 - 23 für die Schaltanordnung 1 mit der Vakuumkammer 3.In the simple first exemplary embodiment shown, there is a monitoring device 14th , 15th , 17-23 intended. On the second pole section 5 of the moving contact 5 , 8th are markings 70 intended. The markings can be used with a camera 15th a movement of the movable contact 5 , 8th to be established. The monitoring device 14th can have processor means in order to determine locally by means of pattern recognition software on the basis of the markings how large the contact stroke or the separation distance 6th is maximum. This value for the contact in mm can be sent via a data line 17th to a communication device 18th be transmitted, for example by cellular network 19th (or alternatively the Internet) the measured contact hub with a time stamp in a cloud 20th transmitted. In the cloud 20th interprets the diagram 13th indicates that the contact stroke increases over time by sticking and tearing open the contacts inside the vacuum chamber 3 decreased. It can be software components that perform this analysis on distributed computing and data storage resources in the cloud. The analysis of the time course of the contact stroke or its deterioration can be carried out by means of a data line 21 , for example via the Internet, to a desktop computer 22nd with a display device 23 such as a monitor. In particular, through the analysis in the cloud or locally on the computer 22nd can be determined when a threshold value for the just permissible contact stroke of the vacuum chamber 3 is fallen below. This indicates severe wear, so that maintenance can be initiated by the operator. This creates the cloud 20th with the mentioned software components, the communication link 21 and the calculator 22nd , 23 a maintenance planning facility 20th - 23 for the switching arrangement 1 with the vacuum chamber 3 .

Die 2 zeigt ein anderes Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei der die Überwachungseinrichtung als eine Widerstandsbestimmungseinrichtung 60 ausgebildet ist. Es wird mittels einer Stromeinpräge-Einrichtung 24 ein hochfrequenter Strom auf die Mittelspannungsseite 2 eingeprägt. Der eingeprägte Strom wird nach Durchfließen der mit geschlossenen Kontakten 4, 5, 7, 8 dargestellten Vakuumkammer wieder ausgekoppelt (nicht dargestellt). Ein Spannungsabfall über der Vakuumkammer 3 wird mittels eines Spannungsmessgeräts 27 gemessen, das an den Kontaktpunkten 25, 26 mit der Zuleitung 2 bzw. der Ausgangsleitung 11 verbunden ist.the 2 Fig. 3 shows another embodiment of the invention in which the monitoring device is used as a resistance determining device 60 is trained. It is made by means of a current injection device 24 a high frequency current on the medium voltage side 2 imprinted. The impressed current is after flowing through the with closed contacts 4th , 5 , 7th , 8th shown vacuum chamber decoupled again (not shown). A voltage drop across the vacuum chamber 3 is made using a voltmeter 27 measured that at the contact points 25th , 26th with the supply line 2 or the output line 11 connected is.

Aus dem bekannten Strom und dem gemessenen Spannungsabfall kann mittels der Widerstandsbestimmungs-Einrichtung 60 ein elektrischer Widerstand der Kontakte 7, 8 bestimmt werden. Erhöht sich dieser stark, so ist von einer Abnutzung auszugehen.From the known current and the measured voltage drop, by means of the resistance determination device 60 an electrical resistance of the contacts 7th , 8th to be determined. If this increases sharply, wear is to be assumed.

Die 3 zeigt ein drittes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Schaltanordnung. Die Schaltanordnung 1 ist mehrphasig mit den Phasen L1, L2, L3 ausgebildet. Jede der drei Phasen weist eine Vakuumkammer 3 mit Kontakten 4, 5, 7, 8 auf. Für jede Phase L1, L2, L3 ist ein Spannungsmessgerät 34, 35, 36 vorgesehen, um einen Spannungsabfall über der Vakuumschalteinrichtung bzw. Vakuumkammer 3 beim Trennen der Kontakte 4, 5, 7, 8 zu messen.the 3 shows a third embodiment of a switching arrangement according to the invention. The switching arrangement 1 is multi-phase with the phases L1 , L2 , L3 educated. Each of the three phases has a vacuum chamber 3 with contacts 4th , 5 , 7th , 8th on. For every phase L1 , L2 , L3 is a tension meter 34 , 35 , 36 provided to avoid a voltage drop across the vacuum switching device or vacuum chamber 3 when separating contacts 4th , 5 , 7th , 8th to eat.

Dargestellt ist für jede der Phasen L1, L2, L3 ein Zeitpunkt beim Öffnen, bei dem für die Phasen L1, L2 bereits eine Trennstrecke 32 zwischen den Hilfslinien 30, 31 ausgebildet ist. Die Phase L3 jedoch weist einen beweglichen Kontakt 5, 8 auf, der erst eine Trennstrecke 33 ausgebildet hat. Trennstrecke 33 ist dabei kleiner als die Trennstrecke 32, die bei den Phasen L1 und L2 ausgebildet wurde. Mit anderen Worten eilt der bewegliche Kontakt 5, 8 der Phasen L3 den anderen beiden Phasen nach.Is shown for each of the phases L1 , L2 , L3 a time at opening at which for the phases L1 , L2 already an isolating distance 32 between the guidelines 30th , 31 is trained. The phase L3 however, has a movable contact 5 , 8th on, which is only a separating distance 33 has trained. Isolating distance 33 is smaller than the isolating distance 32 that at the stages L1 and L2 was trained. In other words, the moving contact hurries 5 , 8th of the phases L3 the other two phases.

Dieser mangelnde Gleichlauf der drei Phasen L1, L2, L3 kann mittels einer Gleichlaufbestimmungseinrichtung 62 erfasst werden, die über Datenleitungen 61 jeweils mit den Spannungsmesseinrichtungen 34, 35, 36 verbunden ist. Für jede Phase ist zusätzlich abgebildet, wie sich die gemessene Spannung im zeitlichen Verlauf ausgehend von einer Spannung U_G im geschlossenen Zustand hin bis zu einer Maximalspannung im geöffneten Zustand Umax entwickelt. Zwischen diesen beiden Zuständen liegt durch den Lichtbogen beim Trennen kurzzeitig jeweils ein Spannungsverlauf vor (hier stark schematisch und zum besseren Verständnis übertrieben dargestellt), der durch die Spannungsverläufe 37, 38, 39 für die drei Phasen L1, L2, L3 angedeutet wird.This lack of synchronization of the three phases L1 , L2 , L3 can by means of a synchronization determination device 62 recorded via data lines 61 each with the voltage measuring devices 34 , 35 , 36 connected is. For each phase it is also shown how the measured voltage develops over time, starting from a voltage U _G in the closed state up to a maximum voltage in the open state Umax. Between these two states, a voltage curve is briefly present as a result of the arc during separation (shown here in a highly schematic and exaggerated manner for a better understanding), which is caused by the voltage curves 37 , 38 , 39 for the three phases L1 , L2 , L3 is indicated.

Insbesondere der Übergang beim Trennen der Kontakte zum Zeitpunkt t₁ bis zum Erlöschen des Lichtbogens zum Zeitpunkt t₂, hier mit Δt gekennzeichnet, ist charakteristisch für eine Abnutzung der Vakuumkammer bzw. der Kontakte.In particular, the transition when the contacts are separated at time t ₁ until the arc is extinguished at time t ₂ , here marked with Δt, is characteristic of wear and tear on the vacuum chamber or the contacts.

Die stark abgenutzte Phase L3, bei der der bewegliche Kontakt im Vergleich zu den anderen Phasen L1, L2 nachläuft, weist erst zum Zeitpunkt t_v ein Ansteigen der Spannung über die Spannung im geschlossenen Zustand U_G auf. Damit ergibt sich ein zeitlicher Versatz Δt_x im Vergleich zu den beiden anderen Phasen L1, L2. Bis zum Erreichen der maximalen Spannung Umax vergeht eine Zeitspanne Δt_v = t₃ - t_v > Δt.The heavily worn phase L3 where the moving contact compared to the other phases L1 , L2 runs after, only points at the point in time t _v an increase in the voltage above the voltage in the closed state U _G. This results in a time offset Δt _x compared to the other two phases L1 , L2 . _{A period of time Δt v} = t ₃ −t _v > Δt elapses until the maximum voltage Umax is reached.

Diese zeitliche Verzögerung ΔTx ist ein Abnutzungswert, der es gestattet, Schäden an den Kontakten 4, 5, 7, 8 durch Vergleich des Gleichlaufs für die drei Phasen zu erkennen.This time delay ΔTx is a wear value that allows damage to the contacts 4th , 5 , 7th , 8th by comparing the synchronization for the three phases.

Die 4 zeigt zur Verdeutlichung eines Anwendungsfalls der Erfindung, in stark vereinfachter Darstellung, eine so genannte „back-to-back“ Konfiguration beim parallelen Zuschalten zusätzlicher Kondensatorbänke 53, 54, 55 auf drei Phasen einer Mittelspannungsleitung L1, L2, L3, mit der bereits jeweils Widerstände 40, 41, 42 und Kondensatorbatterien 43, 44, 45 verbunden sind.the 4th shows, in a greatly simplified representation, a so-called “back-to-back” configuration when additional capacitor banks are connected in parallel to illustrate an application of the invention 53 , 54 , 55 on three phases of a medium voltage line L1 , L2 , L3 , with which already each resistors 40 , 41 , 42 and capacitor banks 43 , 44 , 45 are connected.

In einer erfindungsgemäßen Schaltanordnung 1 sind die drei Vakuumkammern durch Schalter 50, 51, 52 angedeutet. Werden diese Schalter geschlossen, so fließen durch das parallele Zuschalten der weiteren Kondensatorbatterien 53, 54, 55 kurzzeitig so hohe Ströme, dass die jeweiligen Kontakte der jeweiligen Phase verklebt bzw. verschweißt werden können. Beim Wiederaufreißen bzw. Trennen der Schalter entstehen Oberflächenschäden, die das Schaltverhalten negativ beeinflussen und eine Wartung erforderlich machen können.In a switching arrangement according to the invention 1 are the three vacuum chambers by switch 50 , 51 , 52 indicated. If these switches are closed, the parallel connection of the other capacitor banks causes a flow 53 , 54 , 55 Short-term currents so high that the respective contacts of the respective phase can be glued or welded. If the switches are torn open again or separated, surface damage occurs, which negatively affects the switching behavior and can make maintenance necessary.

Eine Überwachungseinrichtung im Sinne der Erfindung ist mit Messeinrichtungen 56, 57, 58 für jede Phase angedeutet. Beispielsweise kann für jede Phase an beiden Seiten der Schaltanordnung 1 eine Spannung gegenüber Erde gemessen und durch Differenzbildung in den Einrichtungen 56, 57, 58 ein Spannungsverlauf, wie in 3 dargestellt, für jede Phase bestimmt werden. Aus mangelndem Gleichlauf der drei Schalter 50, 51, 52 kann auf eine Abnutzung der Schaltanordnung 1 geschlossen werden.A monitoring device in the sense of the invention is with measuring devices 56 , 57 , 58 indicated for each phase. For example, for each phase on both sides of the switching arrangement 1 a voltage with respect to earth is measured and by difference formation in the facilities 56 , 57 , 58 a voltage curve, as in 3 can be determined for each phase. Due to the lack of synchronization of the three switches 50 , 51 , 52 can indicate wear and tear on the switching assembly 1 getting closed.

Claims

Switching arrangement (1), comprising a vacuum chamber (3) with two contacts (4,5,7,8), and a separating device (12) which is formed between the contacts (4,5,7,8) when switching off a Establish isolating distance (6), characterized in that a monitoring device (14, 15, 17-23, 60, 62) is designed to determine a wear value of the contacts (4, 5, 7, 8) during operation.

Switching arrangement (1) according to Claim 1 , characterized in that a maintenance planning device (20-23) is designed to trigger maintenance if a threshold value for the wear value is violated.

Switching arrangement (1) according to Claim 1 or 2 , characterized in that the monitoring device (14,15,17-23,60,62) has a contact stroke measuring device (14,15) for detecting a position of a movable contact (5,8).

Switching arrangement (1) according to Claim 3 , characterized in that the contact stroke measuring device (14, 15) has a camera (15).

Switching arrangement (1) according to Claim 3 or 4th , characterized in that the contact stroke measuring device (14, 15) has a device for laser distance measurement.

Switching arrangement (1) according to one of the Claims 3 until 5 , characterized in that the Kontakthubmesseinrichtung (14,15) has a cable travel sensor.

Switching arrangement (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the monitoring device (14,15,17-23,60,62) has a resistance determination device (60) which is designed to establish an electrical resistance via the contacts by means of one of one Current injection device (24) to determine capacitively impressed current.

Switching arrangement (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the switching arrangement (1) is multi-phase (L1, L2, L3), with a vacuum chamber (3) with contacts (4 , 5, 7, 8) is provided, and that the monitoring device (14, 15, 17-23, 60, 62) has a synchronization determination device (62) which is designed to have a temporal one for each phase (L1, L2, L3) To determine the course of a voltage drop (37,38,39) across the respective contacts (4,5,7,8), and on the basis of a time delay (Δt _x ) in the course of the voltage drop of a phase (39) compared to a voltage course of at least another Phase (37,38) a wear of the contacts (4,5,7,8) can be seen.

Procedure for connecting capacitor banks, with the following steps: - Provision of a switching arrangement (1) which has a vacuum chamber (3) with two contacts (4,5,7,8) and a separating device (12) for producing a separating distance (6) between the contacts (4,5,7, 8) when switched off, - Monitoring the switching arrangement during operation by means of a monitoring device (14,15,17-23,60,62) for determining a wear value of the contacts (4,5,7,8).

Procedure according to Claim 9 , characterized in that maintenance is triggered by means of a maintenance planning device (20-23) if a threshold value for the wear value is violated.

Procedure according to Claim 9 or 10 , characterized in that a position of a movable contact (5, 8) is detected by means of a contact stroke measuring device (14, 15) of the monitoring device (14, 15, 17-23, 60, 62).

Procedure according to Claim 11 , characterized in that a camera (15) is used for the contact stroke measuring device (14, 15).

Procedure according to Claim 11 or 12th , characterized in that a device for laser distance measurement is used for the contact stroke measuring device (14, 15).

Method according to claim one of the Claims 9 until 13th , characterized in that a resistance determination device (60) is used for the monitoring device (14,15,17-23,60,62) in order to determine an electrical resistance across the contacts by means of a current impressed capacitively by a current impressing device (24).

Method according to claim one of the Claims 9 until 14th , characterized in that the switching arrangement (1) is multi-phase (L1, L2, L3), a vacuum chamber (3) with contacts (4,5,7,8) being used for each phase (L1, L2, L3) , and that a synchronization determination device (62) is used for the monitoring device (14,15,17-23,60,62) in order to determine a time profile of a voltage drop (37,38,39) for each phase (L1, L2, L3) to determine via the respective contacts (4,5,7,8), and on the basis of a time delay (Δt _x ) in the course of the voltage drop of a phase (39) compared to a voltage course of at least one other phase (37,38) wear of the contacts (4,5,7,8) can be seen.