DE102019218819A1 - Micromechanical-optical component and method for manufacturing a micromechanical-optical component - Google Patents

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Daniel Solga
Stefan Pinter
Jochen Reinmuth
Stefan Majoni
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Robert Bosch GmbH
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein mikromechanisch-optisches Bauteil mit einem Glasdeckel (6), einem Abstandshalter (40) und einem Bauteilsubstrat (2),- wobei der Abstandshalter eine Ausnehmung aufweist, welche eine Kaverne (28) bildet, die von dem Glasdeckel und dem Bauteilsubstrat begrenzt ist,- wobei in der Kaverne ein optisches Halbleiterbauelement (1) angeordnet ist, welches an dem Bauteilsubstrat befestigt ist und dazu eingerichtet ist, optische Strahlung durch den Glasdeckel zu senden,- wobei der Abstandshalter und das Bauteilsubstrat mittels einer ersten stoffschlüssigen Verbindung (5) miteinander verbunden sind,- wobei der Glasdeckel und der Abstandshalter mittels einer zweiten stoffschlüssigen Verbindung (13) miteinander verbunden sind,- wobei an der ersten stoffschlüssigen Verbindung eine erste Absorptionsschicht (12) und an der zweiten stoffschlüssigen Verbindung eine zweite Absorptionsschicht (14) angeordnet ist.Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Herstellung eines mikromechanisch-optischen Bauteils.The invention relates to a micromechanical-optical component with a glass cover (6), a spacer (40) and a component substrate (2), - the spacer having a recess which forms a cavity (28) that is separated from the glass cover and the component substrate is limited, - wherein an optical semiconductor component (1) is arranged in the cavern, which is attached to the component substrate and is set up to send optical radiation through the glass cover, - wherein the spacer and the component substrate by means of a first material connection (5 ) are connected to one another, - the glass cover and the spacer being connected to one another by means of a second material connection (13), - A first absorption layer (12) being arranged on the first material connection and a second absorption layer (14) being arranged on the second material connection The invention also relates to a method of making a micro mechanical-optical component.

Description

Stand der TechnikState of the art

Die Erfindung betrifft ein mikromechanisch-optisches Bauteil in Form eines mikromechanisch verpackten optischen Halbleiterbauelements und ein zugehöriges Herstellungsverfahren.The invention relates to a micromechanical-optical component in the form of a micromechanically packaged optical semiconductor component and an associated manufacturing method.

Viele optisch aktive Bauelemente müssen in einer hermetischen Atmosphäre betrieben werden. Einige Laserdioden müssen beispielsweise in einer von Feuchte und organischen Bestandteilen freien Umgebung betrieben werden, um deren Lebensdauer nicht signifikant zu reduzieren. Aktive betriebene Mikrospiegel müssen zum Teil bei Unterdruck betrieben werden, um die Dämpfung durch das umgebende Gas zu vermeiden. Oder die optischen Bauteile müssen vor Verschmutzung oder Partikelanlagerung geschützt werden.Many optically active components have to be operated in a hermetic atmosphere. Some laser diodes, for example, have to be operated in an environment free of moisture and organic components in order not to significantly reduce their service life. Active micromirrors operated sometimes have to be operated at negative pressure in order to avoid attenuation by the surrounding gas. Or the optical components have to be protected from contamination or the accumulation of particles.

Um das zu erreichen, können die optischen Bauteile einzeln in einem Gehäuse, das mit mindesten einem optischen Fenster versehen ist, verpackt werden. Oft werden dazu Metallgehäuse verwendet, die einerseits Keramikdurchführungen besitzen, um elektrische Signale zum optischen Bauteil führen zu können und andererseits mindestens ein Glasfenster besitzen, um ein optischen Signal zum optischen Bauteil hinein oder auch heraus führen zu können. Wichtig dabei ist oft, dass das optische Bauteil meist sehr genau relativ zum Gehäuse montiert werden muss und dass auch das Fenster relativ genau zum optischen Bauteil justiert werden muss.In order to achieve this, the optical components can be packaged individually in a housing which is provided with at least one optical window. Metal housings are often used for this purpose, which on the one hand have ceramic bushings in order to be able to lead electrical signals to the optical component and on the other hand have at least one glass window in order to be able to lead an optical signal in or out of the optical component. It is often important that the optical component usually has to be mounted very precisely relative to the housing and that the window must also be adjusted relatively precisely to the optical component.

Nachteilig an diesem Konzept ist, dass bekannte Metallgehäuse meiste sehr groß und teuer sind. Weiter nachteilig ist, dass die Justage-Genauigkeit bei derartigen Systemen meist sehr ungenau ist.The disadvantage of this concept is that known metal housings are mostly very large and expensive. Another disadvantage is that the adjustment accuracy in such systems is usually very imprecise.

Bekannt sind weiter mikromechanische Beschleunigungssensoren und Drehratensensoren und deren Herstellungsverfahren. Die Sensoren werden auf Wafer-Level, das heißt in großer Anzahl auf einem Siliziumsubstrat (Wafer) parallel miteinander hergestellt und auch auf Wafer-Level, meist über ein Bondverfahren, bei dem ein weiter Wafer auf den Wafer mit den Sensoren aufgebracht wird, in einer hermetisch abgeschlossenen Kaverne verschlossen. Der Herstellungsprozess ist relativ kostengünstig, da die einzelnen, an sich teuren, Arbeitsschritte auf Wafer-Level, also gleichzeitig für ein Ensemble von vielen einzelnen Sensoren gemacht werden. Die üblicherweise verwendeten Bondverfahren benötigen eine hohe Bondtemperatur ermöglichen aber gleichzeitig auch eine hermetische und sehr robuste Verbindung. Es wäre vorteilhaft, wenn optisch aktive Bauelemente ebenfalls auf Wafer-Level hermetisch und robust verschließbar wären. Eine einfache Nutzung dieser Prozess für optische Bauelement ist aber nicht möglich da die optisch aktiven Bauelemente normalerweise die hohen Bondtemperaturen nicht überstehen.Micromechanical acceleration sensors and yaw rate sensors and their production methods are also known. The sensors are manufactured at the wafer level, i.e. in large numbers on a silicon substrate (wafer) in parallel with one another, and also at the wafer level, usually via a bonding process in which a further wafer is applied to the wafer with the sensors in one Hermetically sealed cavern. The manufacturing process is relatively inexpensive, since the individual, per se expensive, work steps are carried out at the wafer level, i.e. simultaneously for an ensemble of many individual sensors. The commonly used bonding processes require a high bonding temperature, but at the same time enable a hermetic and very robust connection. It would be advantageous if optically active components could also be hermetically and robustly sealed at wafer level. A simple use of this process for optical components is not possible, however, since the optically active components normally cannot withstand the high bonding temperatures.

Aufgabetask

Es wird eine Anordnung und ein Herstellungsverfahren gesucht, um in einem Waferverbund, optische Bauteile hermetisch und robust zu verpacken. Das Verfahren soll dabei ermöglichen die optischen Bauteile hermetisch zu schützen und gleichzeitig soll die thermische Belastung auf die optischen Bauteile während des Herstellungsverfahrens möglichst gering gehalten werden.An arrangement and a manufacturing method are sought to hermetically and robustly pack optical components in a wafer assembly. The method should make it possible to hermetically protect the optical components and at the same time the thermal load on the optical components should be kept as low as possible during the manufacturing process.

Vorteile der ErfindungAdvantages of the invention

Die Erfindung betrifft ein mikromechanisch-optisches Bauteil mit einem Glasdeckel, einem Abstandshalter und einem Bauteilsubstrat, wobei der Abstandshalter eine Ausnehmung aufweist, welche eine Kaverne bildet, die von dem Glasdeckel und dem Bauteilsubstrat begrenzt ist, wobei in der Kaverne ein optisches Halbleiterbauelement angeordnet ist, welches an dem Bauteilsubstrat befestigt ist und dazu eingerichtet ist, optische Strahlung durch den Glasdeckel zu senden, wobei der Abstandshalter und das Bauteilsubstrat mittels einer ersten stoffschlüssigen Verbindung miteinander verbunden sind, wobei der Glasdeckel und der Abstandshalter mittels einer zweiten stoffschlüssigen Verbindung miteinander verbunden sind, wobei an der ersten stoffschlüssigen Verbindung eine erste Absorptionsschicht und an der zweiten stoffschlüssigen Verbindung eine zweite Absorptionsschicht angeordnet ist. Die Vorrichtung ist einfach aufgebaut.The invention relates to a micromechanical-optical component with a glass cover, a spacer and a component substrate, the spacer having a recess which forms a cavity which is delimited by the glass cover and the component substrate, an optical semiconductor component being arranged in the cavity, which is attached to the component substrate and is set up to send optical radiation through the glass cover, the spacer and the component substrate being connected to one another by means of a first material connection, the glass cover and the spacer being connected to one another by means of a second material connection, wherein a first absorption layer is arranged on the first material connection and a second absorption layer is arranged on the second material connection. The device has a simple structure.

Vorteilhaft ist das Bauteilsubstrat eine Keramik ist. Vorteilhaft lässt sich das Bauteil daran gut kontaktieren und Wärme ableiten.The component substrate is advantageously a ceramic. The component can advantageously be contacted well and heat can be dissipated.

Eine vorteilhafte Ausgestaltung des mikromechanisch-optisches Bauteils sieht vor, dass die erste stoffschlüssige Verbindung oder auch die zweite stoffschlüssige Verbindung ein Seal Glas Bond ist. Vorteilhaft lässt sich so eine hermetische Kaverne schaffen.An advantageous embodiment of the micromechanical-optical component provides that the first material connection or also the second material connection is a seal glass bond. A hermetic cavern can advantageously be created in this way.

Vorteilhaft ist, dass, die Kaverne hermetisch dicht abgeschlossen ist. Dadurch ist das optische Halbleiterbauelement vor Staub, Feuchtigkeit und weiteren Umwelteinflüssen geschützt.It is advantageous that the cavern is hermetically sealed. As a result, the optical semiconductor component is protected from dust, moisture and other environmental influences.

Eine vorteilhafte Ausgestaltung des mikromechanisch-optisches Bauteils sieht vor, dass die erste Absorptionsschicht eine Schicht auf dem Bauteilsubstrat ist. Vorteilhaft lässt sich das Bauteilsubstrat mit nur geringem lokalen Wärmeeintrag mit dem Abstandshalter verbinden. Eine vorteilhafte Ausgestaltung des mikromechanisch-optisches Bauteils sieht vor, dass die zweite Absorptionsschicht eine Schicht auf dem Glasdeckel ist. Vorteilhaft lässt sich auch der Glasdeckel mit nur geringem lokalen Wärmeeintrag mit dem Abstandshalter verbinden.An advantageous embodiment of the micromechanical-optical component provides that the first absorption layer is a layer on the component substrate. The component substrate can advantageously be connected to the spacer with only a small amount of local heat input. See an advantageous embodiment of the micromechanical-optical component suggest that the second absorption layer is a layer on the glass lid. The glass cover can also advantageously be connected to the spacer with only a small amount of local heat input.

Eine vorteilhafte Ausgestaltung des mikromechanisch-optisches Bauteils sieht vor, dass die zweite Absorptionsschicht ein dotierter Bereich des Abstandshalters ist. Vorteilhaft lässt sich so der Glasdeckel mit einem durchsichtigem Seal Glas mit dem Abstandshalter verbinden.An advantageous embodiment of the micromechanical-optical component provides that the second absorption layer is a doped region of the spacer. In this way, the glass lid can advantageously be connected to the spacer with a transparent seal glass.

Eine vorteilhafte Ausgestaltung des mikromechanisch-optisches Bauteils sieht vor, dass an dem Abstandshalter wenigstens ein Rahmen angeordnet ist, welcher den Glasdeckel oder auch das Bauteilsubstrat umgibt. Vorteilhaft lässt sich so eine besonders robuste Vorrichtung schaffen, bei welcher besonders der Glasdeckel oder auch das Bauteilsubstrat geschützt sind, oder der Abstandshalter sehr dünn ausgeführt werden kann, was die Bauhöhe der Vorrichtung verringert.An advantageous embodiment of the micromechanical-optical component provides that at least one frame is arranged on the spacer, which frame surrounds the glass cover or also the component substrate. In this way, a particularly robust device can advantageously be created in which the glass cover or the component substrate in particular are protected, or the spacer can be made very thin, which reduces the overall height of the device.

Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Herstellung eines mikromechanisch-optischen Bauteils.The invention also relates to a method for producing a micromechanical-optical component.

In einer vorteilhaften Ausgestaltung des Verfahrens werden zunächst optische Elemente, darunter ein optisches Halbleiterbauelement auf einem einzelnen Bauteilsubstrat einzeln auf ein Spacer-Wafer mit einem ersten Durch-Licht-Schweiß-Verfahren aufgebracht. Es wird mit einem IR-Laser durch den Spacer-Wafer hindurch eine erste Bondverbindung zwischen Spacer-Wafer und Bauteilsubstrat thermisch aktiviert. Danach wird ein Glasdeckel auf den Spacer-Wafer, wiederum mit einem zweiten Durch-Licht-Schweiß-Verfahren aufgebracht. In diesem Schritt wird mit einem Laser durch den Glasdeckel hindurch eine Bondverbindung zwischen Glasdeckel und Spacer-Wafer thermisch aktiviert. Zum Schluss werden die mikromechanisch-optischen Bauteile vereinzelt.In an advantageous embodiment of the method, optical elements, including an optical semiconductor component on a single component substrate, are first applied individually to a spacer wafer using a first through-light welding method. A first bond between the spacer wafer and the component substrate is thermally activated with an IR laser through the spacer wafer. A glass cover is then attached to the spacer wafer, again using a second through-light welding process. In this step, a bond between the glass cover and the spacer wafer is thermally activated with a laser through the glass cover. Finally, the micromechanical-optical components are separated.

Durch Verwendung des Durchlicht-Schweiß-Verfahrens welches auch mit sehr schneller lokalen Pulsen mithilfe eines Laser verwendet werden kann, können einerseits sehr robuste Bondverbindungen, die hohe Temperaturen zur Aktivierung benötigen genutzt werden. Andererseits erreicht man mit der Verwendung von lokalen Pulsen nur eine Erwärmung der Bondverbindung. Elemente die zur Bondverbindung einen gewissen Abstand haben werden nicht oder fast nicht erwärmt.By using the transmitted light welding process, which can also be used with very fast local pulses with the aid of a laser, very robust bond connections that require high temperatures for activation can be used on the one hand. On the other hand, the use of local pulses only heats the bond connection. Elements that are at a certain distance from the bond connection are not or almost not heated.

Das Durchlicht-Schweiß-Verfahren wird zweifach von jeweils der gleichen Seite aus angewendet. Damit können die Bondverbindungen auch direkt übereinander angeordnet werden. Es werden sehr kleine Bauelemente möglich.The transmitted light welding process is used twice from the same side. The bond connections can thus also be arranged directly one above the other. Very small components are possible.

Das Durchlicht-Schweißen erfolgt bevorzugt von oben, damit wird es möglich die Kontaktbereiche auch direkt unter der Bondverbindung anzuordnen. Es werden sehr kleine Bauelemente möglich.
In alternativen Ausgestaltungen des Verfahrens werden aber auch das erste und zweite Durchlichtschweißen von gegenüberliegenden Seiten durchgeführt.
The transmitted light welding is preferably carried out from above, which makes it possible to arrange the contact areas directly below the bond. Very small components are possible.
In alternative refinements of the method, however, the first and second transmitted light welding are also carried out from opposite sides.

Insgesamt handelt es sich um ein einfaches Herstellungsverfahren. Das Verfahren ist vor allem kompatibel zum optischen Halbeiterbauelement und vermeidet es, dieses im Herstellungsprozess der Vorrichtung zu schädigen. Vermiedene Risiken dabei sind beispielsweise eine zu hohe Belastung durch Temperatur, Druck und aggressive Medien. Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht eine genaue Justage des optischen Halbleiterbauelements zum Abstandshalter oder Spacer-Wafer und damit insbesondere auch zu einer Spiegelfläche. Ebenso erlaubt es eine genaue Justage eines optischen Fensters, des Glasdeckels zum Abstandshalter. Das hergestellte Package ist schließlich sehr klein.Overall, it is a simple manufacturing process. Above all, the method is compatible with the optical semiconductor component and avoids damaging it in the manufacturing process of the device. Avoided risks include, for example, excessive exposure to temperature, pressure and aggressive media. The method according to the invention enables precise adjustment of the optical semiconductor component to the spacer or spacer wafer and thus in particular also to a mirror surface. It also allows an exact adjustment of an optical window, the glass cover to the spacer. After all, the package produced is very small.

FigurenlisteFigure list

  • Die 1 a - e zeigen in verschiedenen Stadien der Vorrichtung ein Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen mikromechanisch-optischen Bauteils in einem ersten Ausführungsbeispiel.The 1 a - e show, in various stages of the device, a method for producing a micromechanical-optical component according to the invention in a first exemplary embodiment.
  • Die 2 a und b zeigen in verschiedenen Stadien der Vorrichtung ein Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen mikromechanisch-optischen Bauteils in einem zweiten Ausführungsbeispiel.The 2 a and b show, in different stages of the device, a method for producing a micromechanical-optical component according to the invention in a second exemplary embodiment.
  • Die 3 a - d zeigen in verschiedenen Stadien der Vorrichtung ein Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen mikromechanisch-optischen Bauteils in einem dritten Ausführungsbeispiel.The 3 a - d show, in various stages of the device, a method for producing a micromechanical-optical component according to the invention in a third exemplary embodiment.
  • 4 zeigt schematisch das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines mikromechanisch-optischen Bauteils. 4th shows schematically the method according to the invention for producing a micromechanical-optical component.

Beschreibungdescription

Die 1 a - e zeigen in verschiedenen Stadien der Vorrichtung ein Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen mikromechanisch-optischen Bauteils in einem ersten Ausführungsbeispiel.The 1 a - e show, in various stages of the device, a method for producing a micromechanical-optical component according to the invention in a first exemplary embodiment.

Zunächst wird ein Spacer-Wafer 4 mit einer durchgehenden Ausnehmung 8 hergestellt (1a). Für optische Elemente, die ein Signal ausgeben oder aufnehmen, das nicht senkrecht zur Wafer-Ebene verläuft ist es günstig im Spacer-Wafer ein passives optisches Element wie einen Spiegel vorzusehen, um in einfacher Weise einen geeigneten Strahlengang zu erreichen. Beispielsweise kann über eine KOH-Ätzung eine definierte schräge Flanke in einen einkristallinen Siliziumwafer mit definierter Kristallorientierung geätzt werden, die als Spiegelflanke 9 nutzbar ist.First is a spacer wafer 4th with a continuous recess 8th produced ( 1a) . For optical elements that emit or receive a signal that does not run perpendicular to the wafer plane, it is advantageous to provide a passive optical element such as a mirror in the spacer wafer to achieve a suitable beam path in a simple manner. For example, a defined inclined flank can be etched into a monocrystalline silicon wafer with a defined crystal orientation via KOH etching, which acts as a mirror flank 9 is usable.

Die einzelnen optischen Bauteile, insbesondere ein optisches Halbleiterbauelement 1, werden nun auf einem Bauteilsubstrat 2 aufbracht. Günstig ist es ein keramisches Substrat zu verwenden, denn dieses ist kostengünstig und besitzt eine gute Wärmeleitfähigkeit. Günstig ist es ein Substrat mit elektrischen Durchkontakten zu verwenden, um früh und kostengünstig die elektrischen Zugänge zu erzeugen. Günstig ist es ein Substrat mit vorbereiteten Rückseitenkontakten 10 zu verwenden. Bevorzugt können die Bauteile auf dem Substrat schon geprüft und je nach Messwert aussortiert werden, so dass nur gute Bauteile weiterverarbeitet werden.The individual optical components, in particular an optical semiconductor component 1 , are now on a component substrate 2 brings up. It is advantageous to use a ceramic substrate because it is inexpensive and has good thermal conductivity. It is favorable to use a substrate with electrical through-contacts in order to generate the electrical accesses early and inexpensively. A substrate with prepared rear-side contacts is favorable 10 to use. Preferably, the components on the substrate can already be tested and sorted out depending on the measured value, so that only good components are further processed.

Die einzelnen optischen Bauteile werden nun auf der Rückseite des Spacer-Wafers 4 in die Ausnehmung 8 eingebracht. Das Bauteilsubstrat 2, ein Einzel-Substrat, wird in der Ausnehmung justiert und über ein Durchstrahl-Bondverfahren auf den Spacer-Wafer aufgebracht. Es wird mit einem kurzen Wärme-Puls, beispielsweise einem IR-Laser Strahl 3 eine erste stoffschlüssige Verbindung 5, eine hermetische Verbindung zwischen Spacer-Wafer und Bauteilsubstrat erzeugt (1b).The individual optical components are now on the back of the spacer wafer 4th into the recess 8th brought in. The component substrate 2 , a single substrate, is adjusted in the recess and applied to the spacer wafer using a transmission bonding process. It is done with a short heat pulse, for example an IR laser beam 3rd a first material connection 5 , creates a hermetic connection between spacer wafer and component substrate ( 1b) .

Bevorzugt wird ein Seal-Glas-Verfahren verwendet, wobei über ein Siebdruckverfahren die Bondrahmen auf den Spacer-Wafer besonders kostengünstig aufgebracht werden können.A seal-glass process is preferably used, with the bonding frames being able to be applied to the spacer wafer in a particularly cost-effective manner by means of a screen printing process.

Besonders günstig ist es, wenn auf dem Bauteilsubstrat wenigstens im Bereich der zukünftigen Bondverbindung eine erste Absorptionsschicht 12, insbesondere eine metallhaltige Schicht, angeordnet ist, um dort gezielt eine Erwärmung der Bondverbindung erreichen zu können.It is particularly favorable if a first absorption layer is provided on the component substrate at least in the area of the future bond connection 12th , in particular a metal-containing layer, is arranged in order to be able to achieve a targeted heating of the bond there.

Die Justage des Bauteilsubstrats auf dem Spacer-Wafer kann drüber erfolgen, dass ein charakteristisches Merkmal des optischen Elements auf ein charakteristisches Merkmal des Spiegels im Spacer-Wafer justiert wird. Es ist besonders günstige wenn eine Fein-Justage von der Vorderseite erfolgt. Dabei kann das Spiegelelement 9 und das optische Element 1 in der durchgehenden Ausnehmung 8 gleichzeitig beobachtet werden. So kann eine besonders hohe Justage-Genauigkeit erreicht werden.The component substrate can be adjusted on the spacer wafer by adjusting a characteristic feature of the optical element to a characteristic feature of the mirror in the spacer wafer. It is particularly advantageous if a fine adjustment is made from the front. The mirror element can 9 and the optical element 1 in the continuous recess 8th can be observed at the same time. A particularly high level of adjustment accuracy can thus be achieved.

Bevorzugt wird der neue Seal-Glas-Bondrahmen mit einem kurzen Laser-Puls aufgewärmt. Der Laser-Plus wird bevorzugt kürzer als 200 msec angewendet. Der Laserplus kann auch als Mehrfachpuls angewendet werden. Es wird bevorzugt ein Laser mit einer Wellenlänge von mehr als 600 nm verwendet.The new seal glass bond frame is preferably warmed up with a short laser pulse. The Laser-Plus is preferably used for less than 200 msec. The Laserplus can also be used as a multiple pulse. A laser with a wavelength of more than 600 nm is preferably used.

Der Laserpuls wird bevorzugt nur lokal im Bereich des neuen Seal-Glas-Bondrahmen eingebracht. Der Laser-Puls wird bevorzugt von der Vorderseite eingebracht, durchstrahlt also den Spacer-Wafer, bevor er auf den Bereich der zu schaffenden ersten stoffschlüssigen Verbindung 5 trifft.The laser pulse is preferably only applied locally in the area of the new seal glass bond frame. The laser pulse is preferably introduced from the front side, that is to say shines through the spacer wafer before it hits the area of the first material connection to be created 5 meets.

Auf den Spacer-Wafer werden einzelne Glasdeckel 6 aufgebondet (1c). Es wird also mittels eines Durchstrahl-Bondverfahrens eine zweite stoffschlüssige Verbindung 13 geschaffen. Bevorzugt wird wiederum ein Seal-Glas-BondVerfahren verwendet.Individual glass lids are placed on the spacer wafer 6th bonded ( 1c ). A second material connection is thus created by means of a transmission bonding process 13th created. Again, a seal-glass-bond process is preferably used.

Bevorzugt werden die Seal-Glas-Bondrahmen mit einem kurzen Laser-Puls aufgewärmt. Der Laser-Plus wird bevorzugt kürzer als 200 msec angewendet. Der Laserplus kann auch als Mehrfachpuls angewendet werden. Es wird bevorzugt ein Laser mit einer Wellenlänge von mehr als 600 nm verwendet.The seal glass bond frames are preferably warmed up with a short laser pulse. The Laser-Plus is preferably used for less than 200 msec. The Laserplus can also be used as a multiple pulse. A laser with a wavelength of more than 600 nm is preferably used.

Der Laserpuls 7 wird bevorzugt nur lokal im Bereich des neuen Seal-Glas-Bondrahmen eingebracht. Der Laser-Puls wird bevorzugt von der Vorderseite eingebracht.The laser pulse 7th is preferably only applied locally in the area of the new seal glass bond frame. The laser pulse is preferably introduced from the front.

Günstig ist es den Seal-Glas-Bondrahmen auf dem Spacer-Wafer aufgebringen. Dann kann bevorzugt auf der Unterseite des Glasdeckels in Bereichen des Bondrahmens 13 eine zweite Absorptionsschicht 14 aufgebracht werden, um dort gezielt eine Erwärmung der Bondverbindung erreichen zu können. Diese Schicht kann in günstiger weise auch als Maskierungsschicht in anderen Bereichen des Glasdeckels genutzt werden, um beispielsweise ungewünschte Streustrahlung aus der Kaverne zu blocken.It is advantageous to apply the seal glass bond frame to the spacer wafer. Then preferably on the underside of the glass cover in areas of the bonding frame 13th a second absorption layer 14th be applied in order to be able to achieve a targeted heating of the bond connection there. This layer can advantageously also be used as a masking layer in other areas of the glass cover, for example in order to block undesired scattered radiation from the cavity.

In einem optional weiteren Schritt können auf der Rückseite des Einzelsubstrats 2 Kontaktflächen erzeugt oder weiterverarbeitet werden (1d). Es ist beispielsweise günstig die Bauteilsubstrate zunächst mit ebenen Kontaktflächen zu versehen und dann in diesem Schritt, also nach dem Aufbonden auf den Spacer-Wafer im Waferverbund Lotkugeln 15 auf die Kontaktflächen aufzubringen. Die Lotkugeln können bei einer derartigen Reihenfolge nicht im Bondprozess geschädigt werden, ein einfacheres Handling im Bondprozess ist möglich und im Waferverbund können die Balls kostengünstig auf alle Kontaktflächen gleichzeitig aufgebracht werden.In an optional further step, on the back of the individual substrate 2 Contact surfaces are generated or further processed ( 1d ). For example, it is advantageous to first provide the component substrates with flat contact surfaces and then in this step, that is, after bonding onto the spacer wafer in the wafer assembly, solder balls 15th to apply to the contact surfaces. With such a sequence, the solder balls cannot be damaged in the bonding process, easier handling in the bonding process is possible, and in the wafer assembly the balls can be applied cost-effectively to all contact surfaces at the same time.

In einem letzten Schritt werden die Bauteile vereinzelt, indem der Spacer-Wafer gesägt wird. Aus dem Spacer-Wafer 4 entsteht ein Abstandshalter 40. Im Ergebnis ist in einem ersten Ausführungsbeispiel ein erfindungsgemäßes mikromechanisch-optisches Bauteil mit einem Glasdeckel 6, einem Abstandshalter 40 und einem Bauteilsubstrat 2 geschaffen (1e). Der Abstandshalter weist eine Ausnehmung auf, welche eine Kaverne 28 bildet, die von dem Glasdeckel und dem Bauteilsubstrat begrenzt ist, In der Kaverne ist ein optisches Halbleiterbauelement 1 angeordnet, welches an dem Bauteilsubstrat befestigt ist und dazu eingerichtet ist, entlang eines Strahlenganges 50 optische Strahlung durch den Glasdeckel zu senden. Der Abstandshalter weist dazu ein strahlumlenkendes Element in Gestalt einer Spiegelflanke 9 auf. Der Abstandshalter und das Bauteilsubstrat sind mittels einer ersten stoffschlüssigen Verbindung 5, einem Seal Glas Bond miteinander verbunden.In a final step, the components are separated by sawing the spacer wafer. From the spacer wafer 4th creates a spacer 40 . As a result, in a first embodiment, an inventive micromechanical optical component with a glass cover 6th , a spacer 40 and a component substrate 2 created ( 1e) . The spacer has a recess which forms a cavity 28 forms, which is delimited by the glass cover and the component substrate, In the cavity is an optical semiconductor component 1 arranged, which is attached to the component substrate and is set up along a beam path 50 to send optical radiation through the glass lid. For this purpose, the spacer has a beam-deflecting element in the form of a mirror flank 9 on. The spacer and the component substrate are connected by means of a first material connection 5 , bonded together with a seal glass bond.

Der Glasdeckel und der Abstandshalter mittels einer zweiten stoffschlüssigen Verbindung 13, ebenfalls einem Seal Glas Bond miteinander verbunden. An der ersten stoffschlüssigen Verbindung, hier zwischen Seal Glas und Bauteilsubstrat, ist eine erste Absorptionsschicht 12 in Form einer Beschichtung des Bauteilsubstrats angeordnet. An der zweiten stoffschlüssigen Verbindung, hier zwischen Seal Glas und Glasdeckel, ist eine zweite Absorptionsschicht 14 in Form einer Beschichtung einer zur Kaverne weisenden Seite des Glasdeckels angeordnet. An einer Rückseite des Bauteilsubstrats 2 sind Rückseitenkontakte 10 mit Lotkugeln 15 angeordnet.The glass lid and the spacer by means of a second material connection 13th , also connected to each other with a Seal Glass Bond. At the first material connection, here between the seal glass and the component substrate, there is a first absorption layer 12th arranged in the form of a coating of the component substrate. At the second material connection, here between the seal glass and the glass lid, there is a second absorption layer 14th arranged in the form of a coating on a side of the glass cover facing the cavern. On a rear side of the component substrate 2 are rear contacts 10 with solder balls 15th arranged.

Die 2 a und b zeigen in verschiedenen Stadien der Vorrichtung ein Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen mikromechanisch-optischen Bauteils in einem zweiten Ausführungsbeispiel.The 2 a and b show, in different stages of the device, a method for producing a micromechanical-optical component according to the invention in a second exemplary embodiment.

In einer alternativen Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens werden in einem ersten Schritt die einzelnen Bauteilsubstrate 2 mit einem ersten Durch-licht-Schweiß-Prozess 3 mit Lichteinstrahlung von der Vorderseite des Spacer-Wafers 4 her stoffschlüssig verbunden (2a). In einem weiteren Schritt werden die Glasdeckel auf den Spacer-Wafer aufgebracht und mit einem zweiten Durchlicht-Schweiß-Prozess 7 von der Rückseite des Spacer-Wafers her stoffschlüssig verbunden (2b).In an alternative embodiment of the method according to the invention, the individual component substrates are in a first step 2 with a first transmitted light welding process 3rd with light irradiation from the front of the spacer wafer 4th materially connected ( 2a) . In a further step, the glass lids are attached to the spacer wafer and with a second transmitted light welding process 7th materially connected from the back of the spacer wafer ( 2 B) .

Vorteilhaft an dieser Anordnung ist, dass der Durchlicht-Schweiß-Prozess immer durch den Spacer-Wafer vorgenommen wird und dieser Prozess sehr gut ausgelastet und gesteuert werden kann. Die erste stoffschlüssige Verbindung 5 und die zweite stoffschlüssige Verbindung 13 sind dazu versetzt angeordnet, derart, dass ein Laserstrahl für das zweite Durchstrahlbonden 7 neben dem Bauteilsubstrat 2 vorbei und durch den Abstandswafer 4 hindurch geführt werden kann.The advantage of this arrangement is that the transmitted light welding process is always carried out by the spacer wafer and that this process can be utilized and controlled very well. The first material connection 5 and the second material connection 13th are arranged offset to this in such a way that a laser beam for the second transmission bonding 7th next to the component substrate 2 over and through the spacer wafer 4th can be passed through.

Günstig ist es in dieser Anordnung, wenn vor dem ersten Bondvorgang eine erste Absorptionsschicht 12 auf dem einzelnen Bauteilsubstrat 2, angeordnet wird und das Seal-Glas für die erste stoffschlüssige Verbindung 5 mit einem Siebdruckverfahren auf der Rückseite des Spacer-Wafers 4 aufgebracht wird.It is advantageous in this arrangement if a first absorption layer is used before the first bonding process 12th on the individual component substrate 2 , is arranged and the seal glass for the first material connection 5 with a screen printing process on the back of the spacer wafer 4th is applied.

Günstig ist es in dieser Anordnung, wenn vor dem zweiten Bondvorgang eine zweite Absorptionsschicht 14 auf dem Glasdeckel 6 vorgesehen wird und das Seal-Glas für die zweite stoffschlüssige Verbindung 13 mit einem Siebdruckverfahren auf der Vorderseite des Spacer-Wafers 4 aufgebracht wird.It is favorable in this arrangement if a second absorption layer is used before the second bonding process 14th on the glass lid 6th is provided and the seal glass for the second material connection 13th with a screen printing process on the front of the spacer wafer 4th is applied.

In einem letzten Schritt (nicht dargestellt) werden die Bauteile vereinzelt, indem der Spacer-Wafer gesägt wird. Im Ergebnis ist in einem zweiten Ausführungsbeispiel ein erfindungsgemäßes mikromechanisch-optisches Bauteil geschaffen, bei dem die erste stoffschlüssige Verbindung 5 und die zweite stoffschlüssige Verbindung 13, in Durchsicht senkrecht zu einer Hauptebene der Vorrichtung gesehen, nebeneinander angeordnet sind (2b).In a final step (not shown) the components are separated by sawing the spacer wafer. As a result, in a second exemplary embodiment, a micromechanical-optical component according to the invention is created in which the first material connection 5 and the second material connection 13th are arranged side by side, seen in a phantom view perpendicular to a main plane of the device ( 2 B) .

Die 3 a - d zeigen in verschiedenen Stadien der Vorrichtung ein Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen mikromechanisch-optischen Bauteils in einem dritten Ausführungsbeispiel.The 3 a - d show, in various stages of the device, a method for producing a micromechanical-optical component according to the invention in a third exemplary embodiment.

In einer alternativen Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird eine Dotierung als zweite Absorptionsschicht 14 angelegt. Ein Spacer-Wafer 4 wird hierzu bereitgestellt und an seiner Vorderseite eine Dotierung 18 eingebracht (3a). Dies kann dann günstig sein, wenn man beispielsweise auf dem Glasdeckel 6 als zweite stoffschlüssige Verbindung 13 einen transparenten Seal-Glas-Bond-Rahmen vorsieht und durch den Glasdeckel 6 hindurch den zweiten Bondprozess 7 vornimmt. Günstig ist dafür eine lokale Dotierungsschicht mit bevorzugt As, P, B, Sb oder AI. Das gleiche Verfahren kann auch auf die erste Stoffschlüssige Verbindung 5 mit den Einzelsubstraten 2 angewendet werden. Hierzu wäre der Spacer-Wafer entsprechend an seiner Rückseite zu dotieren.In an alternative embodiment of the method according to the invention, doping is used as the second absorption layer 14th created. A spacer wafer 4th is provided for this purpose and a doping on its front side 18th brought in ( 3a) . This can be beneficial if, for example, you are standing on the glass lid 6th as a second material connection 13th provides a transparent seal glass bond frame and through the glass lid 6th through the second bonding process 7th undertakes. A local doping layer with preferably As, P, B, Sb or Al is favorable for this. The same procedure can also be applied to the first material connection 5 with the individual substrates 2 be applied. For this purpose, the spacer wafer would have to be doped accordingly on its rear side.

In einer alternativen Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird ein Rahmen für den Glasdeckel 6 oder auch das Bauteilsubstrat 2geschaffen. Dazu wird zunächst ein Hilfswafer 16 auf eine Seite oder auch auf beide Seiten des Spacer-Wafers 4 aufgebracht und befestigt. Dies kann wiederum durch ein Bondverfahren erfolgen. Der Hilfswafer 16 weist dazu Durchgangslöcher 17 auf, die größer als die Durchgangskaverne im Spacer-Wafer gewählt sind. Die Durchgangslöcher im Hilfswafer können dabei in günstiger weise die Justage der Glasdeckel 6 oder der Einzelsubstrate 2 zum Spacerwafer 4 erleichtern und diese gegen ein Wegrutschen im Bondprozess sichern, oder auch nur ein Vorjustage und günstige Vorbestückung ermöglichen. 3b zeigt ein Beispiel eines Rahmens für den Glasdeckel. Neben dem Rahmen, welcher durch den Hilfswafer 16 mit dem Loch 17 gebildet ist, befindet sich der dotierte Bereich 18, welcher die zweite Absorptionsschicht 14 bildet. Weiter ist es günstig, wenn der Hilfswafer dicker gewählt wird als die Glasdeckel oder bei Anwendung auf der Spacer-Rückseite dicker als die Einzelsubstrate. Mit dem Hilfswafer können die Einzelelemente während der Weiterverarbeitung sehr gut geschützt werden und gleichzeitig ergibt sich für die Weiterarbeitung eine in der Höhe sauber definierte neue Oberfläche. Weiter wird auch der Spacer-Wafer durch den Hilfswafer sehr gut stabilisiert. Es wird dadurch prinzipiell möglich den Spacer-Wafer deutliche dünner zu wählen. Wird der Hilfswafer später zum Beispiel im Vereinzelungsprozess ganz entfernt, kann man damit extrem dünne Einzelbauelemente herstellen. 3c zeigt das nachfolgende erste Durchstrahlbonden 3, bei dem Bauteilsubstrat 2 und Spacerwafer 4 miteinander verbunden werden. 3d zeigt das nachfolgende zweite Durchstrahlbonden 7, bei dem Spacer-Wafer 4 und Glasdeckel 6 miteinander verbunden werden.In an alternative embodiment of the method according to the invention, a frame is used for the glass cover 6th or the component substrate 2 created. To do this, an auxiliary wafer is first used 16 on one side or on both sides of the spacer wafer 4th applied and attached. Again, this can be done by a bonding process. The auxiliary wafer 16 has through holes for this purpose 17th that are larger than the passage cavity in the spacer wafer. The through holes in the auxiliary wafer can be used to adjust the glass cover in a favorable manner 6th or the individual substrates 2 to the spacer wafer 4th facilitate and secure them against slipping in the bonding process, or just allow pre-adjustment and inexpensive pre-assembly. 3b shows an example of a frame for the glass lid. In addition to the frame, which through the auxiliary wafer 16 with the hole 17th is formed, is the doped region 18th , which is the second absorption layer 14th forms. It is also favorable if the auxiliary wafer is chosen to be thicker than the glass cover or, when used on the rear side of the spacer, thicker than the individual substrates. With the auxiliary wafer, the individual elements can be very well protected during further processing and, at the same time, a new surface with a clearly defined height is created for further processing. Furthermore, the spacer wafer is also very well stabilized by the auxiliary wafer. In principle, this makes it possible to select the spacer wafer significantly thinner. If the auxiliary wafer is removed completely later, for example in the singulation process, it can be used to produce extremely thin individual components. 3c shows the following first transmission bonding 3rd , at the component substrate 2 and spacer wafers 4th be connected to each other. 3d shows the subsequent second transmission bonding 7th , at the spacer wafer 4th and glass lid 6th be connected to each other.

In einem letzten Schritt werden die Bauteile vereinzelt, indem der Spacer-Wafer und der Hilfswafer gesägt werden. Aus dem Spacer-Wafer 4 entsteht ein Abstandshalter 40, und aus dem Hilfswafer 16 entsteht ein Rahmen 160. Im Ergebnis ist in einem dritten Ausführungsbeispiel ein erfindungsgemäßes mikromechanisch-optisches Bauteil mit einem Rahmen 160 um den Glasdeckel und mit einer zweiten Absorptionsschicht 14 in Form eines dotierten Bereichs 18 des Abstandshalters 40 geschaffen (3d).In a final step, the components are separated by sawing the spacer wafer and the auxiliary wafer. From the spacer wafer 4th creates a spacer 40 , and from the auxiliary wafer 16 creates a framework 160 . As a result, in a third exemplary embodiment, there is a micromechanical-optical component according to the invention with a frame 160 around the glass lid and with a second absorption layer 14th in the form of a doped area 18th of the spacer 40 created ( 3d ).

4 zeigt schematisch das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines mikromechanisch-optischen Bauteils. 4th shows schematically the method according to the invention for producing a micromechanical-optical component.

Das Verfahren beinhaltet die wesentlichen Schritte:

  1. A: Bereitstellen eines Spacer-Wafers mit einer Ausnehmung;
  2. B: Bereitstellen eines Bauteilsubstrats mit einem darauf befestigten optischen Halbleiterbauelements;
  3. C: Anlegen des Bauteilsubstrats an den Spacer-Wafer derart, dass das optische Halbleiterbauteil in der Ausnehmung angeordnet wird;
  4. D: Verbinden des Bauteilsubstrats mit dem Spacer-Wafer durch Schaffen einer ersten stoffschlüssigen Verbindung mittels eines ersten Durchstrahl-Bond-Verfahrensschrittes,
  5. E: Anlegen eines Glasdeckels an den Spacer-Wafer derart, dass die Ausnehmung abgedeckt wird;
  6. F: Verbinden des Glasdeckels mit dem Spacer-Wafer durch Schaffen einer zweiten stoffschlüssigen Verbindung mittels eines zweiten Durchstrahl-Bond-Verfahrensschrittes;
  7. G: Vereinzeln des mikromechanisch-optischen Bauteils durch Sägen des Spacer-Wafers.
The procedure includes the essential steps:
  1. A: providing a spacer wafer with a recess;
  2. B: providing a component substrate with an optical semiconductor component mounted thereon;
  3. C: placing the component substrate on the spacer wafer in such a way that the optical semiconductor component is arranged in the recess;
  4. D: connecting the component substrate to the spacer wafer by creating a first material connection by means of a first transmission bonding process step,
  5. E: placing a glass cover on the spacer wafer in such a way that the recess is covered;
  6. F: connecting the glass cover to the spacer wafer by creating a second material connection by means of a second irradiation bonding process step;
  7. G: Separation of the micromechanical-optical component by sawing the spacer wafer.

BezugszeichenlisteList of reference symbols

11
optisches Halbleiterbauelementoptical semiconductor device
22
BauteilsubstratComponent substrate
33
erstes Durchstrahlbondenfirst transmission bonding
44th
Spacer-WaferSpacer wafer
55
erste stoffschlüssige Verbindungfirst material connection
66th
GlasdeckelGlass lid
77th
zweites Durchstrahlbondensecond transmission bonding
88th
durchgehende Ausnehmungcontinuous recess
99
SpiegelflankeMirror flank
1010
RückseitenkontaktBack contact
1212th
erste Absorptionsschichtfirst absorption layer
1313th
zweite stoffschlüssige Verbindungsecond material connection
1414th
zweite Absorptionsschichtsecond absorption layer
1515th
LotkugelSolder ball
1616
HilfswaferAuxiliary wafer
1717th
DurchgangslochThrough hole
1818th
dotierter Bereichdoped area
2828
Kavernecavern
4040
AbstandshalterSpacers
5050
StrahlengangBeam path
160160
Rahmenframe

Claims (15)

Mikromechanisch-optisches Bauteil mit einem Glasdeckel (6), einem Abstandshalter (40) und einem Bauteilsubstrat (2), - wobei der Abstandshalter eine Ausnehmung aufweist, welche eine Kaverne (28) bildet, die von dem Glasdeckel und dem Bauteilsubstrat begrenzt ist, - wobei in der Kaverne ein optisches Halbleiterbauelement (1) angeordnet ist, welches an dem Bauteilsubstrat befestigt ist und dazu eingerichtet ist, optische Strahlung durch den Glasdeckel zu senden, - wobei der Abstandshalter und das Bauteilsubstrat mittels einer ersten stoffschlüssigen Verbindung (5) miteinander verbunden sind, - wobei der Glasdeckel und der Abstandshalter mittels einer zweiten stoffschlüssigen Verbindung (13) miteinander verbunden sind, - wobei an der ersten stoffschlüssigen Verbindung eine erste Absorptionsschicht (12) und an der zweiten stoffschlüssigen Verbindung eine zweite Absorptionsschicht (14) angeordnet ist.Micromechanical-optical component with a glass cover (6), a spacer (40) and a component substrate (2), - the spacer having a recess which forms a cavity (28) which is delimited by the glass cover and the component substrate, - wherein an optical semiconductor component (1) is arranged in the cavern, which is attached to the component substrate and is set up to send optical radiation through the glass cover, - wherein the spacer and the component substrate are connected to one another by means of a first material connection (5) - wherein the glass lid and the spacer are connected to one another by means of a second material connection (13), - wherein a first absorption layer (12) is arranged on the first material connection and a second absorption layer (14) is arranged on the second material connection. Mikromechanisch-optisches Bauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Bauteilsubstrat (2) eine Keramik ist.Micromechanical-optical component according to Claim 1 , characterized in that the component substrate (2) is a ceramic. Mikromechanisch-optisches Bauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste stoffschlüssige Verbindung (5) und/oder die zweite stoffschlüssige Verbindung (13) ein Seal Glas Bond ist.Micromechanical-optical component according to one of the preceding claims, characterized in that the first material connection (5) and / or the second material connection (13) is a seal glass bond. Mikromechanisch-optisches Bauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass, die Kaverne (28) hermetisch dicht abgeschlossen ist.Micromechanical-optical component according to one of the preceding claims, characterized in that the cavity (28) is hermetically sealed. Mikromechanisch-optisches Bauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Absorptionsschicht (12) eine Schicht auf dem Bauteilsubstrat (2) ist.Micromechanical-optical component according to one of the preceding claims, characterized in that the first absorption layer (12) is a layer on the component substrate (2). Mikromechanisch-optisches Bauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Absorptionsschicht (14) eine Schicht auf dem Glasdeckel (6) ist.Micromechanical-optical component according to one of the preceding Claims 1 to 5 , characterized in that the second absorption layer (14) is a layer on the glass lid (6). Mikromechanisch-optisches Bauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Absorptionsschicht (14) ein dotierter Bereich (18) des Abstandshalters (40) ist.Micromechanical-optical component according to one of the preceding Claims 1 to 5 , characterized in that the second absorption layer (14) is a doped region (18) of the spacer (40). Mikromechanisch-optisches Bauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass an dem Abstandshalter (40) wenigstens ein Rahmen (160) angeordnet ist, welcher den Glasdeckel (6) und/oder das Bauteilsubstrat (2) umgibt.Micromechanical-optical component according to one of the preceding claims, characterized in that at least one frame (160) which surrounds the glass cover (6) and / or the component substrate (2) is arranged on the spacer (40). Verfahren zur Herstellung eines mikromechanisch-optischen Bauteils mit den Schritten: A: Bereitstellen eines Spacer-Wafers mit einer Ausnehmung; B: Bereitstellen eines Bauteilsubstrats mit einem darauf befestigten optischen Halbleiterbauelements; C: Anlegen des Bauteilsubstrats an den Spacer-Wafer derart, dass das optische Halbleiterbauteil in der Ausnehmung angeordnet wird; D: Verbinden des Bauteilsubstrats mit dem Spacer-Wafer durch Schaffen einer ersten stoffschlüssigen Verbindung mittels eines ersten Durchstrahl-Bond-Verfahrensschrittes, E: Anlegen eines Glasdeckels an den Spacer-Wafer derart, dass die Ausnehmung abgedeckt wird; F: Verbinden des Glasdeckels mit dem Spacer-Wafer durch Schaffen einer zweiten stoffschlüssigen Verbindung mittels eines zweiten Durchstrahl-Bond-Verfahrensschrittes; G: Vereinzeln des mikromechanisch-optischen Bauteils durch Sägen des Spacer-Wafers.Process for the production of a micromechanical-optical component with the following steps: A: providing a spacer wafer with a recess; B: providing a component substrate with an optical semiconductor component mounted thereon; C: placing the component substrate on the spacer wafer in such a way that the optical semiconductor component is arranged in the recess; D: connecting the component substrate to the spacer wafer by creating a first material connection by means of a first transmission bonding process step, E: placing a glass cover on the spacer wafer in such a way that the recess is covered; F: connecting the glass cover to the spacer wafer by creating a second material connection by means of a second irradiation bonding process step; G: Separation of the micromechanical-optical component by sawing the spacer wafer. Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die erste stoffschlüssige Verbindung durch Seal Glas Bonden hergestellt wird, nachdem auf den Spacer-Wafer und/oder das Bauteilsubstrat ein Seal Glas aufgetragen wurde.Method for producing an optical component according to Claim 9 , characterized in that the first material connection is produced by seal glass bonding after a seal glass has been applied to the spacer wafer and / or the component substrate. Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite stoffschlüssige Verbindung durch Seal Glas Bonden hergestellt wird, nachdem auf den Spacer-Wafer und/oder den Glaswafer ein Seal Glas aufgetragen wurde.Method for producing an optical component according to Claim 9 or 10 , characterized in that the second material connection is produced by seal glass bonding after a seal glass has been applied to the spacer wafer and / or the glass wafer. Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass vor dem Schritt C auf das Bauteilsubstrat eine erste Absorptionsschicht aufgetragen wird.Method for producing an optical component according to one of the Claims 9 to 11 , characterized in that, before step C, a first absorption layer is applied to the component substrate. Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass vor dem Schritt E auf den Glasdeckel eine zweite Absorptionsschicht aufgetragen wird.Method for producing an optical component according to one of the Claims 9 to 12th , characterized in that before step E, a second absorption layer is applied to the glass lid. Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass vor dem Schritt E auf dem Spacer-Wafer durch Dotieren eines Bereichs eine zweite Absorptionsschicht geschaffen wird.Method for producing an optical component according to one of the Claims 9 to 12th , characterized in that, before step E, a second absorption layer is created on the spacer wafer by doping an area. Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils nach einem der Ansprüche 10 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass vor dem Schritt C ein Hilfswafer mit einem Loch auf den Spacer-Wafer aufgebracht wird, und im Schritt C das Bauteilsubstrat in dem Loch positioniert wird und/oder dass vor dem Schritt E ein Hilfswafer mit einem Loch auf den Spacer-Wafer aufgebracht wird, und im Schritt E der Glasdeckel in dem Loch positioniert wird.Method for producing an optical component according to one of the Claims 10 to 15th , characterized in that before step C an auxiliary wafer with a hole is applied to the spacer wafer, and in step C the component substrate is positioned in the hole and / or that before step E an auxiliary wafer with a hole is placed on the spacer wafer Wafer is applied, and in step E the glass lid is positioned in the hole.
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