DE102019209339A1

DE102019209339A1 - Verfahren zum positionieren einer optischen komponente

Info

Publication number: DE102019209339A1
Application number: DE102019209339.6A
Authority: DE
Inventors: Frank Treubel; Jürgen Kunzmann; Fouad Ballout; Joachim Kalden
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2018-07-04
Filing date: 2019-06-27
Publication date: 2020-01-09
Also published as: DE102018211018A1

Abstract

Es wird offenbart ein Verfahren zum Positionieren einer optischen Komponente (202) in eine Parkposition (PP) in einem optischen System (100A, 100B), wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist:
a) Ermitteln (602-1, 602-2, 602'-1, 602'-2) einer erforderlichen Stellgröße (SG) zum Positionieren der optischen Komponente (202) in der Parkposition (PP),
b) Ermitteln (602-3, 602'-3) einer Soll-Position (P_{soll_t1}, P_{soll_t2}, P_{soll_M}) aus der ermittelten Stellgröße (SG) mithilfe eines Abhängigkeitsverhältnisses,
c) Sicherstellen (604) eines deaktivierten Zustands einer Regler-Einheit (508),
d) Ermitteln (605) eines zweiten Teils der Stellgröße (SG₂) in Abhängigkeit von der ermittelten Soll-Position (P_{soll_t1}, P_{soll_t2}, P_{soll_M}) mithilfe einer Vorsteuer-Einheit (510), und
e) Positionieren (606) der optischen Komponente (202) in Abhängigkeit von dem ermittelten zweiten Teil der Stellgröße (SG2) mithilfe eines Aktuators (216).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Positionieren einer optischen Komponente in eine Parkposition in einem optischen System. Des Weiteren betrifft die vorliegende Erfindung ein optisches System.
Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
Insbesondere das Beleuchtungssystem weist regelmäßig einen oder mehrere Facettenspiegel auf. Ein solcher Facettenspiegel weist beispielsweise mehrere Hundert Einzelspiegel auf. Während des Beleuchtungsvorgangs kann jeder Einzelspiegel mit einer aktiven Regelung in Position gehalten werden. Hierzu ist jeder Einzelspiegel Teil einer Einrichtung, welche einen Aktuator, eine Sensor-Einheit, eine Regler-Einheit, eine Vorsteuer-Einheit und eine Addier-Einheit aufweist. Der Aktuator ist dazu eingerichtet, den Einzelspiegel in Abhängigkeit von einer Stellgröße zu positionieren. Die Sensor-Einheit ist dazu eingerichtet, eine Ist-Position des Einzelspiegels zu erfassen. Die Regler-Einheit (Engl.: feed-back controller) ist dazu eingerichtet, einen ersten Teil der Stellgröße in Abhängigkeit von einer Soll-Position des Einzelspiegels und der erfassten Ist-Position zu regeln (Engl.: feed-back control). Die Vorsteuer-Einheit (Engl.: feed-forward control) ist dazu eingerichtet, einen zweiten Teil der Stellgröße mit Hilfe eines Abhängigkeitsverhältnisses zu ermitteln (Engl.: feed-forward control), das eine Abhängigkeit des zweiten Teils der Stellgröße von der Soll-Position des Einzelspiegels beschreibt. Die Addiereinheit ist dazu eingerichtet, den ersten Teil und den zweiten Teil der Stellgröße zu der Stellgröße zu addieren.
Aufgrund der hohen Anzahl solcher Einrichtungen und einer nicht verschwindenden Ausfallwahrscheinlichkeit der jeweiligen Sensor-Einheit und/oder Regler-Einheit besteht über die Lebensdauer der Lithographieanlage eine signifikante Ausfallwahrscheinlichkeit für zumindest eine oder mehrere der Einrichtungen eines entsprechenden Facettenspiegels. Der Ausfall der Sensor-Einheit und/oder der Regel-Einheit führt zu einer unkontrollierten Fehlstellung des entsprechenden Einzelspiegels. Damit geht in der Regel ein für die Bildgebung störender Lichtpfad einher.
Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, eine verbesserte Lösung bereitzustellen.
Demgemäß wird ein Verfahren zum Positionieren einer optischen Komponente in eine Parkposition in einem optischen System vorgeschlagen. Das optische System weist Folgendes auf: einen Aktuator, welcher dazu eingerichtet ist, die optische Komponente in Abhängigkeit von einer Stellgröße zu positionieren, eine Sensor-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, eine Ist-Position der optischen Komponente zu erfassen, eine Regler-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, einen ersten Teil der Stellgröße in Abhängigkeit von einer Soll-Position der optischen Komponente und der erfassten Ist-Position zu regeln, eine Vorsteuer-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, einen zweiten Teil der Stellgröße mit Hilfe eines Abhängigkeitsverhältnisses zu ermitteln, das eine Abhängigkeit des zweiten Teils der Stellgröße von der Soll-Position der optischen Komponente beschreibt, und eine Addiereinheit, welche dazu eingerichtet ist, den ersten Teil und den zweiten Teil der Stellgröße zu addieren, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist:

a) Ermitteln einer erforderlichen Stellgröße zum Positionieren der optischen Komponente in der Parkposition,
b) Ermitteln einer Soll-Position aus der ermittelten Stellgröße mit Hilfe des Abhängigkeitsverhältnisses,
c) Sicherstellen eines deaktivierten Zustands der Regler-Einheit
d) Ermitteln des zweiten Teils der Stellgröße in Abhängigkeit von der ermittelten Soll-Position mit Hilfe der Vorsteuer-Einheit, und
e) Positionieren der optischen Komponente in Abhängigkeit von dem ermittelten zweiten Teil der Stellgröße mit Hilfe des Aktuators.

Vorteilhaft kann somit die Parkposition der optischen Komponente auch in einem deaktivierten Zustand der Regler-Einheit genau angefahren werden. Das Anfahren der Parkposition geschieht in diesem Fall mit Hilfe der Vorsteuer-Einheit unter Ausschluss der Regler-Einheit. Zu diesem Zweck wird beispielsweise in einer Kalibrierphase des optischen Systems die Parkposition mit Hilfe der Regler- und Vorsteuer-Einheit angefahren und mit Hilfe des Abhängigkeitsverhältnisses eine entsprechende Soll-Position der optischen Komponente ermittelt. Diese steht dann zur späteren Verwendung in Schritt d) und e) bereit.
Unter „Positionieren“ ist vorliegend ein translatorisches und/oder rotatorisches Bewegen der optischen Komponente in bis zu sechs Freiheitsgraden (umfassend drei rotatorische und drei translatorische Freiheitsgrade) zu verstehen.
Die optische Komponente kann insbesondere als Spiegel, Linse, optische Einzelspiegel, einem Gitter oder Lambda-Platte ausgebildet sein. Der Spiegel kann insbesondere ein Einzelspiegel eines Facettenspiegels sein.
Mit der „Parkposition“ ist eine Lage der optischen Komponente im Raum gemeint, in der diese über einen vorbestimmten Mindestzeitraum oder ab und/oder bis zu einem vorbestimmten Ereignis verbleiben soll. Der Mindestzeitraum kann beispielsweise 1 Minute, 1 Stunde oder 24 Stunden betragen. Das vorbestimmte Ereignis, ab dem die optische Komponente die Parkposition einnehmen soll, kann beispielsweise ein festgestellter Defekt der Sensor-Einheit sein. Das vorbestimmte Ereignis, bis zu dem die optische Komponente in der Parkposition verweilt, kann beispielsweise ein Wartungszustand des optischen Systems sein.
Bei dem optischen System handelt es sich beispielsweise um eine Lithographieanlage. Die Lithgraphieanlage kann eine DUV- oder EUV-Lithographieanlage sein. Bei dem optischen System kann es sich auch um ein Messsystem oder dergleichen im Lithographiebereich handeln.
Bei dem Aktuator kann es sich um einen elektrischen, elektromechanischen, pneumatischen oder hydraulischen Aktuator handeln. Insbesondere ist der Aktuator als Elektromagnet oder Lorentz-Aktuator ausgebildet.
Die Stellgröße, in Abhängigkeit derer der Aktuator die optische Komponente positioniert, ist beispielsweise ein elektrisches Strom- und/oder Spannungssignal. Das Strom- und/oder Spannungssignal kann repräsentativ für eine von dem Aktuator auf die optische Komponente aufzubringende Kraft sein.
Der Regler-Einheit kann eine Vergleicher-Einheit des optischen Systems vorgeschaltet sein, welche dazu eingerichtet ist, die Soll-Position der optischen Komponente mit der erfassten Ist-Position der optischen Komponente zu vergleichen (insbesondere eine Differenz dieser Werte bzw. Positionen zu bilden) und das Vergleichsergebnis (insbesondere die gebildete Differenz) der Regler-Einheit bereitzustellen. Die Regler-Einheit regelt dann den ersten Teil der Stellgröße in Abhängigkeit von dem Vergleichsergebnis (insbesondere der Differenz).
Die jeweilige Einheit, z. B. die Sensor-Einheit, die Regler-Einheit, die Vorsteuer-Einheit, die Addier-Einheit und/oder die Vergleicher-Einheit, kann hardwaretechnisch und/oder softwaretechnisch implementiert sein. Bei einer hardwaretechnischen Implementierung kann die jeweilige Einheit als Vorrichtung oder als Teil einer Vorrichtung, z. B. als Computer oder als Mikroprozessor, ausgebildet sein. Bei einer softwaretechnischen Implementierung kann die jeweilige Einheit als Computerprogramm oder Teil davon, als eine Funktion, als eine Routine oder als ausführbares Objekt ausgebildet sein.
Bei einer hardwaretechnischen Implementierung der Sensor-Einheit kann diese beispielsweise als optischer, kapazitiver oder induktiver Sensor ausgebildet sein.
Das Abhängigkeitsverhältnis kann beispielsweise in Form einer Tabelle oder in Form einer Funktion bestehen. Eine entsprechende Tabelle (mit Werten) oder eine entsprechende Funktion kann auf der Vorsteuer-Einheit, insbesondere in einem Speicher, welcher der Vorsteuer-Einheit zugeordnet ist, hinterlegt sein. Beispielsweise kann die Vorsteuer-Einheit durch elektrische Komponenten, wie beispielsweise Transistoren, Widerstände, Spulen und/oder Kondensatoren in einem Mikrochip ausgebildet sein. In diesem Fall enthalten die elektronischen Bauelemente die entsprechende Tabelle oder die entsprechende Funktion. In dem Fall, dass eine Tabelle verwendet wird, kann vorgesehen sein, dass eine Extrapolation zwischen zwei Werten stattfindet. Das Abhängigkeitsverhältnis ist insbesondere ein lineares Abhängigkeitsverhältnis. Dies macht Berechnungen auf der Vorsteuer-Einheit einfach und damit schnell.
Der erste und zweite Teil der Stellgröße sind beispielsweise als elektrische Strom- und/oder Spannungssignale vorgesehen.
Der deaktivierte Zustand der Regler-Einheit entspricht einem Zustand, in dem die Regler-Einheit den zweiten Teil der Stellgröße nicht mehr ausgibt bzw. null ausgibt. Beispielsweise kann der deaktivierte Zustand dann sichergestellt werden, wenn festgestellt wird, dass die Sensor-Einheit keine Ist-Position bzw. null liefert oder die Ist-Position außerhalb eines vordefinierten Bereichs liegt oder eine unzulässige Korrelation zwischen der Soll- und der Ist-Position festgestellt wird. Andererseits kann der deaktivierte Zustand der Regler-Einheit vorgesehen werden, wenn beispielsweise eine Funktionsüberprüfung oder sonstige Wartung in dem optischen System stattfindet oder wenn aus sonstigen Gründen gewünscht ist, dass die optische Komponente die Parkposition unter Ausschluss der Regler-Einheit bzw. des zweiten Teils der Stellgröße anfährt.
Insbesondere können mit Hilfe der Verfahrensschritte a) bis e) folgende Fehlerszenarien teilweise oder vollständig vermieden werden:

- Wenn die Sensor-Einheit aufgrund eines Defekts die falsche Ist-Position liefert und die Regler-Einheit aufgrund der falschen Ist-Positionen einen falschen ersten Teil der Stellgröße ermittelt. Hierdurch kann es zu Fehlstellungen der optischen Komponente kommen (störender Lichtpfad).
- Wenn aufgrund eines detektierten Defekts der Sensor-Einheit mit der Abschaltung der Regler- und Vorsteuer-Einheit reagiert wird, weil sich dann die optische Komponente in die mechanische Ruhelage bewegen würde, welche jedoch in vielen Fällen einer Fehlstellung der optischen Komponente entspricht (mit störendem Lichtpfad).
- Das Abhängigkeitsverhältnis der Vorsteuer-Einheit, welche insbesondere ein Kraft-Weg-Modell repräsentiert, ist aufgrund einer generischen und vereinfachten Implementierung oftmals ungenau, z. B. weil ein nichtlinearer Kraft-Weg-Zusammenhang durch das lineare hookesche Gesetz angenähert wird. In diesen Fällen wird die Kraft bzw. ein entsprechendes elektrisches Spannungs- oder Stromsignal zur Positionierung der optischen Komponente zu einem nicht vernachlässigbaren Teil von der Regler-Einheit (erster Teil der Stellgröße) gestellt. Fällt dann die Regler-Einheit, beispielsweise aufgrund eines Defekts der Sensor-Einheit (so dass dieser keine Ist-Position mehr liefert oder deaktiviert wird), so wird die von der Vorsteuer-Einheit kommandierte Kraft mit Hilfe des Aktuators auf die optische Komponente aufgebracht, was wiederum zu einer Fehlstellung (mit störendem Lichtpfad) führt.

Soweit vorliegend Verfahrensschritte mit a), b) usw. bzw. aa), bb)) usw. bezeichnet werden, so dient dies lediglich der besseren Unterscheidung. Eine spezifische Reihenfolge der Schritte wird dadurch nicht vorgesehen. Eine Umdeklaration der Verfahrensschritte (beispielsweise aus Verfahrensschritt a) wird Verfahrensschritt b)), das Einfügen weiterer Verfahrensschritte (beispielsweise das Einfügen eines neuen Verfahrensschritts zwischen die Verfahrensschritte a) und b), wobei dann der neue Verfahrensschritt als Verfahrensschritt b) und der frühere Verfahrensschritt b) als Verfahrensschritt c) bezeichnet wird) sowie das Ergänzen weiterer Verfahrensschritte (beispielsweise eines Verfahrensschritts f)) wird dadurch nicht ausgeschlossen, sondern vielmehr von der hiesigen Offenbarung umfasst.
Gemäß einer Ausführungsform werden die Schritte c) bis e) bei Feststellen eines Fehlerzustands der Sensor-Einheit und/oder der Regler-Einheit ausgeführt.
Dadurch wird vorteilhaft dann die Parkposition angefahren, wenn eine Positionierung der optischen Komponente mit Hilfe der Regler-Einheit (weil diese selbst nicht mehr funktioniert oder diese kein verwertbares Sensorsignal von der Sensor-Einheit hinsichtlich der Ist-Position der optischen Komponente mehr erhält) ausscheidet. Der Fehlerzustand kann auf vielfältige Weise festgestellt werden. Eine Möglichkeit besteht, wie vorstehend bereits beschrieben, darin, die Ist-Position mit einer Menge zulässiger Ist-Positionen zu vergleichen und/oder eine Korrelation der Ist- und Soll-Position mit zulässigen Korrelationen der Ist- und Soll-Position zu vergleichen.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das Ermitteln der erforderlichen Stellgröße in Schritt a):

aa) Positionieren der optischen Komponente in der Parkposition mithilfe des Aktuators, der Vorsteuer-Einheit, der Regler-Einheit und der Sensor-Einheit, wobei die Soll-Position der optischen Komponente gleich der Parkposition der optischen Komponente ist, und
bb) Erfassen der erforderlichen Stellgröße.

Die vorstehenden Schritte aa) und bb) werden dann durchgeführt, wenn festgestellt wird, dass sämtliche Komponenten, also der Aktuator, die Vorsteuer-Einheit, die Regler-Einheit und die Sensor-Einheit, noch ordnungsgemäß funktionieren. Dies kann beispielsweise in Kalibrierschritten erfolgen. Ein entsprechender Kalibrierschritt kann beispielsweise vor Inbetriebnahme des optischen Systems vorgesehen sein. Alternativ oder zusätzlich kann ein Kalibrierschritt vor einem ersten Belichtungsbetrieb des optischen Systems oder vor jedem Belichtungsbetrieb des optischen Systems vorgesehen sein. Insbesondere kann das optische System einen entsprechenden Kalibrierschritt nach zumindest 100, 1.000 oder 10.000 Betriebsstunden ausführen.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform werden die Schritte aa) und bb) über die Lebensdauer des optischen Systems zur Berücksichtigung von Alterungsprozessen wiederholt.
Die „Lebensdauer“ meint die Zeitspanne von der Inbetriebnahme des optischen Systems bis zur Außerbetriebsstellung des optischen Systems. Die Lebensdauer beträgt beispielsweise größer 1 Jahr, größer 2 Jahre oder größer 5 Jahre. Vorteilhaft finden die Wiederholungen nach Zeitabschnitten statt, in denen eine signifikante Alterung des optischen Systems und der darin befindlichen Komponenten zu erwarten ist. Denn die Alterung wirkt sich auf die jeweilige (virtuelle) Soll-Position aus, welche der Vorsteuer-Einheit bereitzustellen ist, damit diese unter Ausschluss der Regler-Einheit die optische Komponente möglichst nahe an die Parkposition heranfährt.
Alternativ oder zusätzlich kann gemäß einer Ausführungsform vorgesehen sein, dass die Schritte aa) und bb) nach jedem mechanischen Eingriff in das optische System vorgenommen werden. Bei dem mechanischen Eingriff kann es sich beispielsweise um einen Austausch einer von einer Mehrzahl von optischen Komponenten des optischen Systems handeln.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird in Schritt b) aus der in Schritt bb) erfassten Stellgröße die Soll-Position mit Hilfe des Abhängigkeitsverhältnisses ermittelt und anschließend abgespeichert.
Dabei kann vorgesehen sein, dass jede neu ermittelte Soll-Position die zuvor abgespeicherte Soll-Position überschreibt oder eine Historie von Soll-Positionen in einen Speicher geschrieben wird. Wird sodann ein Anfahren der Parkposition erforderlich (also beispielsweise im Fehlerfall der Sensor-Einheit), so wird auf die abgespeicherte oder zuletzt abgespeicherte Soll-Position zurückgegriffen und in den Schritten d) und e) verwendet.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das Ermitteln der erforderlichen Stellgröße in Schritt a):

Messen einer Kennlinie, welche die erforderliche Stellgröße in Abhängigkeit der Ist-Position der optischen Komponente beschreibt, außerhalb des optischen Systems und/oder vor Inbetriebnahme desselben, und
Ermitteln der erforderlichen Stellgröße mithilfe der Kennlinie, wobei die Ist-Position gleich der Parkposition ist.

Dieses Verfahren bietet sich insbesondere dann an, wenn das Verfahren gemäß den Schritten aa) und bb), wie vorstehend beschrieben, nicht oder nicht mehr durchgeführt werden kann. Das heißt, dass die erforderliche Stellgröße nicht aufgrund tatsächlicher Gegebenheiten in dem optischen System in dem jeweiligen Zeitpunkt ermittelt wird. Vielmehr wird die erforderliche Stellgröße mit Hilfe eines Modells in einer Messapparatur außerhalb des optischen Systems ermittelt, wobei das Modell den Zusammenhang zwischen Stellgröße und Ist-Position generisch, d. h. für eine Vielzahl von Einrichtungen beziehungsweise Einbausituationen in optischen Systemen, beschreibt. Diese Beschreibung ist genauer als das in der Regel (stark) vereinfachte Abhängigkeitsverhältnis, wie es der Vorsteuer-Einheit zugrunde liegt.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird für das Sicherstellen des deaktivierten Zustands der Regler-Einheit in Schritt c) der erste Teil der Stellgröße auf null gesetzt. Hierzu wird insbesondere eine Schalter-Einheit in einem Signalpfad zwischen der Regler-Einheit und der Addier-Einheit geöffnet.
Dadurch kann auf einfache Weise sichergestellt werden, dass der erste Teil der Stellgröße aufgrund einer defekten Sensor- und/oder Regler-Einheit nicht als Störsignal auf die Stellgröße wirkt, die von da an ausschließlich durch den zweiten Teil der Stellgröße, wie von der Vorsteuer-Einheit erzeugt, definiert werden soll.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das optische System ferner eine Sicherheits-Einheit auf, welche dazu eingerichtet ist, eine unzulässige Soll-Position durch eine zulässige Soll-Position zu ersetzen, wobei die Sicherheitseinheit in dem deaktivierten Zustand der Regler-Einheit ausgeschaltet wird.
Die Soll-Position der optischen Komponente wird im Regel-Betrieb des optischen Systems von einer Steuer-Einheit bereitgestellt. In einer Lithographieanlage ist die Steuer-Einheit beispielsweise dazu eingerichtet, die Soll-Position der optischen Komponente in Abhängigkeit von einer Belichtung bzw. einem Belichtungsmuster eines entsprechenden Wafers zu ermitteln. Die von der Steuer-Einheit erzeugten Soll-Positionen der optischen Komponente werden mit Hilfe der Sicherheits-Einheit überprüft. Diese prüft, ob sich die Soll-Positionen im Rahmen des Zulässigen bewegen. Beispielsweise berücksichtigt die Sicherheitseinheit dabei geometrische Randbedingungen (beispielsweise solche, die zu einer Kollision von optischen Komponenten führen) oder auch thermale Randbedingungen (beispielsweise solche, die zu einer lokalen Überhitzung einer oder mehrerer optischer Komponenten führen). Im Ergebnis werden so mittels der Sicherheits-Einheit unzulässige Soll-Positionen herausgefiltert und nur zulässige Soll-Positionen der Vorsteuer- und Regler-Einheit bereitgestellt. Die Sicherheits-Einheit ist jedoch ggf. hinderlich, wenn die Parkposition in Schritt e) angefahren wird, weil in diesem Fall (virtuelle) Soll-Positionen vorgegeben werden, welche ggf. bewusst außerhalb im Regel-Betrieb zulässiger Soll-Positionen liegen. Deshalb kann sie in dem deaktivierten Zustand der Regler-Einheit vorteilhaft ausgeschaltet werden.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform repräsentiert die Stellgröße eine von dem Aktuator auf die optische Komponente aufzubringende Kraft.
Dadurch ergibt sich eine einfache Ansteuerung des Aktuators.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das Abhängigkeitsverhältnis wie folgt definiert: SG₂ = c * SP, wobei SG₂ der zweite Teil der Stellgröße, SP die Soll-Position und c eine Konstante ist.
Eine solche Linearfunktion kann von der Vorsteuer-Einheit schnell abgearbeitet werden, so dass im Regel-Betrieb eine schnelle Ansteuerung des Aktuators und damit der optischen Komponente möglich ist.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das optische System ferner eine Feder, insbesondere ein Festkörpergelenk, mit einer Federsteifigkeit k auf, ist die Feder dazu eingerichtet, in Abhängigkeit von der Ist-Position der optischen Komponente und der Federsteifigkeit k eine Kraft auf die optische Komponente auszuüben, und ist der Aktuator dazu eingerichtet, die optische Komponente in Abhängigkeit von der Stellgröße gegen die von der Feder erzeugte Kraft zu positionieren.
Insbesondere ist die optische Komponente mit Hilfe der Feder, insbesondere mit Hilfe des Festkörpergelenks, in zumindest einer Richtung (ausgewählt aus drei rotatorischen und/oder drei translatorischen Freiheitsgraden) beweglich gelagert. Unter einem „Festkörpergelenk“ ist vorliegend ein Gelenk zu verstehen, welches die Relativbewegung zwischen zwei Starrkörpern (hier der optischen Komponente und dem diese tragenden Tragelement) mit Hilfe von Biegung und/oder Torsion bereitstellt. Festkörpergelenke vermeiden vorteilhaft die Entstehung von Abrieb, welcher sich nachteilig auf die optischen Eigenschaften des optischen Systems auswirken kann.
Gemäß einer Ausführungsform ist die Konstante c gleich der Federsteifigkeit k.
Mit anderen Worten beschreibt das Abhängigkeitsverhältnis das (lineare) hookesche Gesetz.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird die Parkposition ausgewählt in Abhängigkeit: einer thermischen Belastung, welche sich aufgrund der optischen Komponente in der Parkposition ergibt, eines prognostizierten Vorsteuerfehlers und/oder eines Übersprechens mit zumindest einer Vorsteuer-Einheit und/oder einer Regler-Einheit an der anderen optischen Komponente.
Vorteilhaft sind die Parkpositionen mehrerer optischen Komponenten derart gewählt, dass keine zwei Lichtpfade, welche von einer jeweiligen optischen Komponente ausgehen, eine andere (insbesondere optische) Komponente kreuzen. Dadurch wird vermieden, dass es zu einem Aufsummieren der thermischen Belastung aufgrund eines jeweiligen Lichtstrahls auf der anderen Komponente kommt. Entsprechend kann die thermische Belastung auf der anderen Komponente besonders gering gehalten werden. Der „prognostizierte Vorsteuerfehler“ meint die Toleranz, mit der die optische Komponente in die Parkposition gefahren wird, wenn dies unter Verwendung der Vorsteuer-Einheit und nicht der Regler-Einheit erfolgt. Die Toleranz wird beispielsweise bestimmt durch Toleranzen innerhalb des Aktuators und/oder der Lagerung der optischen Komponente. Mit „Übersprechen“ (Engl.: cross-talk) ist der Einfluss von elektromagnetischer Störstrahlung auf das Anfahren der Parkposition gemeint. Die Störstrahlung kann beispielsweise von benachbarten, aktuierten, optomechanischen Komponenten stammen.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist eine Vielzahl von Einrichtungen vorgesehen, welche jeweils umfassen: eine optische Komponente, eine Aktuator, welcher dazu eingerichtet ist, die optische Komponente in Abhängigkeit von einer Stellgröße zu positionieren, eine Sensor-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, eine Ist-Position der optischen Komponente zu erfassen, eine Regler-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, einen ersten Teil der Stellgröße in Abhängigkeit von einer Soll-Position der optischen Komponente und der erfassten Ist-Position zu regeln, eine Vorsteuer-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, einen zweiten Teil der Stellgröße mit Hilfe eines Abhängigkeitsverhältnisses zu ermitteln, das eine Abhängigkeit des zweiten Teils der Stellgröße von der Soll-Position der optischen Komponente beschreibt, und eine Addier-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, den ersten Teil und den zweiten Teil der Stellgröße zu der Stellgröße zu addieren, wobei für jede Einrichtung die Schritte a) bis e) ausgeführt werden.
Dies entspricht beispielsweise der Situation, dass das optische System einen Facettenspiegel mit beispielsweise mehreren Hundert Einzelspiegeln aufweist. Jeder Einzelspiegel bildet mit dem ihm zugeordneten Aktuator, zugeordneter Sensor-Einheit, zugeordneter Regler-Einheit, zugeordneter Vorsteuer-Einheit und zugeordneter Addier-Einheit eine der vorgenannten Einrichtungen. Dabei kann jeder Einzelspiegel bei Bedarf in die Parkposition gefahren werden, wobei das vorher beschriebene Verfahren zur Anwendung kommt.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das Ermitteln der erforderlichen Stellgröße in dem Schritt a) für eine jeweilige Einrichtung:

Stellen der Stellgröße für die Aktuatoren der jeweils anderen Einrichtungen auf null,
Positionieren der optischen Komponente in der Parkposition mit Hilfe des Aktuators, der Vorsteuer-Einheit, der Regler-Einheit und der Sensor-Einheit, wobei die Soll-Position der optischen Komponente gleich der Parkposition der optischen Komponente ist, und
Erfassen der erforderlichen Stellgröße.

Indem die Stellgrößen für die Aktuatoren der jeweils anderen Einrichtungen auf null gestellt werden, werden elektrodynamische Wechselwirkungen (insbesondere ein Übersprechen) zwischen verschiedenen Einrichtungen minimiert. Dadurch kann einerseits die Parkposition genau angefahren werden. Andererseits kann die erforderliche Stellgröße genau erfasst werden.
Weiterhin wird ein optisches System, insbesondere eine Lithographieanlage, vorgeschlagen, welche Folgendes aufweist: einen Aktuator, welcher dazu eingerichtet ist, die optische Komponente in Abhängigkeit von einer Stellgröße zu positionieren, eine Sensor-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, eine Ist-Position der optischen Komponente zu erfassen, eine Regler-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, einen ersten Teil der Stellgröße in Abhängigkeit von einer Soll-Position der optischen Komponente und der erfassten Ist-Position zu regeln, eine Vorsteuer-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, einen zweiten Teil der Stellgröße mithilfe eines Abhängigkeitsverhältnisses zu ermitteln, das eine Abhängigkeit des zweiten Teils der Stellgröße von der Soll-Position der optischen Komponente beschreibt, eine Addier-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, den ersten Teil und den zweiten Teil der Stellgröße zu der Stellgröße zu addieren, und eine Steuer-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, eine erforderliche Stellgröße zum Positionieren der optischen Komponente in der Parkposition zu ermitteln, aus der ermittelten Stellgröße mithilfe des Abhängigkeitsverhältnisses eine Soll-Position aus der erforderlichen Stellgröße zu ermitteln, einen deaktivierten Zustand der Regler-Einheit sicherzustellen und der Vorsteuer-Einheit die ermittelte Soll-Position bereitzustellen.
„Ein“ ist vorliegend nicht zwangsweise als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine genaue Beschränkung auf genau die entsprechende Anzahl von Elementen verwirklicht sein muss. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit vorliegend nichts Gegenteiliges angegeben ist.
Die für das Verfahren beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für das vorgeschlagene optische System entsprechend und umgekehrt.
Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.

1A zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer EUV-Lithographieanlage;
1B zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer DUV-Lithographieanlage;
2 zeigt eine Einrichtung eines Facettenspiegels aus 1A gemäß einer Ausführungsform;
3 zeigt verschiedene Kraft-Weg-Kennlinien für die Einrichtung aus 2 gemäß einer Ausführungsform;
4 zeigt in einem Ausschnitt aus der Lithographieanlage aus 1A mehrere Einrichtungen, welche einen Teil eines Facettenspiegels ausbilden, gemäß einer Ausführungsform;
5 zeigt in einem Blockschaltbild die Einrichtung aus 2 samt weiterer Komponenten gemäß einer Ausführungsform; und
6 zeigt ein Flussdiagramm gemäß einer Ausführungsform.

In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.
1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht EUV für „extremes Ultraviolett“ (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind jeweils in einem nicht gezeigten Vakuum-Gehäuse vorgesehen, wobei jedes Vakuum-Gehäuse mithilfe einer nicht dargestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum-Gehäuse sind von einem nicht dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren beziehungsweise Einstellen von optischen Elementen vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein.
Die EUV-Lithographieanlage 100A weist eine EUV-Lichtquelle 106A auf. Als EUV-Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle (oder ein Synchrotron) vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV-Bereich (extrem ultravioletter Bereich), also beispielsweise im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 20 nm, aussendet. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebündelt und die gewünschte Betriebswellenlänge aus der EUV-Strahlung 108A herausgefiltert. Die von der EUV-Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und im Projektionssystem 104 evakuiert sind.
Das in 1A dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf eine Photomaske (Engl.: reticle) 120 geleitet. Die Photomaske 120 ist ebenfalls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 122 auf die Photomaske 120 gelenkt werden. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.
Das Projektionssystem 104 (auch als Projektionsobjektiv bezeichnet) weist sechs Spiegel M1 bis M6 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Spiegel M1 bis M6 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel M1 bis M6 der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel M1 bis M6 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel M1 bis M6 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 100B, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht DUV für „tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 können - wie bereits mit Bezug zu 1A beschrieben - in einem Vakuumgehäuse angeordnet und/oder von einem Maschinenraum mit entsprechenden Antriebsvorrichtungen umgeben sein.
Die DUV-Lithographieanlage 100B weist eine DUV-Lichtquelle 106B auf. Als DUV-Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emittiert.
Das in 1B dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist Linsen 127 und/oder Spiegel 131 (lediglich beispielhaft sind zwei solcher Elemente in 1B gezeigt) auf, welche die DUV-Strahlung 108B auf eine Photomaske 120 leiten.
Die Photomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.
Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 128 und/oder Spiegel 130 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Linsen 128 und/oder Spiegel 130 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen 128 und Spiegel 130 der DUV-Lithographieanlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen 128 und/oder Spiegel 130 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel 130 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
Ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 128 und dem Wafer 124 kann durch ein flüssiges Medium 132 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 aufweist. Das flüssige Medium 132 kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf. Das Medium 132 kann auch als Immersionsflüssigkeit bezeichnet werden.
2 zeigt eine Einrichtung 200. Beispielsweise können einer oder mehrere der Spiegel 110 - 118, 131 des Beleuchtungssystems 102 als Facettenspiegel ausgebildet sein und jeweils eine Vielzahl der Einrichtungen 200 aufweisen. Dies ist beispielhaft in 4 angedeutet. Diese zeigt beispielhaft drei Einrichtungen 200, 200', 200", welche gemeinsam den Facettenspiegel 116 aus 1A ausbilden. Selbstverständlich könnten die Einrichtungen 200 auch jeden anderen Facettenspiegel aus 1A bilden.
Nun zurückkehrend zu 2, ist dort gezeigt, dass die Einrichtung 200 eine optische Komponente in Form eines Facetten-Einzelspiegels 202 (im Weiteren „Spiegel“) aufweist. Der Spiegel 202 weist an seiner Oberseite eine optisch wirksame Fläche 204 auf. Die optisch wirksame Fläche 204 ist dazu eingerichtet, die Strahlung 108A, hier angedeutet als einzelner Lichtstrahl, zu reflektieren, beispielsweise in den 1A und 4 von dem Spiegel 116 hin zu dem Spiegel 118.
An seiner Rückseite stützt sich der Spiegel 202 über zwei Festkörpergelenke 206 (Engl.: flexures) an einem Tragelement 208 ab. Weiter ist an der Rückseite des Spiegels 202 ein Stab 210 angeordnet, welcher sich nach unten durch das Tragelement 208 erstreckt. Der Stab 210 trägt an seinem freien Ende einen Permanentmagneten 212. Dem Permanentmagneten liegt - durch einen Luftspalt 214 getrennt - ein Elektromagnet 216 gegenüber. Der Elektromagnet 216 weist beispielsweise zwei oder vier Spulen 218 auf, von denen in 2 nur eine dargestellt ist. Über die Spulen 218 kann der Elektromagnet 216 ein magnetisches Feld 220 erzeugen. Dieses ist sowohl hinsichtlich seiner Intensität als auch hinsichtlich seiner Lage im Raum einstellbar. Die Einstellung erfolgt dabei in Abhängigkeit von einer Stellgröße SG. Die Stellgröße SG wird vorzugsweise als ein elektrisches Spannungs- und/oder Stromsignal bereitgestellt, welches eine von dem Aktuator 216 auf den Permanentmagneten 212 aufzubringende Kraft repräsentiert.
Der Magnet 212 bewegt sich unter dem Einfluss des magnetischen Felds 220, was beispielsweise dazu führt, dass der Stab 210 aus der in durchgezogener Linie gezeigten Stellung in die in gestrichelter Linie gezeigte Stellung schwenkt. Entsprechend schwenkt dabei auch der Spiegel 202 samt seiner optisch wirksamen Fläche 204. Dies führt wiederum zu einem Verbiegen der Festkörpergelenke 206, wobei diese aufgrund der ihnen innewohnenden Federsteifigkeit k eine entsprechende Gegenkraft erzeugen, welche dem Verschwenken des Stabs 210 entgegenwirkt.
Die Position des Spiegels 202, insbesondere dessen optischer Fläche 204, wird mithilfe einer Sensor-Einheit 222 erfasst. Bei der Position kann es sich um eine Rotation und/oder Translation des Spiegels 202 handeln. Es können auch mehrere Sensoren 222 vorgesehen sein, welche die Position des Spiegels in bis zu sechs Freiheitsgraden erfassen. Entsprechend der Position des Spiegels 202 und dessen optischer Fläche 204 ergibt sich die Reflexion der Strahlung 108a. 2 zeigt in gestrichelter Darstellung die Änderung der Reflexionsrichtung des Strahls 108A bei einer entsprechenden Veränderung der Position des Spiegels 202.
3 zeigt ein Kraft-Weg-Diagramm für die Einrichtung 200 aus 2. Dabei ist mit F eine allgemein auf den Spiegel 202 aufzubringende Kraft bezeichnet. P bezeichnet allgemein eine aus der aufgebrachten Kraft F resultierende Position des Spiegels 202, wobei mit der Position P sowohl eine Translation wie auch eine Rotation gemeint sein kann.
Mit J₁ ist ein Zusammenhang von F und P beschrieben, wie er zu einem Zeitpunkt t₁ angetroffen wird. J₂ zeigt dagegen diesen Zusammenhang zu einem Zeitpunkt t₂ . Der Unterschied zwischen den Kurven J₁ und J₂ erklärt sich mitunter durch Alterungsprozesse. Diese führen zu Veränderungen der Steifigkeit k der Festkörpergelenke 206 über die Zeit. Außerdem zeigen die Kurven J₁ und J₂ jeweils, dass der Zusammenhang zwischen der Kraft F und der Position P nicht linear ist. Allerdings ist in 3 die Kurve J₁ durch die Gerade J₃ angenähert, welche dem hookeschen Gesetz folgt. Weiterhin zeigt 3 eine Kurve J₄ . J₄ beschreibt den Zusammenhang zwischen der Kraft F und der Position P, wie er für eine beispielhafte (repräsentative) Einrichtung 200 auf einer Messapparatur außerhalb der Lithographieanlage 100A vor Inbetriebnahme dieser gemessen wurde. Demgegenüber zeigen die Kurven J₁ und J₂ , wie erwähnt, die tatsächlich vorliegenden Verhältnisse bei der Einrichtung 200 (und genau dieser) in der Lithographieanlage 100A zu den Zeitpunkten t₁ , t₂ .
4 zeigt mehrere Einrichtungen 200, 200', 200", welche den Facettenspiegel 116 ausbilden. Beispielsweise können mehrere hundert, beispielsweise > 100 solcher Einrichtungen vorgesehen sein, welche einen einzigen Facettenspiegels ausbilden. Die von dem Spiegel 202 reflektierte Strahlung 108A soll in einer Parkposition PP desselben in ein Zielgebiet 400 reflektiert werden, die von dem Spiegel 202' reflektierte Strahlung 108A' in dessen Parkposition PP' in ein Zielgebiet 400'. Die Parkpositionen PP, PP' werden nachfolgend noch näher beschrieben. Es sei jedoch an dieser Stelle bereits erwähnt, dass die Parkposition PP, PP' beispielsweise ausgewählt werden in Abhängigkeit von einer thermischen Belastung, welche sich aufgrund der Spiegel 202, 202' in ihrer jeweiligen Parkposition PP, PP' ergibt. Insbesondere können die Parkpositionen PP, PP' derart gewählt sein, dass sich die Zielgebiete 400, 400' nicht auf ein und derselben anderen optischen Komponente überlappen. Die Zielgebiete 400, 400' können beispielsweise auf dem Spiegel 118 (siehe 1A) liegen. Eine Überlappung der Zielgebiete 400, 400' könnte dazu führen, dass der Spiegel 118 bereichsweise zu heiß wird und dadurch Schaden nimmt.
Die geeignete Auswahl der Parkpositionen PP, PP' stellt einen ersten Schritt 600 gemäß dem in 6 illustrierten Flussdiagramm, das ein beispielhaftes Verfahren illustriert, dar.
5 zeigt die Einrichtung 200 als Blockschaubild, wobei der Spiegel 202 samt der Festkörpergelenke 206 und seiner weiteren ihn bestimmenden mechanischen und elektromechanischen Eigenschaften als ein Block dargestellt ist. Auch der Elektromagnet 216 ist als ein Block dargestellt. Dieser erzeugt die Kraft F (siehe 3), welche zu einer Ist-Position P_ist des Spiegels 202 (siehe 2) führt. Die Ist-Position P_ist wird von der Sensor-Einheit 222, die in 5 ebenfalls als Block dargestellt ist, erfasst.
Die Einrichtung 200 weist weiter eine Steuer-Einheit 500 auf. Diese ermittelt im Regel-Betrieb der Lithographieanlage 100A die Soll-Position P_soll des Spiegels 202. Diese bestimmt sich nach Anforderungen, welche schlussendlich die auf dem Wafer 124 (siehe 1A) abzubildende Struktur stellt.
Weiter weist die Einrichtung 200 eine Sicherheits-Einheit 502 auf. Die Sichereinheits-Einheit 502 ist dazu eingerichtet, die von der Steuer-Einheit 500 bereitgestellten Soll-Positionen P_soll zu überprüfen. Dabei werden unzulässige Soll-Positionen durch zulässige Soll-Positionen ersetzt. Unzulässig sind beispielsweise solche Soll-Positionen des Spiegels 202, welche zu einer Kollision des Spiegels 202 mit anderen Elementen der Lithographieanlage 100A oder zu einer thermischen Überbelastung, beispielsweise an dem Spiegel 118 (siehe 1A) oder an einer sonstigen Stelle in der Lithographieanlage 100A, führen.
Die so gefilterten Soll-Positionen P_soll werden auf einem Speicher 504 der Einrichtung 200 gespeichert. Eine Bereitstell-Einheit 506 der Einrichtung 200 stellt schließlich die Soll-Position P_soll sowohl an eine Regler-Einheit 508 als auch an eine Vorsteuer-Einheit 510 bereit.
Die Regler-Einheit 508 regelt einen ersten Teil der Stellgröße SG₁ in Abhängigkeit von der Soll-Position P_soll und der Ist-Position P_ist . Hierzu können die Soll- und Ist-Position P_soll , P_ist in einer der Regler-Einheit 508 vorgeschalteten Vergleicher-Einheit 512 miteinander verglichen werden, wobei ein Vergleichswert der Regler-Einheit 508 bereitgestellt wird. Der Regler-Einheit 508 nachgeordnet ist eine Schalter-Einheit 514, deren Funktion nachfolgend noch näher erläutert wird. Auf die Schalter-Einheit 514 folgt eine Addier-Einheit 516. Die Addier-Einheit 516 addiert den ersten Teil der Stellgröße SG₁ mit einem zweiten Teil der Stellgröße SG₂ zu der Stellgröße SG.
Die Vorsteuer-Einheit 510 stellt in Abhängigkeit der Soll-Position P_soll die zweite Stellgröße SG₂ an der Addier-Einheit 516 bereit. Hierzu ist auf der Vorsteuer-Einheit 510 die hookesche Gleichung hinterlegt: ${SG}_{2} = k * P_{soll},$
Diese Gleichung stellt dabei den der Gerade J₃ zugrundeliegenden Zusammenhang zwischen der Kraft F und der Position P dar, wobei die Konstante den Federsteifigkeiten k der Festkörpergelenke 206 entspricht.
Mit anderen Worten liefert die Vorsteuer-Einheit einen einfach und deshalb schnell zu berechnenden Wert SG₂ für die von dem Elektromagneten 216 zu erzeugende Kraft F. Der Wert SG₂ wird mithilfe der Regler-Einheit 508 um den Wert SG₁ korrigiert, um so präzise die gewünschte Position P_soll auf Basis der Ist-Position P_ist anzufahren.
Neben dem vorstehend beschriebenen Regel-Betrieb, welcher mitunter die Belichtung des Wafers 124 vorsieht, weist die Einrichtung 200 bzw. die Lithographieanlage 100A einen Kalibrierbetrieb beziehungsweise Kalibrierschritt auf. In dem Kalibrierbetrieb beziehungsweise Kalibrierschritt wird der Spiegel 202 in seiner Parkposition PP (siehe 4) positioniert.
Wie bereits in Zusammenhang mit 4 beschrieben, kann die Parkposition PP beispielsweise in Abhängigkeit von einer erwarteten thermischen Belastung ausgewählt werden. Ein weiteres Kriterium für die Auswahl der Parkposition PP kann ein prognostizierter Vorsteuerfehler sein. Dieser ergibt sich daraus, dass, wenn der Elektromagnet 216 nur mithilfe der Vorsteuer-Einheit 510, also dem zweiten Teil der Stellgröße SG₂ , angesteuert wird und eine entsprechende Kraft F auf die optische Komponente 202 aufbringt, keine Korrektur auf Basis der Ist-Position P_ist stattfindet. Sodann wirken sich Toleranzen beispielsweise innerhalb des Elektromagneten 216 und der optischen Komponente 202 derart aus, dass die dann angefahrene Parkposition PP selbst toleranzbehaftet ist. Entsprechend ergibt sich das Zielgebiet 400 auch als eine mehr als nur „punktförmige“ Fläche. Vorzugsweise sind dabei Überschneidungen mit anderen Zielgebieten 400' zu vermeiden, so dass die Parkposition PP entsprechend auszuwählen ist. Des Weiteren können sich entsprechende Toleranzen bei der Parkposition PP aufgrund eines Übersprechens (elektromagnetische Wechselwirkung) mit anderen Komponenten benachbarter Einrichtungen 200', 200" ergeben.
In dem Kalibrierschritt, in 6 mit 602 bezeichnet, findet zunächst das Positionieren des Spiegels 202 in der Parkposition PP statt. Dies geschieht mithilfe des Elektromagneten 216, der Vorsteuer-Einheit 510, der Regler-Einheit 508 und der Sensor-Einheit 222. Die Soll-Position P_soll , welche an der Regler-Einheit 508 und der Vorsteuer-Einheit 510 bereitgestellt wird, entspricht der Parkposition PP, wie in dem Auswahlschritt 600 ermittelt. Dieser Positionierschritt ist in 6 mit 602-1 bezeichnet. Auf den Positionierschritt 602-1 folgt das Erfassen der in der Soll-Position P_soll an dem Elektromagneten 216 anliegenden Stellgröße SG.
In einem sich anschließenden Schritt 602-3 wird aus der erfassten Stellgröße, also einer Kraft F bzw. einem elektrischen Spannungs- und/oder Stromsignal eine (insbesondere im Fehlerfall anzuwendenden) Soll-Position P_soll ermittelt und anschließend abgespeichert. Das Ermitteln der Soll-Position P_soll aus der erfassten Stellgröße SG erfolgt in Schritt 602-3 unter Verwendung der auf der Vorsteuer-Einheit 510 hinterlegten Gleichung (vorliegend als Abhängigkeitsverhältnis bezeichnet), die nach der Soll-Position P_soll aufgelöst wird: $P_{soll} = SG / k,$
wobei SG die erfasste Stellgröße und k die oben erwähnten Federsteifigkeit ist.
Die Schritte 602-1 bis 602-3 können sämtlich auf der Steuer-Einheit 500 ausgeführt werden, welche zu diesem Zweck mit den die Signale SG₁ , SG₂ , SG und P_ist tragenden Signalpfaden verbunden ist.
Der Kalibrierschritt 602 kann über die Lebensdauer der Lithographieanlage 100A wiederholt werden. Beispielsweise kann erstmals der Kalibrierschritt 602 vor Inbetriebnahme, also vor dem ersten Belichtungsbetrieb, stattfinden. Hiernach kann der Schritt 602 in zeitlichen Abständen, beispielsweise alle 24 Stunden, einmal im Monat oder einmal jährlich, wiederholt werden, um so Alterungsprozesse, beispielsweise der Festkörpergelenke 206 oder sonstiger Komponenten der Lithographieanlage 100A, berücksichtigen zu können.
Die Alterungseffekte sind beispielhaft anhand von 3 gezeigt. So ergibt sich für die Parkposition PP zum Zeitpunkt t₁ ein Schnittpunkt F_t1 mit der Kurve J₁ und zu einem Zeitpunkt t₂ ein Schnittpunkt F_t2 mit der Kurve J₂ . Entsprechend sind zu unterschiedlichen Zeitpunkten unterschiedliche Kräfte und damit unterschiedliche Stellgrößen erforderlich, um dieselbe Parkposition PP für den Spiegel 202 einzustellen. Sollen nun diese unterschiedlichen Kräfte F_t1 oder F_t2 mithilfe der Vorsteuer-Einheit 510 unter Ausschluss der Regler-Einheit 508 erzeugt werden, so ergeben sich, aufgrund des auf dieser hinterlegten Abhängigkeitsverhältnisses (siehe Gleichung oben) unterschiedliche (virtuelle) Soll-Positionen des Spiegels 202, welche der Vorsteuer-Einheit 510 vorgegeben werden müssen, damit die jeweils gewünschte Kraft F von dem Elektromagneten 216 erzeugt wird. Diese virtuellen Sollpositionen des Spiegels 202 sind mit P_{Soll_t1} und P_{Soll_t2} bezeichnet und auf einen Speicher 501 der Einrichtung 200 abgespeichert.
Zurückkehrend zu 6 wird hier gestrichelt ein alternatives Vorgehen zu dem Kalibrierschritt 602 illustriert. Dieser nicht an der tatsächlichen Situation orientierte Kalibrierschritt ist mit 602' bezeichnet. In dem Kalibrierschritt 602' wird in einer Messapparatur außerhalb der Lithographieanlage 100A anhand eines beispielhaften, also repräsentativen Aufbaus einer Einrichtung 200 deren Kraft-Weg-Verhalten eruiert. Dazu wird die Kennlinie J₄ in 3 gemessen, welche für diesen repräsentativen Aufbau die Kraft F in Abhängigkeit von der Ist-Position P_ist des Spiegels 202 beschreibt. Anschließend wird, indem die Ist-Position P_ist gleich der Parkposition PP gesetzt wird, die dann erforderliche Kraft F_M , also Stellgröße SG, mithilfe der Kennlinie J₄ ermittelt. Während das Messen der Kennlinie J₄ in Schritt 602'-1 beschrieben ist und außerhalb der Lithographieanlage 100A erfolgt, kann der Schritt des Ermittelns der erforderlichen Stellgröße SG gemäß Schritt 602'-2 in der Lithographieanlage 100A zu einem beliebigen Zeitpunkt erfolgen. Dazu kann die Kennlinie J₄ in Tabellenform oder als beispielsweise nichtlineare Gleichung in dem Speicher 501 hinterlegt sein. In einem Schritt 602'-3 wird aus der Kraft F_M (Stellgröße SG) die (virtuelle) Sollposition P_{soll_M} mithilfe des oben beschriebenen Abhängigkeitsverhältnisses ermittelt und auf dem Speicher 501 abgespeichert.
Die Steuereinheit 500 kann dazu eingerichtet sein, den Verfahrensschritt 602'-2 und 602'-3 auszuführen. Das Verfahren gemäß Schritt 602' bietet sich insbesondere dann an, wenn (noch) kein Kalibrierschritt gemäß 602 durchgeführt werden konnte.
Wird nun beispielsweise im Regel-Betrieb der Einrichtung 200 bzw. der Lithographieanlage 100A festgestellt, dass sich die Sensor-Einheit 222 und/oder die Regler-Einheit 508 in einem Fehlerzustand befindet, so wird ein deaktivierter Zustand der Regler-Einheit 508 hergestellt. Dazu wird die Schalter-Einheit 514 geöffnet. Entsprechend ist der erste Teil der Stellgröße SG₁ , welcher an der Addier-Einheit 516 bereitgestellt wird, null. Beispielsweise kann die Steuer-Einheit 500 dazu eingerichtet sein, den Fehlerzustand zu erkennen. Dies kann sie beispielsweise dadurch, dass sie die von der Sensor-Einheit 222 erfassten Ist-Position P_ist mit zulässigen, auf dem Speicher 501 gespeicherten Ist-Positionen vergleicht. Zusätzlich oder alternativ kann die Steuer-Einheit 500 eine Korrelation zwischen P_ist und P_soll erstellen und diese Korrelation mit einer zulässigen, ebenfalls auf dem Speicher 501 gespeicherten Korrelation vergleichen. Weiter kann die Steuer-Einheit 500 mit der Schalter-Einheit 514 signaltechnisch verbunden sein und diese zum Öffnen des Signalpfads zwischen der Regler-Einheit 508 und der Addier-Einheit 516 ansteuern, wenn sie den Fehlerzustand detektiert.
Der Schritt des Detektierens des Fehlerzustands ist in 6 mit 603, der Schritt des Öffnens der Schalter-Einheit 514 mit 604 bezeichnet.
An den Schritt 604 schließt sich nun der Schritt 605 an. In diesem werden die auf dem Speicher 501 in dem Schritt 602 bzw. 602' gespeicherten Soll-Position P_{soll_t1} , P_{soll_M} , P_{soll_t2} von der Steuer-Einheit 500 via dem Sollwert-Speicher 504 und der Bereitstell-Einheit 506 an die Vorsteuer-Einheit 510 sowie die Regler-Einheit 508 ausgegeben. Allerdings erfolgt zuvor ein Ausschalten der Sicherheits-Einheit 502. Denn insoweit besteht die Möglichkeit, dass diese die Soll-Position P_{soll_t1} , P_{soll_M} , P_{soll_t2} herausfiltert, weil sie sie für unzulässig hält, da sie von einem Regel-Betrieb ausgeht.
Der Schritt des Verfahrens des Spiegels 202 in die Parkposition PP ist in 6 mit 606 bezeichnet. Die Stellgröße SG wird dabei ausschließlich von dem zweiten Teil des Stellsignals SG₂ bestimmt, da der erste Teil des Stellsignals SG₁ null ist. Die Vorsteuer-Einheit 510 ermittelt unter Zugrundelegung des auf ihm hinterlegten Abhängigkeitsverhältnisses (siehe Gleichung oben) auf Basis der (virtuellen) Soll-Position, je nach Fall, PP'_t1 , PP'_M , PP'_t2 die entsprechende Kraft F_t1 , F_M , F_t2 , die als - Stellgröße dem Elektromagneten 216 bereitgestellt - eine Kraft auf den Spiegel 202 bewirkt, so dass dieser in die Parkposition PP verstellt wird. In der Parkposition werden sodann störende Lichtpfade vermieden. Der Defekt an der Sensor-Einheit 222 und/oder Regler-Einheit 508 ist somit für die Lithographieanlage 100A im Regelbetrieb unschädlich.
Wird das vorliegende beschriebene Verfahren bei einer ersten Einrichtung 200 von mehreren Einrichtungen 200, 200', 200" angewandt, so wird für die Schritte 602-1 bis 602-3 die Stellgröße SG für die Elektromagneten 216 der jeweils anderen Einrichtungen 200', 200" auf null gestellt. Es kann vorgesehen sein, dass alle anderen oder nur die im engeren (vordefinierten Umkreis) angeordneten Einrichtungen 200', 200" auf null gestellt werden. Letzteres Vorgehen hat den Vorteil, dass auf mehreren Kanälen parallel und damit schneller kalibriert werden kann. Dadurch werden elektromagnetische Wechselwirkungen stark reduziert oder ganz vermieden, während die Stellgröße SG in der Parkposition für den Spiegel 202 der Einrichtung 200 ermittelt wird. Genauso wird für die zweite Einrichtung 200' und weitere Einrichtungen verfahren.
Obwohl die Erfindung vorliegend anhand der Facettenspiegels 116 sowie der EUV-Lithographieanlage 100A erläutert wurde, ist sie darauf keinesfalls beschränkt, sondern vielfältig modifizierbar. Anstelle eines Facettenspiegels bzw. Spiegels 202 kann auch eine jede andere optische Komponente, beispielsweise eine Linse, in einer Parkposition positioniert werden. Weiterhin kommt als optisches System beispielsweise die DUV-Lithographieanlage 100B oder ein nicht-gezeigtes Messsystem im Lithographiebereich in Betracht.
Bezugszeichenliste

100A: EUV-Lithographieanlage
100B: DUV-Lithographieanlage
102: Strahlformungs- und Beleuchtungssystem
104: Projektionssystem
106A: EUV-Lichtquelle
106B: DUV-Lichtquelle
108A: EUV-Strahlung
108A': EUV-Strahlung
108B: DUV-Strahlung
110: Spiegel
112: Spiegel
114: Spiegel
116: Spiegel
118: Spiegel
120: Photomaske
122: Spiegel
124: Wafer
126: optische Achse
127: Linse
128: Linse
130: Spiegel
131: Spiegel
132: Medium
200: Einrichtung
200': Einrichtung
200": Einrichtung
202: Spiegel
202': Spiegel
204: optisch wirksame Fläche
206: Festkörpergelenk
208: Tragelement
210: Stab
212: Permanentmagnet
214: Luftspalt
216: Elektromagnet
218: Spule
220: magnetisches Feld
222: Sensoreinheit
400: Zielgebiet
400': Zielgebiet
500: Steuereinheit
501: Speicher
502: Sicherheits-Einheit
504: Speicher
506: Bereitstell-Einheit
508: Regler-Einheit
510: Vorsteuer-Einheit
512: Vergleicher-Einheit
514: Schalter-Einheit
516: Addier-Einheit
600: Schritt
602: Schritt
602': Schritt
602-1: Schritt
602'-2: Schritt
602-2: Schritt
602'-2: Schritt
602-3: Schritt
602'-3: Schritt
603: Schritt
604: Schritt
605: Schritt
606: Schritt
F: Kraft
M1: Spiegel
M2: Spiegel
M3: Spiegel
M4: Spiegel
M5: Spiegel
M6: Spiegel
P: Position
P_ist: Ist-Position
P_soll: Soll-Position
P_{soll_M}: virtuelle Soll-Position
P_{soll_t1}: virtuelle Soll-Position
P_{soll_t2}: virtuelle Soll-Position
PP: Parkposition
PP': Parkposition
SG: Stellgröße
SG₁: erster Teil der Stellgröße
SG₂: zweiter Teil der Stellgröße
k: Steifigkeit
J₁ - J₄: Kurve

Claims

Verfahren zum Positionieren einer optischen Komponente (202) in eine Parkposition (PP) in einem optischen System (100A, 100B), wobei das optische System (100A, 100B) aufweist: einen Aktuator (216), welcher dazu eingerichtet ist, die optische Komponente (202) in Abhängigkeit von einer Stellgröße (SG) zu positionieren, eine Sensor-Einheit (222), welche dazu eingerichtet ist, eine Ist-Position (P_ist) der optischen Komponente (202) zu erfassen, eine Regler-Einheit (508), welche dazu eingerichtet ist, einen ersten Teil der Stellgröße (SG₁) in Abhängigkeit von einer Soll-Position (P_soll) der optischen Komponente (202) und der erfassten Ist-Position (P_ist) zu regeln, eine Vorsteuer-Einheit (510), welche dazu eingerichtet ist, einen zweiten Teil der Stellgröße (SG₂) mithilfe eines Abhängigkeitsverhältnisses zu ermitteln, das eine Abhängigkeit des zweiten Teils der Stellgröße (SG₂) von der Soll-Position (P_soll) der optischen Komponente (202) beschreibt, und eine Addier-Einheit (516), welche dazu eingerichtet ist, den ersten Teil und den zweiten Teil der Stellgröße (SG₁, SG₂) zu der Stellgröße (SG) zu addieren, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: a) Ermitteln (602-1, 602-2, 602'-1, 602'-2) einer erforderlichen Stellgröße (SG) zum Positionieren der optischen Komponente (202) in der Parkposition (PP), b) Ermitteln (602-3, 602'-3) einer Soll-Position (P_{soll_t1}, P_{soll_t2}, P_{soll_M}) aus der ermittelten Stellgröße (SG) mithilfe des Abhängigkeitsverhältnisses, c) Sicherstellen (604) eines deaktivierten Zustands der Regler-Einheit (508), d) Ermitteln (605) des zweiten Teils der Stellgröße (SG₂) in Abhängigkeit von der ermittelten Soll-Position (P_{soll_t1}, P_{soll_t2}, P_{soll_M}) mithilfe der Vorsteuer-Einheit (510), und e) Positionieren (606) der optischen Komponente (202) in Abhängigkeit von dem ermittelten zweiten Teil der Stellgröße (SG₂) mithilfe des Aktuators (216).
Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Schritte c) bis e) bei Feststellen (603) eines Fehlerzustands der Sensor-Einheit (222) und/oder der Regler-Einheit (508) ausgeführt werden.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Ermitteln der erforderlichen Stellgröße in Schritt a) umfasst: aa) Positionieren (602-1) der optischen Komponente (202) in der Parkposition (PP) mithilfe des Aktuators (216), der Vorsteuer-Einheit (510), der Regler-Einheit (508) und der Sensor-Einheit (222), wobei die Soll-Position (P_soll) der optischen Komponente (202) gleich der Parkposition (PP) der optischen Komponente (202) ist, und bb) Erfassen (602-2) der erforderlichen Stellgröße (SG).
Verfahren nach Anspruch 3, wobei die Schritte aa) und bb) über die Lebensdauer des optischen Systems (100A, 100B) zur Berücksichtigung von Alterungsprozessen wiederholt werden.
Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, wobei in Schritt b) aus der in Schritt bb) erfassten Stellgröße (SG) die Sollposition (P_{soll_t1}, P_{soll_t2}) mithilfe des Abhängigkeitsverhältnisses ermittelt und anschließend abgespeichert (602-3) wird.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Ermitteln der erforderlichen Stellgröße in Schritt a) umfasst: Messen (602'-1) einer Kennlinie (J4), welche die erforderliche Stellgröße (SG) in Abhängigkeit der Ist-Position (P_ist) der optischen Komponente beschreibt, außerhalb des optischen Systems (100A, 100B) und/oder vor Inbetriebnahme desselben, und Ermitteln (602'-2) der erforderlichen Stellgröße (SG) mithilfe der Kennlinie (J₄), wobei die Ist-Position (P_ist) gleich der Parkposition (PP) ist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1-6, wobei für das Sicherstellen (603) des deaktivierten Zustands der Regler-Einheit (508) in Schritt c) der erste Teil der Stellgröße (SG₁) auf null gesetzt wird, wozu insbesondere eine Schalter-Einheit (514) in einem Signalpfad zwischen der Regler-Einheit (508) und der Addier-Einheit (516) geöffnet wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1-7, wobei das optische System (100A, 100b) ferner eine Sicherheits-Einheit (502) aufweist, welche dazu eingerichtet ist, eine unzulässige Soll-Position (P_soll) durch eine zulässige Soll-Position (P_soll) zu ersetzen, wobei die Sicherheits-Einheit (502) in dem deaktivierten Zustand der Regler-Einheit (508) ausgeschaltet (605) wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1-8, wobei die Stellgröße (SG) eine von dem Aktuator (216) auf die optische Komponente (202) aufzubringende Kraft (F) repräsentiert.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1-9, wobei das Abhängigkeitsverhältnis wie folgt definiert ist: ${SG}_{2} = c * P_{soll},$
wobei SG₂ der zweite Teil der Stellgröße, P_soll die Sollposition, und c eine Konstante ist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1-10, wobei: das optische System (100A, 100B) ferner eine Feder (206), insbesondere ein Festkörpergelenk, mit einer Federsteifigkeit k aufweist, die Feder (206) dazu eingerichtet ist, in Abhängigkeit von der Ist-Position (P_ist) der optischen Komponente (202) und der Federsteifigkeit k eine Kraft (F) auf die optische Komponente (202) auszuüben, und der Aktuator (216) dazu eingerichtet ist, die optische Komponente (202) in Abhängigkeit von der Stellgröße (SG) gegen die von der Feder (206) erzeugte Kraft (F) zu positionieren.
Verfahren nach Anspruch 10 und 11, wobei die Konstante c gleich der Federsteifigkeit k ist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1-12, wobei die Parkposition (PP) ausgewählt wird in Abhängigkeit: einer thermischen Belastung, welche sich aufgrund der optischen Komponente (202) in der Parkposition (PP) ergibt, eines prognostizierten Vorsteuerfehlers, und/oder eines Übersprechens mit zumindest einer Vorsteuer-Einheit (508) und/oder Regler-Einheit (510) einer anderen optischen Komponente.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1-13, wobei: eine Vielzahl Einrichtungen (200, 200', 200") vorgesehen ist, welche jeweils umfassen: eine optische Komponente (202, 202'), einen Aktuator (216), welcher dazu eingerichtet ist, die optische Komponente (202) in Abhängigkeit von einer Stellgröße (SG) zu positionieren, eine Sensor-Einheit (222), welche dazu eingerichtet ist, eine Ist-Position (P_ist) der optischen Komponente (202) zu erfassen, eine Regler-Einheit (508), welche dazu eingerichtet ist, einen ersten Teil der Stellgröße (SG₁) in Abhängigkeit von einer Soll-Position (P_soll) der optischen Komponente (202) und der erfassten Ist-Position (P_ist) zu regeln, eine Vorsteuer-Einheit (510), welche dazu eingerichtet ist, einen zweiten Teil der Stellgröße (SG2) mithilfe eines Abhängigkeitsverhältnisses zu ermitteln, das eine Abhängigkeit des zweiten Teils der Stellgröße (SG₂) von der Soll-Position (P_soll) der optischen Komponente (202) beschreibt, und eine Addier-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, den ersten Teil und den zweiten Teil der Stellgröße (SG₁, SG₂) zu der Stellgröße (SG) zu addieren, und für jede Einrichtung (200, 200', 200") die Schritte a) - e) ausgeführt werden, wobei insbesondere für eine jeweilige Einrichtung (200, 200', 200") das Ermitteln der erforderlichen Stellgröße (SG) in dem Schritt a) umfasst: Stellen der Stellgrößen (SG) für die Aktuatoren (216) der jeweils anderen Einrichtungen (200, 200', 200") auf null, Positionieren der optischen Komponente (202) in der Parkposition (PP) mithilfe der Vorsteuer-Einheit (510) und der Regler-Einheit (508), wobei die Soll-Position (P_soll) der optischen Komponente (202) gleich der Parkposition (PP) der optischen Komponente (202) ist, und Erfassen (602-1) der erforderlichen Stellgröße (SG).
Optisches System (100A, 100B), insbesondere Lithographieanlage, aufweisend: einen Aktuator (216), welcher dazu eingerichtet ist, die optische Komponente (202) in Abhängigkeit von einer Stellgröße (SG) zu positionieren, eine Sensor-Einheit (222), welche dazu eingerichtet ist, eine Ist-Position (P_ist) der optischen Komponente (202) zu erfassen, eine Regler-Einheit (508), welche dazu eingerichtet ist, einen ersten Teil der Stellgröße (SG₁) in Abhängigkeit von einer Soll-Position (P_soll) der optischen Komponente (202) und der erfassten Ist-Position (P_ist) zu regeln, eine Vorsteuer-Einheit (510), welche dazu eingerichtet ist, einen zweiten Teil der Stellgröße (SG₂) mithilfe eines Abhängigkeitsverhältnisses zu ermitteln, das eine Abhängigkeit des zweiten Teils der Stellgröße (SG₂) von der Soll-Position (P_soll) der optischen Komponente (202) beschreibt, eine Addier-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, den ersten Teil und den zweiten Teil der Stellgröße (SG₁, SG₂) zu der Stellgröße (SG) zu addieren, und eine Steuer-Einheit (500), welche dazu eingerichtet ist, eine erforderliche Stellgröße (SG) zum Positionieren der optischen Komponente (202) in der Parkposition zu ermitteln (602, 602'), aus der erforderlichen Stellgröße (SG) mithilfe des Abhängigkeitsverhältnisses eine Soll-Position (P_{soll_t1}, P_{soll_t2}, P_{soll_M}) zu ermitteln, einen deaktivierten Zustand der Regler-Einheit (508) sicherzustellen, und der Vorsteuer-Einheit (510) die ermittelte Soll-Position (P_{soll_t1}, P_{soll_t2}, P_{soll_M}) bereitzustellen.