DE102018203096B4 - Verfahren zum Betrieb eines Drucksystems für eine Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts und Vorrichtung zum Ausführen des Verfahrens - Google Patents

Verfahren zum Betrieb eines Drucksystems für eine Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts und Vorrichtung zum Ausführen des Verfahrens Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines Drucksystems einer Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts. Darüber hinaus betrifft die Erfindung eine Teilchenstrahlvorrichtung zum Ausführen dieses Verfahrens. Insbesondere ist die Teilchenstrahlvorrichtung eine Elektronenstrahlvorrichtung und/oder eine lonenstrahlvorrichtung. Das Verfahren umfasst Trennen einer Pumpe von einem Druckbehälter, Verbinden des Druckbehälters mit einer Vakuumkammer, Messen eines Behälterdrucks (V), der im Druckbehälter besteht, Ermitteln eines ersten Druckwerts (V1) des Behälterdrucks (V) zu einem ersten Zeitpunkt (T1) und eines zweiten Druckwerts (V2) des Behälterdrucks (V) zu einem zweiten Zeitpunkt (T2), wobei der zweite Zeitpunkt (T2) später als der erste Zeitpunkt (T1) ist, Ermitteln einer funktionalen Beziehung zwischen dem ersten Druckwert (V1) des Behälterdrucks (V) und dem zweiten Druckwert (V2) des Behälterdrucks (V), wobei die funktionale Beziehung eine Funktion der Zeit ist, Extrapolieren der funktionalen Beziehung für Zeitpunkte nach dem zweiten Zeitpunkt (T2), Ermitteln eines Schwellenzeitpunkts (TT1) unter Verwendung der extrapolierten funktionalen Beziehung, wobei der Schwellenzeitpunkt (TT1) ein Zeitpunkt ist, zu dem die extrapolierte funktionale Beziehung einen Druckschwellenwert erreicht, Ermitteln einer verbleibenden Zeitspanne (RT1), bis der Behälterdruck (V) den Druckschwellenwert erreicht, und Informieren eines Benutzers und/oder eines Steuersystems der Vorrichtung über die verbleibende Zeitspanne (RT1).

Description

  • TECHNISCHES GEBIET
  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines Drucksystems einer Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts. Darüber hinaus betrifft die Erfindung eine Teilchenstrahlvorrichtung zum Ausführen dieses Verfahrens. Insbesondere ist die Teilchenstrahlvorrichtung eine Elektronenstrahlvorrichtung und/oder eine lonenstrahlvorrichtung.
  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Elektronenstrahlvorrichtungen, insbesondere ein Rasterelektronenmikroskop (unten auch als REM bezeichnet) und/oder ein Transmissionselektronenmikroskop (unten auch als TEM bezeichnet), werden verwendet, um Gegenstände (auch als Proben bezeichnet) zu untersuchen, um Kenntnis in Bezug auf die Eigenschaften und das Verhalten der Gegenstände unter bestimmten Bedingungen zu erhalten.
  • In einem REM wird ein Elektronenstrahl (unten auch als primärer Elektronenstrahl bezeichnet) mithilfe eines Strahlerzeugers erzeugt und mittels eines Strahlenlenksystems auf ein zu untersuchendes Objekt fokussiert. Für Fokussierzwecke wird eine Objektivlinse verwendet. Der primäre Elektronenstrahl wird mittels einer Ablenkvorrichtung über eine Oberfläche des zu untersuchenden Objekts gelenkt. Dies wird auch als Rastern bezeichnet. Die vom primären Elektronenstrahl abgerasterte Fläche wird auch als Rasterbereich bezeichnet. Hier wechselwirken die Elektronen des primären Elektronenstrahls mit dem zu untersuchenden Objekt. Wechselwirkungsteilchen und/oder Wechselwirkungsstrahlung resultieren als Folge der Wechselwirkung. Beispielsweise sind die Wechselwirkungsteilchen Elektronen. Insbesondere werden Elektronen vom Objekt emittiert - die sogenannten Sekundärelektronen - und Elektronen des primären Elektronenstrahls werden rückgestreut - die sogenannten Rückstreuelektronen. Die Wechselwirkungsteilchen bilden den sogenannten sekundären Teilchenstrahl und werden von mindestens einem Teilchendetektor detektiert. Der Teilchendetektor erzeugt Detektionssignale, die verwendet werden, um ein Bild des Objekts zu erzeugen. So wird ein Bild des zu untersuchenden Objekts erhalten. Beispielsweise ist die Wechselwirkungsstrahlung Röntgenstrahlung oder Kathodolumineszenzlicht. Mindestens ein Strahlungsdetektor wird verwendet, um die Wechselwirkungsstrahlung zu detektieren.
  • Im Fall eines TEM wird ein primärer Elektronenstrahl gleichermaßen mithilfe eines Strahlerzeugers erzeugt und mittels eines Strahlenlenksystems auf ein zu untersuchendes Objekt gelenkt. Der primäre Elektronenstrahl tritt durch das zu untersuchende Objekt. Wenn der primäre Elektronenstrahl durch das zu untersuchende Objekt tritt, wechselwirken die Elektronen des primären Elektronenstrahls mit dem Material des zu untersuchenden Objekts. Die durch das zu untersuchende Objekt tretenden Elektronen werden auf einen Leuchtschirm oder einen Detektor abgebildet - zum Beispiel in Form einer Kamera - durch ein System, das ein Objektiv umfasst. Beispielsweise umfasst das vorgenannte System zusätzlich auch eine Projektionslinse. Hier kann eine Abbildung auch im Rastermodus eines TEM stattfinden. Ein derartiges TEM wird als RTEM bezeichnet. Zusätzlich kann vorgesehen sein, dass am zu untersuchenden Objekt rückgestreute Elektronen und/oder vom zu untersuchenden Objekt emittierte Sekundärelektronen mittels mindestens eines weiteren Detektors detektiert werden, um das zu untersuchende Objekt abzubilden.
  • Ein Kombinieren der Funktionen eines RTEM und eines REM in einer einzigen Teilchenstrahlvorrichtung ist bekannt. Es ist deshalb möglich, unter Verwendung dieser Teilchenstrahlvorrichtung Untersuchungen von Gegenständen mit einer REM-Funktion und/oder mit einer RTEM-Funktion durchzuführen.
  • Darüber hinaus ist eine Teilchenstrahlvorrichtung in Form einer lonenstrahlsäule bekannt. Ionen, die zum Bearbeiten eines Objekts verwendet werden, werden unter Verwendung eines lonenstrahlerzeugers erzeugt, der in der lonenstrahlsäule angeordnet ist. Beispielsweise wird Material des Objekts während der Bearbeitung abgetragen oder Material während der Bearbeitung auf das Objekt aufgetragen. Die Ionen werden zusätzlich oder alternativ zur Abbildung verwendet.
  • Ferner hat der Stand der Technik die Praxis des Analysierens und/oder Bearbeitens eines Objekts in einer Teilchenstrahlvorrichtung einerseits unter Verwendung von Elektronen und andererseits unter Verwendung von Ionen offenbart. Beispielsweise ist eine Elektronenstrahlsäule mit der Funktion eines REM an der Teilchenstrahlvorrichtung angeordnet. Zusätzlich ist eine lonenstrahlsäule, die weiter oben erläutert wurde, an der Teilchenstrahlvorrichtung angeordnet. Die Elektronenstrahlsäule mit der REM-Funktion dient insbesondere zum weiteren Untersuchen des bearbeiteten oder nicht bearbeiteten Objekts, aber auch zum Bearbeiten des Objekts.
  • Beim Erzeugen eines Bilds des Objekts beabsichtigt der Benutzer einer Elektronenstrahlvorrichtung immer, die ideale Bildqualität eines Bilds des Objekts zu erhalten, die zum Untersuchen eines Objekts erforderlich ist. Anders ausgedrückt wünscht ein Benutzer immer, ein Bild des Objekts mit einer derartigen hohen Bildqualität zu erzeugen, sodass der Benutzer das zu untersuchende Objekt anhand des Bilds und der darin enthaltenen Bildinformationen untersuchen kann.
  • Wie oben erwähnt ist es auch möglich, Wechselwirkungsstrahlung zu detektieren, zum Beispiel Kathodolumineszenzlicht und Röntgenstrahlung. Beim Detektieren von Wechselwirkungsstrahlung kann ein Benutzer einer Elektronenstrahlvorrichtung vor allem beabsichtigen, die Qualität der Darstellung der Detektionssignale eines Strahlungsdetektors auf Grundlage der detektierten Wechselwirkungsstrahlung zu erhalten, die zum Untersuchen eines Objekts erforderlich ist. Beispielsweise, falls Röntgenstrahlung vom Strahlungsdetektor detektiert wird, wird die Qualität der Darstellung z. B. durch ein gutes Detektionssignal des Strahlungsdetektors bestimmt.
  • Die Qualität eines Bilds und der Darstellung der Detektionssignale auf Grundlage der detektierten Wechselwirkungsstrahlung hängen von Vibrationen ab, die insbesondere von
    Pumpen, die verwendet werden, um ein Vakuum innerhalb der Elektronenstrahlvorrichtung zu erzeugen, und von Ventilen erzeugt werden, die Kammern der Elektronenstrahlvorrichtung mit den Pumpen verbinden. Eine bekannte Elektronenstrahlvorrichtung umfasst eine Vakuumkammer. Die Vakuumkammer kann einen Teilchenerzeuger zum Erzeugen eines Elektronenstrahls mit Elektronen umfassen und/oder kann das abzubildende, zu analysierende und/oder zu bearbeitende Objekt umfassen. Eine Turbomolekularpumpe befindet sich in Fluidverbindung mit der Vakuumkammer. Darüber hinaus befindet sich die Turbomolekularpumpe in Fluidverbindung mit einem Vakuumbehälter. Ein erstes Ventil ist zwischen der Turbomolekularpumpe und dem Vakuumbehälter angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen der Turbomolekularpumpe und dem Vakuumbehälter kann unter Verwendung des ersten Ventils angebunden oder getrennt werden. Der Vakuumbehälter befindet sich in Fluidverbindung mit einer Vorvakuumpumpe. Ein zweites Ventil ist zwischen dem Vakuumbehälter und der Vorvakuumpumpe angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen dem Vakuumbehälter und der Vorvakuumpumpe kann unter Verwendung des zweiten Ventils angebunden oder getrennt werden.
  • Die Vorvakuumpumpe wird zum Herstellen eines Vakuums mit einem niedrigen, im Vakuumbehälter bestehenden Vakuumbehälterdruck verwendet. Der niedrige Vakuumbehälterdruck kann gleich oder höher als 0,1 Pa sein. Wenn der Vakuumbehälterdruck einen unteren Schwellenwert erreicht, wird die Vorvakuumpumpe vom Vakuumbehälter getrennt. Der untere Schwellenwert kann beispielsweise 0,2 Pa betragen. Anders ausgedrückt wird das zweite Ventil geschlossen, sodass die Fluidverbindung zwischen dem Vakuumbehälter und der Vorvakuumpumpe unterbrochen ist. Darüber hinaus ist der Vakuumbehälter mit der Vakuumkammer verbunden. Anders ausgedrückt wird die Fluidverbindung zwischen dem Vakuumbehälter und der Vakuumkammer durch Öffnen des ersten Ventils hergestellt. Wenn die Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer und dem Vakuumbehälter hergestellt ist, erhöht sich der im Vakuumbehälter bestehende Vakuumbehälterdruck. Wenn der Vakuumbehälterdruck einen gegebenen Schwellenwert des Vakuumbehälterdrucks erreicht, wird das erste Ventil geschlossen, sodass die Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer und dem Vakuumbehälter unterbrochen wird. Darüber hinaus wird die Vorvakuumpumpe durch Öffnen des zweiten Ventils wieder mit dem Vakuumbehälter verbunden. Der Vakuumbehälter wird unter Verwendung der Vorvakuumpumpe abgepumpt. Der vorgenannte Kreislauf kann so oft wie notwendig, und während die Elektronenstrahlvorrichtung in Betrieb ist, wiederholt werden.
  • Das Öffnen und Schließen des ersten Ventils und des zweiten Ventils kann Störungen an der Elektronenstrahlvorrichtung verursachen. Diese Störungen können Vibrationen sein. Darüber hinaus können die Vibrationen durch Abpumpen des Vakuumbehälters verursacht werden. Falls ein Objekt während des Auftretens einer derartigen Störung abgebildet wird, kann das erhaltene Bild des Objekts von unzureichender Qualität sein und deshalb muss eine Abbildung des Objekts zum Erhalten eines Bilds des Objekts mit hoher Qualität wiederholt werden. Das Vorgenannte kann auch ein Problem sein, wenn große Objekte automatisch abgebildet werden und wenn ein Benutzer der Elektronenstrahlvorrichtung während der Abbildung nicht die ganze Zeit anwesend ist. Eine Abbildung eines großen Objekts kann bis zu Hunderten von Stunden dauern. Falls mehrere der Störungen zu verschiedenen Zeiten während des gesamten Prozesses der Abbildung des großen Objekts eintreten, können mehrere der erhaltenen Bilder von unzureichender Qualität sein. Ein Benutzer muss diese Bilder manuell heraussuchen, die nicht von hinreichender Qualität sind, und diese Bilder erneut erfassen. Darüber hinaus können die Störungen Schäden während eines Betriebs unter Verwendung eines Mikromanipulators verursachen, der zum Anordnen des Objekts innerhalb einer Objektkammer der Elektronenstrahlvorrichtung verwendet wird. Der Mikromanipulator kann mit dem Objekt oder mit einem Teil der Elektronenstrahlvorrichtung kollidieren, wenn diese Störungen auftreten. Dies kann das Objekt zerstören und den Mikromanipulator beschädigen.
  • Dementsprechend ist es wünschenswert, ein Verfahren zum Abbilden bereitzustellen, das nicht von den vorgenannten Störungen beeinträchtigt ist. Als eine mögliche Lösung ist bekannt, das erste Ventil und das zweite Ventil offen zu lassen, sodass immer eine Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer, dem Vakuumbehälter und der Vorvakuumpumpe besteht. Dies kann jedoch auch eine negative Wirkung auf die Qualität der erhaltenen Bilder haben, da eine Vorvakuumpumpe mit einer konstanten Fluidverbindung weiter laufen würde, was zu einer Verringerung des Signal-Rausch-Verhältnisses in Bezug auf die erhaltenen Bilder führen kann.
  • Hinsichtlich des Standes der Technik wird auf die DE 20 2012 007 108 U1 verwiesen.
  • Deshalb ist es Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zum Betreiben eines Drucksystems, insbesondere ein Vakuumsystem, einer Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts und eine Vorrichtung zum Ausführen dieses Verfahrens zu spezifizieren, die eine hinreichende Qualität eines Bilds des Objekts bereitstellen, obwohl von Ventilen verursachte Störungen auftreten könnten.
  • DARSTELLUNG DER ERFINDUNG
  • Nach der Erfindung wird diese Aufgabe durch ein Verfahren nach Anspruch 1 gelöst. Ein weiteres Verfahren nach der Erfindung ist durch Anspruch 9 gegeben. Ein Computerprogrammprodukt, das einen Programmcode zum Steuern einer Teilchenstrahlvorrichtung umfasst, ist durch die Merkmale von Anspruch 11 gegeben. Eine Teilchenstrahlvorrichtung zum Ausführen des Verfahrens ist durch Anspruch 12 gegeben. Weitere Merkmale der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung, den folgenden Ansprüchen und/oder den begleitenden Figuren.
  • Ein Verfahren nach der Erfindung wird zum Betreiben eines Drucksystems einer Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts verwendet. Das Drucksystem kann beispielsweise ein Vakuumsystem und/oder eine Dämpfungseinheit der vorgenannten Vorrichtung sein. Das Vakuumsystem kann mindestens eine Kammer, die unter Vakuum steht, und mindestens eine Pumpe zum Erzeugen des Vakuums umfassen. Die vorgenannte Vorrichtung kann an der Dämpfungseinheit angeordnet sein, die wiederum auf einer Oberfläche angeordnet ist. Die Oberfläche kann beispielsweise ein Bodenbelag eines Raums sein. Die Dämpfungseinheit wird zum Dämpfen von Vibrationen verwendet, die über den Bodenbelag auf die vorgenannte Vorrichtung übertragen werden können.
  • Die Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts kann eine Teilchenstrahlvorrichtung sein, insbesondere eine Elektronenstrahlvorrichtung und/oder eine lonenstrahlvorrichtung. Die Teilchenstrahlvorrichtung kann mindestens einen Teilchenerzeuger zum Erzeugen eines Teilchenstrahls mit geladenen Teilchen und mindestens eine Objektivlinse zum Fokussieren des Teilchenstrahls auf das Objekt umfassen. Die geladenen Teilchen können Elektronen und/oder Ionen sein. Darüber hinaus kann die Teilchenstrahlvorrichtung mindestens einen Detektor zum Detektieren von Wechselwirkungsteilchen und/oder Wechselwirkungsstrahlung umfassen, wobei die Wechselwirkungsteilchen und die Wechselwirkungsstrahlung erzeugt werden, wenn der Teilchenstrahl auf das Objekt trifft. Die Wechselwirkungsteilchen können sekundäre Teilchen, zum Beispiel Sekundärelektronen, oder rückgestreute Teilchen, zum Beispiel Rückstreuelektronen sein. Die Wechselwirkungsstrahlung kann Röntgenstrahlen oder Kathodolumineszenzlicht sein.
  • Die Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts, insbesondere die Teilchenstrahlvorrichtung, kann mindestens eine Vakuumkammer umfassen. Ein abzubildendes, zu analysierendes und/oder zu bearbeitendes Objekt kann sich in der Vakuumkammer befinden oder dort angeordnet sein. Darüber hinaus kann die vorgenannte Vorrichtung einen Druckbehälter aufweisen. Der Druckbehälter kann in Fluidverbindung mit mindestens einer Pumpe stehen. Ein Ventil ist zwischen dem Druckbehälter und der Pumpe angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen dem Druckbehälter und der Pumpe kann unter Verwendung des Ventils angebunden oder getrennt werden.
  • Das Verfahren nach der Erfindung umfasst den Schritt zum Trennen der Pumpe vom Druckbehälter. Anders ausgedrückt wird die Fluidverbindung zwischen dem Druckbehälter und der Pumpe getrennt. Das Ventil wird zum Beispiel geschlossen, um die Pumpe vom Druckbehälter zu trennen.
  • Das Verfahren nach der Erfindung umfasst auch den Schritt zum Messen des Behälterdrucks, der im Druckbehälter besteht. Eine Druckmesseinheit, die am Druckbehälter angeordnet ist, wird zum Beispiel verwendet, um den Behälterdruck zu messen. Insbesondere werden mindestens ein erster Druckwert des Behälterdrucks zu einem ersten Zeitpunkt T1 und mindestens ein zweiter Druckwert des Behälterdrucks zu einem zweiten Zeitpunkt T2 ermittelt. Der zweite Zeitpunkt T2 ist später als der erste Zeitpunkt T1. Die Erfindung ist nicht auf ein Ermitteln von zwei Druckwerten beschränkt, nämlich des ersten Druckwerts des Behälterdrucks zum ersten Zeitpunkt T1 und des zweiten Druckwerts des Behälterdrucks zum zweiten Zeitpunkt T2. Vielmehr umfasst die Erfindung auch ein Ermitteln von mehr als zwei Druckwerten des Behälterdrucks, jeweils zu verschiedenen Zeitpunkten, insbesondere 5, 10, 15, 20 oder bis zu 100 Druckwerte des Behälterdrucks, wobei jeder Druckwert des Behälterdrucks zu einem anderen Zeitpunkt ermittelt wird.
  • Darüber hinaus umfasst das Verfahren nach der Erfindung den Schritt zum Ermitteln einer funktionalen Beziehung zwischen dem ersten Druckwert des Behälterdrucks und dem zweiten Druckwert des Behälterdrucks. Die funktionale Beziehung ist eine Funktion der Zeit. Die funktionale Beziehung kann durch verschiedene Verfahren ermittelt werden, zum Beispiel durch Interpolieren des ersten Druckwerts des Behälterdrucks und des zweiten Druckwerts des Behälterdrucks. Weitere Verfahren werden unten ausführlicher erläutert. Die funktionale Beziehung kann eine lineare Beziehung oder eine nichtlineare Beziehung sein. Eine Stufenfunktion kann auch von der funktionalen Beziehung umfasst sein oder die funktionale Beziehung bilden.
  • Ein weiterer Schritt des Verfahrens nach der Erfindung umfasst ein Extrapolieren der funktionalen Beziehung für Zeitpunkte nach dem zweiten Zeitpunkt T2. Anders ausgedrückt wird ermittelt, wie der Behälterdruck des Druckbehälters nach dem zweiten Zeitpunkt T2 ansteigt oder sinkt. In einem weiteren Verfahrensschritt nach der Erfindung wird ein Schwellenzeitpunkt unter Verwendung der extrapolierten funktionalen Beziehung ermittelt. Der Schwellenzeitpunkt ist ein Zeitpunkt, zu dem die extrapolierte funktionale Beziehung einen für den Behälterdruck gegebenen Druckschwellenwert erreicht. Der Druckschwellenwert kann von einem Benutzer und/oder einem Steuersystem der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts gegeben werden. Der Druckschwellenwert ist ein Druckwert, der nicht überschritten oder unterschritten werden sollte; andernfalls ist der Druck in der Vakuumkammer und/oder im Druckbehälter für gutes Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts in der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts nicht ausreichend.
  • Ein weiterer Schritt des Verfahrens nach der Erfindung umfasst ein Ermitteln einer verbleibenden Zeitspanne, bis der Behälterdruck den Druckschwellenwert erreicht. Die verbleibende Zeitspanne ist eine Zeitdifferenz zwischen dem Schwellenzeitpunkt und dem zweiten Zeitpunkt T2. Anders ausgedrückt entspricht die verbleibende Zeitspanne der Zeit, die verbleibt, bis der Behälterdruck den Druckschwellenwert erreicht. Ein weiterer Schritt des Verfahrens nach der Erfindung umfasst ein Informieren des Benutzers und/oder des Steuersystems der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts über die verbleibende Zeitspanne. Insbesondere kann die verbleibende Zeitspanne dem Benutzer angezeigt werden.
  • Das Verfahren nach der Erfindung weist den Vorteil auf, dass der Benutzer und/oder das Steuersystem der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts informiert wird, wenn Störungen auftreten könnten, die durch ein Öffnen und Schließen des Ventils verursacht werden. Deshalb weiß bzw. wissen der Benutzer und/oder das Steuersystem der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts, wann diese Störungen eintreten könnten, und kann bzw. können sich auf diese Situation anpassen. Insbesondere kann bzw. können der Benutzer und/oder das Steuersystem der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts ein Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts anhalten, während die Pumpe mit dem Druckbehälter verbunden ist und der Druckbehälter unter Verwendung der Pumpe abgepumpt oder mit Luft oder einem Gas gefüllt wird. Auf diese Weise wird insbesondere die Anzahl der Bilder mit niedriger Qualität reduziert. Darüber hinaus ist das Verfahren nach der Erfindung insbesondere zum Abbilden großer Objekte vorteilhaft. Da die Zeitpunkte des Auftretens der Störungen bekannt ist, kann ein Abbilden eines großen Objekts während des Auftretens der Störungen angehalten werden. Auf diese Weise werden nur Bilder des großen Objekts erhalten, die nicht durch die Störungen beeinträchtigt sind. Diese Bilder weisen eine für eine Analyse hinreichende Qualität auf. Darüber hinaus, da die Zeitpunkte des Auftretens der Störungen bekannt ist, können Vorgänge wie ein Verwenden eines Mikromanipulators, der zum Anordnen des Objekts innerhalb einer Objektkammer der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts verwendet wird, ebenfalls während des Auftretens der Störungen angehalten werden. Auf diese Weise ist das Risiko geringer, das Objekt zu zerstören und den Mikromanipulator zu beschädigen.
  • In einer Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung ist zusätzlich oder alternativ vorgesehen, dass der Druckbehälter ein Vakuumbehälter ist, dass der Behälterdruck ein Vakuumbehälterdruck ist und dass der Druckschwellenwert ein oberer Schwellenwert ist. Die Vakuumkammer kann sich in Fluidverbindung mit dem Vakuumbehälter befinden. Zum Beispiel ist ein erstes Ventil zwischen der Vakuumkammer und dem Vakuumbehälter angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer und dem Vakuumbehälter kann unter Verwendung des ersten Ventils angebunden oder getrennt werden. Darüber hinaus ist das Ventil, das zwischen dem Vakuumbehälter und der Pumpe angeordnet ist, ein zweites Ventil. Die Fluidverbindung zwischen dem Vakuumbehälter und der Pumpe kann unter Verwendung des zweiten Ventils angebunden oder getrennt werden. Die Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung umfasst den Schritt zum Verbinden des Vakuumbehälters mit der Vakuumkammer nach, während oder vor dem Trennen der Pumpe vom Vakuumbehälter. Anders ausgedrückt wird eine Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer und dem Vakuumbehälter eingerichtet. Das erste Ventil wird zum Beispiel zum Einrichten der Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer und dem Vakuumbehälter geöffnet. Zusätzlich oder alternativ kann eine weitere Pumpe an der Vakuumkammer angeordnet sein. Eine weitere Pumpe befindet sich in Fluidverbindung mit der Vakuumkammer. Darüber hinaus befindet sich die weitere Pumpe in Fluidverbindung mit dem Vakuumbehälter. Das erste Ventil ist zum Beispiel zwischen der weiteren Pumpe und dem Vakuumbehälter angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen der weiteren Pumpe, dem Vakuumbehälter und der Vakuumkammer kann unter Verwendung des ersten Ventils angebunden oder getrennt werden.
  • In einer Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung ist zusätzlich oder alternativ vorgesehen, dass der Druckbehälter ein Überdruckbehälter einer Dämpfungseinheit ist, dass der Behälterdruck ein Überdruckbehälterdruck ist, wobei der Druckschwellenwert ein unterer Schwellenwert ist.
  • Wie bereits oben erwähnt, ist zusätzlich oder alternativ in einer Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung vorgesehen, dass das Verfahren ein Anhalten des Abbildens, Analysierens und/oder Bearbeitens des Objekts unter Verwendung der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts nach der verbleibenden Zeitspanne umfasst, d. h., wenn der Schwellenzeitpunkt erreicht ist. Die Pumpe ist mit dem Druckbehälter verbunden. Darüber hinaus, wenn der Druckbehälter der Vakuumbehälter ist, wird der Vakuumbehälter von der Vakuumkammer getrennt. Deshalb findet kein Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts unter Verwendung der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts statt, während die Pumpe mit dem Druckbehälter verbunden ist.
  • Darüber hinaus ist zusätzlich oder alternativ in einer Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung vorgesehen, dass das Verfahren nicht nur eine einzelne verbleibende Zeitspanne eines einzelnen Druckbehälters der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts vorsieht. Vielmehr sieht die Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung mehrere verbleibende Zeitspannen von mehreren Druckbehältern der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts vor. Dementsprechend kann der Druckbehälter der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts ein erster Druckbehälter sein und der Behälterdruck kann ein erster Behälterdruck sein. Ferner kann die Pumpe eine erste Pumpe sein und der Druckschwellenwert kann ein erster Druckschwellenwert sein. Darüber hinaus kann der Schwellenzeitpunkt ein erster Schwellenzeitpunkt sein und die funktionale Beziehung kann eine erste funktionale Beziehung sein. Ein zweiter Druckbehälter kann in Fluidverbindung mit mindestens einer zweiten Pumpe stehen. Ein Ventil ist zwischen dem zweiten Druckbehälter und der zweiten Pumpe angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen dem zweiten Druckbehälter und der zweiten Pumpe kann unter Verwendung dieses Ventils angebunden oder getrennt werden. Zusätzlich oder alternativ kann eine weitere Pumpe an der Vakuumkammer angeordnet sein, wobei die weitere Pumpe in Fluidverbindung mit der Vakuumkammer und in Fluidverbindung mit dem zweiten Druckbehälter steht. Ein Ventil ist zwischen der weiteren Pumpe und dem zweiten Druckbehälter angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen der weiteren Pumpe, dem zweiten Druckbehälter und der Vakuumkammer kann unter Verwendung dieses Ventils angebunden oder getrennt werden.
  • Diese Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung umfasst den Schritt zum Trennen der zweiten Pumpe vom zweiten Druckbehälter. Anders ausgedrückt wird die Fluidverbindung zwischen dem zweiten Druckbehälter und der zweiten Pumpe getrennt. Das Ventil wird zum Beispiel geschlossen, um die zweite Pumpe vom zweiten Vakuumbehälter zu trennen.
  • Diese Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung umfasst auch den Schritt zum Messen eines zweiten Behälterdrucks, der im zweiten Druckbehälter besteht. Eine weitere Druckmesseinheit, die am zweiten Druckbehälter angeordnet ist, wird zum Beispiel verwendet, um den zweiten Behälterdruck zu messen. Insbesondere werden mindestens ein erster Druckwert des zweiten Behälterdrucks zu einem dritten Zeitpunkt T3 und mindestens ein zweiter Druckwert des zweiten Behälterdrucks zu einem vierten Zeitpunkt T4 ermittelt. Der vierte Zeitpunkt T4 ist später als der dritte Zeitpunkt T3. Die Erfindung ist nicht auf ein Ermitteln von zwei Druckwerten beschränkt, nämlich des ersten Druckwerts des zweiten Behälterdrucks zum dritten Zeitpunkt T3 und des zweiten Druckwerts des zweiten Behälterdrucks zum vierten Zeitpunkt T4. Vielmehr umfasst die Erfindung auch ein Ermitteln von mehr als zwei Druckwerten des zweiten Behälterdrucks, jeweils zu verschiedenen Zeitpunkten, insbesondere 5, 10, 15, 20 oder bis zu 100 Druckwerte des zweiten Behälterdrucks, wobei jeder Druckwert des zweiten Behälterdrucks zu einem anderen Zeitpunkt ermittelt wird.
  • Darüber hinaus umfasst diese Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung den Schritt zum Ermitteln einer zweiten funktionalen Beziehung zwischen dem ersten Druckwert des zweiten Behälterdrucks und dem zweiten Druckwert des zweiten Behälterdrucks. Die zweite funktionale Beziehung ist eine zweite Funktion der Zeit. Die zweite funktionale Beziehung kann durch verschiedene Verfahren ermittelt werden, zum Beispiel durch Interpolieren des ersten Druckwerts des zweiten Behälterdrucks und des zweiten Druckwerts des zweiten Behälterdrucks. Weitere Verfahren werden unten ausführlicher erläutert. Die zweite funktionale Beziehung kann eine lineare Beziehung oder eine nichtlineare Beziehung sein. Eine Stufenfunktion kann auch von der zweiten funktionalen Beziehung umfasst sein oder die zweite funktionale Beziehung bilden.
  • Ein weiterer Schritt dieser Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung umfasst ein Extrapolieren der zweiten funktionalen Beziehung für Zeitpunkte nach dem vierten Zeitpunkt T4. Anders ausgedrückt wird ermittelt, wie der zweite Behälterdruck des zweiten Druckbehälters nach dem vierten Zeitpunkt T4 ansteigt oder sinkt. In einem weiteren Schritt der Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung wird ein zweiter Schwellenzeitpunkt unter Verwendung der extrapolierten zweiten funktionalen Beziehung ermittelt. Der zweite Schwellenzeitpunkt ist ein Zeitpunkt, zu dem die extrapolierte zweite funktionale Beziehung einen für den zweiten Behälterdruck gegebenen zweiten Druckschwellenwert erreicht. Der zweite Druckschwellenwert kann vom Benutzer und/oder dem Steuersystem der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts gegeben werden. Der zweite Druckschwellenwert ist ein Druckwert, der nicht überschritten oder unterschritten werden sollte; andernfalls ist der Druck in der Vakuumkammer und/oder im zweiten Druckbehälter für gutes Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts in der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts nicht ausreichend.
  • Ein weiterer Schritt dieser Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung umfasst ein Ermitteln einer zweiten verbleibenden Zeitspanne, bis der zweite Behälterdruck den zweiten Druckschwellenwert erreicht. Die zweite verbleibende Zeitspanne ist eine Zeitdifferenz zwischen dem zweiten Schwellenzeitpunkt und dem vierten Zeitpunkt T4. Anders ausgedrückt entspricht die zweite verbleibende Zeitspanne der Zeit, die verbleibt, bis der zweite Behälterdruck den zweiten Druckschwellenwert erreicht. In einem weiteren Schritt der Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung umfasst das Verfahren ein Informieren des Benutzers und/oder des Steuersystems der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts über die zweite verbleibende Zeitspanne. Insbesondere kann die zweite verbleibende Zeitspanne dem Benutzer angezeigt werden.
  • In einer Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung ist zusätzlich oder alternativ vorgesehen, dass der zweite Druckbehälter ein zweiter Vakuumbehälter ist, dass der zweite Behälterdruck ein zweiter Vakuumbehälterdruck ist und dass der zweite Druckschwellenwert ein zweiter oberer Schwellenwert ist. Die Vakuumkammer kann sich in Fluidverbindung mit dem zweiten Vakuumbehälter befinden. Ein drittes Ventil kann zwischen der Vakuumkammer und dem zweiten Vakuumbehälter angeordnet sein. Die Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer und dem zweiten Vakuumbehälter kann unter Verwendung des dritten Ventils angebunden oder getrennt werden. Darüber hinaus ist das Ventil, das zwischen dem zweiten Vakuumbehälter und der zweiten Pumpe angeordnet ist, ein viertes Ventil. Die Fluidverbindung zwischen dem zweiten Vakuumbehälter und der zweiten Pumpe kann unter Verwendung des vierten Ventils angebunden oder getrennt werden. Die Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung umfasst den Schritt zum Verbinden des zweiten Vakuumbehälters mit der Vakuumkammer nach, während oder vor dem Trennen der zweiten Pumpe vom zweiten Vakuumbehälter. Anders ausgedrückt wird eine Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer und dem zweiten Vakuumbehälter eingerichtet. Das dritte Ventil wird zum Beispiel zum Einrichten der Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer und dem zweiten Vakuumbehälter geöffnet. Zusätzlich oder alternativ kann eine weitere Pumpe an der Vakuumkammer angeordnet sein. Eine weitere Pumpe befindet sich in Fluidverbindung mit der Vakuumkammer. Darüber hinaus befindet sich die weitere Pumpe in Fluidverbindung mit dem zweiten Vakuumbehälter. Das dritte Ventil ist zum Beispiel zwischen der weiteren Pumpe und dem zweiten Vakuumbehälter angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen der weiteren Pumpe, dem zweiten Vakuumbehälter und der Vakuumkammer kann unter Verwendung des dritten Ventils angebunden oder getrennt werden.
  • In einer Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung ist zusätzlich oder alternativ vorgesehen, dass der zweite Druckbehälter ein zweiter Überdruckbehälter der Dämpfungseinheit ist und dass der zweite Behälterdruck ein zweiter Überdruckbehälterdruck ist, wobei der zweite Druckschwellenwert ein zweiter unterer Schwellenwert ist.
  • Es ist zusätzlich oder alternativ in einer weiteren Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung vorgesehen, dass die erste Pumpe zur zweiten Pumpe identisch ist. Anders ausgedrückt stehen der erste Druckbehälter und der zweite Druckbehälter in Fluidverbindung mit identischen Pumpen. Ferner ist zusätzlich oder alternativ in einer Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung vorgesehen, dass die erste funktionale Beziehung mit der zweiten funktionalen Beziehung identisch ist.
  • Es ist zusätzlich oder alternativ in einer anderen Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung vorgesehen, dass das Verfahren ein Informieren des Benutzers und/oder des Steuersystems der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts darüber umfasst, welche von der ersten verbleibenden Zeitspanne und der zweiten verbleibenden Zeitspanne kürzer ist. Zusätzlich oder alternativ umfasst das Verfahren ein Informieren des Benutzers und/oder des Steuersystems der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts darüber, welche der ersten verbleibenden Zeitspanne und der zweiten verbleibenden Zeitspanne kürzer ist, falls die Zeitdifferenz zwischen der ersten verbleibenden Zeitspanne und der zweiten verbleibenden Zeitspanne kürzer als 1 Minute oder 2 Minuten ist. Die vorgenannte Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung beruht auf den folgenden Gedanken. Wie oben erwähnt kann die Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts mehrere Druckbehälter umfassen. Jeder der mehreren Druckbehälter kann überwacht werden und die verbleibende Zeitspanne für jeden Druckbehälter wird ermittelt. Der Benutzer und/oder das Steuersystem der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts wird über den Zeitpunkt der nächsten Störung informiert, die den kleinsten Wert aller verbleibenden Zeitspannen in Bezug auf die mehreren überwachten Druckbehälter aufweist. Falls darüber hinaus die Störungen in Bezug auf die mehreren Druckbehälter zeitlich nahe beieinander liegen, kombiniert die Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung diese Störungen in eine einzige Störung, sodass der Benutzer und/oder das Steuersystem der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts nur über eine einzige Störung in Bezug auf die Druckbehälter informiert wird, wobei die einzige Störung durch die kürzeste verbleibende Zeitspanne aller verbleibenden Zeitspannen der überwachten Druckbehälter gegeben ist.
  • Ein weiteres Verfahren nach der Erfindung wird ebenfalls zum Betreiben eines Drucksystems einer Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts verwendet. Das weitere Verfahren kann mit dem Verfahren kombiniert werden, das mindestens einen der vorgenannten Schritte oder eine Kombination von mindestens zwei der vorgenannten Schritte umfasst. Das Drucksystem kann beispielsweise ein Vakuumsystem und/oder eine Dämpfungseinheit der vorgenannten Vorrichtung sein. Das Vakuumsystem kann mindestens eine Kammer, die unter Vakuum steht, und mindestens eine Pumpe zum Erzeugen des Vakuums umfassen. Die vorgenannte Vorrichtung kann an der Dämpfungseinheit angeordnet sein, die wiederum auf einer Oberfläche angeordnet ist. Die Oberfläche kann beispielsweise ein Bodenbelag eines Raums sein. Die Dämpfungseinheit wird zum Dämpfen von Vibrationen verwendet, die über den Bodenbelag auf die vorgenannte Vorrichtung übertragen werden können.
  • Die Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts, in der das weitere Verfahren verwendet wird, kann eine Teilchenstrahlvorrichtung sein, insbesondere eine Elektronenstrahlvorrichtung und/oder eine lonenstrahlvorrichtung. Die Teilchenstrahlvorrichtung kann mindestens einen Teilchenerzeuger zum Erzeugen eines Teilchenstrahls mit geladenen Teilchen und mindestens eine Objektivlinse zum Fokussieren des Teilchenstrahls auf das Objekt umfassen. Die geladenen Teilchen können Elektronen und/oder Ionen sein. Darüber hinaus kann die Teilchenstrahlvorrichtung mindestens einen Detektor zum Detektieren von Wechselwirkungsteilchen und/oder Wechselwirkungsstrahlung umfassen, wobei die Wechselwirkungsteilchen und die Wechselwirkungsstrahlung erzeugt werden, wenn der Teilchenstrahl auf das Objekt trifft. Die Wechselwirkungsteilchen können sekundäre Teilchen, zum Beispiel Sekundärelektronen, oder rückgestreute Teilchen, zum Beispiel Rückstreuelektronen sein. Die Wechselwirkungsstrahlung kann Röntgenstrahlen oder Kathodolumineszenzlicht sein.
  • Die Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts, insbesondere die Teilchenstrahlvorrichtung, kann mindestens eine Vakuumkammer umfassen. Ein zu analysierendes und/oder zu bearbeitendes Objekt kann sich in der Vakuumkammer befinden oder dort angeordnet sein. Darüber hinaus kann die vorgenannte Vorrichtung einen Druckbehälter aufweisen. Darüber hinaus kann der Druckbehälter in Fluidverbindung mit mindestens einer Pumpe stehen. Ein Ventil ist zwischen dem Druckbehälter und der Pumpe angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen dem Druckbehälter und der Pumpe kann unter Verwendung des Ventils angebunden oder getrennt werden.
  • Das weitere Verfahren nach der Erfindung umfasst den Schritt zum Trennen der Pumpe vom Druckbehälter. Anders ausgedrückt wird die Fluidverbindung zwischen dem Druckbehälter und der Pumpe getrennt. Das Ventil wird zum Beispiel geschlossen, um die Pumpe vom Druckbehälter zu trennen.
  • Das weitere Verfahren nach der Erfindung umfasst auch den Schritt zum Messen des Behälterdrucks, der im Druckbehälter besteht. Eine Druckmesseinheit, die am Druckbehälter angeordnet ist, wird zum Beispiel verwendet, um den Behälterdruck zu messen. Darüber hinaus wird ermittelt, wann der Behälterdruck einen für den Behälterdruck gegebenen Druckschwellenwert erreicht. Der Druckschwellenwert kann von einem Benutzer und/oder einem Steuersystem der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts gegeben werden. Der Druckschwellenwert ist ein Druckwert, der nicht überschritten oder unterschritten werden sollte; andernfalls ist der Druck in der Vakuumkammer und/oder im Druckbehälter für gutes Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts in der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts nicht ausreichend.
  • Das weitere Verfahren nach der Erfindung umfasst den Schritt zum Anhalten des Abbildens, Analysierens und/oder Bearbeitens des Objekts während einer gegebenen Verzögerung, nachdem der Behälterdruck den Druckschwellenwert erreicht hat. Die gegebene Verzögerung kann eine Zeitspanne von weniger als zwei Minuten, weniger als eine Minute oder weniger als 30 Sekunden sein. Das weitere Verfahren nach der Erfindung umfasst auch ein Verbinden der Pumpe mit dem Druckbehälter. Das Ventil wird zum Beispiel zum Einrichten einer Fluidverbindung zwischen dem Druckbehälter und der Pumpe geöffnet. Deshalb wird das Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts angehalten, während die Pumpe mit dem Druckbehälter verbunden ist.
  • Es ist zusätzlich oder alternativ in einer Ausführungsform des weiteren Verfahrens nach der Erfindung vorgesehen, dass das Verfahren umfasst, dass der Druckbehälter ein Vakuumbehälter ist und dass der Behälterdruck ein Vakuumbehälterdruck ist, wobei der Druckschwellenwert ein oberer Schwellenwert ist und wobei der Vakuumbehälter nach dem Trennen der Pumpe vom Vakuumbehälter mit einer Vakuumkammer der Vorrichtung verbunden wird. Ein Ventil wird zum Beispiel zum Unterbrechen der Fluidverbindung zwischen dem Vacuumbehälter und der Vakuumkammer geschlossen oder geöffnet. Darüber hinaus wird der Vakuumbehälter mit der gegebenen Verzögerung von der Vakuumkammer getrennt, nachdem der Vakuumbehälterdruck den Druckschwellenwert erreicht hat.
  • In einer Ausführungsform des weiteren Verfahrens nach der Erfindung ist zusätzlich oder alternativ vorgesehen, dass das Verfahren umfasst, dass der Druckbehälter ein Überdruckbehälter einer Dämpfungseinheit ist und dass der Behälterdruck ein Überdruckbehälterdruck ist, wobei der Druckschwellenwert ein unterer Schwellenwert ist.
  • Das weitere Verfahren nach der Erfindung weist den Vorteil auf, dass der Benutzer und/oder das Steuersystem der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts einen Prozess zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts abschließen kann, bevor die Störungen auftreten. Auf diese Weise wird insbesondere die Anzahl der Bilder mit niedriger Qualität reduziert. Darüber hinaus ist das weitere Verfahren nach der Erfindung auch insbesondere zum Abbilden großer Objekte oder für automatisierte Prozesse zum Abbilden eines Objekts vorteilhaft. Zusätzlich, da die Störungen nicht beginnen, bevor bestimmte Vorgänge im Inneren der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts angehalten wurden, werden Schäden am Objekt und/oder an Teilen der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts vermieden, insbesondere Schäden am Objekt oder an einem Mikromanipulator, der zum Anordnen des Objekts im Inneren der Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts verwendet wird.
  • Die Erfindung betrifft auch ein Computerprogrammprodukt, das einen Programmcode umfasst, der in einen Prozessor geladen werden kann oder in diesem geladen ist und der, wenn er ausgeführt wird, eine Teilchenstrahlvorrichtung auf eine derartige Weise steuert, dass ein Verfahren, das mindestens einen der oben erwähnten oder weiter unten erwähnten Schritte oder eine Kombination von mindestens zwei der oben erwähnten oder weiter unten erwähnten Schritte umfasst, ausgeführt wird.
  • Die Erfindung bezieht sich auch auf eine Teilchenstrahlvorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts. Die Teilchenstrahlvorrichtung umfasst mindestens einen Teilchenerzeuger zum Erzeugen eines Teilchenstrahls, der geladene Teilchen umfasst. Die geladenen Teilchen können Elektronen und/oder Ionen sein. Die Teilchenstrahlvorrichtung nach der Erfindung weist auch mindestens eine Objektivlinse zum Fokussieren des Teilchenstrahls auf das Objekt auf. Darüber hinaus weist die Teilchenstrahlvorrichtung nach der Erfindung mindestens einen Detektor zum Detektieren von Wechselwirkungsteilchen und/oder Wechselwirkungsstrahlung auf, wobei die Wechselwirkungsteilchen und die Wechselwirkungsstrahlung erzeugt werden, wenn der Teilchenstrahl auf das Objekt trifft. Die Teilchenstrahlen können sekundäre Teilchen und/oder rückgestreute Teilchen sein, insbesondere Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen. Die Wechselwirkungsstrahlung kann Röntgenstrahlen und/oder Kathodolumineszenzlicht sein.
  • Darüber hinaus umfasst die Teilchenstrahlvorrichtung nach der Erfindung eine Vakuumkammer. Die Vakuumkammer kann eine Objektkammer sein, in der ein abzubildendes, zu analysierendes und/oder zu bearbeitendes Objekt angeordnet sein kann. Zusätzlich oder alternativ kann die Vakuumkammer eine beliebige Kammer sein, in der diese Teile der Teilchenstrahlvorrichtung angeordnet sind, die eine Vakuumumgebung erfordern. Darüber hinaus umfasst die Teilchenstrahlvorrichtung nach der Erfindung mindestens einen Druckbehälter. Zusätzlich ist mindestens eine Pumpe ausgelegt, in Fluidverbindung mit dem Druckbehälter zu stehen. In einer Ausführungsform der Teilchenstrahlvorrichtung nach der Erfindung ist ein erstes Ventil zwischen der Vakuumkammer und dem Druckbehälter angeordnet. In einer weiteren Ausführungsform der Teilchenstrahlvorrichtung nach der Erfindung kann ein zweites Ventil zwischen dem Druckbehälter und der Pumpe angeordnet sein.
  • Die Teilchenstrahlvorrichtung nach der Erfindung umfasst auch mindestens einen Prozessor, in den ein Computerprogrammprodukt wie das oben erwähnte geladen ist.
  • In einer Ausführungsform der Teilchenstrahlvorrichtung nach der Erfindung ist zusätzlich oder alternativ vorgesehen, dass der Druckbehälter eines der Folgenden ist: (i) ein Vakuumbehälter, der ausgelegt ist, in Fluidverbindung mit der Vakuumkammer zu stehen, oder (ii) ein Überdruckbehälter einer Dämpfungseinheit. Die Dämpfungseinheit ist weiter oben erläutert.
  • In einer anderen Ausführungsform der Teilchenstrahlvorrichtung nach der Erfindung ist zusätzlich oder alternativ vorgesehen, dass der Druckbehälter eine Schleusenkammer ist. Die Schleusenkammer ist eine Austauschkammer der Teilchenstrahlvorrichtung, in die ein Objekt eingeführt wird, bevor es weiter in die Vakuumkammer der Teilchenstrahlvorrichtung eingeführt wird.
  • In einer weiteren Ausführungsform der Teilchenstrahlvorrichtung nach der Erfindung ist zusätzlich oder alternativ vorgesehen, dass der Teilchenerzeuger ein erster Teilchenerzeuger zum Erzeugen eines ersten Teilchenstrahls ist, der erste geladene Teilchen umfasst. Die Objektivlinse ist eine erste Objektivlinse zum Fokussieren des ersten Teilchenstrahls auf das Objekt. Die Teilchenstrahlvorrichtung nach der Ausführungsform der Erfindung umfasst ferner einen zweiten Teilchenerzeuger zum Erzeugen eines zweiten Teilchenstrahls, der zweite geladene Teilchen umfasst, und eine zweite Objektivlinse zum Fokussieren des zweiten Teilchenstrahls auf das Objekt. Die zweiten geladenen Teilchen können Elektronen und/oder Ionen sein.
  • In einer weiteren Ausführungsform der Teilchenstrahlvorrichtung nach der Erfindung ist zusätzlich oder alternativ vorgesehen, dass die Teilchenstrahlvorrichtung mindestens eine der folgenden ist: eine Elektronenstrahlvorrichtung und eine lonenstrahlvorrichtung. Insbesondere kann die Teilchenstrahlvorrichtung sowohl eine Elektronenstrahlvorrichtung als auch eine lonenstrahlvorrichtung sein.
  • Figurenliste
  • Hier beschriebene Ausführungsformen der Erfindung werden im folgenden Text unter Bezugnahme auf die Figuren ausführlicher erläutert, in denen Folgendes gilt:
    • 1 zeigt eine schematische Darstellung einer ersten Ausführungsform einer Teilchenstrahlvorrichtung;
    • 1A zeigt eine schematische Darstellung einer zweiten Ausführungsform einer Teilchenstrahlvorrichtung;
    • 2 zeigt eine schematische Darstellung einer dritten Ausführungsform einer Teilchenstrahlvorrichtung;
    • 3 zeigt eine schematische Darstellung einer vierten Ausführungsform einer Teilchenstrahlvorrichtung;
    • 4 zeigt eine weitere schematische Darstellung der Teilchenstrahlvorrichtung nach 3;
    • 5 zeigt eine schematische Darstellung eines Vakuumsystems in Form eines Pumpensystems;
    • 5A zeigt eine weitere schematische Darstellung des Vakuumsystems in Form des Pumpensystems nach 5;
    • 6 zeigt ein Ablaufdiagramm einer Ausführungsform eines Verfahrens zum Betreiben eines Vakuumsystems;
    • 6A zeigt ein weiteres Ablaufdiagramm der Ausführungsform des Verfahrens zum Betreiben eines Vakuumsystems nach 6;
    • 7 zeigt eine schematische Darstellung eines Vakuumbehälterdrucks, der in einem Vakuumbehälter existiert, als Funktion der Zeit;
    • 8 zeigt ein Ablaufdiagramm einer weiteren Ausführungsform eines Verfahrens zum Betreiben eines Vakuumsystems;
    • 9 zeigt ein Ablaufdiagramm einer anderen Ausführungsform eines Verfahrens zum Betreiben eines Vakuumsystems;
    • 10 zeigt eine schematische Darstellung eines weiteren Vakuumsystems in Form eines Pumpensystems;
    • 11 zeigt eine schematische Darstellung eines Drucksystems in Form einer Dämpfungseinheit;
    • 12 zeigt ein Ablaufdiagramm einer Ausführungsform eines Verfahrens zum Betreiben eines Drucksystems in Form einer Dämpfungseinheit; und
    • 13 zeigt eine schematische Darstellung eines Behälterdrucks, der in einem Druckbehälter besteht, als Funktion der Zeit.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG VERSCHIEDENER AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • 1 zeigt eine schematische Darstellung eines REM 100. Das REM 100 weist einen Strahlerzeuger in Form einer Elektronenquelle 101, die eine Kathode ist, eine Extraktionselektrode 102 und eine Anode 103 auf, die am Ende eines Strahlführungsrohrs 104 des REM 100 angeordnet ist. Die Elektronenquelle 101 ist zum Beispiel ein thermischer Feldemitter. Die Erfindung ist jedoch nicht auf eine derartige Elektronenquelle beschränkt. Stattdessen kann eine beliebige Elektronenquelle verwendet werden.
  • Elektronen, die aus der Elektronenquelle 101 treten, bilden einen primären Elektronenstrahl. Die Elektronen werden aufgrund einer Potenzialdifferenz zwischen der Elektronenquelle 101 und der Anode 103 auf ein Anodenpotenzial beschleunigt. Das Anodenpotenzial in dieser beispielhaften Ausführungsform liegt zwischen 0,2 kV und 30 kV relativ zum Erdpotenzial einer Objektkammer 120, zum Beispiel 5 kV bis 15 kV, insbesondere 8 kV, aber alternativ könnte es auch auf Erdpotenzial liegen.
  • Zwei Kondensorlinsen sind am Strahlführungsrohr 104 angeordnet, d. h., eine erste Kondensorlinse 105 und eine zweite Kondensorlinse 106, wobei die erste Kondensorlinse 105 zuerst angeordnet ist und danach die zweite Kondensorlinse 106, wie von der Elektronenquelle 101 zu einer Objektivlinse 107 hin gesehen. Die Erfindung ist jedoch nicht auf die Verwendung von zwei Kondensorlinsen beschränkt. Stattdessen können weitere Ausführungsformen nur eine einzelne Kondensorlinse umfassen.
  • Eine erste Blendeneinheit 108 ist zwischen der Anode 103 und der ersten Kondensorlinse 105 angeordnet. Die erste Blendeneinheit 108 liegt zusammen mit der Anode 103 und dem Strahlführungsrohr 104 auf einem Hochspannungspotenzial, d. h. das Potenzial der Anode 103, oder auf Erdpotenzial. Die erste Blendeneinheit 108 kann mehrere erste Blendenöffnungen 108A aufweisen. Eine dieser ersten Blendenöffnungen 108A ist in 1 gezeigt. Die erste Blendeneinheit 108 weist beispielsweise zwei erste Blendenöffnungen 108A auf. Jede der mehreren ersten Blendenöffnungen 108A kann einen unterschiedlichen Öffnungsdurchmesser aufweisen. Eine ausgewählte erste Blendenöffnung 108A kann auf einer optischen Achse OA des REM 100 unter Verwendung eines Anpassungsmechanismus angeordnet sein. Die Erfindung ist jedoch nicht auf diese Ausführungsform beschränkt. Stattdessen kann die erste Blendeneinheit 108 in einer alternativen Ausführungsform nur eine einzige erste Blendenöffnung 108A aufweisen. Für diese alternative Ausführungsform wird kein Anpassungsmechanismus verwendet. Die erste Blendeneinheit 108 dieser alternativen Ausführungsform ist um die optische Achse OA fixiert angeordnet.
  • Eine stationäre zweite Blendeneinheit 109 ist zwischen der ersten Kondensorlinse 105 und der zweiten Kondensorlinse 106 angeordnet. Alternativ ist die zweite Blendeneinheit 109 beweglich.
  • Die Objektivlinse 107 weist Polteile 110 auf, in die eine Bohrung gebohrt wurde. Das Strahlführungsrohr 104 ist durch diese Bohrung angeordnet und geführt. Ferner ist eine Spule 111 in den Polteilen 110 angeordnet.
  • Eine elektrostatische Abbremsvorrichtung ist dem Strahlführungsrohr 104 nachgeschaltet angeordnet. Sie weist eine einzelne Elektrode 112 und eine Rohrelektrode 113 auf, die am Ende des Strahlführungsrohrs 104 einem Objekt 114 gegenüber angeordnet ist. Folglich liegt die Rohrelektrode 113 zusammen mit dem Strahlführungsrohr 104 auf dem Potenzial der Anode 103, während die einzelne Elektrode 112 und das Objekt 114 auf einem niedrigeren Potenzial als dem der Anode 103 liegen. In diesem Fall ist dies das Erdpotenzial der Objektkammer 120. Deshalb können die Elektronen des primären Elektronenstrahls auf die zum Analysieren des Objekts 114 erforderliche erwünschte Energie abgebremst werden.
  • Darüber hinaus weist das REM 100 eine Rastervorrichtung 115 auf, über die der primäre Elektronenstrahl abgelenkt und über das Objekt 114 gerastert werden kann. In diesem Prozess wechselwirken die Elektronen des primären Elektronenstrahls mit dem Objekt 114. Als Folge dieser Wechselwirkung ergeben sich Wechselwirkungsteilchen und/oder Wechselwirkungsstrahlung, die detektiert werden. Die auf diese Weise erhaltenen Detektionssignale werden ausgewertet.
  • Als Wechselwirkungsteilchen werden insbesondere Elektronen von der Oberfläche des Objekts 114 emittiert (sogenannte Sekundärelektronen) oder Elektronen des primären Elektronenstrahls werden rückgestreut (sogenannte Rückstreuelektronen). Zum Detektieren von Sekundärelektronen und/oder Rückstreuelektronen ist ein Detektorsystem, das einen ersten Detektor 116 und einen zweiten Detektor 117 aufweist, im Strahlführungsrohr 104 angeordnet. Der erste Detektor 116 ist auf der Quellenseite entlang der optischen Achse OA angeordnet, während der zweite Detektor 117 auf der Objektseite entlang der optischen Achse OA im Strahlführungsrohr 104 angeordnet ist. Darüber hinaus sind der erste Detektor 116 und der zweite Detektor 117 versetzt zueinander zur optischen Achse OA des REM 100 angeordnet. Sowohl der erste Detektor 116 als auch der zweite Detektor 117 weisen jeweils eine Durchgangsöffnung auf, durch die der primäre Elektronenstrahl treten kann, und sie liegen ungefähr auf dem Potenzial der Anode 103 und des Strahlführungsrohrs 104. Die optische Achse OA des REM 100 führt durch die entsprechenden Durchgangsöffnungen.
  • Der zweite Detektor 117 wird verwendet, um hauptsächlich Sekundärelektronen zu detektieren. Sekundärelektronen, die vom Objekt 114 emittiert werden, weisen eine niedrige kinetische Energie und willkürliche Bewegungsrichtungen auf. Die Sekundärelektronen werden jedoch aufgrund eines starken Extraktionsfelds beschleunigt, das von der Rohrelektrode 113 in Richtung der Objektivlinse 107 erzeugt wird. Die Sekundärelektronen treten fast parallel zur optischen Achse OA in die Objektivlinse 107 ein. Ein Durchmesser des Strahlenbündels der Sekundärelektronen ist in der Objektivlinse 107 klein. Die Objektivlinse 107 beeinflusst den Strahl von Sekundärelektronen jedoch und erzeugt einen kurzen Fokus der Sekundärelektronen mit relativ steilen Winkeln in Bezug auf die optische Achse OA, sodass die Sekundärelektronen voneinander nach dem Fokus divergieren und auf den zweiten Detektor 117 auftreffen können. Am Objekt 114 rückgestreute Elektronen, d. h. Rückstreuelektronen, weisen eine relativ hohe kinetische Energie im Vergleich zu Sekundärelektronen auf, wenn sie aus dem Objekt 114 treten. Rückstreuelektronen werden nur in sehr geringem Ausmaß vom zweiten Detektor 117 detektiert. Die hohe kinetische Energie und der Winkel des Strahls von Rückstreuelektronen in Bezug auf die optische Achse OA beim Rückstreuen am Objekt 114 resultieren in einer Strahltaille, d. h. einem Strahl mit einem Minimaldurchmesser, der Rückstreuelektronen, wobei die Strahltaille in der Nähe des zweiten Detektors 117 angeordnet ist. Deshalb tritt ein großer Teil der Rückstreuelektronen durch die Öffnung des zweiten Detektors 117. Dementsprechend werden Rückstreuelektronen hauptsächlich vom ersten Detektor 116 detektiert.
  • Der erste Detektor 116 einer weiteren Ausführungsform des REM 100 kann ein Gegenfeldgitter 116A aufweisen, das ein Feldgitter mit einem entgegengesetzten Potenzial ist. Das Gegenfeldgitter 116A kann an der Seite des ersten Detektors 116, die dem Objekt 114 zugewandt ist, angeordnet sein. Das Gegenfeldgitter 116A kann ein in Bezug auf das Potenzial des Strahlführungsrohrs 104 negatives Potenzial aufweisen, sodass hauptsächlich oder nur Rückstreuelektronen mit einer hohen Energie durch das Gegenfeldgitter 116A treten können und auf den ersten Detektor 116 auftreffen können. Zusätzlich oder alternativ kann der zweite Detektor 117 ein weiteres Gegenfeldgitter aufweisen, das ähnlich wie das oben erwähnte Gegenfeldgitter 116A des ersten Detektors 116 konstruiert ist und eine analoge Funktion aufweist.
  • Die Detektionssignale, die vom ersten Detektor 116 und dem zweiten Detektor 117 erzeugt werden, werden verwendet, um ein Bild oder Bilder der Oberfläche des Objekts 114 zu erzeugen.
  • Es wird ausdrücklich darauf hingewiesen, dass die Blendenöffnungen der ersten Blendeneinheit 108 und der zweiten Blendeneinheit 109 sowie die Durchgangsöffnungen des ersten Detektors 116 und des zweiten Detektors 117 auf übertriebene Weise dargestellt sind. Die Durchgangsöffnungen des ersten Detektors 116 und des zweiten Detektors 117 weisen eine Maximallänge zwischen 1 mm und 5 mm senkrecht zur optischen Achse OA auf. Sie weisen zum Beispiel eine kreisförmige Ausbildung und einen Durchmesser im Bereich von 1 mm bis 3 mm senkrecht zur optischen Achse auf.
  • Im hier gezeigten Ausführungsbeispiel ist die zweite Blendeneinheit 109 eine kreisförmige Blende mit einer zweiten Blendenöffnung 118, damit der primäre Elektronenstrahl hindurch tritt, wobei die zweite Blendenöffnung 118 eine Länge von 25 µm bis 50 µm, zum Beispiel 35 µm, aufweist. Die zweite Blendeneinheit 109 kann eine Druckstufenblende sein. Die zweite Blendeneinheit 109 eines weiteren Ausführungsbeispiels kann mehrere Öffnungen aufweisen, die mechanisch in Bezug auf den primären Elektronenstrahl bewegt werden können oder durch die der primäre Elektronenstrahl unter Verwendung von elektrischen und/oder magnetischen Ablenkvorrichtungen treten kann. Wie oben erwähnt, kann die zweite Blendeneinheit 109 auch eine Druckstufenblende sein. Sie trennt einen ersten Bereich, in dem die Elektronenquelle 101 angeordnet ist und der ein Ultrahochvakuum (10-7 bis 10-12 hPa) aufweist, von einem zweiten Bereich mit einem Hochvakuum (10-3 bis 10-7 hPa). Der zweite Bereich ist der Zwischendruckbereich des Strahlführungsrohrs 104, der zur Objektkammer 120 führt.
  • Zusätzlich zum oben erwähnten Detektorsystem weist das REM 100 einen Strahlungsdetektor 500 auf, der in der Objektkammer 120 angeordnet ist. Der Strahlungsdetektor 500 ist zum Beispiel zwischen dem Strahlführungsrohr 104 und dem Objekt 114 positioniert. Darüber hinaus ist der Strahlungsdetektor 500 an der Seite des Objekts 114 positioniert. Der Strahlungsdetektor 500 kann ein CCD-Detektor sein.
  • Die Objektkammer 120 wird in einem ersten Druckbereich oder in einem zweiten Druckbereich betrieben, wobei der erste Druckbereich nur Drücke umfasst, die niedriger oder gleich 10-3 hPa sind, und wobei der zweite Druckbereich nur Drücke über 10-3 hPa umfasst. Ein Drucksensor 600 ist in der Objektkammer 120 zum Messen des Drucks in der Objektkammer 120 angeordnet. Ein Vakuumsystem in Form eines Pumpensystems 601, das mit dem Drucksensor 600 verbunden ist und an der Objektkammer 120 angeordnet ist, stellt den Druckbereich in der Objektkammer 120 bereit, entweder den ersten Druckbereich oder den zweiten Druckbereich.
  • Das REM 100 kann ferner einen dritten Detektor 121 aufweisen, der in der Objektkammer 120 angeordnet ist. Der dritte Detektor 121 ist dem Objekt 114 nachgeschaltet angeordnet, wie von der Elektronenquelle 101 in der Richtung des Objekts 114 entlang der optischen Achse OA gesehen. Der primäre Elektronenstrahl kann durch das Objekt 114 transmittiert werden. Elektronen des primären Elektronenstrahls wechselwirken mit dem Material des Objekts 114. Elektronen, die durch das Objekt 114 transmittiert werden, werden unter Verwendung des dritten Detektors 121 detektiert.
  • Der erste Detektor 116, der zweite Detektor 117 und der Strahlungsdetektor 500 sind mit einer Steuereinheit 700 verbunden. Die Steuereinheit 700 umfasst einen Prozessor 701, in den ein Computerprogrammprodukt, das einen Programmcode umfasst, geladen ist, der, wenn er ausgeführt wird, das REM 100 auf eine derartige Weise steuert, dass ein Verfahren nach der Erfindung ausgeführt wird. Dies wird unten weiter erläutert.
  • 1A zeigt eine schematische Darstellung eines weiteren REM 100. Die Ausführungsform von 1A beruht auf der Ausführungsform von 1. Identische Bezugszeichen bezeichnen identische Komponenten. Im Gegensatz zum REM 100 von 1 umfasst das REM 100 von 1A eine Objektkammer 122. Eine Druckbegrenzungsblende 602 ist zwischen dem Strahlführungsrohr 104 und einem Objektbereich 123 der Objektkammer 122 angeordnet. Das REM 100 nach 1A ist insbesondere dafür geeignet, dass das REM 100 im zweiten Druckbereich betrieben wird.
  • 2 ist eine schematische Darstellung einer weiteren Ausführungsform einer Teilchenstrahlvorrichtung nach der Erfindung. Diese Ausführungsform der Teilchenstrahlvorrichtung wird mit einem Bezugszeichen 200 bezeichnet und umfasst eine Spiegelkorrektureinrichtung zum Beispiel zum Korrigieren von chromatischen und sphärischen Aberrationen. Dies wird unten ausführlich weiter erläutert. Die Teilchenstrahlvorrichtung 200 umfasst eine Teilchenstrahlsäule 201, die als eine Elektronenstrahlsäule ausgebildet ist und im Prinzip einer Elektronenstrahlsäule eines korrigierten REM entspricht. Die Teilchenstrahlvorrichtung 200 nach der Erfindung ist jedoch nicht auf ein REM mit einer Spiegelkorrektureinrichtung beschränkt. Vielmehr kann eine beliebige Teilchenstrahlvorrichtung verwendet werden, die Korrektureinheiten umfasst.
  • Die Teilchenstrahlsäule 201 umfasst einen Strahlerzeuger in Form einer Elektronenquelle 202, die eine Kathode ist, eine Extraktionselektrode 203 und eine Anode 204. Beispielsweise kann die Elektronenquelle 202 ein thermischer Feldemitter sein. Elektronen, die aus der Elektronenquelle 202 treten, werden von der Anode 204 als Ergebnis einer Potenzialdifferenz zwischen der Elektronenquelle 202 und der Anode 204 beschleunigt. Dementsprechend wird ein primärer Teilchenstrahl in Form eines Elektronenstrahls entlang einer ersten optischen Achse OA1 bereitgestellt.
  • Der primäre Teilchenstrahl wird unter Verwendung einer ersten elektrostatischen Linse 205, einer zweiten elektrostatischen Linse 206 und einer dritten elektrostatischen Linse 207 entlang eines Strahlpfads gelenkt, der - nachdem der primäre Teilchenstrahl aus der Elektronenquelle 202 getreten ist - ungefähr die erste optische Achse OA1 ist.
  • Der primäre Teilchenstrahl wird unter Verwendung mindestens einer Strahlausrichtungsvorrichtung entlang des Strahlpfads ausgerichtet. Die Strahlausrichtungsvorrichtung dieser Ausführungsform umfasst eine Quellenausrichtungseinheit, die zwei magnetische Ablenkeinheiten 208 umfasst, die entlang der ersten optischen Achse OA1 angeordnet sind. Ferner umfasst die Teilchenstrahlvorrichtung 200 elektrostatische Strahlablenkeinheiten. Eine erste elektrostatische Strahlablenkeinheit 209 ist zwischen der zweiten elektrostatischen Linse 206 und der dritten elektrostatischen Linse 207 angeordnet. Die erste elektrostatische Strahlablenkeinheit 209 ist auch den magnetischen Ablenkeinheiten 208 nachgeschaltet angeordnet. Eine erste Multipoleinheit 209A in Form einer ersten magnetischen Ablenkeinheit ist an einer Seite der ersten elektrostatischen Strahlablenkeinheit 209 angeordnet. Darüber hinaus ist eine zweite Multipoleinheit 209B in Form einer zweiten magnetischen Ablenkeinheit an der anderen Seite der ersten elektrostatischen Strahlablenkeinheit 209 angeordnet. Die erste elektrostatische Strahlablenkeinheit 209, die erste Multipoleinheit 209A und die zweite Multipoleinheit 209B werden zum Ausrichten des primären Teilchenstrahls in Bezug auf eine Achse der dritten elektrostatischen Linse 207 und einem Eintrittsfenster einer Strahlablenkvorrichtung 210 verwendet. Die erste elektrostatische Strahlablenkeinheit 209, die erste Multipoleinheit 209A und die zweite Multipoleinheit 209B können zusammen als ein Wien-Filter fungieren. Eine weitere magnetische Ablenkvorrichtung 232 ist am Eingang der Strahlablenkvorrichtung 210 angeordnet.
  • Die Strahlablenkvorrichtung 210 wird als ein optischer Teilchenstrahlteiler verwendet, der den primären Teilchenstrahl auf eine bestimmte Weise ablenkt. Die Strahlablenkvorrichtung 210 umfasst mehrere Magnetsektoren, nämlich einen ersten Magnetsektor 211A, einen zweiten Magnetsektor 211B, einen dritten Magnetsektor 211C, einen vierten Magnetsektor 211D, einen fünften Magnetsektor 211E, einen sechsten Magnetsektor 211F und einen siebten Magnetsektor 211 G. Der primäre Teilchenstrahl tritt entlang der ersten optischen Achse OA1 in die Strahlablenkvorrichtung 210 ein und wird von der Strahlablenkvorrichtung 210 in die Richtung einer zweiten optischen Achse OA2 abgelenkt. Die Strahlablenkung wird durch den ersten Magnetsektor 211A, den zweiten Magnetsektor 211B und den dritten Magnetsektor 211C in einem Winkel von 30° bis 120° bewirkt. Die zweite optische Achse OA2 ist in einem identischen Winkel zur ersten optischen Achse OA1 angeordnet. Die Strahlablenkvorrichtung 210 lenkt auch den primären Teilchenstrahl ab, der entlang der zweiten optischen Achse OA2 in die Richtung einer dritten optischen Achse OA3 gelenkt wird. Die Strahlablenkung wird durch den dritten Magnetsektor 211C, den vierten Magnetsektor 211 D und den fünften Magnetsektor 211 E bewirkt. In der in 2 gezeigten Ausführungsform erfolgt das Ablenken zur zweiten optischen Achse OA2 und zur dritten optischen Achse OA3 durch Ablenken des primären Teilchenstrahls in einem Winkel von 90°. Deshalb verläuft die dritte optische Achse OA3 koaxial zur ersten optischen Achse OA1. Die Teilchenstrahlvorrichtung 200 nach der Erfindung ist jedoch nicht auf Ablenkwinkel von 90° beschränkt. Vielmehr kann ein beliebiger geeigneter Ablenkwinkel mit der Strahlablenkvorrichtung 210 verwendet werden, zum Beispiel 70° oder 110°, sodass die erste optische Achse OA1 nicht koaxial zur dritten optischen Achse OA3 verläuft. Für weitere Details der Strahlablenkvorrichtung 210 wird auf WO 2002/067286 A2 Bezug genommen, die hierin unter Bezugnahme aufgenommen ist.
  • Nachdem der primäre Teilchenstrahl durch den ersten Magnetsektor 211A, den zweiten Magnetsektor 211B und den dritten Magnetsektor 211C abgelenkt wurde, wird er entlang der zweiten optischen Achse OA2 geführt. Der primäre Teilchenstrahl wird zu einem elektrostatischen Spiegel 214 geleitet und tritt - auf seinem Weg zum elektrostatischen Spiegel 214 - durch eine vierte elektrostatische Linse 215, eine dritte Multipoleinheit 216A in Form einer magnetischen Ablenkeinheit, eine zweite elektrostatische Strahlablenkeinheit 216, eine dritte elektrostatische Strahlablenkeinheit 217 und eine vierte Multipoleinheit 216B in Form einer magnetischen Ablenkeinheit. Der elektrostatische Spiegel 214 umfasst eine erste Spiegelelektrode 213A, eine zweite Spiegelelektrode 213B und eine dritte Spiegelelektrode 213C. Elektronen des primären Teilchenstrahls, die vom elektrostatischen Spiegel 214 zurück reflektiert werden, laufen entlang der zweiten optischen Achse OA2 und treten wiederum in die Strahlablenkvorrichtung 210. Sie werden vom dritten Magnetsektor 211C, vom vierten Magnetsektor 211D und vom fünften Magnetsektor 211E zur dritten optischen Achse OA3 abgelenkt. Die Elektronen des primären Teilchenstrahls verlassen die Strahlablenkvorrichtung 210 und werden entlang der dritten optischen Achse OA3 zum zu untersuchenden Objekt 225 geleitet. Auf seinem Weg zum Objekt 225 tritt der primäre Teilchenstrahl durch eine fünfte elektrostatische Linse 218, ein Strahlführungsrohr 220, eine fünfte Multipoleinheit 218A, eine sechste Multipoleinheit 218B und eine Objektivlinse 221. Die fünfte elektrostatische Linse 218 ist eine elektrostatische Immersionslinse. Der primäre Teilchenstrahl wird von der fünften elektrostatischen Linse 218 auf das elektrische Potenzial des Strahlführungsrohrs 220 abgebremst oder beschleunigt.
  • Der primäre Teilchenstrahl wird von der Objektivlinse 221 in einer Fokalebene fokussiert, in dem das Objekt 225 positioniert ist. Das Objekt 225 ist auf einem beweglichen Probentisch 224 angeordnet. Der bewegliche Probentisch 224 ist in einer Objektkammer 226 der Teilchenstrahlvorrichtung 200 angeordnet.
  • Die Objektivlinse 221 kann als eine Kombination einer magnetischen Linse 222 und einer sechsten elektrostatischen Linse 223 implementiert sein. Das Ende des Strahlführungsrohrs 220 kann eine Elektrode einer elektrostatischen Linse sein. Teilchen des primären Teilchenstrahls werden nach Verlassen des Strahlführungsrohrs 220 auf das Potenzial des auf dem Probentisch 224 angeordneten Objekts 225 abgebremst. Die Objektivlinse 221 ist nicht auf eine Kombination der magnetischen Linse 222 und der sechsten elektrostatischen Linse 223 beschränkt. Stattdessen kann die Objektivlinse 221 in einer beliebigen geeigneten Form implementiert sein. Insbesondere kann die Objektivlinse 221 auch nur eine reine magnetische Linse oder nur eine reine elektrostatische Linse sein.
  • Der auf das Objekt 225 fokussierte primäre Teilchenstrahl wechselwirkt mit dem Objekt 225. Wechselwirkungsteilchen und Wechselwirkungsstrahlung werden erzeugt. Insbesondere werden Sekundärelektronen vom Objekt 225 emittiert und Rückstreuelektronen werden vom Objekt 225 zurückgeführt. Die Sekundärelektronen und die Rückstreuelektronen werden wiederum beschleunigt und werden entlang der dritten optischen Achse OA3 in das Strahlführungsrohr 220 gelenkt. Insbesondere laufen die Sekundärelektronen und die Rückstreuelektronen auf dem Strahlpfad des primären Teilchenstrahls in der entgegengesetzten Richtung des primären Teilchenstrahls.
  • Die Teilchenstrahlvorrichtung 200 umfasst einen ersten Detektor 219, der entlang des Strahlpfads zwischen der Strahlablenkvorrichtung 210 und der Objektivlinse 221 angeordnet ist. Sekundärelektronen, die in Richtungen geleitet werden, die in großen Winkeln in Bezug auf die dritte optische Achse OA3 ausgerichtet sind, werden vom ersten Detektor 219 detektiert. Rückstreuelektronen und Sekundärelektronen, die in Richtungen mit einer kleinen axialen Distanz in Bezug auf die dritte optische Achse OA3 am ersten Detektor 219 geleitet werden, d. h. Rückstreuelektronen und Sekundärelektronen mit einer kleinen Distanz von der dritten optischen Achse OA3 an der Position des ersten Detektors 219, treten jedoch in die Strahlablenkvorrichtung 210 ein und werden vom fünften Magnetsektor 211 E, vom sechsten Magnetsektor 211F und vom siebenten Magnetsektor 211G entlang eines Detektionsstrahlpfads 227 zu einem zweiten Detektor 228 einer Analyseeinheit 231 abgelenkt. Der Gesamtablenkwinkel kann beispielsweise 90° oder 110° betragen.
  • Der erste Detektor 219 erzeugt Detektionssignale, die hauptsächlich auf den emittierten Sekundärelektronen beruhen. Der zweite Detektor 228 der Analyseeinheit 231 erzeugt Detektionssignale, die hauptsächlich auf Rückstreuelektronen beruhen. Die vom ersten Detektor 219 und vom zweiten Detektor 228 erzeugten Detektionssignale werden an eine Steuereinheit 700 gesendet und werden verwendet, um Informationen über die Eigenschaften des Wechselwirkungsbereichs des fokussierten primären Teilchenstrahls mit dem Objekt 225 zu erhalten. Falls der fokussierte primäre Teilchenstrahl unter Verwendung einer Rastervorrichtung 229 über das Objekt 225 gerastert wird und falls die Steuereinheit 700 die vom ersten Detektor 219 und vom zweiten Detektor 228 erzeugten Detektionssignale erfasst und speichert, kann ein Bild des gerasterten Bereichs des Objekts 225 erfasst und von der Steuereinheit 700 oder einem Monitor (nicht gezeigt) angezeigt werden.
  • Eine Filterelektrode 230 kann vor dem zweiten Detektor 228 der Analyseeinheit 231 angeordnet sein. Die Filterelektrode 230 kann verwendet werden, um die Sekundärelektronen von den Rückstreuelektronen aufgrund der kinetischen Energiedifferenz zwischen den Sekundärelektronen und den Rückstreuelektronen zu trennen.
  • Zusätzlich zum ersten Detektor 219 und zum zweiten Detektor 228 weist die Teilchenstrahlvorrichtung 200 auch einen Strahlungsdetektor 500 auf, der in der Objektkammer 226 angeordnet ist. Der Strahlungsdetektor 500 ist an der Seite des Objekts 225 positioniert und ist auf das Objekt 225 gerichtet. Der Strahlungsdetektor 500 kann ein CCD-Detektor sein und detektiert Wechselwirkungsstrahlung, die sich aus der Wechselwirkung des primären Teilchenstrahls mit dem Objekt 225 ergibt, insbesondere Röntgenstrahlen und/oder Kathodolumineszenzlicht.
  • Die Objektkammer 226 wird in einem ersten Druckbereich oder in einem zweiten Druckbereich betrieben, wobei der erste Druckbereich nur Drücke umfasst, die niedriger oder gleich 10-3 hPa sind, und wobei der zweite Druckbereich nur Drücke über 10-3 hPa umfasst. Ein Drucksensor 600 ist in der Objektkammer 226 zum Messen des Drucks in der Objektkammer 226 angeordnet. Ein Vakuumsystem in Form eines Pumpensystems 601, das mit dem Drucksensor 600 verbunden ist und an der Objektkammer 226 angeordnet ist, stellt den Druckbereich in der Objektkammer 226 bereit, entweder den ersten Druckbereich oder den zweiten Druckbereich.
  • Der erste Detektor 219, der zweite Detektor 228 der Analyseeinheit 231 und der Strahlungsdetektor 500 sind mit der Steuereinheit 700 verbunden. Die Steuereinheit 700 umfasst einen Prozessor 701, in den ein Computerprogrammprodukt, das einen Programmcode umfasst, geladen ist, der, wenn er ausgeführt wird, die Teilchenstrahlvorrichtung 200 auf eine derartige Weise steuert, dass ein Verfahren nach der Erfindung ausgeführt wird. Dies wird unten weiter erläutert.
  • 3 zeigt eine schematische Darstellung einer anderen Ausführungsform einer Teilchenstrahlvorrichtung 300 nach der Erfindung. Die Teilchenstrahlvorrichtung 300 weist eine erste Teilchenstrahlsäule 301 in Form einer lonenstrahlsäule und eine zweite Teilchenstrahlsäule 302 in Form einer Elektronenstrahlsäule auf. Die erste Teilchenstrahlsäule 301 und die zweite Teilchenstrahlsäule 302 sind an einer Objektkammer 303 angeordnet, in der ein abzubildendes, zu analysierendes und/oder zu bearbeitendes Objekt 304 angeordnet ist. Es wird ausdrücklich angemerkt, dass das hierin beschriebene System nicht darauf beschränkt ist, dass die erste Teilchenstrahlsäule 301 in der Form einer lonenstrahlsäule ist und die zweite Teilchenstrahlsäule 302 in der Form einer Elektronenstrahlsäule ist. Tatsächlich sieht das hierin beschriebene System auch vor, dass die erste Teilchenstrahlsäule 301 in der Form einer Elektronenstrahlsäule ist und die zweite Teilchenstrahlsäule 302 in der Form einer lonenstrahlsäule ist. Eine weitere Ausführungsform der hierin beschriebenen Erfindung sieht vor, dass sowohl die erste Teilchenstrahlsäule 301 als auch die zweite Teilchenstrahlsäule 302 jeweils in der Form einer lonenstrahlsäule sind.
  • 4 zeigt eine detaillierte Veranschaulichung der in 3 gezeigten Teilchenstrahlvorrichtung 300. Der Klarheit halber ist die Objektkammer 303 nicht illustriert. Die erste Teilchenstrahlsäule 301 in Form der lonenstrahlsäule weist eine erste optische Achse 305 auf. Ferner weist die zweite Teilchenstrahlsäule 302 in Form der Elektronenstrahlsäule eine zweite optische Achse 306 auf.
  • Die zweite Teilchenstrahlsäule 302 in Form der Elektronenstrahlsäule wird als Nächstes beschrieben. Die zweite Teilchenstrahlsäule 302 weist einen zweiten Strahlerzeuger 307, eine erste Elektrode 308, eine zweite Elektrode 309 und eine dritte Elektrode 310 auf. Beispielsweise ist der zweite Strahlerzeuger 307 ein thermischer Feldemitter. Die erste Elektrode 308 weist die Funktion einer Supressorelektrode auf, während die zweite Elektrode 309 die Funktion einer Extraktionselektrode aufweist. Die dritte Elektrode 310 ist eine Anode und bildet zur gleichen Zeit ein Ende eines Strahlführungsrohrs 311.
  • Ein zweiter Teilchenstrahl 312 in Form eines Elektronenstrahls wird vom zweiten Strahlerzeuger 307 erzeugt. Elektronen, die aus dem zweiten Strahlerzeuger 307 treten, werden auf das Anodenpotenzial beschleunigt, zum Beispiel im Bereich von 1 kV bis 30 kV, als Ergebnis einer Potenzialdifferenz zwischen dem zweiten Strahlerzeuger 307 und der dritten Elektrode 310. Der zweite Teilchenstrahl 312 in Form des Elektronenstrahls tritt durch das Strahlführungsrohr 311 und wird auf das Objekt 304 fokussiert.
  • Das Strahlführungsrohr 311 tritt durch eine Kollimatoranordnung 313, die eine erste ringförmige Spule 314 und ein Joch 315 aufweist. In Richtung des Objekts 304 vom zweiten Strahlerzeuger 307 gesehen folgt eine Lochblende 316 und ein Detektor 317 mit einer zentralen Öffnung 318, die entlang der zweiten optischen Achse 306 im Strahlführungsrohr 311 angeordnet ist, auf die Kollimatoranordnung 313.
  • Das Strahlführungsrohr 311 verläuft dann durch ein Loch in einer zweiten Objektivlinse 319. Die zweite Objektivlinse 319 wird zum Fokussieren des zweiten Teilchenstrahls 312 auf das Objekt 304 verwendet. Zu diesem Zweck weist die zweite Objektivlinse 319 eine magnetische Linse 320 und eine elektrostatische Linse 321 auf. Die magnetische Linse 320 ist mit einer zweiten ringförmigen Spule 322, einem inneren Polteil 323 und einem äußeren Polteil 324 versehen. Die elektrostatische Linse 321 umfasst ein Ende 325 des Strahlführungsrohrs 311 und eine Abschlusselektrode 326.
  • Das Ende 325 des Strahlführungsrohrs 311 und der Abschlusselektrode 326 bilden gemeinsam eine elektrostatische Abbremsvorrichtung. Das Ende 325 des Strahlführungsrohrs 311 liegt zusammen mit dem Strahlführungsrohr 311 auf dem Anodenpotenzial, während die Abschlusselektrode 326 und das Objekt 304 auf einem Potenzial liegen, das unter dem Anodenpotenzial liegt. Dies ermöglicht den Elektronen des zweiten Teilchenstrahls 312, auf eine zum Untersuchen des Objekts 304 erforderliche erwünschte Energie abgebremst werden.
  • Die zweite Teilchenstrahlsäule 302 weist ferner eine Rastervorrichtung 327 auf, durch die der zweite Teilchenstrahl 312 abgelenkt werden kann und in Form eines Rasters über das Objekt 304 gerastert werden kann.
  • Zu Abbildungszwecken detektiert der Detektor 317, der im Strahlführungsrohr 311 angeordnet ist, Sekundärelektronen und/oder Rückstreuelektronen, die sich aus der Wechselwirkung zwischen dem zweiten Teilchenstrahl 312 und dem Objekt 304 ergeben. Die vom Detektor 317 erzeugten Signale werden an eine Steuereinheit 700 gesendet.
  • Wechselwirkungsstrahlung, zum Beispiel Röntgenstrahlen oder Kathodolumineszenzlicht, kann unter Verwendung eines Strahlungsdetektors 500, zum Beispiel eines CCD-Detektors, detektiert werden, der in der Objektkammer 303 angeordnet ist (siehe 3). Der Strahlungsdetektor 500 ist an der Seite des Objekts 304 positioniert und ist auf das Objekt 304 gerichtet.
  • Das Objekt 304 ist auf einem Objekthalter 328 in Form eines Probentisches wie in 3 gezeigt angeordnet, wodurch das Objekt 304 so angeordnet ist, dass es sich entlang dreier Achsen bewegen kann, die angeordnet sind, wechselseitig senkrecht zueinander zu stehen (genauer eine x-Achse, eine y-Achse und eine z-Achse). Ferner kann der Probentisch um zwei Drehachsen gedreht werden, die angeordnet sind, wechselseitig senkrecht zueinander zu stehen. Es ist deshalb möglich, das Objekt 304 an eine gewünschte Position zu bewegen. Die Rotation des Objekthalters 328 um eine der zwei Drehachsen kann verwendet werden, um den Objekthalter 328 so zu neigen, dass die Oberfläche des Objekts 304 senkrecht zu dem zweiten Teilchenstrahl 312 oder zu dem ersten Teilchenstrahl 329 ausgerichtet wird, was weiter unten beschrieben wird. Alternativ kann die Oberfläche des Objekts 304 auf eine solche Weise ausgerichtet werden, dass sich die Oberfläche des Objekts 304 einerseits und der erste Teilchenstrahl 329 oder der zweite Teilchenstrahl 312 andererseits in einem Winkel zueinander angeordnet sind, zum Beispiel im Bereich von 0° bis 90°.
  • Wie vorher erwähnt bezeichnet das Bezugssymbol 301 die erste Teilchenstrahlsäule in Form der lonenstrahlsäule. Die erste Teilchenstrahlsäule 301 weist einen ersten Strahlerzeuger 330 in Form einer Ionenquelle auf. Der erste Strahlerzeuger 330 wird zum Erzeugen des ersten Teilchenstrahls 329 in Form eines lonenstrahls verwendet. Ferner ist die erste Teilchenstrahlsäule 301 mit einer Extraktionselektrode 331 und einem Kollimator 332 versehen. Der Kollimator 332 wird von einer einstellbaren Blende 333 in der Richtung des Objekts 304 entlang der ersten optischen Achse 305 gefolgt. Der erste Teilchenstrahl 329 wird auf das Objekt 304 durch eine erste Objektivlinse 334 in Form von Fokussierungslinsen fokussiert. Rasterelektroden 335 sind vorgesehen, um den ersten Teilchenstrahl 329 in Form eines Rasters über das Objekt 304 zu rastern.
  • Wenn der erste Teilchenstrahl 329 auf das Objekt 304 trifft, wechselwirkt der erste Teilchenstrahl 329 mit dem Material des Objekts 304. Dabei wird Wechselwirkungsstrahlung erzeugt und unter Verwendung des Strahlungsdetektors 500 detektiert. Wechselwirkungsteilchen werden erzeugt, insbesondere Sekundärelektronen und/oder Sekundärionen. Diese werden unter Verwendung des Detektors 317 detektiert.
  • Die Objektkammer 303 wird in einem ersten Druckbereich oder in einem zweiten Druckbereich betrieben, wobei der erste Druckbereich nur Drücke umfasst, die niedriger oder gleich 10-3 hPa sind, und wobei der zweite Druckbereich nur Drücke über 10-3 hPa umfasst. Ein Drucksensor 600 ist in der Objektkammer 303 zum Messen des Drucks in der Objektkammer 303 angeordnet (siehe 3). Ein Vakuumsystem in Form eines Pumpensystems 601, das mit dem Drucksensor 600 verbunden ist und an der Objektkammer 303 angeordnet ist, stellt den Druckbereich in der Objektkammer 303 bereit, entweder den ersten Druckbereich oder den zweiten Druckbereich.
  • Der erste Teilchenstrahl 329 kann auch verwendet werden, um das Objekt 304 zu bearbeiten. Material kann zum Beispiel auf der Oberfläche des Objekts 304 unter Verwendung des ersten Teilchenstrahls 329 abgelagert werden, wobei das Material mit einem Gasinjektionssystem (GIS) versehen ist. Zusätzlich oder alternativ können Strukturen unter Verwendung des ersten Teilchenstrahls 329 in das Objekt 304 geätzt werden. Darüber hinaus kann der zweite Teilchenstrahl 312 verwendet werden, um das Objekt 304, zum Beispiel durch elektronenstrahlinduzierte Ablagerung, zu bearbeiten.
  • Der Detektor 317 und der Strahlungsdetektor 500 sind mit der Steuereinheit 700 wie in 3 und 4 gezeigt verbunden. Die Steuereinheit 700 umfasst einen Prozessor 701, in den ein Computerprogrammprodukt, das einen Programmcode umfasst, geladen ist, der, wenn er ausgeführt wird, die Teilchenstrahlvorrichtung 300 auf eine derartige Weise steuert, dass ein Verfahren nach der Erfindung ausgeführt wird. Dies wird unten weiter erläutert.
  • Eine schematische Darstellung eines Vakuumsystems in Form des Pumpensystems 601 wird nun in 5 in Bezug auf das REM 100 nach 1 gezeigt. Es wird angemerkt, dass das Pumpensystem 601 auch an den anderen besprochenen Teilchenstrahlvorrichtungen, nämlich dem REM 100 von 1A, der Teilchenstrahlvorrichtung 200 von 2 und der Teilchenstrahlvorrichtung 300 der 3 und 4 angeordnet sein kann.
  • Das REM 100 umfasst das Strahlführungsrohr 104, das eine Vakuumkammer 605 aufweist. Die Vakuumkammer 605 kann die Elektronenquelle 101 zum Erzeugen des Elektronenstrahls umfassen und/oder kann das abzubildende, zu analysierende und/oder zu bearbeitende Objekt 114 umfassen. Deshalb kann die Vakuumkammer 605 die Objektkammer 120 sein. Es wird angemerkt, dass die Erfindung nicht auf die vorgenannte Vakuumkammer beschränkt ist. Vielmehr kann eine beliebige Vakuumkammer des REM 100, die für die Erfindung geeignet ist, für die Erfindung verwendet werden.
  • Eine erste lonengetterpumpe 603 und eine zweite lonengetterpumpe 604 sind am Strahlführungsrohr 104 angeordnet und stehen in einer Fluidverbindung mit der Vakuumkammer 605. Deshalb pumpen die erste lonengetterpumpe 603 und die zweite lonengetterpumpe 604 die Vakuumkammer 605 ab und stellen ein Vakuum im Inneren der Vakuumkammer 605 bereit.
  • Eine erste Turbomolekularpumpe 606 ist am Strahlführungsrohr 104 angeordnet und steht in Fluidverbindung mit der Vakuumkammer 605. Darüber hinaus steht die erste Turbomolekularpumpe 606 über einen ersten Durchlass 608 in Fluidverbindung mit einem ersten Vakuumbehälter 607. Ein erstes Ventil 609 ist zwischen der ersten Turbomolekularpumpe 606 und dem ersten Vakuumbehälter 607 angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen der ersten Turbomolekularpumpe 606, der Vakuumkammer 605 und dem ersten Vakuumbehälter 607 kann unter Verwendung des ersten Ventils 609 angebunden oder getrennt werden. Der erste Vakuumbehälter 607 steht über einen zweiten Durchlass 611 auch in Fluidverbindung mit einer ersten Vorvakuumpumpe 610. Ein zweites Ventil 612 ist zwischen dem ersten Vakuumbehälter 607 und der ersten Vorvakuumpumpe 610 angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen dem ersten Vakuumbehälter 607 und der ersten Vorvakuumpumpe 610 kann unter Verwendung des zweiten Ventils 612 angebunden oder getrennt werden. Eine erste Druckmesseinheit 613 ist am ersten Vakuumbehälter 607 zum Messen eines ersten Vakuumbehälterdrucks innerhalb des ersten Vakuumbehälters 607 angeordnet.
  • Eine weitere schematische Darstellung des Vakuumsystems in Form des Pumpensystems 601 wird nun in 5A in Bezug auf das REM 100 nach 1 gezeigt. Wie in 5A gezeigt, kann das Pumpensystem 601 mehr als eine Pumpe und/oder mehr als einen Vakuumbehälter umfassen. Genauer umfasst die Ausführungsform des Pumpensystems 601, die in 5 und 5A gezeigt ist, eine zweite Turbomolekularpumpe 606A, die am Strahlführungsrohr 104 angeordnet ist und die in Fluidverbindung mit der Vakuumkammer 605 steht. Darüber hinaus steht die zweite Turbomolekularpumpe 606A über einen dritten Durchlass 608A in Fluidverbindung mit einem zweiten Vakuumbehälter 607A. Ein drittes Ventil 609A ist zwischen der zweiten Turbomolekularpumpe 606A und dem zweiten Vakuumbehälter 607A angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen der zweiten Turbomolekularpumpe 606A, der Vakuumkammer 605 und dem zweiten Vakuumbehälter 607A kann unter Verwendung des dritten Ventils 609A angebunden oder getrennt werden. Der zweite Vakuumbehälter 607A steht über einen vierten Durchlass 611A in Fluidverbindung mit einer zweiten Vorvakuumpumpe 610A. Ein viertes Ventil 612A ist zwischen dem zweiten Vakuumbehälter 607A und der zweiten Vorvakuumpumpe 610A angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen dem zweiten Vakuumbehälter 607A und der zweiten Vorvakuumpumpe 610A kann unter Verwendung des vierten Ventils 612A angebunden oder getrennt werden. Eine zweite Druckmesseinheit 613A ist am zweiten Vakuumbehälter 607A zum Messen eines zweiten Vakuumbehälterdrucks innerhalb des zweiten Vakuumbehälters 607A angeordnet.
  • Das Pumpensystem 601 kann unter Verwendung von Kreisläufen betrieben werden. Genauer kann das Pumpensystem 601 unter Verwendung eines ersten Pumpenkreislaufs und unter Verwendung eines zweiten Pumpenkreislaufs betrieben werden.
  • Der erste Pumpenkreislauf wird hierin nachfolgend beschrieben. Die erste Vorvakuumpumpe 610 wird zum Herstellen eines Vakuums mit einem niedrigen ersten, im ersten Vakuumbehälter 607 bestehenden Vakuumbehälterdruck verwendet. Der niedrige erste Vakuumbehälterdruck kann gleich oder höher als 10-3 hPa sein. Wenn der erste Vakuumbehälterdruck einen unteren Schwellenwert, zum Beispiel 2 · 10-3 hPa erreicht, wird die erste Vorvakuumpumpe 610 vom ersten Vakuumbehälter 607 getrennt. Anders ausgedrückt wird das zweite Ventil 612 geschlossen, sodass die Fluidverbindung zwischen dem ersten Vakuumbehälter 607 und der ersten Vorvakuumpumpe 610 unterbrochen ist. Darüber hinaus ist der erste Vakuumbehälter 607 mit der Vakuumkammer 605 und der ersten Turbomolekularpumpe 606 verbunden. Anders ausgedrückt wird die Fluidverbindung zwischen dem ersten Vakuumbehälter 607, der Vakuumkammer 605 und der ersten Turbomolekularpumpe 606 durch Öffnen des ersten Ventils 609 hergestellt. Wenn die Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer 605, der ersten Turbomolekularpumpe 606 und dem ersten Vakuumbehälter 607 hergestellt ist, erhöht sich der im ersten Vakuumbehälter 607 bestehende erste Vakuumbehälterdruck. Wenn der erste Vakuumbehälterdruck einen gegebenen Druckschwellenwert des ersten Vakuumbehälterdrucks erreicht, zum Beispiel 5 ·10-3 hPa, wird das erste Ventil 609 geschlossen, sodass die Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer 605, der ersten Turbomolekularpumpe 606 und dem ersten Vakuumbehälter 607 unterbrochen wird. Der Druckschwellenwert kann von einem Benutzer und/oder der Steuereinheit 701 des REM 100 festgelegt sein. Die erste Vorvakuumpumpe 610 ist wiederum mit dem ersten Vakuumbehälter 607 durch Öffnen des zweiten Ventils 612 verbunden. Der erste Vakuumbehälter 607 wird unter Verwendung der ersten Vorvakuumpumpe 610 abgepumpt, bis der erste Vakuumbehälterdruck wieder den unteren Schwellenwert erreicht. Wenn der untere Schwellenwert erreicht ist, beginnt der erste Pumpenkreislauf erneut.
  • Der zweite Pumpenkreislauf wird hierin nachfolgend beschrieben. Die zweite Vorvakuumpumpe 610A wird zum Herstellen eines Vakuums mit einem niedrigen zweiten, im zweiten Vakuumbehälter 607A bestehenden Vakuumbehälterdruck verwendet. Der niedrige zweite Vakuumbehälterdruck kann gleich oder höher als 10-3 hPa sein. Wenn der zweite Vakuumbehälterdruck einen unteren Schwellenwert, zum Beispiel 2 . 10-3 hPa erreicht, wird die zweite Vorvakuumpumpe 610A vom zweiten Vakuumbehälter 607A getrennt. Anders ausgedrückt wird das vierte Ventil 612A geschlossen, sodass die Fluidverbindung zwischen dem zweiten Vakuumbehälter 607A und der zweiten Vorvakuumpumpe 610A unterbrochen ist. Darüber hinaus ist der zweite Vakuumbehälter 607A mit der Vakuumkammer 605 und der zweiten Turbomolekularpumpe 606A verbunden. Anders ausgedrückt wird die Fluidverbindung zwischen dem zweiten Vakuumbehälter 607A, der Vakuumkammer 605 und der zweiten Turbomolekularpumpe 606A durch Öffnen des dritten Ventils 609A hergestellt. Wenn die Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer 605, der zweiten Turbomolekularpumpe 606A und dem zweiten Vakuumbehälter 607A hergestellt ist, erhöht sich der im zweiten Vakuumbehälter 607A bestehende zweite Vakuumbehälterdruck. Wenn der zweite Vakuumbehälterdruck des zweiten Vakuumbehälters 607A einen gegebenen Druckschwellenwert des zweiten Vakuumbehälterdrucks erreicht, zum Beispiel 5 ·10-3 hPa, wird das dritte Ventil 609A geschlossen, sodass die Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer 605, der zweiten Turbomolekularpumpe 606A und dem zweiten Vakuumbehälter 607A unterbrochen wird. Der Druckschwellenwert kann vom Benutzer und/oder der Steuereinheit 701 des REM 100 festgelegt sein. Die zweite Vorvakuumpumpe 610A wird wiederum mit dem zweiten Vakuumbehälter 607A durch Öffnen des vierten Ventils 612A verbunden. Der zweite Vakuumbehälter 607A wird unter Verwendung der zweiten Vorvakuumpumpe 610A abgepumpt, bis der zweite Vakuumbehälterdruck wieder den unteren Schwellenwert erreicht. Wenn der untere Schwellenwert erreicht ist, beginnt der zweite Pumpenkreislauf erneut.
  • Das Öffnen und Schließen des ersten Ventils 609, des zweiten Ventils 612, des dritten Ventils 609A und des vierten Ventils 612A kann Störungen am REM 100 verursachen. Diese Störungen sind Vibrationen. Darüber hinaus können die Vibrationen durch Abpumpen des ersten Vakuumbehälters 607 und des zweiten Vakuumbehälters 607A verursacht werden. Falls das Objekt 114 während der Störungen abgebildet, analysiert und/oder bearbeitet wird, kann das erhaltene Bild des Objekts 114 beispielsweise von unzureichender Qualität sein und deshalb muss insbesondere eine Abbildung des Objekts 114 zum Erhalten eines Bilds des Objekts 114 mit guter Qualität wiederholt werden. Eine Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung, die diesen Nachteil vermeidet, wird nun erläutert. Das Verfahren nach der Erfindung wird unter Verwendung des REM 100 nach 1 ausgeführt. Es wird angemerkt, dass das Verfahren auch mit anderen Teilchenstrahlvorrichtungen, insbesondere dem REM 100 von 1A, der Teilchenstrahlvorrichtung 200 von 2 und der Teilchenstrahlvorrichtung 300 der 3 und 4 ausgeführt werden kann.
  • 6 und 6A zeigen die Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung. Das Verfahren wird nun in Bezug auf den ersten Vakuumbehälter 607 erläutert. In Verfahrensschritt S1 wird der erste Vakuumbehälter 607 von der Vakuumkammer 605 und der ersten Turbomolekularpumpe 606 durch Schließen des ersten Ventils 609 getrennt. In Verfahrensschritt S2 wird die erste Vorvakuumpumpe 610 mit dem ersten Vakuumbehälter 607 durch Öffnen des zweiten Ventils 612 verbunden. Der erste Vakuumbehälter 607 wird in Verfahrensschritt S3 unter Verwendung der ersten Vorvakuumpumpe 610 abgepumpt. Wie oben erwähnt wird die erste Vorvakuumpumpe 610 zum Herstellen eines Vakuums mit einem niedrigen ersten, im ersten Vakuumbehälter 607 bestehenden Vakuumbehälterdruck verwendet. Der niedrige erste Vakuumbehälterdruck kann gleich oder höher als 10-3 hPa sein. Wenn der erste Vakuumbehälterdruck einen unteren Schwellenwert, zum Beispiel 2·10-3 hPa erreicht, wird die erste Vorvakuumpumpe 610 vom ersten Vakuumbehälter 607 getrennt in Verfahrensschritt S4. Anders ausgedrückt wird das zweite Ventil 612 geschlossen, sodass die Fluidverbindung zwischen dem ersten Vakuumbehälter 607 und der ersten Vorvakuumpumpe 612 unterbrochen ist.
  • In Verfahrensschritt S5 wird der erste Vakuumbehälter 607 mit der Vakuumkammer 605 und der ersten Turbomolekularpumpe 606 verbunden. Anders ausgedrückt wird die Fluidverbindung zwischen dem ersten Vakuumbehälter 607, der Vakuumkammer 605 und der ersten Turbomolekularpumpe 606 durch Öffnen des ersten Ventils 609 hergestellt. Darüber hinaus wird bzw. werden ein Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts 114 unter Verwendung des REM 100 im Verfahrensschritt S5 gestartet.
  • Wie oben erwähnt, erhöht sich der im ersten Vakuumbehälter 607 bestehende erste Vakuumbehälterdruck, nachdem die Fluidverbindung zwischen der Vakuumkammer 605, der ersten Turbomolekularpumpe 606 und dem ersten Druckbehälter 607 eingerichtet wurde. Deshalb wird der erste Vakuumbehälterdruck in Verfahrensschritt S6 unter Verwendung der ersten Druckmesseinheit 613 gemessen.
  • Druckwerte des ersten Vakuumbehälterdrucks werden zu unterschiedlichen Zeitpunkten ermittelt. Genauer werden mindestens ein erster Druckwert des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem ersten Zeitpunkt T1 und mindestens ein zweiter Druckwert des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem zweiten Zeitpunkt T2 ermittelt, wobei T2 später als T1 ist. In anderen Ausführungsformen umfasst das Verfahren ein Ermitteln von mehr als zwei Druckwerten des ersten Vakuumbehälterdrucks, insbesondere 5, 10, 15, 20 oder bis zu 100 Druckwerte des ersten Vakuumbehälterdrucks, wobei jeder Druckwert des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem anderen Zeitpunkt ermittelt wird.
  • 7 zeigt eine schematische Darstellung des ersten Vakuumbehälterdrucks, der im ersten Vakuumbehälter 607 besteht, als Funktion der Zeit. 10 Druckwerte des ersten Vakuumbehälterdrucks wurden zu unterschiedlichen Zeitpunkten ermittelt. Genauer werden ein erster Druckwert V1 des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem ersten Zeitpunkt T1, ein zweiter Druckwert V2 des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem zweiten Zeitpunkt T2, ein dritter Druckwert V3 des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem dritten Zeitpunkt T3, ein vierter Druckwert V4 des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem vierten Zeitpunkt T4, ein fünfter Druckwert V5 des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem fünften Zeitpunkt T5, ein sechster Druckwert V6 des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem sechsten Zeitpunkt T6, ein siebenter Druckwert V7 des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem siebenten Zeitpunkt T7, ein achter Druckwert V8 des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem achten Zeitpunkt T8, ein neunter Druckwert V9 des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem neunten Zeitpunkt T9 und ein zehnter Druckwert V10 des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem zehnten Zeitpunkt T10 ermittelt. In 7 sind der Klarheit halber nur der erste Zeitpunkt T1 bis zum siebenten Zeitpunkt T7 und der zehnte Zeitpunkt T10 angegeben. Darüber hinaus sind die Druckwerte V1 bis V10 gemeinsam durch den Buchstaben V angegeben.
  • Im Verfahrensschritt S7 werden die Druckwerte V1 bis V10 zum Ermitteln einer ersten funktionalen Beziehung zwischen den Druckwerten V1 bis V10 verwendet. Die erste funktionale Beziehung ist eine erste Funktion der Zeit. Die erste funktionale Beziehung kann eine lineare Beziehung oder eine nichtlineare Beziehung sein. Eine Stufenfunktion kann auch von der ersten funktionalen Beziehung umfasst sein oder die erste funktionale Beziehung bilden. Die erste funktionale Beziehung kann durch verschiedene Verfahren ermittelt werden. Die erste funktionale Beziehung kann beispielsweise durch eine Interpolation ermittelt werden. Ein beliebiges geeignetes Interpolationsverfahren, zum Beispiel eine lineare Interpolation, eine nichtlineare Interpolation, eine trigonometrische Interpolation, eine logarithmische Interpolation und/oder eine Spline-Interpolation, kann bzw. können bei der Interpolation verwendet werden. Darüber hinaus und/oder als Alternative dazu kann eine funktionale Beziehung durch Extrapolation ermittelt werden. Ein beliebiges geeignetes Extrapolationsverfahren, zum Beispiel eine lineare Extrapolation, eine nichtlineare Extrapolation, eine trigonometrische Extrapolation und/oder eine logarithmische Extrapolation, kann bzw. können bei der Extrapolation verwendet werden. Als Alternative oder zusätzlich dazu kann die erste funktionale Beziehung durch Bilden eines Durchschnitts, Bestimmen von Zufallswerten und/oder Ermitteln des kleinsten Werts oder des größten Werts aus der Gruppe der Druckwerte V1 bis V10 ermittelt werden.
  • Die ermittelte erste funktionale Beziehung kann die folgende Funktion sein: p ( t ) = p 0 + h ⋅ ( 1 − e x p ( − t t 0 ) )
    Figure DE102018203096B4_0001
    wobei p0 der erste Vakuumbehälterdruck des ersten Vakuumbehälters 607 zu einem Anfangszeitpunkt to ist und wobei h eine festlegbare Konstante ist. Die Variablen po, to und h können Fittingparameter zum Ermitteln der ersten funktionalen Beziehung sein.
  • In Verfahrensschritt S8 wird die ermittelte erste funktionale Beziehung für Zeitpunkte nach dem letzten Zeitpunkt extrapoliert, zu dem ein Druckwert des ersten Vakuumbehälterdrucks des ersten Vakuumbehälters 607 gemessen wurde. In der in 7 gezeigten Ausführungsform ist der zehnte Zeitpunkt T10 der letzte Zeitpunkt. Deshalb wird die ermittelte erste funktionale Beziehung für Zeiten T nach T10 extrapoliert. Durch Extrapolieren der ersten funktionalen Beziehung wird ermittelt, wie sich der erste Vakuumbehälterdruck des ersten Vakuumbehälters 607 nach dem zehnten Zeitpunkt T10 erhöht oder verringert.
  • In einem weiteren Verfahrensschritt S9 wird ein erster Schwellenzeitpunkt TT1 unter Verwendung der extrapolierten Funktion ermittelt (siehe 7). Der erste Schwellenzeitpunkt TT1 ist ein Zeitpunkt, zu dem die extrapolierte funktionale Beziehung einen für den ersten Vakuumbehälterdruck des ersten Vakuumbehälters 607 gegebenen Druckschwellenwert erreicht. Der Druckschwellenwert kann vom Benutzer und/oder dem Steuersystem 701 des REM 100 festgelegt sein. Beispielsweise beträgt der Druckschwellenwert 5·10-3 hPa. Der Druckschwellenwert ist ein Druckwert, der nicht überschritten werden sollte, andernfalls ist das Vakuum in der Vakuumkammer 605 und/oder im ersten Vakuumbehälter 607 nicht mehr ausreichend, um zum Beispiel eine gute Abbildung des Objekts 114 zu bieten.
  • In einem weiteren Verfahrensschritt S10 wird eine erste verbleibende Zeitspanne RT1 ermittelt. Die erste verbleibende Zeitspanne RT1 ist die Zeit, die abläuft, bis der erste Vakuumbehälterdruck des ersten Vakuumbehälters 607 den Druckschwellenwert erreicht. Die erste verbleibende Zeitspanne RT1 ist eine Zeitdifferenz zwischen dem ersten Schwellenzeitpunkt TT1 und dem letzten Zeitpunkt, zu dem ein Druckwert des ersten Vakuumbehälterdrucks des ersten Vakuumbehälters 607 gemessen wurde. In der Ausführungsform von 7 ist der zehnte Zeitpunkt T10 der letzte Zeitpunkt. Anders ausgedrückt entspricht die erste verbleibende Zeitspanne RT1 der Zeit, die verbleibt, bis der erste Vakuumbehälterdruck des ersten Vakuumbehälters 607 den Druckschwellenwert erreicht.
  • In einem weiteren Verfahrensschritt S11 wird bzw. werden der Benutzer und/oder das Steuersystem 701 des REM 100 über die erste verbleibende Zeitspanne RT1 informiert. Insbesondere kann die erste verbleibende Zeitspanne RT1 dem Benutzer angezeigt werden.
  • In einem weiteren Verfahrensschritt S12 wird bzw. werden ein Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts 114 angehalten, wenn der erste Schwellenzeitpunkt TT1 erreicht wird und nach der ersten verbleibenden Zeitspanne RT1. Auf diese Weise wird kein Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts 114 während der von dem oben erwähnten ersten Ventil 609, dem zweiten Ventil 612 und durch die erste Vorvakuumpumpe 610 verursachten Störungen durchgeführt. Nach dem Verfahrensschritt S12 kann das Verfahren nach der Erfindung wieder vom Verfahrensschritt S1 beginnen. Deshalb kann das Verfahren nach der Erfindung ein Kreisverfahren sein.
  • Die Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung, die in 6, 6A und 7 gezeigt ist, kann auch analog in Bezug auf die weiteren Teile des Pumpensystems 601 durchgeführt werden, nämlich die zweite Turbomolekularpumpe 606A, den zweiten Vakuumbehälter 607A und die zweite Vorvakuumpumpe 610A. Eine zweite verbleibende Zeitspanne RT2 wird in Bezug auf diese Ausführungsform ermittelt.
  • 8 zeigt eine weitere Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung. Die Ausführungsform des Verfahrens von 8 basiert auf der Ausführungsform des in den 6, 6A und 7 gezeigten Verfahrens. Deshalb umfasst die Ausführungsform von 8 die Verfahrensschritte wie oben erwähnt. Jedoch umfasst die Ausführungsform des in 8 gezeigten Verfahrens einen Verfahrensschritt S11A anstatt von Verfahrensschritt S11. Verfahrensschritt S11A wird zwischen den Verfahrensschritten S10 und S12 ausgeführt. Die Ausführungsform des in 8 gezeigten Verfahrens wird ausgeführt, falls das REM 100 mehrere Vakuumbehälter umfasst. Das REM 100 umfasst zum Beispiel den ersten Vakuumbehälter 607 und den zweiten Vakuumbehälter 607A. Wie oben erwähnt werden die Verfahrensschritte S1 bis S10 für jeden der Vakuumbehälter 607, 607A des REM 100 ausgeführt. So werden die erste verbleibende Zeitspanne RT1 für den ersten Vakuumbehälter 607 und eine zweite verbleibende Zeitspanne RT2 für den zweiten Vakuumbehälter 607A ermittelt. Im Verfahrensschritt S11A wird bzw. werden der Benutzer und/oder das Steuersystem 701 des REM 100 darüber informiert, welche der ersten verbleibenden Zeitspanne RT1 und der zweiten verbleibenden Zeitspanne RT2 die kürzere verbleibende Zeitspanne ist. Deshalb wird dem Benutzer nur eine der ersten verbleibenden Zeitspanne RT1 und der zweiten verbleibenden Zeitspanne RT2 angezeigt. Zusätzlich oder alternativ wird die kürzere verbleibende Zeitspanne der ersten verbleibenden Zeitspanne RT1 und der zweiten verbleibenden Zeitspanne RT2 dem Benutzer und/oder dem Steuersystem 701 des REM 100 bereitgestellt, falls die Zeitdifferenz zwischen der ersten verbleibenden Zeitspanne RT1 und der zweiten verbleibenden Zeitspanne RT2 kürzer als eine Minute oder zwei Minuten ist. Diese zwei vorgenannten Ausführungsformen basieren auf den folgenden Überlegungen. Wie oben erwähnt, kann das REM 100 mehrere Vakuumbehälter umfassen. Jeder der mehreren Vakuumbehälter kann überwacht werden und die verbleibende Zeitspanne für jeden Vakuumbehälter wird ermittelt. Der Benutzer und/oder das Steuersystem des REM 100 wird/werden über den Zeitpunkt der nächsten Störung informiert, die den kleinsten Wert aller verbleibenden Zeitspannen in Bezug auf die mehreren überwachten Vakuumbehälter aufweist. Falls darüber hinaus die Störungen in Bezug auf die mehreren Vakuumbehälter zeitlich nahe beieinander liegen, kombiniert die Ausführungsform des Verfahrens diese Störungen in eine einzige Störung, sodass der Benutzer und/oder das Steuersystem 701 des REM 100 nur über eine einzige Störung in Bezug auf die Vakuumbehälter informiert wird/werden. Die einzige Störung entspricht der kürzesten verbleibenden Zeitspanne der verbleibenden Zeitspannen der überwachten Vakuumbehälter, die zeitlich nahe beieinander liegen.
  • 9 zeigt ein weiteres Verfahren nach der Erfindung. Das Verfahren von 9 wird nun in Bezug auf den ersten Vakuumbehälter 607 erläutert.
  • Das Verfahren von 9 basiert auf der in den 6, 6A und 7 gezeigten Ausführungsform und umfasst auch die Verfahrensschritte S1 bis S5, wie oben erwähnt. Der Verfahrensschritt S13 wird jedoch nach dem Verfahrensschritt S5 ausgeführt. Im Verfahrensschritt S13 wird der erste Vakuumbehälterdruck unter Verwendung der ersten Druckmesseinheit 613 gemessen, um zu ermitteln, wann der erste Vakuumbehälterdruck einen ersten Druckschwellenwert erreicht, der für den ersten Vakuumbehälterdruck des ersten Vakuumbehälters 607 gegeben ist. Der erste Druckschwellenwert kann vom Benutzer und/oder dem Steuersystem 701 des REM 100 festgelegt sein. Beispielsweise beträgt der erste Druckschwellenwert 5·10-3 hPa. Der erste Druckschwellenwert ist ein Druckwert, der nicht überschritten werden sollte, andernfalls ist das Vakuum in der Vakuumkammer 605 und/oder im ersten Vakuumbehälter 607 nicht mehr ausreichend, um zum Beispiel eine gute Abbildung des Objekts 114 zu bieten.
  • Wenn der erste Vakuumbehälterdruck den ersten Druckschwellenwert erreicht und/oder den ersten Druckschwellenwert überschreitet, wird der erste Vakuumbehälter 607 in einem weiteren Verfahrensschritt S14 von der Vakuumkammer 605 mit einer gegebenen Verzögerung getrennt, nachdem der erste Vakuumbehälterdruck den ersten Druckschwellenwert erreicht hat. Die gegebene Verzögerung kann eine Zeitspanne von weniger als zwei Minuten, weniger als eine Minute oder weniger als 30 Sekunden sein. Das erste Ventil 609 wird zum Beispiel geschlossen, um die Fluidverbindung zwischen dem ersten Vakuumbehälter 607, der Vakuumkammer 605 und der ersten Turbomolekularpumpe 606 zu unterbrechen. Im Verfahrensschritt 15 wird ein Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts 114 unter Verwendung des REM 100 während der Verzögerung angehalten. Nach dem Verfahrensschritt 15 beginnt das weitere Verfahren wiederum mit dem Verfahrensschritt S2, wobei die erste Vorvakuumpumpe 610 mit dem ersten Vakuumbehälter 607 verbunden wird. Ein Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts 114 wird angehalten, während die Vorvakuumpumpe 610 mit dem ersten Vakuumbehälter 607 verbunden ist.
  • Das weitere, in 9 gezeigte Verfahren weist den Vorteil auf, dass der Benutzer und/oder das Steuersystem 701 des REM 100 den Prozess des Abbildens, Analysierens und/oder Bearbeitens des Objekts 114 abschließen kann, bevor die Störungen auftreten. Deshalb verringert sich insbesondere die Anzahl der Bilder mit niedriger Qualität. Darüber hinaus ist das weitere Verfahren auch insbesondere zum Abbilden großer Objekte oder für automatisierte Prozesse zum Abbilden eines Objekts vorteilhaft. Zusätzlich, da die Störungen erst beginnen, wenn bestimmte Vorgänge im Inneren des REM 100 angehalten wurden, werden Schäden am Objekt 114 und/oder an Teilen des REM 100 vermieden.
  • Eine schematische Darstellung eines weiteren Vakuumsystems in Form des Pumpensystems 601 wird in 10 in Bezug auf das REM 100 nach 1 gezeigt. Das weitere Vakuumsystem von 10 beruht auf dem Vakuumsystem von 5. Identische Bezugszeichen bezeichnen identische Komponenten. Deshalb umfasst das weitere Vakuumsystem von 10 alle Merkmale, wie sie oben in Bezug auf das Vakuumsystem von 5 erwähnt wurden. Zusätzlich zu den Merkmalen des Vakuumsystems von 5 umfasst das weitere Vakuumsystem von 10 jedoch eine Schleusenkammer 614, die am Strahlführungsrohr 104 angeordnet ist. Die Schleusenkammer 614 ist eine Austauschkammer des REM 100, in die das Objekt 114 eingeführt wird, bevor das Objekt 114 weiter in die Objektkammer 120 eingeführt wird, die die Vakuumkammer 605 von 10 ist. Die Schleusenkammer 614 umfasst eine Tür 615, die geöffnet und geschlossen werden kann, um das Objekt 114 in die Schleusenkammer 614 einzusetzen. Die Schleusenkammer 614 umfasst darüber hinaus ein Schleusenkammerventil 616, das geöffnet und geschlossen werden kann, um das Objekt 114 in die Vakuumkammer 605 einzusetzen. Die Schleusenkammer 614 steht auch über einen Schleusenkammerdurchlass 617 in Fluidverbindung mit der ersten Vorvakuumpumpe 610. Ein Schleusenkammerdurchlassventil 618 ist zwischen der Schleusenkammer 614 und der ersten Vorvakuumpumpe 610 angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen der Schleusenkammer 614 und der ersten Vorvakuumpumpe 610 kann unter Verwendung des Schleusenkammerdurchlassventils 618 angebunden oder getrennt werden. Eine Schleusenkammerdruckmesseinheit 619 ist an der Schleusenkammer 614 zum Messen eines Vakuumbehälterdrucks innerhalb der Schleusenkammer 614 angeordnet.
  • Hierin wird nachfolgend der Pumpenkreislauf der Schleusenkammer 614 beschrieben. Der Pumpenkreislauf wird bei geschlossener Tür 615 ausgeführt. Die erste Vorvakuumpumpe 610 wird zum Herstellen eines Vakuums mit einem niedrigen, in der Schleusenkammer 614 bestehenden Vakuumbehälterdruck verwendet. Der niedrige Vakuumbehälterdruck kann gleich oder höher als 10-3 hPa sein. Wenn der Vakuumbehälterdruck einen unteren Schwellenwert, zum Beispiel 2 . 10-3 hPa erreicht, wird die erste Vorvakuumpumpe 610 von der Schleusenkammer 614 getrennt. Anders ausgedrückt wird das Schleusenkammerdurchlassventil 618 so geschlossen, dass die Fluidverbindung zwischen der Schleusenkammer 614 und der ersten Vorvakuumpumpe 610 unterbrochen ist. Darüber hinaus ist die Schleusenkammer 614 mit der Vakuumkammer 605 verbunden. Anders ausgedrückt wird die Fluidverbindung zwischen der Schleusenkammer 614 und der Vakuumkammer 605 durch Öffnen des Schleusenkammerventils 616 hergestellt. Wenn die Fluidverbindung zwischen der Schleusenkammer 614 und dem Vakuumbehälter 605 hergestellt ist, erhöht sich der in der Schleusenkammer 614 bestehende Vakuumbehälterdruck. Wenn der Vakuumbehälterdruck einen gegebenen Druckschwellenwert des Vakuumbehälterdrucks erreicht, zum Beispiel 5 ·10-3 hPa, wird das Schleusenkammerventil 616 geschlossen, sodass die Fluidverbindung zwischen der Schleusenkammer 614 und der Vakuumkammer 605 unterbrochen wird. Der Druckschwellenwert kann von einem Benutzer und/oder der Steuereinheit 701 des REM 100 festgelegt sein. Die erste Vorvakuumpumpe 610 ist wiederum mit der Schleusenkammer 614 durch Öffnen des Schleusenkammerdurchlassventils 618 verbunden. Die Schleusenkammer 614 wird unter Verwendung der ersten Vorvakuumpumpe 610 abgepumpt, bis der Vakuumbehälterdruck wieder den unteren Schwellenwert erreicht. Wenn der untere Schwellenwert erreicht ist, beginnt der Pumpenkreislauf erneut.
  • Der Druck in der Schleusenkammer 614 wird analog zum Verfahren nach den 6, 6A und 7 gesteuert und festgelegt. Die Schleusenkammer 614 wird von der Vakuumkammer 605 durch Schließen des Schleusenkammerventils 616 getrennt. Ferner wird die erste Vorvakuumpumpe 610 mit der Schleusenkammer 614 durch Öffnen des Schleusenkammerdurchlassventils 618 verbunden. Die Schleusenkammer 614 wird durch die erste Vorvakuumpumpe 610 abgepumpt. Wie oben erwähnt wird die erste Vorvakuumpumpe 610 zum Herstellen eines Vakuums mit einem niedrigen, in der Schleusenkammer 614 bestehenden Vakuumbehälterdruck verwendet. Der niedrige Vakuumbehälterdruck kann gleich oder höher als 10-3 hPa sein. Wenn der Vakuumbehälterdruck einen unteren Schwellenwert, zum Beispiel 2·10-3 hPa erreicht, wird die erste Vorvakuumpumpe 610 von der Schleusenkammer 14 getrennt. Anders ausgedrückt wird das Schleusenkammerdurchlassventil 618 so geschlossen, dass die Fluidverbindung zwischen der Schleusenkammer 614 und der ersten Vorvakuumpumpe 610 unterbrochen ist. Darüber hinaus wird die Schleusenkammer 614 mit der Vakuumkammer 605 verbunden. Anders ausgedrückt wird die Fluidverbindung zwischen der Schleusenkammer 614 und der Vakuumkammer 605 durch Öffnen des Schleusenkammerventils 616 hergestellt.
  • Wie oben erwähnt, erhöht sich der in der Schleusenkammer 614 bestehende Vakuumbehälterdruck, nachdem die Fluidverbindung zwischen der Schleusenkammer 614 und der Vakuumkammer 605 eingerichtet wurde. Deshalb wird der Vakuumbehälterdruck unter Verwendung der Schleusenkammerdruckmesseinheit 619 gemessen. Druckwerte des Vakuumbehälterdrucks werden zu unterschiedlichen Zeitpunkten ermittelt. Genauer werden mindestens ein erster Druckwert des Vakuumbehälterdrucks zu einem ersten Zeitpunkt T1 und mindestens ein zweiter Druckwert des Vakuumbehälterdrucks zu einem zweiten Zeitpunkt T2 ermittelt, wobei T2 später als T1 ist. In anderen Ausführungsformen umfasst das Verfahren ein Ermitteln von mehr als zwei Druckwerten des Vakuumbehälterdrucks, insbesondere 5, 10, 15, 20 oder bis zu 100 Druckwerte des Vakuumbehälterdrucks, wobei jeder Druckwert des ersten Vakuumbehälterdrucks zu einem anderen Zeitpunkt ermittelt wird.
  • 7 zeigt auch die schematische Darstellung des Vakuumbehälterdrucks, der in der Schleusenkammer 614 besteht, als Funktion der Zeit. 10 Druckwerte des Vakuumbehälterdrucks wurden zu unterschiedlichen Zeitpunkten ermittelt. Genauer werden ein erster Druckwert V1 des Vakuumbehälterdrucks zu einem ersten Zeitpunkt T1, ein zweiter Druckwert V2 des Vakuumbehälterdrucks zu einem zweiten Zeitpunkt T2, ein dritter Druckwert V3 des Vakuumbehälterdrucks zu einem dritten Zeitpunkt T3, ein vierter Druckwert V4 des Vakuumbehälterdrucks zu einem vierten Zeitpunkt T4, ein fünfter Druckwert V5 des Vakuumbehälterdrucks zu einem fünften Zeitpunkt T5, ein sechster Druckwert V6 des Vakuumbehälterdrucks zu einem sechsten Zeitpunkt T6, ein siebenter Druckwert V7 des Vakuumbehälterdrucks zu einem siebenten Zeitpunkt T7, ein achter Druckwert V8 des Vakuumbehälterdrucks zu einem achten Zeitpunkt T8, ein neunter Druckwert V9 des Vakuumbehälterdrucks zu einem neunten Zeitpunkt T9 und ein zehnter Druckwert V10 des Vakuumbehälterdrucks zu einem zehnten Zeitpunkt T10 ermittelt. Wie oben erwähnt sind in 7 der Klarheit halber nur der erste Zeitpunkt T1 bis zum siebenten Zeitpunkt T7 und der zehnte Zeitpunkt T10 angegeben. Darüber hinaus sind die Druckwerte V1 bis V10 gemeinsam durch den Buchstaben V angegeben.
  • Die Druckwerte V1 bis V10 werden zum Ermitteln einer funktionalen Beziehung zwischen den Druckwerten V1 bis V10 verwendet. Die funktionale Beziehung ist eine Funktion der Zeit. Die funktionale Beziehung kann eine lineare Beziehung oder eine nichtlineare Beziehung sein. Eine Stufenfunktion kann auch von der funktionalen Beziehung umfasst sein oder die funktionale Beziehung bilden. Die funktionale Beziehung kann durch verschiedene Verfahren ermittelt werden. Die funktionale Beziehung kann beispielsweise durch eine Interpolation ermittelt werden. Ein beliebiges geeignetes Interpolationsverfahren, zum Beispiel eine lineare Interpolation, eine nichtlineare Interpolation, eine trigonometrische Interpolation, eine logarithmische Interpolation und/oder eine Spline-Interpolation, kann bzw. können bei der Interpolation verwendet werden. Darüber hinaus und/oder als Alternative dazu kann eine funktionale Beziehung durch Extrapolation ermittelt werden. Ein beliebiges geeignetes Extrapolationsverfahren, zum Beispiel eine lineare Extrapolation, eine nichtlineare Extrapolation, eine trigonometrische Extrapolation und/oder eine logarithmische Extrapolation, kann bzw. können bei der Extrapolation verwendet werden. Als Alternative oder zusätzlich dazu kann die funktionale Beziehung durch Bilden eines Durchschnitts, Bestimmen von Zufallswerten und/oder Ermitteln des kleinsten Werts oder des größten Werts aus der Gruppe der Druckwerte V1 bis V10 ermittelt werden. Die ermittelte funktionale Beziehung kann eine Funktion wie bereits oben erwähnt sein.
  • Die ermittelte funktionale Beziehung wird für Zeitpunkte nach dem letzten Zeitpunkt extrapoliert, zu dem ein Druckwert des Vakuumbehälterdrucks der Schleusenkammer 614 gemessen wurde. In der in 7 gezeigten Ausführungsform ist der zehnte Zeitpunkt T10 der letzte Zeitpunkt. Deshalb wird die ermittelte funktionale Beziehung für Zeiten T nach T10 extrapoliert. Durch Extrapolieren der funktionalen Beziehung wird ermittelt, wie sich der Vakuumbehälterdruck der Schleusenkammer 614 nach dem zehnten Zeitpunkt T10 erhöht oder verringert.
  • Ein erster Schwellenzeitpunkt TT1 wird unter Verwendung der extrapolierten Funktion ermittelt. Der erste Schwellenzeitpunkt TT1 ist ein Zeitpunkt, zu dem die extrapolierte funktionale Beziehung einen für den Vakuumbehälterdruck der Schleusenkammer 614 gegebenen Druckschwellenwert erreicht. Der Druckschwellenwert kann vom Benutzer und/oder dem Steuersystem 701 des REM 100 festgelegt sein. Beispielsweise beträgt der Druckschwellenwert 5·10-3 hPa. Der Druckschwellenwert ist ein Druckwert, der nicht überschritten werden sollte; andernfalls ist das Vakuum in der Vakuumkammer 605 und/oder in der Schleusenkammer 614 nicht mehr ausreichend.
  • Eine erste verbleibende Zeitspanne RT1 wird ermittelt. Die erste verbleibende Zeitspanne RT1 ist die Zeit, die abläuft, bis der Vakuumbehälterdruck der Schleusenkammer 614 den Druckschwellenwert erreicht. Die erste verbleibende Zeitspanne RT1 ist eine Zeitdifferenz zwischen dem ersten Schwellenzeitpunkt TT1 und dem letzten Zeitpunkt, zu dem ein Druckwert des Vakuumbehälterdrucks der Schleusenkammer 614 gemessen wurde. In der Ausführungsform von 7 ist der zehnte Zeitpunkt T10 der letzte Zeitpunkt. Anders ausgedrückt entspricht die erste verbleibende Zeitspanne RT1 der Zeit, die verbleibt, bis der Vakuumbehälterdruck der Schleusenkammer 614 den Druckschwellenwert erreicht. Der Benutzer und/oder das Steuersystem 701 des REM 100 wird bzw. werden über die erste verbleibende Zeitspanne RT1 informiert. Insbesondere kann die erste verbleibende Zeitspanne RT1 dem Benutzer angezeigt werden. Das Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts 114 wird/werden angehalten, wenn der erste Schwellenzeitpunkt TT1 erreicht wird und nach der ersten verbleibenden Zeitspanne RT1. Auf diese Weise wird kein Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts 114 während der von dem oben erwähnten Schleusenkammerventil 616, dem Schleusenkammerdurchlassventil 618 und durch die erste Vorvakuumpumpe 610 verursachten Störungen durchgeführt.
  • Eine schematische Darstellung einer Dämpfungseinheit 801 wird in 11 in Bezug auf das REM 100 nach 1 gezeigt. Die Dämpfungseinheit 801 umfasst eine Montageplatte 800. Das REM 100 ist an der Montageplatte 800 angeordnet. Darüber hinaus ist eine Vielzahl von Druckbehältern der Dämpfungseinheit 801 an der Montageplatte 800 angeordnet. 11 zeigt zwei der Druckbehälter, nämlich einen ersten Druckbehälter 802 und einen zweiten Druckbehälter 803. Die Druckbehälter der Dämpfungseinheit 801 sind auf einem Bodenbelag 804 eines Raums angeordnet. Die Dämpfungseinheit 801 wird zum Dämpfen von Vibrationen verwendet, die über den Bodenbelag 804 auf das vorgenannte REM 100 übertragen werden können.
  • Der erste Druckbehälter 802 und der zweite Druckbehälter 803 sind mit Luft gefüllt, um die oben erwähnten Vibrationen zu dämpfen. Zum Füllen des ersten Druckbehälters 802 mit Luft steht der erste Druckbehälter 802 über einen ersten Dämpfungseinheitsdurchlass 805 in Fluidverbindung mit einer Pumpe 811. Ein erstes Dämpfungseinheitsventil 807 ist zwischen dem ersten Druckbehälter 802 und der Pumpe 811 angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen dem ersten Druckbehälter 802 und der Pumpe 811 kann unter Verwendung des ersten Dämpfungseinheitsventils 807 angebunden oder getrennt werden. Eine erste Dämpfungsdruckmesseinheit 809 ist am ersten Druckbehälter 802 zum Messen eines Behälterdrucks innerhalb des ersten Druckbehälters 802 angeordnet.
  • Zum Füllen des zweiten Druckbehälters 803 mit Luft steht der zweite Druckbehälter 803 über einen zweiten Dämpfungseinheitsdurchlass 806 in Fluidverbindung mit der Pumpe 811. Ein zweites Dämpfungseinheitsventil 808 ist zwischen dem zweiten Vakuumbehälter 803 und der Pumpe 811 angeordnet. Die Fluidverbindung zwischen dem zweiten Druckbehälter 803 und der Pumpe 811 kann unter Verwendung des zweiten Dämpfungseinheitsventils 808 angebunden oder getrennt werden. Eine zweite Dämpfungsdruckmesseinheit 810 ist am zweiten Druckbehälter 803 zum Messen eines Behälterdrucks innerhalb des zweiten Druckbehälters 803 angeordnet.
  • Der Pumpenkreislauf der Druckbehälter der Dämpfungseinheit 801 wird hierin nachfolgend in Bezug auf den ersten Druckbehälter 802 beschrieben. Die Pumpenkreisläufe der weiteren Druckbehälter der Dämpfungseinheit 801 sind mit dem Pumpenkreislauf des ersten Druckbehälters 802 identisch.
  • Die Pumpe 811 wird zum Pumpen von Luft oder Gas in den ersten Druckbehälter 802 verwendet, wobei ein Behälterdruck im ersten Druckbehälter 802 vorhanden ist. Der Behälterdruck kann gleich oder höher als 1 hPa sein. Wenn der Behälterdruck einen oberen Schwellenwert erreicht, zum Beispiel 1,2 hPa erreicht, wird die Pumpe 811 vom ersten Druckbehälter 802 getrennt. Anders ausgedrückt wird das erste Dämpfungseinheitsventil 807 so geschlossen, dass die Fluidverbindung zwischen dem ersten Druckbehälter 802 und der Pumpe 811 unterbrochen ist. Der Behälterdruck, der im ersten Druckbehälter 802 besteht, sinkt. Wenn der Behälterdruck einen bestimmten Druckschwellenwert des Behälterdrucks erreicht, zum Beispiel 0,5 hPa, wird die Pumpe 811 wieder durch Öffnen des ersten Dämpfungseinheitsventils 807 mit dem ersten Druckbehälter 802 verbunden. Der erste Druckbehälter 802 wird unter Verwendung der Pumpe 811 wieder mit Luft oder Gas gefüllt, bis der Behälterdruck den oberen Schwellenwert wieder erreicht. Wenn der obere Schwellenwert erreicht ist, beginnt der Pumpenkreislauf erneut.
  • 12 zeigt die Ausführungsform des Verfahrens nach der Erfindung, das für den ersten Druckbehälter 802 verwendet wird. Im Verfahrensschritt S1A wird der erste Druckbehälter 802 mit der Pumpe 811 durch Öffnen des ersten Dämpfungseinheitsventils 807 verbunden. Die Pumpe 811 wird zum Pumpen von Luft oder Gas in den ersten Druckbehälter 802 verwendet, wobei ein Behälterdruck im ersten Druckbehälter 802 vorhanden ist. Der Behälterdruck kann gleich oder höher als 1 hPa sein. Wenn der Behälterdruck einen oberen Schwellenwert erreicht, zum Beispiel 1,2 hPa erreicht, wird die Pumpe 811 im Verfahrensschritt S3A vom ersten Druckbehälter 802 getrennt. Anders ausgedrückt wird das erste Dämpfungseinheitsventil 807 so geschlossen, dass die Fluidverbindung zwischen dem ersten Druckbehälter 802 und der Pumpe 811 unterbrochen ist.
  • Wie oben erwähnt sinkt der Behälterdruck, der im ersten Druckbehälter 802 besteht. Deshalb wird dieser Behälterdruck in Verfahrensschritt S4A unter Verwendung der ersten Dämpfungsmesseinheit 809 gemessen. Druckwerte des Behälterdrucks werden zu unterschiedlichen Zeitpunkten ermittelt. Genauer werden mindestens ein erster Druckwert des Behälterdrucks zu einem ersten Zeitpunkt T1 und mindestens ein zweiter Druckwert des Behälterdrucks zu einem zweiten Zeitpunkt T2 ermittelt, wobei T2 später als T1 ist. In anderen Ausführungsformen umfasst das Verfahren ein Ermitteln von mehr als zwei Druckwerten des Behälterdrucks, insbesondere 5, 10, 15, 20 oder bis zu 100 Druckwerte des Behälterdrucks, wobei jeder Druckwert des Behälterdrucks zu einem anderen Zeitpunkt ermittelt wird.
  • 13 zeigt eine schematische Darstellung des Behälterdrucks, der im ersten Druckbehälter 802 besteht, als Funktion der Zeit. 10 Druckwerte des Behälterdrucks wurden zu unterschiedlichen Zeitpunkten ermittelt. Genauer werden ein erster Druckwert V1 des Behälterdrucks zu einem ersten Zeitpunkt T1, ein zweiter Druckwert V2 des Behälterdrucks zu einem zweiten Zeitpunkt T2, ein dritter Druckwert V3 des Behälterdrucks zu einem dritten Zeitpunkt T3, ein vierter Druckwert V4 des Behälterdrucks zu einem vierten Zeitpunkt T4, ein fünfter Druckwert V5 des Behälterdrucks zu einem fünften Zeitpunkt T5, ein sechster Druckwert V6 des Behälterdrucks zu einem sechsten Zeitpunkt T6, ein siebenter Druckwert V7 des Behälterdrucks zu einem siebenten Zeitpunkt T7, ein achter Druckwert V8 des Behälterdrucks zu einem achten Zeitpunkt T8, ein neunter Druckwert V9 des Behälterdrucks zu einem neunten Zeitpunkt T9 und ein zehnter Druckwert V10 des Behälterdrucks zu einem zehnten Zeitpunkt T10 ermittelt. In 13 sind der Klarheit halber nur der erste Zeitpunkt T1 bis zum siebenten Zeitpunkt T7 und der zehnte Zeitpunkt T10 angegeben. Darüber hinaus sind die Druckwerte V1 bis V10 gemeinsam durch den Buchstaben V angegeben.
  • Im Verfahrensschritt S5A werden die Druckwerte V1 bis V10 zum Ermitteln einer funktionalen Beziehung zwischen den Druckwerten V1 bis V10 verwendet. Die funktionale Beziehung ist eine Funktion der Zeit. Die funktionale Beziehung kann eine lineare Beziehung oder eine nichtlineare Beziehung sein. Eine Stufenfunktion kann auch von der funktionalen Beziehung umfasst sein oder die funktionale Beziehung bilden. Die funktionale Beziehung kann durch verschiedene Verfahren ermittelt werden. Die funktionale Beziehung kann beispielsweise durch eine Interpolation ermittelt werden. Ein beliebiges geeignetes Interpolationsverfahren, zum Beispiel eine lineare Interpolation, eine nichtlineare Interpolation, eine trigonometrische Interpolation, eine logarithmische Interpolation und/oder eine Spline-Interpolation, kann bzw. können bei der Interpolation verwendet werden. Darüber hinaus und/oder als Alternative dazu kann eine funktionale Beziehung durch Extrapolation ermittelt werden. Ein beliebiges geeignetes Extrapolationsverfahren, zum Beispiel eine lineare Extrapolation, eine nichtlineare Extrapolation, eine trigonometrische Extrapolation und/oder eine logarithmische Extrapolation, kann bzw. können bei der Extrapolation verwendet werden. Als Alternative oder zusätzlich dazu kann die funktionale Beziehung durch Bilden eines Durchschnitts, Bestimmen von Zufallswerten und/oder Ermitteln des kleinsten Werts oder des größten Werts aus der Gruppe der Druckwerte V1 bis V10 ermittelt werden.
  • Die ermittelte funktionale Beziehung kann die folgende Funktion sein: p ( t ) = p 0 + h ⋅ ( 1 − e x p ( t t 0 ) )
    Figure DE102018203096B4_0002
    wobei p0 der Behälterdruck des ersten Druckbehälters 802 zu einem Anfangszeitpunkt t0 ist und wobei h eine festlegbare Konstante ist. Die Variablen po, to und h können Fittingparameter zum Ermitteln der funktionalen Beziehung sein.
  • In Verfahrensschritt S6A wird die ermittelte funktionale Beziehung für Zeitpunkte nach dem letzten Zeitpunkt extrapoliert, zu dem ein Druckwert des Behälterdrucks des ersten Druckbehälters 802 gemessen wurde. In der in 13 gezeigten Ausführungsform ist der zehnte Zeitpunkt T10 der letzte Zeitpunkt. Deshalb wird die ermittelte funktionale Beziehung für Zeiten T nach T10 extrapoliert. Durch Extrapolieren der ersten funktionalen Beziehung wird ermittelt, wie sich der erste Vakuumbehälterdruck des ersten Druckbehälters 802 nach dem zehnten Zeitpunkt T10 erhöht oder verringert.
  • In einem weiteren Verfahrensschritt S7A wird ein Schwellenzeitpunkt TT1 unter Verwendung der extrapolierten Funktion ermittelt (siehe 13). Der Schwellenzeitpunkt TT1 ist ein Zeitpunkt, zu dem die extrapolierte funktionale Beziehung einen für den Behälterdruck des ersten Druckbehälters 802 gegebenen Druckschwellenwert erreicht. Der Druckschwellenwert kann vom Benutzer und/oder dem Steuersystem 701 des REM 100 festgelegt sein. Beispielsweise beträgt der Druckschwellenwert 0,5 hPa. Der Druckschwellenwert ist ein Druckwert, der nicht unterschritten werden sollte, andernfalls ist der Druck im ersten Druckbehälter 802 nicht mehr ausreichend, um eine gute Dämpfung zu bieten.
  • In einem weiteren Verfahrensschritt S8A wird eine verbleibende Zeitspanne RT1 ermittelt. Die verbleibende Zeitspanne RT1 ist die Zeit, die abläuft, bis der Behälterdruck des ersten Druckbehälters 802 den Druckschwellenwert erreicht. Die erste verbleibende Zeitspanne RT1 ist eine Zeitdifferenz zwischen dem Schwellenzeitpunkt TT1 und dem letzten Zeitpunkt, zu dem ein Druckwert des Behälterdrucks des ersten Vakuumbehälters 802 gemessen wurde. In der Ausführungsform von 13 ist der zehnte Zeitpunkt T10 der letzte Zeitpunkt. Anders ausgedrückt entspricht die verbleibende Zeitspanne RT1 der Zeit, die verbleibt, bis der Behälterdruck des ersten Druckbehälters 802 den Druckschwellenwert erreicht.
  • In einem weiteren Verfahrensschritt S9A wird bzw. werden der Benutzer und/oder das Steuersystem 701 des REM 100 über die verbleibende Zeitspanne RT1 informiert. Insbesondere kann die verbleibende Zeitspanne RT1 dem Benutzer angezeigt werden.
  • In einem weiteren Verfahrensschritt S10A wird bzw. werden ein Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts 114 angehalten, wenn der Schwellenzeitpunkt TT1 erreicht wird und nach der verbleibenden Zeitspanne RT1. Auf diese Weise wird kein Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten des Objekts 114 während der von der oben erwähnten Pumpe 811 und dem ersten Dämpfungseinheitsventil 807 verursachten Störungen durchgeführt.
  • Nach dem Verfahrensschritt S10A kann das Verfahren nach der Erfindung wieder vom Verfahrensschritt S1A beginnen. Deshalb kann das Verfahren nach der Erfindung ein Kreisverfahren sein.
  • Verschiedene hierin besprochene Ausführungsformen können miteinander in angemessenen Kombinationen in Verbindung mit dem hierin beschriebenen System kombiniert werden. Zusätzlich kann in einigen Fällen die Reihenfolge der Schritte in den Flussdiagrammen, Ablaufdiagrammen und/oder der beschriebenen Ablaufverarbeitung modifiziert werden, wo angemessen. Ferner können verschiedene Aspekte des hierin beschriebenen Systems unter Verwendung von Software, Hardware, einer Kombination von Software und Hardware und/oder anderen computerimplementierten Modulen oder Vorrichtungen, die die beschriebenen Merkmalen aufweisen und die beschriebenen Funktionen ausführen, implementiert werden. Das System kann ferner eine Anzeige und/oder andere Computerkomponenten zum Bereitstellen einer geeigneten Schnittstelle mit einem Benutzer und/oder mit anderen Computern enthalten.
  • Software-Implementierungen von Aspekten des hier beschriebenen Systems können einen ausführbaren Code enthalten, der in einem computerlesbaren Medium gespeichert ist und von einem oder mehreren Prozessoren ausgeführt wird. Das computerlesbare Medium kann flüchtigen Arbeitsspeicher und/oder nichtflüchtigen Arbeitsspeicher enthalten und kann beispielsweise eine Computer-Festplatte, ROM, RAM, Flashspeicher, tragbare Computerspeichermedien wie eine CD-ROM, eine DVD-ROM, eine SO-Karte, einen Speicherstick oder ein anderes Laufwerk mit beispielsweise einer Universal-Serial-Bus(USB)-Schnittstelle und/oder ein beliebiges anderes geeignetes greifbares oder nicht transitorisches computerlesbares Medium oder einen beliebigen anderen geeigneten Computerarbeitsspeicher enthalten, auf dem ausführbarer Code gespeichert werden kann, der von einem Prozessor ausgeführt werden kann. Das hierin beschriebene System kann in Verbindung mit einem beliebigen geeigneten Betriebssystem verwendet werden.
  • Andere Ausführungsformen der Erfindung werden für Fachleute aus einer Berücksichtigung der Beschreibung und/oder eines Versuchs offensichtlich, die hierin offenbarte Erfindung in die Praxis umzusetzen. Es ist beabsichtigt, dass die Beschreibung und Beispiele nur als beispielhaft auszulegen sind, wobei der tatsächliche Geltungsbereich und Gedanke der Erfindung durch die folgenden Ansprüche angezeigt wird.
  • Bezugszeichenliste
    • 100
    REM
    101
    Elektronenquelle
    102
    Extraktionselektrode
    103
    Anode
    104
    Strahlführungsrohr
    105
    erste Kondensorlinse
    106
    zweite Kondensorlinse
    107
    Objektivlinse
    108
    erste Blendeneinheit
    108A
    erste Blendenöffnung
    109
    zweite Blendeneinheit
    110
    Polteile
    111
    Spule
    112
    einzelne Elektrode
    113
    Rohrelektrode
    114
    Objekt
    115
    Rastervorrichtung
    116
    erster Detektor
    116A
    Gegenfeldgitter
    117
    zweiter Detektor
    118
    zweite Blendenöffnung
    120
    Objektkammer
    121
    dritter Detektor
    122
    Objektkammer eines weiteren REM
    123
    Objektbereich
    200
    Teilchenstrahlvorrichtung mit Korrektureinheit
    201
    Teilchenstrahlsäule
    202
    Elektronenquelle
    203
    Extraktionselektrode
    204
    Anode
    205
    erste elektrostatische Linse
    206
    zweite elektrostatische Linse
    207
    dritte elektrostatische Linse
    208
    magnetische Ablenkeinheit
    209
    erste elektrostatische Strahlablenkeinheit
    209A
    erste Multipoleinheit
    209B
    zweite Multipoleinheit
    210
    Strahlablenkvorrichtung
    211A
    erster Magnetsektor
    211 B
    zweiter Magnetsektor
    211C
    dritter Magnetsektor
    211D
    vierter Magnetsektor
    211 E
    fünfter Magnetsektor
    211 F
    sechster Magnetsektor
    211 G
    siebenter Magnetsektor
    213A
    erste Spiegelelektrode
    213B
    zweite Spiegelelektrode
    213C
    dritte.Spiegelelektrode
    214
    elektrostatischer Spiegel
    215
    vierte elektrostatische Linse
    216
    zweite elektrostatische Strahlablenkeinheit
    216A
    dritte Multipoleinheit
    216B
    vierte Multipoleinheit
    217
    dritte elektrostatische Strahlablenkeinheit
    218
    fünfte elektrostatische Linse
    218A
    fünfte Multipoleinheit
    218B
    sechste Multipoleinheit
    219
    erster Detektor
    220
    Strahlführungsrohr
    221
    Objektivlinse
    222
    magnetische Linse
    223
    sechste elektrostatische Linse
    224
    Probentisch
    225
    Objekt
    226
    Objektkammer
    227
    Detektionsstrahlpfad
    228
    zweiter Detektor
    229
    Rastervorrichtung
    230
    Filterelektrode
    231
    Analyseeinheit
    232
    weitere magnetische Ablenkvorrichtung
    300
    Teilchenstrahlvorrichtung
    301
    erste Teilchenstrahlsäule
    302
    zweite Teilchenstrahlsäule
    303
    Objektkammer
    304
    Objekt
    305
    erste optische Achse
    306
    zweite optische Achse
    307
    zweiter Strahlerzeuger
    308
    erste Elektrode
    309
    zweite Elektrode
    310
    dritte Elektrode
    311
    Strahlführungsrohr
    312
    zweiter Teilchenstrahl
    313
    Kollimatoranordnung
    314
    erste ringförmige Spule
    315
    Joch
    316
    Lochblende
    317
    Detektor
    318
    zentrale Öffnung
    319
    zweite Objektivlinse
    320
    magnetische Linse
    321
    elektrostatische Linse
    322
    zweite ringförmige Spule
    323
    innerer Polteil
    324
    äußerer Polteil
    325
    Ende
    326
    Abschlusselektrode
    327
    Rastervorrichtung
    328
    Objekthalter
    329
    erster Teilchenstrahl
    330
    erster Strahlerzeuger
    331
    Extraktionselektrode
    332
    Kollimator
    333
    einstellbare Blende
    334
    erste Objektivlinse
    335
    Rasterelektroden
    500
    Strahlendetektor
    600
    Drucksensor
    601
    Vakuumsystem in Form eines Pumpensystems
    602
    Druckbegrenzungsblende
    603
    erste lonengetterpumpe
    604
    zweite lonengetterpumpe
    605
    Vakuumkammer
    606
    erste Turbomolekularpumpe
    606A
    zweite Turbomolekularpumpe
    607
    erster Vakuumbehälter
    607A
    zweiter Vakuumbehälter
    608
    erster Durchlass
    608A
    dritter Durchlass
    609
    erstes Ventil
    609A
    drittes Ventil
    610
    erste Vorvakuumpumpe
    610A
    zweite Vorvakuumpumpe
    611
    zweiter Durchlass
    611A
    vierter Durchlass
    612
    zweites Ventil
    612A
    viertes Ventil
    613
    erste Druckmesseinheit
    613A
    zweite Druckmesseinheit
    614
    Schleusenkammer
    615
    Tür der Schleusenkammer
    616
    Schleusenkammerventil
    617
    Schleusenkammerdurchlass
    618
    Schleusenkammerdurchlassventil
    619
    Schleusenkammer-Druckmesseinheit
    700
    Steuereinheit
    701
    Prozessor
    800
    Montageplatte
    801
    Dämpfungseinheit
    802
    erster Druckbehälter
    803
    zweiter Druckbehälter
    804
    Bodenbelag
    805
    erster Dämpfungseinheitsdurchlass
    806
    zweiter Dämpfungseinheitsdurchlass
    807
    erstes Dämpfungseinheitsventil
    808
    zweites Dämpfungseinheitsventil
    809
    erste Dämpfungsdruckmesseinheit
    810
    zweite Dämpfungsdruckmesseinheit
    811
    Pumpe
    OA
    optische Achse
    OA1
    erste optische Achse
    OA2
    zweite optische Achse
    OA3
    dritte optische Achse
    RT1
    erste verbleibende Zeitspanne
    S1-S15
    Verfahrensschritte
    S1A-S10A
    Verfahrensschritte
    S11A
    Verfahrensschritt
    T
    Zeit
    T1
    erster Zeitpunkt
    T2
    zweiter Zeitpunkt
    T3
    dritter Zeitpunkt
    T4
    vierter Zeitpunkt
    T5
    fünfter Zeitpunkt
    T6
    sechster Zeitpunkt
    T7
    siebenter Zeitpunkt
    T10
    zehnter Zeitpunkt
    TT1
    erster Schwellenzeitpunkt
    V
    Druckwerte
    V1
    erster Druckwert
    V2
    zweiter Druckwert
    V3
    dritter Druckwert
    V4
    vierter Druckwert
    V5
    fünfter Druckwert
    V6
    sechster Druckwert
    V7
    siebenter Druckwert
    V10
    zehnter Druckwert

Claims (16)

  1. Verfahren zum Betreiben eines Drucksystems (601, 801) einer Vorrichtung (100, 200, 300) zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts (114, 225, 304), wobei das Verfahren umfasst: a) Trennen einer Pumpe (610, 610A, 811) von einem Druckbehälter (607, 607A, 614, 802, 803); b) Messen eines Behälterdrucks (V), der im Druckbehälter (607, 607A, 614, 802, 803) besteht, und Ermitteln mindestens eines ersten Druckwerts (V1) des Behälterdrucks (V) zu einem ersten Zeitpunkt (T1) und mindestens eines zweiten Druckwerts (V2) des Behälterdrucks (V) zu einem zweiten Zeitpunkt (T2), wobei der zweite Zeitpunkt (T2) später als der erste Zeitpunkt (T1) ist; c) Ermitteln einer funktionalen Beziehung zwischen dem ersten Druckwert (V1) des Behälterdrucks (V) und dem zweiten Druckwert (V2) des Behälterdrucks (V), wobei die funktionale Beziehung eine Funktion der Zeit ist; d) Extrapolieren der funktionalen Beziehung für Zeitpunkte nach dem zweiten Zeitpunkt (T2); e) Ermitteln eines Schwellenzeitpunkts (TT1) unter Verwendung der extrapolierten funktionalen Beziehung, wobei der Schwellenzeitpunkt (TT1) ein Zeitpunkt ist, zu dem die extrapolierte funktionale Beziehung einen für den Behälterdruck (V) gegebenen Druckschwellenwert erreicht; f) Ermitteln einer verbleibenden Zeitspanne (RT1), bis der Behälterdruck (V) den Druckschwellenwert erreicht, wobei die verbleibende Zeitspanne (RT1) eine Zeitdifferenz zwischen dem Schwellenzeitpunkt (TT1) und dem zweiten Zeitpunkt (T2) ist; und g) Liefern von Informationen über die verbleibende Zeitspanne (RT1) an einen Benutzer und/oder ein Steuersystem (701) der Vorrichtung (100, 200, 300).
  2. Das Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Verfahren ferner eines der Folgenden umfasst: (i) der Druckbehälter ist ein Vakuumbehälter (607, 607A, 614) und der Behälterdruck ist ein Vakuumbehälterdruck (V), wobei der Druckschwellenwert ein oberer Schwellenwert ist und wobei der Vakuumbehälter (607, 607A, 614) nach dem Trennen der Pumpe (610, 610A) vom Vakuumbehälter (607, 607A, 614) mit einer Vakuumkammer (605) der Vorrichtung (100, 200, 300) verbunden ist; (ii) der Druckbehälter ist ein Überdruckbehälter (802, 803) einer Dämpfungseinheit (801) und der Behälterdruck ist ein Überdruckbehälterdruck (V), wobei der Druckschwellenwert ein unterer Schwellenwert ist.
  3. Das Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Verfahren ferner umfasst: - Anhalten eines Abbildens, Analysierens und/oder Bearbeitens des Objekts (114, 225, 304) nach der verbleibenden Zeitspanne (RT1) und zum Schwellenzeitpunkt (TT1); und - Anbinden der Pumpe (610, 610A, 811) an den Druckbehälter (607, 607A, 614, 802, 803).
  4. Das Verfahren nach den Ansprüchen 2 und 3, wobei, falls der Druckbehälter ein Vakuumbehälter (607, 607A, 614) ist, das Verfahren ferner ein Trennen des Vakuumbehälters (607, 607A, 614) von der Vakuumkammer (605) umfasst.
  5. Das Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei der Druckbehälter (607, 802) ein erster Druckbehälter ist, wobei der Behälterdruck (V) ein erster Behälterdruck ist, wobei die Pumpe (610, 811) eine erste Pumpe ist, wobei der Druckschwellenwert ein erster Druckschwellenwert ist, wobei der Schwellenzeitpunkt (TT1) ein erster Schwellenzeitpunkt ist und wobei die funktionale Beziehung eine erste funktionale Beziehung ist, wobei das Verfahren ferner umfasst: a) Trennen einer zweiten Pumpe (610A, 811) von einem zweiten Druckbehälter (607A, 803); b) Messen eines zweiten Behälterdrucks (V), der im zweiten Druckbehälter (607A, 803) besteht, und Ermitteln mindestens eines ersten Druckwerts (V3) des zweiten Behälterdrucks (V) zu einem dritten Zeitpunkt (T3) und mindestens eines zweiten Druckwerts (V4) des zweiten Behälterdrucks (V) zu einem vierten Zeitpunkt (T4), wobei der vierte Zeitpunkt (T4) später als der dritte Zeitpunkt (T3) ist; c) Ermitteln einer zweiten funktionalen Beziehung zwischen dem ersten Druckwert (V3) des zweiten Behälterdrucks (V) und dem zweiten Druckwert (V4) des zweiten Behälterdrucks (V), wobei die zweite funktionale Beziehung eine zweite Funktion der Zeit ist; d) Extrapolieren der zweiten funktionalen Beziehung für Zeitpunkte nach dem vierten Zeitpunkt (T4); e) Ermitteln eines zweiten Schwellenzeitpunkts unter Verwendung der extrapolierten zweiten funktionalen Beziehung, wobei der zweite Schwellenzeitpunkt ein Zeitpunkt ist, zu dem die extrapolierte zweite funktionale Beziehung einen für den zweiten Behälterdruck (V) gegebenen zweiten Druckschwellenwert erreicht; f) Ermitteln einer zweiten verbleibenden Zeitspanne, bis der zweite Behälterdruck (V) den zweiten Druckschwellenwert erreicht, wobei die zweite verbleibende Zeitspanne die Zeitdifferenz zwischen dem zweiten Schwellenzeitpunkt und dem vierten Zeitpunkt (T4) ist; und g) Liefern von Informationen über die zweite verbleibende Zeitspanne an den Benutzer und/oder das Steuersystem (701) der Vorrichtung (100, 200, 300).
  6. Das Verfahren nach Anspruch 5, wobei das Verfahren ferner eines der Folgenden umfasst: (i) der zweite Druckbehälter ist ein zweiter Vakuumbehälter (607A) und der Behälterdruck ist ein zweiter Vakuumbehälterdruck (V), wobei der zweite Druckschwellenwert ein zweiter oberer Schwellenwert ist und wobei der zweite Vakuumbehälter (607) nach dem Trennen der zweiten Pumpe (610A) vom zweiten Vakuumbehälter (607A) mit der Vakuumkammer (605) der Vorrichtung (100, 200, 300) verbunden ist; (ii) der zweite Druckbehälter ist ein zweiter Überdruckbehälter (803) der Dämpfungseinheit (801) und der zweite Behälterdruck ist ein zweiter Überdruckbehälterdruck, wobei der zweite Druckschwellenwert ein unterer Schwellenwert ist.
  7. Das Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, wobei das Verfahren mindestens eines der folgenden Merkmale umfasst: - die erste Pumpe (610) ist mit der zweiten Pumpe (610A) identisch; - die erste funktionale Beziehung ist zur zweiten funktionalen Beziehung identisch.
  8. Das Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, wobei das Verfahren ferner eines der Folgenden umfasst: (i) Informieren des Benutzers und/oder des Steuersystems (701) der Vorrichtung (100, 200, 300) darüber, welche der ersten verbleibenden Zeitspanne (RT1) und der zweiten verbleibenden Zeitspanne die kürzere verbleibende Zeitspanne ist; (ii) Informieren des Benutzers und/oder des Steuersystems (701) der Vorrichtung (100, 200, 300) über die kürzere verbleibende Zeitspanne der ersten verbleibenden Zeitspanne (RT1) und der zweiten verbleibenden Zeitspanne, falls die Zeitdifferenz zwischen der ersten verbleibenden Zeitspanne (RT1) und der zweiten verbleibenden Zeitspanne kürzer als zwei Minuten oder eine Minute ist.
  9. Das Verfahren zum Betreiben eines Drucksystems (601) einer Vorrichtung (100, 200, 300) zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts (114, 225, 304), wobei das Verfahren umfasst: a) Trennen einer Pumpe (610, 610A, 811) von einem Druckbehälter (607, 607A, 614, 802, 803); b) Messen eines Behälterdrucks (V), der im Druckbehälter vorhanden ist, und Ermitteln, wann der Behälterdruck (V) einen Druckschwellenwert erreicht, der für den Behälterdruck (V) gegeben ist; c) Anhalten eines Abbildens, Analysierens und/oder Bearbeitens des Objekts (114, 225, 304) während einer gegebenen Verzögerung, nachdem der Behälterdruck (V) den Druckschwellenwert erreicht hat; und d) Anbinden der Pumpe (610, 610A, 811) an den Druckbehälter (607, 607A, 614, 802, 803).
  10. Das Verfahren nach Anspruch 9, wobei das Verfahren ferner eines der Folgenden umfasst: (i) der Druckbehälter ist ein Vakuumbehälter (607, 607A) und der Behälterdruck ist ein Vakuumbehälterdruck (V), wobei der Druckschwellenwert ein oberer Schwellenwert ist und wobei der Vakuumbehälter (607, 607A) nach dem Trennen der Pumpe (610, 610A) vom Vakuumbehälter (607, 607A9) mit einer Vakuumkammer (605) der Vorrichtung (100, 200, 300) verbunden ist und wobei der Vakuumbehälter (607, 607A) mit der gegebenen Verzögerung von der Vakuumkammer (605) getrennt wird, nachdem der Vakuumbehälterdruck (V) den Druckschwellenwert erreicht hat; (ii) der Druckbehälter ist ein Überdruckbehälter (802, 803) einer Dämpfungseinheit (801) und der Behälterdruck ist ein Überdruckbehälterdruck, wobei der Druckschwellenwert ein unterer Schwellenwert ist.
  11. Computerprogrammprodukt, das Programmcode umfasst, der in einen Prozessor (701) geladen ist und der, wenn er ausgeführt wird, eine Teilchenstrahlvorrichtung (100, 200, 300) auf eine derartige Weise steuert, dass ein Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche ausgeführt wird.
  12. Teilchenstrahlvorrichtung (100, 200, 300) zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts (114, 225, 304), umfassend: - mindestens einen Teilchenerzeuger (101, 202, 307, 330) zum Erzeugen eines Teilchenstrahls (312, 329) mit geladenen Teilchen, - mindestens eine Objektivlinse (107, 221, 319, 334) zum Fokussieren des Teilchenstrahls (312, 329) auf das Objekt (114, 225, 304), - mindestens einen Detektor (116, 117, 219, 228, 317) zum Detektieren von Wechselwirkungsteilchen und/oder Wechselwirkungsstrahlung, wobei die Wechselwirkungsteilchen und die Wechselwirkungsstrahlung erzeugt werden, wenn der Teilchenstrahl (312, 329) auf das Objekt (114, 225, 304) trifft, - eine Vakuumkammer (605), - mindestens einen Druckbehälter (607, 607A, 614, 802, 803), - mindestens eine Pumpe (610, 610A, 811), die ausgelegt ist, in Fluidverbindung mit dem Druckbehälter (607, 607A, 614, 802, 803) zu stehen, und - einen Prozessor (701), in den ein Computerprogrammprodukt nach Anspruch 11 geladen ist.
  13. Die Teilchenstrahlvorrichtung (100, 200, 300) nach Anspruch 12, wobei der Druckbehälter eines der Folgenden ist: (i) ein Vakuumbehälter (607, 607A, 614), der ausgelegt ist, in Fluidverbindung mit der Vakuumkammer (605) zu stehen; (ii) ein Überdruckbehälter (802, 803) einer Dämpfungseinheit (801).
  14. Die Teilchenstrahlvorrichtung (100, 200, 300) nach Anspruch 12 oder 13, wobei der Druckbehälter eine Schleusenkammer (614) ist.
  15. Die Teilchenstrahlvorrichtung (200) nach einem der Ansprüche 12 bis 14, wobei der Teilchenerzeuger ein erster Teilchenerzeuger (330) zum Erzeugen eines ersten Teilchenstrahls mit ersten geladenen Teilchen ist, wobei die Objektivlinse (334) eine erste Objektivlinse zum Fokussieren des ersten Teilchenstrahls (329) auf das Objekt (304) ist, und wobei die Teilchenstrahlvorrichtung (200) ferner umfasst: einen zweiten Teilchenerzeuger (307) zum Erzeugen eines zweiten Teilchenstrahls (312) mit zweiten geladenen Teilchen und eine zweite Objektivlinse (319) zum Fokussieren des zweiten Teilchenstrahls (312) auf das Objekt(304).
  16. Die Teilchenstrahlvorrichtung (100, 200, 300) nach einem der Ansprüche 12 bis 15, wobei die Teilchenstrahlvorrichtung (100, 200, 300) mindestens eines der Folgenden ist: eine Elektronenstrahlvorrichtung und eine lonenstrahlvorrichtung.
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