DE102018104290A1 - OPTOELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCING AN OPTOELECTRONIC COMPONENT - Google Patents

OPTOELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCING AN OPTOELECTRONIC COMPONENT Download PDF

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Tobias Gebuhr
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Abstract

Es wird ein optoelektronisches Bauteil (1) angegeben mit
- zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B), die dazu ausgebildet sind im Betrieb Licht unterschiedlicher Farbe zu emittieren,
- einem Kontaktelement (2), zur elektrischen Kontaktierung zumindest einer der optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B),
- einer elektrisch leitenden Verbindung (3), die zumindest einen der optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B) mit dem Kontaktelement (2) elektrisch leitend verbindet, und
- einem Umhüllungskörper (4), der elektrisch isolierend ist, wobei
- die optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B) und das Kontaktelement (2) in den Umhüllungskörper (4) eingebettet sind, und
- die elektrisch leitende Verbindung (3) stellenweise auf dem Umhüllungskörper (4) angeordnet ist.

Figure DE102018104290A1_0000
It is an optoelectronic device (1) indicated with
at least two optoelectronic semiconductor chips (R, G, B), which are designed to emit light of different colors during operation,
a contact element (2) for electrically contacting at least one of the optoelectronic semiconductor chips (R, G, B),
- An electrically conductive connection (3), the at least one of the optoelectronic semiconductor chips (R, G, B) electrically conductively connected to the contact element (2), and
- An enclosure body (4) which is electrically insulating, wherein
- The optoelectronic semiconductor chips (R, G, B) and the contact element (2) are embedded in the enclosure body (4), and
- The electrically conductive connection (3) is arranged in places on the wrapping body (4).
Figure DE102018104290A1_0000

Description

Es wird ein optoelektronisches Bauteil angegeben. Ferner wird ein Verfahren zur Herstellung eines solchen optoelektronischen Bauteils angegeben.An optoelectronic component is specified. Furthermore, a method for producing such an optoelectronic component is specified.

Eine zu lösende Aufgabe besteht darin, ein optoelektronisches Bauteil anzugeben, das besonders kompakt und kostengünstig ist. Eine weitere zu lösende Aufgabe besteht darin, ein Verfahren zur Herstellung eines solchen optoelektronischen Bauteils anzugeben.An object to be solved is to provide an optoelectronic component which is particularly compact and inexpensive. Another object to be achieved is to provide a method for producing such an optoelectronic device.

Bei dem optoelektronischen Bauteil handelt es sich zum Beispiel um ein strahlungsemittierendes Bauteil, das im Betrieb elektromagnetische Strahlung, insbesondere sichtbares Licht emittiert. Zum Beispiel handelt es sich bei dem Bauteil um eine Leuchtdiode.The optoelectronic component is, for example, a radiation-emitting component which emits electromagnetic radiation, in particular visible light, during operation. For example, the component is a light emitting diode.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Bauteil zumindest zwei optoelektronische Halbleiterchips, die beispielsweise dazu ausgebildet sind, im Betrieb Licht unterschiedlicher Farbe zu emittieren oder zu detektieren. Die zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips sind beispielsweise strahlungsemittierende Halbleiterchips, wie zum Beispiel Leuchtdiodenchips, kurz LED-Chips oder Laserdiodenchips.In accordance with at least one embodiment, the optoelectronic component comprises at least two optoelectronic semiconductor chips, which are designed, for example, to emit or detect light of different colors during operation. The at least two optoelectronic semiconductor chips are, for example, radiation-emitting semiconductor chips, such as light-emitting diode chips, in short LED chips or laser diode chips.

Die zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips weisen jeweils eine Deckfläche, eine Bodenfläche und zumindest eine Seitenfläche auf. Die Deckfläche ist der Bodenfläche gegenüberliegend angeordnet. Die Deckfläche und die Bodenfläche sind durch die zumindest eine Seitenfläche miteinander verbunden.The at least two optoelectronic semiconductor chips each have a top surface, a bottom surface and at least one side surface. The top surface is arranged opposite the bottom surface. The top surface and the bottom surface are interconnected by the at least one side surface.

Insbesondere sind die zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips in lateralen Richtungen beabstandet zueinander angeordnet. Die lateralen Richtungen verlaufen zum Beispiel parallel zur Deckfläche der optoelektronischen Halbleiterchips. Das heißt, in einer Richtung, die beispielsweise parallel zur Deckfläche der zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips verläuft, weisen die zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips einen Abstand auf und berühren sich nicht. Die Bodenflächen der zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips liegen beispielsweise jeweils in einer gemeinsamen Ebene. Ferner könne die zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips im Wesentlichen eine gleiche Höhe aufweisen. Im Wesentlichen gleich heißt, dass die Höhen für unterschiedliche optoelektronische Halbleiterchips durch Herstellungstoleranzen um höchstens +/- 20%, insbesondere um höchstens +/- 10% variieren können.In particular, the at least two optoelectronic semiconductor chips are arranged at a distance from one another in lateral directions. The lateral directions run, for example, parallel to the top surface of the optoelectronic semiconductor chips. That is, in a direction that runs, for example, parallel to the top surface of the at least two optoelectronic semiconductor chips, the at least two optoelectronic semiconductor chips have a spacing and do not touch each other. The bottom surfaces of the at least two optoelectronic semiconductor chips lie, for example, in each case in a common plane. Furthermore, the at least two optoelectronic semiconductor chips could have substantially the same height. Substantially equal means that the heights for different optoelectronic semiconductor chips can vary by manufacturing tolerances by at most +/- 20%, in particular by at most +/- 10%.

Weist das optoelektronische Bauteil mehr als zwei optoelektronische Halbleiterchips auf, können diese beispielsweise matrixartig, also angeordnet entlang von Zeilen und Spalten, in einer Ebene angeordnet sein. Ferner können die optoelektronischen Halbleiterchips beispielsweise an Gitterpunkten eines regelmäßigen Gitters angeordnet sein.If the optoelectronic component has more than two optoelectronic semiconductor chips, they can be arranged in a plane, for example in a matrix, that is to say arranged along rows and columns. Furthermore, the optoelectronic semiconductor chips can be arranged, for example, at grid points of a regular grid.

Das strahlungsemittierende Bauteil kann beispielsweise genau drei strahlungsemittierende Halbleiterchips aufweisen. Die strahlungsemittierenden Halbleiterchips sind dann beispielsweise im Betrieb paarweise zur Erzeugung von Licht unterschiedlicher Farbe ausgebildet. Beispielsweise emittiert ein strahlungsemittierender Halbleiterchip Licht roter Farbe, ein anderer strahlungsemittierender Halbleiterchip Licht grüner Farbe und ein anderer strahlungsemittierender Halbleiterchip Licht blauer Farbe.The radiation-emitting component may, for example, have exactly three radiation-emitting semiconductor chips. The radiation-emitting semiconductor chips are then formed, for example, in operation in pairs to produce light of different colors. For example, one radiation-emitting semiconductor chip emits light of red color, another radiation-emitting semiconductor chip emits light of green color, and another radiation-emitting semiconductor chip emits light of blue color.

Die strahlungsemittierenden Halbleiterchips können beispielsweise entlang einer Linie angeordnet sein. Alternativ ist es möglich, die strahlungsemittierenden Halbleiterchips an den Eckpunkten eines Dreiecks anzuordnen.The radiation-emitting semiconductor chips may, for example, be arranged along a line. Alternatively, it is possible to arrange the radiation-emitting semiconductor chips at the vertices of a triangle.

Alternativ kann es sich bei dem optoelektronischen Bauteil auch um ein optoelektronisches Bauteil handeln, das zur Detektion von elektromagnetischer Strahlung vorgesehen ist. Das heißt, die zumindest zwei strahlungsemittierenden Halbleiterchips des optoelektronischen Bauteils sind dann durch zumindest zwei strahlungsdetektierende Halbleiterchips gegeben. Ferner kann das Bauteil sowohl strahlungsemittierende als auch detektierende Halbleiterchips umfassen.Alternatively, the optoelectronic component can also be an optoelectronic component which is provided for the detection of electromagnetic radiation. That is, the at least two radiation-emitting semiconductor chips of the optoelectronic component are then given by at least two radiation-detecting semiconductor chips. Furthermore, the component can comprise both radiation-emitting and detecting semiconductor chips.

Beispielsweise kann das optoelektronische Bauteil zumindest einen strahlungsdetektierenden Halbleiterchip und zumindest einen strahlungsemittierenden Halbleiterchip aufweisen. Der zumindest eine strahlungsdetektierende Halbleiterchip ist beispielsweise zur Detektion der im Betrieb des zumindest einen strahlungsdetektierenden Halbleiterchips emittierten elektromagnetischen Strahlung ausgebildet. Ferner ist es möglich, dass das optoelektronische Bauteil beispielsweise mehrere strahlungsdetektierende und strahlungsemittierende Halbleiterchips umfasst, die beispielsweise matrixartig, also angeordnet entlang von Zeilen und Spalten, in einer Ebene angeordnet sind.By way of example, the optoelectronic component may have at least one radiation-detecting semiconductor chip and at least one radiation-emitting semiconductor chip. The at least one radiation-detecting semiconductor chip is designed, for example, to detect the electromagnetic radiation emitted during operation of the at least one radiation-detecting semiconductor chip. Furthermore, it is possible for the optoelectronic component to comprise, for example, a number of radiation-detecting and radiation-emitting semiconductor chips, which are arranged in a plane, for example in a matrix, ie arranged along rows and columns.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Bauteil ein Kontaktelement, zur elektrischen Kontaktierung zumindest einer der optoelektronischen Halbleiterchips. Das Kontaktelement ist dabei in lateralen Richtungen beabstandet zu den zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips angeordnet. Das heißt, das Kontaktelement ist seitlich von den zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips angeordnet.In accordance with at least one embodiment, the optoelectronic component comprises a contact element for electrically contacting at least one of the optoelectronic semiconductor chips. The contact element is arranged in lateral directions at a distance from the at least two optoelectronic semiconductor chips. That is, the contact element is arranged laterally of the at least two optoelectronic semiconductor chips.

Das Kontaktelement weist eine Deckfläche, eine Bodenfläche und zumindest eine Seitenfläche auf. Die Deckfläche ist der Bodenfläche gegenüberliegend angeordnet. Die Deckfläche und die Bodenfläche sind durch die zumindest eine Seitenfläche miteinander verbunden. Die Bodenfläche des Kontaktelements liegt beispielsweise jeweils in einer gemeinsamen Ebene mit den Bodenflächen der zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips. Ferner können das Kontaktelement und die zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips im Wesentlichen eine gleiche Höhe aufweisen. Im Wesentlichen gleich heißt, dass die Höhen für unterschiedliche optoelektronische Halbleiterchips und das Kontaktelement durch Herstellungstoleranzen um höchstens +/- 20%, insbesondere um höchstens +/- 10% variieren können. The contact element has a top surface, a bottom surface and at least one side surface. The top surface is arranged opposite the bottom surface. The top surface and the bottom surface are interconnected by the at least one side surface. The bottom surface of the contact element lies, for example, in each case in a common plane with the bottom surfaces of the at least two optoelectronic semiconductor chips. Furthermore, the contact element and the at least two optoelectronic semiconductor chips may have a substantially equal height. Substantially equal means that the heights for different optoelectronic semiconductor chips and the contact element can vary by manufacturing tolerances by at most +/- 20%, in particular by at most +/- 10%.

Das zumindest eine Kontaktelement umfasst beispielsweise ein elektrisch leitendes Material oder besteht daraus. Das elektrisch leitende Material ist beispielsweise ein Metall oder ein Halbleitermaterial. Das elektrisch leitende Material enthält oder besteht beispielsweise aus Silizium, das dotiert oder undotiert sein kann.The at least one contact element comprises, for example, an electrically conductive material or consists thereof. The electrically conductive material is, for example, a metal or a semiconductor material. The electrically conductive material contains or consists for example of silicon, which may be doped or undoped.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Bauteil eine elektrisch leitende Verbindung, die zumindest einen der Halbleiterchips mit dem Kontaktelement elektrisch leitend verbindet. Die elektrisch leitende Verbindung steht beispielsweise in direktem und unmittelbarem Kontakt zu dem zumindest einen Halbleiterchip und dem Kontaktelement. Die elektrisch leitende Verbindung ist beispielsweise mit einem Metall oder einem elektrisch leitfähigen Klebstoff gebildet. Zudem kann die elektrische Verbindung eine Kombination mehrerer Metalle umfassen.In accordance with at least one embodiment, the optoelectronic component comprises an electrically conductive connection, which electrically conductively connects at least one of the semiconductor chips to the contact element. The electrically conductive connection is, for example, in direct and direct contact with the at least one semiconductor chip and the contact element. The electrically conductive connection is formed for example with a metal or an electrically conductive adhesive. In addition, the electrical connection may comprise a combination of several metals.

Die elektrisch leitende Verbindung weist beispielsweise eine Dicke auf, die beispielsweise zwischen wenigstens 1 µm und höchstens 15 µm betragen kann. Die Dicke der zumindest einen elektrisch leitenden Verbindung ist im Rahmen der Herstellungstoleranz, insbesondere im Rahmen der Herstellungstoleranz, konstant über die gesamte Erstreckung der elektrisch leitenden Verbindung. Die elektrisch leitende Verbindung weist beispielsweise eine Breite auf, die groß ist gegenüber der Dicke der elektrisch leitenden Verbindung. Die Breite der elektrisch leitenden Verbindung kann beispielsweise um den Faktor 10 oder 100 oder 1000 größer sein als die Dicke der elektrisch leitenden Verbindung.The electrically conductive connection has, for example, a thickness which may be, for example, between at least 1 μm and at most 15 μm. The thickness of the at least one electrically conductive connection is within the manufacturing tolerance, in particular in the context of manufacturing tolerance, constant over the entire extent of the electrically conductive connection. The electrically conductive connection has, for example, a width that is large compared to the thickness of the electrically conductive connection. The width of the electrically conductive connection may, for example, be greater by a factor of 10 or 100 or 1000 than the thickness of the electrically conductive connection.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Bauteil einen Umhüllungskörper, der elektrisch isolierend ist. Der Umhüllungskörper ist beispielsweise transparent oder undurchlässig für die von den optoelektronischen Halbleiterchips emittierte oder detektierte Strahlung. Der Umhüllungskörper kann reflektierende, insbesondere diffus reflektierend, oder absorbierend für die von den optoelektronischen Halbleiterchips emittierte oder detektierte Strahlung gestaltet sein. Der Umhüllungskörper ist beispielsweise aus einem Matrixmaterial gebildet. Das Matrixmaterial ist beispielsweise aus einem Kunststoff wie einem Silikon, einem Epoxid oder einem Epoxidhybridmaterial gebildet. Dem Kunststoff kann beispielsweise ein Färbemittel wie Ruß oder ein Pigment beigegeben sein. Somit kann der Umhüllungskörper schwarz oder auch weiß oder farbig erscheinen.In accordance with at least one embodiment, the optoelectronic component comprises a cladding body that is electrically insulating. By way of example, the cladding body is transparent or impermeable to the radiation emitted or detected by the optoelectronic semiconductor chips. The cladding body may be designed to be reflective, in particular diffusely reflective, or absorbing for the radiation emitted or detected by the optoelectronic semiconductor chips. The wrapping body is formed, for example, of a matrix material. The matrix material is formed for example from a plastic such as a silicone, an epoxy or an epoxy hybrid material. The plastic may be added, for example, a colorant such as carbon black or a pigment. Thus, the wrapping body may appear black or white or colored.

Ist der Umhüllungskörper reflektierend ausgebildet können beispielsweise lichtreflektierende Partikel in das Matrixmaterial eingebracht sein. Die Partikel sind zum Beispiel mit zumindest einem der folgenden Materialien gebildet oder enthalten zumindest eines der folgenden Materialien: TiO2, BaSO4, ZnO, AlxOy. Das heißt, elektromagnetische Strahlung, die an den Seitenflächen des strahlungsemittierenden Halbleiterchips austritt, kann dann vom Umhüllungskörper reflektiert werden. Zudem bildet der Umhüllungskörper die mechanisch stabilisierende Komponente des optoelektronischen Bauteils.If the cladding body is designed to be reflective, it is possible, for example, for light-reflecting particles to be introduced into the matrix material. The particles are formed, for example, with at least one of the following materials or contain at least one of the following materials: TiO 2 , BaSO 4 , ZnO, Al x O y . That is, electromagnetic radiation exiting the side surfaces of the radiation-emitting semiconductor chip may then be reflected by the cladding body. In addition, the cladding body forms the mechanically stabilizing component of the optoelectronic component.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform sind die optoelektronischen Halbleiterchips und das Kontaktelement in den Umhüllungskörper eingebettet. „Eingebettet“ heißt dabei beispielsweise, dass die optoelektronischen Halbleiterchips und das Kontaktelement an dem Umhüllungskörper anliegen, teilweise innerhalb des Umhüllungskörpers liegen und/oder von dem Umhüllungskörper an zumindest einem Teil seiner Außenfläche umschlossen sind.In accordance with at least one embodiment, the optoelectronic semiconductor chips and the contact element are embedded in the cladding body. "Embedded" means, for example, that the optoelectronic semiconductor chips and the contact element bear against the wrapping body, lie partially within the wrapping body and / or are enclosed by the wrapping body on at least part of its outer surface.

Die Seitenflächen der zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips und die zumindest eine Seitenfläche des Kontaktelements, sind von dem Umhüllungskörper beispielsweise vollständig bedeckt. Der Umhüllungskörper steht dabei in direktem und unmittelbarem Kontakt mit den Seitenflächen der Halbleiterchips und der zumindest einen Seitenfläche des Kontaktelements. Eine Deckfläche und eine gegenüberliegende Bodenfläche des Umhüllungskörpers schließt beispielsweise bündig mit der Deckfläche und der Bodenfläche der Halbleiterchips und der Deckfläche und der Bodenfläche des Kontaktelements ab. Das heißt, die Deckfläche und die Bodenfläche des Halbleiterchips und des Kontaktelements sind, insbesondere im Wesentlichen, frei vom Umhüllungskörper. Im Wesentlichen frei heißt dabei, dass kleine Mengen vom Umhüllungskörper durch Herstellungstoleranzen an der Deckfläche und an der Bodenfläche des Halbleiterchips und des Kontaktelements angeordnet sein können.The side faces of the at least two optoelectronic semiconductor chips and the at least one side face of the contact element are completely covered by the cladding body, for example. The wrapping body is in direct and direct contact with the side surfaces of the semiconductor chips and the at least one side surface of the contact element. For example, a top surface and an opposite bottom surface of the encasing body are flush with the top surface and the bottom surface of the semiconductor chips and the top surface and the bottom surface of the contact element. That is, the top surface and the bottom surface of the semiconductor chip and the contact element are, in particular, substantially free of the cladding body. Substantially free means that small quantities of the cladding body can be arranged by manufacturing tolerances on the top surface and on the bottom surface of the semiconductor chip and the contact element.

Alternativ ist es möglich, dass die Seitenflächen nur bis zu einer bestimmten Höhe vom Umhüllungskörper bedeckt sind. Das heißt, lediglich die Deckfläche oder die Bodenfläche des Umhüllungskörpers schließt beispielsweise bündig mit der Deckfläche oder der Bodenfläche der Halbleiterchips und der Deckfläche oder der Bodenfläche des Kontaktelements ab.Alternatively, it is possible that the side surfaces are covered only up to a certain height from the cover body. That is, only the The top surface or the bottom surface of the wrapping body terminates, for example, flush with the top surface or the bottom surface of the semiconductor chips and the top surface or the bottom surface of the contact element.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist die elektrisch leitende Verbindung stellenweise auf dem Umhüllungskörper angeordnet. Der zumindest eine optoelektronische Halbleiterchip und das Kontaktelement sind beispielsweise beabstandet zueinander angeordnet. Das heißt, die elektrisch leitende Verbindung ist von dem zumindest einen optoelektronischen Halbleiterchip zu dem Kontaktelement über den Umhüllungskörper geführt. Die elektrisch leitende Verbindung steht hierbei in direktem und unmittelbarem Kontakt zu dem Umhüllungskörper.In accordance with at least one embodiment, the electrically conductive connection is arranged in places on the covering body. The at least one optoelectronic semiconductor chip and the contact element are arranged, for example, at a distance from one another. That is, the electrically conductive connection is guided from the at least one optoelectronic semiconductor chip to the contact element via the enclosure body. The electrically conductive connection is in direct and direct contact with the cladding body.

In mindestens einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Bauteil zumindest zwei optoelektronische Halbleiterchips, die dazu ausgebildet sind im Betrieb Licht unterschiedlicher Farbe zu emittieren oder zu detektieren, ein Kontaktelement, zur elektrische Kontaktierung zumindest einer der Halbleiterchips, eine elektrisch leitende Verbindung, die zumindest einen der Halbleiterchips mit dem zumindest einen Kontaktelement elektrisch leitend verbindet, und einen Umhüllungskörper, der elektrisch isolierend ist. Der Halbleiterchip und das Kontaktelement sind in den Umhüllungskörper eingebettet, und die elektrisch leitende Verbindung ist stellenweise auf dem Umhüllungskörper angeordnet.In at least one embodiment, the optoelectronic component comprises at least two optoelectronic semiconductor chips which are designed to emit or detect light of different colors during operation, a contact element for electrically contacting at least one of the semiconductor chips, an electrically conductive connection comprising at least one of the semiconductor chips the at least one contact element electrically conductively connects, and a cladding body which is electrically insulating. The semiconductor chip and the contact element are embedded in the cladding body, and the electrically conductive connection is arranged in places on the cladding body.

Das hier beschriebene optoelektronische Bauteil macht nun unter anderem von der Idee Gebrauch, dass Halbleiterchips und Kontaktelemente in einen Umhüllungskörper eingebracht, miteinander über elektrisch leitende Verbindungen kontaktiert und direkt kontaktierbar sind.The optoelectronic component described here now makes use, inter alia, of the idea that semiconductor chips and contact elements are introduced into a cladding body, contacted with one another via electrically conductive connections and can be directly contacted.

Gegenwärtig werden beispielsweise Anschlussrahmen (englisch „Leadframes“), Keramiken und Leiterplatten (englisch „printed circuit board“ kurz PCB) verwendet um Halbleiterchips und Leiterbahnen in einem Bauteil unterzubringen. Hierbei werden beispielsweise Halbleiterchips in vorgeformte Gehäuse angebracht und anschließend mit Drähten kontaktiert (englisch „wirebonded“). Die Anordnung kann beispielsweise danach mit Silikon verkapselt werden.Currently, for example, lead frames (English "lead frames"), ceramics and PCBs (English "printed circuit board" PCB short) used to accommodate semiconductor chips and interconnects in a component. Here, for example, semiconductor chips are mounted in preformed housing and then contacted with wires (English "wirebonded"). The assembly may be encapsulated with silicone, for example thereafter.

Eine Idee des hier beschriebenen optoelektronischen Bauteils ist unter anderem, eine klebende Folie zu verwenden, auf die die Halbleiterchips und die Kontaktelemente vor dem Aufbringen eines Umhüllungsmaterials aufgebracht werden (englisch „foil assisted molding“, kurz FAM). Nach Aufbringen des Umhüllungsmaterials können die Halbleiterchips und die Kontaktelemente dann elektrisch miteinander verbunden werden. Die Kontaktelemente und die elektrisch leitenden Verbindungen können als Kontakt zur Bestromung der Halbleiterchips genutzt werden.One idea of the optoelectronic device described here is, inter alia, to use an adhesive film to which the semiconductor chips and the contact elements are applied before the application of a coating material ("foil assisted molding", FAM for short). After applying the wrapping material, the semiconductor chips and the contact elements can then be electrically connected to each other. The contact elements and the electrically conductive connections can be used as a contact for supplying current to the semiconductor chips.

Vorteilhafterweise benötigen so hergestellte Bauteile keine komplexen Anschlussrahmen oder Leiterplatten. Dies verringert die Produktionskosten der optoelektronischen Bauteile. Zudem ist beim FAM Prozess kein zusätzliches Anlöten oder Ankleben der Halbleiterchips vor dem Umhüllen notwendig, wodurch die Komponenten näher aneinander angeordnet werden können. Die Komponenten können beispielsweise mittels eines „Pick and Place“ Prozesses auf der Folie angeordnet werden. Vorteilhafterweise können so Design-Änderungen schnell implementiert werden, da lediglich der „Pick and Place“ Prozess umprogrammiert werden muss.Advantageously, components produced in this way do not require complex connection frames or printed circuit boards. This reduces the production costs of the optoelectronic components. In addition, in the FAM process, no additional soldering or sticking of the semiconductor chips is necessary before the wrapping, whereby the components can be arranged closer to each other. The components can be arranged for example by means of a "pick and place" process on the film. Advantageously, such design changes can be implemented quickly, since only the "pick and place" process must be reprogrammed.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Bauteil zumindest zwei elektrisch leitende Verbindungen, bei dem die zumindest zwei elektrisch leitenden Verbindungen ein Kontaktelement und jeweils einen der zumindest zwei Halbleiterchips elektrisch leitend miteinander verbinden. Das heißt, die zumindest zwei Halbleiterchips sind elektrisch leitend mit einem Kontaktelement verbunden. Das Kontaktelement ist beispielsweise als Anode ausgebildet. Das heißt, die zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips haben eine gemeinsame Anode und sind durch diese elektrisch leitfähig miteinander verbunden. Die zumindest zwei elektrisch leitenden Verbindungen sind beispielsweise in lateralen Richtungen beabstandet zueinander angeordnet und berühren sich beispielsweise nicht. Das heißt, die zumindest zwei elektrisch leitenden Verbindungen stehen nicht im direkten Kontakt miteinander.In accordance with at least one embodiment, the optoelectronic component comprises at least two electrically conductive connections, in which the at least two electrically conductive connections connect a contact element and in each case one of the at least two semiconductor chips to one another in an electrically conductive manner. That is, the at least two semiconductor chips are electrically conductively connected to a contact element. The contact element is formed, for example, as an anode. That is, the at least two optoelectronic semiconductor chips have a common anode and are electrically conductively connected to each other by them. The at least two electrically conductive connections are, for example, arranged at a distance from one another in lateral directions and, for example, do not touch each other. That is, the at least two electrically conductive connections are not in direct contact with each other.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Bauteil zumindest zwei Kontaktelemente und zumindest zwei elektrisch leitende Verbindungen, bei dem die zumindest zwei elektrisch leitenden Verbindungen jeweils eines der zumindest zwei Kontaktelemente und jeweils einen der zumindest zwei Halbleiterchips elektrisch leitend verbinden. Das heißt, jeweils ein Halbleiterchip ist elektrisch leitend mit jeweils einem Kontaktelement verbunden. Die Kontaktelemente sind beispielsweise als Anoden ausgebildet. Das heißt, jeder Halbleiterchip ist beispielsweise einer eigenen Anode zugeordnet.In accordance with at least one embodiment, the optoelectronic component comprises at least two contact elements and at least two electrically conductive connections, in which the at least two electrically conductive connections electrically connect respectively one of the at least two contact elements and one of the at least two semiconductor chips. That is, in each case a semiconductor chip is electrically conductively connected to a respective contact element. The contact elements are formed, for example, as anodes. That is, each semiconductor chip, for example, associated with its own anode.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung auf einer Deckfläche des optoelektronischen Bauteils angeordnet. Die Deckfläche steht einer Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils gegenüber und ist durch eine Seitenfläche verbunden. Die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung verbindet beispielsweise die Deckfläche des zumindest einen Halbleiterchips mit der Deckfläche des zumindest einen Kontaktelements und verläuft dabei zwischen dem zumindest einen Halbleiterchip und dem zumindest einen Kontaktelement an der Deckfläche des Umhüllungskörpers. Die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung steht beispielsweise in direktem und unmittelbaren Kontakt mit den Deckflächen des zumindest einen Halbleiterchips, des zumindest einen Kontaktelements und des Umhüllungskörpers.In accordance with at least one embodiment, the at least one electrically conductive connection is arranged on a cover surface of the optoelectronic component. The top surface faces a bottom surface of the optoelectronic device and is connected by a side surface. The at least one electrically conductive connection connects, for example, the top surface of the at least one semiconductor chip to the top surface of the at least one a contact element and extends between the at least one semiconductor chip and the at least one contact element on the top surface of the enclosure body. The at least one electrically conductive connection is, for example, in direct and direct contact with the top surfaces of the at least one semiconductor chip, the at least one contact element and the enclosure body.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform verbindet die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung die zumindest zwei Halbleiterchips elektrisch leitend miteinander. Das heißt, dass die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung lediglich die Halbleiterchips elektrisch leitend miteinander verbindet.In accordance with at least one embodiment, the at least one electrically conductive connection electrically conductively connects the at least two semiconductor chips to one another. This means that the at least one electrically conductive connection only electrically connects the semiconductor chips to one another.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung an einer Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils angeordnet. Die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung verbindet beispielsweise die Bodenflächen der Halbleiterchips und verläuft dabei zwischen den Halbleiterchips an der Bodenfläche des Umhüllungskörpers. Die elektrisch leitende Verbindung steht beispielsweise in direktem und unmittelbarem Kontakt zu den Bodenflächen der Halbleiterkörper und der Bodenfläche des Umhüllungskörpers.In accordance with at least one embodiment, the at least one electrically conductive connection is arranged on a bottom surface of the optoelectronic component. The at least one electrically conductive connection connects, for example, the bottom surfaces of the semiconductor chips and thereby extends between the semiconductor chips on the bottom surface of the encapsulation body. The electrically conductive connection is, for example, in direct and direct contact with the bottom surfaces of the semiconductor bodies and the bottom surface of the enclosure body.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist eine Bodenfläche der zumindest einen elektrisch leitenden Verbindung frei zugänglich. Eine der Bodenfläche gegenüberliegende Deckfläche der zumindest einen elektrisch leitenden Verbindung, die über eine Seitenfläche verbunden sind, ist beispielsweise in direktem Kontakt zu der Bodenfläche des zumindest einen Halbleiterchips und der Bodenfläche des Umhüllungskörpers. Die Bodenfläche der zumindest einen elektrisch leitenden Verbindung ist dagegen an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils frei zugänglich und wird beispielsweise nicht vom Umhüllungskörper überdeckt.In accordance with at least one embodiment, a bottom surface of the at least one electrically conductive connection is freely accessible. For example, a top surface of the at least one electrically conductive connection opposite the bottom surface, which are connected via a side surface, is in direct contact with the bottom surface of the at least one semiconductor chip and the bottom surface of the enclosure body. By contrast, the bottom surface of the at least one electrically conductive connection is freely accessible on the bottom surface of the optoelectronic component and, for example, is not covered by the covering body.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist die Bodenfläche der zumindest einen elektrisch leitenden Verbindung als Kontaktfläche ausgebildet. Da die Bodenfläche der zumindest einen elektrisch leitenden Verbindung frei zugänglich ist, kann diese dort beispielsweise elektrisch leitend kontaktiert werden und bildet somit zumindest eine Kontaktfläche. Somit können beispielsweise die Halbleiterchips durch die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung von der Bodenfläche bestromt werden.In accordance with at least one embodiment, the bottom surface of the at least one electrically conductive connection is designed as a contact surface. Since the bottom surface of the at least one electrically conductive connection is freely accessible, it can be contacted there, for example, in an electrically conductive manner and thus forms at least one contact surface. Thus, for example, the semiconductor chips can be energized by the at least one electrically conductive connection from the bottom surface.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist eine Bodenfläche des zumindest einen Kontaktelements frei zugänglich und ist als Kontaktfläche ausgebildet. Die Halbleiterchips sind beispielsweise an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils lediglich untereinander elektrisch leitfähig verbunden. Das heißt, das zumindest eine Kontaktelement ist frei von der zumindest einen elektrisch leitfähigen Verbindung und somit frei zugänglich. Die Bodenfläche des zumindest einen Kontaktelements kann dort beispielsweise elektrisch leitend kontaktiert werden und bildet somit zumindest eine Kontaktfläche.According to at least one embodiment, a bottom surface of the at least one contact element is freely accessible and is formed as a contact surface. The semiconductor chips are, for example, only electrically conductively connected to one another on the bottom surface of the optoelectronic component. That is, the at least one contact element is free from the at least one electrically conductive connection and thus freely accessible. The bottom surface of the at least one contact element can be contacted there, for example, in an electrically conductive manner and thus forms at least one contact surface.

Weist die Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils beispielsweise keine elektrisch leitende Verbindung auf, so ist auch die Bodenfläche des zumindest einen optoelektronischen Halbleiterchips frei zugänglich und kann beispielsweise als Kontaktfläche ausgebildet sein. Das heißt, die Bodenfläche des zumindest einen optoelektronischen Halbleiterchips kann dort beispielsweise elektrisch leitend kontaktiert werden und bildet somit zumindest eine Kontaktfläche.If the bottom surface of the optoelectronic component has, for example, no electrically conductive connection, the bottom surface of the at least one optoelectronic semiconductor chip is also freely accessible and can be designed, for example, as a contact surface. That is, the bottom surface of the at least one optoelectronic semiconductor chip can be contacted there, for example, in an electrically conductive manner and thus forms at least one contact surface.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform eines optoelektronischen Bauteils mit zumindest zwei elektrisch leitenden Verbindungen ist die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung an der Bodenfläche und zumindest eine andere elektrisch leitende Verbindung an der Deckfläche des optoelektronischen Bauteils angeordnet. Die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils verbindet beispielsweise die zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips. Die zumindest eine andere elektrisch leitende Verbindung an der Deckfläche des optoelektronischen Bauteils verbindet beispielsweise die zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips und das Kontaktelement elektrisch leitend miteinander.In accordance with at least one embodiment of an optoelectronic component with at least two electrically conductive connections, the at least one electrically conductive connection is arranged on the bottom surface and at least one other electrically conductive connection is arranged on the top surface of the optoelectronic component. The at least one electrically conductive connection on the bottom surface of the optoelectronic component, for example, connects the at least two optoelectronic semiconductor chips. The at least one other electrically conductive connection on the top surface of the optoelectronic component, for example, connects the at least two optoelectronic semiconductor chips and the contact element to one another in an electrically conductive manner.

Die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung an der Bodenfläche ist beispielsweise an der Bodenfläche der Verbindung elektrisch kontaktiert. Dadurch sind die strahlungsemittierenden Halbleiterchips an deren Bodenflächen bestrombar. Das Kontaktelement ist beispielsweise ebenfalls an der Bodenfläche des Kontaktelements elektrisch kontaktiert und elektrisch leitend mit der zumindest einen anderen elektrisch leitenden Verbindung an der Deckfläche verbunden. Das heißt, die strahlungsemittierenden Halbleiterchips sind an deren Deckflächen durch diese Verbindungen bestrombar.The at least one electrically conductive connection on the bottom surface is electrically contacted, for example, on the bottom surface of the connection. As a result, the radiation-emitting semiconductor chips can be supplied with current at their bottom surfaces. The contact element, for example, also electrically contacted on the bottom surface of the contact element and electrically conductively connected to the at least one other electrically conductive connection to the top surface. This means that the radiation-emitting semiconductor chips can be supplied with current at their top surfaces by these connections.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform eines optoelektronischen Bauteils mit zumindest vier elektrisch leitenden Verbindungen, zumindest vier optoelektronischen Halbleiterchips und zumindest zwei Kontaktelementen, sind die zumindest zwei Kontaktelemente und die zumindest vier Halbleiterchips durch die zumindest zwei elektrisch leitenden Verbindungen an der Deckfläche des optoelektronischen Bauteils miteinander spalten- oder zeilenweise verbunden und die zumindest zwei anderen elektrisch leitenden Verbindungen die zumindest zwei Halbleiterchips an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils miteinander zeilen- oder spaltenweise verbinden. Die elektrisch leitenden Verbindungen können beispielsweise jeweils an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils kontaktiert werden. Zudem können die Kontaktelemente beispielsweise jeweils über ihre Bodenfläche, an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils, kontaktiert werden. Das heißt, dass die zumindest vier optoelektronischen Halbleiterchips mit zumindest vier Kontaktierungen, beispielsweise nach Art eines Passivmatrixdisplays, einzeln betrieben werden können.In accordance with at least one embodiment of an optoelectronic component with at least four electrically conductive connections, at least four optoelectronic semiconductor chips and at least two contact elements, the at least two contact elements and the at least four semiconductor chips are split by the at least two electrically conductive connections on the top surface of the optoelectronic device connected in rows and the at least two other electrically conductive connections connect the at least two semiconductor chips on the bottom surface of the optoelectronic component with each other in rows or columns. The electrically conductive Connections can be contacted, for example, in each case on the bottom surface of the optoelectronic component. In addition, the contact elements can be contacted, for example, in each case via their bottom surface, on the bottom surface of the optoelectronic component. This means that the at least four optoelectronic semiconductor chips can be operated individually with at least four contacts, for example in the manner of a passive matrix display.

Die spalten- oder zeilenweise elektrisch leitfähige Verbindung der Halbleiterchips und der Kontaktelemente an der Deckfläche des optoelektronischen Bauteils und die zeilen- oder spaltenweise elektrisch leitfähige Verbindung der Halbleiterchips an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils kann beliebig skaliert werden. Das heißt, dass beispielsweise NxM strahlungsemittierende Halbleiterchips in einer NxM Matrix, also entlang von N Zeilen und M Spalten, angeordnet werden, wobei N und M jeweils eine natürliche Zahl größer gleich 2 ist. Diese NxM große Matrix weist dann beispielsweise N+M Kontakte auf, die zur Bestromung der strahlungsemittierenden Halbleiterchips dienen können. Das optoelektronische Bauteil umfasst dann beispielsweise N oder M Kontaktelemente und N oder M elektrisch leitende Verbindungen an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils. Vorteilhafterweise ist so jeder der NxM strahlungsemittierenden Halbleiterchips einzeln ansteuerbar.The column-wise or row-wise electrically conductive connection of the semiconductor chips and of the contact elements on the top surface of the optoelectronic component and the row-wise or column-wise electrically conductive connection of the semiconductor chips on the bottom surface of the optoelectronic component can be scaled as desired. That is, for example, NxM radiation-emitting semiconductor chips are arranged in an NxM matrix, that is, along N rows and M columns, where N and M are each a natural number greater than or equal to 2. This NxM-sized matrix then has N + M contacts, for example, which can serve to energize the radiation-emitting semiconductor chips. The optoelectronic component then comprises, for example, N or M contact elements and N or M electrically conductive connections to the bottom surface of the optoelectronic component. Advantageously, each of the NxM radiation-emitting semiconductor chips can be controlled individually.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das zumindest eine Kontaktelement einen integrierten Schaltkreis. Der integrierte Schaltkreis ist zum Beispiel durch einen anwendungsspezifischen integrierten Schaltkreis, kurz ASIC (englisch „application-specific integrated circuit“), gebildet. Hierbei umfasst der integrierte Schaltkreis beispielsweise eine Kontrolleinheit, eine Auswerteeinheit und/oder eine Ansteuereinheit. Die Kontrolleinheit und die Auswerteeinheit lesen und überprüfen beispielsweise jeweils den Zustand des zumindest einen strahlungsemittierenden Halbleiterchips mittels beispielsweise des zumindest einen strahlungsdetektierenden Halbleiterchips. Die Ansteuereinheit kann zum Beispiel die zumindest zwei strahlungsemittierenden Halbleiterchips steuern und zum Beispiel die jeweiligen strahlungsemittierenden Halbleiterchips an oder ausschalten.In accordance with at least one embodiment, the at least one contact element comprises an integrated circuit. The integrated circuit is formed, for example, by an application-specific integrated circuit, abbreviated ASIC ("application-specific integrated circuit"). In this case, the integrated circuit comprises, for example, a control unit, an evaluation unit and / or a drive unit. For example, the control unit and the evaluation unit each read and check the state of the at least one radiation-emitting semiconductor chip by means of, for example, the at least one radiation-detecting semiconductor chip. The drive unit may, for example, control the at least two radiation-emitting semiconductor chips and, for example, switch the respective radiation-emitting semiconductor chips on or off.

Es wird darüber hinaus ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauteils angegeben. Dieses Verfahren eignet sich zur Herstellung eines hier beschriebenen optoelektronischen Bauteils. Das heißt, ein hier beschriebenes optoelektronisches Bauteil ist mit dem beschriebenen Verfahren herstellbar oder wird mit dem beschriebenen Verfahren hergestellt. Sämtliche in Verbindung mit dem optoelektronischen Bauteil offenbarten Merkmale sind daher auch in Verbindung mit dem Verfahren offenbart und umgekehrt.In addition, a method for producing an optoelectronic component is specified. This method is suitable for producing an optoelectronic component described here. That is, an optoelectronic device described here can be produced by the described method or is produced by the described method. All disclosed in connection with the optoelectronic device features are therefore also disclosed in connection with the method and vice versa.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das Verfahren den Schritt des Bereitstellens eines temporären Trägers. „Temporär“ bedeutet beispielsweise, dass der temporäre Träger beispielsweise in einem weiteren Verfahrensschritt wieder entfernt wird. Bei dem Träger kann es sich beispielsweise um eine Platte handeln, die mit einem Kunststoffmaterial, einem Metall, einem keramischen Material oder einem Halbleitermaterial gebildet ist. Der temporäre Träger bildet in den Schritten, in denen noch kein Umhüllungskörper aufgebracht ist, die mechanisch stabilisierende Komponente.In accordance with at least one embodiment, the method comprises the step of providing a temporary carrier. For example, "temporary" means that the temporary carrier is removed, for example, in a further method step. For example, the support may be a plate formed with a plastic material, a metal, a ceramic material or a semiconductor material. The temporary carrier forms the mechanically stabilizing component in the steps in which no wrapping body has yet been applied.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das Verfahren den Schritt des Aufbringens einer Folie an einer Deckfläche des temporären Trägers. Die Deckfläche ist der Bodenfläche gegenüberliegend angeordnet und die Deckfläche und die Bodenfläche sind durch die zumindest eine Seitenfläche miteinander verbunden. Die Folie ist beispielsweise eine doppelseitige Klebefolie. Das heißt, eine Bodenfläche und eine Deckfläche der Folie bilden beispielsweise bei Raumtemperatur adhäsive Kräfte aus. Wird die Folie beispielsweise erhitzt, so verringern sich die adhäsiven Kräfte. Die Bodenfläche der Folie ist beispielsweise in direktem und unmittelbarem Kontakt mit der Deckfläche des temporären Trägers. Durch die Adhäsionskräfte der Bodenfläche der Folie ist die Folie mit dem temporären Träger mechanisch fest verbunden.In accordance with at least one embodiment, the method comprises the step of applying a film to a top surface of the temporary carrier. The top surface is disposed opposite the bottom surface, and the top surface and bottom surface are interconnected by the at least one side surface. The film is for example a double-sided adhesive film. That is, a bottom surface and a top surface of the film form adhesive forces at room temperature, for example. If the film is heated, for example, then the adhesive forces are reduced. For example, the bottom surface of the film is in direct and direct contact with the top surface of the temporary carrier. Due to the adhesion forces of the bottom surface of the film, the film is mechanically firmly connected to the temporary carrier.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das Verfahren das Aufbringen einer Vielzahl von Halbleiterchips auf die Folie. Die Vielzahl von Halbleiterchips wird beispielsweise auf die Deckfläche der Folie aufgebracht. Die Vielzahl der Halbleiterchips wird beispielsweise mit einer definierten Andruckkraft auf die Folie aufgebracht. Die Bodenflächen der Halbleiterchips stehen dabei in direktem und unmittelbarem Kontakt zu der Deckfläche der Folie. Die Adhäsionskräfte der Folie stellen eine feste Verbindung der Halbleiterchips auf der Deckfläche der Folie her und verhindern ein Verrutschen der Halbleiterchips bei weiteren Verfahrensschritten. Die Halbleiterchips werden beispielsweise mittels eines Pick and Place Prozesses aufgebracht.In accordance with at least one embodiment, the method comprises the application of a multiplicity of semiconductor chips to the film. The plurality of semiconductor chips is applied to the top surface of the film, for example. The plurality of semiconductor chips is applied to the film, for example, with a defined pressure force. The bottom surfaces of the semiconductor chips are in direct and direct contact with the top surface of the film. The adhesion forces of the film establish a firm connection of the semiconductor chips on the top surface of the film and prevent slippage of the semiconductor chips in further method steps. The semiconductor chips are applied, for example, by means of a pick and place process.

Die optoelektronischen Halbleiterchips können beispielsweise matrixartig, also angeordnet entlang von Zeilen und Spalten, in einer Ebene angeordnet werden. Das heißt, die optoelektronischen Halbleiterchips können beispielsweise an Gitterpunkten eines regelmäßigen Gitters angeordnet sein. Zudem können die optoelektronischen Halbleiterchips beispielsweise im Betrieb zur Erzeugung von Licht unterschiedlicher Farbe ausgebildet sein.The optoelectronic semiconductor chips can be arranged, for example, in a matrix, ie arranged along lines and columns, in a plane. That is, the optoelectronic semiconductor chips may be arranged, for example, at grid points of a regular grid. In addition, the optoelectronic semiconductor chips may be formed, for example during operation for generating light of different colors.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das Verfahren den Schritt des Aufbringens einer Vielzahl von Kontaktelementen auf die Folie. Kontaktelemente können beispielsweise matrixartig, also angeordnet entlang von Zeilen und Spalten, in einer Ebene angeordnet werden. Das heißt, die Kontaktelemente können beispielsweise an Gitterpunkten eines regelmäßigen Gitters angeordnet sein. Die Kontaktelemente umfassen beispielsweise ein elektrisch leitendes Material oder bestehen daraus. Das elektrisch leitende Material ist beispielsweise ein Metall oder ein Halbleitermaterial. Das elektrisch leitende Material enthält oder besteht beispielsweise aus Silizium. In accordance with at least one embodiment, the method comprises the step of applying a plurality of contact elements to the foil. Contact elements can, for example, be arranged in a matrix, ie arranged along rows and columns, in a plane. That is, the contact elements may be arranged, for example, at grid points of a regular grid. The contact elements comprise, for example, an electrically conductive material or consist thereof. The electrically conductive material is, for example, a metal or a semiconductor material. The electrically conductive material contains or consists of silicon, for example.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das Verfahren den Schritt des Einbettens der Halbleiterchips und der Kontaktelemente mit einem Umhüllungsmaterial. „Einbetten“ kann dabei heißen, dass die Halbleiterchips und die Kontaktelemente an dem Umhüllungsmaterial anliegen, teilweise innerhalb des Umhüllungskörpers liegen und/oder von dem Umhüllungskörper an zumindest einem Teil seiner Außenfläche umschlossen sind.In accordance with at least one embodiment, the method comprises the step of embedding the semiconductor chips and the contact elements with a cladding material. "Embedding" may mean that the semiconductor chips and the contact elements lie against the wrapping material, lie partially within the wrapping body and / or are enclosed by the wrapping body on at least part of its outer surface.

Beispielsweise wird ein Rahmen auf die Folie aufgebracht, der die optoelektronischen Halbleiterchips und die Kontaktelemente rahmenartig umschließt. Der Begriff „rahmenartig“ ist dabei hinsichtlich der Form und des Verlaufes des Rahmens nicht als einschränkend zu verstehen. Der Rahmen kann zum Beispiel eine rechteckige, eine vieleckige, eine runde oder eine ovale Form aufweisen. Der Rahmen wird beispielsweise mit einer definierten Andruckkraft auf die Folie aufgebracht. Die Adhäsionskräfte der Folie befestigen den Rahmen auf der Deckfläche der Folie und verhindern ein Verrutschen des Rahmens bei den weiteren Verfahrensschritten. Der Rahmen überragt beispielsweise die Deckflächen der optoelektronischen Halbleiterchips und der Kontaktelemente auf einer der Folie abgewandten Seite.For example, a frame is applied to the film, which encloses the optoelectronic semiconductor chips and the contact elements like a frame. The term "frame-like" is not to be understood as limiting the shape and the course of the frame. The frame may have, for example, a rectangular, a polygonal, a round or an oval shape. The frame is applied, for example, with a defined contact pressure on the film. The adhesion of the film attach the frame on the top surface of the film and prevent slipping of the frame in the further process steps. For example, the frame projects beyond the top surfaces of the optoelectronic semiconductor chips and the contact elements on a side facing away from the film.

Der Rahmen wird dann beispielsweise mit dem Umhüllungsmaterial befüllt, sodass die Seitenflächen der optoelektronischen Halbleiterchips und die Seitenflächen der Kontaktelemente beispielsweise von dem Umhüllungsmaterial vollständig bedeckt werden. Das Umhüllungsmaterial steht dabei in direktem und unmittelbarem Kontakt mit den Seitenflächen der Halbleiterchips und den Seitenflächen der Kontaktelemente. Eine Deckfläche und eine gegenüberliegende Bodenfläche des Umhüllungsmaterials schließt beispielsweise bündig mit den Deckflächen und den Bodenflächen der Halbleiterchips und den Deckflächen und den Bodenflächen der Kontaktelemente ab. Das heißt, die Deckflächen und die Bodenflächen der Halbleiterchips und der Kontaktelemente sind im Wesentlichen frei vom Umhüllungsmaterial. Im Wesentlichen frei heißt dabei, dass kleine Mengen vom Umhüllungskörper durch Herstellungstoleranzen an den Deckflächen und an den Bodenflächen der Halbleiterchips und der Kontaktelemente angeordnet sind.The frame is then filled, for example, with the wrapping material so that the side surfaces of the optoelectronic semiconductor chips and the side surfaces of the contact elements are completely covered, for example, by the wrapping material. The wrapping material is in direct and direct contact with the side surfaces of the semiconductor chips and the side surfaces of the contact elements. For example, a top surface and an opposite bottom surface of the wrapping material are flush with the top surfaces and the bottom surfaces of the semiconductor chips and the top surfaces and bottom surfaces of the contact elements. That is, the top surfaces and bottom surfaces of the semiconductor chips and the contact elements are substantially free of the cladding material. Essentially free means that small quantities of the cladding body are arranged by manufacturing tolerances on the top surfaces and on the bottom surfaces of the semiconductor chips and the contact elements.

Alternativ ist es möglich, dass die Seitenflächen der optoelektronischen Halbleiterchips und der Kontaktelemente nur bis zu einer bestimmten Höhe vom Umhüllungsmaterial bedeckt sind.Alternatively, it is possible for the side surfaces of the optoelectronic semiconductor chips and the contact elements to be covered by the cladding material only up to a certain height.

Das Umhüllungsmaterial ist beispielsweise aus einem Matrixmaterial gebildet. Das Matrixmaterial ist beispielsweise aus einem Kunststoff wie einem Silikon, einem Epoxid oder einem Epoxidhybridmaterial gebildet. Dem Kunststoff kann beispielsweise ein Färbemittel wie Ruß oder ein Pigment beigegeben sein. Somit kann das Umhüllungsmaterial schwarz oder auch weiß oder farbig erscheinen.The wrapping material is formed, for example, of a matrix material. The matrix material is formed for example from a plastic such as a silicone, an epoxy or an epoxy hybrid material. The plastic may be added, for example, a colorant such as carbon black or a pigment. Thus, the wrapping material may appear black or white or colored.

Ist das Umhüllungsmaterial reflektierend ausgebildet können beispielsweise lichtreflektierende Partikel in das Matrixmaterial eingebracht sein. Die Partikel sind zum Beispiel mit zumindest einem der folgenden Materialien gebildet oder enthalten zumindest eines der folgenden Materialien: TiO2, BaSO4, ZnO, AlxOy. Das Umhüllungsmaterial wird beispielsweise mittels Spritzen, Gießen, Drucken, Auflaminieren oder dergleichen erfolgen.If the wrapping material is designed to be reflective, for example light-reflecting particles can be introduced into the matrix material. The particles are formed, for example, with at least one of the following materials or contain at least one of the following materials: TiO 2 , BaSO 4 , ZnO, Al x O y . The wrapping material will be done, for example, by spraying, casting, printing, laminating or the like.

Beispielsweise wird nach dem Schritt des Aufbringens des Umhüllungsmaterials, das Umhüllungsmaterial zu einem Umhüllungskörper ausgehärtet. Der Umhüllungskörper ist dabei die mechanisch stabilisierende Komponente des optoelektronischen Bauteils. Als Material für das Umhüllungsmaterial kommt beispielsweise ein UV-härtendes Material zur Verwendung. Der Vorteil der Verwendung von UVhärtendem Material gegenüber einem thermisch härtenden Material besteht beispielsweise darin, dass keine frühzeitige Ablösung der Folie durch ein erhitzen induziert wird. Alternativ ist es möglich für das Umhüllungsmaterial beispielsweise ein thermisch härtendes Material zu verwenden.For example, after the step of applying the wrapping material, the wrapping material is hardened into a wrapping body. The cladding body is the mechanically stabilizing component of the optoelectronic device. As the material for the wrapping material, for example, a UV-curing material is used. The advantage of using UV-curing material over a thermosetting material, for example, is that no premature peeling of the film is induced by heating. Alternatively, it is possible for the wrapping material to use, for example, a thermosetting material.

Die Deckflächen des Halbleiterchips und der Kontaktelemente bleiben beispielsweise frei vom Umhüllungskörper oder werden freigelegt. Das heißt, das Umhüllungsmaterial wird entweder so aufgebracht, dass die dem Träger abgewandte Deckfläche der Halbleiterchips und der Kontaktelemente nicht mit dem Umhüllungsmaterial bedeckt wird. Alternativ kann der Umhüllungskörper nach dem Aufbringen und aushärten des Umhüllungsmaterials von der Deckfläche der Halbleiterchips wieder entfernt werden. Das Entfernen kann beispielsweise durch Zurückschleifen des Umhüllungskörpers erreicht werden.The top surfaces of the semiconductor chip and the contact elements, for example, remain free from the cladding body or are exposed. That is, the wrapping material is applied either so that the cover surface of the semiconductor chips and the contact elements facing away from the carrier is not covered with the wrapping material. Alternatively, after applying and curing the wrapping material, the wrapping body may be removed again from the top surface of the semiconductor chips. The removal can be achieved, for example, by grinding back the wrapping body.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das Verfahren den Schritt des Vereinzelns zu optoelektronischen Bauteilen, die jeweils zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips umfassen, die dazu ausgebildet sind im Betrieb Licht unterschiedlicher Farbe zu emittieren. Die Anordnung von optoelektronischen Halbleiterchips, Kontaktelementen, Umhüllungskörper und falls vorhanden temporärer Träger und Folie wird beispielsweise durch Schnitte quer oder senkrecht zu der Deckfläche der Anordnung zu optoelektronischen Bauteilen vereinzelt. Die Schnitte werden beispielsweise durch einen Laser oder ein Sägeblatt erzeugt.In accordance with at least one embodiment, the method comprises the step of singulating to optoelectronic components, each comprise at least two optoelectronic semiconductor chips, which are designed to emit light of different colors during operation. The arrangement of optoelectronic semiconductor chips, contact elements, cladding body and, if present, temporary carrier and foil is separated into optoelectronic components, for example, by cuts transversely or perpendicular to the top surface of the arrangement. The cuts are produced, for example, by a laser or a saw blade.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Verfahrens wird der temporäre Träger vor dem Schritt des Vereinzelns entfernt. Die Folie weist beispielsweise nur bei Raumtemperatur adhäsive Kräfte auf. Durch Erhitzen verliert die Folie beispielsweise die adhäsiven Kräfte und verliert ihre Klebewirkung. Das heißt, durch beispielsweise Erhitzen wird die Anordnung umfassend die Halbleiterchips, die Kontaktelemente und den Umhüllungskörper von der Folie abgelöst. Das heißt auch der temporäre Träger wird von der Anordnung entfernt.In accordance with at least one embodiment of the method, the temporary carrier is removed prior to the step of singulating. For example, the film has adhesive forces only at room temperature. By heating, the film loses, for example, the adhesive forces and loses its adhesive effect. That is, by heating, for example, the device comprising the semiconductor chips, the contact elements and the cladding body is detached from the film. That is also the temporary carrier is removed from the assembly.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Verfahrens wird nach dem Schritt des Einbettens eine Vielzahl von elektrisch leitenden Verbindungen an einer Deckfläche des optoelektronischen Bauteils aufgebracht. Die elektrisch leitenden Verbindungen werden beispielsweise stellenweise auf die Deckflächen der Halbleiterchips, der Kontaktelemente und auf die Deckfläche des Umhüllungskörpers aufgebracht. Die elektrisch leitenden Verbindungen sind beispielsweise mit einem Metall oder einem elektrisch leitfähigen Klebstoff gebildet. Zudem kann die elektrische Verbindung eine Kombination mehrerer Metalle umfassen.According to at least one embodiment of the method, after the step of embedding, a multiplicity of electrically conductive connections are applied to a cover surface of the optoelectronic component. The electrically conductive connections are applied, for example, in places to the top surfaces of the semiconductor chips, the contact elements and to the top surface of the enclosure body. The electrically conductive connections are formed for example with a metal or an electrically conductive adhesive. In addition, the electrical connection may comprise a combination of several metals.

Die elektrisch leitenden Verbindungen weisen beispielsweise eine Dicke auf, die beispielsweise zwischen wenigstens 1 µm und höchstens 15 µm betragen kann. Die Dicke der elektrisch leitenden Verbindungen ist im Rahmen der Herstellungstoleranz im Wesentlichen konstant über die gesamte Erstreckung der elektrisch leitenden Verbindung. Die elektrisch leitenden Verbindungen weisen beispielsweise eine Breite auf, die groß ist gegenüber der Dicke der elektrisch leitenden Verbindungen. Die Breite der elektrisch leitenden Verbindungen kann beispielsweise um den Faktor 10 oder 100 oder 1000 größer sein als die Dicke der elektrisch leitenden Verbindungen.The electrically conductive compounds have, for example, a thickness which, for example, may be between at least 1 μm and at most 15 μm. The thickness of the electrically conductive connections is within the manufacturing tolerance substantially constant over the entire extent of the electrically conductive connection. The electrically conductive compounds have, for example, a width that is large compared to the thickness of the electrically conductive connections. The width of the electrically conductive connections may be, for example, by a factor of 10 or 100 or 1000 greater than the thickness of the electrically conductive connections.

Die elektrisch leitenden Verbindungen können dabei beispielsweise durch Sputtern und/oder Abscheiden, zum Beispiel stromloses oder galvanisches Abscheiden, erzeugt werden.The electrically conductive connections can be generated, for example, by sputtering and / or deposition, for example electroless or galvanic deposition.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Verfahrens wird nach dem Entfernen des temporären Trägers eine Vielzahl von elektrisch leitenden Verbindungen an einer Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils aufgebracht. Die elektrisch leitenden Verbindungen werden beispielsweise stellenweise auf die Bodenflächen der Halbleiterchips und auf die Bodenfläche des Umhüllungskörpers aufgebracht. Die elektrisch leitenden Verbindungen können dabei beispielsweise durch Sputtern und/oder Abscheiden, zum Beispiel stromloses oder galvanisches Abscheiden, erzeugt werden.In accordance with at least one embodiment of the method, after the removal of the temporary carrier, a multiplicity of electrically conductive connections are applied to a bottom surface of the optoelectronic component. The electrically conductive connections are applied, for example, in places to the bottom surfaces of the semiconductor chips and to the bottom surface of the enclosure body. The electrically conductive connections can be generated, for example, by sputtering and / or deposition, for example electroless or galvanic deposition.

Im Folgenden werden die hier beschriebenen optoelektronischen Bauteile sowie das hier beschriebene Verfahren anhand von Ausführungsbeispielen und den zugehörigen Figuren näher erläutert.In the following, the optoelectronic components described here as well as the method described here will be explained in more detail on the basis of exemplary embodiments and the associated figures.

Es zeigen:

  • 1A, 1B, 1C, 2A und 2B schematische Schnittdarstellungen in Draufsicht von Ausführungsbeispielen eines hier beschriebenen optoelektronischen Bauteils,
  • 3A, 3B, 3C, 3D und 3E schematische Schnittdarstellungen von Verfahrensschritten eines Ausführungsbeispiels eines hier beschriebenen Verfahrens zur Herstellung eines optoelektronischen Bauteils.
Show it:
  • 1A . 1B . 1C . 2A and 2 B schematic sectional views in plan view of embodiments of an optoelectronic device described here,
  • 3A . 3B . 3C . 3D and 3E schematic sectional views of method steps of an embodiment of a method described here for producing an optoelectronic device.

Gleiche, gleichartige oder gleichwirkende Elemente sind in den Figuren mit den gleichen Bezugszeichen versehen. Die Figuren und die Größenverhältnisse der in den Figuren dargestellten Elemente untereinander sind nicht als maßstäblich zu betrachten. Vielmehr können einzelne Elemente zur besseren Darstellbarkeit und/oder für eine bessere Verständlichkeit übertrieben groß dargestellt sein.The same, similar or equivalent elements are provided in the figures with the same reference numerals. The figures and the proportions of the elements shown in the figures with each other are not to be considered to scale. Rather, individual elements may be exaggerated in size for better representability and / or better intelligibility.

Die schematischen Schnittdarstellungen in Draufsicht der 1A, 1B und 1C zeigen Ausführungsbeispiele eines hier beschriebenen optoelektronischen Halbleiterchips. The schematic sectional views in plan view of 1A . 1B and 1C show exemplary embodiments of an optoelectronic semiconductor chip described here.

Gemäß 1A umfasst das optoelektronische Bauteil 1 drei Halbleiterchips, die beispielsweise strahlungsemittierende Halbleiterchips R, G, B sind, und ein Kontaktelement 2. Die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B sind im Betrieb zur Erzeugung von Licht unterschiedlicher Farbe ausgebildet. Ein strahlungsemittierender Halbleiterchip emittiert Licht roter Farbe R, ein anderer strahlungsemittierender Halbleiterchip emittiert Licht grüner Farbe G und ein anderer strahlungsemittierender Halbleiterchip emittiert Licht blauer Farbe B. Die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B sind hier lateral beabstandet in einer Ebene in einem Dreieck angeordnet. Zudem ist das Kontaktelement 2 lateral beabstandet in einer Ebene zu den strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B angeordnet.According to 1A includes the optoelectronic component 1 three semiconductor chips, for example, the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B are, and a contact element 2 , The radiation-emitting semiconductor chips R . G . B are designed to generate light of different colors during operation. A radiation-emitting semiconductor chip emits light of red color R , another radiation-emitting semiconductor chip emits light of green color G and another radiation-emitting semiconductor chip emits light of blue color B , The radiation-emitting semiconductor chips R . G . B are here laterally spaced in a plane arranged in a triangle. In addition, the contact element 2 laterally spaced in a plane to the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B arranged.

Ein Umhüllungskörper 4 umgibt die Seitenflächen der strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B und die Seitenflächen des Kontaktelements 2 dabei vollständig. Die Deckfläche und die Bodenfläche der strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B und des Kontaktelements 2 schließen mit der Deckfläche und der Bodenfläche des Umhüllungskörpers 4 jeweils plan ab.A wrapping body 4 surrounds the side surfaces of the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and the side surfaces of the contact element 2 completely. The top surface and the bottom surface of the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and the contact element 2 close with the top surface and the bottom surface of the wrapping body 4 each plan off.

Jeder strahlungsemittierende Halbleiterchips R, G, B ist mit dem Kontaktelement 2 über jeweils eine elektrisch leitende Verbindung 3 an der Deckfläche des optoelektronischen Bauteils 1a miteinander verbunden.Each radiation-emitting semiconductor chip R . G . B is with the contact element 2 each with an electrically conductive connection 3 on the top surface of the optoelectronic device 1a connected with each other.

Das Kontaktelement 2 ist als Anode ausgebildet und kann an der Bodenfläche des Kontaktelements kontaktiert werden. Zudem können die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B jeweils über ihre Bodenfläche kontaktiert werden und bilden jeweils eine Kathode. Das heißt, das optoelektronische Bauteil 1 kann über eine gemeinsame Anode und drei verschiedene Kathoden bestromt werden.The contact element 2 is formed as an anode and can be contacted on the bottom surface of the contact element. In addition, the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B are each contacted via their bottom surface and each form a cathode. That is, the optoelectronic component 1 can be energized via a common anode and three different cathodes.

Gemäß 1B sind die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B lateral beabstandet in einer Ebene entlang einer Zeile angeordnet. Die weiteren Merkmale sind analog zu den Merkmalen gemäß in 1A beschrieben.According to 1B are the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B laterally spaced apart in a plane along a line. The further features are analogous to the features according to FIG 1A described.

Gemäß 1C und analog zu 1B sind die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B entlang einer Zeile angeordnet. Das optoelektronische Bauteil 1 weist im Unterschied zu 1A und 1B kein gemeinsames Kontaktelement 2 auf, sondern umfasst drei Kontaktelemente 2, die lateral beabstandet in einer Ebene entlang einer Zeile angeordnet sind. Jeder strahlungsemittierende Halbleiterchip R, G, B ist mit jeweils einem Kontaktelement 2 über jeweils eine elektrisch leitende Verbindung 3 an der Deckfläche des optoelektronischen Bauteils 1a miteinander verbunden.According to 1C and analogously to 1B are the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B arranged along a line. The optoelectronic component 1 points in contrast to 1A and 1B no common contact element 2 but includes three contact elements 2 which are laterally spaced apart in a plane along a line. Each radiation-emitting semiconductor chip R . G . B is each with a contact element 2 each with an electrically conductive connection 3 on the top surface of the optoelectronic device 1a connected with each other.

Die Kontaktelemente 2 sind als Anode ausgebildet und können an der Bodenfläche des jeweiligen Kontaktelements kontaktiert werden. Zudem können die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B jeweils über ihre Bodenfläche kontaktiert werden und bilden jeweils eine Kathode. Das heißt, das optoelektronische Bauteil 1 kann über drei verschiedene Anoden und drei verschiedene Kathoden bestromt werden. Hier sind jedem strahlungsemittierenden Halbleiterchip R, G, B eine Kathode und eine Anode zugeordnet.The contact elements 2 are formed as anodes and can be contacted on the bottom surface of the respective contact element. In addition, the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B are each contacted via their bottom surface and each form a cathode. That is, the optoelectronic component 1 can be energized via three different anodes and three different cathodes. Here are each radiation-emitting semiconductor chip R . G . B associated with a cathode and an anode.

Die schematischen Schnittdarstellungen der 2A und 2B zeigen ein Ausführungsbeispiel eines hier beschriebenen strahlungsemittierenden Bauteils.The schematic sectional views of 2A and 2 B show an embodiment of a radiation-emitting component described here.

Gemäß 2A ist die Oberfläche des optoelektronischen Bauteils 1a dargestellt. Das optoelektronische Bauteil 1 umfasst neun strahlungsemittierende Halbleiterchips R, G, B und drei Kontaktelemente 2. Die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B sind matrixartig, also angeordnet entlang von Zeilen und Spalten, in einer Ebene angeordnet. Das heißt, die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B sind an Gitterpunkten eines regelmäßigen Gitters angeordnet. Zudem sind die Kontaktelemente 2 lateral beabstandet zu den äußeren strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B in einer Ebene strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B angeordnet.According to 2A is the surface of the optoelectronic component 1a shown. The optoelectronic component 1 includes nine radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and three contact elements 2 , The radiation-emitting semiconductor chips R . G . B are arranged in a matrix, ie arranged along rows and columns, in one plane. That is, the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B are arranged at grid points of a regular grid. In addition, the contact elements 2 laterally spaced apart from the outer radiation-emitting semiconductor chips R . G . B in a plane of radiation-emitting semiconductor chips R . G . B arranged.

Die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B, die in einer gemeinsamen Spalte angeordnet sind, sind mit jeweils einem Kontaktelement 2 über jeweils eine elektrisch leitende Verbindung 3 an der Deckfläche des optoelektronischen Bauteils 1a miteinander verbunden. Die elektrisch leitenden Verbindungen 3 verbinden also jeweils drei strahlungsemittierende Halbleiterchips R, G, B in einer gemeinsamen Spalte und jeweils ein Kontaktelement 2 miteinander.The radiation-emitting semiconductor chips R . G . B , which are arranged in a common column, each with a contact element 2 each with an electrically conductive connection 3 on the top surface of the optoelectronic device 1a connected with each other. The electrically conductive connections 3 Thus, in each case connect three radiation-emitting semiconductor chips R . G . B in a common column and one contact element each 2 together.

Gemäß 2B sind die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B, die in einer gemeinsamen Zeile angeordnet sind, über jeweils eine elektrisch leitende Verbindung 3 an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils 1b miteinander verbunden. Die elektrisch leitende Verbindung 3 verbindet also drei strahlungsemittierende Halbleiterchips R, G, B in jeweils einer Zeile miteinander.According to 2 B are the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B , which are arranged in a common row, each via an electrically conductive connection 3 on the bottom surface of the optoelectronic device 1b connected with each other. The electrically conductive connection 3 thus connects three radiation-emitting semiconductor chips R . G . B in each case in a row with each other.

Die elektrisch leitenden Verbindungen können an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils 1b jeweils kontaktiert werden. Zudem können die Kontaktelemente 2 jeweils über ihre Bodenfläche, an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils 1b, kontaktiert werden. Das heißt, dass die neun strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B mit sechs Kontaktierungen einzeln betrieben werden können. Diese Technik kann beliebig skaliert werden. Das heißt, dass NxM strahlungsemittierende Halbleiterchips R, G, B in einer NxM Matrix angeordnet werden können, wobei N und M jeweils eine natürliche Zahl größer gleich 2 darstellt. Diese NxM große Matrix wird dann mit N+M Kontakten bestromt, wobei jeder der NxM strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B einzeln angesteuert werden kann. Das optoelektronische Bauteil 1 umfasst dabei N oder M Kontaktelemente 3 und N oder M elektrisch leitende Verbindungen 3 an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils 1b.The electrically conductive connections may be on the bottom surface of the optoelectronic device 1b each be contacted. In addition, the contact elements 2 each on their bottom surface, on the bottom surface of the optoelectronic device 1b , be contacted. That is, the nine radiation-emitting semiconductor chips R . G . B can be operated individually with six contacts. This technique can be scaled arbitrarily. That is, NxM radiation-emitting semiconductor chips R . G . B can be arranged in an NxM matrix, where N and M each represent a natural number greater than or equal to 2. This NxM matrix is then energized with N + M contacts, each of the NxM radiation-emitting semiconductor chips R . G . B can be controlled individually. The optoelectronic component 1 includes N or M contact elements 3 and N or M electrically conductive compounds 3 on the bottom surface of the optoelectronic device 1b ,

In Verbindung mit den 3A, 3B, 3C, 3D und 3E ist ein Ausführungsbeispiel für ein Herstellungsverfahren für hier beschriebene strahlungsemittierte Bauteile dargestellt.In conjunction with the 3A . 3B . 3C . 3D and 3E an embodiment of a manufacturing method for radiation-described components described here is shown.

Gemäß 3A wird ein temporärer Träger 5 bereitgestellt auf den eine Folie 6 an der Deckfläche des temporären Trägers aufgebracht wird. Die Folie 6 ist eine doppelseitige Klebefolie. Die Bodenfläche und die Deckfläche der Folie 6 bilden beispielsweise bei Raumtemperatur adhäsive Kräfte aus. Wird die Folie 6 beispielsweise erhitzt, so verringern sich die adhäsiven Kräfte. Die Bodenfläche der Folie 6 ist in direktem und unmittelbarem Kontakt mit der Deckfläche des temporären Trägers 6. Durch die Adhäsionskräfte der Bodenfläche der Folie 6 ist die Folie mit dem temporären Träger 5 mechanisch fest verbunden.According to 3A becomes a temporary carrier 5 provided on the one foil 6 is applied to the top surface of the temporary carrier. The foil 6 is a double-sided adhesive film. The bottom surface and the top surface of the film 6 For example, form adhesive forces at room temperature. Will the film 6 For example, heated, so reduce the adhesive forces. The bottom surface of the film 6 is in direct and direct contact with the top surface of the temporary support 6 , Due to the adhesion forces of the bottom surface of the film 6 is the foil with the temporary carrier 5 mechanically firmly connected.

Auf die Folie 6 werden drei strahlungsemittierende Halbleiterchips R, G, B und ein Kontaktelement 2 aufgebracht. Die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B und das Kontaktelement 2 werden mit einer definierten Andruckkraft auf die Folie 6 aufgebracht. Die Adhäsionskräfte der Folie 6 befestigen die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B und das Kontaktelement 2 auf der Deckfläche der Folie 6 und verhindern ein Verrutschen der strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B und des Kontaktelements 2 bei weiteren Verfahrensschritten.On the slide 6 become three radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and a contact element 2 applied. The radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and the contact element 2 are applied to the film with a defined pressure force 6 applied. The adhesion forces of the film 6 attach the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and the contact element 2 on the top surface of the film 6 and prevent slippage of the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and the contact element 2 in further process steps.

In 3B ist eine schematische Schnittdarstellung einer Seitenansicht entlang des Schnitts S1 in 3A dargestellt. Die Deckflächen der strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B und das Kontaktelement 2 liegen in einer gemeinsamen Ebene. Das heißt, die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B und das Kontaktelement 2 weisen die gleichen Höhen auf. Des Weiteren sind die Elemente auf der Folie 6 fest aufgebracht.In 3B is a schematic sectional view of a side view along the section S1 in 3A shown. The top surfaces of the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and the contact element 2 lie in a common plane. That is, the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and the contact element 2 have the same heights. Furthermore, the elements are on the slide 6 firmly applied.

Gemäß 3C wird in einem weiteren Verfahrensschritt das Umhüllungsmaterial 7 auf die Deckfläche der Folie 6 aufgebracht. Das Umhüllungsmaterial 7 bedeckt dabei die Seitenflächen der strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B und des Kontaktelements 2 vollständig. Nach dem Schritt des Aufbringens des Umhüllungsmaterials 7 wird das Umhüllungsmaterial 7 zu einem Umhüllungskörper 4 ausgehärtet. According to 3C In a further process step, the wrapping material 7 on the top surface of the film 6 applied. The wrapping material 7 covers the side surfaces of the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and the contact element 2 Completed. After the step of applying the wrapping material 7 becomes the wrapping material 7 to a wrapping body 4 hardened.

Zusätzlich wird zur Verbindung der strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B und des Kontaktelements 2 eine elektrisch leitfähige Verbindung 3 auf die Deckfläche des optoelektronischen Bauteils 1a aufgebracht. Zwischen den strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B und zwischen dem strahlungsemittierenden Halbleiterchip G und dem Kontaktelement 2 ist die elektrisch leitfähige Verbindung 3 auf dem Umhüllungskörper 4 angeordnet.In addition, for connecting the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and the contact element 2 an electrically conductive connection 3 on the top surface of the optoelectronic device 1a applied. Between the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and between the radiation-emitting semiconductor chip G and the contact element 2 is the electrically conductive connection 3 on the wrapping body 4 arranged.

In den 3D und 3E sind schematische Schnittdarstellungen jeweils einer Seitenansicht entlang des Schnitts S2 in 3C dargestellt.In the 3D and 3E are schematic sectional views of a side view along the section S2 in 3C shown.

Gemäß 3D schließt die Deckfläche des Umhüllungsmaterials 7 bündig mit den Deckflächen der strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B und des Kontaktelements 2 ab.According to 3D closes the top surface of the wrapping material 7 flush with the top surfaces of the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B and the contact element 2 from.

Gemäß 3E wird vor oder nach dem Vereinzeln der temporäre Träger 5 und die Folie 6 entfernt. Durch Erhitzen verliert die Folie 6 die adhäsiven Kräfte und verliert ihre Klebewirkung. Das heißt, durch Erhitzen wird die Anordnung umfassend die strahlungsemittierenden Halbleiterchips R, G, B, das Kontaktelement 2 und den Umhüllungskörper 4 von der Folie 6 abgelöst. Das heißt auch der temporäre Träger 5 wird von der Anordnung entfernt.According to 3E is before or after separating the temporary carrier 5 and the foil 6 away. By heating, the film loses 6 the adhesive forces and loses their adhesive effect. That is, by heating, the device comprising the radiation-emitting semiconductor chips R . G . B , the contact element 2 and the wrapping body 4 from the slide 6 replaced. This also means the temporary carrier 5 is removed from the assembly.

Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele auf diese beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist.The invention is not limited by the description based on the embodiments of these. Rather, the invention encompasses any novel feature as well as any combination of features, including in particular any combination of features in the claims, even if this feature or combination itself is not explicitly stated in the claims or exemplary embodiments.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
optoelektronisches Bauteilopto-electronic component
1a1a
Deckfläche optoelektronisches BauteilCover surface optoelectronic component
1b1b
Bodenfläche optoelektronisches BauteilFloor surface optoelectronic component
RR
optoelektronischer Halbleiterchip, rotes Lichtoptoelectronic semiconductor chip, red light
GG
optoelektronischer Halbleiterchip, grünes Lichtoptoelectronic semiconductor chip, green light
BB
optoelektronischer Halbleiterchip, blaues Lichtoptoelectronic semiconductor chip, blue light
22
Kontaktelementcontact element
33
Verbindungconnection
44
Umhüllungskörpercovering body
55
temporärer Trägertemporary carrier
66
Foliefoil
77
Umhüllungsmaterialwrapping material
S1S1
Schnitt 1 cut 1
S2S2
Schnitt 2 cut 2

Claims (17)

Optoelektronisches Bauteil (1) mit - zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B), die dazu ausgebildet sind im Betrieb Licht unterschiedlicher Farbe zu emittieren oder zu detektieren, - einem Kontaktelement (2), zur elektrischen Kontaktierung zumindest einer der optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B), - einer elektrisch leitenden Verbindung (3), die zumindest einen der optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B) mit dem Kontaktelement (2) elektrisch leitend verbindet, und - einem Umhüllungskörper (4), der elektrisch isolierend ist, wobei - die optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B) und das Kontaktelement (2) in den Umhüllungskörper (4) eingebettet sind, und - die elektrisch leitende Verbindung (3) stellenweise auf dem Umhüllungskörper (4) angeordnet ist.Optoelectronic component (1) with - at least two optoelectronic semiconductor chips (R, G, B), which are designed to emit or detect light of different colors during operation, - a contact element (2), for electrically contacting at least one of the optoelectronic semiconductor chips ( R, G, B), - an electrically conductive connection (3) which electrically conductively connects at least one of the optoelectronic semiconductor chips (R, G, B) to the contact element (2), and - a cladding body (4) which is electrically insulating, wherein - the optoelectronic semiconductor chips ( R, G, B) and the contact element (2) are embedded in the covering body (4), and - the electrically conductive connection (3) is arranged in places on the covering body (4). Optoelektronisches Bauteil (1) nach dem vorherigen Anspruch mit zumindest zwei elektrisch leitenden Verbindungen (3), bei dem die zumindest zwei elektrisch leitenden Verbindungen (3) das Kontaktelement (2) und jeweils einen der zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B) elektrisch leitend verbinden.Optoelectronic component (1) according to the preceding claim with at least two electrically conductive connections (3), in which the at least two electrically conductive connections (3) the contact element (2) and one of the at least two optoelectronic semiconductor chips (R, G, B) connect electrically conductive. Optoelektronisches Bauteil (1) nach dem Anspruch 1 mit zumindest zwei Kontaktelementen (2) und zumindest zwei elektrisch leitenden Verbindungen (3), bei dem die zumindest zwei elektrisch leitenden Verbindungen (3) jeweils eines der zumindest zwei Kontaktelemente (2) und jeweils einen der zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips(R,G,B) elektrisch leitend verbinden.Optoelectronic component (1) after the Claim 1 with at least two contact elements (2) and at least two electrically conductive connections (3), in which the at least two electrically conductive connections (3) each have one of the at least two contact elements (2) and one of the at least two optoelectronic semiconductor chips (R, G, B) electrically conductively connect. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorherigen Ansprüche, bei dem die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung (3) auf einer Deckfläche des optoelektronischen Bauteils (1a) angeordnet ist.Optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which the at least one electrically conductive connection (3) is arranged on a cover surface of the optoelectronic component (1a). Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorherigen Ansprüche, bei dem die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung (3) die zumindest zwei optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B) elektrisch leitend miteinander verbindet.Optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which the at least one electrically conductive connection (3) electrically conductively connects the at least two optoelectronic semiconductor chips (R, G, B) to one another. Optoelektronisches Bauteil (1) nach dem vorherigen Anspruch, bei dem die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung (3) an einer Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils (1b) angeordnet ist.Optoelectronic component (1) according to the preceding claim, in which the at least one electrically conductive connection (3) is arranged on a bottom surface of the optoelectronic component (1b). Optoelektronisches Bauteil (1) nach dem vorherigen Anspruch, bei dem eine Bodenfläche der zumindest einen elektrisch leitenden Verbindung (3) frei zugänglich ist.Optoelectronic component (1) according to the preceding claim, wherein a bottom surface of the at least one electrically conductive connection (3) is freely accessible. Optoelektronisches Bauteil (1) nach dem vorherigen Anspruch, bei dem die Bodenfläche der zumindest einen elektrisch leitenden Verbindung (3) als Kontaktfläche ausgebildet ist.Optoelectronic component (1) according to the preceding claim, wherein the bottom surface of the at least one electrically conductive connection (3) is designed as a contact surface. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorherigen Ansprüche, bei dem eine Bodenfläche des zumindest einen Kontaktelements (2) frei zugänglich ist und als Kontaktfläche ausgebildet ist.Optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which a bottom surface of the at least one contact element (2) is freely accessible and is designed as a contact surface. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorherigen Ansprüche mit zumindest zwei elektrisch leitenden Verbindungen (3), bei dem die zumindest eine elektrisch leitende Verbindung (3) an der Bodenfläche (1b) und zumindest eine elektrisch leitende Verbindung (3) an der Deckfläche des optoelektronischen Bauteils (1a) angeordnet ist.Optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims with at least two electrically conductive connections (3), in which the at least one electrically conductive connection (3) on the bottom surface (1b) and at least one electrically conductive connection (3) on the top surface of the optoelectronic component (1a) is arranged. Optoelektronisches Bauteil (1) nach dem vorherigen Anspruch mit zumindest vier elektrisch leitenden Verbindungen (3), zumindest vier optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B) und zumindest zwei Kontaktelementen (2), bei dem - die zumindest zwei Kontaktelemente (2) und die zumindest vier optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B) durch die zumindest zwei elektrisch leitenden Verbindungen (3) an der Deckfläche des optoelektronischen Bauteils (1a) miteinander spalten- oder zeilenweise verbunden sind, und - zumindest zwei weitere elektrisch leitende Verbindungen (3), die zumindest vier optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B) an der Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils (1b) miteinander zeilen- oder spaltenweise verbinden.Optoelectronic component (1) according to the preceding claim with at least four electrically conductive connections (3), at least four optoelectronic semiconductor chips (R, G, B) and at least two contact elements (2), in which - The at least two contact elements (2) and the at least four optoelectronic semiconductor chips (R, G, B) by the at least two electrically conductive connections (3) on the top surface of the optoelectronic device (1a) are connected to each other in columns or lines, and - At least two further electrically conductive connections (3), the line at least four optoelectronic semiconductor chips (R, G, B) on the bottom surface of the optoelectronic device (1b) line or connect columns. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorherigen Ansprüche, bei dem das zumindest eine Kontaktelement (2) einen integrierten Schaltkreis umfasst.Optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which the at least one contact element (2) comprises an integrated circuit. Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauteils (1) mit den folgenden Schritten: - Bereitstellen eines temporären Trägers (5), - Aufbringen einer Folie (6) an einer Deckfläche des temporären Trägers (5), - Aufbringen einer Vielzahl von optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B) auf die Folie (6), - Aufbringen einer Vielzahl von Kontaktelementen (2) auf die Folie (6), - Einbetten der optoelektronischen Halbleiterchips (R,G,B) und der Kontaktelemente (2) mit einem Umhüllungsmaterial (7), - Vereinzeln zu optoelektronischen Bauteilen (1), die jeweils zumindest zwei optoelektronische Halbleiterchips (R,G,B), die dazu ausgebildet sind im Betrieb Licht unterschiedlicher Farbe zu emittieren oder zu detektieren, umfassen.Method for producing an optoelectronic component (1) with the following steps: Providing a temporary carrier (5), Applying a film (6) to a top surface of the temporary carrier (5), Applying a plurality of optoelectronic semiconductor chips (R, G, B) to the film (6), Applying a plurality of contact elements (2) to the film (6), Embedding the optoelectronic semiconductor chips (R, G, B) and the contact elements (2) with a cladding material (7), - Separate to optoelectronic components (1), each comprising at least two optoelectronic semiconductor chips (R, G, B), which are adapted to emit light of different colors in operation or to detect include. Verfahren nach dem vorherigen Anspruch, wobei der temporäre Träger (5) vor dem Schritt des Vereinzelns entfernt wird.Method according to the preceding claim, wherein the temporary carrier (5) is removed before the step of singulating. Verfahren nach dem vorherigen Anspruch 13, wobei der temporäre Träger (5) nach dem Schritt des Vereinzelns entfernt wird.Procedure after the previous one Claim 13 wherein the temporary carrier (5) is removed after the step of singulating. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei nach dem Schritt des Einbettens eine Vielzahl von elektrisch leitenden Verbindungen (3) an einer Deckfläche des optoelektronischen Bauteils (1a) aufgebracht wird.Method according to one of the preceding claims, wherein after the step of embedding on a plurality of electrically conductive connections (3) a top surface of the optoelectronic component (1a) is applied. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei nach dem Entfernen des temporären Trägers (5) eine Vielzahl von elektrisch leitenden Verbindungen (3) an einer Bodenfläche des optoelektronischen Bauteils (1b) aufgebracht wird.Method according to one of the preceding claims, wherein after the removal of the temporary carrier (5) a plurality of electrically conductive connections (3) is applied to a bottom surface of the optoelectronic component (1b).
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