DE102017221023A1 - DEVICE FOR MONITORING AT LEAST ONE TIP AT LEAST ONE MIRROR - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Überwachung mindestens einer Kippstellung mindestens eines Spiegels (30) mit mindestens einem Satz diskreter Lichtquellen (20) und mindestens einer Erfassungseinrichtung (5), die das von dem Spiegel reflektierte Licht der Lichtquellen des Satzes diskreter Lichtquellen erfasst, wobei die Erfassungseinrichtung einen Sensor (51) und ein Objektiv (50) aufweist, und wobei die Vorrichtung weiterhin einen Transmissionsfilter (4) mit örtlich variierender Transmission aufweist, der so zwischen Spiegel (30) und Erfassungseinrichtung (5) oder in der Erfassungseinrichtung angeordnet ist, dass das von dem Spiegel reflektierte Licht der Lichtquellen durch den Transmissionsfilter hindurch tritt, wobei der Satz diskreter Lichtquellen (20) so ausgebildet ist, dass die diskreten Lichtquellen der Reihe nach an - und ausschaltbar sind, und wobei die Erfassungseinrichtung so ausgebildet und angeordnet ist, dass bei der zu überwachenden Kippstellung des Spiegels der Spiegel oder der Satz diskreter Lichtquellen auf den Sensor der Erfassungseinrichtung abgebildet werden.The present invention relates to a method and a device for monitoring at least one tilted position of at least one mirror (30) with at least one set of discrete light sources (20) and at least one detection device (5) which detects the light of the light sources of the set of discrete light sources reflected by the mirror wherein the detection device comprises a sensor (51) and a lens (50), and wherein the device further comprises a transmission filter (4) with locally varying transmission, thus between mirror (30) and detection device (5) or in the detection device arranged such that the light of the light sources reflected by the mirror passes through the transmission filter, wherein the set of discrete light sources (20) is configured such that the discrete light sources can be switched on and off in sequence, and wherein the detection device is designed and is arranged that at the to be supervised ends of the mirror or the set of discrete light sources can be imaged onto the sensor of the detection device.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Überwachung mindestens einer Kippstellung mindestens eines kippbaren Spiegels.The present invention relates to a device and a method for monitoring at least one tilted position of at least one tiltable mirror.

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen dienen zur Herstellung von mikrostrukturierten Bauelementen mittels eines photolithographischen Verfahrens. Dabei wird eine strukturtragende Maske, das sogenannte Retikel, mit Hilfe einer Lichtquelleneinheit und einer BeLichtungsoptik beLichtet und mit Hilfe einer Projektionsoptik auf eine photosensitive Schicht abgebildet. Hierfür stellt die Lichtquelleneinheit eine Strahlung zur Verfügung, die in der BeLichtungsoptik zur BeLichtung des Retikels aufbereitet wird. Die BeLichtungsoptik dient dazu, am Ort der strukturtragenden Maske eine gleichmäßige Aus-Lichtung mit einer vorbestimmten winkelabhängigen Intensitätsverteilung zur Verfügung zu stellen. Hierzu sind innerhalb der BeLichtungsoptik verschiedene geeignete optische Elemente vorgesehen.Microlithography projection exposure equipment is used for the production of microstructured components by means of a photolithographic process. In this case, a structure-carrying mask, the so-called reticle, with the aid of a light source unit and a BeLichtungsoptik beLichtet and imaged using a projection optics on a photosensitive layer. For this purpose, the light source unit provides a radiation which is processed in the illumination optics for illuminating the reticle. The illumination optics serve to provide uniform out-of-plane illumination with a predetermined angle-dependent intensity distribution at the location of the structure-supporting mask. For this purpose, various suitable optical elements are provided within the BeLichtungsoptik.

Die so ausgeLichtete strukturtragende Maske wird mit Hilfe der Projektionsoptik auf eine photosensitive Schicht abgebildet. Dabei wird die minimale Strukturbreite, die mit Hilfe einer solchen Projektionsoptik abgebildet werden kann, unter anderem durch die Wellenlänge der verwendeten Strahlung bestimmt. Je kleiner die Wellenlänge der Strahlung ist, desto kleinere Strukturen können mit Hilfe der Projektionsoptik abgebildet werden. Aus diesem Grund ist es vorteilhaft Strahlung mit einer Wellenlänge im Bereich von 5 nm bis 15 nm zu verwenden. Strahlung in diesem Wellenlängenbereich wird als extrem ultraviolettes Licht (EUV - Licht) bezeichnet.The so-structured structure-bearing mask is imaged onto a photosensitive layer with the aid of projection optics. In this case, the minimum structure width that can be imaged with the aid of such projection optics is determined inter alia by the wavelength of the radiation used. The smaller the wavelength of the radiation, the smaller the structures can be imaged using the projection optics. For this reason, it is advantageous to use radiation having a wavelength in the range of 5 nm to 15 nm. Radiation in this wavelength range is called extreme ultraviolet (EUV) light.

Bei BeLichtungssystemen, die in entsprechenden Projektionsbelichtungsanlagen beispielsweise im Wellenlängenbereich des extrem ultravioletten (EUV) Spektrums, also bei Wellenlängen im Bereich von beispielsweise 13 nm arbeiten, werden Facettenspiegelanordnungen in einer Feldebene eingesetzt, die aus einer Vielzahl von verkippbaren Spiegeln, den Feldfacettenspiegeln oder Spiegelfacetten, bestehen. Die Spiegelfacetten, die um mindestens eine Achse, meist aber um zwei quer zueinander angeordnete Achsen verkippbar sind, bestimmen die Intensitätsverteilung in einer Pupillenebene, die wiederum optisch konjugiert zur Eintrittspupillenebene der Projektionsoptik ist, sodass die Intensitätsverteilung der Strahlung in der Pupillenebene des BeLichtungssystems die winkelabhängige Intensitätsverteilung der Strahlung im Bereich des Objektfeldes bestimmt.In illumination systems operating in corresponding projection exposure systems, for example in the wavelength range of the extreme ultraviolet (EUV) spectrum, ie at wavelengths in the range of, for example, 13 nm, facet mirror arrays are used in a field plane consisting of a plurality of tiltable mirrors, the field facet mirrors or mirror facets , The mirror facets, which can be tilted about at least one axis, but usually about two axes arranged transversely to one another, determine the intensity distribution in a pupil plane, which in turn is optically conjugate to the entrance pupil plane of the projection optics, so that the intensity distribution of the radiation in the pupil plane of the illumination system determines the angle-dependent intensity distribution the radiation in the area of the object field determined.

Aus diesem Grund muss die Einstellung der Spiegelfacetten, also deren Orientierung bzw. Ausrichtung, exakt gewählt werden. Folglich ist es auch wichtig, dass die Einstellung bzw. Ausrichtung der Spiegel, also deren Verkippungswinkel um eine oder mehrere Drehachsen, genau bestimmt werden kann. Deshalb sind auch im Stand der Technik bereits Verfahren und Vorrichtungen zur Bestimmung und Überwachung der Kippwinkel von Spiegelanordnungen beschrieben. Beispiele hierfür sind in der DE 10 2009 009 372 A1 , WO 2010/094658 A1 , WO 2009/015845 A1 , US 2012/0293784A1 , WO 2008/095695 A2 und DE 10 2013 217 655 A1 gegeben.For this reason, the setting of the mirror facets, ie their orientation or orientation, must be selected exactly. Consequently, it is also important that the adjustment or alignment of the mirror, ie its tilt angle about one or more axes of rotation, can be determined exactly. Therefore, methods and devices for determining and monitoring the tilt angles of mirror arrangements are already described in the prior art. Examples are in the DE 10 2009 009 372 A1 . WO 2010/094658 A1 . WO 2009/015845 A1 . US 2012 / 0293784A1 . WO 2008/095695 A2 and DE 10 2013 217 655 A1 given.

Allerdings besteht trotz der vorgeschlagenen Lösungen weiterhin der Bedarf an einem einfachen, effektiv und zuverlässig arbeitendem Überwachungssystem, welches die Kippstellung der kippbaren Spiegelfacetten bzw. von Spiegeln allgemein schnell und hochpräzise erfassen kann, um in Regelkreisen zur Kippwinkelregelung der Feldfacetten bzw. Spiegel verwendet zu werden. Darüber hinaus muss darauf geachtet werden, dass sich das entsprechende Messverfahren bzw. das korrespondierende Messsystem hinsichtlich der Vakuumtauglichkeit, der Materialverträglichkeit usw. in eine Projektionsbelichtungsanlage und insbesondere in ein BeLichtungssystem davon integrieren lässt.However, despite the proposed solutions, there is still a need for a simple, effective and reliable monitoring system which can detect the tilt of the tiltable mirror facets or mirrors generally quickly and with high precision to be used in control circuits for tilting the field facets or mirrors. In addition, care must be taken that the corresponding measuring method or the corresponding measuring system with regard to the vacuum compatibility, the material compatibility, etc. can be integrated into a projection exposure apparatus and in particular into a lighting system thereof.

OFFENBARUNG DER ERFINDUNGDISCLOSURE OF THE INVENTION

AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION

Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Überwachungseinrichtung zur Bestimmung und/oder Überwachung der Position und/oder Orientierung bzw. Kippstellung von insbesondere kippbaren Spiegeln und ein entsprechendes Verfahren hierzu bereitzustellen sowie eine Projektionsbelichtungsanlage und insbesondere ein BeLichtungssystem vorzugsweise einer EUV- Projektionsbelichtungsanlage bereitzustellen, welches eine geeignete Vorrichtung zur Überwachung der Kippstellung von Spiegeln aufweist. Darüber hinaus soll ein entsprechendes Betriebsverfahren zum Betrieb einer derartigen Vorrichtung angegeben werden. Die entsprechenden Vorrichtungen und Verfahren sollen eine hochpräzise und schnelle Überwachung der Ausrichtung von Spiegeln ermöglichen und einfach in eine Projektionsbelichtungsanlage integrierbar sein.It is therefore an object of the present invention to provide a monitoring device for determining and / or monitoring the position and / or orientation or tilting position of, in particular, tiltable To provide mirrors and a corresponding method for this purpose, as well as to provide a projection exposure apparatus and in particular a lighting system, preferably an EUV projection exposure apparatus, which has a suitable device for monitoring the tilting position of mirrors. In addition, a corresponding operating method for operating such a device should be specified. The corresponding devices and methods are to allow a high-precision and rapid monitoring of the alignment of mirrors and be easily integrated into a projection exposure system.

TECHNISCHE LÖSUNGTECHNICAL SOLUTION

Diese Aufgabe wird gelöst mit einer Vorrichtung zur Überwachung der Kippstellung mindestens eines Spiegels mit den Merkmalen von Anspruch 1 und einem Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 11 sowie einer Projektionsbelichtungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 14. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.This object is achieved with a device for monitoring the tilted position of at least one mirror with the features of claim 1 and a method having the features of claim 11 and a projection exposure apparatus with the features of claim 14. Advantageous embodiments are the subject of the dependent claims.

Die vorliegende Erfindung schlägt zur Überwachung mindestens einer Kippstellung mindestens eines Spiegels, insbesondere eines um mindestens eine Drehachse kippbaren Spiegels, eine Vorrichtung vor, die mindestens einen Satz diskreter Lichtquellen und mindestens eine Erfassungseinrichtung aufweist. Das Licht der Lichtquellenanordnung aus einem Satz diskreter Lichtquellen wird von dem zu überwachendem Spiegel in die Erfassungseinrichtung reflektiert, wobei die Erfassungseinrichtung einen Sensor und ein Objektiv aufweist, um das von dem mindestens einem Spiegel reflektierte Licht zu erfassen. Darüber hinaus weist die erfindungsgemäße Vorrichtung einen Transmissionsfilter mit örtlich variierender Transmission auf, der zwischen dem Spiegel und der Erfassungseinrichtung oder in der Erfassungseinrichtung angeordnet ist. Unter einem Transmissionsfilter mit örtlich variierender Transmission wird hierbei ein Filter verstanden, der eine über der Filterfläche unterschiedliche Transmission des reflektierten Lichts ermöglicht. Damit ist es möglich, Intensitäten der reflektierten Lichtstrahlen entsprechend dem Durchtrittspunkt der Lichtstrahlen durch den Transmissionsfilter mit der Erfassungseinrichtung zu erfassen, wobei unterschiedliche Durchtrittspunkte der Lichtstrahlen durch den Transmissionsfilter auf Grund des Ursprungs von unterschiedlichen Lichtquellen zu einer auf Grund der örtlich variierenden Transmission des Transmissionsfilters unterschiedlichen Intensität der von der Erfassungseinrichtung erfassten Lichtstrahlen führen, sodass bei bekannter Ausgangsintensität der von den Lichtquellen der Lichtquellenanordnung erzeugten Lichtstrahlen und einer gegebenen Reflektivität des Spiegels der Durchtrittspunkt der reflektierten Lichtstrahlen durch den Transmissionsfilter aufgrund der durchgelassenen Intensität bestimmbar ist. Mit den Durchtrittspunkten durch den Transmissionsfilter lässt sich die Kippstellung des oder der Spiegel bestimmen.In order to monitor at least one tilted position of at least one mirror, in particular a mirror which can be tilted about at least one axis of rotation, the present invention proposes a device which has at least one set of discrete light sources and at least one detection device. The light of the light source arrangement comprising a set of discrete light sources is reflected by the mirror to be monitored into the detection device, the detection device having a sensor and an objective in order to detect the light reflected by the at least one mirror. In addition, the device according to the invention has a transmission filter with locally varying transmission, which is arranged between the mirror and the detection device or in the detection device. In this case, a transmission filter with locally varying transmission is understood as meaning a filter which permits a transmission of the reflected light which differs over the filter surface. Thus, it is possible to detect intensities of the reflected light beams corresponding to the passage point of the light beams through the transmission filter with the detection means, wherein different transmission points of the light beams through the transmission filter due to the origin of different light sources to a different intensity due to the locally varying transmission of the transmission filter the light beams detected by the detection device, so that at a known output intensity of the light beams generated by the light sources of the light source arrangement and a given reflectivity of the mirror, the passage point of the reflected light beams through the transmission filter can be determined due to the transmitted intensity. With the passage points through the transmission filter, the tilted position of the mirror or mirrors can be determined.

Die Erfassungseinrichtung wird hierzu so ausgebildet und angeordnet, das bei einer zu überwachenden Kippstellung des Spiegels der Spiegel oder der Satz diskreter Lichtquellen (Lichtquellenanordnung) auf den Sensor der Erfassungseinrichtung abgebildet wird, sodass die reflektierten Lichtstrahlen der verschiedenen Lichtquellen der Lichtquellenanordnung als separate Lichtintensitäten entsprechend der Transmission durch den Transmissionsfilter erfasst werden können. Darüber hinaus ist die Vorrichtung so aufgebaut, dass die diskreten Lichtquellen der Lichtquellenanordnung der Reihe nach ein - und ausschaltbar sind.For this purpose, the detection device is designed and arranged in such a way that the mirror or set of discrete light sources (light source arrangement) is imaged onto the sensor of the detection device at a tilting position of the mirror to be monitored, so that the reflected light beams of the different light sources of the light source arrangement as separate light intensities corresponding to the transmission can be detected by the transmission filter. In addition, the device is constructed so that the discrete light sources of the light source assembly can be turned on and off in turn.

Entsprechend werden bei einem Verfahren zur Überwachung mindestens einer Kippstellung mindestens eines Spiegels, insbesondere eines um eine Drehachse kippbaren Spiegels, die Lichtquellen eines Satzes von mehreren diskreten Lichtquellen der Reihe nach an - und ausgeschaltet, sodass der Reihe nach in einer Erfassungseinrichtung mit einem Sensor das von den Lichtquellen ausgestrahlte Licht, welches an dem zu überwachenden Spiegel reflektiert wird, erfasst werden kann, um die Intensität des auf den Sensor auftreffenden Lichts zu bestimmen. Da zwischen dem oder den zu überwachenden Spiegeln und der Erfassungseinrichtung bzw. in der Erfassungseinrichtung ein Transmissionsfilter mit örtlich variierender Transmission angeordnet ist, weisen die vom Spiegel reflektierten Strahlen bei gleicher Ausgangsintensität der Lichtquellen je nach Durchtrittspunkt durch den Transmissionsfilter eine unterschiedliche Intensität auf. Auf Basis der ortsaufgelösten Intensitäten des reflektierten Lichts kann die Kippstellung des Spiegels ermittelt werden.Accordingly, in a method for monitoring at least one tilt position of at least one mirror, in particular a mirror tiltable about a rotation axis, the light sources of a set of a plurality of discrete light sources are switched on and off in sequence, so that in a detection device with a sensor that of the light emitted by the light sources, which is reflected at the mirror to be monitored, can be detected in order to determine the intensity of the incident light on the sensor. Since between the mirror or mirrors to be monitored and the detection device or in the detection device, a transmission filter with locally varying transmission is arranged, the rays reflected from the mirror at the same output intensity of the light sources depending on the passage point through the transmission filter to a different intensity. On the basis of the spatially resolved intensities of the reflected light, the tilted position of the mirror can be determined.

Durch eine mögliche Beschränkung des zu überwachenden Kippwinkelbereichs auf eine vorbestimmte Kippstellung des oder der Spiegel kann eine besonders gute Messgenauigkeit hinsichtlich der Position und/oder Ausrichtung des Spiegels bzw. der Kippstellung des oder der Spiegel erzielt werden.By a possible restriction of the tilting angle range to be monitored to a predetermined tilting position of the mirror or mirrors, a particularly good measuring accuracy with regard to the position and / or orientation of the mirror or the tilted position of the mirror or mirrors can be achieved.

Die an- und ausschaltbaren Lichtquellen des Satzes diskreter Lichtquellen, die für unterschiedliche Reflexionswinkel am zu überwachendem Spiegel und damit zu unterschiedlichen Durchtrittspunkten durch den Transmissionsfilter mit örtlich variierender Transmission führen, können in einem beliebigen zwei - dimensionalen Muster angeordnet sein, wobei bei einer Überwachung der Kippstellung eines oder mehrerer Spiegel um eine Drehachse die diskreten Lichtquellen linear entlang einer Richtung angeordnet sein können. Vorzugsweise können die diskreten Lichtquellen jedoch in einem zwei - dimensionalen Muster entlang mindestens einer ersten Richtung und mindestens einer zweiten Richtung, die zur ersten Richtung senkrecht ist, angeordnet sein, sodass die Kippstellung des oder der zu überwachenden Spiegel um zwei unabhängige Drehachsen überwacht werden kann. Insbesondere können die Lichtquellen kreuzförmig angeordnet sein.The light sources of the set of discrete light sources that can be switched on and off, which lead to different reflection angles at the mirror to be monitored and thus to different transmission points through the transmission filter with locally varying transmission, can be arranged in any two-dimensional pattern, with monitoring of the tilted position one or more mirrors a rotation axis, the discrete light sources may be arranged linearly along a direction. Preferably, however, the discrete light sources may be arranged in a two-dimensional pattern along at least one first direction and at least one second direction perpendicular to the first direction so that the tilt position of the mirror or mirrors to be monitored may be monitored about two independent axes of rotation. In particular, the light sources can be arranged in a cross shape.

Der Transmissionsfilter, der eine örtlich variierende Transmission, also eine über der Transmissionsfläche variierenden Transmission, aufweist, kann so ausgebildet sein, dass die variierende Transmission mindestens in einer Richtung variiert, wenn beispielsweise lediglich die Kippstellung um eine Drehachse überwacht werden soll. Vorzugsweise kann jedoch der Transmissionsfilter eine variierende Transmission entlang zweier unabhängiger Raumrichtungen aufweisen, wobei die entsprechenden Transmissionsverläufe überlagert sein können. Der Transmissionsfilter kann insbesondere einen ersten Verlauf einer variierenden Transmission in einer ersten Richtung (x-Richtung) aufweisen und einen zweiten Verlauf einer variierenden Transmission einer zweiten Richtung (y-Richtung), die insbesondere senkrecht zur ersten Richtung verlaufen kann. The transmission filter, which has a locally varying transmission, that is to say a transmission varying over the transmission surface, can be embodied such that the varying transmission varies in at least one direction, for example if only the tilted position about an axis of rotation is to be monitored. Preferably, however, the transmission filter can have a varying transmission along two independent spatial directions, wherein the corresponding transmission characteristics can be superimposed. The transmission filter may in particular have a first profile of a varying transmission in a first direction (x-direction) and a second profile of a varying transmission of a second direction (y-direction), which may in particular run perpendicular to the first direction.

Beispielsweise kann die Transmission gemäß dem ersten und/oder zweiten Transmissionsverlauf vom Rand des Transmissionsfilters zur Mitte des Transmissionsfilters zu - oder abnehmen und die Transmissionsverläufe können insbesondere einen sinus- oder dreiecksförmigen Verlauf aufweisen.For example, the transmission may increase or decrease in accordance with the first and / or second transmission profile from the edge of the transmission filter to the center of the transmission filter, and the transmission profiles may in particular have a sinusoidal or triangular profile.

Ferner kann der Transmissionsfilter so ausgebildet sein, dass der Transmissionsfilter für das zu filternde Licht bezüglich einer oder mehrerer Eigenschaften des zu filternden Lichts eine örtlich variierende Transmission aufweist. So kann eine Eigenschaft des Lichts die Wellenlänge des Lichts sein, sodass entsprechend für eine bestimmte Wellenlänge des Lichts eine örtlich variierende Transmission im Transmissionsfilter eingestellt ist. Eine weitere mögliche Eigenschaft, gemäß der das Licht durch den Transmissionsfilter gefiltert wird, kann die Polarisation des Lichts sein, sodass beispielsweise in einer Richtung linear polarisiertes Licht entsprechend gefiltert wird.Further, the transmission filter may be formed so that the transmission filter for the light to be filtered has a locally varying transmission with respect to one or more characteristics of the light to be filtered. Thus, a property of the light may be the wavelength of the light, so that a locally varying transmission in the transmission filter is set correspondingly for a certain wavelength of the light. Another possible property, according to which the light is filtered by the transmission filter, may be the polarization of the light, so that linearly polarized light, for example, is filtered in one direction.

Die örtlich variierende Transmission gemäß einer oder mehrerer Eigenschaften des Lichts kann entlang zweier senkrecht zueinander angeordneter Richtungen in dem Transmissionsfilter realisiert werden, sodass beispielsweise in einer ersten Richtung (x-Richtung) rotes Licht unterschiedlich stark gefiltert wird, während in einer senkrecht zur ersten Richtung angeordneten zweiten Richtung (y-Richtung) blaues Licht mit unterschiedlicher Transmission gefiltert wird. Damit lässt sich die Überwachung der Kippstellungen um verschiedene Drehachsen separieren.The locally varying transmission according to one or more characteristics of the light can be realized along two mutually perpendicular directions in the transmission filter so that, for example, red light is filtered differently in a first direction (x-direction) while being arranged in a direction perpendicular to the first direction second direction (y direction) blue light with different transmission is filtered. This allows the monitoring of tilt positions to be separated by different axes of rotation.

Eine einfache Lösung eines Transmissionsfilters stellt jedoch ein Grauverlaufsfilter dar, der unabhängig von der Wellenlänge des Lichts bei weißem Licht die durchgelassene Intensität je nach Transmissionsgrad variiert.A simple solution of a transmission filter, however, is a gray gradient filter which, regardless of the wavelength of the light in the case of white light, varies the transmitted intensity depending on the transmittance.

Sofern mehrere Spiegel beispielsweise in einer Mehrfachspiegelanordnung (MMA Multi Mirror Array) überwacht werden sollen, die beispielsweise in einer oder mehreren Reihen und/oder Spalten nebeneinander angeordnet sind, kann die Erfassungseinrichtung das reflektierte Licht von mehreren oder allen Spiegeln gleichzeitig erfassen. Darüber hinaus können auch mehrere Erfassungseinrichtungen vorgesehen werden.If a plurality of mirrors are to be monitored, for example, in a multi-mirror array (MMA) arranged side by side, for example, in one or more rows and / or columns, the detector may detect the reflected light from multiple or all mirrors simultaneously. In addition, several detection devices can be provided.

Mehrere Erfassungseinrichtungen und/oder mehrere Sätze von diskreten Lichtquellen können auch dazu verwendet werden, bei der Überwachung eines Spiegels bzw. einer Spiegelanordnung mit mehreren Spiegeln nicht nur eine bestimmte Kippstellung des oder der Spiegel zu überwachen, sondern mehrere unterschiedliche Kippstellungen.Multiple detectors and / or multiple sets of discrete light sources may also be used to monitor not only a particular tilt position of the mirror or mirrors when monitoring a mirror or multi-mirror array, but multiple different tilt positions.

Die Erfassungseinrichtung kann einen Flächensensor, wie einen CCD - Sensor (CCD charge coupled device (ladungsgekoppeltes Bauteil)) oder ein CMOS-Sensor (CMOS complementary metal oxide semiconductor (sich ergänzender Metall-Oxid-Halbleiter)) aufweisen, mit dem eine ortsaufgelöste Bestimmung der auftreffenden Lichtintensität möglich ist.The detection device may comprise a surface sensor, such as a charge coupled device (CCD) sensor or a complementary metal oxide semiconductor (CMOS) sensor with which a spatially resolved determination of the incident light intensity is possible.

Die Vorrichtung kann weiterhin eine Auswerteeinheit umfassen, die die von dem Sensor erfassten, ortsaufgelösten Intensitäten auswertet und automatisiert eine Kippstellung des überwachten Spiegels ermittelt, wobei zusätzlich die ermittelte Kippstellung mit einer Soll - Kippstellung, die in der Auswerteeinheit oder einem entsprechenden Speicher gespeichert sein kann, vergleicht, um Abweichungen festzustellen. Die Auswerteeinheit kann hierbei insbesondere durch eine programmtechnisch eingerichtete Datenverarbeitungsanlage realisiert sein.The device may further comprise an evaluation unit which evaluates the spatially resolved intensities detected by the sensor and automatically determines a tilted position of the monitored mirror, wherein additionally the determined tilt position can be stored with a desired tilt position, which can be stored in the evaluation unit or a corresponding memory. compares to detect deviations. The evaluation unit can in this case be realized, in particular, by a data processing system which has been set up by programming.

Die mögliche Abweichung einer Kippstellung des überwachten Spiegels von einer Soll - Kippstellung kann in einer Steuerungs - und/oder Regelungseinrichtung zur Steuerung und/oder Regelung der Kippstellung des mindestens einen überwachten Spiegels Verwendung finden. The possible deviation of a tilted position of the monitored mirror from a desired tilting position can be used in a control and / or regulating device for controlling and / or regulating the tilted position of the at least one monitored mirror.

Die Erfassungseinrichtung kann das reflektierte Licht synchron mit den Schaltzeiten der Lichtquellen erfassen, wobei die Lichtquellen bzw. der Sensor zur Erfassung der auftreffenden Lichtintensität mit einer Frequenz von bis zu 10 000 Hz Schaltungen bzw. Erfassungen pro Sekunde betrieben werden können.The detection device can detect the reflected light in synchronism with the switching times of the light sources, and the light sources or the sensor for detecting the incident light intensity can be operated at a frequency of up to 10,000 Hz, or detections per second.

Figurenlistelist of figures

Die beigefügten Zeichnungen zeigen in rein schematischer Weise in

  • 1 eine Darstellung einer erfindungsgemäßen Vorrichtung,
  • 2 eine Darstellung eines Teils einer erfindungsgemäßen Vorrichtung mit einer detaillierten Darstellung eines Transmissionsfilters und
  • 3 eine Darstellung einer EUV - Projektionsbelichtungsanlage, bei welcher eine Vorrichtung gemäß den 1 und 2 eingesetzt werden kann.
The accompanying drawings show in a purely schematic manner in FIG
  • 1 a representation of a device according to the invention,
  • 2 a representation of a part of a device according to the invention with a detailed representation of a transmission filter and
  • 3 a representation of an EUV - projection exposure apparatus, in which a device according to the 1 and 2 can be used.

AUSFÜHRUNGSBEISPIELEEMBODIMENTS

Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung der Ausführungsbeispiele deutlich. Allerdings ist die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt.Further advantages, characteristics and features of the present invention will become apparent in the following detailed description of the embodiments. However, the invention is not limited to these embodiments.

Die 1 zeigt eine Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung 1 zur Überwachung der Kippstellung von Spiegeln 30. Bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel der 1 sind vier Spiegel 30 in zwei Reihen und zwei Spalten angeordnet, deren Kippstellung durch die Vorrichtung 1 überwacht werden soll. Hierzu weist die Vorrichtung 1 einen Satz diskreter Lichtquellen (Lichtquellenanordnung) 2 mit mehreren diskreten Lichtquellen 20 auf, die beispielsweise durch LEDs gebildet sein können.The 1 shows an embodiment of a device according to the invention 1 for monitoring the tilting position of mirrors 30 , In the embodiment shown the 1 are four mirrors 30 arranged in two rows and two columns, their tilted position by the device 1 should be monitored. For this purpose, the device 1 a set of discrete light sources (light source arrangement) 2 with several discrete light sources 20 on, which may be formed for example by LEDs.

Die Lichtquellen 20 können je nachdem, ob die Kippstellung der Spiegel lediglich bezüglich einer Verkippung um eine Kippachse oder um zwei unabhängige Kippachsen überwacht werden soll, unterschiedlich angeordnet werden. Bei der Überwachung nur einer einzigen Kippachse ist es möglich, die Lichtquellen 20 in der Lichtquellenanordnung 2 in einer linearen Anordnung vorzusehen, während bei einer Überwachung der Kippstellung um zwei unabhängige Kippachsen eine flächige Anordnung der Lichtquellen 20 in einem Muster vorteilhaft ist. In dem gezeigten Ausführungsbeispiel der 1 sind fünf Lichtquellen 20 in einer Kreuzform angeordnet.The light sources 20 can be arranged differently depending on whether the tilting of the mirror is to be monitored only with respect to a tilt about a tilt axis or two independent tilt axes. When monitoring only a single tilting axis, it is possible to use the light sources 20 in the light source arrangement 2 to provide in a linear arrangement, while monitoring the tilt position by two independent tilt axes, a flat arrangement of the light sources 20 in a pattern is advantageous. In the embodiment shown the 1 are five light sources 20 arranged in a cross shape.

Das Licht bzw. die Lichtstrahlen 21 der Lichtquellen 20 werden von den Spiegeln 30 in der zu überwachenden Kippstellung der Spiegel 30 in eine Erfassungseinrichtung 5 reflektiert, die ein Objektiv 50 und einen Sensor 51 aufweist, mit dem das an den Spiegeln 30 reflektierte Licht 22 erfasst werden kann.The light or the light rays 21 the light sources 20 be from the mirrors 30 in the tilted position of the mirror to be monitored 30 in a detection device 5 that reflects a lens 50 and a sensor 51 with which the light reflected at the mirrors 30 22 can be detected.

Die Spiegelanordnung 3 mit den vier Spiegeln 30 in zwei Reihen und zwei Spalten stellt lediglich ein Beispiel dar und die Vorrichtung 1 zur Überwachung der Kippstellung der Spiegel 30 der Spiegelanordnung 3 kann eine beliebige Anzahl von Spiegeln in einer beliebigen Anordnung der Spiegel 30 in der Spiegelanordnung 3 umfassen.The mirror arrangement 3 with the four mirrors 30 in two rows and two columns is merely an example and the device 1 for monitoring the tilting position of the mirrors 30 the mirror arrangement 3 can be any number of mirrors in any arrangement of mirrors 30 in the mirror arrangement 3 include.

Die Erfassungseinrichtung 5 mit dem Sensor 51 ist so bezüglich der Spiegelanordnung 3 und der Lichtquellenanordnung 2 angeordnet, sodass entweder die Spiegel 30 der Spiegelanordnung 3 scharf auf den Sensor 51 und die dort vorgesehene Erfassungsfläche abgebildet werden oder die Lichtquellen 20 der Lichtquellenanordnung 2.The detection device 5 with the sensor 51 is so with respect to the mirror assembly 3 and the light source assembly 2 arranged so that either the mirrors 30 the mirror arrangement 3 sharp on the sensor 51 and the detection surface provided there are imaged or the light sources 20 the light source arrangement 2 ,

Zwischen der Spiegelanordnung 3 und der Erfassungseinrichtung 5 ist ein Transmissionsfilter 4 vorgesehen, der eine über der Transmissionsfläche unterschiedliche Transmission des reflektierten Lichts 22 bewirkt. Im gezeigten Ausführungsbeispiel handelt es sich um eine Grauverlaufsfilter bei dem weißes Licht von den Lichtquellen 20 entsprechend dem örtlich eingestellten Transmissionsverhalten des Transmissionsfilters 4 unterschiedliche Intensitäten des reflektierten Lichts passieren lässt.Between the mirror assembly 3 and the detection device 5 is a transmission filter 4 provided, the one above the transmission surface different transmission of the reflected light 22 causes. In the embodiment shown is a Grauverlaufsfilter in the white light from the light sources 20 according to the localized transmission behavior of the transmission filter 4 different intensities of the reflected light can happen.

Das reflektierte Licht 22 der verschiedenen Lichtquellen 20 durchdringt den Transmissionsfilter 4 an unterschiedlichen Stellen, da die Lichtstrahlen 21 der Lichtquellen 20 unter unterschiedlichen Auftreffwinkel auf den Spiegeln 30 auftreffen. Durch die unterschiedliche Transmission durch den Transmissionsfilter 4 in Abhängigkeit von der örtlichen Veränderung der Transmission über dem Transmissionsfilter kann mit der vom Sensor 51 ermittelten Lichtintensität des von den verschiedenen Lichtquellen 20 reflektierten Lichts 22 die Kippstellung des entsprechenden Spiegels 30 ermittelt werden.The reflected light 22 the different light sources 20 penetrates the transmission filter 4 in different places, because the light rays 21 the light sources 20 at different angles of incidence on the mirrors 30 incident. Due to the different transmission through the transmission filter 4 Depending on the local change in the transmission across the transmission filter can be compared with that of the sensor 51 determined light intensity of the different light sources 20 reflected light 22 the tilted position of the corresponding mirror 30 be determined.

Da das reflektierte Licht 22 mehrerer Spiegel 30 gleichzeitig in der Erfassungseinrichtung 5 erfasst werden kann, wenn mehrere oder sämtliche Spiegel 30 der Spiegelanordnung 3 durch das Objektiv 50 auf die Sensorfläche des Sensors 51 abgebildet werden, können mehrere Spiegel 30 parallel mit einer Erfassungseinrichtung überwacht werden.Because the reflected light 22 several mirrors 30 simultaneously in the detection device 5 can be detected if several or all mirrors 30 the mirror arrangement 3 through the lens 50 on the sensor surface of the sensor 51 can be mapped, multiple mirrors 30 be monitored in parallel with a detection device.

Um zu verhindern, dass das reflektierte Licht 22 von verschiedenen Lichtquellen 20 sich bei der Erfassung der Intensität des reflektierten Lichts 22 im Sensor 51 gegenseitig beeinflussen, werden die Lichtquellen 20 der Lichtquellenanordnung 2 nacheinander an - und ausgeschaltet, sodass der Reihe nach die Lichtstrahlen 21 der verschiedenen Lichtquellen 20 an den jeweiligen Spiegeln 30 reflektieren und die Intensitäten der reflektierten Lichtstrahlen 22 nach dem Passieren des Transmissionsfilters 4 mit dem Sensor 51 erfasst werden, wobei das Erfassen der Lichtintensität mit dem Sensor 51 synchron zum Schalten der Lichtquellen 20 erfolgt.To prevent the reflected light 22 from different sources of light 20 in the detection of the intensity of the reflected light 22 in the sensor 51 influence each other, become the light sources 20 the light source arrangement 2 turned on and off one after the other, so that in turn the light rays 21 the different light sources 20 at the respective mirrors 30 reflect and the intensities of the reflected light rays 22 after passing the transmission filter 4 with the sensor 51 be detected, wherein the detection of the light intensity with the sensor 51 synchronous to the switching of the light sources 20 he follows.

Die 2 zeigt in einer ähnlichen Darstellung wie 1 eine schematische Ansicht eines Teils einer erfindungsgemäßen Vorrichtung, wobei jedoch der Transmissionsfilter in größerem Detail dargestellt ist. Außerdem ist lediglich ein Spiegel 30 gezeigt, dessen Kippstellung überwacht werden soll. Dieser Spiegel 30 der Ausführungsform der 2 ist zudem nicht flach ausgebildet, sondern gekrümmt als Parabolspiegel. In diesem Fall wird die Erfassungseinrichtung 5 (nicht in 2 gezeigt) so eingestellt, dass nicht der Spiegel 30 scharf auf die Sensorfläche des Sensors (nicht in 2 dargestellt) abgebildet wird, sondern die Lichtquellenanordnung 2, sodass also die Sensorfläche des Sensors 51 und die Fläche, in der das flächige Muster der Lichtquellen 20 ausgebildet ist, in konjungierten Ebenen der Vorrichtung 1 angeordnet sind.The 2 shows in a similar representation as 1 a schematic view of a portion of a device according to the invention, but with the transmission filter is shown in greater detail. Besides, it's just a mirror 30 shown whose tilt position is to be monitored. This mirror 30 the embodiment of the 2 is also not flat, but curved as a parabolic mirror. In this case, the detection device becomes 5 (not in 2 shown) so that not the mirror 30 sharp on the sensor surface of the sensor (not in 2 shown), but the light source arrangement 2 so that so the sensor surface of the sensor 51 and the area in which the areal pattern of the light sources 20 is formed, in conjugate levels of the device 1 are arranged.

Wie sich aus der 2 ergibt, ist der Transmissionsfilter 4 bei der gezeigten Ausführungsform so ausgebildet, dass sowohl in x-Richtung als auch in y-Richtung die Transmission vom Zentrum des Transmissionsfilters 4 zum Rand des Transmissionsfilters 4 mit einem sinusförmigen Verlauf abnimmt, wie die Diagramme an den Seiten des Transmissionsfilters 4 zeigen. Entsprechend liegt beim Transmissionsfilter 4 der 2 im Zentrum die maximale Transmission fordert, während an den Ecken die minimale Transmission des reflektierten Lichts durch den Transmissionsfilter 4 erfolgt.As is clear from the 2 results, is the transmission filter 4 formed in the embodiment shown so that both in the x-direction and in the y-direction, the transmission from the center of the transmission filter 4 to the edge of the transmission filter 4 decreases with a sinusoidal shape, as the diagrams on the sides of the transmission filter 4 demonstrate. Accordingly lies with the transmission filter 4 of the 2 in the center the maximum transmission demands, while at the corners the minimum transmission of the reflected light through the transmission filter 4 he follows.

Wie sich aus der 2 weiterhin ergibt, werden die kreuzförmig angeordneten Lichtquellen 20 der Lichtquellenanordnung 2 in den Sensor der Erfassungseinrichtung abgebildet und die am Spiegel 30 reflektierten Lichtstrahlen 22, 22' durchdringen den Transmissionsfilter 4 an den Durchstoßpunkten 40, die entsprechend ebenfalls eine kreuzförmige Anordnung aufweisen. Durch die unterschiedliche Lage der Durchstoßpunkte 40 der reflektierten Lichtstrahlen 22, 22' werden die reflektierten Lichtstrahlen 22, 22'durch den Transmissionsfilter 4 unterschiedlich gefiltert, sodass der Sensor unterschiedliche Intensitätswerte der transmittierten und reflektierten Lichtstrahlen 22, 22'erfasst.As is clear from the 2 furthermore, the crosswise arranged light sources become 20 the light source arrangement 2 imaged in the sensor of the detection device and the mirror 30 reflected light rays 22 . 22 ' penetrate the transmission filter 4 at the puncture points 40 , which likewise have a cross-shaped arrangement. Due to the different position of the puncture points 40 the reflected light rays 22 . 22 ' become the reflected light rays 22 . 22 ' through the transmission filter 4 filtered differently, so that the sensor different intensity values of the transmitted and reflected light beams 22 . 22 ' detected.

Die räumlich variierende Transmission kann hierbei beschrieben werden mit T ( x ,y ) = A + B*cos ( x ) + C*sin ( y )

Figure DE102017221023A1_0001
The spatially varying transmission can be described here with T ( x , y ) = A + B * cos ( x ) + C * sin ( y )
Figure DE102017221023A1_0001

Miit der Lage der Durchstoßpunkte 40 der am Spiegel 30 reflektierten Strahlen 22, 22'an den Punkten (x0, y0), (x0 + Δx, y0), (x0- Δx, y0), (x0, y0 + Δy) und (x0, y0 - Δy) auf dem Transmissionsfilter ergeben sich die fünf folgenden Intensitätswerte i1 = a + b*cos ( x0 ) + c*sin ( y0 )

Figure DE102017221023A1_0002
i2 = a + b*cos ( x0 + Δ x ) + c*sin ( y0 )
Figure DE102017221023A1_0003
i3 = a + b*cos ( x0 Δ x ) + c*sin ( y0 )
Figure DE102017221023A1_0004
i4 = a + b*cos ( x0 ) + c*sin ( y0 + Δ y )
Figure DE102017221023A1_0005
i5 = a + b*cos ( x0 ) + c*sin ( y0 Δ y )
Figure DE102017221023A1_0006
With the location of the puncture points 40 the one at the mirror 30 reflected rays 22 . 22 ' at the points (x0, y0), (x0 + Δx, y0), (x0-Δx, y0), (x0, y0 + Δy) and (x0, y0-Δy) on the transmission filter the five following intensity values result i1 = a + b * cos ( x0 ) + c * sin ( y0 )
Figure DE102017221023A1_0002
i2 = a + b * cos ( x0 + Δ x ) + c * sin ( y0 )
Figure DE102017221023A1_0003
i3 = a + b * cos ( x0 - Δ x ) + c * sin ( y0 )
Figure DE102017221023A1_0004
i4 = a + b * cos ( x0 ) + c * sin ( y0 + Δ y )
Figure DE102017221023A1_0005
i5 = a + b * cos ( x0 ) + c * sin ( y0 - Δ y )
Figure DE102017221023A1_0006

Bei bekannter örtlich variierender Transmission des Transmissionsfilters 4 und der bekannten Anordnung der Lichtquellen 20 in der Lichtquellenanordnung 2 kann der Durchstoßpunkt 40 (x0, y0) eindeutig bestimmt werden. Daraus kann auf die Kippstellung des Spiegels 30 geschlossen beziehungsweise diese bestimmt werden.With known locally varying transmission of the transmission filter 4 and the known arrangement of the light sources 20 in the light source arrangement 2 can the puncture point 40 (x0, y0) are uniquely determined. From this can on the tilted position of the mirror 30 closed or these are determined.

Je größer der Transmissionsfilter 4 ist und somit ein größerer Winkelbereich der Kippstellung des Spiegels 30 erfasst werden kann, desto geringer ist die Messgenauigkeit, da in diesem Fall der Transmissionsfilter zwischen den Extremwerten 100% Transmission und 0% Transmission einen flacheren Transmissionsgradienten aufweisen muss. Ein kleinerer Gradient der Transmission des Transmissionsfilters 4 führt jedoch zu einer reduzierten Messgenauigkeit. Entsprechend ist es vorteilhaft, die Vorrichtung der Erfindung nicht zur Bestimmung irgendeines Kippwinkels einzusetzen, sondern vorzugsweise für die Überwachung eines bestimmten, vorgegebenen Kippwinkels sodass der Winkelüberwachungsbereich sehr klein und damit die Messgenauigkeit sehr hoch eingestellt werden kann. Beispielsweise kann der Kippwinkelüberwachungsbereich 1% des gesamten Kippwinkelbereichs sein, sodass sich die erfindungsgemäße Vorrichtung und das erfindungsgemäße Verfahren sehr gut zur Überwachung einer möglichen zeitlichen Veränderung einer festen vorgegebenen Kippstellung eines oder mehrerer Spiegel eignet.The larger the transmission filter 4 is and thus a larger angular range of tilting position of the mirror 30 can be detected, the lower the measurement accuracy, since in this case the transmission filter between the extreme values 100% transmission and 0% transmission must have a shallower transmission gradient. A smaller gradient of the transmission of the transmission filter 4 however leads to a reduced measuring accuracy. Accordingly, it is advantageous not to use the device of the invention for determining any tilt angle, but preferably for monitoring a certain, predetermined tilt angle so that the angle monitoring range is very small and thus the measurement accuracy can be set very high. For example, the tilt angle monitoring range can be 1% of the total tilt angle range, so that the device according to the invention and the method according to the invention are very well suited for monitoring a possible change with time of a fixed predetermined tilt position of one or more mirrors.

Sollen mit der in den 1 und 2 dargestellten Vorrichtung mehrere Kippstellungen von einem oder mehreren Spiegeln 30 überwacht werden, so können entweder weitere Lichtquellenanordnungen 2 (nicht dargestellt) oder weitere Erfassungseinrichtungen 5 (ebenfalls nicht dargestellt) vorgesehen werden.Should with the in the 1 and 2 Device shown multiple tilt positions of one or more mirrors 30 can be monitored, so either more light source arrangements 2 (not shown) or other detection devices 5 (also not shown) are provided.

Die 3 zeigt eine EUV - Projektionsbelichtungsanlage 100 mit einer EUV - Lichtquelle 102, einem Beleuchtungsmodul 103 und einem Projektionsobjektiv 104. Mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage 100 kann eine Retikel 105 mit vom Beleuchtungsmodul 103 aufbereiteten Licht der EUV - Lichtquelle 102 beleuchtet werden, wobei eine auf dem Retikel 105 befindliche Struktur durch das Projektionsobjektiv 104 auf dem Wafer 106 verkleinert abgebildet werden kann, sodass eine entsprechende Struktur mikrolithographisch auf dem Wafer 106 erzeugt werden kann.The 3 shows an EUV projection exposure system 100 with an EUV light source 102 , a lighting module 103 and a projection lens 104 , With such a projection exposure system 100 can be a reticle 105 with from the lighting module 103 recycled light of the EUV - light source 102 be lit, with one on the reticle 105 structure through the projection lens 104 on the wafer 106 reduced size, so that a corresponding structure is microlithographically on the wafer 106 can be generated.

Eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Überwachung der Kippstellung von Spiegel kann in einer entsprechenden EUV - Projektionsbelichtungsanlage 100 zur Überwachung der Spiegelposition und Orientierung von verschiedenen Spiegeln eingesetzt werden, insbesondere auch von Mehrfachspiegelfeldern (MMA Multi Mirror Arrays), die insbesondere im Beleuchtungssystem 103 eingesetzt werden können. Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung kann eine automatisierte Überwachung der Positionierung und Orientierung von Spiegeln in EUV - Projektionsbelichtungsanlagen beziehungsweise Projektionsbelichtungsanlagen allgemein realisiert werden. Dies ermöglicht über den Zeitablauf mögliche Veränderungen in der Position und/oder Orientierung des oder der Spiegel festzustellen.A device according to the invention for monitoring the tilting position of mirrors can be provided in a corresponding EUV projection exposure apparatus 100 for monitoring the mirror position and orientation of different mirrors are used, in particular of multi-mirror fields (MMA Multi Mirror Arrays), in particular in the lighting system 103 can be used. With the device according to the invention, an automated monitoring of the positioning and orientation of mirrors in EUV projection exposure systems or projection exposure systems can generally be realized. This allows to determine over the course of time possible changes in the position and / or orientation of the mirror or mirrors.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand der Ausführungsbeispiele detailliert beschreiben worden ist, ist für den Fachmann klar, dass die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne Merkmale weggelassen oder andersartige Kombinationen von Merkmalen verwirklicht werden können, solange der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche nicht verlassen wird. Die vorliegende Offenbarung schließt insbesondere sämtliche Kombinationen der vorgestellten Einzelmerkmale mit ein.Although the present invention has been described in detail with reference to the embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that the invention is not limited to these embodiments, but rather modifications are possible in the manner that individual features omitted or other combinations of features can be realized as long as the scope of protection of the appended claims is not abandoned. In particular, the present disclosure includes all combinations of the features presented.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
Vorrichtungcontraption
22
LichtquellenanordnungLight source arrangement
2020
Lichtquellelight source
2121
Lichtstrahlbeam of light
22, 22'22, 22 '
reflektierter Lichtstrahlreflected light beam
3 3
Spiegelanordnungmirror arrangement
3030
Spiegelmirror
44
Transmissionsfiltertransmission filter
4040
DurchstoßpunktIntersection point
55
Erfassungseinrichtungdetector
5050
Objektivlens
5151
Sensorsensor
100100
EUV - ProjektionsbelichtungsanlageEUV - projection exposure system
102102
EUV - LichtquelleEUV - light source
103103
Beleuchtungssystemlighting system
104104
Projektionsobjektivprojection lens
105105
Retikelreticle
106106
Waferwafer

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • DE 102009009372 A1 [0005]DE 102009009372 A1 [0005]
  • WO 2010/094658 A1 [0005]WO 2010/094658 A1 [0005]
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  • US 2012/0293784 A1 [0005]US 2012/0293784 A1 [0005]
  • WO 2008/095695 A2 [0005]WO 2008/095695 A2 [0005]
  • DE 102013217655 A1 [0005]DE 102013217655 A1 [0005]

Claims (14)

Vorrichtung zur Überwachung mindestens einer Kippstellung mindestens eines Spiegels (30) mit mindestens einem Satz diskreter Lichtquellen (20) und mindestens einer Erfassungseinrichtung (5), die das von dem Spiegel reflektierte Licht der Lichtquellen des Satzes diskreter Lichtquellen erfasst, wobei die Erfassungseinrichtung einen Sensor (51) und ein Objektiv (50) aufweist, und wobei die Vorrichtung weiterhin einen Transmissionsfilter (4) mit örtlich variierender Transmission aufweist, der so zwischen Spiegel (30) und Erfassungseinrichtung (5) oder in der Erfassungseinrichtung angeordnet ist, dass das von dem Spiegel reflektierte Licht der Lichtquellen durch den Transmissionsfilter hindurch tritt, dadurch gekennzeichnet, dass der Satz diskreter Lichtquellen (20) so ausgebildet ist, dass die diskreten Lichtquellen der Reihe nach an - und ausschaltbar sind, und wobei die Erfassungseinrichtung so ausgebildet und angeordnet ist, dass bei der zu überwachenden Kippstellung des Spiegels der Spiegel oder der Satz diskreter Lichtquellen auf den Sensor der Erfassungseinrichtung abgebildet werden.Device for monitoring at least one tilted position of at least one mirror (30) with at least one set of discrete light sources (20) and at least one detection device (5) which detects the light of the light sources of the set of discrete light sources reflected by the mirror, the detection device comprising a sensor ( 51) and a lens (50), and wherein the device further comprises a transmission filter (4) with locally varying transmission, which is arranged between mirror (30) and detection device (5) or in the detection device, that of the mirror reflected light of the light sources passes through the transmission filter, characterized in that the set of discrete light sources (20) is formed so that the discrete light sources can be switched on and off in turn, and wherein the detection means is arranged and arranged such that at the to be monitored tilt position of the mirror de Mirror or the set of discrete light sources are imaged on the sensor of the detection device. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquellen (20) des Satzes diskreter Lichtquellen in einem zwei - dimensionalen Muster angeordnet sind.Device after Claim 1 , characterized in that the light sources (20) of the set of discrete light sources are arranged in a two - dimensional pattern. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in einem Satz diskreter Lichtquellen (20) mindestens zwei, vorzugsweise drei oder mehr Lichtquellen entlang einer ersten Richtung und mindestens zwei, vorzugsweise drei oder mehr Lichtquellen entlang einer zweiten Richtung angeordnet sind, die zur ersten Richtung senkrecht ist, wobei die Lichtquellen insbesondere kreuzförmig angeordnet sind.Device according to one of the preceding claims, characterized in that in a set of discrete light sources (20) at least two, preferably three or more light sources are arranged along a first direction and at least two, preferably three or more light sources along a second direction, the first Direction is perpendicular, the light sources are arranged in particular cross-shaped. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Transmissionsfilter (4) in mindestens einer Richtung eine variierende Transmission oder in zwei unabhängigen Raumrichtungen eine variierende Transmission aufweist.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the transmission filter (4) has a varying transmission in at least one direction or a varying transmission in two independent spatial directions. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Transmissionsfilter (4) in einer ersten Richtung (X - Richtung) einen ersten Verlauf einer variierenden Transmission aufweist und in einer zweiten Richtung (Y - Richtung) senkrecht zur ersten Richtung einen zweiten Verlauf einer variierenden Transmission aufweist, wobei der erste und/oder zweite Verlauf eine von der Mitte des Transmissionsfilters zum Rand des Transmissionsfilters zu - oder abnehmende Transmission, insbesondere einen sinus - oder dreiecksförmigen Verlauf aufweisen.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the transmission filter (4) in a first direction (X - direction) has a first course of varying transmission and in a second direction (Y - direction) perpendicular to the first direction has a second course of a has varying transmission, wherein the first and / or second course have a from the center of the transmission filter to the edge of the transmission filter increasing or decreasing transmission, in particular a sinusoidal or triangular course. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Transmissionsfilter (4) so ausgebildet ist, dass der Transmissionsfilter für das Licht bezüglich einer oder mehrerer Eigenschaften des Lichts eine örtlich variierende Transmission aufweist, insbesondere entlang zweier senkrecht zueinander angeordneter Richtungen eine variierende Transmission basierend auf unterschiedlichen Eigenschaften des Lichts aufweist, wobei insbesondere die die Transmission bestimmenden Eigenschaften des Lichts die Wellenlänge des Lichts oder die Polarisation des Lichts sind.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the transmission filter (4) is formed so that the transmission filter for the light with respect to one or more properties of the light has a locally varying transmission, in particular along two mutually perpendicular directions based on a varying transmission on different properties of the light, wherein in particular the transmission-determining properties of the light are the wavelength of the light or the polarization of the light. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Spiegel (30) nebeneinander, insbesondere in einer oder mehreren Reihen und/oder Spalten nebeneinander angeordnet sind und die Erfassungseinrichtung das reflektierte Licht von mehreren oder allen Spiegeln gleichzeitig erfasst.Device according to one of the preceding claims, characterized in that a plurality of mirrors (30) side by side, in particular in one or more rows and / or columns are arranged side by side and the detection means detects the reflected light from several or all mirrors simultaneously. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Sätze von diskreten Lichtquellen (20) und/oder mehrere Erfassungseinrichtungen (5) in der Vorrichtung angeordnet sind, wobei jeder Satz diskreter Lichtquellen und jede Erfassungseinrichtung einem bestimmten Kippstellung des Spiegels zugeordnet ist.Device according to one of the preceding claims, characterized in that a plurality of sets of discrete light sources (20) and / or a plurality of detection devices (5) are arranged in the device, each set of discrete light sources and each detection device being associated with a specific tilted position of the mirror. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Sensor (51) ein CCD - Sensor oder ein CMOS - Sensor ist.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the sensor (51) is a CCD sensor or a CMOS sensor. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung eine Auswerteeinheit umfasst, die aus den vom Sensor erfassten, ortsaufgelösten Intensitäten eine Kippstellung des überwachten Spiegels ermittelt und insbesondere mit einer gespeicherten Sollstellung vergleicht.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the device comprises an evaluation unit, which determines from the sensor detected, spatially resolved intensities a tilted position of the monitored mirror and in particular compares with a stored desired position. Verfahren zur Überwachung mindestens einer Kippstellung mindestens eines Spiegels (30) um mindestens eine Drehachse, vorzugsweise mit einer Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welchem mindestens ein Satz von mehreren diskreten Lichtquellen (20) bereitgestellt wird, wobei die Lichtquellen der Reihe nach an - und ausgeschaltet werden, wobei das Licht der Lichtquellen von dem zu überwachenden Spiegel in eine Erfassungseinrichtung (5) reflektiert wird, die das von dem Spiegel reflektierte Licht (22,22') der Lichtquellen nacheinander erfasst, wobei die Erfassungseinrichtung einen Sensor (51) und ein Objektiv (50) aufweist, die so ausgebildet und relativ zu dem Satz diskreter Lichtquellen und dem zu überwachenden Spiegel angeordnet sind, dass bei der zu überwachenden Kippstellung des Spiegels der Spiegel oder der Satz diskreter Lichtquellen auf den Sensor der Erfassungseinrichtung abgebildet werden, und wobei zwischen Spiegel und Erfassungseinrichtung oder in der Erfassungseinrichtung weiterhin ein Transmissionsfilter (4) mit örtlich variierender Transmission angeordnet ist, sodass das von dem Sensor an unterschiedlichen Orten des Sensors erfasste, reflektierte Licht unterschiedliche Intensitäten aufweist, und wobei auf Basis der ortsaufgelösten Intensitäten des reflektierten Lichts die Kippstellung des Spiegels ermittelt wird.Method for monitoring at least one tilted position of at least one mirror (30) about at least one axis of rotation, preferably with a device according to one of the preceding claims wherein at least one set of a plurality of discrete light sources (20) is provided, the light sources being switched on and off in turn, the light from the light sources being reflected by the mirror to be monitored into detection means (5) corresponding to that from the mirror detected light (22,22 ') of the light sources successively, wherein the detection means comprises a sensor (51) and a lens (50) which are formed and arranged relative to the set of discrete light sources and the mirror to be monitored, that in to be monitored tilt position of the mirror of the mirror or the set of discrete light sources are mapped to the sensor of the detection device, and wherein between the mirror and detection device or in the detection device further a transmission filter (4) is arranged with locally varying transmission, so that of the sensor at different Detected locations of the sensor, reflected e light has different intensities, and based on the spatially resolved intensities of the reflected light, the tilted position of the mirror is determined. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das reflektierte Licht synchron mit den Schaltzeiten der Lichtquellen (20) erfasst wird.Method according to Claim 11 , characterized in that the reflected light is detected in synchronism with the switching times of the light sources (20). Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquellen (20) mit einer Schaltfrequenz von bis zu 10 000 Hz geschaltet werden.Method according to Claim 11 or 12 , characterized in that the light sources (20) are switched with a switching frequency of up to 10 000 Hz. Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10.Projection exposure apparatus for microlithography with a device according to one of Claims 1 to 10 ,
DE102017221023.0A 2016-12-22 2017-11-24 DEVICE FOR MONITORING AT LEAST ONE TIP AT LEAST ONE MIRROR Withdrawn DE102017221023A1 (en)

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