DE102017221023A1 - DEVICE FOR MONITORING AT LEAST ONE TIP AT LEAST ONE MIRROR - Google Patents
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Überwachung mindestens einer Kippstellung mindestens eines Spiegels (30) mit mindestens einem Satz diskreter Lichtquellen (20) und mindestens einer Erfassungseinrichtung (5), die das von dem Spiegel reflektierte Licht der Lichtquellen des Satzes diskreter Lichtquellen erfasst, wobei die Erfassungseinrichtung einen Sensor (51) und ein Objektiv (50) aufweist, und wobei die Vorrichtung weiterhin einen Transmissionsfilter (4) mit örtlich variierender Transmission aufweist, der so zwischen Spiegel (30) und Erfassungseinrichtung (5) oder in der Erfassungseinrichtung angeordnet ist, dass das von dem Spiegel reflektierte Licht der Lichtquellen durch den Transmissionsfilter hindurch tritt, wobei der Satz diskreter Lichtquellen (20) so ausgebildet ist, dass die diskreten Lichtquellen der Reihe nach an - und ausschaltbar sind, und wobei die Erfassungseinrichtung so ausgebildet und angeordnet ist, dass bei der zu überwachenden Kippstellung des Spiegels der Spiegel oder der Satz diskreter Lichtquellen auf den Sensor der Erfassungseinrichtung abgebildet werden.The present invention relates to a method and a device for monitoring at least one tilted position of at least one mirror (30) with at least one set of discrete light sources (20) and at least one detection device (5) which detects the light of the light sources of the set of discrete light sources reflected by the mirror wherein the detection device comprises a sensor (51) and a lens (50), and wherein the device further comprises a transmission filter (4) with locally varying transmission, thus between mirror (30) and detection device (5) or in the detection device arranged such that the light of the light sources reflected by the mirror passes through the transmission filter, wherein the set of discrete light sources (20) is configured such that the discrete light sources can be switched on and off in sequence, and wherein the detection device is designed and is arranged that at the to be supervised ends of the mirror or the set of discrete light sources can be imaged onto the sensor of the detection device.
Description
HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION
GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Überwachung mindestens einer Kippstellung mindestens eines kippbaren Spiegels.The present invention relates to a device and a method for monitoring at least one tilted position of at least one tiltable mirror.
STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART
Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen dienen zur Herstellung von mikrostrukturierten Bauelementen mittels eines photolithographischen Verfahrens. Dabei wird eine strukturtragende Maske, das sogenannte Retikel, mit Hilfe einer Lichtquelleneinheit und einer BeLichtungsoptik beLichtet und mit Hilfe einer Projektionsoptik auf eine photosensitive Schicht abgebildet. Hierfür stellt die Lichtquelleneinheit eine Strahlung zur Verfügung, die in der BeLichtungsoptik zur BeLichtung des Retikels aufbereitet wird. Die BeLichtungsoptik dient dazu, am Ort der strukturtragenden Maske eine gleichmäßige Aus-Lichtung mit einer vorbestimmten winkelabhängigen Intensitätsverteilung zur Verfügung zu stellen. Hierzu sind innerhalb der BeLichtungsoptik verschiedene geeignete optische Elemente vorgesehen.Microlithography projection exposure equipment is used for the production of microstructured components by means of a photolithographic process. In this case, a structure-carrying mask, the so-called reticle, with the aid of a light source unit and a BeLichtungsoptik beLichtet and imaged using a projection optics on a photosensitive layer. For this purpose, the light source unit provides a radiation which is processed in the illumination optics for illuminating the reticle. The illumination optics serve to provide uniform out-of-plane illumination with a predetermined angle-dependent intensity distribution at the location of the structure-supporting mask. For this purpose, various suitable optical elements are provided within the BeLichtungsoptik.
Die so ausgeLichtete strukturtragende Maske wird mit Hilfe der Projektionsoptik auf eine photosensitive Schicht abgebildet. Dabei wird die minimale Strukturbreite, die mit Hilfe einer solchen Projektionsoptik abgebildet werden kann, unter anderem durch die Wellenlänge der verwendeten Strahlung bestimmt. Je kleiner die Wellenlänge der Strahlung ist, desto kleinere Strukturen können mit Hilfe der Projektionsoptik abgebildet werden. Aus diesem Grund ist es vorteilhaft Strahlung mit einer Wellenlänge im Bereich von 5 nm bis 15 nm zu verwenden. Strahlung in diesem Wellenlängenbereich wird als extrem ultraviolettes Licht (EUV - Licht) bezeichnet.The so-structured structure-bearing mask is imaged onto a photosensitive layer with the aid of projection optics. In this case, the minimum structure width that can be imaged with the aid of such projection optics is determined inter alia by the wavelength of the radiation used. The smaller the wavelength of the radiation, the smaller the structures can be imaged using the projection optics. For this reason, it is advantageous to use radiation having a wavelength in the range of 5 nm to 15 nm. Radiation in this wavelength range is called extreme ultraviolet (EUV) light.
Bei BeLichtungssystemen, die in entsprechenden Projektionsbelichtungsanlagen beispielsweise im Wellenlängenbereich des extrem ultravioletten (EUV) Spektrums, also bei Wellenlängen im Bereich von beispielsweise 13 nm arbeiten, werden Facettenspiegelanordnungen in einer Feldebene eingesetzt, die aus einer Vielzahl von verkippbaren Spiegeln, den Feldfacettenspiegeln oder Spiegelfacetten, bestehen. Die Spiegelfacetten, die um mindestens eine Achse, meist aber um zwei quer zueinander angeordnete Achsen verkippbar sind, bestimmen die Intensitätsverteilung in einer Pupillenebene, die wiederum optisch konjugiert zur Eintrittspupillenebene der Projektionsoptik ist, sodass die Intensitätsverteilung der Strahlung in der Pupillenebene des BeLichtungssystems die winkelabhängige Intensitätsverteilung der Strahlung im Bereich des Objektfeldes bestimmt.In illumination systems operating in corresponding projection exposure systems, for example in the wavelength range of the extreme ultraviolet (EUV) spectrum, ie at wavelengths in the range of, for example, 13 nm, facet mirror arrays are used in a field plane consisting of a plurality of tiltable mirrors, the field facet mirrors or mirror facets , The mirror facets, which can be tilted about at least one axis, but usually about two axes arranged transversely to one another, determine the intensity distribution in a pupil plane, which in turn is optically conjugate to the entrance pupil plane of the projection optics, so that the intensity distribution of the radiation in the pupil plane of the illumination system determines the angle-dependent intensity distribution the radiation in the area of the object field determined.
Aus diesem Grund muss die Einstellung der Spiegelfacetten, also deren Orientierung bzw. Ausrichtung, exakt gewählt werden. Folglich ist es auch wichtig, dass die Einstellung bzw. Ausrichtung der Spiegel, also deren Verkippungswinkel um eine oder mehrere Drehachsen, genau bestimmt werden kann. Deshalb sind auch im Stand der Technik bereits Verfahren und Vorrichtungen zur Bestimmung und Überwachung der Kippwinkel von Spiegelanordnungen beschrieben. Beispiele hierfür sind in der
Allerdings besteht trotz der vorgeschlagenen Lösungen weiterhin der Bedarf an einem einfachen, effektiv und zuverlässig arbeitendem Überwachungssystem, welches die Kippstellung der kippbaren Spiegelfacetten bzw. von Spiegeln allgemein schnell und hochpräzise erfassen kann, um in Regelkreisen zur Kippwinkelregelung der Feldfacetten bzw. Spiegel verwendet zu werden. Darüber hinaus muss darauf geachtet werden, dass sich das entsprechende Messverfahren bzw. das korrespondierende Messsystem hinsichtlich der Vakuumtauglichkeit, der Materialverträglichkeit usw. in eine Projektionsbelichtungsanlage und insbesondere in ein BeLichtungssystem davon integrieren lässt.However, despite the proposed solutions, there is still a need for a simple, effective and reliable monitoring system which can detect the tilt of the tiltable mirror facets or mirrors generally quickly and with high precision to be used in control circuits for tilting the field facets or mirrors. In addition, care must be taken that the corresponding measuring method or the corresponding measuring system with regard to the vacuum compatibility, the material compatibility, etc. can be integrated into a projection exposure apparatus and in particular into a lighting system thereof.
OFFENBARUNG DER ERFINDUNGDISCLOSURE OF THE INVENTION
AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION
Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Überwachungseinrichtung zur Bestimmung und/oder Überwachung der Position und/oder Orientierung bzw. Kippstellung von insbesondere kippbaren Spiegeln und ein entsprechendes Verfahren hierzu bereitzustellen sowie eine Projektionsbelichtungsanlage und insbesondere ein BeLichtungssystem vorzugsweise einer EUV- Projektionsbelichtungsanlage bereitzustellen, welches eine geeignete Vorrichtung zur Überwachung der Kippstellung von Spiegeln aufweist. Darüber hinaus soll ein entsprechendes Betriebsverfahren zum Betrieb einer derartigen Vorrichtung angegeben werden. Die entsprechenden Vorrichtungen und Verfahren sollen eine hochpräzise und schnelle Überwachung der Ausrichtung von Spiegeln ermöglichen und einfach in eine Projektionsbelichtungsanlage integrierbar sein.It is therefore an object of the present invention to provide a monitoring device for determining and / or monitoring the position and / or orientation or tilting position of, in particular, tiltable To provide mirrors and a corresponding method for this purpose, as well as to provide a projection exposure apparatus and in particular a lighting system, preferably an EUV projection exposure apparatus, which has a suitable device for monitoring the tilting position of mirrors. In addition, a corresponding operating method for operating such a device should be specified. The corresponding devices and methods are to allow a high-precision and rapid monitoring of the alignment of mirrors and be easily integrated into a projection exposure system.
TECHNISCHE LÖSUNGTECHNICAL SOLUTION
Diese Aufgabe wird gelöst mit einer Vorrichtung zur Überwachung der Kippstellung mindestens eines Spiegels mit den Merkmalen von Anspruch 1 und einem Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 11 sowie einer Projektionsbelichtungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 14. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.This object is achieved with a device for monitoring the tilted position of at least one mirror with the features of
Die vorliegende Erfindung schlägt zur Überwachung mindestens einer Kippstellung mindestens eines Spiegels, insbesondere eines um mindestens eine Drehachse kippbaren Spiegels, eine Vorrichtung vor, die mindestens einen Satz diskreter Lichtquellen und mindestens eine Erfassungseinrichtung aufweist. Das Licht der Lichtquellenanordnung aus einem Satz diskreter Lichtquellen wird von dem zu überwachendem Spiegel in die Erfassungseinrichtung reflektiert, wobei die Erfassungseinrichtung einen Sensor und ein Objektiv aufweist, um das von dem mindestens einem Spiegel reflektierte Licht zu erfassen. Darüber hinaus weist die erfindungsgemäße Vorrichtung einen Transmissionsfilter mit örtlich variierender Transmission auf, der zwischen dem Spiegel und der Erfassungseinrichtung oder in der Erfassungseinrichtung angeordnet ist. Unter einem Transmissionsfilter mit örtlich variierender Transmission wird hierbei ein Filter verstanden, der eine über der Filterfläche unterschiedliche Transmission des reflektierten Lichts ermöglicht. Damit ist es möglich, Intensitäten der reflektierten Lichtstrahlen entsprechend dem Durchtrittspunkt der Lichtstrahlen durch den Transmissionsfilter mit der Erfassungseinrichtung zu erfassen, wobei unterschiedliche Durchtrittspunkte der Lichtstrahlen durch den Transmissionsfilter auf Grund des Ursprungs von unterschiedlichen Lichtquellen zu einer auf Grund der örtlich variierenden Transmission des Transmissionsfilters unterschiedlichen Intensität der von der Erfassungseinrichtung erfassten Lichtstrahlen führen, sodass bei bekannter Ausgangsintensität der von den Lichtquellen der Lichtquellenanordnung erzeugten Lichtstrahlen und einer gegebenen Reflektivität des Spiegels der Durchtrittspunkt der reflektierten Lichtstrahlen durch den Transmissionsfilter aufgrund der durchgelassenen Intensität bestimmbar ist. Mit den Durchtrittspunkten durch den Transmissionsfilter lässt sich die Kippstellung des oder der Spiegel bestimmen.In order to monitor at least one tilted position of at least one mirror, in particular a mirror which can be tilted about at least one axis of rotation, the present invention proposes a device which has at least one set of discrete light sources and at least one detection device. The light of the light source arrangement comprising a set of discrete light sources is reflected by the mirror to be monitored into the detection device, the detection device having a sensor and an objective in order to detect the light reflected by the at least one mirror. In addition, the device according to the invention has a transmission filter with locally varying transmission, which is arranged between the mirror and the detection device or in the detection device. In this case, a transmission filter with locally varying transmission is understood as meaning a filter which permits a transmission of the reflected light which differs over the filter surface. Thus, it is possible to detect intensities of the reflected light beams corresponding to the passage point of the light beams through the transmission filter with the detection means, wherein different transmission points of the light beams through the transmission filter due to the origin of different light sources to a different intensity due to the locally varying transmission of the transmission filter the light beams detected by the detection device, so that at a known output intensity of the light beams generated by the light sources of the light source arrangement and a given reflectivity of the mirror, the passage point of the reflected light beams through the transmission filter can be determined due to the transmitted intensity. With the passage points through the transmission filter, the tilted position of the mirror or mirrors can be determined.
Die Erfassungseinrichtung wird hierzu so ausgebildet und angeordnet, das bei einer zu überwachenden Kippstellung des Spiegels der Spiegel oder der Satz diskreter Lichtquellen (Lichtquellenanordnung) auf den Sensor der Erfassungseinrichtung abgebildet wird, sodass die reflektierten Lichtstrahlen der verschiedenen Lichtquellen der Lichtquellenanordnung als separate Lichtintensitäten entsprechend der Transmission durch den Transmissionsfilter erfasst werden können. Darüber hinaus ist die Vorrichtung so aufgebaut, dass die diskreten Lichtquellen der Lichtquellenanordnung der Reihe nach ein - und ausschaltbar sind.For this purpose, the detection device is designed and arranged in such a way that the mirror or set of discrete light sources (light source arrangement) is imaged onto the sensor of the detection device at a tilting position of the mirror to be monitored, so that the reflected light beams of the different light sources of the light source arrangement as separate light intensities corresponding to the transmission can be detected by the transmission filter. In addition, the device is constructed so that the discrete light sources of the light source assembly can be turned on and off in turn.
Entsprechend werden bei einem Verfahren zur Überwachung mindestens einer Kippstellung mindestens eines Spiegels, insbesondere eines um eine Drehachse kippbaren Spiegels, die Lichtquellen eines Satzes von mehreren diskreten Lichtquellen der Reihe nach an - und ausgeschaltet, sodass der Reihe nach in einer Erfassungseinrichtung mit einem Sensor das von den Lichtquellen ausgestrahlte Licht, welches an dem zu überwachenden Spiegel reflektiert wird, erfasst werden kann, um die Intensität des auf den Sensor auftreffenden Lichts zu bestimmen. Da zwischen dem oder den zu überwachenden Spiegeln und der Erfassungseinrichtung bzw. in der Erfassungseinrichtung ein Transmissionsfilter mit örtlich variierender Transmission angeordnet ist, weisen die vom Spiegel reflektierten Strahlen bei gleicher Ausgangsintensität der Lichtquellen je nach Durchtrittspunkt durch den Transmissionsfilter eine unterschiedliche Intensität auf. Auf Basis der ortsaufgelösten Intensitäten des reflektierten Lichts kann die Kippstellung des Spiegels ermittelt werden.Accordingly, in a method for monitoring at least one tilt position of at least one mirror, in particular a mirror tiltable about a rotation axis, the light sources of a set of a plurality of discrete light sources are switched on and off in sequence, so that in a detection device with a sensor that of the light emitted by the light sources, which is reflected at the mirror to be monitored, can be detected in order to determine the intensity of the incident light on the sensor. Since between the mirror or mirrors to be monitored and the detection device or in the detection device, a transmission filter with locally varying transmission is arranged, the rays reflected from the mirror at the same output intensity of the light sources depending on the passage point through the transmission filter to a different intensity. On the basis of the spatially resolved intensities of the reflected light, the tilted position of the mirror can be determined.
Durch eine mögliche Beschränkung des zu überwachenden Kippwinkelbereichs auf eine vorbestimmte Kippstellung des oder der Spiegel kann eine besonders gute Messgenauigkeit hinsichtlich der Position und/oder Ausrichtung des Spiegels bzw. der Kippstellung des oder der Spiegel erzielt werden.By a possible restriction of the tilting angle range to be monitored to a predetermined tilting position of the mirror or mirrors, a particularly good measuring accuracy with regard to the position and / or orientation of the mirror or the tilted position of the mirror or mirrors can be achieved.
Die an- und ausschaltbaren Lichtquellen des Satzes diskreter Lichtquellen, die für unterschiedliche Reflexionswinkel am zu überwachendem Spiegel und damit zu unterschiedlichen Durchtrittspunkten durch den Transmissionsfilter mit örtlich variierender Transmission führen, können in einem beliebigen zwei - dimensionalen Muster angeordnet sein, wobei bei einer Überwachung der Kippstellung eines oder mehrerer Spiegel um eine Drehachse die diskreten Lichtquellen linear entlang einer Richtung angeordnet sein können. Vorzugsweise können die diskreten Lichtquellen jedoch in einem zwei - dimensionalen Muster entlang mindestens einer ersten Richtung und mindestens einer zweiten Richtung, die zur ersten Richtung senkrecht ist, angeordnet sein, sodass die Kippstellung des oder der zu überwachenden Spiegel um zwei unabhängige Drehachsen überwacht werden kann. Insbesondere können die Lichtquellen kreuzförmig angeordnet sein.The light sources of the set of discrete light sources that can be switched on and off, which lead to different reflection angles at the mirror to be monitored and thus to different transmission points through the transmission filter with locally varying transmission, can be arranged in any two-dimensional pattern, with monitoring of the tilted position one or more mirrors a rotation axis, the discrete light sources may be arranged linearly along a direction. Preferably, however, the discrete light sources may be arranged in a two-dimensional pattern along at least one first direction and at least one second direction perpendicular to the first direction so that the tilt position of the mirror or mirrors to be monitored may be monitored about two independent axes of rotation. In particular, the light sources can be arranged in a cross shape.
Der Transmissionsfilter, der eine örtlich variierende Transmission, also eine über der Transmissionsfläche variierenden Transmission, aufweist, kann so ausgebildet sein, dass die variierende Transmission mindestens in einer Richtung variiert, wenn beispielsweise lediglich die Kippstellung um eine Drehachse überwacht werden soll. Vorzugsweise kann jedoch der Transmissionsfilter eine variierende Transmission entlang zweier unabhängiger Raumrichtungen aufweisen, wobei die entsprechenden Transmissionsverläufe überlagert sein können. Der Transmissionsfilter kann insbesondere einen ersten Verlauf einer variierenden Transmission in einer ersten Richtung (x-Richtung) aufweisen und einen zweiten Verlauf einer variierenden Transmission einer zweiten Richtung (y-Richtung), die insbesondere senkrecht zur ersten Richtung verlaufen kann. The transmission filter, which has a locally varying transmission, that is to say a transmission varying over the transmission surface, can be embodied such that the varying transmission varies in at least one direction, for example if only the tilted position about an axis of rotation is to be monitored. Preferably, however, the transmission filter can have a varying transmission along two independent spatial directions, wherein the corresponding transmission characteristics can be superimposed. The transmission filter may in particular have a first profile of a varying transmission in a first direction (x-direction) and a second profile of a varying transmission of a second direction (y-direction), which may in particular run perpendicular to the first direction.
Beispielsweise kann die Transmission gemäß dem ersten und/oder zweiten Transmissionsverlauf vom Rand des Transmissionsfilters zur Mitte des Transmissionsfilters zu - oder abnehmen und die Transmissionsverläufe können insbesondere einen sinus- oder dreiecksförmigen Verlauf aufweisen.For example, the transmission may increase or decrease in accordance with the first and / or second transmission profile from the edge of the transmission filter to the center of the transmission filter, and the transmission profiles may in particular have a sinusoidal or triangular profile.
Ferner kann der Transmissionsfilter so ausgebildet sein, dass der Transmissionsfilter für das zu filternde Licht bezüglich einer oder mehrerer Eigenschaften des zu filternden Lichts eine örtlich variierende Transmission aufweist. So kann eine Eigenschaft des Lichts die Wellenlänge des Lichts sein, sodass entsprechend für eine bestimmte Wellenlänge des Lichts eine örtlich variierende Transmission im Transmissionsfilter eingestellt ist. Eine weitere mögliche Eigenschaft, gemäß der das Licht durch den Transmissionsfilter gefiltert wird, kann die Polarisation des Lichts sein, sodass beispielsweise in einer Richtung linear polarisiertes Licht entsprechend gefiltert wird.Further, the transmission filter may be formed so that the transmission filter for the light to be filtered has a locally varying transmission with respect to one or more characteristics of the light to be filtered. Thus, a property of the light may be the wavelength of the light, so that a locally varying transmission in the transmission filter is set correspondingly for a certain wavelength of the light. Another possible property, according to which the light is filtered by the transmission filter, may be the polarization of the light, so that linearly polarized light, for example, is filtered in one direction.
Die örtlich variierende Transmission gemäß einer oder mehrerer Eigenschaften des Lichts kann entlang zweier senkrecht zueinander angeordneter Richtungen in dem Transmissionsfilter realisiert werden, sodass beispielsweise in einer ersten Richtung (x-Richtung) rotes Licht unterschiedlich stark gefiltert wird, während in einer senkrecht zur ersten Richtung angeordneten zweiten Richtung (y-Richtung) blaues Licht mit unterschiedlicher Transmission gefiltert wird. Damit lässt sich die Überwachung der Kippstellungen um verschiedene Drehachsen separieren.The locally varying transmission according to one or more characteristics of the light can be realized along two mutually perpendicular directions in the transmission filter so that, for example, red light is filtered differently in a first direction (x-direction) while being arranged in a direction perpendicular to the first direction second direction (y direction) blue light with different transmission is filtered. This allows the monitoring of tilt positions to be separated by different axes of rotation.
Eine einfache Lösung eines Transmissionsfilters stellt jedoch ein Grauverlaufsfilter dar, der unabhängig von der Wellenlänge des Lichts bei weißem Licht die durchgelassene Intensität je nach Transmissionsgrad variiert.A simple solution of a transmission filter, however, is a gray gradient filter which, regardless of the wavelength of the light in the case of white light, varies the transmitted intensity depending on the transmittance.
Sofern mehrere Spiegel beispielsweise in einer Mehrfachspiegelanordnung (MMA Multi Mirror Array) überwacht werden sollen, die beispielsweise in einer oder mehreren Reihen und/oder Spalten nebeneinander angeordnet sind, kann die Erfassungseinrichtung das reflektierte Licht von mehreren oder allen Spiegeln gleichzeitig erfassen. Darüber hinaus können auch mehrere Erfassungseinrichtungen vorgesehen werden.If a plurality of mirrors are to be monitored, for example, in a multi-mirror array (MMA) arranged side by side, for example, in one or more rows and / or columns, the detector may detect the reflected light from multiple or all mirrors simultaneously. In addition, several detection devices can be provided.
Mehrere Erfassungseinrichtungen und/oder mehrere Sätze von diskreten Lichtquellen können auch dazu verwendet werden, bei der Überwachung eines Spiegels bzw. einer Spiegelanordnung mit mehreren Spiegeln nicht nur eine bestimmte Kippstellung des oder der Spiegel zu überwachen, sondern mehrere unterschiedliche Kippstellungen.Multiple detectors and / or multiple sets of discrete light sources may also be used to monitor not only a particular tilt position of the mirror or mirrors when monitoring a mirror or multi-mirror array, but multiple different tilt positions.
Die Erfassungseinrichtung kann einen Flächensensor, wie einen CCD - Sensor (CCD charge coupled device (ladungsgekoppeltes Bauteil)) oder ein CMOS-Sensor (CMOS complementary metal oxide semiconductor (sich ergänzender Metall-Oxid-Halbleiter)) aufweisen, mit dem eine ortsaufgelöste Bestimmung der auftreffenden Lichtintensität möglich ist.The detection device may comprise a surface sensor, such as a charge coupled device (CCD) sensor or a complementary metal oxide semiconductor (CMOS) sensor with which a spatially resolved determination of the incident light intensity is possible.
Die Vorrichtung kann weiterhin eine Auswerteeinheit umfassen, die die von dem Sensor erfassten, ortsaufgelösten Intensitäten auswertet und automatisiert eine Kippstellung des überwachten Spiegels ermittelt, wobei zusätzlich die ermittelte Kippstellung mit einer Soll - Kippstellung, die in der Auswerteeinheit oder einem entsprechenden Speicher gespeichert sein kann, vergleicht, um Abweichungen festzustellen. Die Auswerteeinheit kann hierbei insbesondere durch eine programmtechnisch eingerichtete Datenverarbeitungsanlage realisiert sein.The device may further comprise an evaluation unit which evaluates the spatially resolved intensities detected by the sensor and automatically determines a tilted position of the monitored mirror, wherein additionally the determined tilt position can be stored with a desired tilt position, which can be stored in the evaluation unit or a corresponding memory. compares to detect deviations. The evaluation unit can in this case be realized, in particular, by a data processing system which has been set up by programming.
Die mögliche Abweichung einer Kippstellung des überwachten Spiegels von einer Soll - Kippstellung kann in einer Steuerungs - und/oder Regelungseinrichtung zur Steuerung und/oder Regelung der Kippstellung des mindestens einen überwachten Spiegels Verwendung finden. The possible deviation of a tilted position of the monitored mirror from a desired tilting position can be used in a control and / or regulating device for controlling and / or regulating the tilted position of the at least one monitored mirror.
Die Erfassungseinrichtung kann das reflektierte Licht synchron mit den Schaltzeiten der Lichtquellen erfassen, wobei die Lichtquellen bzw. der Sensor zur Erfassung der auftreffenden Lichtintensität mit einer Frequenz von bis zu 10 000 Hz Schaltungen bzw. Erfassungen pro Sekunde betrieben werden können.The detection device can detect the reflected light in synchronism with the switching times of the light sources, and the light sources or the sensor for detecting the incident light intensity can be operated at a frequency of up to 10,000 Hz, or detections per second.
Figurenlistelist of figures
Die beigefügten Zeichnungen zeigen in rein schematischer Weise in
-
1 eine Darstellung einer erfindungsgemäßen Vorrichtung, -
2 eine Darstellung eines Teils einer erfindungsgemäßen Vorrichtung mit einer detaillierten Darstellung eines Transmissionsfilters und -
3 eine Darstellung einer EUV - Projektionsbelichtungsanlage, bei welcher eine Vorrichtung gemäßden 1 und2 eingesetzt werden kann.
-
1 a representation of a device according to the invention, -
2 a representation of a part of a device according to the invention with a detailed representation of a transmission filter and -
3 a representation of an EUV - projection exposure apparatus, in which a device according to the1 and2 can be used.
AUSFÜHRUNGSBEISPIELEEMBODIMENTS
Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung der Ausführungsbeispiele deutlich. Allerdings ist die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt.Further advantages, characteristics and features of the present invention will become apparent in the following detailed description of the embodiments. However, the invention is not limited to these embodiments.
Die
Die Lichtquellen
Das Licht bzw. die Lichtstrahlen
Die Spiegelanordnung
Die Erfassungseinrichtung
Zwischen der Spiegelanordnung
Das reflektierte Licht
Da das reflektierte Licht
Um zu verhindern, dass das reflektierte Licht
Die
Wie sich aus der
Wie sich aus der
Die räumlich variierende Transmission kann hierbei beschrieben werden mit
Miit der Lage der Durchstoßpunkte
Bei bekannter örtlich variierender Transmission des Transmissionsfilters
Je größer der Transmissionsfilter
Sollen mit der in den
Die
Eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Überwachung der Kippstellung von Spiegel kann in einer entsprechenden EUV - Projektionsbelichtungsanlage
Obwohl die vorliegende Erfindung anhand der Ausführungsbeispiele detailliert beschreiben worden ist, ist für den Fachmann klar, dass die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne Merkmale weggelassen oder andersartige Kombinationen von Merkmalen verwirklicht werden können, solange der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche nicht verlassen wird. Die vorliegende Offenbarung schließt insbesondere sämtliche Kombinationen der vorgestellten Einzelmerkmale mit ein.Although the present invention has been described in detail with reference to the embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that the invention is not limited to these embodiments, but rather modifications are possible in the manner that individual features omitted or other combinations of features can be realized as long as the scope of protection of the appended claims is not abandoned. In particular, the present disclosure includes all combinations of the features presented.
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 11
- Vorrichtungcontraption
- 22
- LichtquellenanordnungLight source arrangement
- 2020
- Lichtquellelight source
- 2121
- Lichtstrahlbeam of light
- 22, 22'22, 22 '
- reflektierter Lichtstrahlreflected light beam
- 3 3
- Spiegelanordnungmirror arrangement
- 3030
- Spiegelmirror
- 44
- Transmissionsfiltertransmission filter
- 4040
- DurchstoßpunktIntersection point
- 55
- Erfassungseinrichtungdetector
- 5050
- Objektivlens
- 5151
- Sensorsensor
- 100100
- EUV - ProjektionsbelichtungsanlageEUV - projection exposure system
- 102102
- EUV - LichtquelleEUV - light source
- 103103
- Beleuchtungssystemlighting system
- 104104
- Projektionsobjektivprojection lens
- 105105
- Retikelreticle
- 106106
- Waferwafer
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturCited patent literature
- DE 102009009372 A1 [0005]DE 102009009372 A1 [0005]
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