DE102016103213A1 - Vorrichtung, Verfahren und Anlage zur der inhomogenen Abkühlung eines flächigen Gegenstandes - Google Patents
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Abstract
Die erfindungsgemäße Vorrichtung dient der inhomogenen Abkühlung eines flächigen Gegenstandes mit einer ersten Hauptfläche und einer dieser gegenüber liegenden zweiten Hauptfläche. Hierbei wird der flächige Gegenstand aus Richtung der ersten Hauptfläche von einer Kühleinrichtung selektiv gekühlt, wobei die Kühleinrichtung einen Hohlraum aufweist, der dazu ausgebildet ist von Kühlflüssigkeit, worunter hier auch andere Kühlmedien verstanden werden, durchströmt zu werden, und der auf der dem flächigen Gegenstand zugewandten Seite durch eine elastische Membran begrenzt ist. Hierbei ist zu dieser elastischen Membran ein Wärmeleitkörper angeordnet ist, der dazu ausgebildet ist mittels einer Wärmeaufnahmefläche mit einer Teilfläche der ersten Hauptfläche des flächigen Gegenstandes sowie mittels einer Wärmeabgabefläche mit der Kühlflüssigkeit in thermischem Kontakt zu stehen, wodurch die zweite Hauptfläche und insbesondere das dazwischen liegende Lot des flächigen Gegenstands während des Abkühlvorgangs zumindest in einem Teilzeitraum der Abkühlung eine inhomogene Temperaturverteilung aufweist
Description
- Die Erfindung beschreibt eine Vorrichtung sowie ein zugehöriges Verfahren zur inhomogenen Abkühlung eines flächigen Gegenstandes insbesondere aus dem Gebiet der Elektrotechnik. Weiterhin wird die Anwendung der Vorrichtung in einer Anlage, genauer eine Lötanlage für elektrotechnische Bauelemente beschrieben.
- Insbesondere ist es fachüblich Bauelemente der Elektrotechnik mittels einer Lötverbindung miteinander oder mit einem Bauelementeträger zu verbinden. Zur Herstellung einer derartigen Lötverbindung wird verflüssigtes Lot, das zwischen den beiden zu verbindenden Elementen angeordnet ist und in Kontakt mit den zu verbindenden Elementen steht, unter den Schmelzpunkt abgekühlt. Das durch den Abkühlprozess erstarrte Lot bildet eine stoffschlüssige Lotverbindung der beiden Elemente aus.
- Insbesondere bei flächigen Lötverbindungen ist es dabei wünschenswert, dass die Lotverbindung eine homogene Schicht, also eine Schicht ohne Gaseinschlüsse, sog. Lunker, ausbildet.
- Aus der
DE 10 2011 081 606 A1 ist eine Kühlvorrichtung zum Abkühlen des noch flüssigen Lots bekannt, bei der eine komplex ausgebildete und gesteuerte Wärmesenke eine gezielte inhomogene Abkühlung des Lots bewirkt. Die Temperaturverteilung des Lots während des Abkühlungsprozesses soll inhomogen ausgebildet sein um zu bewirken, dass beim Abkühlen des Lot dessen Erstarrungsfront ausgehend von einem Startbereiche nach Außen verläuft. Hierbei soll die Entstehung von Lunkern wirkungsvoll vermieden werden. - Ein Mangel der genannten Kühlvorrichtung gemäß dem Stand der Technik liegt in der komplexen Regelung der gesteuerten Wärmesenke.
- In Kenntnis dieser genannten Gegebenheiten liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Vorrichtung und ein zugehöriges Verfahren zu schaffen, die auf einfache Weise eine inhomogene Abkühlung einer Hauptfläche eines flächigen Gegenstandes bewirkt, sowie eine Lötanlage anzugeben, in der diese Vorrichtung angeordnet werden kann.
- Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 1, durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 11, sowie durch eine Lötanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 12. Bevorzugte Ausführungsformen sind in den jeweiligen abhängigen Ansprüchen beschrieben.
- Die erfindungsgemäße Vorrichtung dient der inhomogenen Abkühlung eines flächigen Gegenstandes mit einer ersten Hauptfläche und einer dieser gegenüber liegenden zweiten Hauptfläche. Hierbei wird der flächige Gegenstand aus Richtung der ersten Hauptfläche von einer Kühleinrichtung selektiv gekühlt, wobei die Kühleinrichtung einen Hohlraum aufweist, der dazu ausgebildet ist von Kühlflüssigkeit, worunter hier auch andere Kühlmedien verstanden werden, durchströmt zu werden, und der auf der dem flächigen Gegenstand zugewandten Seite durch eine elastische Membran begrenzt ist. Hierbei ist zu dieser elastischen Membran ein Wärmeleitkörper angeordnet ist, der dazu ausgebildet ist mittels einer Wärmeaufnahmefläche mit einer Teilfläche der ersten Hauptfläche des flächigen Gegenstandes sowie mittels einer Wärmeabgabefläche mit der Kühlflüssigkeit in thermischem Kontakt zu stehen, wodurch die zweite Hauptfläche und insbesondere das dazwischen liegende Lot des flächigen Gegenstands während des Abkühlvorgangs zumindest in einem Teilzeitraum der Abkühlung eine inhomogene Temperaturverteilung aufweist.
- Hierbei wird unter dem Begriff „Abkühlen der zweiten Hauptfläche“ insbesondere verstanden, dass das hieran angrenzende Volumen des flächigen Gegenstandes, also sein dortiger sich von der zweiten Hauptfläche ins Innere des Gegenstandes erstreckender Volumenbereich, ebenso mit abgekühlt wird. Weiterhin ist hier jeweils der Begriff „Fläche“ explizit nicht im mathematischen Sinne zu verstehen, sondern als eine Oberfläche, die somit eine gewisse Topologie, also Höhenunterschiede in ihrem Verlauf aufweisen kann.
- Selbstverständlich können, sofern dies nicht per se ausgeschlossen ist, die im Singular genannten Merkmale in der erfindungsgemäßen Vorrichtung auch mehrfach vorhanden sein. Insbesondere handelt es sich bei dem genannten Wärmeleitkörper um mindestens einen Wärmeleitkörper.
- Vorzugsweise ist der flächige Gegenstand eine Grundplatte eines Leistungshalbleitermoduls mit hierauf angeordneten leistungselektronischen Substraten, wobei zwischen der Grundplatte und dem jeweiligen Substrat das abzukühlende Lot angeordnet ist. Alternativ kann der flächige Gegenstand ein leistungselektronisches Substrat mit hierauf angeordneten Leistungshalbleiterbauelementen sein, wobei zwischen dem Substrat und dem jeweiligen Leistungshalbleiterbauelement das abzukühlende Lot angeordnet ist.
- Es kann vorteilhaft sein, wenn der Wärmeleitkörper einen umlaufenden Einzug aufweist, der in einer Ausnehmung der elastischen Membran angeordnet ist. Hierzu kann der Wärmeleitkörper einstückig, aber bevorzugt zweistückig mit einem ersten Teilkörper außerhalb des Hohlraums und einem zweiten Teilkörper innerhalb des Hohlraums. ausgebildet sein. Dieser erste und zweite Teilkörper sind vorzugsweise kraftschlüssig miteinander verbunden, wobei diese Verbindung vorzugsweise mittels einer Schraube ausgebildet ist. Dabei kann es weiterhin vorteilhaft sein, wenn beide Teilkörper eine Dichtfläche jeweils umlaufend um eine Ausnehmung der Membran aufweisen, wobei diese Dichtflächen vorzugsweise zueinander fluchtend angeordnet sind.
- Es ist insbesondere bevorzugt, wenn der Wärmeleitkörper aus einem sehr gut wärmeleitenden Werkstoff, vorzuweise aus Kupfer oder einer Kupferlegierung mit hohem Kupferanteil, ausgebildet ist. Es kann hierbei sinnvoll sein, wenn die Kontaktfläche und der darunter liegenden Abschnitt des Wärmeleitkörpers vollständig aus dem gleichen sehr gut wärmeleitenden Werkstoff besteht. Alternativ kann der mittige Bereich der Kontaktfläche und der darunter liegenden Abschnitt des Wärmeleitkörpers aus dem sehr gut wärmeleitenden Werkstoff wie beispielhaft Kupfer bestehen, während der Randbereich der Kontaktfläche und der darunter liegende Abschnitt des Wärmeleitkörpers aus einem weniger gut wärmeleitenden Werkstoff wie beispielhaft Aluminium besteht.
- Das erfindungsgemäße Verfahren zur Verwendung bzw. zum Betrieb einer oben genannten Vorrichtung zur inhomogenen Abkühlung eines flächigen Gegenstandes mit einer ersten Hauptfläche und einer dieser gegenüber liegenden zweiten Hauptfläche, weist folgende Schritte auf:
- a. der Hohlraum der Kühleinrichtung wird mit einer Kühlflüssigkeit gefüllt;
- b. der flächige Gegenstand wird mit einer Teilfläche seiner ersten Hauptfläche in thermischen Kontakt mit der Wärmeaufnahmefläche des Wärmeleitkörpers gebracht;
- c. der Hohlraum der Kühleinrichtung wird von der Kühlflüssigkeit durchströmt.
- Eine erfindungsgemäße Lötanlage mit einer oben beschriebenen Vorrichtung ist vorzugsweise als Durchlauflötanlage mit einer Mehrzahl von Kammern ausgebildet. Solche Lötanlagen sind mit verschiedenen Lötverfahren, beispielhaft als Dampfphasenlötanlagen, bekannt. Meist weisen diese Lötanlangen drei Prozesskammern, eine Vorkammer zur Vorerwärmung unterhalb der Lottemperatur, ein Hauptkammer in der das Lot verflüssigt wird und ein Abkühlkammer auf. In dieser Abkühlkammer ist die erfindungsgemäße Vorrichtung angeordnet.
- Es versteht sich, dass die verschiedenen Ausgestaltungen der Erfindung, gleich ob sie im Rahmen der Vorrichtung deren Verwendung oder der Anlage genannt sind, einzeln oder in beliebigen Kombinationen realisiert sein können, um Verbesserungen zu erreichen. Insbesondere sind die vorstehend genannten und hier oder im Folgenden erläuterten Merkmale nicht nur in den angegebenen Kombinationen, sondern auch in anderen sich nicht ausschließenden Kombinationen oder in Alleinstellung einsetzbar, ohne den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
- Weitere Erläuterungen der Erfindung, vorteilhafte Einzelheiten und Merkmale, ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung der in den
1 bis7 schematisch dargestellten Ausführungsbeispiele der Erfindung, oder von jeweiligen Teilen hiervon. -
1 zeigt eine erste Ausgestaltung eines flächigen Gegenstands und eine vereinfachte Darstellung der erfindungsgemäßen Vorrichtung. -
2 zeigt eine zweite Ausgestaltung eines flächigen Gegenstands in seitlicher Ansicht. -
3 zeigt einen Ausschnitt einer erfindungsgemäßen Vorrichtung. -
4 zeigt einen weiteren Ausschnitt einer erfindungsgemäßen Vorrichtung. -
5 zeigt einen zeitlichen Verlauf von Erstarrungsflächen eine Lötung während des erfindungsgemäßen Verfahrens. -
6 und7 zeigen dreidimensionale Darstellungen einer erfindungsgemäßen Vorrichtung,7 mit dem zweiten flächigen Gegenstand. -
1 zeigt in vereinfachter Explosionsdarstellung eine erste Ausgestaltung eines flächigen Gegenstands2 und eine vereinfachte Darstellung der erfindungsgemäßen Vorrichtung1 in seitlicher Ansicht. Bei dieser Ausgestaltung weist der flächige Gegenstand2 eine Grundplatte20 auf. Diese Grundplatte20 ist ohne Beschränkung der Allgemeinheit eine Grundplatte eines Leistungshalbleitermoduls und besteht aus Kupfer oder eine Legierung mit dem Hauptanteil Kupfer. Weiterhin weist diese Grundplatte20 eine lotfähige Oberflächenbeschichtung beispielhaft aus einer dünnen Schicht Nickel auf. - Auf einer Oberfläche der Grundplatte
20 sind zwei leistungselektronische Substrate22 angeordnet und sollen stoffschlüssig, mittels einer Lotschicht26 mit der Grundplatte20 verbunden werden. Die leistungselektronischen Substrate22 sind im übrigen fachüblich ausgebildet und weisen jeweils eine Schichtfolge beginnend mit einer lotfähigen Schicht, zur Verbindung mit der Grundplatte20 , auf. Auf diese Schicht folgt eine Schicht aus einer Industriekeramik, auf die wiederum eine leitfähige Schicht folgt, die in sich strukturiert ist und somit Leiterbahnen ausbildet. Auf diesen Leiterbahnen sind Leistungshalbleiterbauelemente24 angeordnet und auf fachübliche Weise stoffschlüssig damit verbunden. - Diese Komponenten
20 ,22 ,24 ,26 bilden hier die erste Ausgestaltung des flächigen Gegenstands2 aus, dessen erste Hauptfläche200 ausgebildet wird durch die den leistungselektronischen Substraten22 abgewandte Oberfläche der Grundplatte20 . - Die zweite, der ersten gegenüberliegende Hauptfläche
202 , des flächigen Gegenstands2 wird gebildet durch die frei liegenden Oberflächen der Grundplatte20 , der leistungselektronischen Substrate22 und der Leistungshalbleiterbauelemente24 . Diese zweite Oberfläche weist somit eine gewisse Topographie, also eine Oberflächenkontur auf, die in dieser Darstellung nicht maßstäblich wiedergegeben ist. Diese flächige Gegenstand2 bildet eine fachübliche Komponente eines Leistungshalbleitermoduls aus. - Weiterhin dargestellt ist neben dem ersten flächigen Gegenstand
2 , eine vereinfachte Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Vorrichtung, die hier dazu dient die stoffschlüssige, hier lottechnische, Verbindung der Grundplatte20 mit den beiden leistungselektronischen Substraten22 , wobei hier die Leistungshalbleiterbauelemente24 mit den Substraten22 bereits stoffschlüssig verbunden sind, auszubilden. Ausschließlich zur Verdeutlichung sind die Grundplatte20 , die Lotschicht26 und das jeweilige Substrat22 beabstandet dargestellt. - Die erfindungsgemäße Vorrichtung weist eine Kühleinrichtung
1 auf, die hier als Wasserkühleinrichtung, ausgebildet ist. Die Kühlwirkung dieser Kühleinrichtung kann in Ihrer Gesamtheit über die Menge des durchfließenden Kühlmediums12 und dessen Temperatur geregelt werden. Grundsätzlich wäre die gleiche Funktionalität auch mit anderen, auch gasförmigen, Kühlmedien ggf. allerdings technologisch aufwendiger oder ggf. auch mit verminderter Kühlwirkung möglich. - Die Kühleinrichtung
1 weist weiterhin einen Hohlraum10 auf, der auf seiner dem flächigen Gegenstand2 zugewandten Seite unter anderem durch zwei elastische Membranen16 begrenzt ist. Diesen Membranen16 ist ein Wärmeleitkörper3 zugeordnet, genauer in einer jeweiligen Ausnehmungen160 dieser Membranen16 angeordnet. Im einfachsten Fall ist dieser Wärmeleitkörper3 einstückig und zylinderförmig ausgebildet und weist eine umlaufende Nut36 auf, also einen Einzug seiner Seitenfläche, mit der er in einer zugeordneten Ausnehmung160 der Membran16 fixiert ist. Somit ist der Wärmeleitkörper3 durch die Anordnung in der Ausnehmung160 der elastischen Membran16 in den fachüblichen technischen Grenzen in allen Längsrichtungen, insbesondere auf den flächigen Gegenstand zu, wie auch kippend beweglich. - Der Wärmeleitkörper
3 weist eine Wärmeaufnahmefläche300 auf, die dem flächigen Gegenstand2 zugewandt ist. Diese Wärmeaufnahmefläche310 ist bei der Verwendung der Vorrichtung mit einer zugeordneten Teilfläche210 der ersten Hauptfläche200 des flächigen Gegenstands2 in thermisch leitendem Kontakt. - Der Wärmeleitkörper
3 dient bei seiner Verwendung und damit während der Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls dazu das flüssige Lot26 zwischen der Grundplatte20 des Leistungshalbleitermoduls und den jeweiligen Substraten22 derart zu Kühlen, dass die Erstarrung des Lots26 mittig zu dem jeweiligen Substrat22 beginnt und sich eine Erstarrungsfront des Lots26 während des Abkühlprozesses nach außen zum Rand des Substrats22 hin bewegt. Hierdurch kann eine Bildung von Lunkern in dieser vergleichsweise großflächigen Lötung einfach und besonders wirksam verhindert werden. - Es ist fachüblich, dass die Grundplatten
20 von Leistungshalbleitermodulen eine Wölbung aufweisen, an die sich der hier vorgestellte Wärmeleitkörper3 in idealerweise anlegen kann um die Grundplatte200 genau an dieser Teilfläche210 effizient zu kühlen. Dies hat den Vorteil, dass ein idealerweise zentral über dieser Teilfläche210 angeordnetes Substrat22 und damit natürlich das dazwischen angeordnete flüssige Lot26 mittig zum Substrat22 beginnt abzukühlen und zu erstarren. - Der Wärmeleitkörper
3 weist weiterhin eine im Inneren des Hohlraums10 der Kühleinrichtung1 liegende Wärmeabgabefläche330 auf. Diese dient dazu die an der Wärmeaufnahmefläche310 aufgenommene Wärme an die Kühlflüssigkeit12 effizient abzugeben. - Die beschriebenen Vorrichtung weist zwei wesentliche miteinander kombinierte grundlegende Vorteile auf. Einerseits kann die erste Hauptfläche des flächigen Gegenstands eine gewisse Krümmung aufweisen mit der der beweglich gelagerte Wärmeleitkörper in idealen thermischen Kontakt gelangen kann. Andererseits ist die Wärmeabfuhr durch den direkten thermischen Kontakt an einer definierten Stelle dazu geeignet das Erstarren des Lots zeitlich und räumlich zu steuern. Insbesondere wird hierbei eine räumlich inhomogenen Temperaturverteilung, dargestellt durch die Kurve
60 , im Rahmen des Abkühlvorgangs bezogen auf die erste und somit auch zweite Hauptfläche des flächigen Gegenstandes und damit natürlich insbesondere auf das Lotes während der Erstarrung erreicht. -
2 zeigt eine zweite Ausgestaltung eines flächigen Gegenstands2 in seitlicher Ansicht. Bei dieser zweiten Ausgestaltung des flächigen Gegenstands2 weist dieser ein leistungselektronisches Substrat22 auf. Dieses leistungselektronische Substrat22 ist im übrigen fachüblich ausgebildet und weist eine Schichtfolge aus einer unteren metallischen Schicht auf, die allerdings nur optional ist. Auf diese Schicht folgt eine Schicht aus einer Industriekeramik, oder aus einer anderen elektrisch isolierenden Schicht, auf die wiederum eine leitfähige Schicht folgt, die in sich strukturiert ist und somit Leiterbahnen ausbildet. Auf diesen Leiterbahnen sind Leistungshalbleiterbauelement24 angeordnet und lottechnisch damit zu verbinden. Ausschließlich zur Verdeutlichung sind das leistungselektronische Substrat22 die Lotschicht26 und das jeweilige Leistungshalbleiterbauelement24 beabstandet dargestellt. - Diese Komponenten
22 ,24 ,26 wilden hier die zweite Ausgestaltung des flächigen Gegenstands2 aus, dessen erste Hauptfläche200 ausgebildet wird durch die Unterseite des leistungselektronischen Substrats22 . Die zweite, der ersten gegenüberliegende Hauptfläche202 des flächigen Gegenstands2 wird gebildet durch die frei liegenden Oberflächen des leistungselektronischen Substrats22 und der Leistungshalbleiterbauelemente24 . Diese zweite Oberfläche202 weist somit eine gewisse Topographie, also eine Oberflächenkontur auf, die in dieser Darstellung nicht maßstäblich wiedergegeben ist. Diese flächige Gegenstand2 bildet ebenfalls eine fachübliche Komponente eines Leistungshalbleitermoduls aus. - Die erfindungsgemäße Vorrichtung dient in analoger Weise wie zu
1 beschrieben der gesteuerten Erstarrung des Lots26 . -
3 zeigt in Explosionsdarstellung einen Ausschnitt einer erfindungsgemäßen Vorrichtung. Dargestellt ist eine elastische Membran, ausgebildet aus einem Silikonkautschuk mit einer bevorzugten Dicke zwischen 0,2mm und 2,0mm, insbesondere von 1,3mm, die in der Kühleinrichtung1 seitlich fixiert ist. Diese Membran16 weist hier eine zentral gelegene, kreisförmige Ausnehmung160 auf. Der Wärmeleitkörper3 besteht hier aus einem ersten und einem zweiten rotationssymmetrischen Teilkörper30 ,32 , die mittels einer Schraubverbindung34 miteinander verbunden sind. - Der erste Teilkörper
30 weist eine Wärmeaufnahmefläche310 auf, die dazu ausgebildet ist in thermisch leitendem Kontakt mit der ersten Teilfläche210 der ersten Hauptfläche200 des zu kühlenden flächigen Gegenstandes2 zu stehen und dort temporär eine inhomogenen Temperaturverteilung, wie schematisch als Kurve60 dargestellt, zu erzeugen. - Der erste Teilkörper
30 weist weiterhin auf seiner der Wärmeaufnahmefläche310 abgewandten Seite eine erste Dichtfläche300 auf, die umlaufend um den Rand der Ausnehmung160 der elastischen Membran16 angeordnet ist. - Der zweite Teilkörper
32 weist einen stufigen Querschnitt auf, um eine Ausnehmung36 des Wärmeleitkörpers3 auszubilden. Weiterhin weist er eine zweite Dichtfläche320 auf, die fluchtend mit der ersten Dichtfläche300 des ersten Teilkörpers30 ausgebildet ist. Durch die Verbindung der beiden Teilkörper30 ,32 umschließen diese Dichtflächen300 ,320 die Ausnehmung160 der elastischen Membran16 und dichten somit die Kühleinrichtung1 ab, damit keine Kühlflüssigkeit12 austreten kann. - Weiterhin weist der zweite Teilkörper
32 eine Wärmeabgabefläche330 auf. Im Grund bildet seine gesamte mit der Kühlflüssigkeit in Kontakt stehend Oberfläche diese Wärmeabgabefläche330 aus. Zusätzlich kann diese noch eine Oberflächenkontur in der Art von Kühlrippen oder Kühlfingern aufweisen um die Oberfläche zu vergrößern und somit die Wärmeabgabe effizienter zu gestalten. -
4 zeigt einen weiteren Ausschnitt einer erfindungsgemäßen Vorrichtung. Der erste Teilkörper30 des Wärmeleitkörpers3 gemäß3 ist hier derart weitergebildet, dass er nicht durchgängig aus einem einzigen besonders effizient Wärme leitenden Werkstoff, wie bevorzugt Kupfer besteht. Bei dieser Weiterbildung weist der rotationssymmetrische erste Teilkörper30 umlaufend um die Wärmeaufnahmefläche310 einen Bereich314 auf, der aus einem weniger gut Wärme leitenden Werkstoff besteht. Dieser Werkstoff kann beispielhaft eine Kupferlegierung sein. - Dieser weniger gut Wärme leitende Werkstoff erstreckt sich in den Abschnitt
315 unterhalb der Wärmeaufnahmefläche310 , wobei dieses Erstrecken nicht zwangsläufig linear, also gleichmäßig in die Tiefe ausgebildet sein muss. Entscheidend ist, dass durch diese weitergebildete Ausgestaltung ein zweistufiges Profil der Abkühlung der ersten und zweiten Hauptfläche des flächigen Gegenstands damit auch Lotschicht erfolgt, wie in der Kurve62 angedeutet. -
5 zeigt einen zeitlichen Verlauf von Erstarrungsfronten260 eines Lots26 während des erfindungsgemäßen Verfahrens. Dargestellt ist die Draufsicht auf ein Leistungshalbleiterbauelement24 , das auf ein nicht dargestelltes Substrat gelötet werden soll. Das diesem Leistungshalbleiterbauelement24 zugeordnete Lot26 wird von der ersten Hauptfläche des Substrats, vgl.2 , aus gekühlt indem dort mit der Teilfläche der ersten Hauptfache die Wärmeaufnahmefläche des Wärmeleitkörpers in thermischen Kontakt gebracht wird. Im Laufe der Anwendung des Abkühlverfahren erstarrt das Lot vom Zentrum aus nach Außen, was durch die als kontinuierlichen zeitlichen Verlauf zu verstehenden Verschiebung von Erstarrungsfronten260 des Lots26 dargestellt ist. -
6 und7 zeigen dreidimensionale Darstellungen einer erfindungsgemäßen Vorrichtung, in7 mit einem flächigen Gegenstand2 . Dargestellt ist eine Kühleinrichtung1 mit einem von Kühlflüssigkeit12 durchströmbaren Hohlraum10 . Dieser Hohlraum10 wird in Richtung auf den flächigen Gegenstand2 , der hier ein Leistungshalbleitermodul mit sechs in Reihe angeordneten Substraten ist, durch eine elastische Membran16 mit sechs Ausnehmungen und in diesen Ausnehmungen angeordneten Wärmeleitkörpern3 begrenzt. Diese Wärmeleitkörper3 können sich mittels der elastischen Membran16 in den durch den Werkstoff der Membran vorgegebenen Grenzen bewegen, insbesondere kann sie eine Kipp- bzw. Drehbewegung ausführen. Zur Begrenzung der Bewegung in Richtung auf den flächigen Gegenstand zu ist hier zusätzlich eine Metallplatte18 angeordnet, die einen Anschlag in diese Bewegungsrichtung ausbildet. - Der Wärmeleitkörper
3 ist im Grund gleich demjenigen gemäß3 ausgebildet. - Eine derartig Vorrichtung ist bevorzugt Teil einer Lötanlage, bei der in einer ersten Kammer eine Vorerwärmung des flächigen Gegenstandes, hier einer Grundplatte eines Leistungshalbleitermoduls mit darauf angeordneten aber noch nicht verbundenen, fertig ausgebildeten, Substraten. Zwischen dem jeweiligen Substrat und der Grundplatte ist jeweils ein Lot, vorteilhafterweise in Form einer Folie, angeordnet. In der zweiten Kammer wird das Lot von der festen in die flüssige Phase überführt, wobei hier der konkret verwendete Prozess keine Einschränkung bildet. In einer weiteren Kammer, der Abkühlkammer ist die dargestellte Vorrichtung angeordnet, durch die das Lot wieder gezielt in die feste Phase überführt wird und somit die Substrate fest mit der Grundplatte verbunden werden.
- Im Rahmen des Verfahrens ist der Hohlraum
10 der Kühleinrichtung1 mit Kühlflüssigkeit12 unter einem gewissen Druck gefüllt. Hierdurch werden die Wärmeleitkörper3 und die elastische Membran16 gegen die Metallplatte18 gedrückt und damit eine Volumenausdehnung des Hohlraums10 begrenzt. - Nachfolgend wird der flächige Gegenstand
2 , also die Grundplatte samt Substraten und dazwischen angeordnetem flüssigem Lot auf den Wärmeleitkörpern3 angeordnet und mit Druck soweit beaufschlagt, dass die Wärmeleitkörper3 sich mit ihrer Wärmeaufnahmefläche310 an die erste Hauptfläche der Grundplatte anlegen können. Hierbei ist die Metallplatte18 als Anschlag selbstverständlich nicht mehr wirksam. Bei dieser Ausführung fluchten die Wärmeleitkörper3 mit dem Zentrum des jeweils zugeordneten Substrats. - Durch den thermischen Kontakt der Wärmeleitkörper
3 mit den zugeordneten Teilflächen der ersten Hauptfläche der Grundplatte werden diese lokal abgekühlt, da die Wärmleitkörper3 mit der Kühlflüssigkeit12 , die einer geringere Temperatur als das Lot aufweist, in thermisch leitendem Kontakt steht. Es erfolgt also über den jeweiligen Wärmeleitkörper3 ein Temperaturausgleich zwischen der jeweiligen Teilfläche und der Kühlflüssigkeit. Fachüblich wird der Hohlraum der Kühleinrichtung während des Verfahren mit Kühlflüssigkeit durchströmt. - Durch diese beschriebenen Temperaturausgleich erstarrt das Lot oberhalb der Teilfläche der ersten Hauptfläche. Im weiteren zeitlichen Ablauf läuft die Erstarrungsfront von diesem zentralen Bereich nach außen bis an den Rand der jeweiligen Substrate.
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- DE 102011081606 A1 [0004]
Claims (12)
- Vorrichtung zur inhomogenen Abkühlung eines flächigen Gegenstandes (
2 ) mit einer ersten Hauptfläche (200 ) und einer dieser gegenüber liegenden zweiten Hauptfläche (202 ), wobei der flächige Gegenstand (2 ) aus Richtung der ersten Hauptfläche (200 ) von einer Kühleinrichtung (1 ) selektiv gekühlt wird, wobei die Kühleinrichtung (1 ) einen Hohlraum (10 ) aufweist, der dazu ausgebildet ist von Kühlflüssigkeit (12 ) durchströmt zu werden, und der auf der dem flächigen Gegenstand (2 ) zugewandten Seite (14 ) durch eine elastische Membran (16 ) begrenzt ist und wobei zu dieser elastischen Membran (16 ) ein Wärmeleitkörper (3 ) angeordnet ist, der dazu ausgebildet ist mittels einer Wärmeaufnahmefläche (310 ) mit einer Teilfläche (210 ) der ersten Hauptfläche (200 ) des flächigen Gegenstandes (2 ) sowie mittels einer Wärmeabgabefläche (330 ) mit der Kühlflüssigkeit (14 ) in thermischem Kontakt zu stehen stehenden, wodurch die zweite Hauptfläche (202 ) des flächigen Gegenstands (2 ) während des Abkühlvorgangs zumindest in einem Teilzeitraum der Abkühlung eine inhomogene Temperaturverteilung (60 ,62 ) aufweist. - Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei der flächige Gegenstand (
2 ) eine Grundplatte (20 ) eines Leistungshalbleitermoduls mit hierauf angeordneten leistungselektronischen Substraten (22 ) ist und zwischen der Grundplatte (20 ) und dem jeweiligen Substrat (22 ) Lot (26 ) angeordnet ist. - Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei der flächige Gegenstand (
2 ) ein leistungselektronisches Substrat (22 ) mit hierauf angeordneten Leistungshalbleiterbauelementen (24 ) ist und zwischen dem Substrat (22 ) und dem jeweiligen Leistungshalbleiterbauelement (24 ) Lot (26 ) angeordnet ist. - Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Wärmeleitkörper (
3 ) einen umlaufenden Einzug (36 ) aufweist, der in einer Ausnehmung (160 ) der Membran (16 ) angeordnet ist. - Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Wärmeleitkörper (
3 ) zweistückig ausgebildet ist, mit einem ersten Teilkörper (30 ) außerhalb des Hohlraums und einem zweiten Teilkörper (32 ) innerhalb des Hohlraums. - Vorrichtung nach Anspruch 5, wobei der erste und zweite Teilkörper (
30 ,32 ) kraftschlüssig miteinander verbunden sind und diese Verbindung vorzugsweise mittels einer Schraube (34 ) ausgebildet ist. - Vorrichtung nach Anspruch 5 oder 6, wobei beide Teilkörper (
30 ,32 ) je eine Dichtfläche (300 ,320 ) jeweils umlaufend um eine Ausnehmung (160 ) der Membran (16 ) aufweisen und wobei diese Dichtflächen (300 ,320 ) vorzugsweise zueinander fluchtend angeordnet sind. - Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Wärmeleitkörper (
3 ) aus einem sehr gut wärmeleitenden Werkstoff, vorzuweise aus Kupfer oder einer Kupferlegierung mit hohem Kupferanteil, ausgebildet ist. - Vorrichtung nach Anspruch 8, wobei die Kontaktfläche (
310 ) und der darunter liegenden Abschnitt (311 ) des Wärmeleitkörpers vollständig aus dem gleichen sehr gut wärmeleitenden Werkstoff besteht. - Vorrichtung nach Anspruch 8, wobei der mittige Bereich (
312 ) der Kontaktfläche (310 ) und der darunter liegenden Abschnitt (313 ) des Wärmeleitkörpers (3 ) aus dem sehr gut wärmeleitenden Werkstoff besteht während der Randbereich (314 ) der Kontaktfläche (310 ) und der darunter liegende Abschnitt (315 ) des Wärmeleitkörpers (3 ) aus einem weniger gut wärmeleitenden Werkstoff besteht. - Verfahren zur Verwendung einer Vorrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche zur inhomogenen Abkühlung eines flächigen Gegenstandes (
2 ) mit einer ersten Hauptfläche (200 ) und einer dieser gegenüber liegenden zweiten Hauptfläche (202 ), wobei a. der Hohlraum (10 ) der Kühleinrichtung (1 ) mit einer Kühlflüssigkeit (12 ) gefüllt wird; b. der flächige Gegenstand (2 ) mit einer Teilfläche (210 ) seiner ersten Hauptfläche (200 ) in thermischen Kontakt mit der Wärmeaufnahmefläche (310 ) des Wärmeleitkörpers (3 ) gebracht wird; c. der Hohlraum (10 ) der Kühleinrichtung (1 ) von der Kühlflüssigkeit (12 ) durchströmt wird. - Lötanlage mit einer Vorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 11, wobei die Lötanlage als Durchlauflötanlage mit einer Mehrzahl von Kammern ausgebildet ist, wobei die Vorrichtung in einer Abkühlkammer angeordnet ist.
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