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Die Erfindung betrifft eine Reinigungsanlage für eine elektrische Baugruppe, die eine Trägerplatte mit darauf platzierten elektrischen Bauelementen aufweist, mit einer Haltevorrichtung für die Trägerplatte und einer Reinigungsvorrichtung, die zur Beaufschlagung der elektrischen Baugruppe in einem Reinigungsprozess ausgebildet ist. Außerdem betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Reinigen einer elektrischen Baugruppe.
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Reinigungsverfahren für elektrische Baugruppen sowie hierzu geeignete Reinigungsanlagen sind aus dem Stand der Technik bekannt. Diese bekannten Anlagen können beispielsweise in eine Fertigungsstraße für elektronische Komponenten, wie zum Beispiel Leiterplatten, integriert werden. Die gelöteten Baugruppen, aufweisend Leiterplatten mit drauf platzierten elektrischen Bauelementen, können zum Beispiel nach der Entnahme aus dem Reflow- oder sonstigen Lötofen in einer geeigneten Haltevorrichtung einer Reinigungsanlage zugeführt werden, wobei die gesamte Oberfläche der Baugruppe gereinigt wird. Hier können zum Beispiel Flussmittelreste entfernt werden, um die Produkte für weitere Prozessschritte (zum Beispiel: Vergießen, Belacken, etc.) vorzukonditionieren. Eine weitere Reinigung kann vor dem Lötofen stattfinden. Dabei können vorher falsch aufgebrachte Medien, wie Lotpaste oder Kleber, aber auch falsch positionierte Bauelemente nach dem Montageprozess von der Baugruppe entfernt werden. Entscheidend ist dabei, dass etwaige, bereits in einem vorangegangenen Fertigungsschritt korrekt aufgebaute, elektrische Bauelemente der Baugruppen nicht beschädigt werden. Außerdem müssen die zu entfernenden Rückstände insbesondere dort entfernt werden, wo sie für die noch folgenden Montageprozesse besonders kritisch sind, beispielsweise in Durchkontaktierungen.
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Bei der Reinigung der gesamten Fläche der Baugruppe, das heißt, bei zeitgleicher Reinigung der beiden Seiten der Baugruppe, entsteht das Problem, dass sich die durch die Reinigung abgelösten Stoffe in Teilbereichen der zu reinigenden Baugruppe festsetzen, zum Beispiel Lotkugeln in Steckverbindern, oder dass das Reinigungsmedium in Hohlräume oder andere schwer zugängliche Areale der Baugruppe eindringt und dort nach dem Reinigungsprozess verbleibt. Dies erfordert für die vorgesehenen Trocknungsprozesse längere Trocknungszeiten und kann im Fall des Verbleibens von abgelösten Stoffen auf der Baugruppe auch zu Fehlfunktionen führen.
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Die Reinigung erfolgt derzeit in speziellen, geschlossenen Anlagen mittels Ultraschall, Tauch- oder Sprühreiniguneng mit Alkohol- oder wasserbasierenden, flüssigen Medien. Die Spülung erfolgt in gleicher Weise oder alternativ mit Stadt-Wasser, VE-Wasser oder anderen sauberen Reinigungsmitteln. Danach werden die Baugruppen getrocknet. Bei dieser Art der Reinigung werden beide Baugruppenseiten in gleicher Weise behandelt. Empfindliche Bauteile können dabei zerstört werden. So ist diese Reinigung lediglich für unbestückte Baugruppen zu empfehlen.
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Die Nachteile des aus dem Stand der Technik bekannten Reinigungsprozesses bestehen darin, dass unter großflächigen Bauelementen eine Restfeuchte verbleiben kann, die im späteren Verlauf zu einer Fehlerfunktion führen kann. Es ist außerdem möglich, dass die entfernten Lotpastenreste über die komplette Baugruppe verteilt werden. Dies ist insbesondere im Bereich von bestückten Baugruppen problematisch. Es kommt hinzu, dass gewisse Bauelemente nicht waschbar sind. Ein entscheidender Nachteil sind auch die langen Prozesszeiten, die durch die aufwändige Reinigung beziehungsweise Spülung und Trocknung entstehen.
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Demgemäß besteht die Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, eine Reinigungsanlage für elektrische Baugruppen anzugeben, die eine zuverlässige und gezielte Reinigung ermöglicht, sowie ein Verfahren zum Reinigen einer elektrischen Baugruppe zu benennen.
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Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Reinigungsanlage mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 sowie durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Patentanspruchs 9 gelöst. Vorteilhafte Aus- und Weiterbildungen, welche einzeln oder in Kombination miteinander eingesetzt werden können, sind der Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
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Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch eine Reinigungsanlage für eine elektrische Baugruppe gelöst, die eine Trägerplatte mit darauf platzierten elektrischen Bauelementen aufweist, mit einer Haltevorrichtung für die Trägerplatte und einer Reinigungsvorrichtung, die zur Beaufschlagung der elektrischen Baugruppe in einem Reinigungsprozess ausgebildet ist. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass die Trägerplatte in der Haltevorrichtung positionsstabil fixiert ist, wobei der zu reinigende Teil der einen Seite der Trägerplatte mit einer Reinigungsvorrichtung zu beaufschlagen ist.
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Der Gegenstand der Erfindung ist eine Reinigungsanlage sowie ein Verfahren zum Reinigen von elektrischen Baugruppen ohne Beigabe beziehungsweise den Gebrauch von flüssigen Reinigungsmedien und/oder Ultraschall. Die erfindungsgemäße Reinigungsanlage weist den Vorteil auf, dass nur eine Seite der Baugruppe gereinigt werden muss, ohne die andere Seite mit Reinigungsmedium beziehungsweise Ultraschall zu beaufschlagen. Das führt dazu, dass die Gefahr der Rückstandsbildung durch das Reinigungsmedium beziehungsweise der vom Reinigungsmedium mitgeführten Verschmutzungen sowie die Penetration von Reinigungsmedium in eine bereits fertig aufgebaute Leiterplattenseite und deren Bauelemente verringert werden. Ferner wird die Zerstörung der bereits verbauten Komponenten durch die Einwirkung von Ultraschall vermieden. Außerdem muss die Baugruppe keinem Trocknungsprozess unterworfen werden, so dass kürzere Reinigungszeiten erzielt werden können.
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Der Abtrag der fehlerbedruckten Lotpasten erfolgt mit gerichtetem und/oder diffusem Vakuum in Verbindung mit vor- und nachlaufenden Abstreifern, Bürsten oder Reinigungsvliesen (Papierrollen). Auch der zusätzliche Eintrag von Heißgas, bzw. vorgewärmter Luft ist möglich, um die zu reinigenden Materialien vor der Entfernung genügend zu erweichen. Die elektrischen Baugruppen werden hierzu mittels Haltevorrichtung fixiert und mittels Reinigungsvorrichtung gereinigt.
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Die erfindungsgemäße Reinigungsanlage setzt auf eine flächige oder lokale Vakuumabsaugung fehlerbedruckter Lotpasten und/oder Kleber und/oder Sinterpasten ohne eine Beeinflussung der bereits bestückten und gelöteten ersten Leiterplattenseite, wobei sowohl auf ein Reinigungsmedium, als auch auf Ultraschall verzichtet wird. Lediglich warme, bzw. heiße Luft kann eingetragen werden um durch eine Materialerweichung eine Verbesserung der Reinigungsqualität zu erzielen. Dabei soll jedoch nicht ausgeschlossen werden, dass zukünftig entwickelte Reinigungsmedien verwendet werden können, zum Beispiel, um die Qualität der Reinigungsvorrichtung weiter zu steigern, ohne die bereits aufgebaute Bauelementeseite negativ zu beeinflussen.
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Der Erfindung liegt der Gedanke zugrunde, dass die Haltevorrichtung derart an die Geometrie der elektrischen Baugruppe angepasst sein kann, dass der zu reinigende Teil der einen Seite der Trägerplatte mit einem ein- oder zweistufigem Vakuumsauger beaufschlagt wird, wobei zwischen diesen Vakuumsaugern oder auch nachgeschaltet eine mechanische Reinigungsvorrichtung angeordnet sein kann.
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Die Erfindung macht sich die Erkenntnis zunutze, dass in Fertigungsprozessen für die Herstellung von elektrischen Baugruppen auf Trägerplatten wie Leiterplatten häufig nur die Reinigung einer der beiden Seiten der Trägerplatte erforderlich ist. Beim erfindungsgemäßen Reinigungsverfahren kann die zu reinigende Seite der Trägerplatte gereinigt werden, ohne dass die andere Seite der Trägerplatte mit den durch die Reinigung abgelösten Rückständen oder einem Reinigungsmedium beziehungsweise Ultraschall, beaufschlagt wird. Dies bewirkt vorteilhaft, dass die andere Seite der Trägerplatte weder der Gefahr ausgesetzt wird, dass Rückstände des Reinigungsverfahrens sich in diesem Bereich der Baugruppe festsetzen, noch dass es erforderlich wird, dass für die andere Seite der Trägerplatte ein Trocknungsverfahren durchgeführt werden muss.
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Hierdurch wird vorteilhaft auch die Komplexität der Reinigungsanlage verringert, da die Reinigungs- und eventuelle Trocknungsvorrichtung jeweils nur für eine Seite der Baugruppe, nämlich die zu reinigende Seite der Leiterplatte, vorgesehen werden müssen. Besonders einfach wird die Reinigung, wenn die zu reinigende Seite der Trägerplatte frei von Bauelementen ist, es sich also beispielsweise um die Rückseite einer Trägerplatte handelt.
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Mit der erfindungsgemäßen Reinigungsanlage kann eine Reinigung von Trägerplatten mit Bauelementen nach der Applikation von Lotpasten, Sinterpasten oder Kleber erfolgen. Hierbei gibt es prinzipiell zwei Möglichkeiten, Trägerplatten von Rückständen eines Materials zu befreien. Dieser Reinigungsvorgang wird beispielsweise nach dem Fehlbedrucken von Leiterplatten mit Lotpasten, Sinterpasten oder Kleber erforderlich. Hierbei kann einerseits ein lokales Reinigen von Flächenabschnitten der Trägerplatte erfolgen, welche versehentlich mit der Lotpaste, Sinterpaste oder dem Kleber beschichtet worden sind. Andererseits kann nach einer Fehlbedruckung der Trägerplatte die Lotpaste, Sinterpaste oder der Kleber komplett, das heißt, vollflächig von der betreffenden Seite der Trägerplatte entfernt werden. Für diesen Fall ergibt sich eine besonders vorteilhafte Anwendung der Reinigungsanlage für die Fälle, in denen die Trägerplatte auf der anderen Seite bereits mit Bauelementen bestückt ist.
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Wird die Lotpaste, Sinterpaste oder der Kleber auf der einen Seite falsch aufgetragen oder werden Bauelemente falsch bestückt, so kann diese mittels der erfindungsgemäßen Reinigungsanlage nur von der einen Seite wieder gereinigt werden, während die Bauelemente auf der anderen Seite vom Reinigungsmedium und/oder Ultraschall nicht beaufschlagt werden. Hierdurch kann eine Belastung der auf der Trägerplatte befestigten Bauelemente durch den Reinigungsprozess vermieden werden und gleichzeitig ist eine effektive Reinigung der einen, falsch bedruckten bzw. bestückten Seite möglich. Allerdings sind vorhandene oder zukünftig entwickelte Reinigungsmedien von der Verwendung nicht ausgeschlossen. Zusätzlicher Eintrag von Warm-/bzw. Heißgas kann den Reinigungserfolg noch weiter verbessern.
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In einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung kann es vorgesehen sein, dass die Haltevorrichtung eine Klemmvorrichtung oder Spannvorrichtung ist. Dabei wird die Trägerplatte, die beidseitig mit elektrischen Bauelementen bestückt sein kann, positionsstabil, das heißt, ohne in eine bestimmte Prozessrichtung bewegt zu werden, in dieser Klemmvorrichtung oder Spannvorrichtung gehalten. Die Reinigungsvorrichtung wird nur auf einer Seite der Trägerplatte zugeführt. Die andere Seite der Trägerplatte bleibt unberührt.
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Eine erfindungsgemäße Weiterführung des Konzepts kann darin bestehen, dass die Reinigungsvorrichtung ein Vakuumsauger ist. Der Vakuumsauger ist über die zu reinigende Seite der Trägerplatte geführt und entfernt dabei elektrische Bauelemente oder Ähnliches.
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In einer weiteren speziellen Fortführung des erfindungsgemäßen Konzepts kann es vorgesehen sein, dass die Reinigungsvorrichtung senkrecht zur Trägerplatte ausgerichtet ist und oberhalb der zu entfernenden elektrischen Bauelemente angeordnet ist. Ist die Reinigungsanlage oberhalb der zu entfernenden elektrischen Bauelementen angeordnet, so werden die Bauelemente entgegen der Gravitationskraft abgeführt.
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In einer speziellen Ausgestaltung der Erfindung kann es vorgesehen sein, dass die Reinigungsvorrichtung senkrecht zur Trägerplatte ausgerichtet ist und unterhalb der zu entfernenden elektrischen Bauelemente angeordnet ist. Bei dieser Anordnung nutzt die Reinigungsanlage die Gravitationskraft aus.
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Eine erfindungsgemäße Weiterführung des Konzepts kann darin bestehen, dass die Reinigungsvorrichtung mit einem Abstreifer gekoppelt ist, welcher die Verschmutzungen von der Trägerplatte in einem ersten Schritt abtrennt, bevor sie von der Reinigungsvorrichtung mittels Vakuum entfernt werden. Der Abstreifer kann dabei als Bürste oder Reinigungsvlies (Papierrolle) ausgebildet sein.
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In einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung kann es vorgesehen sein, dass die Reinigungsvorrichtung mit einer Vakuumvorrichtung gekoppelt ist, die der Reinigungsvorrichtung nachgeschaltet ist. Diese Vakuumvorrichtung geht vorzugsweise mit einem diffusen Vakuum über die zu reinigenden Seite der Trägerplatte und trägt so zu einer hohen Reinigungseffizienz bei.
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Eine erfindungsgemäße Weiterführung dieses Konzepts kann darin bestehen, dass die Vakuumvorrichtung mit einem Abstreifer gekoppelt ist. Diese Doppelfunktion aus Vakuumvorrichtung und Abstreifer trägt ebenfalls zur Reinigungseffizienz bei.
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In einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung kann es vorgesehen sein, dass die Reinigungsvorrichtung mit einer Warm- bzw. Heißgaseinbringung über die Zuführstutzen gekoppelt ist, welche die Verschmutzungen auf der Trägerplatte in einem ersten Schritt erweicht oder aufschmilzt, bevor sie von der Reinigungsvorrichtung mittels Vakuum entfernt werden. Eine vorteilhafte Ausgestaltung ist die zusätzliche Einbringung von Warm- bzw. Heißgas, wobei die Temperatur weit unterhalb der Schmelztemperaturen aller Materialien liegen kann, um lediglich die zu reinigenden Materialien zu erwärmen, zu erweichen und somit die Reinigungseffizienz noch weiter zu steigern.
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Eine Weiterführung dieser Ausgestaltung ist die Erhöhung des eingebrachten Heißgases über die Schmelztemperatur des Lotwerkstoffes. Hierbei sind dann auch bereits gelötete Bauelemente einfach zu entfernen.
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Die erfindungsgemäße Aufgabe wird außerdem durch ein Verfahren zum Reinigen einer elektrischen Baugruppe mit einer Trägerplatte gelöst, auf welcher elektrische Bauelemente platziert sind, wobei die Trägerplatte positionsstabil in eine Haltevorrichtung eingeklemmt wird und wobei der zu reinigende Teil der einen Seite der Trägerplatte mit einer Reinigungsvorrichtung beaufschlagt wird. Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht es, dass nur die zu reinigende Seite der Trägerplatte gereinigt wird, ohne dass die andere Seite der Trägerplatte mit den durch die Reinigung abgelösten Rückständen oder einem Reinigungsmedium beziehungsweise Ultraschall beaufschlagt wird. Damit ist der Vorteil verbunden, dass die andere Seite der Trägerplatte nicht der Gefahr ausgesetzt wird, dass Rückstände des Reinigungsverfahrens sich in diesen Bereich der Baugruppe festsetzen. Zudem ist es durch das erfindungsgemäße Verfahren nicht erforderlich, dass für die andere Seite der Trägerplatte ein Trocknungsverfahren durchgeführt werden muss.
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In einer Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann es vorgesehen sein, dass der zu reinigende Teil der einen Seite der Trägerplatte neben der Reinigungsvorrichtung zusätzlich mit einem Abstreifer und einer Warm- bzw. Heißeinbringung über Zuführstutzen beaufschlagt wird. Der Abstreifer hat dabei eine zusätzliche Reinigungswirkung.
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Die erfindungsgemäße Reinigungsanlage weist eine Haltevorrichtung auf, die als Klemmvorrichtung oder Spannvorrichtung ausgebildet sein kann und die eine Trägerplatte positionsstabil fixiert, das heißt, dass die Trägerplatte nicht in einer Prozessrichtung transportiert wird. Die Haltevorrichtung ermöglicht es, dass nur die zu reinigende Seite der Trägerplatte einer Reinigungsvorrichtung zugewandt ist. Die nicht zu reinigende Seite der Trägerplatte bleibt vom Reinigungsprozess unberührt. Die Trägerplatte weist eine Oberseite und eine Unterseite auf. Die Reinigungsvorrichtung, die vorzugsweise als Vakuumsauger ausgebildet sein kann, kann über die Oberseite der Trägerplatte geführt werden, während die Unterseite der Trägerplatte bereits mit Bauelementen bestückt ist und vom Reinigungsvorgang auf der Oberseite unberührt bleibt. Die Reinigungsvorrichtung kann ebenso aber auch den Gravitationseffekt ausnützen und über die Unterseite der Trägerplatte geführt werden, während die Oberseite mit den Bauelementen von diesem Reinigungsprozess völlig unberührt bleibt. Als zusätzliche Reinigungsmaßnahme können unterschiedliche Abstreifervorrichtungen zusätzlich zur Reinigungsvorrichtung über die zu reinigende Seite der Trägerplatte geführt werden. Die zusätzliche Reinigungsfunktion kann auch von einer Bürste oder einem Reinigungsvlies (Papierrolle) übernommen werden.
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Weitere Vorteile und Ausführungen der Erfindung werden nachfolgen anhand von Ausführungsbeispielen sowie anhand der Zeichnung näher erläutert.
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Dabei zeigen:
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1 in einer schematischen Darstellung ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, die oberhalb einer fest positionierten Trägerplate geführt wird;
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2 in einer schematischen Darstellung ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, die unterhalb einer fest positionierten Trägerplatte geführt wird;
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3 in einer schematischen Darstellung ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, einer Warm- bzw. Heißgaseinbringung und einem zusätzlichen Abstreifer, die unterhalb einer fest positionierten Trägerplatte geführt werden;
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4 in einer schematischen Darstellung ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, an welche ein Abstreifer fest gekoppelt ist;
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5 in einer schematischen Darstellung ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, einer Warm- bzw. Heißgaseinbringung und mit einem Abstreifer;
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6 in einer schematischen Darstellung ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, die vorgeschaltet einen Abstreifer aufweist;
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7 in einer schematischen Darstellung eine Reinigungsvorrichtung, deren zusätzliche Reinigungsfunktion mit einer Bürste und einer Warm- bzw. Heißgaseinbringung versehen ist;
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8 in einer schematischen Darstellung ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, die nach einer Bürste geführt ist;
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9 in einer schematischen Darstellung ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, die nach einem Reinigungsvlies (Papierrolle) geführt ist;
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10 in einer schematischen Darstellung ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage, die zusätzlich mit einer Bürste, einer Warm- bzw. Heißgaseinbringung und einem Reinigungsvlies (Papierrolle) versehen ist;
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11 in einer schematischen Darstellung ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, die mit zwei zusätzlichen Abstreifern versehen ist;
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12 in einer schematischen Darstellung ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, die mit einem Abstreifer und einer Bürste versehen ist;
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13 in einer schematischen Darstellung ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, die in beide Prozessrichtungen geführt werden kann und zusätzlich mit einer Bürste ausgerüstet ist;
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14 in einer schematischen Darstellung ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, die in beide Prozessrichtungen geführt werden kann und mit einem Abstreifer versehen ist;
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15 in einer schematischen Darstellung ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung, die in beide Prozessrichtungen geführt werden kann und eine doppelte Vakuumfunktion aufweist.
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1 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage. Die erfindungsgemäße Reinigungsanlage weist eine Haltevorrichtung 1 auf, die als Klemmvorrichtung oder Spannvorrichtung ausgebildet sein kann und eine Trägerplatte 2 positionsstabil fixiert, das heißt, ohne dass die Trägerplatte 2 in eine Prozessrichtung transportiert wird. Die Haltevorrichtung 1 ermöglicht es, dass nur die zu reinigende Seite der Trägerplatte 2 einer Reinigungsvorrichtung 3 zugewandt ist. Die nicht zu reinigende Seite der Trägerplatte 2 bleibt vom Reinigungsprozess unberührt. Die Trägerplatte 2 weist eine Oberseite 4 und eine Unterseite 5 auf. Die Reinigungsvorrichtung 3, die vorzugsweise als Vakuumsauger ausgebildet sein kann, kann über die Oberseite 4 der Trägerplatte 2 geführt werden, während die Unterseite 5 der Trägerplatte 2 bereits mit Bauelementen 6 bestückt ist und vom Reinigungsprozess auf der Oberseite 4 völlig unberührt bleibt.
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In 2 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage dargestellt, bei der die Reinigungsvorrichtung 3 den Gravitationseffekt ausnutzt und über die Unterseite 5 der Trägerplatte 2 geführt wird, während die Oberseite 4 mit den Bauelementen 6 von diesem Reinigungsprozess völlig unberührt bleibt.
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In 3 ist ebenso wie in 2 eine Reinigungsanlage dargestellt, die den Gravitationseffekt ausnutzt, wobei der Reinigungsprozess zusätzlich durch einen Abstreifer 7 und eine Warm- bzw. Heißgaseinbringung über einen Zuführstutzen 8 optimiert wird.
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In 4 ist das Ausführungsbeispiel nach 3 dargestellt, wobei der Abstreifer 7 direkt an die Reinigungsanlage 3 gekoppelt ist.
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In 5 ist ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage dargestellt mit einer Reinigungsvorrichtung 3, die als Vakuumsauger ausgebildet ist und eine Warm- bzw. Heißgaseinbringung über einen Zuführstutzen 8 aufweist, wobei über den Abstreiferhalter 9 ein auswechselbarer Abstreifer 7 in Position gehalten wird.
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In 6 ist ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage dargestellt, wobei der Abstreifer 7 von der Reinigungsvorrichtung 3 getrennt geführt wird.
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In 7 ist ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage 3 dargestellt, an welche eine Bürste 10 als zusätzliche Reinigungsfunktion und eine Warm- bzw. Heißgaseinbringung über einen Zuführstutzen 8 gekoppelt ist.
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8 zeigt eine erfindungsgemäße Reinigungsanlage, bei der die Bürste 10 getrennt von der Reinigungsvorrichtung 3 geführt wird.
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In 9 ist eine erfindungsgemäße Reinigungsanlage dargestellt, bei der die Reinigungsfunktion der Reinigungsvorrichtung 3 durch ein Reinigungsvlies (Papierrolle) 11 unterstützt wird.
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In 10 ist ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage dargestellt, bei der die Reinigungsvorrichtung 3 durch eine Bürste 10, eine Warm- bzw. Heißgaseinbringung über einen Zuführstutzen 8 und ein Reinigungsvlies (Papierrolle) 11 unterstützt wird.
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In 11 ist ein Ausführungsbeispiel für eine erfindungsgemäße Reinigungsanlage dargestellt, bei der die Reinigungsvorrichtung 3 durch zwei zusätzliche Abstreifer 7 unterstützt wird.
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12 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage, bei der die Reinigungsvorrichtung durch einen Abstreifer 7 und eine Bürste 10 unterstützt wird.
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In 13 ist ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage dargestellt, bei der die Reinigungsvorrichtung 3 in beide Prozessrichtungen geführt werden kann und zusätzlich von einer Bürste 10 in der Reinigungsfunktion unterstützt wird.
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In 14 ist ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage dargestellt, bei der die Reinigungsvorrichtung 3 in beide Prozessrichtungen geführt werden kann und wobei die Reinigungsfunktion durch eine Warm- bzw. Heißgaseinbringung über die Zuführstutzen 8 und einen Abstreifer 7 unterstützt wird.
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In 15 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsanlage mit einer Reinigungsvorrichtung 3 dargestellt, die in beide Prozessrichtungen geführt werden kann und zwei Vakuumabsauger aufweist 3, die von einem Abstreifer 7 unterstützt werden.
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Die erfindungsgemäße Reinigungsanlage für elektrische Baugruppen mit einer Trägerplatte zeichnet sich dadurch aus, dass selektiv nur die zu reinigende Seite der Trägerplatte dem Reinigungsprozess zugeführt wird. Die andere Seite, die bereits mit elektrischen Bauelementen bestückt sein kann, bleibt von diesem Reinigungsprozess völlig unberührt. Ein weiterer Vorteil der hier vorgestellten Reinigungsanlage besteht darin, dass nicht mit einem speziellen Reinigungsmedium gearbeitet werden muss, welches einen aufwändigen Trocknungsprozess nach sich zieht.
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Bezugszeichenliste
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- 1
- Haltevorrichtung
- 2
- Trägerplatte
- 3
- Reinigungsvorrichtung
- 4
- Oberseite
- 5
- Unterseite
- 6
- Bauelement
- 7
- Abstreifer
- 8
- Zuführstutzen
- 9
- Abstreiferhalter
- 10
- Bürste
- 11
- Reinigungsvlies
