DE102015117344B4 - Rolle-zu-Rolle Vakuumaufdampfungssystem für ein flexibles Substrat - Google Patents

Rolle-zu-Rolle Vakuumaufdampfungssystem für ein flexibles Substrat Download PDF

Info

Publication number
DE102015117344B4
DE102015117344B4 DE102015117344.1A DE102015117344A DE102015117344B4 DE 102015117344 B4 DE102015117344 B4 DE 102015117344B4 DE 102015117344 A DE102015117344 A DE 102015117344A DE 102015117344 B4 DE102015117344 B4 DE 102015117344B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
substrate
roll
mask
structural units
vacuum deposition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE102015117344.1A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102015117344A1 (de
Inventor
Sin Kwon
Taik-Min Lee
Young-Man Choi
Dong-woo Kang
Kye-Hee Woo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Korea Institute of Machinery and Materials KIMM
Original Assignee
Korea Institute of Machinery and Materials KIMM
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Korea Institute of Machinery and Materials KIMM filed Critical Korea Institute of Machinery and Materials KIMM
Publication of DE102015117344A1 publication Critical patent/DE102015117344A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102015117344B4 publication Critical patent/DE102015117344B4/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12—Organic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111—Flexible substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301—Details of OLEDs
    • H10K2102/311—Flexible OLED
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)

Abstract

Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem, das eine Bereitstellungsrolle aufweist, die kontinuierlich ein Substrat bereitstellt, mehrere Struktureinheiten, die eine Struktur auf dem Substrat bilden, und eine Aufnahmerolle, die kontinuierlich das Substrat aufnimmt, auf dem die Struktur gebildet wird, wobei jede der Struktureinheiten aufweist: eine Ausrichtungseinheit, die über dem Substrat angeordnet ist und eine auf dem Substrat gebildete Ausrichtmarkierung erfasst, um das Substrat auszurichten; eine Strukturmaske, die unter der Ausrichtungseinheit und dem Substrat angeordnet ist und von dem Substrat durch einen vorbestimmten Abstand beabstandet ist; eine Erfassungseinheit, die über dem Substrat angeordnet ist und einen Spalt zwischen dem Substrat und der Strukturmaske erfasst; einen Tisch, auf dem die Strukturmaske befestigt ist, der unter dem Substrat angeordnet ist und eine Position und eine Rotation der Strukturmaske basierend auf Informationen von der Ausrichtungseinheit und der Erfassungseinheit steuert; eine Aufdampfungseinheit, die unter dem Substrat angeordnet ist und eine vorbestimmte Struktur auf dem Substrat unter Verwendung der Strukturmaske aufdampft, und einen Controller des Tisches, der die Position des Tisches steuert, um die Strukturmaske mit dem kontinuierlich bereitgestellten Substrat basierend auf den Informationen der Position und der Rotation des kontinuierlich bereitgestellten Substrates auszurichten.

Description

  • ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK
  • 1. Technisches Gebiet
  • Die vorliegende Offenbarung einer Erfindung betrifft ein Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem. Insbesondere betrifft die vorliegende Offenbarung einer Erfindung ein Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem, das für ein flexibles Substrat verwendet wird, wobei eine Licht emittierende Schicht eines flexiblen OLED-Lichtes oder eines flexiblen OLED-Displays gebildet wird.
  • 2. Beschreibung verwandter Technik
  • Eine organische Leuchtdiode (OLED) enthält ein organisches Material, das Licht von selbst unter Verwendung eines elektrischen Feldes emittiert, wobei das Licht emittiert wird, wenn ein Strom auf einer organischen Leuchtstoffverbindung fließt. Die OLED weist einen relativ breiten Betrachtungswinkel und eine relativ rasche Reaktionszeit auf und wird daher für ein Display anstatt einer konventionellen Flüssigkristallanzeige (LCD) weithin verwendet.
  • Außerdem wird die OLED auch in einer Beleuchtungsvorrichtung und in einer flexiblen OLED-Beleuchtungsvorrichtung verwendet, wobei die OLED auf ein flexibles Substrat aufgedampft wird, das kürzlich entwickelt wurde.
  • Beispielsweise offenbart in Bezug auf die flexible OLED-Beleuchtungsvorrichtung die koreanische Patentanmeldung KR 10 2010 072 463 A ein Verfahren zum Herstellen eines halbleitenden Elementes unter Verwendung des flexiblen Substrates und einer flexiblen Maske. In dem Verfahren ist die flexible Maske an dem flexiblen Substrat befestigt und eine vorbestimmte Struktur wird kontinuierlich gebildet.
  • Außerdem offenbart die koreanische Patentanmeldung KR 10 2014 143 589 A eine Unterseiten-Rolle-zu-Rolle-Verdampfungsvorrichtung, bei der das flexible Substrat kontinuierlich bereitgestellt wird und der Aufdampfungsprozess nach dem Befestigen der flexiblen Maske an dem flexiblen Substrat erfolgt.
  • Dementsprechend wird bei dem Aufdampfungsprozess auf dem flexiblen Substrat unter Verwendung des Rolle-zu-Rolle-Druckprozesses die Maske auf dem flexiblen Substrat befestigt und dann nach dem Aufdampfungsprozess abgelöst.
  • Jedoch können die Maske und das Substrat miteinander beim Befestigen der Maske auf dem Substrat oder beim Ablösen der Maske von dem Substrat fehlausgerichtet sein, und die Struktur auf dem Substrat kann beim Ablösen der Maske vom Substrat beschädigt werden. Die Maske sollte während des Aufdampfungsprozesses stabil auf dem Substrat befestigt sein, daher können zusätzliche Befestigungs- oder Ablöseprozesse zum Erhöhen der Zuverlässigkeit des Prozesses erforderlich und der Prozess komplizierter sein.
  • Die koreanische Anmeldung KR 10 2010 072 463 A offenbart ein Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem. Das System weist eine Bereitstellungsrolle, mehrere Struktureinheiten, eine Aufnahmerolle, eine Ausrichtungseinheit, eine Strukturmaske und eine Aufdampfungseinheit auf. Die US Anmeldung, US-Anmeldung US 2015/0041793 A1 offenbart ebenfalls ein Vakuumaufdampfungssystem für OLEDs und für sämtliche Substrate. Das Vakuumaufdampfungssystem weist eine Erfassungseinheit und einen Tisch auf, wobei die Erfassungseinheit einen Spalt zwischen dem Substrat und der Strukturmaske erfasst und der Tisch eine Position der Strukturmaske basierend auf Informationen von der Ausrichtungseinheit und der Erfassungseinheit steuert.
  • KURZDARSTELLUNG
  • Die vorliegende Erfindung wurde entwickelt, um die vorgenannten Probleme der verwandten Technik zu lösen. Die vorliegende Erfindung stellt ein Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem bereit, das für ein flexibles Substrat verwendet wird, um den Prozess wirksamer auszuführen, ohne das flexible Substrat an der Maske zu befestigen, und die Zuverlässigkeit des Prozesses und die Produktivität zu erhöhen.
  • Erfindungsgemäß umfasst das Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem eine Bereitstellungsrolle, die ein Substrat kontinuierlich bereitstellt, mehrere Struktureinheiten, die eine Struktur auf dem Substrat bilden, und eine Aufnahmerolle, die kontinuierlich das Substrat, auf dem die Struktur gebildet wird, aufnimmt. Jede der Struktureinheiten umfasst eine Ausrichtungseinheit, eine Strukturmaske, eine Erfassungseinheit, einen Tisch, eine Aufdampfungseinheit und einen Controller des Tisches. Die Ausrichtungseinheit erfasst eine auf dem Substrat gebildete Ausrichtmarkierung, um das Substrat auszurichten. Die Strukturmaske ist von dem Substrat durch einen vorbestimmten Abstand beabstandet. Die Erfassungseinheit erfasst einen Spalt zwischen dem Substrat und der Strukturmaske. Der Tisch, auf der die Strukturmaske befestigt ist, steuert eine Position und eine Rotation der Strukturmaske basierend auf Informationen von der Ausrichtungseinheit und der Erfassungseinheit. Die Aufdampfungseinheit dampft eine vorbestimmte Struktur auf dem Substrat unter Verwendung der Strukturmaske auf. Der Controller des Tisches steuert die Position des Tisches, um die Strukturmaske mit dem kontinuierlich bereitgestellten Substrat basierend auf den Informationen der Position und der Rotation des kontinuierlich bereitgestellten Substrates auszurichten.
  • Bei einer beispielhaften Ausführungsform kann das Substrat ein flexibles Substrat sein und die Aufdampfungseinheit kann eine organische Leuchtdiode (OLED) direkt auf das Substrat aufdampfen.
  • Bei einer beispielhaften Ausführungsform können die Struktureinheiten entlang einer horizontalen Richtung angeordnet sein und das Substrat kann kontinuierlich entlang der horizontalen Richtung bereitgestellt werden.
  • Bei einer beispielhaften Ausführungsform kann jede der Struktureinheiten in einem vorbestimmten Winkel mit den Struktureinheiten angrenzend aneinander angeordnet sein und Richtungen des kontinuierlichen Bereitstellens des Substrates können durch eine Rolle zwischen den aneinander angrenzenden Struktureinheiten geändert werden.
  • Bei einer beispielhaften Ausführungsform kann jede der Strukturmasken der Struktureinheiten eine unterschiedliche Maskenstruktur umfassen.
  • Bei einer beispielhaften Ausführungsform kann die Übertragung des Substrats vorübergehend gestoppt werden, wenn die Struktur durch jede der Struktureinheiten aufgedampft wird.
  • Erfindungsgemäß sind die Ausrichtungs- und die Erfassungseinheit über dem Substrat angeordnet, und die Strukturmaske, der Tisch und die Aufdampfungseinheit, unter dem Substrat angeordnet.
  • Dabei empfängt der Tisch Positionen des Substrates entlang einer ersten Richtung, in der das Substrat übertragen wird, und einer zweiten Richtung, die im Wesentlichen zur ersten Richtung senkrecht ist, und Erfassungsinformationen über einen Rotationswinkel des Substrates in einer Draufsicht von der Ausrichtungseinheit. Der Tisch kann eine Position des Substrates entlang einer dritten Richtung, die im Wesentlichen zu der ersten und der zweiten Richtung senkrecht ist, und Erfassungsinformationen eines Rotationswinkels des Substrates in Bezug auf die ersten und zweiten Richtungen empfangen.
  • Bei einer beispielhaften Ausführungsform kann der Tisch ein Hexapod-Tisch sein.
  • Gemäß den beispielhaften Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung ist eine Strukturmaske von einem Substrat beabstandet und bildet eine Struktur auf dem Substrat, daher ist der Prozess verglichen mit einem konventionellen Prozess, bei dem die Strukturmaske an dem Substrat befestigt ist, effizienter, produktiver und genauer.
  • Zugunsten einer genaueren Strukturaufdampfung sollten die Strukturmaske und das Substrat enger beieinander und genauer ausgerichtet sein. Bei der vorliegenden beispielhaften Ausführungsform kann eine Ausrichtung zwischen der Strukturmaske und dem Substrat durch eine Ausrichtungseinheit und eine Erfassungseinheit gemessen werden, und die Strukturmaske und das Substrat können unter Verwendung eines Tisches genauer ausgerichtet werden.
  • Hier werden alle 6 Achsen einschließlich der XYZ-Achsen und der αβγ-Rotationsachsen unter Verwendung der Ausrichtungseinheit und der Erfassungseinheit ausgerichtet und daher können die Strukturmaske und das Substrat genauer ausgerichtet werden.
  • Außerdem umfasst jede von mehreren Struktureinheiten eine von unterschiedlichen Strukturmasken, und Strukturen können überlappt und auf dem Substrat aufgedampft werden; daher kann die Struktur komplizierter und effizienter gebildet werden.
  • Hier können die Struktureinheiten horizontal oder mit vorbestimmten Winkeln zueinander gebildet werden und daher kann ein Raum effizienter verwendet werden.
  • Außerdem kann das Substrat basierend auf den aufgedampften Strukturen kontinuierlich bewegt und darauf aufgedampft werden oder das Substrat kann während des Aufdampfungsprozesses bei jeder Struktureinheit stoppen, und daher kann der Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungsprozess basierend auf verschiedenen Arten von Prozessen anpassbar erfolgen.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • Die vorstehenden Merkmale und Vorteile und andere werden offensichtlicher durch Beschreiben von Ausführungsbeispielen davon unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen:
  • 1 ist ein Prinzipschaltbild, das ein Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulicht;
  • 2A ist ein Prinzipschaltbild, das eine Ausrichtung von einem Substrat unter Verwendung einer Ausrichtungseinheit von 1 veranschaulicht und 2B ist ein Prinzipschaltbild, das eine Ausrichtung von dem Substrat unter Verwendung einer Erfassungseinheit von 1 veranschaulicht;
  • 3 ist eine Seitenansicht, die eine Struktur veranschaulicht, die auf einem flexiblen Substrat unter Verwendung des Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystems von 1 gebildet ist; und
  • 4 ist ein Prinzipschaltbild, das ein Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem gemäß einer weiteren beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulicht.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
  • Im Folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung im Detail unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen erklärt.
  • 1 ist ein Prinzipschaltbild, das ein Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulicht. 2A ist ein Prinzipschaltbild, das eine Ausrichtung von einem Substrat unter Verwendung einer Ausrichtungseinheit von 1 veranschaulicht und 2B ist ein Prinzipschaltbild, das eine Ausrichtung von dem Substrat unter Verwendung einer Erfassungseinheit von 1 veranschaulicht.
  • Unter Bezugnahme auf 1 umfasst das Rolle-zu-Rolle-Aufdampfungssystem 100 gemäß der vorliegenden beispielhaften Ausführungsform eine Kammer 101, eine Bereitstellungsrolle 102, eine Aufnahmerolle 105 und mehrere Struktureinheiten 120 und 130. Die Bereitstellungs- und Aufnahmerollen 102 und 105 sind innerhalb der Kammer 101 vorgesehen. Die Struktureinheiten 120 und 130 sind zwischen den Bereitstellungs- und Aufnahmerollen 102 und 105 angeordnet und führen den Aufdampfungsprozess an dem Substrat 110 aus.
  • Das Substrat 110 ist ein flexibles Substrat und wird von der Bereitstellungsrolle 102 bereitgestellt, auf die das Substrat 110 gewickelt ist. Das Substrat 110 wird auf der Aufnahmerolle 102 aufgenommen, auf die das Substrat 110 gewickelt wird.
  • Außerdem werden eine Übertragungsgeschwindigkeit und eine Übertragungsrichtung des Substrates 110 durch eine erste Rolle 103, eine zweite Rolle 104 und mehrere Rollen gesteuert. In der vorliegenden beispielhaften Ausführungsform wird das Substrat 110 entlang einer ersten Richtung X übertragen und daher sind die Struktureinheiten 120 und 130 in einer Linie entlang der ersten Richtung X angeordnet.
  • Die Struktureinheiten 120 und 130 können mehrere sein und eine Anzahl und ein Raum der Struktureinheiten können basierend auf Strukturen, die auf dem Substrat 110 gebildet werden, verschiedenartig geändert werden. Außerdem ist jede der Struktureinheiten 120 und 130 kontinuierlich angeordnet und alle Struktureinheiten 120 und 130 gleichen einander, abgesehen von der Position von jeder der Positionseinheiten; daher wird eine erste Struktureinheit 120 im Detail erklärt und jede repetitive Erklärung bezüglich der Struktureinheiten ausgelassen.
  • Die erste Struktureinheit 120 umfasst eine erste Ausrichtungseinheit 121, eine erste Erfassungseinheit 122, einen ersten Tisch 123, eine erste Strukturmaske 124 und eine erste Aufdampfungseinheit 125.
  • Unter Bezugnahme auf 1 und 2A erfasst die erste Ausrichtungseinheit 121 eine Ausrichtmarkierung 111, die auf dem Substrat 110 gebildet ist, und richtet das Substrat 110 aus.
  • Beispielsweise ist die erste Ausrichtungseinheit 121 über dem Substrat 110 angeordnet und erfasst die Ausrichtmarkierung 111, die auf dem Substrat 110 gebildet ist.
  • Hier können mehre der Ausrichtmarkierungen 111 kontinuierlich an beiden Endseiten des Substrates 110 gebildet sein und die erste Ausrichtungseinheit 121 erfasst die mehreren Ausrichtmarkierungen 111.
  • Beispielsweise kann die erste Ausrichtungseinheit 121 eine Kamera sein, welche die Ausrichtmarkierung 111 erfasst.
  • Dementsprechend erfasst die erste Ausrichtungseinheit 121 die mehreren Ausrichtmarkierungen und daher eine Position des Substrates 110 entlang der ersten Richtung X, in der das Substrat 110 übertragen wird, eine Position des Substrates 110 entlang der zweiten Richtung Y im Wesentlichen senkrecht zur ersten Richtung X und eine Rotation des Substrates 110 in Bezug auf eine dritte Richtung Z, die im Wesentlichen zu den ersten und zweiten Richtungen X und Y senkrecht ist.
  • Außerdem werden Informationen bezüglich der Position und der Rotation des Substrates 110, die von der ersten Ausrichtungseinheit 121 erfasst werden, an den ersten Tisch 123 bereitgestellt und die Position des ersten Tisches 123 wird gesteuert.
  • Unter Bezugnahme auf 1 und 2B ist die erste Erfassungseinheit 122 über dem Substrat 110 angeordnet und erfasst einen Spalt h1 und h2 zwischen dem Substrat 110 und der ersten Strukturmaske 124.
  • Bei der vorliegenden beispielhaften Ausführungsform ist das Substrat 110 nicht an der Strukturmaske 124, 134 befestigt oder stellt damit keinen Kontakt her und der Aufdampfungsprozess wird ausgeführt. Daher sind die Prozesse, um die Strukturmaske an dem Substrat zu befestigen oder in Kontakt mit dem Substrat zu bringen, unnötig, sodass der Prozess und die Produktivität effizienter sein können.
  • Das Substrat 110 und die Strukturmaske 124, 134 sollten jedoch eng beieinander angeordnet sein, um die Genauigkeit oder Präzision der Struktur zu erhöhen, die auf dem Substrat aufgedampft wird, und der Spalt zwischen dem Substrat und der Strukturmaske sollte ständig aufrechterhalten werden.
  • Die erste Erfassungseinheit 122 erfasst die Position zwischen dem Substrat 110 und der ersten Strukturmaske 124.
  • Beispielsweise umfasst die Erfassungseinheit 122 ein Paar von Sensoren. Das Paar von Sensoren ist an beiden Enden der ersten Strukturmaske 124 angeordnet und erfasst die Spalten h1 und h2. Der Spalt h1 ist ein Spalt zwischen dem Substrat 110 und einem hinteren Ende der ersten Strukturmaske 124 und der Spalt h2 ist ein Spalt zwischen dem Substrat 110 und einem vorderen Ende der ersten Strukturmaske 124.
  • Dementsprechend werden die Spalten h1 und h2, die Position des Substrates 110 entlang der dritten Richtung Z, die Rotation des Substrates 110 in Bezug auf die erste Richtung X und die Rotation des Substrates 110 in Bezug auf die zweite Richtung Y erfasst.
  • Außerdem werden die Informationen von der ersten Erfassungseinheit 122 an den ersten Tisch 123 bereitgestellt und die Position der ersten Strukturmaske 124 kann durch den ersten Tisch 123 gesteuert werden.
  • Der erste Tisch 123 ist unter dem Substrat 110 angeordnet und die erste Strukturmaske 124 ist auf dem ersten Tisch 123 befestigt.
  • Außerdem empfängt wie vorstehend beschrieben der erste Tisch 123 die Informationen von der ersten Ausrichtungseinheit 121 und der ersten Erfassungseinheit 122 und steuert die Position und die Richtung der ersten Strukturmaske 124.
  • Obwohl nicht in der Figur dargestellt, steuert ein Controller des ersten Tisches 123 die Position des ersten Tisches 123, um die erste Strukturmaske 124 mit dem Substrat 110 basierend auf den Informationen der Position des Substrates 110 entlang der ersten und zweiten Richtungen X und Y und der Rotation des Substrates 110 in Bezug auf die dritte Richtung Z von der ersten Ausrichtungseinheit 121 und basierend auf den Informationen der Position des Substrates 110 entlang der dritten Richtung Z und der Rotationen des Substrates 110 in Bezug auf die ersten und zweiten Richtungen X und Y von der ersten Erfassungseinheit 122 auszurichten.
  • Dementsprechend kann der erste Tisch 123 ein Hexapod-Tisch sein, bei dem 6 Achsenbewegungen einschließlich der Positionen entlang den ersten bis dritten Richtungen und der Rotationen in Bezug auf die ersten bis dritten Richtungen gesteuert werden.
  • Alternativ kann der erste Tisch 123 ein komplexer integrierter Tisch sein, in den ein Tisch, der durch die Informationen von der ersten Ausrichtungseinheit 121 gesteuert wird, und ein Tisch, der durch die Informationen von der ersten Erfassungseinheit 122 gesteuert wird, integriert sind.
  • Die erste Strukturmaske 124 ist auf dem ersten Tisch 123 befestigt und bei Aufrechterhaltung des Spaltes mit dem Substrat 110 um einen vorbestimmten Abstand unter dem Substrat 110 angeordnet.
  • Die erste Strukturmaske 124 umfasst eine Maskenstruktur, und eine vorbestimmte Struktur wird auf dem Substrat 110 über die erste Strukturmaske 124 aufgedampft.
  • Mehrere Maskenstrukturen können erforderlich sein, um die Strukturen auf dem Substrat 110 zu bilden, und daher können in der vorliegenden beispielhaften Ausführungsform die ersten, zweiten, ... Strukturmasken entsprechend die unterschiedlichen Maskenstrukturen umfassen.
  • Daher passiert das Substrat 110 jede der Struktureinheiten 120 und 130, und auf das Substrat 110 wird verschiedenartig durch die unterschiedlichen Maskenstrukturen, die auf jeder der Strukturmasken 124 und 134 gebildet sind, aufgedampft, sodass die endgültige Struktur auf dem Substrat 110 gebildet werden kann.
  • Die erste Aufdampfungsstruktur 125 ist unter der ersten Strukturmaske 124 angeordnet und stellt Aufdampfungsmaterial zur ersten Strukturmaske 124 bereit. Hier kann die erste Aufdampfungsstruktur 125 ein OLED-Material bereitstellen und daher kann das OLED-Material, das die erste Strukturmaske 124 passiert, auf das Substrat 110 aufgedampft werden.
  • Dementsprechend wird das Aufdampfungsmaterial auf dem Substrat 110 mit einer vorbestimmten Struktur durch die erste Struktureinheit 120 aufgedampft und dann wird das Substrat 110 zur zweiten Struktureinheit 120 übertragen und ein weiterer Aufdampfungsprozess wird an dem Substrat 110 ausgeführt.
  • Daher wird das Substrat 110 kontinuierlich übertragen, und die Strukturen werden kontinuierlich auf dem Substrat 110 über die ersten, zweiten, ... Struktureinheiten 120 und 130 gebildet.
  • Alternativ kann das Substrat 110 vorübergehend in der Übertragung gestoppt werden, wenn die Strukturen auf dem Substrat über die ersten und zweiten Struktureinheiten 120 und 130 gebildet werden, und dann übertragen werden. Dementsprechend kann das Substrat 110 wiederholt gestoppt und übertragen werden, und die Strukturen werden auf dem Substrat 110 gebildet.
  • 3 ist eine Seitenansicht, die eine Struktur veranschaulicht, die auf einem flexiblen Substrat unter Verwendung des Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystems von 1 gebildet ist.
  • Unter Bezugnahme auf 3 wird eine erste Struktur 113 (Rot) unter Verwendung der ersten Struktureinheit 120 gebildet, eine zweite Struktur 114 (Grün) wird unter Verwendung der zweiten Struktureinheit 130 gebildet und so weiter.
  • Obwohl nicht in der Figur dargestellt, können die Strukturen, die entlang einer vertikalen Richtung überlappen, weiter auf dem Substrat 110 unter Verwendung der ersten, zweiten, ... Struktureinheiten 120 und 130 gebildet werden.
  • 4 ist ein Prinzipschaltbild, das ein Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem gemäß einer weiteren beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulicht.
  • Das Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem 200 gemäß der vorliegenden beispielhaften Ausführungsform ist im Wesentlichen das Gleiche wie das Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem 100 gemäß der vorhergehenden beispielhaften Ausführungsform unter Bezugnahme auf die 1 bis 3, und daher wird jede repetitive Erklärung ausgelassen.
  • Unter Bezugnahme auf 4 umfasst das Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem 200 gemäß der vorliegenden beispielhaften Ausführungsform eine Kammer 201, eine Bereitstellungsrolle 202, eine Aufnahmerolle und mehrere Struktureinheiten 220 und 230.
  • Die Bereitstellungs- und Aufnahmerollen sind innerhalb der Kammer 201 vorgesehen. Die Struktureinheiten 220 und 230 sind zwischen den Bereitstellungs- und Aufnahmerollen angeordnet und führen die Aufdampfung auf dem Substrat 210 aus.
  • Bei der vorliegenden beispielhaften Ausführungsform führt jede der Struktureinheiten 220 und 230 den Aufdampfungsprozess im Wesentlichen gleich wie die Struktureinheiten des Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystems 100 gemäß der vorhergehenden beispielhaften Ausführungsform aus und die Anordnung und Funktion der Struktureinheiten sind auch im Wesentlichen gleich wie diejenigen des Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystems 100 gemäß der vorhergehenden beispielhaften Ausführungsform, und daher wird jede repetitive Erklärung ausgelassen.
  • In der vorliegenden beispielhaften Ausführungsform wird eine Richtung des Substrates 210 durch eine zweite Rolle 204 geändert, nachdem die Struktur auf dem Substrat 210 unter Verwendung der ersten Struktureinheit 220 gebildet wurde. Beispielsweise wird das Substrat 210 um einen Winkel A wie in 4 veranschaulicht gedreht und dann wird die Struktur auf dem Substrat 210 unter Verwendung der zweiten Struktureinheit 230 gebildet. Obwohl nicht in der Figur dargestellt, können nach dem Ändern der Richtungen des Substrates 210 bei jedem Strukturierungsprozess zusätzliche Strukturen kontinuierlich auf dem Substrat 210 gebildet werden.
  • Hier kann der Winkel A, der ein sich ändernder Winkel der Richtung des Substrates 210 ist, bei jedem Strukturierungsprozess aufrechterhalten werden, aber alternativ kann der Winkel A bei jedem Strukturierungsprozess geändert werden. Wenn beispielsweise der Winkel A bei jedem Strukturierungsprozess geändert wird, kann die Kammer 201 eine komplette Kreisform aufweisen.
  • Dementsprechend wird das Substrat 210 mit einer Änderung der Richtung übertragen, und daher kann der Raum für das Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem mannigfaltig konzipiert werden. Daher kann das Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem in dem vorgegebenen Raum optimal angeordnet und der Raum effizienter verwendet werden.
  • Gemäß den beispielhaften Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung ist eine Strukturmaske von einem Substrat beabstandet und bildet eine Struktur auf dem Substrat; daher ist der Prozess verglichen mit einem konventionellen Prozess, bei dem die Strukturmaske an dem Substrat befestigt ist, effizienter, produktiver und genauer.
  • Zugunsten einer genaueren Strukturaufdampfung sollten die Strukturmaske und das Substrat enger beieinander sein und die Strukturmaske und das Substrat sollten genauer ausgerichtet sein. Bei der vorliegenden beispielhaften Ausführungsform kann eine Ausrichtung zwischen der Strukturmaske und dem Substrat durch eine Ausrichtungseinheit und eine Erfassungseinheit gemessen werden, und die Strukturmaske und das Substrat können unter Verwendung eines Tisches genauer ausgerichtet werden.
  • Hier werden alle 6 Achsen einschließlich der XYZ-Achsen und der αβγ-Rotationsachsen unter Verwendung der Ausrichtungseinheit und der Erfassungseinheit ausgerichtet, und daher können die Strukturmaske und das Substrat genauer ausgerichtet werden.
  • Außerdem umfasst jede von mehreren Struktureinheiten eine von unterschiedlichen Strukturmasken, und Strukturen können überlappt und auf dem Substrat aufgedampft werden; daher kann die Struktur komplizierter und effizienter gebildet werden.
  • Hier können die Struktureinheiten horizontal oder mit vorbestimmten Winkeln zueinander gebildet werden und daher kann der Raum effizienter verwendet werden.
  • Außerdem kann das Substrat basierend auf den aufgedampften Strukturen kontinuierlich bewegt und aufgedampft werden oder das Substrat kann während des Aufdampfungsprozesses bei jeder Struktureinheit stoppen; daher kann der Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungsprozess basierend auf verschiedenen Arten von Prozessen anpassbar erfolgen.

Claims (8)

  1. Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem, das eine Bereitstellungsrolle aufweist, die kontinuierlich ein Substrat bereitstellt, mehrere Struktureinheiten, die eine Struktur auf dem Substrat bilden, und eine Aufnahmerolle, die kontinuierlich das Substrat aufnimmt, auf dem die Struktur gebildet wird, wobei jede der Struktureinheiten aufweist: eine Ausrichtungseinheit, die über dem Substrat angeordnet ist und eine auf dem Substrat gebildete Ausrichtmarkierung erfasst, um das Substrat auszurichten; eine Strukturmaske, die unter der Ausrichtungseinheit und dem Substrat angeordnet ist und von dem Substrat durch einen vorbestimmten Abstand beabstandet ist; eine Erfassungseinheit, die über dem Substrat angeordnet ist und einen Spalt zwischen dem Substrat und der Strukturmaske erfasst; einen Tisch, auf dem die Strukturmaske befestigt ist, der unter dem Substrat angeordnet ist und eine Position und eine Rotation der Strukturmaske basierend auf Informationen von der Ausrichtungseinheit und der Erfassungseinheit steuert; eine Aufdampfungseinheit, die unter dem Substrat angeordnet ist und eine vorbestimmte Struktur auf dem Substrat unter Verwendung der Strukturmaske aufdampft, und einen Controller des Tisches, der die Position des Tisches steuert, um die Strukturmaske mit dem kontinuierlich bereitgestellten Substrat basierend auf den Informationen der Position und der Rotation des kontinuierlich bereitgestellten Substrates auszurichten.
  2. Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem nach Anspruch 1, wobei das Substrat ein flexibles Substrat ist und jede der mehreren Aufdampfungseinheiten direkt Schichten einer OLED (organische Leuchtdiode) auf das Substrat aufdampft.
  3. Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem nach Anspruch 2, wobei die Struktureinheiten entlang einer horizontalen Richtung angeordnet sind und das Substrat kontinuierlich entlang dieser horizontalen Richtung bereitgestellt wird.
  4. Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem nach Anspruch 2, wobei jede der Struktureinheiten in einem vorbestimmten Winkel und mit den Struktureinheiten angrenzend aneinander angeordnet ist und die Richtung des durchgehenden Bereitstellens des Substrates durch eine Rolle zwischen jeweils aneinander angrenzenden Struktureinheiten geändert wird.
  5. Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem nach Anspruch 2, wobei jede der Strukturmasken der mehreren Struktureinheiten eine unterschiedliche Maskenstruktur aufweist.
  6. Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem nach Anspruch 1, wobei das Substrat beim Übertragen vorübergehend gestoppt wird, wenn die jeweilige Struktur durch eine der Struktureinheiten aufgedampft wird.
  7. Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem nach Anspruch 1, wobei der Tisch Positionen des Substrates entlang einer ersten Richtung, in der das Substrat übertragen wird, und einer zweiten Richtung, die zur ersten Richtung senkrecht ist, und Erfassungsinformationen eines Rotationswinkels des Substrates in einer Draufsicht von der Ausrichtungseinheit empfängt und eine Position des Substrates entlang einer dritten Richtung, die im Wesentlichen zu der ersten und der zweiten Richtung senkrecht ist, und Erfassungsinformationen eines Rotationswinkels des Substrates in Bezug auf die erste und die zweite Richtungen empfängt.
  8. Rolle-zu-Rolle-Vakuumaufdampfungssystem nach Anspruch 1, wobei der Tisch ein Hexapod-Tisch ist.
DE102015117344.1A 2015-03-25 2015-10-12 Rolle-zu-Rolle Vakuumaufdampfungssystem für ein flexibles Substrat Active DE102015117344B4 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150041294A KR101658957B1 (ko) 2015-03-25 2015-03-25 유연성 기판용 롤투롤 진공 증착 시스템
KR10-2015-0041294 2015-03-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102015117344A1 DE102015117344A1 (de) 2016-11-10
DE102015117344B4 true DE102015117344B4 (de) 2017-03-09

Family

ID=57047515

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102015117344.1A Active DE102015117344B4 (de) 2015-03-25 2015-10-12 Rolle-zu-Rolle Vakuumaufdampfungssystem für ein flexibles Substrat

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR101658957B1 (de)
DE (1) DE102015117344B4 (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180060323A (ko) 2016-11-28 2018-06-07 엘지디스플레이 주식회사 반전롤을 구비한 롤투롤 공정시스템

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150041793A1 (en) 2013-08-06 2015-02-12 University Of Rochester Patterning of oled materials

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101507915B1 (ko) * 2008-09-23 2015-04-03 삼성전자 주식회사 롤투롤 시스템에서의 고속 미세 기판 정렬 장치
KR101002188B1 (ko) 2008-12-22 2010-12-20 주식회사 야스 박막형 반도체 소자를 유연한 기판에 제작하는 롤투롤 장치
KR20130065329A (ko) 2011-12-09 2013-06-19 현대자동차주식회사 롤로드의 구조
KR20140001283A (ko) * 2012-06-25 2014-01-07 세메스 주식회사 박막 증착 장치
KR20140133113A (ko) * 2013-05-09 2014-11-19 진중 김 오픈 마스크가 내장된 oled 박막 대량생산 제조용 인라인 증착장비
KR20140143589A (ko) * 2013-06-07 2014-12-17 진중 김 플렉서블 woled 디스플레이와 플렉서블 oled 조명용 박막 대량생산 제조용 롤투롤 증착기

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150041793A1 (en) 2013-08-06 2015-02-12 University Of Rochester Patterning of oled materials

Also Published As

Publication number Publication date
KR101658957B1 (ko) 2016-09-23
DE102015117344A1 (de) 2016-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20220092466A (ko) 유기 발광 표시 장치의 픽셀 패터닝 및 픽셀 위치 검사 방법과 그 패터닝에 사용되는 마스크
EP1715076B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Maskenpositionierung
TWI564989B (zh) Production method and manufacturing apparatus of display element
EP1715075B1 (de) Magnetische Maskenhalterung
EP1409251B1 (de) Kontinuierlicher siebdruck von organischen leuchtdioden
DE60218292T2 (de) Tintendruckablagevorrichtung und verfahren
DE112009002468B4 (de) Dünnschicht-Niederschlagsvorrichtung, organische EL-Element-Herstellungsvorrichtung und organische Dünnschicht-Niederschlagsverfahren
DE602005002522T2 (de) Organische elektrolumineszente Vorrichtung und Herstellungsverfahren
DE102012222672A1 (de) Gerät zur Abscheidung organischer Schichten und Verfahren zum Fertigen von Geräten mit organischer lichtemittiereder Anzeige unter Verwendung desselben
DE19918193A1 (de) Selektives Aufbringen von Polymerfilmen
DE602004001054T2 (de) Präzisionsbeschichtungsmaske und Verfahren zur Herstellung der Maske, Elektrolumineszenzanzeige und Verfahren zur Herstellung der Anzeige und Elektronisches Gerät
DE102014215648A1 (de) Rotationsdruckmaschine
DE102015117344B4 (de) Rolle-zu-Rolle Vakuumaufdampfungssystem für ein flexibles Substrat
DE69934978T2 (de) Ausrichtungsvorrichtung und benutzung dieser vorrichtung in einem halbleiterherstellungsapparat
DE112016006798T5 (de) Schichtaufbringungsvorrichtung
DE112012006798B4 (de) Maskiervorrichtung zum Dampfauftrag organischen Materials einer organischen Elektrolumineszenzdiode
EP3931006A1 (de) Transfervorrichtung und verfahren in einer transfervorrichtung für optische sicherheitselemente
DE112012006800T5 (de) Maskiervorrichtung zum Dampfauftrag organischen Materials einer organischen Elektrolumineszenzdiode
US7473320B2 (en) Apparatus for depositing an organic material on a substrate
DE112015006121T5 (de) Reifenmarkierungsvorrichtung
US9478337B2 (en) Magnet plate
KR101131626B1 (ko) 롤 프린팅 장치 및 이를 이용한 롤 프린팅 방법
DE202015003314U1 (de) Adhäsionstransportband Digitaldruck und Inkjetdruck
KR101499798B1 (ko) 롤형 마스크를 이용한 인라인 타입 증착장비
DE112016006797T5 (de) Schichtaufbringungsvorrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final
R079 Amendment of ipc main class

Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: H01L0051560000

Ipc: H10K0050000000