DE102015105049B4 - Transport device for transporting a substrate in a process chamber and processing arrangement - Google Patents

Transport device for transporting a substrate in a process chamber and processing arrangement Download PDF

Info

Publication number
DE102015105049B4
DE102015105049B4 DE102015105049.8A DE102015105049A DE102015105049B4 DE 102015105049 B4 DE102015105049 B4 DE 102015105049B4 DE 102015105049 A DE102015105049 A DE 102015105049A DE 102015105049 B4 DE102015105049 B4 DE 102015105049B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
transport
substrate
reflector structure
reflector
transport device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE102015105049.8A
Other languages
German (de)
Other versions
DE102015105049A1 (en
Inventor
Jan Leupold
Georg Haasemann
Andreas HEISIG
Roland Lässig
Olga Khvostikova
Hans-Jürgen Heinrich
Udo WILLKOMMEN
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Original Assignee
Von Ardenne GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Von Ardenne GmbH filed Critical Von Ardenne GmbH
Priority to DE102015105049.8A priority Critical patent/DE102015105049B4/en
Publication of DE102015105049A1 publication Critical patent/DE102015105049A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE102015105049B4 publication Critical patent/DE102015105049B4/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/6776—Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67115—Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/70—Lamps with low-pressure unconstricted discharge having a cold pressure < 400 Torr
    • H01J61/80—Lamps suitable only for intermittent operation, e.g. flash lamp

Abstract

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Transportvorrichtung (100) zum Transportieren eines Substrats in einer Prozesskammer Folgendes aufweisen: mindestens zwei Transportwalzen (102), welche eine Transportebene (101e) definieren, in welcher das Substrat mittels der Transportvorrichtung (100) transportiert wird; eine unterhalb der Transportebene (101e) zwischen den mindestens zwei Transportwalzen (102) angeordnete Reflektorstruktur (104), welche zumindest eine Oberfläche (104r) aufweist, die sich entlang der Transportebene (101e) erstreckt, wobei die Reflektorstruktur (104) mehrere Öffnungen (104o) aufweist, welche sich von der Oberfläche (104r) aus durch die Reflektorstruktur (104) hindurch erstrecken; mehrere Roll-Elemente (106), welche jeweils drehbar gelagert sind und derart an der Reflektorstruktur (104) befestigt sind, dass sich jedes der mehreren Roll-Elemente (106) teilweise durch jeweils eine der mehreren Öffnungen (104o) in der Reflektorstruktur (104) hindurch erstreckt zum Abstützen des transportierten Substrats mittels der mehrere Roll-Elemente (106) zwischen den mindestens zwei Transportwalzen (102).According to various embodiments, a transport device (100) for transporting a substrate in a process chamber may comprise: at least two transport rollers (102) defining a transport plane (101e) in which the substrate is transported by means of the transport device (100); a reflector structure (104) arranged below the transport plane (101e) between the at least two transport rollers (102) and having at least one surface (104r) extending along the transport plane (101e), the reflector structure (104) having a plurality of openings (104o ) extending through the reflector structure (104) from the surface (104r); a plurality of rolling members (106), each rotatably mounted and secured to the reflector structure (104), such that each of the plurality of rolling elements (106) partially extends through each one of the plurality of openings (104o) in the reflector structure (104 ) for supporting the transported substrate by means of the plurality of rolling elements (106) between the at least two transport rollers (102).

Description

Die Erfindung betrifft eine Transportvorrichtung zum Transportieren eines Substrats in einer Prozesskammer und eine Prozessieranordnung.The invention relates to a transport device for transporting a substrate in a process chamber and a processing arrangement.

Im Allgemeinen können Werkstoffe oder Substrate, wie plattenförmige Substrate, Glasscheiben, Wafer, Folien oder andere Träger, prozessiert, z. B. erwärmt, getrocknet oder getempert werden. Beispielsweise können Substrate, z. B. Platten, Gläser, Wafer, Halbzeuge, Werkzeuge oder andere Verarbeitungsgüter, in einer Prozesskammer mit elektromagnetischer Strahlung (z. B. mit infrarotem, sichtbaren und/oder ultraviolettem Licht) bestrahlt werden. Anschaulich kann das Bestrahlen (auch als Belichten bezeichnet) dazu genutzt werden, Energie in das zu bestrahlende bzw. zu belichtende Substrat einzutragen. Mittels eines Energieeintrags können beispielsweise chemische Prozesse und/oder physikalische Prozesse in dem Substrat selbst oder in einem Material auf dem Substrat angeregt werden, z. B. eine chemische Reaktion, Diffusion, Sintern, Kristallwachstum, Ausheilvorgänge im Kristallgitter des Materials oder Ähnliches.In general, materials or substrates, such as plate-shaped substrates, glass sheets, wafers, films or other carriers, processed, for. B. heated, dried or tempered. For example, substrates, e.g. As plates, glasses, wafers, semi-finished products, tools or other materials to be processed in a process chamber with electromagnetic radiation (eg., Infrared, visible and / or ultraviolet light) are irradiated. Illustratively, the irradiation (also referred to as exposure) can be used to input energy into the substrate to be irradiated or exposed. By means of an energy input, for example, chemical processes and / or physical processes can be excited in the substrate itself or in a material on the substrate, eg. As a chemical reaction, diffusion, sintering, crystal growth, annealing processes in the crystal lattice of the material or the like.

In DE 10 2012 216 416 A1 ist ein Verfahren zur Herstellung eines Solarzellenwafers beschrieben, wobei dieser mittels einer UV-Strahlungsquelle bestrahlt wird. Das Bestrahlen erfolgt in einer Anlagenkonfiguration nach dem Durchlaufprinzip, bei welchem die Solarzellenwafer einzeln oder gruppenweise in Wafercarriern auf Transportrollen transportiert werden. Die Solarzellenwafer werden in einem Bestrahlungsbereich einseitig von oben mittels der UV-Strahlungsquelle bestrahlt.In DE 10 2012 216 416 A1 a method for producing a solar cell wafer is described, which is irradiated by means of a UV radiation source. The irradiation takes place in a system configuration according to the continuous flow principle, in which the solar cell wafers are transported individually or in groups in wafer carriers on transport rollers. The solar cell wafers are irradiated in one irradiation area on one side from above by means of the UV radiation source.

Mittels Blitzlampen kann elektromagnetische Strahlung mit vergleichsweise großer Intensität gepulst erzeugt werden, so dass ein Substrat beispielsweise mit einer entsprechend großen Bestrahlungsstärke zeitlich gepulst bestrahlt werden kann. Zum Belichten großer Substrate, z. B. Glasplatten mit einer Breite von mehr als einem Meter, oder zum gleichzeitigen Belichten einer Vielzahl von Substraten, können lange Blitzlampen zum Einsatz kommen, z. B. Blitzlampen mit einer Länge von mehr als einem Meter. Diese Blitzlampen können wassergekühlt sein, wobei herkömmlicherweise eine Gasentladungsröhre (die als Blitzlampe betrieben werden kann) koaxial in einem Hüllrohr angeordnet ist. Dabei kann Kühlwasser oder kaltes Gas zum Kühlen der Anordnung zwischen dem Hüllrohr und der Gasentladungsröhre geführt werden.By means of flashlamps electromagnetic radiation can be generated pulsed with comparatively high intensity, so that a substrate can be irradiated in a pulsed manner, for example, with a correspondingly high irradiance. For exposing large substrates, eg. As glass plates with a width of more than one meter, or for simultaneous exposure of a variety of substrates, long flash lamps can be used, for. B. Flash lamps with a length of more than one meter. These flashlamps may be water cooled, with conventionally a gas discharge tube (which may be operated as a flashlamp) coaxially disposed in a cladding tube. In this case, cooling water or cold gas for cooling the arrangement between the cladding tube and the gas discharge tube can be performed.

Im Allgemeinen kann eine Gasentladungsröhre, eine Gasentladungslampe bzw. eine Niederdruckgasentladungslampe als Blitzlampe betrieben werden. Eine Gasentladungsröhre weist herkömmlicherweise eine Kathode und eine Anode innerhalb einer gasgefüllten Glasröhre auf. Die Gasentladungsröhre kann mittels eines Treiberschaltkreises betrieben werden, welcher mit der Kathode und der Anode der Blitzlampe gekoppelt ist. Der Treiberschaltkreis kann beispielsweise einen Kondensator aufweisen, welcher durch die Gasentladungsröhre hindurch entladen werden kann. Da die Gasentladungsröhre ohne Plasma, also im nicht gezündeten Zustand einen Isolator darstellt, kann es notwendig sein, die Gasentladungsröhre mittels einer Zündspannung zu zünden. Dabei kann der Treiberschaltkreis derart eingerichtet sein, z. B. eine oder mehrere Spulen aufweisen, dass sich der Kondensator nach dem Zünden der Gasentladungsröhre in Form eines Entladungspulses (Strompulses) durch die Gasentladungsröhre hindurch entladen kann, beispielsweise in Form einer elektrischen Gasentladung unter Aussendung von Licht (sichtbarem Licht, UV-Licht und/oder Infrarot-Licht). Beispielsweise kann der Treiberschaltkreis derart eingerichtet sein, dass die Dauer des Entladungspulses bzw. die Dauer der elektrischen Gasentladung kleiner als ungefähr 50 ms oder kleiner als ungefähr 5 ms ist oder kleiner als ungefähr 0,5 ms, so dass anschaulich ein Lichtblitz erzeugt wird. Mittels des Kondensators bzw. des Treiberschaltkreises kann ein Entladungspuls mit einer elektrischen Leistung im Kilowatt-Bereich oder Megawatt-Bereich bereitgestellt sein oder werden.In general, a gas discharge tube, a gas discharge lamp or a low-pressure gas discharge lamp can be operated as a flash lamp. A gas discharge tube conventionally has a cathode and an anode within a gas-filled glass tube. The gas discharge tube can be operated by means of a driver circuit which is coupled to the cathode and the anode of the flash lamp. The driver circuit may, for example, comprise a capacitor which can be discharged through the gas discharge tube. Since the gas discharge tube is an insulator without plasma, ie in the non-ignited state, it may be necessary to ignite the gas discharge tube by means of an ignition voltage. In this case, the driver circuit may be configured such. B. have one or more coils that the capacitor can discharge after the ignition of the gas discharge tube in the form of a discharge pulse (current pulse) through the gas discharge tube, for example in the form of an electric gas discharge with the emission of light (visible light, UV light and / or infrared light). For example, the driver circuit may be configured such that the duration of the discharge pulse or the duration of the electrical gas discharge is less than about 50 ms or less than about 5 ms or less than about 0.5 ms, so that a flash of light is generated. By means of the capacitor or the driver circuit, a discharge pulse with an electric power in the kilowatt range or megawatt range can be or be provided.

Die Blitzlampe kann beispielsweise mittels eines elektrischen Zündpulses aktiviert (gezündet) werden, wobei sich erst nach dem Zünden der Blitzlampe der Kondensator des Treiberschaltkreises durch die Blitzlampe hindurch entladen kann. Anschaulich kann eine Blitzlampe selbst als ein Schalter fungieren, da die Blitzlampe unterhalb der Selbstzündspannung den Treiberschaltkreis unterbricht. Somit kann zum Betreiben einer Gasentladungsröhre als Blitzlampe (oder Gasentladungslampe) eine Zündvorrichtung benötigt werden, welche die Gasentladungsröhre derart beeinflusst, dass der an die Gasentladungsröhre gekoppelte Kondensator des Treiberschaltkreises durch die dann nach dem Zünden elektrisch leitende Gasentladungsröhre entladen werden kann.The flash lamp can be activated (ignited), for example, by means of an electric ignition pulse, whereby the capacitor of the driver circuit can not discharge through the flash lamp until the flash lamp has been ignited. Clearly, a flash lamp itself can act as a switch because the flash lamp below the auto-ignition voltage breaks the driver circuit. Thus, to operate a gas discharge tube as a flashlamp (or gas discharge lamp), an igniter may be needed which affects the gas discharge tube such that the capacitor of the driver circuit coupled to the gas discharge tube can be discharged by the gas discharge tube then electrically conductive after ignition.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung zum Bestrahlen eines Substrats mindestens eine Prozesskammer aufweisen sowie eine Transportvorrichtung zum Transportieren und/oder Positionieren des Substrats innerhalb eines Bestrahlungsbereichs der Prozesskammer. Die Prozesskammer kann als Vakuumkammer, Überdruckkammer oder Atmosphärendruck-Kammer eingerichtet sein oder werden. In oder an der Prozesskammer kann eine Bestrahlungsvorrichtung derart bereitgestellt sein oder werden, dass das Substrat in dem Bestrahlungsbereich bestrahlt werden kann. Die Bestrahlungsvorrichtung kann beispielsweise eine Gasentladungsröhre oder eine Anordnung mit mehreren Gasentladungsröhren aufweisen. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Gasentladungsröhre derart eingerichtet sein, z. B. mit einem entsprechenden Treiberschaltkreis gekoppelt sein, dass sie als Blitzlampe betrieben werden kann. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Gasentladungsröhre längserstreckt sein, z. B. zylinderförmig, mit einer Länge von mehr als 1 m, z. B. mit einer Länge in einem Bereich von ungefähr 1 m bis ungefähr 5 m.According to various embodiments, a processing arrangement for irradiating a substrate may have at least one process chamber and a transport device for transporting and / or positioning the substrate within an irradiation area of the process chamber. The process chamber may be or may be configured as a vacuum chamber, an overpressure chamber or an atmospheric pressure chamber. In or on the process chamber, an irradiation device may be or may be provided such that the substrate can be irradiated in the irradiation area. The irradiation device may, for example, a gas discharge tube or an arrangement with have a plurality of gas discharge tubes. According to various embodiments, a gas discharge tube may be configured such. B. be coupled with a corresponding driver circuit that they can be operated as a flashlamp. According to various embodiments, the gas discharge tube may be elongate, e.g. B. cylindrical, with a length of more than 1 m, z. B. with a length in a range of about 1 m to about 5 m.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Bestrahlungsbereich innerhalb der Prozesskammer von einem Reflektor oder mehreren Reflektoren begrenzt sein oder definiert sein. Mit anderen Worten können Reflektoren oberhalb und/oder unterhalb der Bestrahlungsvorrichtung (z. B. auch unterhalb des zu bestrahlenden Substrats) angeordnet sein oder in die Bestrahlungsvorrichtung integriert sein oder werden. Ferner können Reflektoren den Bestrahlungsbereich seitlich begrenzen, sowohl parallel zur Transportrichtung als auch quer zur Transportrichtung. Somit kann eine Vorderseite des Substrats, welche zu der Bestrahlungsvorrichtung hin gerichtet ist, beispielsweise möglichst homogen bzw. mit einem vordefinierten Muster bestrahlt werden.According to various embodiments, the irradiation area within the process chamber may be limited or defined by one or more reflectors. In other words, reflectors may be arranged above and / or below the irradiation device (eg also below the substrate to be irradiated) or be integrated into the irradiation device. Furthermore, reflectors can limit the irradiation area laterally, both parallel to the transport direction and transversely to the transport direction. Thus, a front side of the substrate, which is directed towards the irradiation device, for example, as homogeneous as possible or be irradiated with a predefined pattern.

Ein Aspekt verschiedener Ausführungsformen kann anschaulich beispielsweise darin gesehen werden, eine Transportvorrichtung für eine Prozesskammer bereitzustellen, welche das Bestrahlen des mittels der Transportvorrichtung transportierten Substrats mit einem vordefinierten Muster (z. B. ein flächig homogenes Bestrahlen) ermöglicht, d. h. anschaulich soll die Transportvorrichtung das Bestrahlungsergebnis möglichst wenig beeinflussen. Gleichzeitig kann die Transportvorrichtung ein Durchbiegen bzw. Durchhängen eines Substrats während des Bestrahlens verhindern, d. h. anschaulich kann das mittels der Transportvorrichtung transportierte Substrat ausreichend gestützt werden. Somit können beispielsweise auch dünne Träger, z. B. Glasplatten mit einer Dicke in einem Bereich von ungefähr 100 μm bis ungefähr 1 mm, oder mit einer Dicke von weniger als ungefähr 4 mm, z. B. mit einer Dicke in einem Bereich von ungefähr 1 mm bis ungefähr 4 mm, prozessiert werden.Illustratively, one aspect of various embodiments can be seen, for example, in providing a transport device for a process chamber, which allows the substrate transported by the transport device to be irradiated with a predefined pattern (eg, a uniformly homogeneous irradiation), i. H. clearly the transport device should influence the irradiation result as little as possible. At the same time, the transport device can prevent sagging of a substrate during irradiation, i. H. clearly, the transported by means of the transport device substrate can be sufficiently supported. Thus, for example, thin carrier, z. Glass sheets having a thickness in a range of about 100 μm to about 1 mm, or a thickness of less than about 4 mm, e.g. With a thickness in a range of about 1 mm to about 4 mm.

Ferner kann ein anderer Aspekt verschiedener Ausführungsformen beispielsweise anschaulich darin gesehen werden, einen Reflektor in eine Transportvorrichtung für eine Prozesskammer derart zu integrieren, dass beispielsweise elektromagnetische Strahlung, welche das mittels der Transportvorrichtung transportierte Substrat durchdringt, wieder in Richtung des Substrats reflektiert werden kann. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein flächiger Reflektor zwischen mehreren (z. B. angetriebenen) Transportwalzen bereitgestellt sein oder werden, wobei der flächige Reflektor einen Bestrahlungsbereich einer Prozesskammer entlang zumindest einer Richtung (z. B., wenn das Substrat auf den Transportwalzen aufliegend transportiert wird, nach unten) begrenzt.Furthermore, another aspect of various embodiments, for example, can clearly be seen to integrate a reflector in a transport device for a process chamber such that, for example, electromagnetic radiation which penetrates the substrate transported by the transport device can be reflected back towards the substrate. According to various embodiments, a planar reflector may be provided between a plurality of (for example driven) transport rollers, wherein the planar reflector projects an irradiation area of a process chamber along at least one direction (eg when the substrate is transported on the transport rollers, down).

Ferner kann ein anderer Aspekt verschiedener Ausführungsformen beispielsweise anschaulich darin gesehen werden, eine Reflektorstruktur mit mindestens einer reflektierenden Oberfläche unterhalb einer Transortebene bereitzustellen, wobei die Transortebene von mehreren (z. B. angetriebenen) Transportwalzen definiert sein kann, wobei in die Reflektorstruktur Roll-Elemente integriert sind, wobei die Roll-Elemente an und/oder in der Reflektorstruktur gelagert sind.Further, another aspect of various embodiments may, for example, be illustratively provided by providing a reflector structure having at least one reflective surface beneath a plane of transport, wherein the plane of transport may be defined by a plurality of (eg driven) transport rollers, incorporating rolling elements into the reflector structure are, wherein the rolling elements are mounted on and / or in the reflector structure.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Transportvorrichtung zum Transportieren eines Substrats in einer Prozesskammer Folgendes aufweisen: mindestens zwei Transportwalzen, welche eine Transportebene definieren, in welcher das Substrat mittels der Transportvorrichtung transportiert wird; eine unterhalb der Transportebene zwischen den mindestens zwei Transportwalzen angeordnete Platte, welche zumindest eine Oberfläche aufweist, die sich entlang der Transportebene erstreckt, wobei die Platte mehrere Öffnungen aufweist, welche sich von der Oberfläche aus durch die Platte hindurch erstrecken; mehrere Roll-Elemente, welche jeweils drehbar gelagert sind und derart an der Platte befestigt sind, dass sich jedes der mehreren Roll-Elemente teilweise durch jeweils eine der mehreren Öffnungen in der Platte hindurch erstreckt zum Abstützen des transportierten Substrats mittels der mehrere Roll-Elemente zwischen den mindestens zwei Transportwalzen.According to various embodiments, a transport device for transporting a substrate in a process chamber may comprise: at least two transport rollers which define a transport plane in which the substrate is transported by means of the transport device; a plate disposed below the transport plane between the at least two transport rollers and having at least one surface extending along the transport plane, the plate having a plurality of apertures extending through the plate from the surface; a plurality of rolling elements, each rotatably mounted and secured to the plate such that each of the plurality of rolling elements extends partially through each one of the plurality of openings in the plate for supporting the transported substrate by means of the plurality of rolling elements the at least two transport rollers.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Transportvorrichtung zum Transportieren eines Substrats in einer Prozesskammer Folgendes aufweisen: mindestens zwei Transportwalzen, welche eine Transportebene definieren, in welcher das Substrat mittels der Transportvorrichtung transportiert wird; eine unterhalb der Transportebene zwischen den mindestens zwei Transportwalzen angeordnete Reflektorstruktur, welche zumindest eine Oberfläche aufweist, die sich entlang der Transportebene erstreckt, wobei die Reflektorstruktur mehrere Öffnungen aufweist, welche sich von der Oberfläche aus durch die Reflektorstruktur hindurch erstrecken; mehrere Roll-Elemente, welche jeweils drehbar gelagert sind und derart an und/oder in der Reflektorstruktur befestigt sind, dass sich jedes der mehreren Roll-Elemente teilweise durch jeweils eine der mehreren Öffnungen in der Reflektorstruktur hindurch erstreckt zum Abstützen des transportierten Substrats mittels der mehrere Roll-Elemente zwischen den mindestens zwei Transportwalzen.According to various embodiments, a transport device for transporting a substrate in a process chamber may comprise: at least two transport rollers which define a transport plane in which the substrate is transported by means of the transport device; a reflector structure disposed below the transport plane between the at least two transport rollers and having at least one surface extending along the transport plane, the reflector structure having a plurality of openings extending from the surface through the reflector structure; a plurality of rolling elements, each rotatably mounted and secured to and / or in the reflector structure such that each of the plurality of rolling elements extends partially through each one of the plurality of openings in the reflector structure for supporting the transported substrate by means of the plurality Rolling elements between the at least two transport rollers.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die mindestens zwei Transportwalzen eine Transportrichtung definieren, entlang welcher das Substrat transportiert wird. According to various embodiments, the at least two transport rollers may define a transport direction along which the substrate is transported.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Reflektorstruktur mindestens eine (elektromagnetische Strahlung bzw. Licht) reflektierende Oberfläche aufweisen. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Reflektorstruktur mindestens eine Platte mit einer reflektierenden Oberfläche aufweisen. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Reflektorstruktur einen T-Träger oder einen Doppel-T-Träger aufweisen, wobei sich der T-Träger oder der Doppel-T-Träger quer zur Substrattransportrichtung erstreckt.According to various embodiments, the reflector structure may have at least one (electromagnetic radiation or light) reflecting surface. According to various embodiments, the reflector structure may comprise at least one plate with a reflective surface. According to various embodiments, the reflector structure may comprise a T-bar or a double-T bar, wherein the T-bar or the double-T bar extends transversely to the substrate transport direction.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die zumindest eine Oberfläche der Reflektorstruktur im Wesentlichen parallel zur Transportebene bereitgestellt sein oder werden. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die zumindest eine Oberfläche der Reflektorstruktur eine (z. B. polierte) Metalloberfläche sein. Anschaulich kann die zumindest eine Oberfläche der Reflektorstruktur als nicht-diffuser Reflektor (d. h. als Spiegel) oder als diffuser Reflektor (z. B. eine weiße Oberfläche oder gebürstetes Metall) eingerichtet sein.According to various embodiments, the at least one surface of the reflector structure may or may not be provided substantially parallel to the transport plane. According to various embodiments, the at least one surface of the reflector structure may be a (eg, polished) metal surface. Illustratively, the at least one surface of the reflector structure may be configured as a non-diffuse reflector (i.e., as a mirror) or as a diffuse reflector (eg, a white surface or brushed metal).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann jedes der Roll-Elemente eine Scheibe aufweisen, welche um deren Scheibenachse drehbar gelagert ist. Als Scheibe kann beispielsweise ein zylindrischer Körper bezeichnet werden, dessen Radius um ein Vielfaches (z. B. zweifaches, dreifaches, oder mehr als dreifaches) höher ist als dessen Dicke, wobei die Scheibenachse analog zur Zylinderachse definiert sein kann.According to various embodiments, each of the rolling elements may comprise a disc which is rotatably mounted about its disc axis. For example, a cylindrical body can be designated as a disk whose radius is many times (for example twice, three times, or more than three times) greater than its thickness, whereby the disk axis can be defined analogously to the cylinder axis.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Scheibe (welche als das jeweilige Roll-Element verwendet wird) einen Randbereich aufweisen, welcher dicker ist als ein Mittenbereich der Scheibe. Mit anderen Worten kann die Scheibe einen T-förmigen, bzw. doppel-T-förmigen Querschnitt aufweisen, z. B. im Querschnitt parallel zur (bzw. durch die) Scheibenachse.According to various embodiments, the disc (which is used as the respective rolling element) may have an edge region which is thicker than a central region of the disc. In other words, the disc may have a T-shaped or double-T-shaped cross-section, for. B. in cross-section parallel to (or through) the disk axis.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann jedes der Roll-Elemente eine Kugel aufweisen, welche um eine Achse drehbar oder um mehrere Achsen drehbar gelagert ist. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Kugel (welche als das jeweilige Roll-Element verwendet wird) an einer drehbar gelagerten Welle befestigt sein. Ferner kann die Kugel (welche als das jeweilige Roll-Element verwendet wird) teilweise in einer Lagerschale (welche z. B. mehrteilig ausgestaltet ist) aufgenommen sein, wobei die Lagerschale eine Ausnehmung aufweist, welche komplementär zur Form der Kugeloberfläche ist.According to various embodiments, each of the rolling elements may comprise a ball which is rotatable about an axis or rotatable about a plurality of axes. According to various embodiments, the ball (which is used as the respective rolling element) may be attached to a rotatably mounted shaft. Furthermore, the ball (which is used as the respective rolling element) may be partially accommodated in a bearing shell (which is designed, for example, in several parts), the bearing shell having a recess which is complementary to the shape of the ball surface.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann jede der mehreren Öffnungen in der Reflektorstruktur an die Form des jeweiligen Roll-Elements derart angepasst sein, dass ein Spalt zwischen dem jeweiligen Roll-Element und der Reflektorstruktur bereitgestellt ist.According to various embodiments, each of the plurality of openings in the reflector structure may be adapted to the shape of the respective rolling element such that a gap is provided between the respective rolling element and the reflector structure.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Oberfläche der Reflektorstruktur und die Reflektorstruktur zum Reflektieren elektromagnetischer Strahlung eingerichtet sein, wobei der Reflexionsgrad (z. B. der Gesamt-Reflexionsgrad) größer ist als 90%. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Oberfläche der Reflektorstruktur und die Reflektorstruktur zum Reflektieren elektromagnetischer Strahlung eingerichtet sein, wobei der Reflexionsgrad (z. B. der Gesamt-Reflexionsgrad) größer ist als 80%. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Oberfläche der Reflektorstruktur und die Reflektorstruktur zum Reflektieren elektromagnetischer Strahlung eingerichtet sein, wobei der Reflexionsgrad (z. B. der Gesamt-Reflexionsgrad) größer ist als 70%.According to various embodiments, the surface of the reflector structure and the reflector structure may be arranged to reflect electromagnetic radiation, the reflectance (eg, the total reflectance) being greater than 90%. According to various embodiments, the surface of the reflector structure and the reflector structure may be arranged to reflect electromagnetic radiation, the reflectance (eg, the total reflectance) being greater than 80%. According to various embodiments, the surface of the reflector structure and the reflector structure may be arranged to reflect electromagnetic radiation, the reflectance (eg, the total reflectance) being greater than 70%.

Generell kann Strahlung (z. B. elektromagnetische Strahlung) beispielsweise mittels verschiedener physikalischer Größen charakterisiert werden, wobei diese Charakterisierung wellenlängenabhängig sein kann. Die hierin beschrieben physikalischen Größen, welche zum Beschreiben der elektromagnetischen Strahlung genutzt werden, können sich auf eine Wellenlänge beziehen oder können über einen Wellenlängenbereich gemittelt sein, z. B. über einen Wellenlängenbereich von 400 nm bis 800 nm. Dabei kann das Emissionsspektrum einer Bestrahlungsvorrichtung im Wesentlichen definieren, welcher Wellenlängenbereich betrachtet wird. Der Transmissionsgrad (auch als Transmissivität bezeichnet), der Reflexionsgrad (auch als Reflektivität bezeichnet, z. B. der hemisphärische Gesamtreflexionsgrad oder der gerichtete Gesamtreflexionsgrad)) und der Absorptionsgrad (z. B. der hemisphärische Gesamtabsorptionsgrad oder der gerichtete Gesamtabsorptionsgrad) können jeweils mittels Reflexions-Transmissions-Messungen ermittelt werden.In general, radiation (eg electromagnetic radiation) can be characterized, for example, by means of different physical quantities, wherein this characterization can be wavelength-dependent. The physical quantities described herein which are used to describe the electromagnetic radiation may refer to a wavelength or may be averaged over a range of wavelengths, e.g. Over a wavelength range of 400 nm to 800 nm. In this case, the emission spectrum of an irradiation device can essentially define which wavelength range is considered. The degree of transmittance (also referred to as transmissivity), the degree of reflection (also referred to as reflectivity, eg the total hemispherical reflectance or the total directional reflectance)) and the degree of absorption (eg the hemispherical total absorption or the directed total absorption) can each be determined by means of reflection Transmission measurements are determined.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportvorrichtung ferner eine Kühlvorrichtung aufweisen zum Kühlen der Reflektorstruktur, wobei die Kühlvorrichtung mit der Reflektorstruktur thermisch gekoppelt ist. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Kühlvorrichtung mindestens einen Kanal aufweisen zum Führen von Kühlmittel, z. B. Kühlwasser.According to various embodiments, the transport device may further comprise a cooling device for cooling the reflector structure, wherein the cooling device is thermally coupled to the reflector structure. According to various embodiments, the cooling device may comprise at least one channel for guiding coolant, e.g. B. cooling water.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: eine Prozesskammer mit einer Bestrahlungsvorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats innerhalb eines Bestrahlungsbereichs; eine Transportvorrichtung (wie hierin beschrieben ist) zum Transportieren des Substrats in den Bestrahlungsbereich hinein und/oder aus dem Bestrahlungsbereich heraus.According to various embodiments, a processing arrangement may comprise: a process chamber having an irradiation device for irradiating a substrate within an irradiation area; a Transporting device (as described herein) for transporting the substrate into the irradiation area and / or out of the irradiation area.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Bestrahlungsvorrichtung mindestens eine Gasentladungsröhre aufweisen, wobei die mindestens eine Gasentladungsröhre mit einem Treiberschaltkreis derart gekoppelt und der Treiberschaltkreis derart eingerichtet ist, dass die Gasentladungsröhre als Blitzlampe betrieben werden kann.According to various embodiments, the irradiation device may comprise at least one gas discharge tube, wherein the at least one gas discharge tube is coupled to a driver circuit and the driver circuit is arranged such that the gas discharge tube can be operated as a flashlamp.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: eine Prozesskammer mit einer Bestrahlungsvorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats innerhalb eines Bestrahlungsbereichs; eine Transportvorrichtung zum Transportieren des Substrats in den Bestrahlungsbereich hinein und/oder aus dem Bestrahlungsbereich heraus, wobei die Transportvorrichtung mindestens zwei Transportwalzen aufweist, welche eine Transportebene definieren, in welcher das Substrat mittels der Transportvorrichtung transportiert wird, wobei die Bestrahlungsvorrichtung oberhalb der Transportebene angeordnet ist; eine unterhalb der Transportebene angeordnete flächige Reflektorstruktur (welche den Bestrahlungsbereich begrenzt) zum Reflektieren von elektromagnetischer Strahlung, welche von der Bestrahlungsvorrichtung emittiert wird; mehrere Roll-Elemente, welche jeweils drehbar gelagert an der flächigen Reflektorstruktur befestigt sind zum Abstützen des Substrats während des Transportierens in dem Bestrahlungsbereich.According to various embodiments, a processing arrangement may comprise: a process chamber having an irradiation device for irradiating a substrate within an irradiation area; a transport device for transporting the substrate into the irradiation area and / or out of the irradiation area, the transport device having at least two transport rollers which define a transport plane in which the substrate is transported by the transport device, the irradiation device being arranged above the transport plane; a planar reflector structure (which limits the irradiation area) arranged below the transport plane for reflecting electromagnetic radiation emitted by the irradiation device; a plurality of rolling elements, which are each mounted rotatably mounted on the flat reflector structure for supporting the substrate during transporting in the irradiation area.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann sich mindestens eine Oberfläche der flächigen Reflektorstruktur parallel zur Transportebene erstrecken. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Bestrahlungsvorrichtung mindestens eine Gasentladungsröhre aufweisen. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die mindestens eine Gasentladungsröhre mit einem Treiberschaltkreis derart gekoppelt und der Treiberschaltkreis derart eingerichtet sein, dass die Gasentladungsröhre als Blitzlampe betrieben werden kann.According to various embodiments, at least one surface of the flat reflector structure may extend parallel to the transport plane. According to various embodiments, the irradiation device may comprise at least one gas discharge tube. According to various embodiments, the at least one gas discharge tube may be coupled to a driver circuit and the driver circuit configured such that the gas discharge tube may be operated as a flashlamp.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann jedes der mehreren Roll-Elemente eine Scheibe, eine Walze oder eine Kugel aufweisen.According to various embodiments, each of the plurality of rolling elements may comprise a disk, a roller or a ball.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die flächige Reflektorstruktur mindestens eine Platte mit einer lichtreflektierenden Oberfläche aufweisen, wobei die lichtreflektierende Oberfläche der Bestrahlungsvorrichtung zugewandt ist, wobei die mehreren Roll-Elemente unterhalb der mindestens einen Platte gelagert sind und sich teilweise durch jeweils eine Öffnung in der mindestens einen Platte hindurch erstrecken, so dass das Substrat mittels der mehreren Roll-Elemente oberhalb der mindestens einen Platte gestützt werden kann.According to various embodiments, the planar reflector structure may comprise at least one plate with a light-reflecting surface, the light-reflecting surface facing the irradiation device, wherein the plurality of rolling elements are mounted below the at least one plate and partially through each opening in the at least one plate extend therethrough, so that the substrate can be supported by means of the plurality of rolling elements above the at least one plate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die mindestens eine Platte der Reflektorstruktur mehrere weitere Öffnungen aufweisen, wobei die mindestens zwei Transportwalzen der Transportvorrichtung jeweils mehrere ringförmige Vorsprünge aufweisen, welche sich teilweise durch die entsprechenden mehreren weiteren Öffnungen hindurch erstrecken.According to various embodiments, the at least one plate of the reflector structure may have a plurality of further openings, wherein the at least two transport rollers of the transport device each have a plurality of annular projections which extend partially through the corresponding plurality of further openings.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung ferner eine Seitenreflektor-Struktur aufweisen, welche sich oberhalb der Transportebene in mindestens eine Richtung parallel zur Transportebene erstreckt, wobei die Seitenreflektor-Struktur den Bestrahlungsbereich seitlich begrenzt.According to various embodiments, the processing arrangement may further comprise a side reflector structure which extends above the transport plane in at least one direction parallel to the transport plane, the side reflector structure laterally delimiting the irradiation area.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung ferner eine Kühlvorrichtung aufweisen, welche mit der flächigen Reflektorstruktur gekuppelt ist zum Kühlen der flächigen Reflektorstruktur.According to various embodiments, the processing arrangement may further comprise a cooling device, which is coupled to the planar reflector structure for cooling the planar reflector structure.

Das Substrat, z. B. ein Glassubstrat, ein Kunststoffsubstrat (z. B. aufweisend PET (Polyethylenterephthalat), PMMA (Polymethylmethacrylat) und/oder PC (Polycarbonat)) oder ein Saphir-Glas (transparentes Al2O3) kann eine gewisse Transparenz, anschaulich eine Durchlässigkeit für elektromagnetische Strahlung, aufweisen.The substrate, for. Example, a glass substrate, a plastic substrate (eg, comprising PET (polyethylene terephthalate), PMMA (polymethyl methacrylate) and / or PC (polycarbonate)) or a sapphire glass (transparent Al 2 O 3 ) may have a certain transparency, vividly a permeability for electromagnetic radiation.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.Embodiments of the invention are illustrated in the figures and are explained in more detail below.

Es zeigenShow it

1 eine Transportvorrichtung in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 1 a transport device in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments;

2 eine Transportvorrichtung in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 2 a transport device in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments;

3 einen Teil einer Transportvorrichtung in einer schematischen Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 3 a portion of a transport device in a schematic cross-sectional view, according to various embodiments;

4 einen Teil einer Transportvorrichtung in einer schematischen Draufsicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 4 a portion of a transport device in a schematic plan view, according to various embodiments;

5 eine Prozessieranordnung mit einer Transportvorrichtung in einer schematischen perspektivischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 5 a processing arrangement with a transport device in a schematic perspective view, according to various embodiments;

6A bis 6E jeweils verschiedene Querschnittsansichten und Detailansichten einer Prozessieranordnung mit einer Transportvorrichtung, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 6A to 6E respectively different cross-sectional views and detailed views of a processing arrangement with a transport device, according to various embodiments;

7A und 73 jeweils einen Farbverlauf auf einem mittels der Prozessieranordnung behandelten Substrat, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 7A and 73 in each case a color gradient on a substrate treated by means of the processing arrangement, according to various embodiments;

8 eine räumliche Verteilung der Bestrahlung zum Bestrahlen eines Substrats innerhalb eines Bestrahlungsbereichs einer Prozessieranordnung, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 8th a spatial distribution of the irradiation for irradiating a substrate within an irradiation area of a processing arrangement, according to various embodiments;

9A einen Teil einer Transportvorrichtung in einer schematischen Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 9A a portion of a transport device in a schematic cross-sectional view, according to various embodiments;

9B einen Teil einer Transportvorrichtung in einer schematischen perspektivischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; und 9B a portion of a transport device in a schematic perspective view, according to various embodiments; and

10 einen Teil einer Transportvorrichtung in einer schematischen perspektivischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 10 a portion of a transport device in a schematic perspective view, according to various embodiments.

In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa ”oben”, ”unten”, ”vorne”, ”hinten”, ”vorderes”, ”hinteres”, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part hereof, and in which is shown by way of illustration specific embodiments in which the invention may be practiced. In this regard, directional terminology such as "top", "bottom", "front", "back", "front", "rear", etc. is used with reference to the orientation of the described figure (s). Because components of embodiments can be positioned in a number of different orientations, the directional terminology is illustrative and is in no way limiting. It should be understood that other embodiments may be utilized and structural or logical changes may be made without departing from the scope of the present invention. It should be understood that the features of the various exemplary embodiments described herein may be combined with each other unless specifically stated otherwise. The following detailed description is therefore not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined by the appended claims.

Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe ”verbunden”, ”angeschlossen” sowie ”gekoppelt” verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.As used herein, the terms "connected," "connected," and "coupled" are used to describe both direct and indirect connection, direct or indirect connection, and direct or indirect coupling. In the figures, identical or similar elements are provided with identical reference numerals, as appropriate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein so genannter Gegenreflektor (auch als Bodenreflektor bezeichnet), welcher von der Bestrahlungsvorrichtung (z. B. einer Blitzlampe) aus gesehen hinter dem zu bestrahlenden Substrat angeordnet ist, die für das Bestrahlen (z. B. das Kurzzeittempern) zur Verfügung stehende Lichtmenge bei der Behandlung von transparenten Substraten erhöhen.According to various embodiments, a so-called counter-reflector (also referred to as a bottom reflector), which is arranged behind the irradiation substrate by the irradiation device (eg a flashlamp), can be used for the irradiation (eg the short-term annealing) Increase the available amount of light in the treatment of transparent substrates.

Je hochreflektierender dieser Reflektor ist, desto mehr Licht steht für den Prozess (z. B. einen thermischen Prozess) an einer Schicht, welche auf dem Substrat aufgebracht sein kann, zur Verfügung. Ferner kann somit auch die Leistung der Blitzlampe verringert werden, um das gleiche Bestrahlungsergebnis zu erreichen. Eine geringere Lampenleistung verringert beispielsweise die notwendige elektrische Energie, die Rückkühlleistung des Gegenreflektors und reduziert den Lampenverschleiß. Somit reduzieren sich die Betriebskosten.The highly reflective this reflector is, the more light is available for the process (eg, a thermal process) on a layer that may be deposited on the substrate. Furthermore, the power of the flash lamp can thus also be reduced in order to achieve the same irradiation result. A lower lamp power, for example, reduces the necessary electrical energy, the re-cooling power of the counter-reflector and reduces the lamp wear. This reduces operating costs.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Transportvorrichtung mit mehreren Transportwalzen (auch als Transportrollen bezeichnet) bereitgestellt zum Antreiben und Unterstützen von horizontalen oder geneigten, flachen, transparenten Substraten im Bereich eines Gegenreflektors (z. B. in Transportrichtung gesehen vor und/oder nach einem Gegenreflektor) bei einer RTP-Behandlung (auch als Kurzzeittempern bezeichnet). Ferner kann die Transportvorrichtung mit mehreren Stützwalzen, Stützscheiben oder Stützkugeln aufweisen (auch als Roll-Elemente bezeichnet) zum Unterstützen der Substrate oberhalb des Gegenreflektors.According to various embodiments, a transport device with a plurality of transport rollers (also referred to as transport rollers) is provided for driving and supporting horizontal or inclined, flat, transparent substrates in the region of a counter-reflector (eg in front of and / or behind a counter-reflector in the transport direction) an RTP treatment (also referred to as short-term tempering). Furthermore, the transport device may comprise a plurality of support rollers, support disks or support balls (also referred to as rolling elements) for supporting the substrates above the counter-reflector.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Transportwalzen der Transportvorrichtung angetrieben sein. Ferner können die Roll-Elemente (oder anschaulich drehbar gelagerte Stützelemente) frei drehend gelagert sein, d. h. nicht angetrieben sein. Anschaulich können nur die Transportwalzen der Transportvorrichtung mit einem Antrieb gekuppelt sein oder werden.According to various embodiments, the transport rollers of the transport device may be driven. Furthermore, the rolling elements (or vividly rotatably mounted support elements) can be freely rotatably mounted, d. H. not be driven. Clearly, only the transport rollers of the transport device can be coupled to a drive or be.

Mehrere Blitzlampen (d. h. als Blitzlampen betriebene Gasentladungsröhren) können beispielsweise als ein Lampenfeld bereitgestellt sein oder werden. Die Ausdehnung des Lampenfeldes und des Gegenreflektors kann quer zur Transportrichtung größer sein als die Substratbreite. Ferner kann beispielsweise die Ausdehnung des Lampenfeldes und des Gegenreflektors in Substrat-Transportrichtung größer sein als der notwendige Stützabstand, welcher beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 200 mm bis ungefähr 300 mm liegen kann, für die transparenten Substrate, z. B. Glassubstrate. Ist der Stützabstand bei dünnen Glassubstraten zu groß, biegt sich das Glassubstrat durch das Eigengewicht zu stark nach unten, um mittels der Prozessieranordnung effizient prozessiert werden zu können. Dies ist besonders bei dünnen Glassubstraten der Fall. Beim Auflaufen auf die nächste Transportwalze kann dies besonders bei dünnen Substraten und hohen Transportgeschwindigkeiten zu Glasbruch führen. Eine Abstützung des Substrats (z. B. innerhalb des Bestrahlungsbereichs) mittels Roll-Elementen kann also notwendig oder hilfreich sein.For example, multiple flashlamps (ie, gas discharge tubes operated as flashlamps) may or may not be provided as a lamp array. The extent of the lamp field and the counter reflector may be greater than the width of the substrate transversely to the transport direction. Furthermore, for example, the extent of the lamp field and the counter-reflector in the substrate transport direction may be greater than the necessary support distance, which may for example be in a range of about 200 mm to about 300 mm, for the transparent substrates, for. B. glass substrates. If the support distance is too large for thin glass substrates, it bends the glass substrate by its own weight too much down to be processed efficiently by means of the processing arrangement can. This is especially the case with thin glass substrates. When running onto the next transport roller, this can lead to glass breakage, especially with thin substrates and high transport speeds. A support of the substrate (eg within the irradiation area) by means of rolling elements can therefore be necessary or helpful.

Beispielsweise kann ein horizontal transportiertes Glassubstrat in einer Prozesskammer, in welchen ein Beschichtungsprozess oder auch Bestrahlungsprozess stattfindet, mittels so genannter Scheibentransportwalzen (auch als Scheibentransportrollen bezeichnet) bewegt und/oder abgestützt werden. Die Scheibentransportwalzen können beispielsweise in einem Abstand (entlang der Transportrichtung) von ungefähr 200 mm bis 300 mm angeordnet sein oder werden und an deren Endabschnitten gelagert sein oder werden. Jede der Scheibentransportwalzen kann beispielsweise mehrere schmale Scheiben aufweisen, welche auf einer gemeinsamen Welle angeordnet sind.For example, a horizontally transported glass substrate can be moved and / or supported in a process chamber in which a coating process or irradiation process takes place by means of so-called disk transport rollers (also referred to as disk transport rollers). For example, the disc transport rollers may be arranged at a distance (along the transporting direction) of about 200 mm to 300 mm and stored at the end portions thereof. For example, each of the disk feed rollers may have a plurality of narrow disks arranged on a common shaft.

Die zum Transportieren eines Substrats in einer Prozesskammer verwendeten Transportwalzen bzw. Scheibentransportwalzen, können beispielsweise mittels Ketten oder Zahnriemen synchron angetrieben werden. Dabei können beispielsweise die schmalen Scheiben einer jeweils angetriebenen Scheibentransportwalze bei Beschichtungsprozessen eine so genannte Gegensputterebene oder bei Bestrahlungsprozessen einen genannten Gegenreflektor an dafür eingebrachten Ausschnitten (auch als Öffnungen bezeichnet) durchdringen.The transport rollers or disc transport rollers used for transporting a substrate in a process chamber can be driven synchronously, for example by means of chains or toothed belts. In this case, for example, the narrow slices of a respective driven disc transport roller in coating processes a so-called Gegensputterebene or irradiation processes a counter-reflector to penetrate cutouts (also referred to as openings) penetrate.

Scheibentransportwalzen, welche beispielsweise angetrieben sind, zum Transportieren eines auf den Scheiben der Scheibentransportwalze aufliegenden Substrats können beispielsweise bei einem in einer Prozesskammer durchgeführten RTP-Verfahren verwendet werden. Dabei können die schmalen Scheiben der jeweiligen Scheibentransportwalze durch Ausschnitte im Gegenreflektor hindurchgreifen. Damit die Scheiben der Scheibentransportwalze nicht am Gegenreflektor schleifen, muss ein ausreichender Spalt vorgesehen sein oder werden. Absorption der Lichtstrahlung kann beispielsweise zur Erwärmung der Scheibentransportwalze führen, die somit eine Wärmedehnung erfährt. Wärme kann allgemein beispielsweise in einer Vakuumumgebung schlecht abgeführt werden. Bei einer Temperaturerhöhung von beispielsweise 150°C und einer Länge (beispielsweise einer Scheibentransportwalze) von 3400 mm hat dies bei Edelstahl eine Wärmedehnung von ungefähr 5 mm zur Folge. Ferner sollten beispielsweise 1 mm zusätzlich für Fertigungsungenauigkeiten vorgehalten werden. Der Spalt zwischen den Scheiben der Scheibentransportwalze und dem Gegenreflektor müsste bei einseitiger Festlagerung also beispielsweise mehr als 6 mm breit sein. Bei symmetrischer Lagerung zur Breitenmitte wären beispielsweise wenigstens 3,5 mm notwendig.Disk feed rollers which are driven, for example, for transporting a substrate resting on the disks of the disk feed roller can be used, for example, in an RTP method carried out in a process chamber. The narrow discs of the respective disc transport roller can reach through cutouts in the counter reflector. So that the discs of the disc transport roller do not grind on the counter-reflector, a sufficient gap must be or will be provided. Absorption of the light radiation can, for example, lead to heating of the disk transport roller, which thus experiences thermal expansion. Heat generally can be dissipated poorly, for example, in a vacuum environment. At a temperature increase of, for example, 150 ° C and a length (for example, a disc transport roller) of 3400 mm, this has a thermal expansion of about 5 mm for stainless steel result. Furthermore, for example, 1 mm should be kept in addition for manufacturing inaccuracies. The gap between the discs of the disc transport roller and the counter reflector would therefore have to be for example more than 6 mm wide in one-sided fixed bearing. For symmetrical storage to the middle of the width, for example, at least 3.5 mm would be necessary.

Ferner wurde erkannt, dass die unterschiedlichen Reflexionseigenschaften von Reflektor, Scheibentransportwalze und die fehlende Reflexion im Bereich des Spaltes bei der Schichtbehandlung inhomogene optische Eigenschaften zur Folge haben können. Grund dafür ist beispielsweise der in der Flächenausdehnung inhomogene Anteil der Lichtdosis aufgrund der inhomogenen Reflexion von der Substratrückseite her. Anschaulich kann aufgrund der notwendigen großen Spalte zwischen Gegenreflektor und den Scheiben der Scheibentransportwalze keine ausreichend homogene Reflexion an einem derart eingerichteten Gegenreflektor erfolgen, d. h. bei einem Gegenreflektor, bei welchem die schmalen Scheiben der Scheibentransportwalze durch Ausschnitte im Gegenreflektor hindurchgreifen. Dies kann beispielsweise von der unabhängigen Lagerung der jeweiligen Scheibentransportwalze in Bezug auf den Gegenreflektor verursacht werden, wodurch die Ausschnitte im Gegenreflektor aufgrund der Wärmedehnung der Scheibentransportwalze vergleichsweise groß gewählt werden müssen.Furthermore, it was recognized that the different reflection properties of the reflector, disk transport roller and the lack of reflection in the region of the gap in the layer treatment can result in inhomogeneous optical properties. The reason for this is, for example, the proportion of the light dose which is inhomogeneous in the surface area due to the inhomogeneous reflection from the back of the substrate. Clearly, due to the necessary large gap between the counter-reflector and the disks of the disk transport roller, there is no sufficiently homogeneous reflection on a counter-reflector arranged in this way, ie. H. in a counter-reflector, wherein the narrow discs of the disc transport roller engage through cutouts in the counter-reflector. This can be caused for example by the independent storage of the respective disc transport roller with respect to the counter-reflector, whereby the cutouts in the counter-reflector must be chosen comparatively large due to the thermal expansion of the disc transport roller.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird in dem Bestrahlungsbereich einer Prozesskammer, z. B. im Bereich eines Gegenreflektors, keine Scheibentransportwalze verwendet, da diese das Bestrahlungsergebnis negativ beeinflussen könnte, z. B. inhomogen machen könnte.According to various embodiments, in the irradiation area of a process chamber, e.g. B. in the area of a counter-reflector, no disc transport roller used, since this could adversely affect the irradiation result, z. B. could make inhomogeneous.

Diesbezüglich wäre es beispielsweise möglich, das Lampenfeld und die Ausdehnung des Reflektors abzüglich des Überlappungsbereichs in Transportrichtung geringer als den notwendigen Stützabstand auszugestalten, was jedoch eine höhere Blitzfrequenz notwendig machen würde. Ferner würde der Überlappungsbereich dementsprechend oft geblitzt werden (was zu einem Effizienz-Verlust führen könnte) und die Lichtdosis wird überproportional geringer, da Seitenreflektoren überproportional Strahlung absorbieren können.In this regard, it would be possible, for example, the lamp field and the extension of the reflector minus the overlap region in the transport direction less than the necessary support distance to design, but this would require a higher flash frequency. Furthermore, the overlap area would be flashed accordingly often (which could lead to a loss of efficiency) and the light dose is disproportionately low because side reflectors can disproportionately absorb radiation.

Ferner wäre es beispielsweise möglich, den Gegenreflektor derart stark absorbierend auszugestalten, dass die optische Ungleichmäßigkeit aufgrund der durch den Gegenreflektor hindurch greifenden Scheibentransportwalzen akzeptabel wäre. Dazu müssten jedoch die Blitzlampen abhängig von der zu behandelnden Schicht mit höherer Leistung betrieben werden (z. B. mit 20% mehr Leistung), um gleiche Schichtverbesserungen bzw. Bestrahlungsergebnisse zu erreichen. Ferner müsste der Gegenreflektor/Absorber sehr stark gekühlt werden.Furthermore, it would be possible, for example, to design the counter-reflector so strongly absorbing that the optical unevenness would be acceptable due to the disc transport rollers passing through the counter-reflector. For this purpose, however, the flash lamps would have to be operated with higher power (eg with 20% more power), depending on the layer to be treated, in order to achieve the same layer improvements or irradiation results. Furthermore, the counter-reflector / absorber would have to be cooled very strongly.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein gleichmäßig reflektierendes Transportband unter dem Substrat im Bereich des Lampenfeldes angeordnet sein oder werden. Diese aufwendige mechanische Lösung kann beispielsweise auch eine Rückkühlung aufwendig machen, der mechanische Verschleiß des Transportbandes kann vergleichsweise groß sein, wodurch eine optische Trübung und eine geringere Reflexion über die Lebensdauer verursacht werden kann. According to various embodiments, a uniformly reflective conveyor belt may or may be arranged below the substrate in the area of the lamp field. This complex mechanical solution, for example, make a re-cooling consuming, the mechanical wear of the conveyor belt can be comparatively large, whereby an optical haze and a lower reflection over the life can be caused.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Transportvorrichtung bereitgestellt, welche gewährleistet, dass das Substrat in den notwendigen Abständen unterstützt wird, wobei die Transportvorrichtung ferner einen hochreflektierenden Gegenreflektor aufweist (z. B. zwischen mindestens zwei benachbarten Transportwalzen angeordnet), wobei das Substrat über die Fläche (z. B. parallel zur Substratebene) mit einer möglichst gleichmäßigen Energie/Lichtdosis (bzw. Bestrahlung) behandelt werden kann, um möglichst gleichmäßige optische Eigenschaften auf dem Substrat zu erzielen. Dabei kann das Substrat eine Beschichtung aufweisen, z. B. ein Metall, eine Keramik, ein elektrisch leitfähiges Oxid bzw. ein transparentes elektrisch leitfähiges Oxid (z. B. ITO, AZO), etc.According to various embodiments, a transport device is provided which ensures that the substrate is supported at the necessary intervals, the transport device further comprising a highly reflective counter-reflector (eg disposed between at least two adjacent transport rollers), the substrate being spread over the surface (e.g. B. parallel to the substrate plane) with a uniform energy / light dose (or irradiation) can be treated in order to achieve the most uniform optical properties on the substrate. In this case, the substrate may have a coating, for. A metal, a ceramic, an electrically conductive oxide or a transparent electrically conductive oxide (eg ITO, AZO), etc.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann dies beispielsweise dadurch erreich werden, dass eine Vielzahl einzeln gelagerter Scheibenrollen oder andere Roll-Elemente verwendet werden, welche beispielsweise schmal sind und einen kleinen Durchmesser aufweisen (z. B. eine Scheibenrollen mit einem Durchmesser in einem Bereich von ungefähr 3 cm bis ungefähr 10 cm und Scheibenhöhe (bzw. Scheibendicke) in einem Bereich von ungefähr 0,5 cm bis ungefähr 5 cm). Mit anderen Worten können zusätzlich zu den (z. B. angetriebenen) Transportwalzen mehrere einzeln gelagerte Scheibenrollen oder andere Roll-Elemente verwendet werden, welche einen kleineren Durchmesser als die Transportwalzen aufweisen.According to various embodiments, this can be achieved, for example, by using a plurality of individually mounted disc rolls or other rolling elements which are, for example, narrow and have a small diameter (eg a disc roller with a diameter in a range of approximately 3 cm to about 10 cm and slice height (or slice thickness) in a range of about 0.5 cm to about 5 cm). In other words, in addition to the (for example driven) transport rollers, a plurality of individually mounted disc rollers or other rolling elements may be used which have a smaller diameter than the transport rollers.

Die einzeln gelagerten scheibenförmigen Rollen (bzw. Scheibenrollen) oder andere Roll-Elemente können mit ihrer Rotationslagerung unmittelbar am (z. B. gekühlten) Reflektor befestigt sein oder werden. Die Scheibenrollen oder andere Roll-Elemente können beispielsweise mit einem Wälzlager und/oder Gleitlager gelagert sein oder werden und mittels Lagerböcken auf, unter bzw. an dem (z. B. gekühlten) Gegenreflektor montiert sein oder werden. Somit können die Scheibenrollen oder andere Roll-Elemente in axialer Richtung dem Gegenreflektor zugeordnet sein. Eine Relativverschiebung zwischen einer Scheibenrolle (bzw. einem Roll-Element) und dem Gegenreflektor aufgrund von Wärmedehnung wird dadurch im Wesentlichen unterbunden. Der seitliche Spalt zwischen der Scheibenrolle (bzw. dem Roll-Element) und dem Gegenreflektor (z. B. um die durchgreifende Rollenscheibe bzw. um das durchgreifende Roll-Element herum) in Richtung der Rotationsachse der Scheibenrolle kann sehr schmal ausgestaltet sein oder werden (z. B. wenige 0,1 mm betragen, oder beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 0,1 mm bis ungefähr 1 mm liegen). Dadurch werden die Lichtverluste sehr gering gehalten.The individually mounted disc-shaped rollers (or disc rollers) or other rolling elements can be fastened with their rotational support directly on the (eg cooled) reflector or be. The disc rollers or other rolling elements may be mounted, for example, with a rolling bearing and / or plain bearings and be or be mounted by means of pedestals on, under or on the (eg cooled) counter-reflector. Thus, the disc rollers or other rolling elements can be assigned in the axial direction of the counter-reflector. A relative displacement between a disc roller (or a rolling element) and the counter-reflector due to thermal expansion is thereby substantially prevented. The lateral gap between the disc roller (or the rolling element) and the counter-reflector (for example around the penetrating roller disc or around the penetrating roller element) in the direction of the axis of rotation of the disc roller can be or become very narrow (FIG. eg, a few 0.1 mm, or, for example, in a range of about 0.1 mm to about 1 mm). As a result, the light losses are kept very low.

Die separate Lagerung der Scheibenrollen (oder allgemein der Roll-Elemente) ermöglicht, dass der Rollenspalt sehr schmal sein kann, da die allseitige Längenausdehnung des Reflektors keine laterale Verschiebung der Rolle auf dem Reflektor zur Folge hat. Die Rolle mit ihrer Lagerung geht gewissermaßen mit dem Reflektor allseitig mit und der Rollenspalt ändert sich nicht kritisch, da auch die Rolle eine Wärmeausdehnung erfährt.The separate storage of the disc rollers (or generally the rolling elements) allows the roller gap can be very narrow, since the all-round length expansion of the reflector has no lateral displacement of the roller on the reflector result. The role of their storage is in a sense with the reflector on all sides and the roller gap does not change critically, as well as the role undergoes thermal expansion.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden die Scheibenrollen (oder allgemein die Roll-Elemente) nicht aktiv angetrieben. Eine Mitnahme erfolgt über die Haftreibung zum Substrat. Auf Leichtgängigkeit ist zu achten, um eine Relativbewegung zwischen Scheibenrollen und Substrat zu unterbinden. In einer anderen Ausgestaltung können die Scheibenrollen (oder allgemein die Roll-Elemente) einzeln oder gekoppelt angetrieben werden, wobei die geringe Größe und die axiale Zuordnung zum Gegenreflektor erhalten bleibt.According to various embodiments, the disc rollers (or generally the rolling elements) are not actively driven. An entrainment takes place via the static friction to the substrate. Smooth running must be ensured in order to prevent a relative movement between the pulley wheels and the substrate. In another embodiment, the disc rollers (or generally the rolling elements) can be driven individually or coupled, wherein the small size and the axial assignment to the counter-reflector is maintained.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden die Scheibenrollen indirekt über ein Lager, eine Achse und eine entsprechende Halterung an den gekühlten Reflektor oder an eine Kühlung angebunden und somit effektiv gekühlt.According to various embodiments, the disc rollers are indirectly connected via a bearing, an axle and a corresponding holder to the cooled reflector or to a cooling system and thus cooled effectively.

Die projizierte Fläche wird beispielsweise mittels einer schmalen Scheibenrolle mit kleinem Durchmesser gering gehalten. Die störenden optischen Einflüsse werden dadurch geringer gehalten. Die Rolle kann beispielsweise auch hochreflektierend ausgestaltet werden. Die lokalen Lichtverluste und die lokalen Intensitätsunterschiede der reflektieren Strahlung werden so weit reduziert, dass die Reflexionsverluste sich nicht auf dem Substrat abbilden. Die über die Gesamtfläche reflektierte Lichtleistung wird durch die geringeren Verluste aufgrund der geringen Spalte um die Scheibenrolle herum erhöht. Idealerweise können die Reflexionseigenschaften von Reflektor und Scheibenrolle angenähert sein oder werden. Beispielsweise können Reflektor und Scheibenrolle aus poliertem Edelstahl gefertigt sein oder werden, oder der Reflektor kann verspiegelt sein, wobei für die Scheibenrolle ebenfalls eine hochreflektierende (z. B. mit einem Reflexionsgrad von mehr als ungefähr 90%, oder mit einem Reflexionsgrad in einem Bereich von ungefähr 90% bis ungefähr 98%) Oberfläche (z. B. Lauffläche, auf der das Substrat teilweise aufliegt) bereitgestellt sein kann.The projected area is kept low, for example, by means of a narrow disc roller with a small diameter. The disturbing optical influences are thereby reduced. The role can be designed, for example, highly reflective. The local light losses and the local intensity differences of the reflected radiation are reduced to such an extent that the reflection losses are not reflected on the substrate. The light output reflected over the total area is increased by the lower losses due to the small gaps around the disc roll. Ideally, the reflective properties of reflector and disk roll may or may approach each other. For example, the reflector and disc roll may be made of polished stainless steel, or the reflector may be mirrored, with the disc roll also having a high reflectivity (eg, with a reflectance of greater than about 90%, or a reflectance in a range of about 90% to about 98%) surface (eg, tread on which the substrate partially rests) may be provided.

1 veranschaulicht eine Transportvorrichtung 100 in einer schematischen Querschnittsansicht oder Seitenansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen, wobei die Transportvorrichtung 100 zum Transportieren eines Substrats 520 in einer Prozesskammer 502k verwendet werden kann, wie beispielsweise in 5 veranschaulicht ist. 1 illustrates a transport device 100 in a schematic cross-sectional view or side view, according to various embodiments, wherein the transport device 100 for transporting a substrate 520 in a process chamber 502k can be used, such as in 5 is illustrated.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportvorrichtung 100 mindestens zwei Transportwalzen 102 aufweisen, welche beispielsweise achsparallel in einem Abstand zueinander angeordnet sein können. Die Transportwalzen 102 können eine Transportebene 101e definieren, in welcher ein Substrat mittels der Transportvorrichtung 100 transportiert werden kann. Beispielsweise kann das Substrat auf den beiden Transportwalzen 102 aufliegen und somit in einer horizontalen Prozessieranlage transportiert werden. Der Abstand der Transportwalzen 102 zueinander, z. B. gemessen als der Abstand der Rotationsachsen der Transportwalzen 102, kann beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 20 cm bis ungefähr 5 m liegen, z. B. in einem Bereich von ungefähr 40 cm bis ungefähr 1 m.According to various embodiments, the transport device 100 at least two transport rollers 102 have, for example, which can be arranged axially parallel at a distance from each other. The transport rollers 102 can be a transport plane 101e define in which a substrate by means of the transport device 100 can be transported. For example, the substrate on the two transport rollers 102 rest and thus be transported in a horizontal processing plant. The distance of the transport rollers 102 to each other, z. B. measured as the distance between the axes of rotation of the transport rollers 102 , for example, may range from about 20 cm to about 5 m, e.g. In a range of about 40 cm to about 1 m.

Ferner kann die Transportvorrichtung 100, bzw. können die Transportwalzen 102, eine Transportrichtung 101 definieren, entlang der das Substrat mittels der Transportvorrichtung 100 transportiert werden kann. Die Transportrichtung 101 kann beispielsweise quer zu den Rotationsachsen 102a der Transportwalzen 102 gerichtet sein.Furthermore, the transport device 100 , or can the transport rollers 102 , a transport direction 101 define along which the substrate by means of the transport device 100 can be transported. The transport direction 101 can, for example, transverse to the axes of rotation 102 the transport rollers 102 be directed.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Form der Außenmantelfläche der Transportwalzen 102 einer Zylindermantelfläche entsprechen, oder die Transportwalzen 102 können eine Tonnenform aufweisen. Ferner können die Transportwalzen 102 als Scheibentransportwalzen 102 ausgestaltet sein oder werden, wie beispielsweise in 2 und 3 veranschaulicht ist.According to various embodiments, the shape of the outer circumferential surface of the transport rollers 102 correspond to a cylinder jacket surface, or the transport rollers 102 can have a barrel shape. Furthermore, the transport rollers 102 as disc transport rollers 102 be or be designed, such as in 2 and 3 is illustrated.

Die Transportvorrichtung 100 kann ferner eine Reflektorstruktur 104 aufweisen, welche unterhalb der Transportebene 101e zwischen den mindestens zwei Transportwalzen 102 angeordnet ist. Die Reflektorstruktur 104 kann zumindest eine Oberfläche 104r aufweisen, die sich entlang der Transportebene 101e erstreckt. Die Oberfläche 104r der Reflektorstruktur 104 kann lichtreflektieren sein, z. B. mit einem Reflexionsgrad von mehr als ungefähr 90%, oder mit einem Reflexionsgrad in einem Bereich von ungefähr 90% bis ungefähr 98%. Die Oberfläche 104r der Reflektorstruktur 104 kann beispielsweise eine polierte Oberfläche sein, wobei die Reflektorstruktur 104 ein Metall oder eine Metalllegierung aufweist oder daraus besteht. Die Oberfläche 104r der Reflektorstruktur 104 kann beispielsweise mittels einer lichtreflektierenden Beschichtung bereitgestellt sein oder werden. Die Oberfläche 104r der Reflektorstruktur 104 ist der Transportebene 101e zugewandt, d. h. beim Betrieb der Transportvorrichtung 100 auch dem jeweils transportierten Substrat. Die Reflektorstruktur 104 kann mehrere Öffnungen 104o aufweisen. Diese Öffnungen 104o können beispielsweise quer zur Transportrichtung 101 zueinander beabstandet in der Reflektorstruktur 104 bereitgestellt sein oder werden. Die mehreren Öffnungen 104o können sich von der Oberfläche 104r der Reflektorstruktur 104 aus durch die Reflektorstruktur 104 hindurch erstrecken. Anschaulich können die mehreren Öffnungen 104o derart in der Reflektorstruktur 104 bereitgestellt sein oder werden, dass das Substrat mittels Roll-Elementen oberhalb der Reflektorstruktur 104 gestützt werden kann.The transport device 100 can also have a reflector structure 104 which are below the transport plane 101e between the at least two transport rollers 102 is arranged. The reflector structure 104 can have at least one surface 104r have, extending along the transport plane 101e extends. The surface 104r the reflector structure 104 may be light reflecting, z. With a reflectance of greater than about 90%, or with a reflectance in a range of about 90% to about 98%. The surface 104r the reflector structure 104 For example, it may be a polished surface, with the reflector structure 104 comprises or consists of a metal or a metal alloy. The surface 104r the reflector structure 104 For example, it may be provided by means of a light-reflecting coating. The surface 104r the reflector structure 104 is the transport level 101e facing, ie during operation of the transport device 100 also the respectively transported substrate. The reflector structure 104 can have several openings 104o exhibit. These openings 104o can, for example, transverse to the transport direction 101 spaced apart in the reflector structure 104 be or be provided. The several openings 104o can be different from the surface 104r the reflector structure 104 out through the reflector structure 104 extend through. Illustratively, the multiple openings 104o such in the reflector structure 104 be provided or that the substrate by means of rolling elements above the reflector structure 104 can be supported.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportvorrichtung 100 mehrere Roll-Elemente 106 aufweisen. Die Roll-Elemente 106 sind beispielsweise einzeln drehbar gelagert. Ferner sind die drehbar gelagerten Roll-Elemente 106 derart an der Reflektorstruktur 104 befestigt, dass sich jedes der mehreren Roll-Elemente 104 teilweise durch jeweils eine der mehreren Öffnungen 104o, welche in der Reflektorstruktur bereitgestellt sind, hindurch erstrecken kann zum Abstützen eines transportierten Substrats mittels der mehrere Roll-Elemente 106 zwischen den mindestens zwei Transportwalzen 102.According to various embodiments, the transport device 100 several roll elements 106 exhibit. The rolling elements 106 are for example mounted individually rotatable. Furthermore, the rotatably mounted rolling elements 106 such on the reflector structure 104 Attached to each of the several rolling elements 104 partly through each one of the several openings 104o which are provided in the reflector structure may extend therethrough for supporting a transported substrate by means of the plurality of rolling elements 106 between the at least two transport rollers 102 ,

Wie in 1 veranschaulicht ist, kann jedes der Roll-Elemente 106 zumindest eine Scheibe 106 aufweisen oder, mit anderen Worten, als Scheibe 106 ausgestaltet sein, wobei die Scheibe 106 um deren Scheibenachse 106a drehbar gelagert ist. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die jeweilige Rotationsachse 102a der Transportwalzen 102 parallel zu der jeweiligen Rotationsachse der Roll-Elemente 106 (z. B. zu der Scheibenachse 106a) verlaufen.As in 1 is illustrated, each of the rolling elements 106 at least one disc 106 or, in other words, as a disk 106 be designed, with the disc 106 around its disc axis 106a is rotatably mounted. According to various embodiments, the respective axis of rotation 102 the transport rollers 102 parallel to the respective axis of rotation of the rolling elements 106 (eg to the disc axis 106a ).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann jede der mehreren Öffnungen 104o in der Reflektorstruktur 104 an die Form des jeweiligen Roll-Elements 106 (z. B. an die Scheibenform) derart angepasst sein oder werden, dass ein (beispielsweise gleichmäßig dicker bzw. breiter) Spalt zwischen dem jeweiligen Roll-Element 106 und der Reflektorstruktur 104 bereitgestellt ist.According to various embodiments, each of the plurality of openings 104o in the reflector structure 104 to the shape of the respective roll element 106 (For example, to the disc shape) be adapted or be such that a (for example, uniformly thicker or wider) gap between the respective rolling element 106 and the reflector structure 104 is provided.

Ferner kann eine Kühlvorrichtung (vgl. beispielsweise 5) zum Kühlen der Reflektorstruktur 104 verwendet werden, wobei die Kühlvorrichtung mit der Reflektorstruktur 104 thermisch gekoppelt ist. Beispielsweise kann die Reflektorstruktur 104 Kühlkanäle aufweisen oder Kühlkanäle können an der Reflektorstruktur 104 befestigt sein oder werden.Furthermore, a cooling device (cf., for example 5 ) for cooling the reflector structure 104 be used, wherein the cooling device with the reflector structure 104 thermally coupled. For example, the reflector structure 104 Have cooling channels or cooling channels can on the reflector structure 104 be attached or become.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Reflektorstruktur 104 plattenförmig eingerichtet sein oder werden oder eine Reflektorplatte aufweisen, wobei sich die plattenförmige Reflektorstruktur 104 bzw. die Reflektorplatte im Wesentlichen parallel zur Transportebene 101e erstreckt.According to various embodiments, the reflector structure 104 be set plate-shaped or be or have a reflector plate, wherein the plate-shaped reflector structure 104 or the reflector plate substantially parallel to the transport plane 101e extends.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das jeweilige Roll-Element 106 mittels einer Lageranordnung 104l (auch als Lager bezeichnet) an der Reflektorstruktur 104 montiert sein oder werden. Beispielsweise kann das jeweilige Roll-Element 106 unterhalb einer plattenförmigen Reflektorstruktur 104 bzw. unterhalb einer Reflektorplatte 104 montiert und gelagert sein (z. B. bezogen auf die Transportebene 101e), und sich teilweise durch die jeweilige Öffnung 104o in der plattenförmigen Reflektorstruktur 104 bzw. in der Reflektorplatte 104 hindurch erstrecken.According to various embodiments, the respective rolling element 106 by means of a bearing arrangement 104l (also referred to as bearing) on the reflector structure 104 be or be mounted. For example, the respective roll element 106 below a plate-shaped reflector structure 104 or below a reflector plate 104 mounted and stored (for example, based on the transport plane 101e ), and partly through the respective opening 104o in the plate-shaped reflector structure 104 or in the reflector plate 104 extend through.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Lageranordnung 104l ein Wälzlager oder ein Gleitlager aufweisen.According to various embodiments, the bearing assembly 104l have a rolling bearing or a plain bearing.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Reflektorstruktur 104 einen T-Träger oder einen Doppel-T-Träger aufweisen, sowie eine darauf montierte Reflektorplatte 104. Ferner kann die Reflektorstruktur 104 einstückig oder mehrstückig ausgestaltet sein oder werden.According to various embodiments, the reflector structure 104 a T-beam or a double-T-carrier, and a reflector plate mounted thereon 104 , Furthermore, the reflector structure 104 be integral or multi-piece configured or become.

Anschaulich kann die Reflektorstruktur 104 auch dazu verwendet werden, die Transportvorrichtung 100 vor einem unerwünschten Beschichten mit Beschichtungsmaterial zu schützen. Mit anderen Worten kann die Transportvorrichtung 100 in einer Beschichtungskammer zum Transportieren eines Substrats durch einen Beschichtungsbereich hindurch verwendet werden.Illustratively, the reflector structure 104 Also used to transport the device 100 to protect against unwanted coating with coating material. In other words, the transport device 100 in a coating chamber for transporting a substrate through a coating area.

Wie in 2 und 3 in jeweils einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht entlang der Transportrichtung 101 und quer zur Transportrichtung 101 veranschaulicht ist, können die Transportwalzen 102 als Scheibentransportwalzen ausgestaltet sein. Dabei kann jede Transportwalzen 102 mehrere Scheiben 202s aufweisen, wobei das Substrat auf den mehreren Scheiben 202s der jeweiligen Transportwalze 102 aufliegend transportiert wird. Somit kann sich beispielsweise die Reflektorstruktur 104 auch über den Transportwalzen 102 erstrecken, wobei die Reflektorstruktur 104 beispielsweise mehrere weitere Öffnungen 204o aufweisen kann, durch welche sich die Scheiben 202s der jeweiligen Transportwalze 102 hindurch erstrecken können zum Stützen und Transportieren der Substrate in der Transportebene 101e. Wie vorangehend beschrieben ist, müssten die weiteren Öffnungen 204o für die Scheibentransportwalzen 102 großzügiger bemessen sein, als die Öffnungen 104 für die Roll-Elemente 106. Daher kann der Bereich oberhalb der Scheibentransportwalzen 102 nicht als Bestrahlungsbereich genutzt werden, sondern anschaulich nur der Bereich oberhalb der Roll-Elemente 106 zwischen den Scheibentransportwalzen 102, vgl. beispielsweise 5.As in 2 and 3 in each case a schematic side view or cross-sectional view along the transport direction 101 and transverse to the transport direction 101 is illustrated, the transport rollers 102 be configured as a disc transport rollers. In this case, any transport rollers 102 several slices 202s having the substrate on the plurality of slices 202s the respective transport roller 102 is transported lying on the floor. Thus, for example, the reflector structure 104 also over the transport rollers 102 extend, wherein the reflector structure 104 for example, several more openings 204o may have, through which the slices 202s the respective transport roller 102 can extend through for supporting and transporting the substrates in the transport plane 101e , As described above, the other openings would have to 204o for the disc transport rollers 102 be more generous than the openings 104 for the rolling elements 106 , Therefore, the area above the disc feed rollers 102 not be used as a radiation area, but only the area above the rolling elements vividly 106 between the disc transport rollers 102 , see. for example 5 ,

Wie in 4 in einer schematischen Draufsicht auf die Transportvorrichtung 100 veranschaulicht ist, können die mehreren Öffnungen 104o in der Reflektorstruktur 104 bezüglich einer Richtung 103 senkrecht zur Transportrichtung 101 nebeneinander angeordnet sein oder werden. Der Abstand zwischen jeweils zwei benachbarten Öffnungen 104o bzw. zwischen jeweils zwei benachbarten Roll-Elementen 106 kann in einem Bereich von ungefähr 10 cm bis ungefähr 50 cm liegen. Es versteht sich, dass die räumliche Verteilung der Roll-Elemente 106 in der Reflektorstruktur 104 an das zu transportierende Substrat angepasst sein kann, z. B. an die Länge und Breite des zu transportierenden Substrats und auch an die Substratdicke, damit das zu transportierende Substrat entsprechend mittels der Roll-Elemente 106 gestützt wird.As in 4 in a schematic plan view of the transport device 100 illustrated, the plurality of openings 104o in the reflector structure 104 in one direction 103 perpendicular to the transport direction 101 be arranged side by side or be. The distance between each two adjacent openings 104o or between in each case two adjacent rolling elements 106 may be in a range of about 10 cm to about 50 cm. It is understood that the spatial distribution of rolling elements 106 in the reflector structure 104 can be adapted to the substrate to be transported, z. B. to the length and width of the substrate to be transported and also to the substrate thickness, so that the substrate to be transported according to by means of the rolling elements 106 is supported.

5 veranschaulicht eine Prozessieranordnung 500 mit einer Transportvorrichtung 100 in einer schematischen perspektivischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. Die Prozessieranordnung 500 kann beispielsweise eine Prozesskammer 502k aufweisen. Die Prozesskammer kann eine Deckelöffnung aufweisen die mittels eines Kammerdeckels 502d derart abgedeckt werden kann, dass die Prozesskammer 502k luftdicht verschlossen werden kann und/oder dass die Prozesskammer 502k evakuiert werden kann. Alternativ kann die Prozesskammer 502k beliebig ausgestaltet sein, z. B. als Vakuumprozesskammer mit oder ohne abnehmbaren Kammerdeckel, als Atmosphärendruck-Prozesskammer 502k oder als Überdruck-Prozesskammer 502k. 5 illustrates a processing arrangement 500 with a transport device 100 in a schematic perspective view, according to various embodiments. The processing arrangement 500 For example, a process chamber 502k exhibit. The process chamber may have a lid opening by means of a chamber lid 502d can be covered so that the process chamber 502k can be hermetically sealed and / or that the process chamber 502k can be evacuated. Alternatively, the process chamber 502k be designed arbitrarily, z. B. as a vacuum process chamber with or without removable chamber lid, as atmospheric pressure process chamber 502k or as an overpressure process chamber 502k ,

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann in oder an der Prozesskammer 502k eine Bestrahlungsvorrichtung 510 bereitgestellt sein oder werden zum Bestrahlen eines Substrats 520 innerhalb eines Bestrahlungsbereichs 511. Die Bestrahlungsvorrichtung 510 kann beispielsweise eine oder mehrere Gasentladungsröhren aufweisen. Beispielsweise kann die Bestrahlungsvorrichtung 510 ein Blitzlampenfeld aufweisen, welches beispielsweise an dem Kammerdeckel 502d montiert sein kann.According to various embodiments, in or at the process chamber 502k an irradiation device 510 be provided for irradiating a substrate 520 within an irradiation area 511 , The irradiation device 510 For example, it may have one or more gas discharge tubes. For example, the irradiation device 510 a flash lamp field, which, for example, on the chamber lid 502d can be mounted.

In der Prozesskammer 502k kann eine Transportvorrichtung 100 bereitgestellt sein oder werden, wie vorangehend beschrieben ist, zum Transportieren des Substrats 520 in den Bestrahlungsbereich 511 hinein und/oder aus dem Bestrahlungsbereich 511 heraus, wobei die Bestrahlungsvorrichtung 510 oberhalb der Transportebene 101e angeordnet ist.In the process chamber 502k can be a transport device 100 may be provided as described above for transporting the substrate 520 in the irradiation area 511 into and / or out of the irradiation area 511 out, the irradiation device 510 above the transport level 101e is arranged.

Ferner kann unterhalb der Transportebene 101e eine flächige Reflektorstruktur 104 angeordnet sein oder werden, wie vorangehend beschrieben ist, welche den Bestrahlungsbereich 511 begrenzt. Die Reflektorstruktur 104 kann beispielsweise zum Reflektieren von elektromagnetischer Strahlung, welche von der Bestrahlungsvorrichtung 510 emittiert wird, eingerichtet sein. Mittels der mehreren Roll-Elemente 106, welche jeweils drehbar gelagert an der flächigen Reflektorstruktur 104 befestigt sind, kann das Substrat 520 während des Transportierens in dem Bestrahlungsbereich 511 abgestützt werden. Dabei beeinflussen die kleinen Roll-Elemente 106 das Bestrahlen des Substrats 520 in dem Bestrahlungsbereich 511 nicht oder nur unwesentlich.Furthermore, below the transport plane 101e a flat reflector structure 104 be arranged or, as described above, which the irradiation area 511 limited. The reflector structure 104 For example, for reflecting electromagnetic radiation emitted by the irradiation device 510 is emitted, be set up. By means of several rolling elements 106 , which in each case rotatably mounted on the flat reflector structure 104 attached, the substrate can be 520 during transportation in the irradiation area 511 be supported. The small roll elements influence this 106 the irradiation of the substrate 520 in the irradiation area 511 not or only insignificantly.

Der Bestrahlungsbereich 511 kann beispielsweise von einem Deckelreflektor 508t nach oben hin begrenzt sein oder werden. Mittels zweier Seitenreflektoren 508s kann der Bestrahlungsbereich 511 in die Richtungen parallel zur Transportrichtung begrenzt sein oder werden. Mittels zweier weiterer Seitenreflektoren (nicht dargestellt) kann der Bestrahlungsbereich 511 in die Richtungen quer zur Transportrichtung begrenzt sein oder werden. Wie vorangehend beschrieben ist, kann der Bestrahlungsbereich 511 mittels des so genannten Gegenreflektors 104 (d. h. der Reflektorstruktur 104 der Transportvorrichtung 100) nach unten hin begrenzt sein oder werden.The irradiation area 511 For example, from a lid reflector 508T be limited to the top or be. By means of two side reflectors 508S can the irradiation area 511 be limited in the directions parallel to the transport direction or be. By means of two further side reflectors (not shown), the irradiation area 511 be limited in the directions transverse to the transport direction or be. As described above, the irradiation area 511 by means of the so-called counter-reflector 104 (ie the reflector structure 104 the transport device 100 ) be limited or down.

Ferner kann eine Kühlvorrichtung zum Kühlen der Reflektorstruktur 104 sowie der Roll-Elemente 106 und deren Lager verwendet werden, wobei die Kühlvorrichtung mit der Reflektorstruktur 104 thermisch gekoppelt ist. Beispielsweise kann die Reflektorstruktur 104 Kühlkanäle 104k aufweisen oder Kühlkanäle 104k können an der Reflektorstruktur 104 befestigt sein oder werden.Further, a cooling device for cooling the reflector structure 104 as well as the rolling elements 106 and their bearings are used, wherein the cooling device with the reflector structure 104 thermally coupled. For example, the reflector structure 104 cooling channels 104k have or cooling channels 104k can at the reflector structure 104 be attached or become.

In den 6A bis 6E sind, analog zum vorangehend Beschriebenen, jeweils eine Querschnittsansicht und/oder eine Detailansicht einer Prozessieranordnung 500 mit einer Transportvorrichtung 100 veranschaulicht.In the 6A to 6E are, analogous to the previously described, in each case a cross-sectional view and / or a detailed view of a processing arrangement 500 with a transport device 100 illustrated.

Die beispielsweise in 6A in einer Querschnittsansicht dargestellte Prozessieranordnung 500 kann beispielsweise ein Teil einer Vakuumprozessieranlage sein, z. B. einer so genannten In-Line-Prozessieranlage. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung 500 einen Kammerdeckel 502d zum Abdecken einer entsprechenden Kammeröffnung in dem Kammergehäuse 502k aufweisen, wobei ein Blitzlampenfeld 610 an dem Kammerdeckel 502d montiert ist, so dass bei geschlossenem Kammerdeckel 502d ein Substrat 520 in der Vakuumkammer 602 bestrahlt werden kann, z. B. in einem Bestrahlungsbereich 511. Dabei kann das Blitzlampenfeld 610 mehrere Blitzlampen aufweisen, z. B. 3 bis 20, z. B. 5 bis 10 Blitzlampen.The example in 6A in a cross-sectional view illustrated processing arrangement 500 For example, it may be part of a vacuum processing plant, e.g. As a so-called in-line processing plant. According to various embodiments, the processing arrangement 500 a chamber lid 502d for covering a corresponding chamber opening in the chamber housing 502k having a flash lamp field 610 on the chamber lid 502d is mounted so that when the chamber lid is closed 502d a substrate 520 in the vacuum chamber 602 can be irradiated, z. B. in an irradiation area 511 , This can be the flash lamp field 610 have multiple flash lamps, z. B. 3 to 20, z. B. 5 to 10 flashlamps.

Bei geschlossenem Kammerdeckel 502d kann dieser auf einer Deckeldichtung 602d aufliegen, so dass das Kammergehäuse 502k dicht verschlossen sein kann oder werden kann. Bei geschlossenem Kammerdeckel 502d kann der Bestrahlungsbereich 511 von einem Deckelreflektor 508t nach oben hin begrenzt sein oder werden. Mittels zweier Seitenreflektoren 508s kann der Bestrahlungsbereich 511 in die Richtungen parallel zur Transportrichtung 101 begrenzt sein oder werden. Mittels zweier weiterer Seitenreflektoren (nicht dargestellt) kann der Bestrahlungsbereich 511 in die Richtungen quer zur Transportrichtung 101 begrenzt sein oder werden. Wie vorangehend beschrieben ist, kann der Bestrahlungsbereich 511 mittels des so genannten Gegenreflektors 104 (d. h. der Reflektorstruktur 104 der Transportvorrichtung 100) nach unten hin begrenzt sein oder werden.With closed chamber lid 502d Can this on a lid seal 602d rest, leaving the chamber housing 502k can be tightly closed or can be. With closed chamber lid 502d can the irradiation area 511 from a lid reflector 508T be limited to the top or be. By means of two side reflectors 508S can the irradiation area 511 in the directions parallel to the transport direction 101 be limited or become. By means of two further side reflectors (not shown), the irradiation area 511 in the directions transverse to the transport direction 101 be limited or become. As described above, the irradiation area 511 by means of the so-called counter-reflector 104 (ie the reflector structure 104 the transport device 100 ) be limited or down.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Deckelreflektor 508t beispielsweise in das Blitzlampenfeld 610 integriert sein bzw. oberhalb der mehreren Blitzlampen bereitgestellt sein oder werden.According to various embodiments, the lid reflector 508T for example, in the flash lamp field 610 be integrated or be provided above the plurality of flash lamps or be.

6B veranschaulicht die in 6A dargestellte Prozessieranordnung 500 in der Querschnittsansicht A-A bei geschlossenem Kammerdeckel 502d. Das Blitzlampenfeld 610 befindet sich in der Vakuumkammer 602, bzw. ist innerhalb des Kammergehäuses 502k angeordnet, zum Bestrahlen des Substrats, welches mittels der Transportvorrichtung 100 durch die Vakuumkammer 602 bzw. das Kammergehäuse 502k hindurch transportiert werden kann. 6B illustrates the in 6A illustrated processing arrangement 500 in the cross-sectional view AA with the chamber lid closed 502d , The flash lamp field 610 is located in the vacuum chamber 602 , or is within the chamber housing 502k arranged to irradiate the substrate, which by means of the transport device 100 through the vacuum chamber 602 or the chamber housing 502k can be transported through.

6C veranschaulicht die in 6A und 6B dargestellte Prozessieranordnung 500 in der Detailansicht 600z. In 6C ist beispielsweise ein Bereich Z der Transportvorrichtung 100, in dem eines der Roll-Elemente 106 angeordnet ist, veranschaulicht, wobei ein Substrat 520 auf dem Roll-Element 106 aufliegt. Das Roll-Element 106, in diesem Fall beispielsweise eine Stützrolle 106 (auch als Scheibenrolle bezeichnet), kann mittels einer Achse 604a und zweier Lager 104l (z. B. zweier Wälzlager oder Gleitlager) in einer Halterung 604h drehbar gelagert sein, wobei die Halterung 604, z. B. von unten, an dem Bodenreflektor 104 (d. h. an der Reflektorstruktur 104) montiert ist, z. B. mittels Schrauben. 6C illustrates the in 6A and 6B illustrated processing arrangement 500 in the detail view 600Z , In 6C is, for example, a region Z of the transport device 100 in which one of the rolling elements 106 is arranged, wherein a substrate 520 on the roll element 106 rests. The roll element 106 , in this case, for example, a support role 106 (also referred to as a disc roller), can by means of an axis 604a and two camps 104l (For example, two bearings or plain bearings) in a holder 604h be rotatably mounted, wherein the holder 604 , z. From below, on the ground reflector 104 (ie at the reflector structure 104 ) is mounted, for. B. by means of screws.

6D veranschaulicht die in 6A dargestellte Prozessieranordnung 500 in einer Detailansicht, wobei der Bereich X der Prozessieranordnung 500 dargestellt ist. Wie vorangehend beschrieben ist, kann die Transportvorrichtung 100 der Prozessieranordnung 500 zwei angetriebene Transportwalzen 102 aufweisen, welche innerhalb des Kammergehäuses 502k angeordnet sind. Ferner sind Roll-Elemente 106, in diesem Fall beispielsweise Stützrollen 106, an dem Bodenreflektor 104 (d. h. der Reflektorstruktur 104) montiert, wobei der Bodenreflektor 104 mittels Kühlkanälen 104k gekühlt werden kann. 6D illustrates the in 6A illustrated processing arrangement 500 in a detailed view, wherein the area X of the processing arrangement 500 is shown. As described above, the transport device 100 the processing arrangement 500 two driven transport rollers 102 which, within the chamber housing 502k are arranged. There are also rolling elements 106 , in this case, for example, support rollers 106 , on the ground reflector 104 (ie the reflector structure 104 ), the ground reflector 104 by means of cooling channels 104k can be cooled.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Seitenreflektoren 508s oberhalb der angetriebenen Transportwalzen 102 angeordnet sein, so dass die Transportwalzen 102 nicht das Bestrahlungsergebnis in dem Bestrahlungsbereich 511 beeinflussen können.According to various embodiments, the side reflectors 508S above the driven transport rollers 102 be arranged so that the transport rollers 102 not the irradiation result in the irradiation area 511 can influence.

6E veranschaulicht die in 6A und 6D dargestellte Prozessieranordnung 500 in einer Detailansicht 600y. In 6E ist beispielsweise ein Bereich Y der Transportvorrichtung 100, in dem eines der Roll-Elemente 106 angeordnet ist, veranschaulicht, wobei ein Substrat 520 auf dem Roll-Element 106 aufliegt. 6E illustrates the in 6A and 6D illustrated processing arrangement 500 in a detailed view 600Y , In 6E is, for example, an area Y of the transport device 100 in which one of the rolling elements 106 is arranged, wherein a substrate 520 on the roll element 106 rests.

7A und 7B veranschaulichen jeweils einen ortsabhängigen Farbverlauf quer zur Transportrichtung 101 auf einem mittels der Prozessieranordnung behandelten Substrat, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. Dabei wurde das Substrat mittels der Transportvorrichtung 100 transportiert und mittels der Bestrahlungsvorrichtung 510 in dem Bestrahlungsbereich 511 bestrahlt, wie vorangehend beschrieben ist. 7A and 7B each illustrate a location-dependent color gradient transverse to the transport direction 101 on a substrate treated by the processing arrangement, according to various embodiments. In this case, the substrate by means of the transport device 100 transported and by means of the irradiation device 510 in the irradiation area 511 irradiated as described above.

7A veranschaulicht die relative Farbverschiebung dE* (700y) im Lab-Farbraum für jeweils zwei benachbarte Bereiche in eine Richtung quer zur Transportrichtung mit den Positionen x und x + dx (700x). Beim Verwenden kleiner Stützrollen 106 (z. B. aus Stahl) und einem Aluminium-Reflektor 104 (mit einem Reflexionsgrad von ungefähr 95%), analog zum vorangehend Beschriebenen, ist die relative Farbverschiebung dE* ungefähr maximal 0,37. Störungen auf dem behandelten Substrat sollten somit nicht visuell (z. B. mit dem Auge) erkennbar sein. 7A illustrates the relative color shift dE * ( 700y ) in the Lab color space for every two adjacent areas in a direction transverse to the transport direction with the positions x and x + dx ( 700x ). When using small support rollers 106 (eg made of steel) and an aluminum reflector 104 (with a reflectance of approximately 95%), analogous to what has been described above, the relative color shift dE * is approximately 0.37 maximum. Disturbances on the treated substrate should therefore not be visually recognizable (eg by eye).

Mit großen Transportrollen dagegen (z. B. aus Stahl), sind optische Störungen auf dem behandelten Substrat visuell erkennbar, wobei in diesem Fall die relative Farbverschiebung dE* größer als ungefähr 1,0 ist.By contrast, with large transport rollers (eg made of steel), optical disturbances on the treated substrate are visually discernible, in which case the relative color shift dE * is greater than about 1.0.

7B veranschaulicht die Farbverschiebung dE* im Lab-Farbraum für zwei Bereiche in die Richtung quer zur Transportrichtung x + dx. Beim Verwenden kleiner Stützrollen 106 (z. B. aus Stahl) und einem gebürsteten Stahlblech als Reflektor 104, analog zum vorangehend Beschriebenen, ist die relative Farbverschiebung dE* ungefähr maximal 0,30. Störungen auf dem behandelten Substrat sollten somit nicht visuell erkennbar sein. 7B illustrates the color shift dE * in the Lab color space for two areas in the direction transverse to the transport direction x + dx. When using small support rollers 106 (eg made of steel) and a brushed steel sheet as a reflector 104 analogous to what has been described above, the relative color shift dE * is approximately 0.30 maximum. Disturbances on the treated substrate should therefore not be visually recognizable.

Anschaulich kann es für die Homogenität der Bestrahlung im Bestrahlungsbereich ausreichend sein, wenn der Reflexionsgrad der Reflektorstruktur 104 an den Reflexionsgrad im Bereich der Stützrolle 106 angepasst wird.Clearly, it may be sufficient for the homogeneity of the irradiation in the irradiation area, if the reflectance of the reflector structure 104 to the reflectance in the area of the support roller 106 is adjusted.

8 veranschaulicht eine räumliche Verteilung 800x der Bestrahlung 800y zum Bestrahlen eines Substrats innerhalb eines Bestrahlungsbereichs einer Prozessieranordnung entlang einer Richtung quer zur Transportrichtung, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 8th illustrates a spatial distribution 800x the radiation 800Y for irradiating a substrate within an irradiation area of a processing arrangement along a direction transverse to the transport direction, according to various embodiments.

Zur Untersuchung des Einflusses der Rollengröße der Transportvorrichtung auf das Bestrahlungsergebnis ist die Beleuchtungsstärke beim Verwenden einer Scheibentransportwalze 102 mit großen Scheiben, in 800a der 8, und einer kleinen Scheibenrolle 106 (das Roll-Element 106 gemäß verschiedenen Ausführungsformen), in 800b der 8, entlang einer Linie ausgewertet, wobei sich die Linie aus dem Schnitt der Ebene oberhalb des Substrats und der Ebene, die dazu senkrecht und durch die mittlere Scheibentransportwalze 102 bzw. Scheibenrolle 106 verläuft, ergibt. Die beiden Verläufe der Beleuchtungsstärke sind in 8 dargestellt. Hierbei sind die originalen und geglätteten Ergebnisse dargestellt. Die vertikalen, gestrichelten Linien entsprechen den Positionen der Scheiben der Scheibentransportwalze 102 bzw. der mehreren Scheibenrollen 106 bzw. den jeweiligen Öffnungen 104o im Rückreflektor 104 (auch als Bodenreflektor, Gegenreflektor, oder Reflektorstruktur 104 bezeichnet).To investigate the influence of the roller size of the transport device on the irradiation result is the illuminance when using a disc transport roller 102 with big slices, in 800a of the 8th , and a small disc roller 106 (the roll element 106 according to various embodiments), in 800b of the 8th , evaluated along a line, with the line being the intersection of the plane above the substrate and the plane perpendicular thereto and passing through the middle disc feed roller 102 or disc roller 106 runs, results. The two curves of the illuminance are in 8th shown. Here are the original and smooth results shown. The vertical, dashed lines correspond to the positions of the discs of the disc transport roller 102 or the plurality of disc rollers 106 or the respective openings 104o in the back reflector 104 (also as ground reflector, counter reflector, or reflector structure 104 designated).

An den Ergebnissen ist deutlich zu erkennen, dass die Beleuchtungsintensität im Fall der kleinen Rollen 106 deutlich größer ist, da der Verlust durch die Öffnungen 104o geringer ausfällt. Des Weiteren ist auch die Schwankung der Beleuchtungsintensität bei den kleinen Rollen 106 geringer. Wenn nun das Prozessfenster für die Schichtaktivierung beim RTP größer ist als diese Schwankung, dann wird es keine sichtbare Inhomogenität in dem behandelten Substrat geben.From the results it can be clearly seen that the illumination intensity in the case of small rolls 106 is significantly larger, as the loss through the openings 104o less fails. Furthermore, there is also the fluctuation of the illumination intensity in the small rollers 106 lower. If now the process window for the layer activation at the RTP is greater than this fluctuation, then there will be no visible inhomogeneity in the treated substrate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird zum Abstützen des Substrats 520 in dem Bestrahlungsbereich 511 einer Prozesskammer 502k anstelle einer herkömmlichen Scheibentransportwalze 102 mehrere kleinere Roll-Elemente 106 verwendet, wie vorangehend beschrieben ist, um das Bestrahlungsergebnis zu verbessern.According to various embodiments, for supporting the substrate 520 in the irradiation area 511 a process chamber 502k instead of a conventional disc transport roller 102 several smaller roll elements 106 used as described above to improve the irradiation result.

9A zeigt eine Schnittdarstellung einer Scheibenrolle 106, gemäß verschiedenen Ausführungsformen, wobei die Scheibenrolle 106 eine verbreiterte Lauffläche derart aufweist, dass Schlitze zwischen der Scheibenrolle 106 und der Reflektorstruktur 104 überdeckt werden. 9A shows a sectional view of a disc roller 106 according to various embodiments, wherein the disc roller 106 has a widened tread such that slots between the disc roller 106 and the reflector structure 104 be covered.

Die vorangehend beschriebenen kleinen Scheibenrollen 106, welche in die Reflektorstruktur 104 integriert sind, können derart gestaltet sein, dass der seitliche Schlitz zwischen den Scheibenrollen 106 und der Reflektorstruktur 104 verdeckt ist (siehe 9A und 9B). Dadurch kann der Lichtverlust reduziert und die Homogenität der Leuchtdichte weiter verbessert werden. Wie in 9B in einer perspektivischen Darstellung veranschaulicht ist, kann auch der Schlitz zwischen der verbreiterten Lauffläche und dem Rückreflektor 104 durch ein Anpassen der Öffnungsgeometrie in dem Rückreflektor 104 derart gestaltet werden, dass ein Großteil des ankommenden Lichts zurück reflektiert wird. Für den senkrechten Lichteinfall erfolgt in jedem Fall eine Lichtreflexion in Richtung Substrat, so dass kein Bereich in Richtung Substrat ohne Rückreflexion entsteht.The above-described small disc rollers 106 which is in the reflector structure 104 may be designed such that the lateral slot between the disc rollers 106 and the reflector structure 104 is hidden (see 9A and 9B ). As a result, the loss of light can be reduced and the homogeneity of the luminance can be further improved. As in 9B is illustrated in a perspective view, and the slot between the widened tread and the rear reflector 104 by adjusting the opening geometry in the back reflector 104 be designed so that a large part of the incoming light is reflected back. For the vertical incidence of light takes place in each case a light reflection in the direction of the substrate, so that no area is formed in the direction of the substrate without back reflection.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen ist jedes der scheibenförmigen Roll-Elemente 106 derart ausgestaltet, dass ein Randabschnitt 904d (um die Öffnung 104o in der Reflektorstruktur 104 herum) mittels des jeweiligen scheibenförmigen Roll-Elements 106 abgedeckt ist. Anschaulich kann das scheibenförmige Roll-Element 106 einen T-förmigen oder doppel-T-förmigen Querschnitt aufweisen.According to various embodiments, each of the disc-shaped rolling elements 106 configured such that an edge portion 904d (around the opening 104o in the reflector structure 104 around) by means of the respective disc-shaped rolling element 106 is covered. Illustratively, the disc-shaped rolling element 106 have a T-shaped or double-T-shaped cross-section.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen ist die jeweilige Scheibenrolle 106 mit verbreiterter Lauffläche mittels einer Achse 604a und mindestens eines Lagers 104l in einer Halterung 604h drehbar gelagert, wobei die Halterung 604h an der Reflektorstruktur 104 montiert sein kann oder werden kann, wie vorangehend beschrieben ist.According to various embodiments, the respective disk roll 106 with widened tread by means of an axle 604a and at least one warehouse 104l in a holder 604h rotatably mounted, the holder 604h at the reflector structure 104 may be or may be as described above.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Reflektorstruktur 104 einen herausnehmbaren Abschnitt 904 aufweisen, welcher die Montage der Scheibenrolle 106 (bzw. allgemein der Roll-Elemente 106) erleichtern kann. Beispielsweise kann somit die jeweilige Scheibenrolle 106 (bzw. allgemein das jeweilige Roll-Element 106) von oben montiert und/oder ausgewechselt werden.According to various embodiments, the reflector structure 104 a removable section 904 which shows the assembly of the disc roller 106 (or generally the rolling elements 106 ). For example, thus, the respective disc roll 106 (or in general the respective roll element 106 ) mounted from above and / or replaced.

Wie vorangehend beschrieben ist und in 10 in einer perspektivischen Darstellung veranschaulicht ist, können auch Transportkugeln 106 als die Roll-Elemente 106 verwendet werden.As described above and in 10 is illustrated in a perspective view, can also transport balls 106 as the rolling elements 106 be used.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann jede der Transportkugeln 106 entweder in einer Schale oder über eine in der Kugel steckenden Achse gelagert sein oder werden. Diese Transportkugeln 106 haben beispielsweise den Vorteil, dass das ankommende Licht nicht direkt durch den Schlitz in den Bereich hinter dem Reflektor 104 gelangen kann. Aufgrund der Krümmung der jeweiligen Transportkugel 106 wird im Bereich des umlaufenden Schlitzes das ankommende Licht weitgehend zurück reflektiert.According to various embodiments, each of the transport balls 106 be stored either in a shell or on an axis stuck in the ball or be. These transport balls 106 For example, have the advantage that the incoming light is not directly through the slot in the area behind the reflector 104 can get. Due to the curvature of the respective transport ball 106 In the area of the circumferential slot, the incoming light is largely reflected back.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die jeweilige Öffnung in der Reflektorstruktur 104 für die Scheibenrolle 106, die Scheibenrolle 106 mit verbreiterter Lauffläche, oder die Transportkugel 106, an die Form dieser Roll-Elemente 106 angepasst sein oder werden, so dass möglichst wenig Licht durch die Reflektorstruktur 104 hindurch gelangen kann und dass die Reflektorstruktur 104 auch bei höheren Temperaturen, z. B. von mehr als beispielsweise 500°C, z. B. in einem Bereich von ungefähr 500°C bis ungefähr 1000°C, das Drehen der Roll-Elemente 106 nicht beeinträchtigt.According to various embodiments, the respective opening in the reflector structure 104 for the disc roller 106 , the disk roll 106 with widened tread, or the transport ball 106 , to the shape of these rolling elements 106 be adjusted or so that as little light through the reflector structure 104 can pass through and that the reflector structure 104 even at higher temperatures, eg. B. more than, for example, 500 ° C, z. In a range from about 500 ° C to about 1000 ° C, rotating the rolling elements 106 not impaired.

Claims (10)

Transportvorrichtung (100) zum Transportieren eines Substrats in einer Prozesskammer, wobei die Transportvorrichtung (100) aufweist: • mindestens zwei Transportwalzen (102), welche eine Transportebene (101e) definieren, in welcher das Substrat mittels der Transportvorrichtung (100) transportiert wird; • eine unterhalb der Transportebene (101e) zwischen den mindestens zwei Transportwalzen (102) angeordnete Reflektorstruktur (104), welche zumindest eine Oberfläche (104r) aufweist, die sich entlang der Transportebene (101e) erstreckt, • wobei die Reflektorstruktur (104) mehrere Öffnungen (104o) aufweist, welche sich von der Oberfläche (104r) aus durch die Reflektorstruktur (104) hindurch erstrecken; • mehrere Roll-Elemente (106), welche jeweils drehbar gelagert sind und derart an der Reflektorstruktur (104) befestigt sind, dass sich jedes der mehreren Roll-Elemente (106) teilweise durch jeweils eine der mehreren Öffnungen (104o) in der Reflektorstruktur (104) hindurch erstreckt zum Abstützen des transportierten Substrats mittels der mehrere Roll-Elemente (106) zwischen den mindestens zwei Transportwalzen (102).Transport device ( 100 ) for transporting a substrate in a process chamber, wherein the transport device ( 100 ): • at least two transport rollers ( 102 ), which is a transport level ( 101e ) in which the substrate by means of the transport device ( 100 ) is transported; • one below the transport level ( 101e ) between the at least two transport rollers ( 102 ) arranged reflector structure ( 104 ), which at least one surface ( 104r ) extending along the transport plane ( 101e ), wherein the reflector structure ( 104 ) several openings ( 104o ) extending from the surface ( 104r ) through the reflector structure ( 104 extend); • several roll elements ( 106 ), which are each mounted rotatably and thus on the reflector structure ( 104 ), that each of the several rolling elements ( 106 ) partially through in each case one of the plurality of openings ( 104o ) in the reflector structure ( 104 ) for supporting the transported substrate by means of the plurality of rolling elements ( 106 ) between the at least two transport rollers ( 102 ). Transportvorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei jedes der Roll-Elemente (106) zumindest eine Scheibe aufweist, welche um deren Scheibenachse drehbar gelagert ist.Transport device according to claim 1, wherein each of the rolling elements ( 106 ) has at least one disc which is rotatably mounted about the disc axis. Transportvorrichtung gemäß Anspruch 2, wobei die Scheibe einen Randbereich aufweist, welcher dicker ist als ein Mittenbereich der Scheibe.Transport device according to claim 2, wherein the disc has an edge region which is thicker than a central region of the disc. Transportvorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei jedes Roll-Element (106) eine Kugel aufweist, welche um eine Achse drehbar oder um mehrere Achsen drehbar gelagert ist.Transport device according to claim 1, wherein each rolling element ( 106 ) has a ball which is rotatable about an axis or rotatably mounted about a plurality of axes. Transportvorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei jede der mehreren Öffnungen (104o) in der Reflektorstruktur (104) an die Form des jeweiligen Roll-Elements (106) derart angepasst ist, dass ein Spalt zwischen dem jeweiligen Roll-Element (106) und der Reflektorstruktur (104) bereitgestellt ist. Transport device according to one of claims 1 to 4, wherein each of the plurality of openings ( 104o ) in the reflector structure ( 104 ) to the shape of the respective rolling element ( 106 ) is adapted such that a gap between the respective rolling element ( 106 ) and the reflector structure ( 104 ). Transportvorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die Oberfläche (104r) der Reflektorstruktur (104) und die Reflektorstruktur (104) zum Reflektieren elektromagnetischer Strahlung eingerichtet sind, wobei der Reflexionsgrad größer ist als 70%.Transport device according to one of claims 1 to 5, wherein the surface ( 104r ) of the reflector structure ( 104 ) and the reflector structure ( 104 ) are adapted to reflect electromagnetic radiation, wherein the reflectance is greater than 70%. Transportvorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, ferner aufweisend: eine Kühlvorrichtung zum Kühlen der Reflektorstruktur (104), wobei die Kühlvorrichtung mit der Reflektorstruktur thermisch gekoppelt ist.Transport device according to one of claims 1 to 6, further comprising: a cooling device for cooling the reflector structure ( 104 ), wherein the cooling device is thermally coupled to the reflector structure. Prozessieranordnung (500), aufweisend: • eine Prozesskammer (502k) mit einer Bestrahlungsvorrichtung (510, 610) zum Bestrahlen eines Substrats (520) innerhalb eines Bestrahlungsbereichs (511); • eine Transportvorrichtung (100) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7 zum Transportieren des Substrats (520) in den Bestrahlungsbereich (511) hinein und/oder aus dem Bestrahlungsbereich (511) heraus.Processing arrangement ( 500 ), comprising: a process chamber ( 502k ) with an irradiation device ( 510 . 610 ) for irradiating a substrate ( 520 ) within an irradiation area ( 511 ); A transport device ( 100 ) according to one of claims 1 to 7 for transporting the substrate ( 520 ) in the irradiation area ( 511 ) and / or from the irradiation area ( 511 ) out. Prozessieranordnung gemäß Anspruch 8, wobei die Bestrahlungsvorrichtung (510, 610) mindestens eine Gasentladungsröhre aufweist, wobei die mindestens eine Gasentladungsröhre mit einem Treiberschaltkreis derart gekoppelt und der Treiberschaltkreis derart eingerichtet ist, dass die Gasentladungsröhre als Blitzlampe betrieben werden kann.Processing arrangement according to claim 8, wherein the irradiation device ( 510 . 610 ) has at least one gas discharge tube, wherein the at least one gas discharge tube coupled to a driver circuit and the driver circuit is arranged such that the gas discharge tube can be operated as a flashlamp. Prozessieranordnung (500), aufweisend: • eine Prozesskammer (502k) mit einer Bestrahlungsvorrichtung (510, 610) zum Bestrahlen eines Substrats (520) innerhalb eines Bestrahlungsbereichs (511); • eine Transportvorrichtung (100) zum Transportieren des Substrats (520) in den Bestrahlungsbereich (511) hinein und/oder aus dem Bestrahlungsbereich (511) heraus, wobei die Transportvorrichtung (100) mindestens zwei Transportwalzen (102) aufweist, welche eine Transportebene (101e) definieren, in welcher das Substrat (520) mittels der Transportvorrichtung (100) transportiert wird, wobei die Bestrahlungsvorrichtung (510, 610) oberhalb der Transportebene (101e) angeordnet ist; • eine unterhalb der Transportebene (101e) angeordnete flächige Reflektorstruktur (104) zum Reflektieren von elektromagnetischer Strahlung, welche von der Bestrahlungsvorrichtung (510, 610) emittiert wird; • mehrere Roll-Elemente (101e), welche jeweils drehbar gelagert an der flächigen Reflektorstruktur (104) befestigt sind zum Abstützen des Substrats (520) während des Transportierens in dem Bestrahlungsbereich (511).Processing arrangement ( 500 ), comprising: a process chamber ( 502k ) with an irradiation device ( 510 . 610 ) for irradiating a substrate ( 520 ) within an irradiation area ( 511 ); A transport device ( 100 ) for transporting the substrate ( 520 ) in the irradiation area ( 511 ) and / or from the irradiation area ( 511 ), wherein the transport device ( 100 ) at least two transport rollers ( 102 ) having a transport plane ( 101e ) in which the substrate ( 520 ) by means of the transport device ( 100 ), wherein the irradiation device ( 510 . 610 ) above the transport level ( 101e ) is arranged; • one below the transport level ( 101e ) arranged flat reflector structure ( 104 ) for reflecting electromagnetic radiation emitted by the irradiation device ( 510 . 610 ) is emitted; • several roll elements ( 101e ), which in each case rotatably mounted on the flat reflector structure ( 104 ) are attached to support the substrate ( 520 ) during transportation in the irradiation area ( 511 ).
DE102015105049.8A 2015-04-01 2015-04-01 Transport device for transporting a substrate in a process chamber and processing arrangement Expired - Fee Related DE102015105049B4 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015105049.8A DE102015105049B4 (en) 2015-04-01 2015-04-01 Transport device for transporting a substrate in a process chamber and processing arrangement

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015105049.8A DE102015105049B4 (en) 2015-04-01 2015-04-01 Transport device for transporting a substrate in a process chamber and processing arrangement

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102015105049A1 DE102015105049A1 (en) 2016-10-06
DE102015105049B4 true DE102015105049B4 (en) 2016-12-15

Family

ID=56937528

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102015105049.8A Expired - Fee Related DE102015105049B4 (en) 2015-04-01 2015-04-01 Transport device for transporting a substrate in a process chamber and processing arrangement

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102015105049B4 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012216416A1 (en) * 2012-03-05 2013-09-05 Roth & Rau Ag Process for the production of optimized solar cells

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012216416A1 (en) * 2012-03-05 2013-09-05 Roth & Rau Ag Process for the production of optimized solar cells

Also Published As

Publication number Publication date
DE102015105049A1 (en) 2016-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4109956A1 (en) METHOD FOR SHORT-TEMPERATURE A SEMICONDUCTOR DISC BY IRRADIATION
DE112004001402B4 (en) Apparatus for thermally treating a substrate
DE102011081749B4 (en) Substrate treatment plant
DE69818267T2 (en) REFLECTIVE SURFACE FOR WALLS OF CVD REACTORS
DE102012112192B3 (en) Irradiation device for irradiation of plants
DE69730185T2 (en) METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING SUBSTRATES WITH THIN FILMS
WO2010115558A1 (en) Method and system for producing a coated object by tempering
DE102007058002B4 (en) Device for the thermal treatment of disc-shaped semiconductor substrates
EP1277238B1 (en) Device and method for simultaneous tempering of several process goods
DE102015105049B4 (en) Transport device for transporting a substrate in a process chamber and processing arrangement
EP3012858B1 (en) Process chamber assembly and method for irradiating a substrate in a process chamber
EP3393679B1 (en) Uv curing device with divided uv reflecting mirrors
DE102012106667B3 (en) Device for irradiating a substrate
WO2015135904A1 (en) Processing assembly and method for operating a processing assembly
DE102010008084A1 (en) Device for thermal treatment of substrates
WO2023078600A1 (en) Optical device for disinfecting upper air layers in a room
DE10051125A1 (en) Device for the thermal treatment of substrates
DE19952017A1 (en) Method and device for the thermal treatment of substrates
WO2022002570A1 (en) Heating system and method for heating large-surface substrates
DE102011100055B4 (en) Apparatus and method for thermal treatment of substrates and apparatus for supporting substrates
EP1902246B1 (en) Reflector systems
DE102015103577A1 (en) A processing arrangement and method for flash-curing a coating on a translucent substrate
DE102016124338A1 (en) Light source and treatment device for near-surface thermal treatment
DE3926028C2 (en) Device for controlling the thickness of a web of material passing through a nip
WO2010066297A1 (en) Uv light having a reflector

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final
R082 Change of representative
R081 Change of applicant/patentee

Owner name: VON ARDENNE ASSET GMBH & CO. KG, DE

Free format text: FORMER OWNER: VON ARDENNE GMBH, 01324 DRESDEN, DE

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee